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JP4863480B2 - Alignment method in substrate inspection apparatus and substrate inspection apparatus - Google Patents

Alignment method in substrate inspection apparatus and substrate inspection apparatus Download PDF

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JP4863480B2 JP2006317922A JP2006317922A JP4863480B2 JP 4863480 B2 JP4863480 B2 JP 4863480B2 JP 2006317922 A JP2006317922 A JP 2006317922A JP 2006317922 A JP2006317922 A JP 2006317922A JP 4863480 B2 JP4863480 B2 JP 4863480B2
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明弘 谷野
友之 加藤
憲宏 太田
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Description

本発明は、基板検査装置における位置合わせ方法及びその装置に関し、より詳しくは、検査対象となる基板を所定の検査位置に載置して検査を行う場合に、基板の載置される位置を正確に把握して検査を行うことを可能とする基板検査装置における位置合わせ方法及び基板検査装置を提供する。
尚、本発明は、プリント配線基板に限らず、例えば、フレキシブル基板、多層配線基板、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ用の電極板、及び半導体パッケージ用のパッケージ基板やフィルムキャリアなど種々の基板における電気的配線の検査に適用でき、本明細書では、それら種々の配線基板を総称して「基板」という。
The present invention relates to an alignment method and an apparatus therefor in a substrate inspection apparatus, and more specifically, when a substrate to be inspected is placed at a predetermined inspection position and inspected, the position where the substrate is placed is accurately determined. Provided are a positioning method and a substrate inspection apparatus in a substrate inspection apparatus that can be inspected and inspected.
The present invention is not limited to a printed wiring board, but includes, for example, electrical wiring on various substrates such as flexible substrates, multilayer wiring substrates, electrode plates for liquid crystal displays and plasma displays, and package substrates and film carriers for semiconductor packages. In the present specification, these various wiring boards are collectively referred to as “substrates”.

従来、プリント配線基板等の基板上に形成された配線パターンの導通や、配線パターン間の短絡不良の有無、あるいは配線パターンや配線パターン間の抵抗値を検査する基板検査を行うために、配線パターン上に形成されたパッドやランド等の複数の検査点に、例えば移動式の検査用接触子や多針状に保持された複数の検査用接触子等を接触させ、当該検査対象配線パターン上の検査点間における電気抵抗を測定することにより、基板検査を行う基板検査装置が知られている。   Conventionally, in order to perform board inspection to inspect the continuity of wiring patterns formed on a substrate such as a printed wiring board, the presence or absence of a short circuit between wiring patterns, or the resistance value between wiring patterns or wiring patterns, For example, a movable inspection contact or a plurality of inspection contacts held in a multi-needle shape is brought into contact with a plurality of inspection points such as pads or lands formed on the wiring pattern on the inspection object. 2. Description of the Related Art A substrate inspection apparatus that performs substrate inspection by measuring electric resistance between inspection points is known.

このような基板において、例えば配線パターンとビアホールとの間の接続が不完全となり、導通はしているものの接続状態が不安定となっている場合がある。このような不良では、検査時には検査点間で導通していると判断され、良品とされて製品に組み込まれた後、使用環境における温度ストレスによって不良が顕在化する場合がある。特に、基板の内部で配線パターン間を接続する埋込ビアホールにおける不完全な接続不良は、基板の外部から目視検査することができないため、検査によって検出することが困難である。   In such a substrate, for example, the connection between the wiring pattern and the via hole may be incomplete, and the connection state may be unstable although conduction is established. In such a defect, it may be determined that there is conduction between inspection points at the time of inspection, and the defect may become apparent due to temperature stress in a use environment after being regarded as a non-defective product and incorporated in the product. In particular, an incomplete connection failure in a buried via hole that connects wiring patterns inside a substrate cannot be visually inspected from the outside of the substrate, and is difficult to detect by inspection.

