JP4944159B2 - 圧電アクチュエータ及び圧電アクチュエータの製造方法 - Google Patents
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Description
本実施形態の圧電アクチュエータの製造方法においては、まず、図7(A)(B)(C)に示すように、仮基板21上に、例えば、蒸着法、スパッタリング法等の物理気相成長法や、MOD法(Metal Organic Decomposition)による金属有機化合物溶液を基板上に塗布し加熱して熱分解を行う化学溶液プロセス、AD法(Aerosol Deposition)による材料微粒子をガスと混合してエアロゾル化し高速で基板に衝突させ、解放された運動エネルギーを利用して基板−粒子間、粒子同士を結合する方法などを用いて、バッファ層25、第1圧電積層体7、第2圧電積層体9、及び、変位部11を有する本体部13と、金属層9dと、を順次積層する。これらの層の積層には、エピタキシャル成長法を用いることができる。より具体的に説明すると、まず、仮基板21上にバッファ層25をエピタキシャル成長させる。バッファ層25は、例えば(100)方向、(010)方向、又は(001)方向に配向し、その上面が{111}ファセット面であるエピタキシャル成長膜とすることができる。
続いて、図8(A)(B)(C)に示すように、本体部13を覆うように第1弾性体層15を形成する。この際、金属層9dの少なくとも一部と、第2上部電極層9bの一部が露出するように、第1弾性体層15に2つのスルーホール15hを形成する。第1弾性体層15の形成は、例えば、スピン塗布法によって行うことができる。これにより、第1弾性体層15の上面は、略平坦になるようにする。本体部13は、第1弾性体層15内に埋め込まれる。また、第1弾性体層15は、第1圧電積層体7の基端部7T上に設けられた第1領域15Aと、第2圧電積層体9の基端部9T上に設けられた第2領域15Bと、第1圧電積層体7の側面に設けられた第3領域15Cと、第2圧電積層体9の側面に設けられた第4領域15Dと、第1圧電積層体7の先端部7R上に設けられた第5領域15Eと、第2圧電積層体9の先端部9R上に設けられた第6領域15Fと、変位部11上に設けられた第7領域15Gと、からなる。
続いて、図9(A)(B)(C)に示すように、2つのスルーホール15hを介して金属層9dと第2上部電極層9bとを電気的に接続するように、露出した金属層9dから露出した第2上部電極層9bに亘って、例えば真空蒸着法、スパッタリング法等の物理気相成長法や電解メッキや導電性樹脂の印刷等によって、例えば銀(Ag)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、銅(Cu)等からなる金属導体層23を形成する。
続いて、図10(A)(B)及び図11(A)(B)(C)(D)に示すように、第1弾性体層15上にボンディング層5を形成する。ボンディング層5は、第1弾性体層15の第1領域15Aの一部、第2領域15Bの一部、第3領域15Cの一部、及び、第4領域15Dの一部、を覆うと共に、これらの領域以外の第1弾性体層15(非ボンディング面15R)を露出させるパターンを有する。
続いて、図12(A)(B)に示すように、ボンディング層5上に支持基板3を固定する。ボンディング層5上への支持基板3の固定は、例えば、ボンディング層5上に支持基板3を押し付けた状態でボンディング層5を加熱することにより行うことができる。これにより、非ボンディング面15Rと、支持基板3の主面3Mとの間に、非ボンディング面15Rと接する空間ギャップ5Gを形成する。
続いて、図13(A)(B)に示すように、仮基板21を除去する。これにより、バッファ層25が露出する。仮基板21の除去は、例えば、反応性イオンエッチング(RIE)法やウェットエッチング法により行うことができる。このバッファ層25はジルコニア等の酸化物膜からなるため、本工程において仮基板21をエッチングによって除去する場合、バッファ層25はバリア層(エッチングストッパー層)として機能する。
続いて、図14(A)(B)に示すように、仮基板除去工程後に露出したバッファ層25の所定箇所を、フォトリソグラフィー法とエッチング工程により除去する。これにより、変位部11の上方、第1圧電積層体7の基端部の上方、第2圧電積層体9の基端部の上方、及び、スルーホール15hの上方以外の領域にあるバッファ層25を除去する。
続いて、図15(A)(B)に示すように、2つのスルーホール15hの上方の第2下部電極層9cと金属層9d上に、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等の物理気相成長法や電解メッキや導電性樹脂の印刷等によって、金(Au)、銀(Ag)等の金属導体等からなる2つの電極パッド27を形成する。これにより、一方の電極パッド27は、第1下部電極層7c、第2下部電極層9c、及び、第3下部電極層11cと電気的に接続され、他方の電極パッド27は、第1上部電極層7b、第2上部電極層9b、及び、第3上部電極層11bと電気的に接続される。
