JP4991004B2 - Conveying apparatus and vacuum processing apparatus - Google Patents
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- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 29
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 204
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
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- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
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- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
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- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
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Description
本発明は、基板の搬送装置、及び真空処理装置に関する。 The present invention includes a transport device for the substrate, and relates to a vacuum processing equipment.
大型FPD(Flat Panel Display )の製造工程においては、基板に対する成膜処理や加熱処理を実施するための各種の真空処理装置が利用されている。真空処理装置においては、基板のサイズに応じた真空空間が必要とされることから、基板サイズの大型化が進むに従い、真空空間を形成するために多大な時間が費やされてしまう。そこで、真空処理装置では、従来から、真空空間の形成頻度を低減させるため、複数の処理室の各々を互いに連通可能な真空空間で構成する提案がなされている。 In a manufacturing process of a large FPD (Flat Panel Display), various vacuum processing apparatuses for performing film forming processing and heat processing on a substrate are used. In the vacuum processing apparatus, a vacuum space corresponding to the size of the substrate is required. Therefore, as the substrate size increases, a great amount of time is consumed to form the vacuum space. Therefore, conventionally, in order to reduce the formation frequency of the vacuum space, a vacuum processing apparatus has been proposed in which each of the plurality of processing chambers is configured as a vacuum space that can communicate with each other.
特許文献1に記載する真空処理装置は、1つの列方向に沿って連結された複数の処理室と、各処理室を貫通して該列方向に延びる一対の搬送路と、一方の搬送路(往路)にある搬送トレーを他方の搬送路(復路)へ搬送する搬送室とを備えている。この真空処理装置は、往路上で搬送トレーを往動させた後、往路上の搬送トレーを復路上へ搬送し、復路上で該搬送トレーを復動させる。これによって、特許文献1に記載する真空処理装置は、連通可能な複数の真空空間で順に異なる処理工程を実行できる。
図4(a)〜(d)及び図5(a)〜(d)は、それぞれ特許文献1に記載する真空処理装置の搬送工程を模式的に示す図である。搬送室50には、搬送トレー51を昇降させる昇降機構52と、搬送トレー51を搬送路上で非接触的に保持する保持機構53と、往路R1と復路R2との間で搬送トレー51をスライドさせるスライド機構54とが配設されている。
4 (a) to 4 (d) and FIGS. 5 (a) to 5 (d) are diagrams each schematically showing a transfer process of the vacuum processing apparatus described in Patent Document 1. FIG. In the
図4(a)において、搬送室50には、まず、基板を立てた状態で支持する搬送トレー51が往路R1に沿って搬入される。搬送室50は、以下に示すように、搬送トレー51の昇降動作と、搬送トレー51の保持動作とを同期させることにより、搬送工程における基板位置の安定化を図っている。
4A, first, a
すなわち、図4(b)において、搬送トレー51が搬入されると、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを一旦上昇させて、搬送トレー51を往路R1から離脱させる。搬送トレー51が往路R1から離脱すると、図4(c)に示すように、スライド機構54が、トレーステージ54fをスライドさせて、搬送トレー51に設けられた突片51aの下方へフック54aを配置する。
That is, in FIG. 4B, when the
図4(d)において、フック54aが突片51aの下方に配置されると、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを一旦下降させる。そして、突片51aとフック54aとの係着によって、トレーステージ54fに搬送トレー51が吊持ちされる。
In FIG. 4D, when the
図5(a)において、トレーステージ54fに搬送トレー51が吊持ちされると、保持機構53が、保持磁石53aを搬送トレー51から十分に離間させて、搬送トレー51の拘束(保持)を解除する。搬送トレー51の拘束が解除されると、図5(b)に示すように、スライド機構54が、トレーステージ54fをスライドさせて、搬送トレー51を復路R2の上方へ配置する。
In FIG. 5A, when the
図5(c)において、搬送トレー51が復路R2の上方へ配置されると、昇降機構52が再度上昇し、保持機構53が保持磁石53aを再度下降させることにより、搬送トレー51が復路R2の上方で昇降機構52上に再度保持される。搬送トレー51が再度保持されると、図5(d)に示すように、昇降機構52と保持機構53とが、搬送トレー51と保持磁石53aとの間の距離を維持しながら、搬送トレー51と保持磁石53aとを上昇させて、突片51aとフック54aとの係着を解く。
In FIG. 5C, when the
これによって、搬送室50は、搬送トレー51の昇降と保持磁石53aの昇降との同期によって、搬送トレー51の昇降時における基板位置の安定性を向上できる。また、搬送室50は、突片51aとフック54aとの係着によって、搬送路間における基板位置の安定性を向上できる。
Accordingly, the
しかしながら、特許文献1の搬送工程では、基板を搬送するたびに、トレーステージ54fに固設されたフック54aと搬送トレー51の突片51aとを係着させることから、トレーステージ54fを複数回にわたり昇降させなければならない。この結果、基板の搬送工程においては、複数回にわたる搬送トレー51の昇降に多大な時間を要し、基板処理のスループットを大幅に損なってしまうという問題があった。尚、この問題は、特許文献1の搬送装置に限定されるものでなく、基板を搬送するトレーを複数回にわたって昇降させる必要があるその他の従来の搬送装置でも同様に生じるものであった。
However, since the
また、特許文献1の搬送装置では、フック54aがスライド機構54上で突片51aと係着する位置に予め固定されている(図4a)。このため、搬送トレー51を搬送室50へ搬送する際、搬送トレー51とフック54aとが接触しないようにスライド機構54を移動させるスペースが必要となり、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。また、この場合には、搬送トレー51の搬入後、搬送トレー51を昇降するためにフック54aを搬送路上に移動させる必要があり、搬送工程が多くなってスループットを損なってしまうという問題があった。さらには、搬送トレー51を昇降させる昇降機構52と搬送トレー51をスライドさせるスライド機構54が往路R1の左右に別々に設けられているので、装置の体積が大きくなってしまうという問題があった。
Moreover, in the conveyance apparatus of patent document 1, the
本発明は、装置を大型化することなく基板の搬送処理におけるスループットを向上させる搬送装置及び該搬送装置を備えた真空処理装置を提供する。
本発明の一つの態様は、基板を搬送する搬送装置である。搬送装置は、前記基板を立てた状態で支持しながら第1の搬送路と第2の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、前記リフト機構は、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。
The present invention provides a vacuum processing apparatus having a conveying device及beauty said conveying device to improve throughput in the transport process of the substrate without increasing the size of the device.
