JP4911203B2 - 炉内温度の測定方法、炉内温度測定装置、熱処理装置およびセラミック原料粉末の仮焼合成法 - Google Patents
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Description
加熱後の炉芯管1の直径(A2)=L1−(L2+L3)
炉芯管1の直径の膨張量=A2−A1
炉芯管1の直径の膨張率={(A2−A1)/A1}×100[%]
Claims (12)
- 回転する炉の内部温度を測定する炉内温度の測定方法であって、
加熱前後の炉の直径を測定することにより、予め求められた炉の直径の熱膨張率と炉の内部の温度との関係から、炉の内部温度を求めることを特徴とする、炉内温度の測定方法。 - 前記炉は、所定の軸の周りに回転する管状炉である、請求項1に記載の炉内温度の測定方法。
- 前記炉の直径の測定は、非接触のセンサーを用いて行われる、請求項1または請求項2に記載の炉内温度の測定方法。
- 炉の直径を測定する測定部と、
前記測定部で測定された加熱前後の炉の直径に基づいて、予め求められた炉の直径の熱膨張率と炉の内部の温度との関係から、炉の内部温度を求める炉内温度算出部とを備えた、炉内温度測定装置。 - 前記炉は、所定の軸の周りに回転する管状炉である、請求項4に記載の炉内温度測定装置。
- 前記測定部は、非接触のセンサーを含む、請求項4または請求項5に記載の炉内温度測定装置。
- 回転する炉と、
前記炉の内部を加熱するための加熱部と、
前記炉の直径を測定する測定部と、
前記測定部で測定された加熱前後の炉の直径に基づいて、予め求められた炉の直径の熱膨張率と炉の内部の温度との関係から、炉の内部の温度を算出する炉内温度算出部と、
前記炉内温度算出部で算出された炉の内部の温度に基づいて、前記加熱部を制御する制御部とを備えた、熱処理装置。 - 前記炉は、所定の軸の周りに回転する管状炉である、請求項7に記載の熱処理装置。
- 前記測定部は、非接触のセンサーを含む、請求項7または請求項8に記載の熱処理装置。
- 前記炉は、前記炉の入口側から原料粉末を供給し、前記炉の出口側へ移動させることによって前記原料粉末を熱処理するために用いられる、請求項7から請求項9までのいずれか1項に記載の熱処理装置。
- 前記加熱部は、前記炉の出口側から前記炉の内部に向けて挿入されたバーナーを含む、請求項7から請求項10までのいずれか1項に記載の熱処理装置。
- 所定の軸の周りで回転する管状の炉の入口側からセラミック原料粉末を供給し、前記炉の出口側へ移動させるとともに、前記炉の出口側からバーナーで前記炉の内部を加熱することによって、セラミック原料粉末を仮焼合成する方法であって、
加熱前後の前記炉の直径を測定するステップと、
前記測定された加熱前後の炉の直径に基づいて、予め求められた炉の直径の熱膨張率と炉の内部の温度との関係から、炉の内部の温度を算出するステップと、
前記算出された炉の内部の温度に基づいて、バーナーを制御するステップとを備えた、セラミック原料粉末の仮焼合成法。
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