続いて、図16(A)(B)に示すように、仮基板除去工程において仮基板21が除去されることにより露出した第1圧電積層体7、第2圧電積層体9、変位部11、及び、第1弾性体層15上に、第2弾性体層17を形成する。この際、第2弾性体層17によって、第1弾性体層15の露出面のうちボンディング層5の上方の領域と、第1圧電積層体7の上面と、第2圧電積層体9の上面とが接続されるようにする。また、第2弾性体層17には、第1スリット構造17S1と、第2スリット構造17S2を形成する。このような第2弾性体層17の形成は、例えば、スピン塗布法によって第2弾性体層17を全面に形成した後、フォトリソグラフィー法によって、所定の形状に加工することにより、行うことができる。その後、ダイシンング加工等を行い、個別の素子ごとの個片化を行う。このような工程を経ることにより、本実施形態の圧電アクチュエータ1が製造される。
Claims (10)
- 支持基板と、
第1上部電極層、第1下部電極層、及び、これらの間に介在する第1圧電体層を含む第1圧電積層体と、第2上部電極層、第2下部電極層、及び、これらの間に介在する第2圧電体層を含む第2圧電積層体と、前記支持基板に対して相対的に変位可能な変位部と、を有する本体部と、
第1弾性体層と、
第2弾性体層と、
を備え、
前記本体部は、前記支持基板の主面の上方に設けられており、
前記第1圧電積層体は、前記支持基板の前記主面と交差する方向を積層方向とし、前記支持基板の前記主面と平行な面内における第1仮想線に沿って延び、
前記第2圧電積層体は、前記支持基板の前記主面と交差する方向を積層方向とし、前記支持基板の前記主面と平行な面内における第2仮想線に沿って延びると共に、前記第1圧電積層体と離間し、
前記変位部は、前記第1圧電積層体の先端部と前記第2圧電積層体の先端部との間に固定され、
前記第1弾性体層は、前記第1圧電積層体の前記支持基板と対向する下面、前記第2圧電積層体の前記支持基板と対向する下面、前記第1圧電積層体の側面の少なくとも一部、及び、前記第2圧電積層体の側面の少なくとも一部のそれぞれと接続するように前記本体部に固定されており、
前記第1弾性体層のうち前記第1圧電積層体の基端部の下面に設けられた第1領域は、第1ボンディング部によって前記支持基板の前記主面に固定されており、
前記第1弾性体層のうち前記第2圧電積層体の基端部の下面に設けられた第2領域は、第2ボンディング部によって前記支持基板の前記主面に固定されており、
前記第1弾性体層のうち、前記第1圧電積層体の側面に設けられた第3領域の少なくとも一部は、第3ボンディング部によって前記支持基板の前記主面に固定されており、
前記第1弾性体層のうち、前記第2圧電積層体の側面に設けられた第4領域の少なくとも一部は、第4ボンディング部によって前記支持基板の前記主面に固定されており、
前記第1弾性体層の前記支持基板と対向する下面のうち、前記第1ボンディング部、前記第2ボンディング部、前記第3ボンディング部、及び、前記第4ボンディング部と接する面以外の非ボンディング面は、前記支持基板の前記主面に固定されていない、又は、前記第1ボンディング部、前記第2ボンディング部、前記第3ボンディング部、及び、前記第4ボンディング部よりも弾性率の低い部材によって前記支持基板の前記主面に固定されており、
前記第2弾性体層は、前記第1弾性体層の上面のうち前記第1ボンディング部、前記第2ボンディング部、前記第3ボンディング部、並びに、前記第4ボンディング部の上方の領域、前記第1圧電積層体の上面、及び、前記第2圧電積層体の上面のそれぞれと接続するように前記本体部に固定されており、
前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第1仮想線の少なくとも一部における接線は、接点が前記第1仮想線の前記第1圧電積層体の基端部に対応する端点側から前記第1圧電積層体の先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記支持基板の前記主面と交差する方向を回転軸とする第1回転方向に回転し、
前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第2仮想線の少なくとも一部における接線は、接点が前記第2仮想線の前記第2圧電積層体の基端部に対応する端点側から前記第2圧電積層体の先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記支持基板の前記主面と交差する方向を回転軸とする前記第1回転方向に回転する圧電アクチュエータ。 - 前記非ボンディング面と、前記支持基板の前記主面との間には、前記非ボンディング面と接する空間ギャップが形成されている請求項1に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記第1弾性体層は、樹脂からなり、