One aspect of the present invention is a transfer device for transferring a substrate. The transport apparatus includes a transport tray that transports the substrate between the first transport path and the second transport path while supporting the substrate in an upright state, a tray stage that can support the transport tray, A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, lowers the tray stage and places the transport tray on the transport paths, and the lift mechanism includes the first and first lift mechanisms. A slide mechanism that moves between the two transport paths, and the lift mechanism locks the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage, and interlocks with the lowering of the tray stage. A lock mechanism for releasing the lock state of the transport tray is included.
本発明の他の態様は、真空処理装置である。真空処理装置は、基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、前記搬送トレーが移動可能な第1及び第2の搬送路と、前記第1及び第2の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、前記第1及び第2の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第1の搬送路と前記第2の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、前記搬送室が、前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、前記リフト機構が、前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含む。 Another aspect of the present invention is a vacuum processing apparatus. The vacuum processing apparatus is installed on a transport tray that supports the substrate in an upright state, first and second transport paths in which the transport tray can move, and the first and second transport paths, A vacuum processing chamber for processing the substrate supported by a transfer tray under vacuum, and the first and second transfer paths are connected to the vacuum processing chamber and the transfer tray is connected to the substrate. A transfer chamber used for transferring the substrate between the first transfer path and the second transfer path while supporting the transfer tray in a standing state, and the transfer chamber includes the transfer tray. A lift stage that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths; The lift mechanism A slide mechanism that moves between the first and second transport paths, the lift mechanism locking the transport tray to the tray stage in conjunction with the ascent of the tray stage, and lowering the tray stage And a locking mechanism that releases the locked state of the transport tray in conjunction with the movement.
R1:搬送路の一例である往路、R2:搬送路の一例である復路、S:基板、10:真空処理装置、13:真空処理室の一例である第一処理室、14:真空処理室の一例である第二処理室、15:搬送室、17:搬送トレー、17a:被係着部としての凸部、30:搬送装置としてのトラバース装置、31:スライド機構、32:リフト機構、37:係着部の一例であるフック、38:トレーステージ、39:リンクの一例であるリンク部材。 R1: Outward path as an example of a transport path, R2: Return path as an example of a transport path, S: Substrate, 10: Vacuum processing apparatus, 13: First processing chamber as an example of a vacuum processing chamber, 14: Vacuum processing chamber Second processing chamber, which is an example, 15: transfer chamber, 17: transfer tray, 17a: convex portion as an engaged portion, 30: traverse device as a transfer device, 31: slide mechanism, 32: lift mechanism, 37: A hook as an example of an engaging portion, 38: a tray stage, 39: a link member as an example of a link.
