JP4981190B1 - Manufacturing method of bonding device - Google Patents
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Abstract
【課題】接着剤の外形を硬化時の形状に保持しながら基板同士を合着する。
【解決手段】第一基板1又は第二基板2のいずれか一方の内面に接着剤3を硬化時と同形状に塗布した後に、接着剤3の周縁部3aのみをその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させ、その後、周縁部3aを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させることにより、接着剤3の周縁部3aで囲まれた中心部3bが未硬化状態であったとしても、半硬化した周縁部3aで堰き止められて外へ伸展しない。
【選択図】図1Substrates are bonded together while maintaining the outer shape of an adhesive in a cured shape.
An adhesive 3 is applied to the inner surface of either a first substrate 1 or a second substrate 2 in the same shape as when cured, and the viscosity of only the peripheral portion 3a of the adhesive 3 is kept adhesive. The first substrate 1 and the second substrate 2 are bonded so that the adhesive 3 including the peripheral edge portion 3a is sandwiched between the first substrate 1 and the second substrate 2 so as to be partially semi-cured so as to be higher than the viscosity of other portions. Thus, even if the central portion 3b surrounded by the peripheral edge portion 3a of the adhesive 3 is in an uncured state, it is blocked by the semi-cured peripheral edge portion 3a and does not extend outward.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、例えば液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)、プラズマディスプレイ(PDP)、フレキシブルディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)や、例えばタッチパネルや3D(3次元)ディスプレイや電子書籍などのようなFPDなどの基板に対して、カバーガラスやFPDなどのもう一枚の基板を合着する貼合デバイスの製造方法に関する。
詳しくは、対向する第一基板と第二基板を、その間に塗布された接着剤が挟み込まれるように合着する貼合デバイスの製造方法に関する。
The present invention includes, for example, a liquid crystal display (LCD), an organic EL display (OLED), a plasma display (PDP), a flat panel display (FPD) such as a flexible display, a touch panel, a 3D (three-dimensional) display, an electronic book, etc. It is related with the manufacturing method of the bonding device which adhere | attaches another board | substrates, such as a cover glass and FPD, with respect to such board | substrates, such as FPD.
In detail, it is related with the manufacturing method of the bonding device which bonds the 1st board | substrate and 2nd board | substrate which oppose so that the adhesive agent apply | coated between them may be pinched | interposed.
従来、基板に対する貼合デバイスの製造方法として、液晶パネル上に防塵ガラスを接着する際、先ず、液晶パネルの接着側に配置される基板の表面においてその中心付近のみに接着剤が部分的に供給され、その次に、吸着加圧部材で吸着した防塵ガラスを移動させ、既に接着剤が供給されている前記基板に載置し、そのまま加圧して接着剤を防塵ガラスと基板の界面に沿って前記基板の外縁に向け均一に押し広げ、その後、前記接着剤を硬化させることにより固着させている(例えば、特許文献1参照)。
また、2枚の基板の一方あるいは両方の接着面となる面の周辺部に、前記基板からはみ出した接着性樹脂を溜めるための溝を設け、先ず、2枚の前記基板の接着面となる少なくとも一方の面においてその中心付近のみに前記接着性樹脂を滴下し、その次に、前記2枚の基板を前記接着性樹脂が挟まれるように接合し、加圧手段により前記接着性樹脂を均一に展開させ、余分な前記接着性樹脂が前記樹脂溜まり溝に流入した後、紫外線の照射や加熱装置による加熱処理で前記接着性樹脂を硬化させる方法もある(例えば、特許文献2参照)。
Conventionally, as a method of manufacturing a bonding device for a substrate, when adhering dust-proof glass on a liquid crystal panel, first, the adhesive is partially supplied only near the center on the surface of the substrate arranged on the bonding side of the liquid crystal panel. Next, the dust-proof glass adsorbed by the suction pressure member is moved, placed on the substrate to which the adhesive has already been supplied, and pressurized as it is along the interface between the dust-proof glass and the substrate. It is uniformly spread toward the outer edge of the substrate, and then fixed by curing the adhesive (for example, see Patent Document 1).
