JP5017827B2 - 電磁波発生源探査方法及びそれに用いる電流プローブ - Google Patents
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Description
(1)基板が実装された筐体の電磁波発生源探査方法であって、
前記基板と前記筐体とを接続する複数の接合部材を流れる電流を測定して探査することを特徴とする電磁波発生源探査方法。
(2)(1)に記載された電磁波発生源探査方法であって、
前記電流の測定は、円形の穴を有する電流プローブの前記穴に前記接合部材を通して測定されることを特徴とする電磁波発生源探査方法。
(3)(1)又は(2)に記載された電磁波発生源探査方法であって、
前記電流の測定は、前記接合部材により基板と筐体とを接合した状態で測定されることを特徴とする電磁波発生源探査方法。
(4)(2)に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記電流プローブは前記穴を有する絶縁体に導体をコイル状に複数回撒きつけたものであることを特徴とする電磁波発生源探査方法。
(5)(4)に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記絶縁体の一方の面の穴周縁部及び前記絶縁体の他方の面の穴周縁部には導体が設けられており、前記導体は前記絶縁体の穴内部を介して電気的に接続されていることを特徴とする電磁波発生源探査方法。
(6)筐体と基板との接合部材における電流を測定する電流プローブであって、
円形の穴を有する絶縁体に導体をコイル状に複数回巻きつけたものであることを特徴とする電流プローブ。
(7)(6)記載の電流プローブであって、
前記絶縁体の一方の面の穴周縁部及び前記絶縁体の他方の面の穴周縁部には導体が設けられており、前記導体は前記絶縁体の穴内部を介して電気的に接続されていることを特徴とする電流プローブ。
(8)筐体と基板との接合部材における電流を測定する電流プローブであって、
穴を有する絶縁体と、前記絶縁体にコイル状に撒きつけられた導体と、前記導体のうち少なくとも前記穴内部に撒きつけられた部分を覆うように形成された絶縁膜とを有することを特徴とする電流プローブ。
(9)筐体と基板との接合部材における電流を測定する電流プローブであって、
回路基板で設けられており、前記回路基板の第一の面に設けられた第一のパターン配線と、前記回路基板の第二の面に設けられ前記前記第一のパターン配線とスルーホールを介して電気的に接続された第二のパターン配線とにより、コイルを形成したものであることを特徴とする電流プローブ。
(1)電子機器の筐体とPCB(Printed Circuit Board)または電子機器のモジュールを接続する部位における電流を測定する電流プローブにおいて、各々の機器を接続した実際の動作状態において接合部の電流を測定可能とする接合部電流プローブ。
(2))(1)記載の接合部電流プローブにおいて、中心に穴を有する円形又は接合部の電流を測定する接合部電流プローブ。
(3)(1)または(2)記載の接合部電流プローブにおいて、プローブの厚さを1cm以下の薄型とする事で回路基板と電子機器、又は電子機器と電子機器の実装状態の距離を変化させない事を特徴とする接合部電流プローブ。
(4)(1)から(3)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、絶縁体及び導体や電子部品をPCB及びそのパターンによって実現する事を特徴とする接合部電流プローブ。
(5)(1)から(4)のいずれかに記載の接合部電流プローブおよび測定装置において、プローブ上、又はプローブと測定器を接続する間に抵抗や容量やインダクタやダイオード等の電子部品又はそれに相当する機能をもつ電気的部位を有する事を特徴とする接合部電流プローブ。
(6)(1)から(5)のいずれかに記載の接合部電流プローブおよび測定装置において、プローブ部分を複数個有し、複数箇所の接合部電流を同時に又はセレクタ等によって切り替える事で夫々の接合部電流を測定可能とする接合部電流プローブ。
(7)(1)から(6)のいずれかに記載の接合部電流プローブおよび装置において、絶縁体及び導体や電子部品をシリコンや銅等の半導体及び半導体プロセスによって実現する事を特徴とする接合部電流プローブ。
(8)(1)から(7)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、中心に穴を有する円形又は矩形の絶縁体に巻きつけたコイル状導体の周囲を絶縁体で覆うことを特徴とする接合部電流プローブ。
(9)(1)から(8)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、中心に穴を有する円形又は矩形の絶縁体に巻きつけたコイル状導体の周囲の絶縁体の上下及び中心円表面に導体を有していることを特徴とする接合部電流プローブ。
(10)(1)から(9)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、中心に穴を有する矩形等の絶縁体若しくは絶縁体内部に磁性体を有していることを特徴とする接合部電流プローブ。
(11)(1)から(10)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、中心に穴を有する円形又は矩形の絶縁体に巻きつけたコイル状導体の周囲の絶縁体の更に周囲を導体で覆う構造を特徴とする接合部電流プローブ。
(12)(1)から(11)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、接合部または接合部品の中にコイル状導体を形成し、接合部品の外部へ引き出し部を引き出す構造を特徴とする接合部電流プローブ。
(13)(1)から(12)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、接合部または接合部品の中にコイル状導体とケーブルを接続する引き出し部又はプローブ上に脱着可能なコネクタを有することを特徴とする接合部電流プローブ。
(14)(1)から(13)のいずれかに記載の接合部電流プローブにおいて、ホール素子等の磁界検出素子及び測定器と接続する為のケーブル及び引き出し部を有することを特徴とする接合部電流プローブ。
Claims (7)
- 基板が実装された筐体の電磁波発生源探査方法であって、
前記基板のGNDと前記筐体とを接続する複数の接合部材を流れる電流を測定し、
前記電流の測定は、電流プローブの穴に前記接合部材を通し、前記基板と前記筐体との間で前記電流プローブが前記基板と前記筐体とに接し、前記接合部材により前記基板と前記筐体とを接合させた状態で測定して探査することを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項1に記載された電磁波発生源探査方法であって、
前記電流の測定は、前記複数の接合部材を流れるコモンモード電流のリターン電流を測定することを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項1に記載された電磁波発生源探査方法であって、
前記基板を励振源、前記筐体をアンテナとしたときに発生し、前記複数の接合部材を流れる電流を測定することを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項1に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記電流プローブは前記穴を有する絶縁体に導体をコイル状に複数回撒きつけたものであることを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項4に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記絶縁体の一方の面の穴周縁部及び前記絶縁体の他方の面の穴周縁部には導体が設けられており、前記導体は前記絶縁体の穴内部を介して電気的に接続されていることを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項4に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記絶縁体の内部には磁性体が備えられていることを特徴とする電磁波発生源探査方法。 - 請求項4に記載の電磁波発生源探査方法であって、
前記絶縁体の周囲は導体で覆われていることを特徴とする電磁波発生源探査方法。
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DE20101454U1 (de) * | 2001-01-27 | 2001-05-23 | Phoenix Contact Gmbh & Co., 32825 Blomberg | Stromsensor auf Leiterplattenbasis |
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JP2004119926A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Toshiba Corp | 変流器及び変流器システム |
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