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JP4972368B2 - Optical filter for display, display having the same, and plasma display panel - Google Patents

Optical filter for display, display having the same, and plasma display panel Download PDF

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JP4972368B2 JP2006243870A JP2006243870A JP4972368B2 JP 4972368 B2 JP4972368 B2 JP 4972368B2 JP 2006243870 A JP2006243870 A JP 2006243870A JP 2006243870 A JP2006243870 A JP 2006243870A JP 4972368 B2 JP4972368 B2 JP 4972368B2
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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にPDPに関する。   The present invention is applicable to various displays such as a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescent) display, and a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED). The present invention relates to an optical filter having various functions such as antireflection, near-infrared shielding, electromagnetic wave shielding, and the like, and a display provided with this optical filter, particularly a PDP.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PDP)、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びCRTディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。   In the case of flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays (PDP), EL displays, and CRT displays, it has been known that the light from the outside is reflected on the surface and the internal visual information is difficult to see. Various measures have been taken, such as the installation of an optical film including an antireflection film.

近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にPDPが一般的になってきている。PDPは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このPDPでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、PDPに対して、導電性を有する種々のPDPフィルタ(電磁波シールド性光透過窓材)が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。   In recent years, large screen displays have become the mainstream of displays, and PDPs have become common as liquid crystal displays as large screen display devices. PDP has advantages such as faster response speed than liquid crystal display. However, in this PDP, high-frequency pulse discharge is performed on the light emitting part for image display, which may cause unnecessary electromagnetic wave radiation and infrared radiation which may cause malfunction of the infrared remote controller, etc. For this purpose, various PDP filters (electromagnetic wave shielding light transmitting window materials) having conductivity have been proposed for PDP. As the conductive layer of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, for example, (1) a transparent conductive thin film containing metallic silver, (2) a conductive mesh in which a metal wire or conductive fiber is made into a net, (3) on a transparent film Known are those in which a layer of copper foil or the like is etched into a net and an opening is provided, and (4) a conductive ink is printed in a mesh on a transparent film.

しかしながら、(1)の透明導電薄膜は導電性が十分得られない、また(2)の導電メッシュは、一般に、良好な光透過性を得ることができないとの欠点があった。(3)のエッチング加工及び(4)パターン印刷により、所望のメッシュ状の導電層を形成することができることから、線幅や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に大きく、線幅200μm以下、開口率75%以上という細線で開口率の高いメッシュ状の導電層であっても形成可能である。但し、(3)ではエッチング加工において設備が必要であり、また工程が煩雑でコスト高となるとの不利がある。一方、(4)メッシュ状のパターン印刷は上記導電層の形成が特に容易で有利であり、このような細線で目の粗い導電層を形成した導電性印刷膜であれば、良好な光透過性を得ることができると共に、モアレ現象を防止することができる。しかしながら、(4)の導電性インクの印刷は、この導電性微粒子のインク中での分散状態を保つためにインクの粘性を十分に高くしておく必要があり、このため、インク線幅を著しく小さくすることはできず、開口率も著しく大きくすることはできなかった。   However, the transparent conductive thin film of (1) has a drawback that sufficient conductivity cannot be obtained, and the conductive mesh of (2) generally has a defect that good light transmittance cannot be obtained. Since the desired mesh-like conductive layer can be formed by the etching process of (3) and (4) pattern printing, the line width and spacing, the degree of freedom of the mesh shape is much larger than that of the conductive mesh, Even a mesh-like conductive layer with a thin line having a line width of 200 μm or less and an aperture ratio of 75% or more and a high aperture ratio can be formed. However, (3) is disadvantageous in that it requires equipment for the etching process, and the process is complicated and expensive. On the other hand, (4) mesh-like pattern printing is particularly easy and advantageous for the formation of the conductive layer described above. And the moire phenomenon can be prevented. However, in the printing of the conductive ink (4), it is necessary to sufficiently increase the viscosity of the ink in order to maintain the dispersion state of the conductive fine particles in the ink. Therefore, the ink line width is remarkably increased. The aperture ratio could not be reduced, and the aperture ratio could not be increased significantly.

上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献1(特開平11−119678号公報)には、2枚の透明基板の間に前記 (3)の導電性メッシュ(メッシュ状の金属箔)を介在させて、透明接着剤で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。このような接着剤としては、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)等の熱可塑性樹脂が使用されている。   In the above-mentioned electromagnetic shielding light transmitting window material, for example, in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-119678), the conductive mesh (mesh-like metal foil) described in (3) above is provided between two transparent substrates. ), And an electromagnetic wave shielding light transmission window material formed by joining and integrating with a transparent adhesive. As such an adhesive, a thermoplastic resin such as ethylene vinyl acetate copolymer (EVA) is used.

また開口率も著しく大きくするために、上記(4)のパターン印刷法を改良したメッシュ状導電層の形成方法が、特許文献2(特開2001−332889号公報)に記載されている。即ち、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高いメッシュ状の導電層を有した電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法で、その製造方法は、フィルム面に、水に対して可溶な物質によってドットを形成し、該フィルム面に水に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、フィルム面を水と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去する方法である(以下印刷メッシュ法という)。   In addition, in order to significantly increase the aperture ratio, a method for forming a mesh-like conductive layer obtained by improving the pattern printing method (4) is described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-332889). That is, a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material having a mesh-like conductive layer having a sufficiently small line width and a very high aperture ratio. The manufacturing method is soluble in water on the film surface. In this method, dots are formed by a material, a conductive material layer made of a conductive material insoluble in water is formed on the film surface, and the film surface is brought into contact with water to remove the dots and the conductive material layer on the dots. Yes (hereinafter referred to as printing mesh method).

電磁波シールド性光透過窓材等の光学フィルタにおいては、ネオン発光等の不要な光を遮断するため、及びリモコンの誤作動防止のために、近赤外線吸収層が一般に設けられている。このような光学フィルタは、特許文献3(特開2006−153955号公報)に記載されている。即ち、透明な基材と、その一面上に形成された反射防止層と、前記透明基材の他面上に形成された電磁波遮蔽層と、この電磁波遮蔽層上に形成された近赤外線遮蔽層と、この近赤外線遮蔽層上に形成された接着剤層とが、一体のフィルム状に積層されている光学フィルタが記載されている。   In an optical filter such as an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, a near-infrared absorbing layer is generally provided in order to block unnecessary light such as neon light emission and to prevent malfunction of the remote controller. Such an optical filter is described in Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-153955). That is, a transparent substrate, an antireflection layer formed on one surface thereof, an electromagnetic wave shielding layer formed on the other surface of the transparent substrate, and a near infrared shielding layer formed on the electromagnetic wave shielding layer And an optical filter in which an adhesive layer formed on the near-infrared shielding layer is laminated into an integral film.

特開平11−74683号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-74683 特開2001−332889号公報JP 2001-332889 A 特開2006−153955号公報JP 2006-153955 A

特許文献1に示されているように、メッシュ状金属箔は2枚の透明基板の間に介在させて、EVA等の熱可塑性樹脂で接合一体化されており、メッシュ状金属箔を透明基板に固定するためにEVA等の熱可塑性樹脂が用いられている。また、特許文献2に記載された印刷メッシュ法により形成されたメッシュ状の導電材料層は、透明フィルムにそのまま形成されている。   As shown in Patent Document 1, the mesh metal foil is interposed between two transparent substrates and joined and integrated with a thermoplastic resin such as EVA, and the mesh metal foil is used as a transparent substrate. A thermoplastic resin such as EVA is used for fixing. Moreover, the mesh-shaped conductive material layer formed by the printing mesh method described in Patent Document 2 is directly formed on the transparent film.

さらに、特許文献3に記載された電磁波遮蔽層上に形成された近赤外線遮蔽層(即ち近赤外線吸収層)が設けられた光学フィルタにおいても、電磁波遮蔽層であるメッシュ状導電層は透明基材上にそのまま形成されている。   Further, in the optical filter provided with the near infrared shielding layer (that is, the near infrared absorbing layer) formed on the electromagnetic shielding layer described in Patent Document 3, the mesh-like conductive layer as the electromagnetic shielding layer is a transparent substrate. It is formed as it is.

しかしながら、本発明者の検討によると、透明フィルムに、特許文献1に記載のメッシュ状金属箔のみならず特許文献2に記載の様な印刷メッシュ法による開口率の高いメッシュ状導電材料層を設ける場合、透明フィルムとメッシュ状導電層との間にその接着性を維持するために、特許文献1のように中間層を設けることが必要であり、なおかつその中間層上に設けられる機能層の種類により、各機能層に応じた特定の中間層が必要であることを見いだした。さらに本発明者が検討を重ねたところ、特許文献3に記載された電磁波遮蔽層上に形成された近赤外線遮蔽層(即ち近赤外線吸収層)が設けられた光学フィルタにおいては、中間層の構成成分によっては近赤外線吸収層に含まれる色素を劣化させて、近赤外線吸収層の機能を損ねることを見いだした。   However, according to the study by the present inventor, not only the mesh-shaped metal foil described in Patent Document 1 but also a mesh-shaped conductive material layer having a high aperture ratio by the printed mesh method as described in Patent Document 2 is provided on the transparent film. In this case, in order to maintain the adhesion between the transparent film and the mesh-like conductive layer, it is necessary to provide an intermediate layer as in Patent Document 1, and the type of functional layer provided on the intermediate layer Thus, it was found that a specific intermediate layer corresponding to each functional layer is necessary. Furthermore, as a result of repeated studies by the present inventor, in an optical filter provided with a near-infrared shielding layer (that is, a near-infrared absorbing layer) formed on an electromagnetic wave shielding layer described in Patent Document 3, the configuration of the intermediate layer It has been found that depending on the component, the dye contained in the near-infrared absorbing layer is deteriorated and the function of the near-infrared absorbing layer is impaired.