In addition, a groove for storing the adhesive resin protruding from the substrate is provided in the peripheral portion of the surface to be the bonding surface of one or both of the two substrates, and first, at least the bonding surface of the two substrates The adhesive resin is dropped only near the center on one surface, and then the two substrates are joined so that the adhesive resin is sandwiched between them, and the adhesive resin is uniformly distributed by a pressing means. There is also a method in which the adhesive resin is cured by ultraviolet irradiation or heat treatment by a heating device after unfolding and the excess adhesive resin flows into the resin reservoir groove (see, for example, Patent Document 2).
しかし乍ら、このような従来の貼合デバイスの製造方法では、基板の中心付近のみに接着剤を塗布した後に押圧して伸展させるため、接着剤が基板の周縁から部分的にはみ出したり、接着剤が基板の周縁まで部分的に届かず不足したりするなど、接着剤を基板の外形状に合わせて整形するのが困難であるという問題があった。伸展した接着剤の大きさは、基板同士の押圧具合に応じて微妙に変化するため、精度に劣るとともに、製造環境の温度や湿度などの変化に応じて基板同士の押圧具合を微調整する必要もあるから生産性に劣るという問題もあった。
さらに、貼合デバイスの種類によっては、接着剤の膜厚(厚さ寸法)を約0.1〜0.5mmする要望がある。このサイズは一般的なLCDにおける接着剤の膜厚(約1〜10μm程度)に比べて数十倍にもなるため、接着剤の流動性が大きくて、接着剤を押圧伸展させる方法では、基板の周縁から接着剤が流れ出てしまうなど、対応が難しいという問題があった。
また、接着剤を伸展させる過程において気泡が発生するおそれがあり、特に接着剤の中に発ガス性を有する硬化制御材が含まれている場合には、真空雰囲気で硬化制御材がガス化して気泡となるため、基板同士を完全な無気泡で合着できないという問題もあった。
However, in such a conventional method of manufacturing a bonding device, since the adhesive is applied only to the vicinity of the center of the substrate and then pressed and extended, the adhesive partially protrudes from the peripheral edge of the substrate or adheres. There is a problem that it is difficult to shape the adhesive in accordance with the outer shape of the substrate, for example, the agent does not reach the peripheral edge of the substrate and is insufficient. Since the size of the extended adhesive changes slightly depending on the pressure between the substrates, it is inferior in accuracy, and it is necessary to finely adjust the pressure between the substrates according to changes in the temperature and humidity of the manufacturing environment. There was also a problem that productivity was inferior.
Furthermore, depending on the kind of the bonding device, there is a demand for the film thickness (thickness dimension) of the adhesive to be about 0.1 to 0.5 mm. Since this size is several tens of times larger than the film thickness (about 1 to 10 μm) of an adhesive in a general LCD, the fluidity of the adhesive is large, and the method of pressing and extending the adhesive requires a substrate. There was a problem that it was difficult to deal with, such as the adhesive flowing out from the periphery of.
In addition, there is a possibility that bubbles may be generated in the process of extending the adhesive, and in particular, when the adhesive includes a curing control material having gas generating properties, the curing control material is gasified in a vacuum atmosphere. Due to the bubbles, there was a problem that the substrates could not be bonded together completely without bubbles.
本発明は、このような問題に対処することを課題とするものであり、接着剤の外形を硬化時の形状に保持しながら基板同士を合着すること、などを目的とするものである。 An object of the present invention is to cope with such a problem, and it is an object of the present invention to bond substrates together while maintaining the outer shape of an adhesive in a cured shape.