そこで、基板検査時において、検査対象の基板が載置された空間を加熱した高温環境と冷却した低温環境とに切り替えることにより、温度ストレスをかけた状態で検査を行うことによって、このような不完全な接続不良を検出するようにした検査装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, at the time of substrate inspection, by switching between a heated high temperature environment and a cooled low temperature environment in the space where the substrate to be inspected is placed, inspection is performed in a state where temperature stress is applied. An inspection apparatus that detects a complete connection failure has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

ところで、上述のように、検査対象の基板の載置空間を高温、低温環境に切り替えることで温度ストレスをかけて検査を行う検査装置では、基板を加熱及び冷却するために、基板を載置する載置台(載置部)自体の膨張や収縮の影響を受けて、基板の載置位置が僅かに移動する問題を有している。
特に近年製造される基板は、配線パターンの幅が数10μm程度に形成されているため、載置台の温度変化による膨張や収縮は大きな問題である。
By the way, as described above, in an inspection apparatus that performs an inspection by applying a temperature stress by switching the mounting space of the substrate to be inspected to a high temperature or low temperature environment, the substrate is mounted in order to heat and cool the substrate. There is a problem that the mounting position of the substrate slightly moves under the influence of expansion and contraction of the mounting table (mounting unit) itself.
In particular, a substrate manufactured in recent years has a wiring pattern having a width of about several tens of μm. Therefore, expansion and contraction due to a temperature change of the mounting table is a serious problem.

特開2001−215257号公報JP 2001-215257 A

本発明は、このような実情に鑑みてなされたもので、例えば温度ストレス環境下におけるような載置台の膨張や収縮による基板のずれを把握して位置補正を行うことのできる基板検査装置における位置合わせ方法及びそのような基板検査装置を提供する。   The present invention has been made in view of such a situation, and for example, a position in a substrate inspection apparatus capable of performing position correction by grasping a displacement of a substrate due to expansion or contraction of a mounting table in a temperature stress environment. An alignment method and such a substrate inspection apparatus are provided.