前記第2弾性体層は、樹脂からなる請求項1又は2に記載の圧電アクチュエータ。 - 前記第1圧電積層体及び前記第2圧電積層体は、当該第1圧電積層体が前記第1仮想線に沿って伸びると同時に当該第2圧電積層体が前記第2仮想線に沿って伸びた際に、前記支持基板の前記主面と交差する方向を回転軸とする前記第1回転方向に前記変位部を回転させるように、それぞれ前記変位部に固定されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第1仮想線の少なくとも前記第1圧電積層体の前記先端部に対応する部分における接線は、接点が前記第1仮想線の前記第1圧電積層体の前記基端部に対応する端点側から前記第1圧電積層体の前記先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記第1回転方向に回転し、
前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第2仮想線の少なくとも前記第2圧電積層体の前記先端部に対応する部分における接線は、接点が前記第2仮想線の前記第2圧電積層体の前記基端部に対応する端点側から前記第2圧電積層体の前記先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記第1回転方向に回転する請求項4に記載の圧電アクチュエータ。 - 前記第1仮想線の少なくとも前記第1圧電積層体の前記先端部に対応する前記部分と、前記第2仮想線の少なくとも前記第2圧電積層体の前記先端部に対応する前記部分とは、前記支持基板の前記主面と垂直な方向から見て、前記変位部内の点に対して略点対称に配置されている請求項5に記載の圧電アクチュエータ。
- 前記変位部は、第3上部電極層、第3下部電極層、及び、第3圧電体層を含み、
前記第1圧電体層、前記第2圧電体層、及び、前記第3圧電体層は、一体形成されており、
前記第1上部電極層、前記第2上部電極層、及び、前記第3上部電極層は、一体形成されており、
前記第1下部電極層、前記第2下部電極層、及び、前記第3下部電極層は、一体形成されている請求項1〜6のいずれか一項に記載の圧電アクチュエータ。 - 前記第2弾性体層には、前記第1仮想線とそれぞれ交差する方向に延びると共に前記第1仮想線に沿って並ぶ複数のスリットからなる第1スリット構造と、前記第2仮想線とそれぞれ交差する方向に延びると共に前記第2仮想線に沿って並ぶ複数のスリットからなる第2スリット構造が形成されている請求項1〜7のいずれか一項に記載の圧電アクチュエータ。
- 仮基板上に、第1上部電極層、第1下部電極層、及び、これらの間に介在する第1圧電体層を含み、前記仮基板の主面と平行な面内における第1仮想線に沿って延びる第1圧電積層体と、第2上部電極層、第2下部電極層、及び、これらの間に介在する第2圧電体層を含み、前記仮基板の前記主面と平行な面内における第2仮想線に沿って延びると共に、前記第1圧電積層体と離間する第2圧電積層体と、前記第1圧電積層体の先端部と前記第2圧電積層体の先端部との間に固定された変位部と、を有する本体部を形成する本体部形成工程と、
前記本体部上に、当該本体部を覆うように第1弾性体層を形成する第1弾性体層形成工程と、
前記第1弾性体層のうち、前記第1圧電積層体の基端部上に設けられた第1領域、前記第2圧電積層体の基端部上に設けられた第2領域、前記第1圧電積層体の側面に設けられた第3領域の少なくとも一部、及び、前記第2圧電積層体の側面に設けられた第4領域の少なくとも一部、を覆うと共に、これらの領域以外の前記第1弾性体層を露出させるパターンを有するボンディング層を形成するボンディング層形成工程と、
前記ボンディング層上に支持基板を固定することにより、第1弾性体層のうち前記ボンディング層が形成されていない非ボンディング面と、前記支持基板の主面との間に、前記非ボンディング面と接する空間ギャップを形成する支持基板固定工程と、
前記仮基板を除去する仮基板除去工程と、
を備え、
前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第1仮想線の少なくとも一部における接線は、接点が前記第1仮想線の前記第1圧電積層体の基端部に対応する端点側から前記第1圧電積層体の先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記支持基板の前記主面と交差する方向を回転軸とする第1回転方向に回転し、
前記支持基板の前記主面と平行な面内において、前記第2仮想線の少なくとも一部における接線は、接点が前記第2仮想線の前記第2圧電積層体の基端部に対応する端点側から前記第2圧電積層体の先端部に対応する端点側に移動するに従って、前記支持基板の前記主面と交差する方向を回転軸とする前記第1回転方向に回転する圧電アクチュエータの製造方法。 - 前記仮基板除去工程の後に、前記仮基板除去工程において前記仮基板が除去されることにより露出した前記第1圧電積層体、前記第2圧電積層体、及び、前記第1弾性体層上に、前記第1弾性体層の露出面のうち前記ボンディング層の上方の領域、前記第1圧電積層体の上面、及び、前記第2圧電積層体の上面のそれぞれと接続するように第2弾性体層を形成する第2弾性体層形成工程をさらに備える請求項9に記載の圧電アクチュエータの製造方法。
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