このような目的を達成するために本発明は、対向する第一基板と第二基板を、その間に塗布された液状の接着剤が挟み込まれるように合着する貼合デバイスの製造方法であって、前記第一基板又は前記第二基板のいずれか一方の内面に前記接着剤を当初から硬化時の外形状と同形状に塗布する工程と、前記接着剤の周縁部をその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させる工程と、前記周縁部を含む前記接着剤の全体が挟まれるように前記第一基板と前記第二基板を合着させる工程とを含むことを特徴とする。 In order to achieve such an object, the present invention is a method for manufacturing a bonding device in which a first substrate and a second substrate facing each other are bonded so that a liquid adhesive applied therebetween is sandwiched therebetween. The step of applying the adhesive to the inner surface of either the first substrate or the second substrate from the beginning in the same shape as the outer shape at the time of curing, and the viscosity of the peripheral portion of the adhesive is adhesive The first substrate and the second substrate are bonded together so that the entire adhesive including the peripheral portion is sandwiched between the step of partially curing so as to be higher than the viscosity of other parts while being held. And a step of causing the step to occur.
前述した特徴を有する本発明は、第一基板又は第二基板のいずれか一方の内面に接着剤を硬化時と同形状に塗布した後に、接着剤の周縁部のみをその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させ、その後、周縁部を含む接着剤の全体が挟まれるように第一基板と第二基板を合着させることにより、接着剤の周縁部で囲まれた中心部が未硬化状態であったとしても、半硬化した周縁部で堰き止められて外へ伸展しないので、接着剤の外形を硬化時の形状に保持しながら基板同士を合着することができる。
その結果、基板の中心付近のみに接着剤を塗布して押圧伸展させる従来の方法に比べ、接着剤の流動性による基板の周縁からのはみ出しや、接着剤が基板の周縁まで届かない不足などを防止できて接着剤の整形性に優れる。
さらに、基板同士の合着に伴って接着剤が押圧されても、接着剤の大きさが変化しないため、精度に優れるとともに、接着剤は塗布時から硬化時と同形状に塗布されたまま、製造環境の温度や湿度などの変化に応じて基板同士の押圧具合を微調整する必要がないため、生産性に優れる。
さらに、接着剤の膜厚(厚さ寸法)が一般的なLCDにおける接着剤の膜厚よりも遥かに厚い貼合デバイスを製造する場合には、基板の周縁から接着剤が流れ出ることがなく、対応が容易である。
In the present invention having the above-described features, after the adhesive is applied to the inner surface of one of the first substrate and the second substrate in the same shape as when cured, the viscosity of the peripheral edge of the adhesive is kept adhesive. Adhering by bonding the first substrate and the second substrate so that the entire adhesive including the peripheral part is sandwiched between the first substrate and the semi-cured partially so as to be higher than the viscosity of the other part as it is Even if the central part surrounded by the peripheral part of the agent is in an uncured state, it is blocked by the semi-cured peripheral part and does not extend outside, so the substrate is maintained while maintaining the outer shape of the adhesive in the shape at the time of curing. They can be joined together.
As a result, compared to the conventional method in which the adhesive is applied only near the center of the substrate and pressed and stretched, the fluidity of the adhesive protrudes from the periphery of the substrate and the adhesive does not reach the periphery of the substrate. It can be prevented and has excellent adhesive formability.
Furthermore, even if the adhesive is pressed along with the bonding between the substrates, the size of the adhesive does not change, so it is excellent in accuracy, and the adhesive is applied in the same shape as at the time of curing from the application, Since it is not necessary to finely adjust the degree of pressing between the substrates according to changes in the temperature and humidity of the manufacturing environment, the productivity is excellent.