従って、本発明は、製造が容易で、軽量で薄く、電磁波シールド性及び近赤外線遮蔽性に優れ、耐久性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical filter for display that is easy to manufacture, lightweight and thin, excellent in electromagnetic wave shielding properties and near infrared shielding properties, and excellent in durability.

また、本発明は、製造が容易で、軽量で薄く、電磁波シールド性及び近赤外線遮蔽性に優れ、耐久性に優れたPDP用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide an optical filter suitable for PDP that is easy to manufacture, lightweight and thin, has excellent electromagnetic shielding properties and near infrared shielding properties, and has excellent durability.

さらに、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a display in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたPDPを提供することを目的とする。   Furthermore, an object of the present invention is to provide a PDP in which the optical filter having the excellent characteristics is bonded to the surface of an image display glass plate.

本発明者の検討により、前述のように、特許文献3に記載された電磁波遮蔽層上に形成された近赤外線遮蔽層(即ち近赤外線吸収層)が設けられた光学フィルタにおいては、中間層の構成成分によっては近赤外線吸収層に含まれる色素を劣化させて、近赤外線吸収層の機能を損ねることを見いだした。そして、さらに検討を重ねたところ、特定の樹脂成分を用いることにより、近赤外線吸収層の機能を損ねることなく、優れた接着性(透明フィルムとメッシュ状導電層、及び透明フィルムと近赤外線吸収層の間)を保持できることを見いだした。   In the optical filter provided with the near-infrared shielding layer (that is, the near-infrared absorbing layer) formed on the electromagnetic wave shielding layer described in Patent Document 3, as described above, the inventors have studied the intermediate layer. It has been found that depending on the constituent components, the dye contained in the near-infrared absorbing layer is deteriorated and the function of the near-infrared absorbing layer is impaired. And after further investigation, by using a specific resin component, without impairing the function of the near-infrared absorbing layer, excellent adhesive properties (transparent film and mesh-like conductive layer, and transparent film and near-infrared absorbing layer) I was able to hold

従って、本発明は、
少なくとも1枚の透明フィルム、1枚の透明フィルム上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルムとメッシュ状導電層との間に中間層が設けられ、該中間層がポリエステル樹脂を含み、且つポリイソシアネートを含んでおらず、
前記中間層のポリエステル樹脂が、グリコール成分として、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールを含み、そして多価カルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸及びセバシン酸から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ;及び。
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及び近赤外線吸収層がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルムとメッシュ状導電層との間に中間層が設けられ、中間層がポリエステル樹脂を含み、且つポリイソシアネートを含んでおらず、
前記中間層のポリエステル樹脂が、グリコール成分として、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールを含み、そして多価カルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸及びセバシン酸から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
;にある。
ポリイソシアネートは、特に、近赤外線吸収を構成する色素(染料)を劣化させる傾向が強い。また、上記のような構成のポリエステル樹脂の中間層は、透明フィルム、メッシュ状導電層及び近赤外線吸収層に対する接着性に特に優れている。更に、グリコール成分が、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)を含んでいることにより、上記接着性がより一層優れたものになる。さらに色素をほとんど劣化させることがない。
ポリエステル樹脂の重量平均分子量は一般に1000〜50000の範囲、特に2000〜20000の範囲が好ましい。また数平均分子量は一般に1000〜50000の範囲、特に2000〜20000の範囲が好ましい。
Therefore, the present invention
An optical filter for display comprising at least one transparent film, a mesh-like conductive layer provided on one transparent film, and a near-infrared absorbing layer provided on the mesh-like conductive layer,
Intermediate layer is provided between the transparent film and the mesh-shaped conductive layer, it viewed including the intermediate layer is a polyester resin, and does not include a polyisocyanate,
The polyester resin of the intermediate layer contains 2,2-dimethyl-1,3-propanediol as a glycol component, and is selected from terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid and sebacic acid as a polyvalent carboxylic acid And at least one optical filter for display, and
An optical filter for display in which a mesh-like conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
Intermediate layer is provided between the transparent film and the mesh-shaped conductive layer, it viewed including the intermediate layer is a polyester resin, and does not include a polyisocyanate,
The polyester resin of the intermediate layer contains 2,2-dimethyl-1,3-propanediol as a glycol component, and is selected from terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid and sebacic acid as a polyvalent carboxylic acid An optical filter for display , comprising at least one selected from the above-mentioned .
;It is in.
Polyisocyanate has a strong tendency to deteriorate the coloring matter (dye) constituting near-infrared absorption. In addition, the polyester resin intermediate layer having the above-described configuration is particularly excellent in adhesion to the transparent film, the mesh-like conductive layer, and the near-infrared absorbing layer. Furthermore, when the glycol component contains 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), the adhesiveness is further improved. Furthermore, the pigment is hardly deteriorated.
The weight average molecular weight of the polyester resin is generally in the range of 1000 to 50000, particularly preferably in the range of 2000 to 20000. The number average molecular weight is generally in the range of 1000 to 50000, particularly preferably in the range of 2000 to 20000.

本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
(1)メッシュ状導電層は、メッシュ状金属膜又は金属蒸着膜からなる。その層厚は一般に1〜200μmである。
メッシュ状金属膜の場合、その層厚は一般に1〜200μm、特に1〜50μmである。
金属蒸着膜の場合、1〜10μm、好ましくは2〜8μm、特に3〜6μmである。この場合、ハードコート層は、メッシュ状導電層の凹部を完全に覆うことが容易である。
上記金属蒸着膜の代わりに、導電材料層(例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層)でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。
)ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
)近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。近赤外線吸収層が粘着性を有していても良い。
)透明フィルムがプラスチックフィルムである。
)粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
)プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
Preferred embodiments of the optical filter for display of the present invention are as follows.
(1 ) The mesh-like conductive layer is made of a mesh-like metal film or a metal vapor deposition film. The layer thickness is generally 1 to 200 μm.
In the case of a mesh-like metal film, the layer thickness is generally 1 to 200 μm, particularly 1 to 50 μm.
In the case of a metal vapor deposition film, it is 1-10 micrometers, Preferably it is 2-8 micrometers, Especially 3-6 micrometers. In this case, it is easy for the hard coat layer to completely cover the concave portions of the mesh-like conductive layer.
Instead of the metal vapor deposition film, a conductive material layer (eg, a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer) may be used. Furthermore, the metal vapor deposition film or the electroconductive layer by coating, and the plating layer provided on it may be sufficient.
( 2 ) A low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer is formed on the hard coat layer. Good antireflection properties can be obtained.
( 3 ) The pressure-sensitive adhesive layer is provided on the surface of the near-infrared absorbing layer on the side opposite to the transparent film. Mounting on the display becomes easy. The near infrared absorbing layer may have adhesiveness.
( 4 ) The transparent film is a plastic film.
( 5 ) A release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer or the pressure-sensitive near-infrared absorbing layer. Mounting on the display becomes easy.
( 6 ) A filter for a plasma display panel.

さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ;及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
Furthermore, the present invention provides
A display characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate; and a plasma characterized in that the optical filter for display is bonded to the surface of the image display glass plate It is also on the display panel.

本発明のディスプレイ用光学フィルタは、製造が容易で、軽量で薄く、電磁波シールド性及び近赤外線遮蔽性に優れ、耐久性に優れた光学フィルタである。本発明では、電磁波シールド層としてメッシュ状導電層と、近赤外線吸収層とが直接接触した状態で積層された光学フィルタにおいて、各層間の長期の安定した接着性、そして近赤外線遮蔽性の長期間の確保を可能にしたものである。そのためにメッシュ状導電層と近赤外線吸収層に、透明基板である透明フィルムが直接接することなく、特定の中間層を介してメッシュ状導電層と近赤外線吸収層とが透明フィルム上に設けられており、これにより上記優れた接着性、近赤外線遮蔽性が長期に保持可能な、優れた耐久性が得られている。   The optical filter for display of the present invention is an optical filter that is easy to manufacture, lightweight, thin, excellent in electromagnetic wave shielding properties and near infrared shielding properties, and excellent in durability. In the present invention, in an optical filter laminated in a state in which a mesh-like conductive layer and a near infrared absorption layer are in direct contact as an electromagnetic wave shielding layer, long-term stable adhesion between each layer, and long-term near-infrared shielding properties Is possible. Therefore, the mesh-like conductive layer and the near-infrared absorbing layer are provided on the transparent film via a specific intermediate layer without directly contacting the transparent film as the transparent substrate to the mesh-like conductive layer and the near-infrared absorbing layer. As a result, excellent durability that can maintain the above excellent adhesiveness and near-infrared shielding properties for a long period of time is obtained.

また、上記のような構成を採ることにより、光学フィルタ自体の薄膜化が可能であり、例えば透明フィルムを1枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。   In addition, by adopting the configuration as described above, the optical filter itself can be thinned. For example, when the optical filter is obtained using a single transparent film, the thickness of the optical filter is extremely small. Accordingly, the mass is also reduced, which is extremely advantageous in handling when the display is mounted and after mounting.

従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル(PDP)、ブラウン管(CRT)ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機EL(電界発光)ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ(SED)を含む電界放出型ディスプレイ(FED)等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。   Therefore, the optical filter for display of the present invention includes a field emission display (FED) including a plasma display panel (PDP), a cathode ray tube (CRT) display, a liquid crystal display, an organic EL (electroluminescence) display, and a surface electric field display (SED). It can be said that the optical filter has various functions such as anti-reflection, near-infrared shielding, and electromagnetic wave shielding for various displays such as).