以下、本発明の一実施形態の搬送装置を図面に従って説明する。図1は、搬送装置30を備えた真空処理装置10を模式的に示す斜視図である。図1において、真空処理装置10は、着脱室11、ロード/アンロード室(以下単に、LL室12と言う。)、第一処理室13、第二処理室14、及び搬送室15がそれぞれ仕切り弁16を介して連結されている。
Hereinafter, a transport apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a
真空処理装置10には、着脱室11から搬送室15へ向かって延びる第一の搬送路(以下単に、往路R1と言う。)と、搬送室15から着脱室11へ向かって延びる第二の搬送路(以下単に、復路R2と言う。)とが設けられている。本実施形態における往路R1と復路R2とは互いに平行である。
The
往路R1及び復路R2においては、それぞれ複数の搬送トレー17が、ラックアンドピニオン機構によって搬送される。各搬送トレー17は、基板Sの外縁を囲う四角枠体状に形成されるのが好ましく、この場合には例えば搬送トレー17は、その下側に設けられるラック18と、往路R1及び復路R2に分配されたピニオン19とが係合し、各ピニオン19が回転することによって、往路R1及び復路R2に沿って搬送される。
In the forward path R1 and the return path R2, a plurality of
各搬送トレー17の左右両側(搬送方向における前側及び後側)には、それぞれ被係着部としての凸部17aが設けられている。各凸部17aは、搬送トレー17の搬送工程において、該搬送トレー17をトレーステージ38(図2参照)にロックするために利用される。また、各搬送トレー17の上側には、トレー磁石21が配設されている。第一処理室13、第二処理室14、及び搬送室15の各々には、搬送トレー17のトレー磁石21と磁気的に作用する保持装置22が配設されている。搬送トレー17のトレー磁石21は、該搬送トレー17の搬送過程において、各保持装置22の保持磁石と作用することにより、該搬送トレー17を各搬送路の上方で非接触的に拘束する。
On both the left and right sides (the front side and the rear side in the transport direction) of each
本実施形態においては、往路R1における搬送トレー17の搬送方向をX方向と言う。また、水平面に対して垂直の方向をZ方向とし、X方向及びZ方向と直交する方向であって、往路R1から復路R2へ向かう方向をY方向と言う。
In the present embodiment, the transport direction of the
着脱室11は、外部から投入される処理前の基板Sを搬送トレー17に取り付けて、該基板Sを立てた状態でLL室12へ搬出する。また、着脱室11は、搬送トレー17に取り付けられた処理後の基板Sを搬送トレー17から取外して、真空処理装置10の外部へ搬出する。着脱室11は、上記基板Sの着脱を大気圧の下で行う。
The detachable chamber 11 attaches the unprocessed substrate S, which is input from the outside, to the
LL室12は、室内を大気圧にして、着脱室11から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入し、その後、室内を減圧することにより、該搬送トレー17を往路R1に沿って第一処理室13へ搬出する。また、LL室12は、室内を減圧して、第一処理室13から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入し、その後、室内を大気に解放することにより、該搬送トレー17を復路R2に沿って着脱室11へ搬出する。
The
第一処理室13は、LL室12から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を往路R1上に拘束する。第一処理室13は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を往路R1に沿って第二処理室14へ搬出する。
The
また、第一処理室13は、第二処理室14から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を復路R2上に拘束する。第一処理室13は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を復路R2に沿ってLL室12へ搬出する。第一処理室13は、上記搬送トレー17の搬入・搬出を減圧下で行う。
The
第二処理室14は、第一処理室13から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を往路R1上に拘束する。第二処理室14は搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を往路R1に沿って搬送室15へ搬出する。
The
また、第二処理室14は、搬送室15から搬送トレー17を復路R2に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を復路R2上に拘束する。第二処理室14は、搬送トレー17に取付けられた基板Sに成膜処理や加熱処理等の各種の処理を施した後、保持装置22による拘束を解除して、該搬送トレー17を復路R2に沿って第一処理室13へ搬出する。第二処理室14は、上記搬送トレー17の搬入・搬出を減圧下で行う。
The
搬送室15におけるX方向の両側(搬送方向における前側及び後側)には、搬送装置としての一対のトラバース装置30が搭載されている。搬送室15は、第二処理室14から搬送トレー17を往路R1に沿って搬入して、保持装置22による磁気的な作用によって、該搬送トレー17を一旦往路R1上に拘束する。搬送室15は、往路R1上における搬送トレー17の磁気的な拘束を解きながら、トラバース装置30を用いた搬送処理によって、該搬送トレー17を往路R1から復路R2上へ搬送する。搬送室15は、復路R2へ載置した搬送トレー17を復路R2に沿って第二処理室14へ搬出する。
A pair of
搬送室15は、往路R1から復路R2への搬送トレー17の搬送を減圧下で行う。また、搬送室15は、搬送トレー17を往路R1から復路R2へ搬送する間、トラバース装置30のロック機能によって、該搬送トレー17をトレーステージ38(図2参照)にロックする。
The