Furthermore, when manufacturing a bonding device in which the film thickness (thickness dimension) of the adhesive is much thicker than the film thickness of the adhesive in a general LCD, the adhesive does not flow out from the peripheral edge of the substrate. Easy to handle.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
本発明の実施形態に係る貼合デバイスAの製造方法は、図1〜図2に示すように、対向する一対の第一基板1と第二基板2を、その間に塗布された液状の接着剤3が挟み込まれるように合着するために用いる方法である。
貼合デバイスAの製造方法として、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方の内面に接着剤3を当初から硬化時における外形状と同形状に塗布する塗布工程と、塗布された接着剤3における周縁部3aをその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させる周縁硬化工程と、半硬化された周縁部3aを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させる合着工程を含んでいる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1-2, the manufacturing method of the bonding device A which concerns on embodiment of this invention is a liquid adhesive apply | coated between the pair of 1st board |
As the manufacturing method of the bonding device A, the application | coating process which apply | coats the
第一基板1及び第二基板2としては、例えば液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)、プラズマディスプレイ(PDP)、フレキシブルディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(FPD)や、例えばタッチパネルや3D(3次元)ディスプレイや電子書籍などに用いられるFPDと、透明なガラス製基板又はPES(Poly-Ether-Sulphone)などの透明なプラスチックフィルムや合成樹脂製基板若しくはカバーガラスやバリアガラスなどが用いられる。
また、第一基板1及び第二基板2は、その製作段階で複数の第一基板1及び第二基板2が並設される分離前の一枚ものを使用することも可能である。
さらに、第一基板1及び第二基板2の外形状は、例えば矩形など、同じ大きさに形成され、合着工程においてそれぞれの外縁同士が重なり合うように合着させることが好ましい。
As the
In addition, the
Furthermore, it is preferable that the outer shapes of the
接着剤3としては、例えば光エネルギーを吸収して重合が進行することにより硬化して接着性を発現する光硬化性を有する光硬化型接着剤などが用いられる。また光硬化型接着剤に代えて、熱エネルギーの吸収により重合が進行して硬化する熱硬化型接着剤や二液混合硬化型接着剤などを用いることも可能である。
さらに、接着剤3は、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方に塗布される時点で、その粘度、詳しくは重合度(硬化度)が低くて流動性を有し、光エネルギーや熱エネルギーなどを吸収することにより、粘度(重合度、硬化度)が高くなるにつれて流動性が低下するものの、変形可能で且つ接着剤3の表面は固まらずに接着性を保持しているゲル状化状態を半硬化状態と呼んでいる。この半硬化状態の接着剤3は、更に光エネルギーや熱エネルギーなどを吸収することにより、変形し難くなって本硬化状態となる。
接着剤3の具体例としては、例えばアクリル系UV硬化型樹脂やシリコン系UV硬化型樹脂などからなる紫外線硬化型接着剤を用い、特に空気中ではその表面が固まらない酸素阻害性を有する硬化制御材が含まれるものを用いることが好ましい。なお、この種の硬化制御材は、真空雰囲気においてガス化する性質を有する場合が多い。
As the
Furthermore, when the
As a specific example of the
また、接着剤3は、例えばディスペンサなどからなる定量吐出ノズルなどを用い、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方の内面に対して、当初から硬化時における外形状と同じ所望形状に塗布することが好ましい。
なお、接着剤3を塗布する前に、接着剤3の中に混在している気泡は脱気しておき、塗布時においても気泡を巻き込まないように注意が必要である。
Moreover, the
In addition, before apply | coating the
図1(a)及び図2(a)に示される塗布工程の具体例では、大気中において、第一基板1の内面1aに対し接着剤3を、第一基板1及び第二基板2の外形状に沿った矩形状に塗布している。
また、その他の例として図示しないが、定量吐出ノズルに代えて印刷などにより接着剤3を塗布したり、第二基板2の内面2aに接着剤3を塗布したり、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方の内面に対して接着剤3を矩形以外の形状に塗布することなども可能である。