本発明の、電磁波シールド性及び近赤外線遮蔽性に優れ、耐久性に優れたディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。   The optical filter for display according to the present invention, which has excellent electromagnetic shielding properties and near infrared shielding properties and excellent durability, will be described in detail below.

本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す1例の概略断面図を図1に示す。図1において、透明フィルム12の一方の表面に、中間層13、メッシュ状導電層14、近赤外線吸収層15及びその上に粘着剤層16がこの順で設けられ、他方の表面にはハードコート層17及び低屈折率層等の反射防止層18が設けられている。この構成において、反射防止性がやや劣るが、反射防止層18が無くても良い。また、場合によっては、ハードコート層17及び低屈折率層等の反射防止層18の両方が無くても用途によっては使用可能である。さらに、粘着剤層16が無くても良い。また上記メッシュ状導電層14が薄い場合(一般に印刷メッシュ法の場合)、その凹部を近赤外線吸収層15により覆うことが可能となり得る。しかしながら、通常、近赤外線吸収層15も薄層であるのでメッシュ状導電層の凹凸に沿うように形成されている。   FIG. 1 shows a schematic sectional view of an example showing the basic structure of the optical filter for display of the present invention. In FIG. 1, an intermediate layer 13, a mesh-like conductive layer 14, a near-infrared absorbing layer 15 and an adhesive layer 16 are provided in this order on one surface of a transparent film 12, and a hard coat is provided on the other surface. An antireflection layer 18 such as a layer 17 and a low refractive index layer is provided. In this configuration, the antireflection property is slightly inferior, but the antireflection layer 18 may be omitted. In some cases, the hard coat layer 17 and the antireflective layer 18 such as a low refractive index layer can be used depending on the application even without both. Further, the pressure-sensitive adhesive layer 16 may be omitted. Further, when the mesh-like conductive layer 14 is thin (generally in the case of a printing mesh method), it may be possible to cover the concave portion with the near-infrared absorbing layer 15. However, since the near-infrared absorbing layer 15 is usually a thin layer, it is formed along the irregularities of the mesh-like conductive layer.

中間層13は、ポリエステル樹脂を含む層であり、ポリエステル樹脂から構成されることが好ましい。特に、硬化剤、中でもポリイソシアネートを含まないポリエステル樹脂である。このような中間層を用いることにより、透明フィルムと、メッシュ状導電層又は近赤外線吸収層との各層間の長期の安定した接着性が確保されると共に、近赤外線遮蔽性の長期間の保持を可能にしている。中間層の詳細は後述する。 The intermediate layer 13 is a layer containing a polyester resin, and is preferably composed of a polyester resin. In particular, the curing agent, Ru polyester resin der free inter alia polyisocyanate. By using such an intermediate layer, long-term stable adhesion between each layer of the transparent film and the mesh-like conductive layer or near-infrared absorbing layer is ensured, and long-term retention of near-infrared shielding is maintained. It is possible. Details of the intermediate layer will be described later.

メッシュ導電層14は、一般にメッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法、特に上記メッシュ印刷法により形成されている。特に上記メッシュ印刷法で形成すると高い開口率が得られやすい。メッシュ状金属膜の層厚は、一般に1〜200μmである。エッチング金属層の場合は、1〜200μm、特に1〜50μmであることが好ましい。メッシュ印刷法(例、金属蒸着膜)の場合、1〜10μm、好ましくは2〜8μm、特に3〜6μmであることが好ましい。上記印刷メッシュ法で形成される薄層である場合は、一般に金属蒸着膜であるが、塗工による導電層(例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層)でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。   The mesh conductive layer 14 is generally a mesh-like metal layer or metal-containing layer. The mesh-like metal layer or metal-containing layer is generally formed by etching or by a printing method, particularly the mesh printing method. In particular, when the mesh printing method is used, it is easy to obtain a high aperture ratio. The layer thickness of the mesh metal film is generally 1 to 200 μm. In the case of an etching metal layer, it is preferably 1 to 200 μm, particularly 1 to 50 μm. In the case of a mesh printing method (eg, a metal vapor deposition film), it is preferably 1 to 10 μm, preferably 2 to 8 μm, particularly 3 to 6 μm. In the case of a thin layer formed by the printing mesh method, it is generally a metal vapor-deposited film, but it may be a conductive layer by coating (eg, a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer). . Furthermore, the metal vapor deposition film or the electroconductive layer by coating, and the plating layer provided on it may be sufficient.

近赤外線吸収層15は、ネオン発光(585nm)等の不要な光を遮断する機能を有する。近赤外線吸収層15は、一般に、近赤外線の遮断、リモコンの誤作動防止の目的で設けられ、800〜1200nmに吸収極大を有する色素を含む層である。粘着剤層16は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。粘着剤層16の上に剥離シートを設けても良い。   The near-infrared absorbing layer 15 has a function of blocking unnecessary light such as neon light emission (585 nm). The near-infrared absorbing layer 15 is generally a layer that is provided for the purpose of blocking near-infrared rays and preventing a malfunction of the remote controller and includes a dye having an absorption maximum at 800 to 1200 nm. The pressure-sensitive adhesive layer 16 is generally provided for easy mounting on a display. A release sheet may be provided on the pressure-sensitive adhesive layer 16.

反射防止層17は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層16とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層16との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。   The antireflection layer 17 is generally a low refractive index layer. That is, the antireflection effect is exhibited by the composite film of the hard coat layer 16 and the low refractive index layer provided thereon. A high refractive index layer may be provided between the low refractive index layer and the hard coat layer 16. This improves the antireflection function.

また反射防止層17は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い(好ましくは低い)ハードコート層16のみであっても良い。ハードコート層16、反射防止層17は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。   Further, the antireflection layer 17 may not be provided, and only the transparent film and the hard coat layer 16 having a refractive index higher or lower (preferably lower) than that of the transparent film may be used. The hard coat layer 16 and the antireflection layer 17 are preferably formed by coating from the viewpoints of productivity and economy.

上述のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、長尺状のプラスチックフィルムの一方の表面に、中間層、メッシュ状導電層、近赤外線吸収層、粘着剤層を形成し、他方の表面にハードコート層及び反射防止層を形成することにより、或いは中間層及びメッシュ状導電層を含む長尺状の近赤外カットフィルムと長尺状の反射防止フィルムとを作製し、これらを接着剤を介して積層することにより長尺状の光学フィルタを得、その後、作製されたフィルタを、各ディスプレイの全面の表示部の形状に合わせて矩形状に裁断して得られる。   The above-mentioned optical filter for display, for example, forms an intermediate layer, a mesh-like conductive layer, a near-infrared absorbing layer, and an adhesive layer on one surface of a long plastic film, and a hard coat layer and an adhesive layer on the other surface. A long near-infrared cut film including an intermediate layer and a mesh-like conductive layer and a long antireflection film are formed by forming an antireflection layer, and these are laminated via an adhesive. Thus, a long optical filter is obtained, and then the produced filter is obtained by cutting into a rectangular shape in accordance with the shape of the display portion on the entire surface of each display.

矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。   In the case of a rectangular transparent film, each layer may be formed in a batch system. However, as described above, it is preferable to form each layer on a continuous film, in a roll-to-roll system, and to cut the layers.

本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に詳細に説明する。   The materials used for the optical filter for display of the present invention will be described in detail below.

透明フィルムは、その材料としては、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル{例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート}、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷(熱、溶剤、折り曲げ等)に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等が好ましい。特に、PETが、加工性に優れているので好ましい。   The material of the transparent film is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.

透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に1μm〜10mm、1μm〜5mm、特に25〜250μmが好ましい。   The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, and particularly preferably 25 to 250 μm.

本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に10Ω/□以下、好ましくは0.001〜5Ω/□の範囲、特に0.005〜5Ω/□の範囲となるように設定される。   The conductive layer of the present invention is set so that the surface resistance value of the obtained optical filter is generally 10Ω / □ or less, preferably 0.001 to 5Ω / □, particularly 0.005 to 5Ω / □. Is done.

メッシュ状の導電層としては、前述のように、印刷メッシュ法により形成されたものの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。   As described above, the mesh-like conductive layer is formed by the printing mesh method, but the copper foil layer on the transparent film is etched into a net-like shape, and an opening is provided. And the like, in which a conductive ink is printed in a mesh shape.

メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、線径1μm〜1mm、開口率40〜95%のものが好ましい。より好ましい線径は10〜500μm、開口率は50〜95%である。メッシュ状の導電層において、線径が1mmを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。1μm未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が95%を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、40%未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。   In the case of a mesh-like conductive layer, the mesh preferably has a wire diameter of 1 μm to 1 mm and an aperture ratio of 40 to 95%. A more preferable wire diameter is 10 to 500 μm, and an aperture ratio is 50 to 95%. When the wire diameter exceeds 1 mm in the mesh-like conductive layer, the electromagnetic wave shielding property is improved, but the aperture ratio is lowered and cannot be made compatible. If it is less than 1 μm, the strength as a mesh is lowered and handling becomes difficult. Further, when the aperture ratio exceeds 95%, it is difficult to maintain the shape as a mesh. When the aperture ratio is less than 40%, the light transmittance is reduced, and the light amount from the display is also reduced.

なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。   The opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh.

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものが好ましく、その場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。   A conductive foil such as a metal foil is preferably subjected to pattern etching. In this case, the metal of the metal foil is copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, aluminum. Is used.