図2はトラバース装置30(一つのみを示す)を模式的に示す図であり、図3(a)〜(d)はそれぞれトラバース装置30を用いた搬送工程を示す工程図である。図2において、トラバース装置30は、スライド機構31とリフト機構32とを備えている。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the traverse device 30 (only one is shown), and FIGS. 3A to 3D are process diagrams each showing a transport process using the
スライド機構31には、スライドモータM1と、スライドモータM1の駆動軸に連結された伝達部33とが備えられている。伝達部33の上側には、Y方向に延びるガイドレール33aが設けられ、ガイドレール33aには、リフト機構32が取り付けられている。伝達部33は、スライドモータM1の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、スライドモータM1の駆動力をリフト機構32の移動力に変換する。
The
スライド機構31は、スライドモータM1が正転するとき、スライドモータM1の駆動力によって、リフト機構32をY方向へ移動させる(図2における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる)。また、スライド機構31は、スライドモータM1が逆転するとき、スライドモータM1の駆動力によって、リフト機構32を反Y方向へ移動させる(図2における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる)。
When the slide motor M1 rotates forward, the
本実施形態においては、X方向から見て、トレーステージ38が往路R1の上方あるいは下方にあるときのリフト機構32の位置を、往路位置と言う。また、X方向から見て、トレーステージ38が復路R2の上方あるいは下方にあるときのリフト機構32の位置を、復路位置と言う。スライド機構31は、リフト機構32を往路位置と復路位置との間で移動する。
In the present embodiment, the position of the
リフト機構32には、リフトモータM2と、リフトモータM2の駆動軸に連結された伝達部35とが備えられている。伝達部35のY方向における端部側には、Z方向に延びる支持アーム36が設けられ、該支持アーム36のY方向における端部側には、Z方向に延びるガイドレール35aが設けられている。ガイドレール35aには、Z方向に沿って往復移動可能なトレーステージ38が取り付けられている。伝達部35は、リフトモータM2の駆動力をスプラインシャフト等の動力伝達シャフトで受けて、リフトモータM2の駆動力をトレーステージ38の移動力に変換する。
The
リフト機構32は、リフトモータM2が正転するとき、リフトモータM2の駆動力によって、トレーステージ38をZ方向へ移動させる(図2における実線位置から二点鎖線位置へ移動させる)。また、リフト機構32は、リフトモータM2が逆転するとき、リフトモータM2の駆動力によって、トレーステージ38を反Z方向へ移動させる(図2における二点鎖線位置から実線位置へ移動させる)。
When the lift motor M2 rotates forward, the
本実施形態においては、Z方向において、トレーステージ38が往路R1あるいは復路R2よりも下方にあるときの同トレーステージ38の位置を、待機位置と言う。また、Z方向において、トレーステージ38が往路R1あるいは復路R2よりも上方にあるときの同トレーステージ38の位置を、離脱位置(搬送トレー17が搬送路R1,R2から離脱する位置)と言う。リフト機構32は、トレーステージ38を待機位置と離脱位置との間で移動させる。
In the present embodiment, the position of the
リフト機構32における支持アーム36の先端(上端付近)には、帯状をなすフック37の基端が、X方向に延びる回動軸36aを中心にして回動自在に支持されている。フック37の先端には、搬送トレー17の凸部17aと係着可能な切欠き37aが形成されている。フック37は、搬送トレー17がトレーステージ38の上方に位置する状態において、その切欠き37aと凸部17aとが離間する位置と、その切欠き37aと凸部17aとが係着する位置(図2における二点鎖線位置)との間を回動する。切欠き37aと凸部17aとが係着する状態において、搬送トレー17はトレーステージ38にロックされる。また、切欠き37aと凸部17aとが離間する状態において、搬送トレー17のロック状態が解除される。
A base end of a belt-
本実施形態においては、切欠き37aと凸部17aとが係着するフック37の位置を、ロック位置と言う。また、切欠き37aと凸部17aとが離間するフック37の位置であって、フック37が搬送トレー17の移動軌跡から離間する位置を、解除位置と言う。なお、図2におけるフック37の実線位置は、ロック位置と解除位置との間の位置を示す。
In the present embodiment, the position of the
フック37の先端には、反Z方向に延びる棒状のリンク部材39が、X方向に延びる軸C1を中心にして回動自在に支持されている。リンク部材39の下端は、X方向に延びる軸C2を中心にして、トレーステージ38の上端に回転自在に支持されている。リンク部材39は、トレーステージ38が上昇するとき、トレーステージ38の上動をフック37へ伝達し、フック37を右回りへ回動する。また、リンク部材39は、トレーステージ38が下降するとき、トレーステージ38の下動をフック37へ伝達し、フック37を左回りへ回動する。
A rod-shaped
詳述すると、搬送トレー17がトレーステージ38の上方に位置する状態において、トレーステージ38が待機位置から離脱位置へ上方移動すると、フック37は、リンク部材39を介し、トレーステージ38の上昇と連動して解除位置からロック位置へ移動する。すなわち、トレーステージ38が上昇すると、搬送トレー17が、トレーステージ38にロックされる。反対に、搬送トレー17がトレーステージ38に載置される状態において、トレーステージ38が離脱位置から待機位置へ下方移動すると、フック37は、リンク部材39を介し、トレーステージ38の下降と連動してロック位置から解除位置へ移動する。すなわち、トレーステージ38が下降すると、搬送トレー17のロック状態が解除される。
More specifically, when the
本実施形態においては、これらフック37とリンク部材39とによってロック機構が構成されている。
図3(a)〜(d)は、トラバース装置30を用いた基板Sの搬送工程を示す図である。まず、搬送室15の内部では、図3(a)に示すように、トレーステージ38が往路R1の位置(以下単に、初期位置と言う。)に配置されている。また、フック37が解除位置に配置されて搬送トレー17の移動軌跡から離間している。In the present embodiment, the
