JP5007126B2 - 多結晶シリコンインゴットの製造方法 - Google Patents
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Description
シリカ焼結体匣鉢(内寸175mm×350mm)内壁に剥離材(高純度窒化珪素粉)を塗布乾燥した後、高純度シリコン原料を投入し、図1に示したものと同様の構造の溶融炉に設置し、熔融を行った。実施例1は、溶融炉内を水素ガスにて微加圧(500Pa)した状態で1460℃にてシリコンを溶解し、匣鉢下部の温度を低下し、匣鉢上下の温度勾配を設けた状態で、匣鉢全体が1380℃になるまで25℃/hrで順次降下し、シリコン融液を匣鉢下部より凝固させ、更に1380℃で10hr温度保持し、多結晶シリコンインゴットの製作を行った。この時の匣鉢上部(上縁部)及び下部(底部)の温度を熱電対で測定し、その温度測定値を図3に示した。
従来行われているアルゴン雰囲気による匣鉢降下凝固法にてインゴットの製作を行った。図1に示したものと同様の構造の溶融炉を用いて、炉内雰囲気をアルゴンに変更し、1460℃シリコン溶解後、7mm/hrにて匣鉢の降下を行った。この時の匣鉢上下の温度を実施例1と同様に測定し、その温度測定値を図4に示した。インゴットの冷却速度は、4℃/hrであった。
比較例1のアルゴン雰囲気熔融と同様の4℃/hrの冷却速度の温度プログラム図5を使用して、実施例1と同様に水素ガス雰囲気にて、インゴットの作製を行った。
実施例2と同様に、温度プログラム図5を使用して、水素ガスに換えてアルゴンガスを使用して、インゴットの作製を行った。
Claims (5)
- 常圧又は加圧条件下、水素100%雰囲気中でシリカ焼結体匣鉢内においてシリコン原料をタングステンヒーターによって溶解してシリコン融液とするとともに該シリコン融液中に水素を溶解し、該水素が溶解されたシリコン融液を凝固した後、凝固温度近傍で高温保持し、シリコン粒子を固相結晶成長させることによって多結晶シリコンインゴットを得るようにしたことを特徴とする太陽電池用多結晶シリコンインゴットの製造方法。
- 前記多結晶シリコンインゴットに生ずる格子上の原子欠陥に水素を結合し、当該原子欠陥を補正し、ライフタイム特性の向上を図るようにしたことを特徴とする請求項1記載の製造方法。
- 前記シリコン融液中に溶解されている水素が該シリコン融液中への不純物拡散混入を防止すると共に該シリコン融液中の不純物を反応気化、若しくは晶出することによって該不純物が除去され、前記多結晶シリコンインゴットの純化が促進されるようにしたことを特徴とする請求項1又は2記載の製造方法。
- 前記シリコン原料を溶融する際に使用するシリカ焼結体匣鉢と該シリコン原料との反応で生ずる一酸化珪素の発生を前記水素雰囲気にて抑制し、前記多結晶シリコンインゴット中の酸素濃度を低下させるようにしたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の製造方法。
- 前記シリコン原料を溶融する際に使用する溶融用部材から発生する不純物が前記多結晶シリコンインゴット内へ拡散することを防止するようにしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の製造方法。
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DE102011002598B4 (de) * | 2011-01-12 | 2016-10-06 | Solarworld Innovations Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Ingots |
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CN102242394A (zh) * | 2011-06-15 | 2011-11-16 | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 | 铸造法生产类似单晶硅锭投炉硅料和晶种摆放方法 |
CN102534772B (zh) * | 2012-02-28 | 2014-11-05 | 江苏协鑫硅材料科技发展有限公司 | 一种生长大晶粒铸造多晶硅的方法 |
JP6013313B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2016-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 積層型半導体素子の製造方法、積層型半導体素子、及び、その製造装置 |
CN103233267A (zh) * | 2013-05-09 | 2013-08-07 | 英利集团有限公司 | 多晶硅的铸锭工艺 |
CN103741206B (zh) * | 2014-01-28 | 2016-06-01 | 西安华晶电子技术股份有限公司 | 一种多晶硅铸锭熔料及排杂工艺 |
DE102015201988A1 (de) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung von multikristallinem Silicium |
CN108315813A (zh) * | 2018-01-04 | 2018-07-24 | 晶科能源有限公司 | 一种多晶硅铸锭的制备方法 |
CN109554752A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-04-02 | 赛维Ldk太阳能高科技(新余)有限公司 | 多晶硅铸锭炉、多晶硅铸锭方法和多晶硅锭 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5899115A (ja) * | 1981-12-08 | 1983-06-13 | Nec Corp | 多結晶シリコンインゴツトの鋳造方法 |
JPH07277722A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-10-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | ケイ素の精製方法 |
JPH08109012A (ja) * | 1994-10-11 | 1996-04-30 | Tonen Corp | 多結晶シリコン板の製造方法 |
JP2003002626A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-08 | Tokuyama Corp | シリコン生成用反応装置 |
JP2004131321A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Kyocera Corp | 粒状シリコン結晶の製造装置および製造方法 |
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---|---|---|---|---|
DE3504723A1 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum reinigen von silicium |
EP0274283B1 (fr) * | 1987-01-08 | 1989-05-24 | Rhone-Poulenc Chimie | Procédé de purification sous plasma de silicium divisé |
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JPS5899115A (ja) * | 1981-12-08 | 1983-06-13 | Nec Corp | 多結晶シリコンインゴツトの鋳造方法 |
JPH07277722A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-10-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | ケイ素の精製方法 |
JPH08109012A (ja) * | 1994-10-11 | 1996-04-30 | Tonen Corp | 多結晶シリコン板の製造方法 |
JP2003002626A (ja) * | 2001-06-18 | 2003-01-08 | Tokuyama Corp | シリコン生成用反応装置 |
JP2004131321A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Kyocera Corp | 粒状シリコン結晶の製造装置および製造方法 |
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