金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、一般に、1〜200μm、特に1〜50μmとするのが好ましい。   If the thickness of the metal foil is too thin, it is not preferable in terms of handleability and workability of pattern etching, and if it is too thick, it affects the thickness of the film obtained, and the time required for the etching process becomes long. In general, the thickness is preferably 1 to 200 μm, particularly 1 to 50 μm.

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   The shape of the etching pattern is not particularly limited, and examples thereof include a grid-like metal foil in which square holes are formed, and a punching metal-like metal foil in which circular, hexagonal, triangular or elliptical holes are formed. It is done. Further, the holes are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this metal foil is 20 to 95%.

或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。   Alternatively, the mesh-like conductive layer may be formed by pattern printing of conductive ink on a transparent substrate. Using the following conductive ink, it can be printed on the surface of the transparent substrate by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like.

一般に、粒径100μm以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を50〜90重量%濃度にPMMA、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜120℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。   In general, carbon black particles having a particle size of 100 μm or less, or particles of a conductive material such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc. are bound to a binder of PMMA, polyvinyl acetate, epoxy resin or the like at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., applied to the surface of the transparent substrate by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply. Particles obtained by covering the same conductive material particles as described above with a binder resin are directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like.

このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、0.5〜100μm程度とするのが好ましい。   The thickness of the printed film formed in this way is not preferable because the electromagnetic wave shielding property is insufficient if it is too thin, and if it is too thick, it affects the thickness of the resulting film, so it is about 0.5 to 100 μm. It is preferable to do this.

このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。   According to such pattern printing, the degree of freedom of the pattern is large, and a conductive layer having an arbitrary wire diameter, interval and opening shape can be formed. Therefore, a plastic film having desired electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties Can be easily formed.

導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、20〜95%であることが好ましい。   There is no particular limitation on the pattern printing shape of the conductive layer. For example, a grid-like printed film having a rectangular opening or a punching metal shape having a circular, hexagonal, triangular or elliptical opening. Examples include printed films. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern. It is preferable that the area ratio of the opening part in the projection surface of this printed film is 20 to 95%.

本発明では、メッシュ状の導電層として、前記したように印刷メッシュ法で行うことも好ましい。   In the present invention, the mesh-like conductive layer is also preferably formed by the printing mesh method as described above.

上記印刷メッシュ法について、図2にその導電層の形成方法を説明する概略図を示す。まず(1) に示すように透明フィルム1上に中間層形成用塗工液を塗工し、乾燥させて中間層3を形成し、次いで(2)に示すように中間層3上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット2を印刷する。次いで、(3)に示すように、透明フィルム1のドット2の上及びドット2の間の中間層3露出面のすべてを覆うように導電材料層4を形成する。ドット上にも導電材料層4が設けられるが、余り厚すぎると後の洗浄でドットを除去できなくなる。次に、この透明フィルム1を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。導電材料層4は、金属を蒸着することにより形成することが、低抵抗が得られやすく好ましい。   About the said printing mesh method, the schematic explaining the formation method of the conductive layer in FIG. 2 is shown. First, as shown in (1), the intermediate layer-forming coating solution is applied onto the transparent film 1 and dried to form the intermediate layer 3. Next, as shown in (2), water or the like is formed on the intermediate layer 3. The dots 2 are printed using a material soluble in the solvent. Next, as shown in (3), the conductive material layer 4 is formed so as to cover all of the exposed surface of the intermediate layer 3 above and between the dots 2 of the transparent film 1. The conductive material layer 4 is also provided on the dots, but if it is too thick, the dots cannot be removed by subsequent cleaning. Next, the transparent film 1 is washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination. The conductive material layer 4 is preferably formed by vapor deposition of metal because low resistance is easily obtained.

上記洗浄により、(4)に示すように可溶性のドット2が溶解し、このドット2上の導電材料も透明フィルム1から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された導電材料よりなる導電性パターン(メッシュ状導電層)5が透明フィルム1上に残る。この導電性パターン5は、ドット1間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状(格子状)となる。   By the washing, the soluble dots 2 are dissolved as shown in (4), and the conductive material on the dots 2 is also peeled off from the transparent film 1 and removed. Then, a conductive pattern (mesh-like conductive layer) 5 made of a conductive material formed in a region between the dots remains on the transparent film 1. Since the conductive pattern 5 occupies the area between the dots 1, the conductive pattern 5 has a mesh shape (lattice shape) as a whole.

従って、ドット2間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン5が形成される。また、各ドット2の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターン5が形成される。ドット2を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のものでも充分使用できる。この低粘性の印刷材料を使用することにより、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。   Therefore, by making the gap between the dots 2 narrow, a grid-like conductive pattern 5 having a small line width is formed. Further, by increasing the area of each dot 2, a mesh-like conductive pattern 5 having a large aperture ratio is formed. The printing material soluble in water or the like for forming the dots 2 does not require fine particles to be dispersed, and even a low viscosity material can be used sufficiently. By using this low-viscosity printing material, dots can be printed so as to have a fine dot pattern.

なお、上記(4)の工程後、必要に応じ仕上げ洗浄(リンス)し、乾燥することにより、の導電層が得られる。   After the step (4), the conductive layer can be obtained by performing final cleaning (rinsing) and drying, if necessary.

上記印刷メッシュ法において形成される塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。   Examples of the conductive layer formed by coating in the printing mesh method include a coating layer in which conductive particles of an inorganic compound are dispersed in a polymer.

導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金;或いはITO、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ(ITO、いわゆるインジウムドープ酸化スズ)、酸化スズ−酸化アンチモン(ATO、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ)、酸化亜鉛−酸化アルミニウム(ZAO;いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛)等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ITOが好ましい。平均粒径は10〜10000nm、特に10〜50nmが好ましい。   Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, lead; or ITO, oxidation Indium, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum-doped oxide) And conductive oxides such as zinc). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.

ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。   Examples of the polymer include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.

上記塗工による導電層の形成は、ポリマー(必要により溶剤を用いて)中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。   The conductive layer is formed by coating by dispersing the conductive fine particles in a polymer (using a solvent if necessary) by mixing or the like to prepare a coating solution, and coating the coating solution on a transparent substrate. And then drying and curing as appropriate. In the case of using a thermoplastic resin, it is obtained by drying after coating, and in the case of a thermosetting type, it is obtained by drying and thermosetting. When an ultraviolet curable resin is used, it can be obtained by drying after application and irradiating with ultraviolet rays after coating.

上記塗工形成された導電層の厚さとしては、0.01〜5μm、特に0.05〜3μmが好ましい。前記厚さが、0.01μm未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方5μmを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。   The thickness of the conductive layer formed by coating is preferably 0.01 to 5 μm, particularly preferably 0.05 to 3 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the electromagnetic wave shielding property may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 5 μm, the transparency of the resulting film may be lowered.

前記の図2で示した印刷メッシュ法において、導電層を気相成膜法により形成する場合(金属蒸着膜)、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法(スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着)が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、0.1〜10μm、さらに2〜8μm、特に3〜6μmが好ましい。   In the printing mesh method shown in FIG. 2, when the conductive layer is formed by a vapor deposition method (metal vapor deposition film), the formation method is not particularly limited, but sputtering, ion plating, electron beam Vapor deposition methods such as vapor deposition, vacuum deposition, chemical vapor deposition, printing, coating, etc. can be mentioned. Vapor deposition methods (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) Is preferred. A conductive layer can be formed using an inorganic compound constituting the conductive particles. When the conductive layer is formed by a vapor deposition method, the layer thickness is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm, and particularly preferably 3 to 6 μm.

導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。   A metal plating layer may be further provided on the conductive layer in order to improve conductivity. The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. As the metal used for plating, generally, copper, copper alloy, nickel, aluminum, silver, gold, zinc, tin or the like can be used, preferably copper, copper alloy, silver, or nickel, In particular, it is preferable to use copper or a copper alloy from the viewpoint of economy and conductivity.

また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、(メッシュ)導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。   Moreover, you may give anti-glare performance. When this anti-glare treatment is performed, a blackening treatment may be performed on the surface of the (mesh) conductive layer. For example, oxidation treatment of a metal film, black plating such as chromium alloy, application of black or dark ink, and the like can be performed.

本発明の中間層13は、ポリエステル樹脂を含む層であり、ポリエステル樹脂から構成されることが好ましい。特に、硬化剤、中でもポリイソシアネートを含まないポリエステル樹脂である。このような中間層を用いることにより、透明フィルムと、メッシュ状導電層又は近赤外線吸収層との各層間の長期の安定した接着性が確保されると共に、近赤外線遮蔽性の長期間の保持を可能にしている。中間層の層厚は、一般に10〜10000nm、好ましくは10〜5000nm、特に10〜2000nmである。しかしながら、印刷メッシュの場合は、薄くて良く、一般に10〜1000nm、好ましくは10〜500nm、特に10〜200nmである。 The intermediate layer 13 of the present invention is a layer containing a polyester resin, and is preferably composed of a polyester resin. In particular, the curing agent, Ru polyester resin der free inter alia polyisocyanate. By using such an intermediate layer, long-term stable adhesion between each layer of the transparent film and the mesh-like conductive layer or near-infrared absorbing layer is ensured, and long-term retention of near-infrared shielding is maintained. It is possible. The layer thickness of the intermediate layer is generally 10 to 10000 nm, preferably 10 to 5000 nm, in particular 10 to 2000 nm. However, in the case of a printed mesh, it may be thin, generally 10 to 1000 nm, preferably 10 to 500 nm, especially 10 to 200 nm.