FIGS. 3A to 3D are diagrams illustrating a transport process of the substrate S using the
この状態から、第二処理室14から搬送トレー17が搬送室15へ搬入されると、トラバース装置30は、図3(b)に示すように、リフト機構32を駆動して、トレーステージ38を初期位置から離脱位置へ(矢印方向へ)上方移動させる。これによって、搬送トレー17が、トレーステージ38上へ載置されて、往路R1から離脱する。
From this state, when the
この際、保持装置22は、トレーステージ38が上昇した分だけ保持磁石MGを上昇させて、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を維持し続ける。これによって、保持装置22は、搬送トレー17を往路R1の上方で磁気的に拘束し続ける。しかも、リフト機構32は、トレーステージ38の上昇と連動して、フック37を解除位置からロック位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置30は、搬送トレー17を往路R1から離脱させながら、該搬送トレー17をトレーステージ38にロックする。
At this time, the holding
搬送トレー17がトレーステージ38にロックされると、保持装置22は、図3(c)に示すように、保持磁石MGをさらに上昇させて、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を十分に離間させる。これによって、保持装置22は、搬送トレー17への磁気的な拘束を解除する。搬送トレー17の拘束が解除されると、トラバース装置30は、スライド機構31を駆動して、リフト機構32を往路位置から復路位置へ(矢印方向へ)移動する。これによって、トレーステージ38が復路R2の直上に配置される。
When the
この間、搬送トレー17は、保持装置22による磁気的な拘束を受けない一方、トラバース装置30のロック機構による機械的な拘束を受けることから、トレーステージ38に対する相対的な位置を維持する。この結果、搬送トレー17は、トレーステージ38からの位置ズレを来たすことなく、往路R1の直上から復路R2の直上へ搬送される。
During this time, the
リフト機構32が復路位置に到達すると、トラバース装置30は、図3(d)に示すように、リフト機構32を駆動して、トレーステージ38を離脱位置から初期位置へ(矢印方向へ)下方移動させる。これによって、搬送トレー17がトレーステージ38から復路R2上へ載置される。
When the
この際、保持装置22は、保持磁石MGを下降させることによって、保持磁石MGとトレー磁石21との間の距離を縮めて、搬送トレー17を復路R2の上方で磁気的に拘束する。また、リフト機構32は、トレーステージ38の下降と連動して、フック37をロック位置から解除位置へ移動させる。すなわち、トラバース装置30は、搬送トレー17を復路R2へ載置させながら、該搬送トレー17のロック状態を解除する。
At this time, the holding
搬送トレー17が復路R2へ載置されると、トラバース装置30は、スライド機構31を駆動して、リフト機構32を復路位置から初期位置へ移動する。これによって、トレーステージ38が復路R2上から往路R1上に搬送される。以後同様に、搬送室15は、第二処理室14から搬送トレー17が搬入されるたび、保持装置22とトラバース装置30とを駆動して、往路R1上の搬送トレー17を復路R2へ搬送する。
When the
上記実施形態の搬送装置30(真空処理装置10)は以下の利点を有する。
(1)トラバース装置30は、トレーステージ38の下降と上昇とによって該搬送路R1,R2に対する搬送トレー17の載置と離脱とを選択的に行うリフト機構32と、リフト機構32を搬送路R1,R2間で移動するスライド機構31とを有する。そして、リフト機構32は、トレーステージ38の上昇と連動して搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、トレーステージ38の下降と連動して搬送トレー17のロック状態を解除するロック機構(一実施例では、フック37およびリンク部材39)を有する。The conveyance apparatus 30 (vacuum processing apparatus 10) of the above embodiment has the following advantages.
(1) The
したがって、トラバース装置30は、トレーステージ38を1回上昇させるだけで、搬送トレー17を往路R1上から離脱させて、かつ、搬送トレー17をトレーステージ38にロックできる。また、トラバース装置30は、トレーステージ38を1回下降させるだけで、搬送トレー17のロック状態を解除でき、かつ、搬送トレー17を復路R2上に載置できる。言い換えれば、搬送トレー17をトレーステージ38にロックするのに必要な搬送トレー17の移動は1回の上昇のみであり、搬送トレー17とトレーステージ38とのロックを解除するのに必要な搬送トレー17の移動は1回の下降のみである。この結果、トラバース装置30は、搬送処理におけるトレーステージ38、ひいては搬送トレー17の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。加えて、ロック機構(37,39)がトレーステージ38の上昇及び下降とに連動して駆動することから、ロック機構の駆動源を別途設ける場合に比べて、ロック機構の省スペース化を図ることができ、ひいては装置30の小型化を図ることができる。
Therefore, the
(2)フック37は、搬送トレー17の凸部17aと係着することによって搬送トレー17をロックするロック位置と、凸部17aから離間することによって搬送トレー17のロック状態を解除して搬送トレー17の移動軌跡から離間する解除位置との間を回動する。また、リンク部材39は、トレーステージ38とフック37との間に連結されて、トレーステージ38の上昇と下降とをフック37へ伝達し、フック37をロック位置と解除位置とへ移動する。
(2) The
したがって、トラバース装置30においては、トレーステージ38の上下動がリンク部材39を介してフック37の回動に変換される。この結果、トラバース装置30は、搬送トレー17を往路R1から離脱させるだけで搬送トレー17をロックでき、搬送トレー17を復路R2へ載置するだけで搬送トレー17のロック状態を解除できる。よって、このトラバース装置30は、搬送処理におけるトレーステージ38の昇降回数を最小限に抑えられることから、スループットを向上させられる。また、フック37が解除位置に移動して搬送トレー17とのロックが解除されると、フック37が搬送トレー17の移動軌跡から離脱することとなる。これによって、トレーステージ38を予め往路R1上の待機位置に配置することができる。なぜなら、トレーステージ38が待機位置にあるときは、搬送トレー17の移動がトレーステージ38およびフック37によって妨げられないためである。このことから、トレーステージ38を往路R1から退避させるためのリフト機構32の移動空間を削減できる。ひいては、搬送室15や真空処理装置10の小型化を図ることができる。