In the specific example of the coating process shown in FIG. 1A and FIG. 2A, the
Although not shown in the drawings as other examples, the
塗布された接着剤3の周縁部3aを半硬化させる周縁硬化工程の具体例では、接着剤3として光硬化型接着剤を用いるとともに、遮光マスク4を用いる場合を示している。
詳しくは、図1(b)及び図2(b)に示されるように、周縁部3aで囲まれた接着剤3の中心部3bを覆うように平板状の遮光マスク4が配設され、遮光マスク4を挟むように光源(図示しない)から紫外線などの光線Lを照射している。
また、LEDなどの点光源を用いる場合には、周縁部3aに沿って点光源を照射することも可能である。
それにより、接着剤3の周縁部3aのみが額縁状に光エネルギーを吸収してゲル状化し、額縁状の周縁部3aはその表面もゲル状化するが接着性を保持する半硬化状態となる。
特に、接着剤3に酸素阻害性を有する硬化制御材が含まれる場合には、酸素阻害性のため、空気中において周縁部3aの表面層が完全に固まることはなく接着性を残している。
また、その他の例として図示しないが、紫外線などの光線Lに代えて、熱源から熱線などを周縁部3aのみに向けて照射することにより、熱エネルギーなどが吸収されてゲル状化し周縁部3aを半硬化させることも可能である。
In the specific example of the peripheral curing step in which the
Specifically, as shown in FIGS. 1B and 2B, a flat light-
Moreover, when using point light sources, such as LED, it is also possible to irradiate a point light source along the
As a result, only the
In particular, when the
Although not shown in the drawings as another example, instead of the light beam L such as ultraviolet rays, the heat source is irradiated toward only the
さらに必要に応じて、周縁硬化工程の後は、その状態を所定時間に亘って放置するためのレベリング工程を含むことが好ましい。
このレベリング工程によって、半硬化状態になった接着剤3の周縁部3aと中心部3bにおける表面が自然に平滑化されるとともに、塗布時に巻き込んだ気泡を自然に脱泡させることが可能となる。
Further, if necessary, it is preferable to include a leveling step for leaving the state for a predetermined time after the peripheral edge curing step.
By this leveling step, the surfaces of the
そして、周縁硬化工程の後には、図1(c)に示されるように、周縁部3aで囲まれた接着剤3の中心部3bをその粘度が高くなるように半硬化させる中心硬化工程と、半硬化された周縁部3a及び中心部3bを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させる合着工程を含むことが好ましい。
図1(c)に示される具体例では、接着剤3の中心部3bを覆う遮光マスク4が除去された後に、前記光源から紫外線などの光線Lを全面、あるいは中心部3bを選択的に照射することにより、中心部3bが光エネルギーを吸収してゲル状化するものの接着性を保持する半硬化状態となる。
特に、接着剤3に酸素阻害性を有する硬化制御材が含まれる場合には、酸素阻害性のため、空気中において中心部3bの表面層が完全に固まることはなく表面層に接着性を残している。
したがって、接着剤3の塗布形成は、合着工程時における両基板の上下関係として、第一基板1又は第二基板2に区別なくどちらに形成しても良い。それ以外には第一基板1及び第二基板2の両方にそれぞれ接着剤3に形成することにより、遥かに厚い接着剤3の厚膜形成が容易になる。
また、その他の例として図示しないが、既に半硬化した周縁部3aの粘度が上がらないように、周縁部3aを覆う額縁状の遮光マスクが配設され、接着剤3の中心部3bのみに光線Lを照射して半硬化させたり、紫外線などの光線Lに代えて熱源から熱線などを中心部3bに向けて照射したり、中心硬化工程を含まず周縁硬化工程の後に、半硬化された周縁部3aと未硬化状態の中心部3bを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させる合着工程を実行することなども可能である。
Then, after the peripheral curing step, as shown in FIG. 1 (c), a central curing step of semi-curing the
In the specific example shown in FIG. 1C, after the
In particular, when the adhesive 3 includes a curing control material having oxygen inhibition properties, the surface layer of the
Therefore, the adhesive 3 may be formed on the
Although not shown as another example, a frame-shaped shading mask that covers the
図1(d)に示される合着工程の具体例では、真空中又は大気中において、接着剤3が塗布された第一基板1に対し、第二基板2をその内面2aが接着剤3の表面3cと接触するように重ね合わせ、第一基板1と第二基板2が接着剤3を挟んで互いに平行となるように合着させている。