中間層を形成する材料は、主としてポリエステル樹脂を用いる。上記ポリエステル樹脂は、一般にグリコールと多価(一般に二価)のカルボン酸との重縮合により得られる。グリコールは、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)を含む。他のグリコールの例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−イソプロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2、2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2、2−ジ−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−n−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2、2−ジ−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオールを挙げることができる。エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールが好ましい。 A polyester resin is mainly used as a material for forming the intermediate layer. The polyester resin is generally obtained by polycondensation of glycol and a polyvalent (generally divalent) carboxylic acid. The glycol includes 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol). Examples of other glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol , 2 -methyl-2-ethyl-1,3-propanediol, and 2-methyl-2. -Butyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-isopropyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-n-hexyl- 1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-hexyl-1,3 -Propanediol, 2,2-di-n-butyl-1,3-propanediol, 2-n-butyl-2-propyl-1,3 -Propanediol, 2,2-di-n-hexyl-1,3-propanediol. Ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol meth no Le preferred.

多価(一般に二価)のカルボン酸は、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸から選択される少なくとも1種を含む。他の例としては、ジフェニルカルボン酸、2,6−ナルタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸;コハク酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、フマル酸、マレイン酸を挙げることができる Carboxylic acid multivalent (generally bivalent) comprises terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, at least one member selected from sebacic acid. Other examples include aromatic dicarboxylic acids such as diphenylcarboxylic acid and 2,6-naltalenedicarboxylic acid; succinic acid, malonic acid, glutaric acid, pimelic acid, suberic acid, fumaric acid and maleic acid. .

ポリエステル樹脂の重量平均分子量は一般に1000〜50000の範囲、特に2000〜20000の範囲が好ましい。また数平均分子量は一般に1000〜50000の範囲、特に2000〜20000の範囲が好ましい。   The weight average molecular weight of the polyester resin is generally in the range of 1000 to 50000, particularly preferably in the range of 2000 to 20000. The number average molecular weight is generally in the range of 1000 to 50000, particularly preferably in the range of 2000 to 20000.

ポリエステル樹脂以外の樹脂成分として、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を使用しても良い。   As a resin component other than the polyester resin, an acrylic resin, a polyester resin, a styrene-maleic acid graft polyester resin, an acrylic graft polyester resin, an epoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, or the like may be used.

中間層形成用塗工液は、上記ポリエステル樹脂、各種添加剤を有機溶剤に混合、溶解させることにより得ることができる。そして得られた塗工液を公知の塗工法により塗工、乾燥することにより中間層を得ることができる。本発明の中間層形成用塗工液は通常硬化剤を含んでいないので、塗工後、溶剤を蒸発させることにより中間層を形成することができる。   The intermediate layer forming coating solution can be obtained by mixing and dissolving the polyester resin and various additives in an organic solvent. And an intermediate | middle layer can be obtained by coating and drying the obtained coating liquid by a well-known coating method. Since the coating liquid for forming an intermediate layer of the present invention usually does not contain a curing agent, the intermediate layer can be formed by evaporating the solvent after coating.

本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。或いは、その反対に基板である透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜でも良い。   The antireflection layer of the present invention is generally a composite film of a hard coat layer having a refractive index lower than that of a transparent film as a substrate and a low refractive index layer provided thereon, or a hard coat layer and a low refractive index layer. Is a composite film in which a high refractive index layer is further provided therebetween. Alternatively, a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than that of the transparent film as a substrate and a low refractive index layer provided thereon may be used.

反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。   Even if the antireflection layer is only a hard coat layer having a refractive index lower than that of the substrate, it is effective. However, when the refractive index of the substrate is low, a composite film of a hard coat layer having a higher refractive index than the transparent film and a low refractive index layer provided thereon, or a higher refractive index layer is provided on the low refractive index layer. A composite film obtained may be used.

ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは1〜50μm、好ましくは1〜10μmである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。   As a hard-coat layer, an acrylic resin layer, an epoxy resin layer, a urethane resin layer, a silicone resin layer, etc. can be mentioned, The thickness is 1-50 micrometers normally, Preferably it is 1-10 micrometers. Either a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin may be used, but an ultraviolet curable resin is preferable.

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。   Examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.

紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2′−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。   Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。   Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   The quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、PET等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。膜厚は前記の通りである。   The hard coat layer preferably has a refractive index lower than that of the transparent film. By using the ultraviolet curable resin, a refractive index lower than that of the substrate is generally easily obtained. Therefore, it is preferable to use a material having a high refractive index such as PET as the transparent substrate. The film thickness is as described above.

ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   For the hard coat layer, among the UV curable resins (monomer, oligomer), pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane Hard polyfunctional monomers such as tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate It is preferable to use mainly.

またハードコート層は、以下の高屈折率層、低屈折率層の材料を利用することにより屈折率を調整することができる。   The hard coat layer can be adjusted in refractive index by using the following materials of a high refractive index layer and a low refractive index layer.

高屈折率層は、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に、ITO、ATO、Sb25、Sb23、SbO2、In23、SnO2、ZnO、ZrO2、AlをドープしたZnO、TiO2等の導電性金属酸化物微粒子(無機化合物)が分散した層とすることが好ましい。但し、屈折率が高ければ非導電性金属酸化物微粒子も使用可能である。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜10000nm、好ましくは10〜100nm、特に10〜50nmのものが好ましい。特にZrO2、ITO(特に平均粒径10〜50nmのもの)が好ましい。屈折率を1.64以上としたものが好適である。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。 The high refractive index layer is made of ITO, ATO, Sb 2 O 5 , Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, ZrO 2 , Al in a polymer (preferably UV curable resin). A layer in which conductive metal oxide fine particles (inorganic compounds) such as doped ZnO and TiO 2 are dispersed is preferable. However, if the refractive index is high, non-conductive metal oxide fine particles can also be used. As the metal oxide fine particles, those having an average particle diameter of 10 to 10000 nm, preferably 10 to 100 nm, particularly 10 to 50 nm are preferable. In particular, ZrO 2 and ITO (especially those having an average particle diameter of 10 to 50 nm) are preferable. Those having a refractive index of 1.64 or more are suitable. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を1.64以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.5%以内にすることができ、1.69以上、好ましくは1.69〜1.82とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を1.0%以内にすることができる。   When the high refractive index layer is a conductive layer, the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film should be within 1.5% by setting the refractive index of the high refractive index layer to 1.64 or more. The minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film can be made to be within 1.0% by setting it to 1.69 or more, preferably 1.69 to 1.82.

低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを10〜60重量%(好ましくは10〜50質量%)がポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)中に分散した層(硬化層)であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、1.40〜1.51が好ましい。この屈折率が1.51超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に10〜500nmの範囲、好ましくは20〜200nmである。   The low refractive index layer is a layer (cured) in which fine particles such as silica and fluororesin, preferably hollow silica, are dispersed in a polymer (preferably UV curable resin) in an amount of 10 to 60% by weight (preferably 10 to 50% by weight). Layer). The refractive index of this low refractive index layer is preferably 1.40 to 1.51. When the refractive index is more than 1.51, the antireflection property of the antireflection film is deteriorated. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.

中空シリカとしては、平均粒径10〜100nm、好ましくは10〜50nm、比重0.5〜1.0、好ましくは0.8〜0.9のものが好ましい。   As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm, and a specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.

ハードコート層は、可視光線透過率が85%以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも85%以上であることが好ましい。   The hard coat layer preferably has a visible light transmittance of 85% or more. Both the visible light transmittance of the high refractive index layer and the low refractive index layer are preferably 85% or more.

反射防止層が上記3層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは2〜20μm、高屈折率層の厚さは75〜200nm、低屈折率層の厚さは75〜200nmであることが好ましい。   When the antireflection layer is composed of the above three layers, for example, the thickness of the hard coat layer is 2 to 20 μm, the thickness of the high refractive index layer is 75 to 200 nm, and the thickness of the low refractive index layer is 75 to 200 nm. Preferably there is.

中間層、又はハードコート層を含む反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー(好ましくは紫外線硬化性樹脂)に必要に応じ上記の微粒子等を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。   In order to form each layer of the antireflection layer including the intermediate layer or the hard coat layer, as described above, the above-mentioned fine particles and the like are blended with a polymer (preferably an ultraviolet curable resin) as necessary, and the obtained coating The working solution is applied and then dried, if necessary, heat-cured, or after coating, if necessary, dried and irradiated with ultraviolet rays. In this case, each layer may be applied and cured one by one, or all the layers may be applied and then cured together.

塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。   As a specific method of coating, a method of coating a coating solution in which an ultraviolet curable resin containing an acrylic monomer or the like is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater, and then dried, and then cured by ultraviolet rays. Can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating with ultraviolet rays and curing, effects of improving adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained. The conductive layer can be formed similarly.

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。   In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The antireflection layer is preferably formed by coating as described above, but may be formed by a vapor deposition method. Usually, the high refractive index layer and the low refractive index layer can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。   Examples of the combination of the high refractive index layer and the low refractive index layer include the following.

