JP4880931B2 - プラットフォームチップを備えるセンサの使用方法 - Google Patents
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Description
例1
酸化アルミニウムから成る担体5は未公開のDE102004015467.8に記載のイリジウム又は白金懸濁液により多重懸濁液塗布及びこれに続く乾燥によって0.7μmの層厚まで被覆される。これに続いてロジウム懸濁液の一回だけの塗布が行われる。このロジウム懸濁液の乾燥及び焼き付けの後で金属層2から成るパターン2が発生される。このパターン2はフォトリソグラフィックな方法による公知のエッチング方法によって又はレーザによる書き込みによって発生されうる。こうして導体パス2が生成され、この導体パス2は互いに噛み合う向かい合った櫛2の形状で形成されうる。抵抗特性曲線は大量生産において一定のままである。
酸化アルミニウムから成る担体5は未公開のDE102004015467.8に記載のイリジウム又は白金懸濁液により多重懸濁液塗布及びこれに続く乾燥によって1μmの層厚まで被覆される。例1に従って金属層2にパターン4が生成される。こうして導体パス4が発生され、この導体パス4はメアンダ4又は互いに噛み合う向かい合った櫛4の形状で形成されうる。この導体パスは電気的絶縁材料3によって被覆される。この絶縁層3上にはまた担体5上の先のような導体パス4が発生される。更に別の絶縁3が行われ、これに続いて導体パスの新たな塗布が行われる。最も外側の導体パス上にロジウム懸濁液の一回だけの塗布が行われ、これに続いて例1の場合と同じステップが行われる。
酸化アルミニウムから成る担体5は電子ビーム蒸着のPVD方法によって全面的に白金により被覆される。この被覆層4はリソグラフィによるエッチング方法によって加熱メアンダ4に構造化される。これに続いて金属酸化物及びガラスセラミックから成る高温安定層による封止3が行われる。担体5のもう一方の側面では有利には金属酸化物から成る全面的な絶縁層6が塗布される。次いで、電子ビーム蒸着によって白金ロジウム合金が塗布され、この白金ロジウム合金はフォトリソグラフィ及びエッチング方法によって電極櫛2に構造化される。次いで外側酸化物層を形成するために高温処理が行われる。
例3に類似するが、以下の差異を有する。すなわち、金属酸化物層6又はセラミック5への改善された付着剤として、DE102004015467.8記載の貴金属懸濁液が塗布され及び焼き付けられる。
例5
例1〜4のうちの1つにより製造されるプラットフォームチップの外側パターン2は、例えば酸化ガリウムベースにおいて特殊な感応性材料1によって被覆される。ガス感応性材料1による被覆1により、このガスセンサの基礎となるプラットフォームチップの長期間持続する機能性を有するガスセンサが生じる。
2 IDK構造
3 絶縁層、保護層
4 イリジウム又は白金構造、金属層、ヒータ
5 担体、基板
6 接着層
Claims (4)
- プラットフォームチップを備えるセンサの使用方法であって、
前記プラットフォームチップは、外部影響にさらされる第1の導電構造体(2)を有し、
前記第1の導電構造体(2)は、白金、ロジウム又はイリジウムもしくは白金、ロジウム又はイリジウムの合金から成る塗布物(2)を有し、前記塗布物は、酸化ロジウムまたは酸化イリジウムによってカバーされており、かつ、前記導電体構造(2)の一部分が600℃と950℃との間の高温負荷の下で持続的に安定的な抵抗特性曲線を有し、
前記センサは、加熱装置(4)を有し、前記加熱装置(4)によって600℃〜950℃に加熱され、燃焼装置制御部の制御のために又は内燃機関の排気ガス再循環の制御のために使用されることを特徴とする、
センサの使用方法。 - 担体(5)上に電気的絶縁層(3)により被覆された第2の導電構造体(4)は前記加熱装置(4)であり、
前記電気的絶縁層(3)上にイリジウム、ロジウムもしくは白金ロジウム、白金イリジウム、白金、ロジウム又はイリジウム合金が塗布されていることを特徴とする、請求項1記載のセンサの使用方法。 - 前記担体(5)の、前記第2の導電構造体(4)が配置された面の反対側の面上にイリジウム、ロジウムもしくは白金、ロジウム又はイリジウム合金が塗布されていることを特徴とする、請求項2記載のセンサの使用方法。
- 前記プラットフォームチップには、担体(5)又は絶縁層(3)上にある第1の導電構造体(2)が前記ガス感応層(1)と接触して配置されており、
前記第1の導電構造体(2)は白金の他にさらに、ロジウム又はイリジウムもしくは酸化ロジウムまたは酸化イリジウムからなる導電性酸化物層を有することを特徴とする、請求項1記載のセンサの使用方法。
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