詳しくは、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方若しくは両方を互いに接近移動させる昇降駆動部(図示しない)が設けられている。この昇降駆動部は、コントローラ(図示しない)で作動制御され、第一基板1と第二基板2をそれらの内面1a,2a同士の間隔が、接着剤3の塗布高さと略同じになるまで接近移動させるように構成している。
In the specific example of the bonding process shown in FIG. 1D, the
Specifically, an elevating drive unit (not shown) that moves either one or both of the
また、合着工程の後工程としては、合着工程が実行される場所、又は合着工程の実行場所とは異なる場所などに搬送された状態で、紫外線などの光線Lや熱線などを半硬化状態の周縁部3aと半硬化状態又は未硬化状態の中心部3bに向け照射して本硬化させることが好ましい。
それにより、接着剤3全体の粘度が更に高くなって変形不能な完全接着状態となり、第一基板1と第二基板2がそれらの間に本硬化状態の接着剤3を均等な充填膜厚(ギャップ)で挟み込むように合着した貼合デバイスAが生産される。
In addition, as a post-process of the coalescence process, light L such as ultraviolet rays or heat rays are semi-cured in a state where the process is carried to a place where the coalescence process is performed or a place different from the place where the coalescence process is performed. It is preferable to irradiate the
Thereby, the viscosity of the adhesive 3 as a whole is further increased to be in a completely bonded state that cannot be deformed, and the
このような本発明の実施形態に係る貼合デバイスAの製造方法によると、図1(a)及び図2(a)に示される塗布工程で、第一基板1又は第二基板2のいずれか一方の内面1aに接着剤3を硬化(半硬化及び本硬化)時と同形状に塗布した後に、図1(b)及び図2(b)に示される周縁硬化工程で、接着剤3の周縁部3aのみをその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させ、その後、図1(d)に示される合着工程で、周縁部3aを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させるため、接着剤3の周縁部3aで囲まれた中心部3bが未硬化状態であったとしても、半硬化した周縁部3aで堰き止められて外へ伸展しない。
それにより、接着剤3の外形を硬化時の形状に保持しながら基板1,2同士を合着することができる。したがって、接着剤3の流動性によるはみ出しなどを防止できて接着剤3の整形性に優れる。
According to the manufacturing method of the bonding device A according to such an embodiment of the present invention, either the
Thereby, the
特に、周縁硬化工程の後には、図1(c)に示される中心硬化工程で、接着剤3の中心部3bをその粘度が高くなるように半硬化させ、その後、図1(d)に示される合着工程で、半硬化された周縁部3a及び中心部3bを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させる場合には、第一基板1及び第二基板2の合着前に、周縁部3及び中心部3bの接着剤3の全体が半硬化状態となっている。
それにより、基板1,2同士の合着後における接着剤3の流動を完全に防止することができる。したがって、接着剤3を本硬化するたに、合着された基板1,2を搬送するか又は表裏反転移動させるなどしても、品質低下のトラブルを避けることができて生産上の自由度が向上する。
次に、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
In particular, after the peripheral curing step, the
Thereby, the flow of the adhesive 3 after the bonding of the
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
この実施例は、接着剤3が真空雰囲気においてガス化する硬化制御材を含み、合着工程が真空雰囲気において半硬化状態の周縁部3a及び中心部3bを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させている。
図1(d)に示される例では、所定の真空度に維持されたチャンバー5の内部において、第一基板1と第二基板2の合着を実行している。
In this embodiment, the adhesive 3 includes a curing control material that gasifies in a vacuum atmosphere, and the
In the example shown in FIG. 1D, the
さらに、合着工程において、第一基板1又は第二基板2のいずれか他方の内面を、接着剤3の表面3cに対して密着するように加圧することが好ましい。
図1(d)の二点鎖線に示される例では、第一基板1に塗布された接着剤3に対し、前記昇降駆動部により第二基板2を、その内面2aが接着剤3の表面3cに圧接するように接近移動させ押圧している。