(a) 高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計2層に積層したもの、(b) 高屈折率層/低屈折率層を2層ずつ交互に、合計4層に積層したもの、(c) 中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順で各1層ずつ、合計3層に積層したもの、(d) 高屈折率層/低屈折率層の順で各層を交互に3層ずつ、合計6層に積層したもの。高屈折率層としては、ITO(スズインジウム酸化物)又はZnO、AlをドープしたZnO、TiO2、SnO2、ZrO等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、SiO2、MgF2、Al23等の屈折率が1.6以下の薄膜を用いることができる。 (A) 1 layer each in the order of high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of 2 layers, (b) 2 layers of high refractive index layer / low refractive index layer alternately, 4 layers in total (C) One layer each in the order of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, laminated in a total of three layers, (d) high refractive index layer / low refractive index layer In this order, each layer is alternately stacked in 3 layers for a total of 6 layers. As the high refractive index layer, ITO (tin indium oxide) or ZnO, a thin film of ZnO, TiO 2 , SnO 2 , ZrO or the like doped with Al can be employed. As the low refractive index layer, a thin film having a refractive index of 1.6 or less, such as SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3, or the like can be used.

上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧CVD法、減圧CVD法、プラズマCVD法が挙げられる。   The high refractive index layer, the low refractive index layer, and the like can be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a laser ablation method, but it is generally preferable to form a film by the sputtering method. Examples of the chemical vapor deposition method include an atmospheric pressure CVD method, a low pressure CVD method, and a plasma CVD method.

近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂又は紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に800〜1200nmの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。   A near-infrared absorption layer is generally obtained by forming a layer containing a pigment or the like on the surface of a transparent film. The near-infrared absorbing layer can be obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-mentioned pigment and binder resin or ultraviolet curable or electron beam curable resin, and if necessary, drying and curing. When used as a film, it is generally a near-infrared cut film, such as a film containing a pigment or the like. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples thereof include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes and squarylium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination. Examples of the binder resin include thermoplastic resins such as acrylic resins.

本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。   In the present invention, the near-infrared absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by providing a function of absorbing neon light emission. For this purpose, a neon-emission absorption layer may be provided, but a neon-emission selective absorption dye may be included in the near-infrared absorption layer.

ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、585nm付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅が40nm以下であるものが好ましい。   Examples of selective absorption dyes for neon emission include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.

また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。   Also, when combining multiple types of near-infrared or neon luminescent absorbing dyes, if there is a problem with the solubility of the dye, if there is a reaction between the dyes due to mixing, if there is a decline in heat resistance, moisture resistance, etc. All the near-infrared absorbing dyes need not be contained in the same layer, and may be contained in another layer.

また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。   Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring pigments, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added.

本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、850〜1000nmの透過率を、20%以下、さらに15%するのが好ましい。また選択吸収性としては、585nmの透過率が50%以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、575〜595nmにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。   As a near-infrared absorption characteristic of the optical filter of the present invention, it is preferable that the transmittance at 850 to 1000 nm is 20% or less, and further 15%. Moreover, as selective absorptivity, it is preferable that the transmittance | permeability of 585 nm is 50% or less. Especially in the former case, there is an effect of reducing the transmittance in a wavelength region where malfunction of a remote controller of a peripheral device is pointed out. In the latter case, an orange color having a peak at 575 to 595 nm is color reproducibility. This has the effect of absorbing the orange wavelength, thereby improving the redness and improving the color reproducibility.

近赤外線吸収層の層厚は、0.5〜50μmが一般的である。   The layer thickness of the near infrared absorbing layer is generally 0.5 to 50 μm.

本発明の粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS(スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン)及びSBS(スチレン/ブタジエン/スチレン)等の熱可塑性エラストマー(TPE)を主成分とするTPE系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is a layer for adhering the optical film of the present invention to a display, and any resin can be used as long as it has an adhesive function. For example, acrylic adhesives, rubber adhesives, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene) and SBS (styrene / butadiene / styrene) and other thermoplastic elastomers (TPE) as main components TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives can also be used.

その層厚は、一般に5〜500μm、特に10〜100μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。   The layer thickness is generally in the range of 5 to 500 μm, particularly 10 to 100 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.

本発明において透明フィルム2枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂(例、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体)、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。   When two transparent films are used in the present invention, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer, acrylic resin (eg, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer) Polymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer), partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer Examples thereof include ethylene copolymers such as a polymer, a carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene- (meth) acryl-maleic anhydride copolymer, and an ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer. ("(Meth) acryl" means "acryl or methacryl"). In addition, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomers such as SEBS and SBS, etc. can also be used. Acrylic resin adhesives and epoxy resins are easily obtained.

その層厚は、一般に10〜50μm、好ましくは、20〜30μmの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。   The layer thickness is generally 10 to 50 μm, preferably 20 to 30 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.

上記粘着剤層の材料として、EVAも使用する場合、EVAとしては酢酸ビニル含有量が5〜50重量%、好ましくは15〜40重量%のものが使用される。酢酸ビニル含有量が5重量%より少ないと透明性に問題があり、また40重量%を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。   When EVA is also used as the material for the pressure-sensitive adhesive layer, the EVA has a vinyl acetate content of 5 to 50% by weight, preferably 15 to 40% by weight. When the vinyl acetate content is less than 5% by weight, there is a problem in transparency, and when it exceeds 40% by weight, the mechanical properties are remarkably deteriorated and the film formation becomes difficult and the films are easily blocked.

架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3;ジーt−ブチルパーオキサイド;t−ブチルクミルパーオキサイド;2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン;ジクミルパーオキサイド;α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン;n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート;2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;t−ブチルパーオキシベンゾエート;ベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシアセテート;2,5−ジメチル−2,5−ビス(第3ブチルパーオキシ)ヘキシン−3;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン;1,1−ビス(第3ブチルパーオキシ)シクロヘキサン;メチルエチルケトンパーオキサイド;2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート;第3ブチルハイドロパーオキサイド;p−メンタンハイドロパーオキサイド;p−クロルベンゾイルパーオキサイド;第3ブチルパーオキシイソブチレート;ヒドロキシヘプチルパーオキサイド;クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は1種を単独で又は2種以上を混合して、通常EVA100重量部に対して、5質量部以下、好ましくは0.5〜5.0質量部の割合で使用される。   As the cross-linking agent, an organic peroxide is suitable for heat cross-linking and is selected in consideration of sheet processing temperature, cross-linking temperature, storage stability, and the like. Examples of peroxides that can be used include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3; -Butyl peroxide; t-butylcumyl peroxide; 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane; dicumyl peroxide; α, α'-bis (t-butylperoxyisopropyl) ) Benzene; n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate; 2,2-bis (t-butylperoxy) butane; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; , 1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; t-butylperoxybenzoate; benzoyl peroxide; Luperoxyacetate; 2,5-dimethyl-2,5-bis (tertiarybutylperoxy) hexyne-3; 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; 1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane; methyl ethyl ketone peroxide; 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate; tert-butyl hydroperoxide; p-menthane hydroperoxide; p-chlorobenzoyl Peroxides; tertiary butyl peroxyisobutyrate; hydroxyheptyl peroxide; chlorohexanone peroxide. These peroxides are used singly or in combination of two or more, and are usually used at a ratio of 5 parts by mass or less, preferably 0.5 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by weight of EVA. .

有機過酸化物は通常EVAに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、EVAのフィルムに含浸法により添加しても良い。   The organic peroxide is usually kneaded with EVA using an extruder, a roll mill or the like, but may be dissolved in an organic solvent, a plasticizer, a vinyl monomer or the like and added to the EVA film by an impregnation method.

なお、EVAの物性(機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など)改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。   Various acryloxy group or methacryloxy group and allyl group-containing compounds can be added to improve the physical properties of EVA (mechanical strength, optical properties, adhesion, weather resistance, whitening resistance, crosslinking speed, etc.). . As the compound used for this purpose, acrylic acid or methacrylic acid derivatives, for example, esters and amides thereof are the most common. As the ester residue, in addition to alkyl groups such as methyl, ethyl, dodecyl, stearyl, lauryl, cyclohexyl groups , Tetrahydrofurfuryl group, aminoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group and the like. Further, esters with polyfunctional alcohols such as ethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, trimethylolpropane, and pentaerythritol can also be used. A typical amide is diacetone acrylamide.

その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して、通常EVA100質量部に対して0.1〜2質量部、好ましくは0.5〜5質量部用いられる。   Examples include polyfunctional esters such as acrylic or methacrylic acid esters such as trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl maleate, etc. Examples include allyl group-containing compounds, which are used alone or in combination of two or more, and are usually used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of EVA. .

EVAを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常EVA100質量部に対して5質量部以下、好ましくは0.1〜3.0質量部使用される。   When EVA is crosslinked by light, a photosensitizer is usually used in an amount of 5 parts by mass or less, preferably 0.1 to 3.0 parts by mass based on 100 parts by mass of EVA instead of the peroxide.

この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、5−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、p−ニトロジフェニル、p−ニトロアニリン、2,4,6−トリニトロアニリン、1,2−ベンズアントラキノン、3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは1種を単独で或いは2種以上を混合して用いることができる。   In this case, usable photosensitizers include, for example, benzoin, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, dibenzyl, 5-nitroacenaphthene, hexachlorocyclopentadiene, p-nitrodiphenyl. , P-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, 1,2-benzanthraquinone, 3-methyl-1,3-diaza-1,9-benzanthrone, and the like. Alternatively, two or more types can be mixed and used.

また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Moreover, a silane coupling agent is used in combination as an adhesion promoter. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycid Xylpropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.

シランカップリング剤は、一般にEVA100質量部に対して0.001〜10質量部、好ましくは0.001〜5質量部の割合で1種又は2種以上が混合使用される。   The silane coupling agent is generally used in an amount of 0.001 to 10 parts by mass, preferably 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of EVA, and one or more types are mixed and used.