Therefore, in the
(3)ロック機構(37,39)は、トレーステージ38の上下動をフック37の回動へ変換することから、トレーステージ38の上下動を単にフック37の上下動として利用する場合に比べて、フック37(切欠き37a)の変位範囲を拡大できる。したがって、トラバース装置30は、搬送トレー17のサイズや形状、ひいては、基板Sのサイズや形状に関わる適用範囲を拡大できる。
(3) Since the lock mechanism (37, 39) converts the vertical movement of the
(4)フック37は、スライド機構31に固定されず、トレーステージ38の上下動に連動して回動する。そのため、基板処理室14及び搬送室15間における搬送トレー17の搬送の際、フック37と搬送トレー17との接触を避けるために、スライド機構31を移動させなくて良い。したがって、スライド機構31の移動する空間を縮小化できることから、装置の小型化を図ることができる。
(4) The
(5)搬送路(往路R1)の位置で待機しているトレーステージ38上に搬送トレー17を直接搬入できる。このため、基板Sの搬入後に往路R1上までトレーステージ38を移動させる必要がない。このため、搬送処理におけるタクトタイムを短縮してスループットを向上させられる。
(5) The
(6)リフト機構32をスライド機構31の上部に設けたので、搬送室15内の空間を縮小させることができ、ひいては装置の小型化を図ることができる。
(7)真空処理装置10は、搬送室15にトラバース装置30を搭載することから、搬送処理におけるトレーステージ38(搬送トレー17)の昇降回数を最小限に抑えられ、ひいては、基板Sに関わる一連の処理工程において、スループットを向上させられる。(6) Since the
(7) Since the
尚、上記実施形態は、以下の態様で実施しても良い。
・フック37は、トレーステージ38の上下動を受けて上下動する構成であっても良い。すなわち、フック37は、トレーステージ38の上下動に連動して、搬送トレー17をロックするロック位置と搬送トレー17のロック状態を解除する解除位置との間を(例えば支持アーム36に沿って上下に)移動する構成でも良い。この場合、好ましくは、フック37を下方に移動させると同時に、もしくは下方に移動させた後に、該フック37を搬送トレー17の移動軌跡から退避させるのがよい。In addition, you may implement the said embodiment in the following aspects.
The
・被係着部を凸部17aの代わりに、例えば、搬送トレー17が有する凹部としても良い。すなわち、フック37と係着することによって、搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、フック37から離間することによって、搬送トレー17のロック状態を解除する被係着部は、当業者であれば任意の構成を採用できる。
-Instead of the
・上記実施形態においては、フック37の切欠き37aと搬送トレー17の凸部17aとが係着することによって、搬送トレー17がトレーステージ38にロックされる。これに限らず、ロック機構は磁石機構でもよい。一例として、切欠き37aと凸部17aとをそれぞれ磁石に変更してもよい。この場合、フック37に設けられるN極と搬送トレー17に設けられるS極とが近接することによって、搬送トレー17がトレーステージ38にロックされる。すなわち、トレーステージ38の上昇と連動して搬送トレー17をトレーステージ38にロックし、トレーステージ38の下降と連動して搬送トレー17のロック状態を解除するロック機構は、当業者であれば種々の構成を採用できる。
In the above embodiment, the
・ロック機構をフック37のみで構成してもよい(即ち、リンク部材39を省略してもよい)。この場合には、トレーステージ38の上昇前にフック37を解除位置(搬送トレー17の移動軌跡から離間する位置)に位置させておき、トレーステージ38の上昇後にフック37をロック位置に移動させればよい。
The lock mechanism may be configured only by the hook 37 (that is, the
・上記実施形態においては、搬送路が往路R1と復路R2とによって構成されて、往路R1と復路R2とが互いに平行に設けられている。これに限らず、例えば、搬送路は3本以上であっても良く、各搬送路が交差する構成であっても良い。 In the above embodiment, the transport path is configured by the forward path R1 and the return path R2, and the forward path R1 and the return path R2 are provided in parallel to each other. For example, there may be three or more conveyance paths, and a configuration in which the conveyance paths intersect each other may be used.
・上記実施形態における搬送路は、ラックアンドピニオン機構を用いるが、搬送路は、ローラー搬送式、コンベア搬送式、あるいは真空処理室底面に固定されたレール上を車輪をもった搬送トレーが走るレール搬送式機構でもよく、またこれらの搬送方法のみに限定されるものでもない。 The transport path in the above embodiment uses a rack and pinion mechanism, but the transport path is a roller transport type, a conveyor transport type, or a rail on which a transport tray with wheels runs on a rail fixed to the bottom of the vacuum processing chamber. It may be a transport mechanism, and is not limited to these transport methods.