Furthermore, it is preferable to pressurize so that the inner surface of the other one of the 1st board |
In the example shown by the two-dot chain line in FIG. 1 (d), the second substrate 2 is applied to the adhesive 3 applied to the
このような本発明の実施例に係る貼合デバイスAの製造方法によると、真空雰囲気で第一基板1及び第二基板2が接着剤3の表面3cとの間に空気を残留させずに合着されると同時に、周縁部3a及び中心部3bが半硬化(ゲル化)に伴って、内部の硬化制御材が真空雰囲気と接触しないためにガス化せず気泡が発生しない。
それにより、基板1,2同士を無気泡で合着することができる。したがって、無気泡の品質を確保できるという利点がある。
According to the manufacturing method of the bonding device A according to the embodiment of the present invention, air is not left between the
Thereby, the
さらに、合着工程において、第一基板1又は第二基板2のいずれか他方の内面を、接着剤3の表面3cに対して密着するように加圧させる場合には、接着剤3の表面3aに生ずる凹凸が平滑に変形して密着する。
それにより、基板1,2同士の合着時における気泡の残留を更に減少させることができる。したがって、無気泡の品質を更に向上させることができるという利点もある。
Furthermore, in the bonding step, when the other inner surface of the
Thereby, the bubble remaining at the time of joining the
なお、前示実施例では、接着剤3が真空雰囲気においてガス化する硬化制御材を含み、合着工程が真空雰囲気において半硬化状態の周縁部3a及び中心部3bを含む接着剤3の全体が挟まれるように第一基板1と第二基板2を合着させたが、これに限定されず、硬化制御材を含まない接着剤3を用いたり、合着工程が大気中において第一基板1と第二基板2を合着させたり、しても良い。
In the previous embodiment, the adhesive 3 includes a curing control material that is gasified in a vacuum atmosphere, and the
1 第一基板 1a 内面
2 第二基板 2a 内面
3 接着剤 3a 周縁部
3b 中心部 3c 表面
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記第一基板又は前記第二基板のいずれか一方の内面に前記接着剤を当初から硬化時の外形状と同形状に塗布する工程と、
前記接着剤の周縁部をその粘度が接着性を保持したまま他の部位の粘度よりも高くなるように部分的に半硬化させる工程と、
前記周縁部を含む前記接着剤の全体が挟まれるように前記第一基板と前記第二基板を合着させる工程とを含むことを特徴とする貼合デバイスの製造方法。 A method of manufacturing a bonding device, wherein a first substrate and a second substrate facing each other are bonded so that a liquid adhesive applied therebetween is sandwiched,
Applying the adhesive on the inner surface of either the first substrate or the second substrate from the beginning in the same shape as the outer shape at the time of curing;
A step of partially semi-curing the peripheral edge of the adhesive such that the viscosity is higher than the viscosity of other parts while maintaining the adhesiveness;
And a step of bonding the first substrate and the second substrate so that the entire adhesive including the peripheral portion is sandwiched.
真空雰囲気において半硬化状態の前記周縁部及び中心部を含む前記接着剤の全体が挟まれるように前記第一基板と前記第二基板を合着させる工程とを含むことを特徴とする請求項2記載の貼合デバイスの製造方法。 The adhesive includes a curing control material that gasifies in a vacuum atmosphere,
3. The step of bonding the first substrate and the second substrate so that the whole of the adhesive including the peripheral portion and the center portion in a semi-cured state is sandwiched in a vacuum atmosphere. The manufacturing method of the bonding device of description.
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