なお、本発明に係るEVA接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。   In addition, the EVA adhesive layer according to the present invention may further contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a coating processing aid, a colorant, and the like. A small amount of a filler such as hydrophobic silica or calcium carbonate may be included.

上記接着層は、例えばEVAと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。   For example, after the EVA and the above-mentioned additive are mixed and kneaded with an extruder, a roll or the like, the adhesive layer is formed into a predetermined shape by a film forming method such as a calendar, roll, T-die extrusion, or inflation. Manufactured by.

反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。   A protective layer may be provided on the antireflection layer. The protective layer is preferably formed in the same manner as the hard coat layer.

粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が50℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。   As the material of the release sheet provided on the pressure-sensitive adhesive layer, a transparent polymer having a glass transition temperature of 50 ° C. or higher is preferable. Examples of such a material include polyesters such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. In addition to resins, nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, polyamide resins such as polyphthalamide, ketone resins such as polyphenylene sulfide and polythioether sulfone, and sulfone resins such as polysulfone and polyether sulfone. Mainly composed of polymers such as ether nitrile, polyarylate, polyetherimide, polyamideimide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl chloride It can be used fat. Of these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate can be suitably used. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.

本発明の光学フィルタは、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、メッシュ状導電層、近赤外線吸収層及び粘着剤層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、ハードコート層及び反射防止層等を設けることにより製造することができる。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の積層体を、裁断し、その端面に前記のように電極部を設ければよい。長尺状の透明フィルムに、各層を塗工(塗布)する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。   The optical filter of the present invention is provided with, for example, a mesh-like conductive layer, a near-infrared absorbing layer, an adhesive layer, and the like sequentially on one surface of a long transparent film, and then a hard surface on the other surface of the transparent film. It can be manufactured by providing a coat layer, an antireflection layer, and the like. The installation of each layer may be performed continuously or in a batch. What is necessary is just to cut | judge the elongate laminated body obtained in this way, and to provide an electrode part as mentioned above in the end surface. As a coating machine used when applying (applying) each layer to a long transparent film, a slit die, a lip direct, a lip reverse, or the like can be used. When both surfaces are applied simultaneously, a double-sided simultaneous coating machine in which lip dies are arranged on both sides is generally used.

このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、PDP等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。   The display optical filter of the present invention thus obtained is used by being bonded to the surface of an image display glass plate of a display such as a PDP.

本発明のPDP表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを1枚使用した場合は、PDP自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、PDPの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、PDPとPDP用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、PDPの視認性をより向上させることができる。   Since the PDP display device of the present invention uses a plastic film as a transparent substrate, the optical filter of the present invention can be directly bonded to the surface of the glass plate, and thus a single transparent film is used. In this case, the PDP itself can contribute to weight reduction, thickness reduction, and cost reduction. Compared with the case where a front plate made of a transparent molded body is installed on the front side of the PDP, an air layer having a low refractive index can be eliminated between the PDP and the PDP filter, so that visible light reflection due to interface reflection can be achieved. Problems such as an increase in rate and double reflection can be solved, and the visibility of the PDP can be further improved.

従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、耐久性に優れたディスプレイということができる。
Accordingly, the display having the optical filter of the present invention is excellent in antireflection effect and antistatic property, hardly emits dangerous electromagnetic waves, is easy to see, is hardly attached with dust and the like, and has excellent durability.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
<ディスプレイ用光学フィルタの作製>
(1)中間層の形成
厚さ100μmの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム(幅:600mm、長さ100m)上に、下記の配合の中間層形成用塗工液を塗工し、100℃、1分間乾燥、硬化させ、厚さ80nmの中間層を形成した。得られた中間層の屈折率は1.65であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.
[Example 1]
<Preparation of optical filter for display>
(1) Formation of intermediate layer On a long polyethylene terephthalate film (width: 600 mm, length 100 m) having a thickness of 100 μm, an intermediate layer forming coating solution having the following composition was applied at 100 ° C. for 1 minute. It was dried and cured to form an intermediate layer having a thickness of 80 nm. The refractive index of the obtained intermediate layer was 1.65.

配合:
ポリエステル樹脂
(樹脂組成:ネオペンチルグリコール/フタル酸、セバシン酸(質量比1:5);
樹脂40質量%、トルエン30質量%、酢酸エチル30質量%) 5質量部
シクロヘキサノン 95質量部
Formula:
Polyester resin (resin composition: neopentyl glycol / phthalic acid, sebacic acid (mass ratio 1: 5);
Resin 40 mass%, toluene 30 mass%, ethyl acetate 30 mass%) 5 mass parts cyclohexanone 95 mass parts

(2)メッシュ状導電層の形成
上記長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムに形成された中間層上に、ポリビニルアルコールの20%水溶液をドット状に印刷した。ドット1個の大きさは1辺が234μmの正方形状であり、ドット同士間の間隔は20μmであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約5μmである。
(2) Formation of mesh-like conductive layer A 20% aqueous solution of polyvinyl alcohol was printed in the form of dots on the intermediate layer formed on the long polyethylene terephthalate film. The size of one dot is a square shape with one side of 234 μm, the interval between the dots is 20 μm, and the dot arrangement is a square lattice. The printing thickness is about 5 μm after drying.

その上に、銅を平均膜厚4μmとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルム上にメッシュ状導電層を形成した。   On top of that, copper was vacuum-deposited so as to have an average film thickness of 4 μm. Next, it was immersed in water at room temperature and rubbed with a sponge to dissolve and remove the dot portion, then rinsed with water and dried to form a mesh-like conductive layer on the polyethylene film.

このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は20μm、開口率は83.6%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは4μmであった。   The conductive layer on the surface of the film had a square lattice shape that accurately corresponded to the negative pattern of dots, the line width was 20 μm, and the aperture ratio was 83.6%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 4 μm.

(3)近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)の形成
下記の配合:
ポリメチルメタクリレート 30質量部
TP−2(山田化学工業(株)製) 0.4質量部
Plast Red 8380(有本化学工業(株)製) 0.1質量部
CIR−1085(日本カーリット(株)製) 1.3質量部
IR−10A((株)日本触媒製) 0.6質量部
メチルエチルケトン 152質量部
メチルイソブチルケトン 18質量部
を混合して得た塗工液を、上記中間層及び導電層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ5μmの近赤外線吸収層(色調補正機能を有する)を形成した。
(3) Formation of near-infrared absorbing layer (having color tone correction function)
Polymethylmethacrylate 30 parts by mass TP-2 (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd.) 0.4 parts by mass Plast Red 8380 (manufactured by Arimoto Chemical Industry Co., Ltd.) 0.1 parts by mass CIR-1085 (Nippon Carlit Co., Ltd.) 1.3 parts by mass IR-10A (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.6 parts by mass Methyl ethyl ketone 152 parts by mass Methyl isobutyl ketone 18 parts by mass were mixed with the above intermediate layer and conductive layer. It was coated on the top using a bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. Thereby, a near-infrared absorbing layer (having a color tone correcting function) having a thickness of 5 μm was formed on the polyethylene film.

これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。   Thereby, an optical filter for display was obtained.

[実施例2]
中間層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例1と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 2]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the intermediate layer was changed to the composition as described below.

配合:
ポリエステル樹脂
(樹脂組成:ネオペンチルグリコール/アジピン酸、フタル酸(質量比1:1);
樹脂40質量%、トルエン30質量%、酢酸エチル30質量%) 5質量部
シクロヘキサノン 95質量部
Formula:
Polyester resin (resin composition: neopentyl glycol / adipic acid, phthalic acid (mass ratio 1: 1);
Resin 40 mass%, toluene 30 mass%, ethyl acetate 30 mass%) 5 mass parts cyclohexanone 95 mass parts

[実施例3]
(1)中間層の厚さ80nmに変更し、(2)メッシュ状導電層の形成を下記のように行った以外同様にして実施例1と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 3]
(1) The thickness of the intermediate layer was changed to 80 nm, and (2) an optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mesh-shaped conductive layer was formed as follows.

(2)メッシュ状導電層の形成
長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルムに形成された中間層上に、厚さ10μmの銅箔を付着させた。この銅箔を、フォトリソグラフィー法によりパターンを形成して銅箔露出部分をエッチングし、格子パターンの銅箔(線径30μm、ピッチ180μm)を形成した。
(2) Formation of mesh-like conductive layer A copper foil having a thickness of 10 μm was adhered on the intermediate layer formed on the long polyethylene terephthalate film. A pattern of this copper foil was formed by a photolithography method, and the exposed portion of the copper foil was etched to form a copper foil having a lattice pattern (wire diameter 30 μm, pitch 180 μm).

このフィルム表面の導電層は線幅は30μm、開口率は69.4%であった。また、導電層(銅層)の平均厚さは3μmであった。   The conductive layer on the film surface had a line width of 30 μm and an aperture ratio of 69.4%. The average thickness of the conductive layer (copper layer) was 3 μm.

[実施例4]
中間層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例3と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 4]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 3 except that the composition of the intermediate layer was changed to the composition as described below.

配合:
ポリエステル樹脂
(樹脂組成:ネオペンチルグリコール/アジピン酸、フタル酸(質量比2:1);
樹脂40質量%、トルエン30質量%、酢酸エチル30質量%) 5質量部
シクロヘキサノン 95質量部
Formula:
Polyester resin (resin composition: neopentyl glycol / adipic acid, phthalic acid (mass ratio 2: 1);
Resin 40 mass%, toluene 30 mass%, ethyl acetate 30 mass%) 5 mass parts cyclohexanone 95 mass parts

[比較例1]
中間層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例3と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Comparative Example 1]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 3 except that the composition of the intermediate layer was changed to the composition as described below.