・上記実施形態におけるトレーステージ38の初期位置及び離脱位置、トレーステージ38による搬送トレー17の載置位置、および搬送トレー17の係着位置の高さは、搬送トレー17が搬出入される真空処理室10の最下辺から最上辺までの間で任意に変更できる。これらの位置は、搬送トレー17が、トラバース装置30の搬送処理によって、一つの搬送路から他の搬送路へ搬送できる位置であれば良い。ただし、トレーステージ38の初期位置は、トレーステージ38の上面(搬送トレー17の下面を支持する面)が搬送路R1,R2の上面よりも低くなるように設定することが望ましい。こうすれば、搬送トレー17を第二処理室14から搬送室15へと搬入する際にも、トレーステージ38によって搬送トレー17の移動が妨げられない。このため、往路R1から復路R2へのトレーステージ38の移動距離を最小にすることができる。しかしながら、この初期位置は本発明を制限するものではない。たとえ、搬送トレー17の移動軌跡から退避させるべくトレーステージ38を下方に移動させる必要が生じても、搬送トレー17を上下動させる回数は増加しないからである。
The height of the initial position and the disengagement position of the
・上記実施形態においては、2つの搬送路を往路R1と復路R2とによって構成した。これに限らず、2つの搬送路の各々を搬送トレー17の往路と復路の両方に利用しても良い。この場合、例えば、搬送トレー17が一つの搬送路から他の搬送路へ移載されると、トラバース装置30がトレーステージ38を該他の搬送路上に待機させて、該他の搬送路にある搬送トレー17を再度該一つの搬送路へ移動する構成であっても良い。
In the above embodiment, the two transport paths are constituted by the forward path R1 and the return path R2. Not limited to this, each of the two transport paths may be used for both the forward path and the return path of the
・上記実施形態においては、複数の搬送路が一つの往路R1と一つの復路R2とによって構成されるが、これに限らず、複数の搬送路が複数の往路R1と複数の復路R2とによって構成されても良い。 In the above embodiment, the plurality of transport paths are configured by one forward path R1 and one return path R2, but the present invention is not limited thereto, and the plurality of transport paths are configured by a plurality of forward paths R1 and a plurality of return paths R2. May be.
Claims (12)
前記基板を立てた状態で支持しながら第1の搬送路と第2の搬送路との間で同基板を搬送する搬送トレーと、
前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を備え、
前記リフト機構は、
前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする搬送装置。A transfer device for transferring a substrate,
A transport tray for transporting the substrate between the first transport path and the second transport path while supporting the substrate in an upright state;
A tray stage capable of supporting the transport tray;
A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths;
A slide mechanism for moving the lift mechanism between the first and second transport paths,
The lift mechanism is
A transport apparatus comprising: a lock mechanism for locking the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage and releasing the locked state of the transport tray in conjunction with the lowering of the tray stage.
前記トレーステージが、前記第1搬送路上及び第2搬送路上に選択的に配置されることを特徴とする搬送装置。In the conveyance apparatus described in Claim 1,
The transport device, wherein the tray stage is selectively disposed on the first transport path and the second transport path.
前記トレーステージが、前記リフト機構に上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。In the conveyance apparatus described in Claim 1,
The transport device, wherein the tray stage is supported by the lift mechanism so as to be movable up and down.
前記ロック機構と前記トレーステージとを連結し、前記トレーステージの上下動に連動して前記ロック機構を作動させるリンクを備えることを特徴とする搬送装置。The conveying device according to claim 3 further includes:
A transport apparatus comprising: a link that connects the lock mechanism and the tray stage and operates the lock mechanism in conjunction with the vertical movement of the tray stage.
前記搬送トレーが前記各搬送路に載置されるまで前記トレーステージが下降するとき、前記リンクは、前記ロック機構を前記搬送トレーの移動軌跡から外れる位置まで移動させることを特徴とする搬送装置。In the conveying apparatus described in Claim 4,
When the tray stage descends until the transport tray is placed on each transport path, the link moves the lock mechanism to a position deviating from the movement trajectory of the transport tray.
前記ロック機構は、
前記搬送トレーの被係着部と係着することによって前記トレーステージに前記搬送トレーをロックするロック位置と、前記被係着部から離間することによって前記搬送トレーのロック状態を解除する解除位置との間を移動する係着部を含むことを特徴とする搬送装置。In the conveyance apparatus as described in any one of Claims 1-3,
The locking mechanism is
A lock position for locking the transport tray to the tray stage by engaging with the engaged portion of the transport tray, and a release position for releasing the locked state of the transport tray by separating from the engaged portion. A conveying device comprising an engaging portion that moves between the two.
前記係着部は、前記ロック位置と前記解除位置とに選択的に位置するように前記リフト機構に回動自在に支持されていることを特徴とする搬送装置。In the conveyance apparatus described in Claim 6,
The conveying device is characterized in that the engaging portion is rotatably supported by the lift mechanism so as to be selectively located at the lock position and the release position.