配合:
ビスフェノールA型エポキシ樹脂 5質量部
ヘキサンジイソシアネート 0.5質量部
シクロヘキサノン 94.5質量部
Formula:
Bisphenol A type epoxy resin 5 parts by mass Hexane diisocyanate 0.5 parts by mass Cyclohexanone 94.5 parts by mass

[比較例2]
中間層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例3と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Comparative Example 2]
An optical filter for display was obtained in the same manner as in Example 3 except that the composition of the intermediate layer was changed to the composition as described below.

配合:
エチレン酢酸ビニル共重合体
(酢酸ビニル含有率:28質量% 5質量部
シクロヘキサノン 95質量部
Formula:
Ethylene vinyl acetate copolymer (vinyl acetate content: 28% by mass 5 parts by mass cyclohexanone 95 parts by mass

[実施例5]
さらに下記の各層を設けた以外同様にして実施例3と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
[Example 5]
Further, a display optical filter was obtained in the same manner as in Example 3 except that the following layers were provided.

(5)粘着剤層の形成
下記の配合:
SKダイン1811L(綜研化学(株)製) 100質量部
硬化剤L−45(綜研化学(株)製) 0.45質量部
トルエン 15質量部
酢酸エチル 4質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ25μmの粘着剤層を形成した。
(5) Formation of pressure-sensitive adhesive layer The following formulation:
SK Dyne 1811L (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass Curing agent L-45 (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 0.45 parts by mass Toluene 15 parts by mass Ethyl acetate 4 parts by mass Was coated on the near infrared absorbing layer using a bar coater and dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. Thereby, an adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed on the near-infrared absorbing layer.

(6)ハードコート層の形成
下記の配合:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA) 20質量部
ジルコニア (平均粒径50nm) 80質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
イルガキュア184(チバスペシャリティケミカル社製) 4質量部
を混合して得た塗工液を、上記PETフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ5μmのハードコート層(屈折率1.71)を形成した。
(6) Formation of hard coat layer The following formulation:
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 20 parts by weight Zirconia (average particle size 50 nm) 80 parts by weight Methyl ethyl ketone 100 parts by weight Toluene 100 parts by weight Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Was applied to the back surface of the PET film using a bar coater and cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a hard coat layer (refractive index 1.71) having a thickness of 5 μm was formed on the mesh-like conductive layer.

(7)低屈折率層の形成
下記の配合:
オプスターJN―7212(JSR(株)製) 100質量部
メチルエチルケトン 117質量部
メチルイソブチルケトン 117質量部

を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ90nmの低屈折率層(屈折率1.42)を形成した。
(7) Formation of low refractive index layer The following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by JSR Corporation) 100 parts by weight Methyl ethyl ketone 117 parts by weight Methyl isobutyl ketone 117 parts by weight

The coating liquid obtained by mixing was applied on the hard coat layer using a bar coater, dried in an oven at 80 ° C. for 5 minutes, and then cured by ultraviolet irradiation. Thereby, a low refractive index layer (refractive index 1.42) having a thickness of 90 nm was formed on the hard coat layer.

これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。   Thereby, an optical filter for display was obtained.

得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。   The obtained optical filter for display was evaluated as follows.

[光学フィルタの評価]
(1)近赤外線吸収層の色素劣化
得られた光学フィルタを、温度60℃及び湿度90%の雰囲気中で500時間放置した後、585nmと850nmの光の透過率を分光光度計を用いて測定し、近赤外線吸収層の色素の退色程度を以下のように評価するする。
○:透過率が2%以下、×:透過率が2%超過
[Evaluation of optical filter]
(1) Pigment deterioration of near-infrared absorbing layer The obtained optical filter was allowed to stand in an atmosphere at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 90% for 500 hours, and the transmittance of light at 585 nm and 850 nm was measured using a spectrophotometer. Then, the degree of fading of the pigment in the near-infrared absorbing layer is evaluated as follows.
○: Transmittance is 2% or less, ×: Transmittance exceeds 2%

(2)メッシュ状導電層の接着性
得られた光学フィルタを、温度80℃の雰囲気中で500時間放置した後、メッシュ状導電層の剥離の有無を目視で観察する。以下のように評価する。
評価は、○:剥離が観察されない、×:剥離が見られる。
(2) Adhesiveness of mesh-like conductive layer The obtained optical filter is allowed to stand in an atmosphere at a temperature of 80 ° C. for 500 hours, and then the presence or absence of peeling of the mesh-like conductive layer is visually observed. Evaluation is as follows.
Evaluation: (circle): Peeling is not observed, X: Peeling is seen.

上記結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 0004972368
Figure 0004972368

実施例1〜4で得られたPDPフィルタは、色素劣化、接着性において優れていた。硬化剤を用いた比較例1のPDPフィルタは、色素劣化が、従来のEVAを用いた比較例2のフィルタは、接着性において十分とは言えない
また、実施例3のフィルタに、さらにハードコート層等を設けた実施例5の光学フィルタは、優れた電磁波シールド性、反射防止性を示した。
The PDP filters obtained in Examples 1 to 4 were excellent in dye deterioration and adhesiveness. The PDP filter of Comparative Example 1 using a curing agent has a dye deterioration, and the filter of Comparative Example 2 using conventional EVA is not sufficient in adhesiveness. Further, the filter of Example 3 is further hard-coated. The optical filter of Example 5 provided with a layer or the like exhibited excellent electromagnetic shielding properties and antireflection properties.

本発明の光学フィルタの基本構成の1例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the basic composition of the optical filter of this invention. 印刷メッシュ法によるメッシュ状導電層の形成方法を説明する概略図である。It is the schematic explaining the formation method of the mesh-shaped electroconductive layer by the printing mesh method.

符号の説明Explanation of symbols

11 ディスプレイ用光学フィルタ
12 透明フィルム
13 中間層
14 メッシュ状導電層
15 近赤外線吸収層
16 粘着剤層
17 ハードコート層
18 反射防止層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Display optical filter 12 Transparent film 13 Intermediate layer 14 Mesh-like electroconductive layer 15 Near-infrared absorption layer 16 Adhesive layer 17 Hard-coat layer 18 Antireflection layer

Claims (12)

少なくとも1枚の透明フィルム、1枚の透明フィルム上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた近赤外線吸収層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルムとメッシュ状導電層との間に中間層が設けられ、該中間層がポリエステル樹脂を含み、且つポリイソシアネートを含んでおらず、
前記中間層のポリエステル樹脂が、グリコール成分として、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールを含み、そして多価カルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸及びセバシン酸から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display comprising at least one transparent film, a mesh-like conductive layer provided on one transparent film, and a near-infrared absorbing layer provided on the mesh-like conductive layer,
Intermediate layer is provided between the transparent film and the mesh-shaped conductive layer, it viewed including the intermediate layer is a polyester resin, and does not include a polyisocyanate,
The polyester resin of the intermediate layer contains 2,2-dimethyl-1,3-propanediol as a glycol component, and is selected from terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid and sebacic acid as a polyvalent carboxylic acid An optical filter for display , comprising at least one selected from the above-mentioned .
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及び近赤外線吸収層がこの順で設けられ、他方の表面にハードコート層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
透明フィルムとメッシュ状導電層との間に中間層が設けられ、該中間層がポリエステル樹脂を含み、且つポリイソシアネートを含んでおらず、
前記中間層のポリエステル樹脂が、グリコール成分として、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールを含み、そして多価カルボン酸として、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸及びセバシン酸から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
An optical filter for display in which a mesh-like conductive layer and a near-infrared absorbing layer are provided in this order on one surface of a transparent film, and a hard coat layer is provided on the other surface,
Intermediate layer is provided, et al is between the transparent film and the mesh-shaped conductive layer, the intermediate layer is observed containing a polyester resin, does not contain and polyisocyanate,
The polyester resin of the intermediate layer contains 2,2-dimethyl-1,3-propanediol as a glycol component, and is selected from terephthalic acid, isophthalic acid, adipic acid, azelaic acid and sebacic acid as a polyvalent carboxylic acid An optical filter for display , comprising at least one selected from the above-mentioned .
ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている請求項2に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to claim 2, wherein a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the hard coat layer is further formed on the hard coat layer. メッシュ状導電層の層厚が、1〜200μmである請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to any one of claims 1 to 3 , wherein the mesh-shaped conductive layer has a thickness of 1 to 200 µm. メッシュ状導電層が、メッシュ状金属膜又は金属蒸着膜からなる請求項1〜4のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for display according to any one of claims 1 to 4, wherein the mesh-like conductive layer is made of a mesh-like metal film or a metal vapor-deposited film. 近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に粘着剤層が設けられている請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to any one of claims 1 to 5 , wherein a pressure-sensitive adhesive layer is provided on the surface of the near-infrared absorbing layer opposite to the transparent film. 近赤外線吸収層が粘着性を有する請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to any one of claims 1 to 6 , wherein the near-infrared absorbing layer has adhesiveness. 透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to any one of claims 1 to 7 , wherein the transparent film is a plastic film. 粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている請求項6〜8のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 The optical filter for display according to any one of claims 6 to 8 , wherein a release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer or the pressure-sensitive near-infrared absorbing layer. プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。 An optical filter for display according to any one of claims 1 to 9, which is a plasma display panel filter. 請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。 Display optical filter for display according to any one of claims 1 to 9, characterized in that it is bonded to the surface of the image display glass plate. 請求項1〜のいずれか1項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 A plasma display panel, wherein the optical filter for display according to any one of claims 1 to 9 is bonded to a surface of an image display glass plate.
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