前記リフト機構は、前記係着部を回動自在に支持する支持アームを含み、
前記支持アームに前記トレーステージが上下動可能に支持されていることを特徴とする搬送装置。In the conveying apparatus described in Claim 7,
The lift mechanism includes a support arm that rotatably supports the engaging portion,
The transport device, wherein the tray stage is supported by the support arm so as to be movable up and down.
前記ロック機構は、
前記係着部として機能するフックと、
前記トレーステージと前記フックとの間に連結され、前記トレーステージの上昇と下降とを前記フックへ伝達して前記フックを前記ロック位置と前記解除位置とへ選択的に移動させるリンクとを含むことを特徴とする搬送装置。In the conveying apparatus according to claim 8,
The locking mechanism is
A hook that functions as the engagement portion;
A link that is connected between the tray stage and the hook, and transmits the rising and lowering of the tray stage to the hook to selectively move the hook to the lock position and the release position. A conveying device characterized by the above.
前記フックは、前記ロック位置と前記解除位置との間を回動し、
前記リンクは、前記トレーステージの上下動を前記フックの回動に変換することを特徴とする搬送装置。In the conveying apparatus according to claim 9,
The hook rotates between the lock position and the release position,
The link is characterized in that the link converts the vertical movement of the tray stage into rotation of the hook.
前記リフト機構が、前記スライド機構の上部に設けられたことを特徴とする搬送装置。It is a conveying apparatus as described in any one of Claims 1-10,
The transport apparatus according to claim 1, wherein the lift mechanism is provided on an upper portion of the slide mechanism.
基板を立てた状態で支持する搬送トレーと、
前記搬送トレーが移動可能な第1及び第2の搬送路と、
前記第1及び第2の搬送路上に設置されており、前記搬送トレーに支持された前記基板を真空下で処理する真空処理室と、
前記第1及び第2の搬送路上に設置されるとともに前記真空処理室に連結されており、前記搬送トレーが、前記基板を立てた状態で支持しながら前記第1の搬送路と前記第2の搬送路との間で同基板を搬送するために使用される搬送室と、を備え、
前記搬送室が、
前記搬送トレーを支持可能なトレーステージと、
前記トレーステージを上昇させて前記搬送トレーを前記各搬送路から離脱させ、前記トレーステージを下降させて前記搬送トレーを前記各搬送路へ載置するリフト機構と、
前記リフト機構を前記第1及び第2の搬送路間で移動させるスライド機構と、を含み、
前記リフト機構が、
前記トレーステージの上昇と連動して前記搬送トレーを前記トレーステージにロックし、前記トレーステージの下降と連動して前記搬送トレーのロック状態を解除するロック機構を含むことを特徴とする真空処理装置。A vacuum processing apparatus,
A transport tray that supports the substrate in an upright state;
First and second transport paths in which the transport tray is movable;
A vacuum processing chamber which is installed on the first and second transport paths and which processes the substrate supported by the transport tray under vacuum;
The first transport path and the second transport path are installed on the first and second transport paths and connected to the vacuum processing chamber, and the transport tray supports the substrate in a standing state. A transfer chamber used for transferring the substrate to and from the transfer path, and
The transfer chamber is
A tray stage capable of supporting the transport tray;
A lift mechanism that raises the tray stage to disengage the transport tray from the transport paths, and lowers the tray stage to place the transport tray on the transport paths;
A slide mechanism for moving the lift mechanism between the first and second transport paths,
The lift mechanism is
A vacuum processing apparatus comprising: a lock mechanism that locks the transport tray to the tray stage in conjunction with the raising of the tray stage and releases the locked state of the transport tray in conjunction with the lowering of the tray stage. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010500741A JP4991004B2 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | Conveying apparatus and vacuum processing apparatus |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008047945 | 2008-02-28 | ||
JP2008047945 | 2008-02-28 | ||
JP2010500741A JP4991004B2 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | Conveying apparatus and vacuum processing apparatus |
PCT/JP2009/053570 WO2009107728A1 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | Transfer apparatus, vacuum processing apparatus and transfer method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009107728A1 JPWO2009107728A1 (en) | 2011-07-07 |
JP4991004B2 true JP4991004B2 (en) | 2012-08-01 |
Family
ID=41016115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010500741A Active JP4991004B2 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | Conveying apparatus and vacuum processing apparatus |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4991004B2 (en) |
KR (1) | KR101234696B1 (en) |
CN (1) | CN101952950B (en) |
TW (1) | TWI404665B (en) |
WO (1) | WO2009107728A1 (en) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2009-02-26 JP JP2010500741A patent/JP4991004B2/en active Active
- 2009-02-26 WO PCT/JP2009/053570 patent/WO2009107728A1/en active Application Filing
- 2009-02-26 KR KR1020107018722A patent/KR101234696B1/en active IP Right Grant
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2009107728A1 (en) | 2011-07-07 |
WO2009107728A1 (en) | 2009-09-03 |
CN101952950B (en) | 2012-08-01 |
CN101952950A (en) | 2011-01-19 |
KR20100101180A (en) | 2010-09-16 |
TWI404665B (en) | 2013-08-11 |
TW200940430A (en) | 2009-10-01 |
KR101234696B1 (en) | 2013-02-19 |
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