請求項1記載の発明は、複数の配線パターンが形成される基板を所定検査位置に載置して、該配線パターンの良不良を判断する基板検査装置における基板の位置合わせ方法であって、基板が載置される載置台に基準基板を載置し、該載置台を撮像手段が配置される撮像位置へ移動させ、前記撮像位置において、前記基準基板の第一位置情報を前記撮像手段により取得し、前記載置台を前記撮像位置から、基板の検査が行われる検査位置へ移動させ、前記検査位置において、前記基準基板の第二位置情報を、導電性の一対の接触子を有する検査手段により取得し、前記第一位置情報と前記第二位置情報を比較することによって、前記撮像位置と前記検査位置との補正位置情報を得、前記検査手段が取得する前記第二位置情報は、前記一対の接触子を前記基板に接触させて、該一対の接触子の導通を検出することにより取得されることを特徴とする基板検査装置の位置合わせ方法を提供する。
請求項2記載の発明は、前記載置台は、前記載置台に載置される基板を加熱又は冷却するための温度調整位置から前記撮像位置へ移動させられることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置の位置合わせ方法を提供する。
請求項3記載の発明は、前記撮像手段が取得する第一位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含み、前記検査手段が取得する第二位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含んでいることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置の位置合わせ方法を提供する
請求項4記載の発明は、複数の配線パターンが形成される基板を所定検査位置に載置して、該配線パターンの良不良を判断する基板検査装置であって、前記基板を撮像するための撮像部において、載置台に載置される基準基板を撮像して該基準基板の第一位置情報を作成する撮像手段と、前記基板を検査するための検査部において、載置台に載置される前記基準基板と電気的接触により該基準基板の第二位置情報を作成する検査手段と、前記載置台を、前記撮像部から前記検査部へ移動させる移動手段と、前記第一位置情報と前記第二位置情報を受信して、検査対象となる基板の位置情報のずれを算出する制御手段とを有し、前記検査手段は、導電性の一対の接触子を有し、該一対の接触子を前記基準基板に接触させて、該一対の接触子の導通を検出することにより前記第二位置情報を取得することを特徴とする基板検査装置を提供する。
請求項記載の発明は、前記移動手段は、前記載置台を加熱又は冷却するための温度調整部から前記撮像部へ移動させることを特徴とする請求項記載の基板検査装置を提供する。
請求項記載の発明は、前記撮像手段が取得する第一位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含み、前記検査手段が取得する第二位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含んでいることを特徴とする請求項記載の基板検査装置を提供する
The invention according to claim 1 is a substrate alignment method in a substrate inspection apparatus for placing a substrate on which a plurality of wiring patterns are formed at a predetermined inspection position and judging whether the wiring pattern is good or defective. The reference substrate is placed on the placement table on which the imaging device is placed, the placement table is moved to the imaging position where the imaging means is arranged, and the first position information of the reference substrate is acquired by the imaging means at the imaging position. Then, the mounting table is moved from the imaging position to an inspection position where the substrate is inspected, and the second position information of the reference substrate is transferred to the inspection position by the inspection means having a pair of conductive contacts. By obtaining and comparing the first position information and the second position information, the correction position information of the imaging position and the inspection position is obtained , and the second position information acquired by the inspection means is the pair of information. Contact Is contacted with the substrate, to provide a method of aligning a substrate inspection device, characterized in that it is obtained by detecting the continuity of said pair of contacts.
The invention described in claim 2 is characterized in that the mounting table is moved from the temperature adjustment position for heating or cooling the substrate mounted on the mounting table to the imaging position. A method for aligning a substrate inspection apparatus is provided.
According to a third aspect of the present invention, the first position information acquired by the imaging unit includes at least central position information of the center of the substrate and rotational position information of the substrate, and the second position information acquired by the inspection unit is 2. The alignment method for a substrate inspection apparatus according to claim 1, further comprising at least central position information of the center of the substrate and rotation position information of the substrate .
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus for mounting a substrate on which a plurality of wiring patterns are formed at a predetermined inspection position and judging whether the wiring pattern is good or defective, and for imaging the substrate In the imaging unit, imaging means for imaging a reference substrate placed on the placement table and creating first position information of the reference substrate, and an inspection unit for inspecting the substrate are placed on the placement table. an inspection means for the electrical contact with the reference substrate to create a second position information of the reference substrate, a mounting table, moving means for moving to the inspection unit from the imaging unit, the said first position information first Two-position information, and a control means for calculating a displacement of the position information of the substrate to be inspected, the inspection means has a pair of conductive contacts, and the pair of contacts is The contact of the pair of contacts is brought into contact with the reference substrate. Obtaining said second position information by detecting the providing a substrate inspection apparatus according to claim.
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the substrate inspection apparatus according to the fourth aspect, wherein the moving means is moved from a temperature adjusting unit for heating or cooling the mounting table to the imaging unit.
According to a sixth aspect of the present invention, the first position information acquired by the imaging unit includes at least central position information of the center of the substrate and rotational position information of the substrate, and the second position information acquired by the inspection unit is 5. The substrate inspection apparatus according to claim 4 , comprising at least central position information of the center of the substrate and rotational position information of the substrate .

請求項1又は記載の発明によれば、撮像部と検査部が相違する位置に配置されている基板検査装置であっても、本発明の基板検査装置における位置合わせ方法を用いることによって、撮像部における第一位置情報と検査部における第二位置情報を比較することによって、その位置情報のずれを算出することができる。
このため、撮像部と検査部が相違する位置に配置されていても、確実にその基板の位置情報を補正して、検査部において検査することができ、正確な検査を行うことができる。
請求項2又は記載の発明によれば、基板に温度ストレスを負荷させる温度調整部が配置されていても、温度変化による基板や載置台の膨張や収縮などが発生しても、撮像部と検査部との位置ずれを正確に補正することができるので、正確な位置情報を把握して、検査を行うことができる。
請求項3又は記載の発明によれば、第一位置情報と第二位置情報が基板の中央位置情報と基板の回転位置情報を含んでいるので、正確な基板の位置情報を算出することができる。
請求項又は記載の発明によれば、検査手段が一対の接触子を有しているので、検査を行うための接触子をそのまま位置情報を取得するための接触子として用いることができるので、効率良く位置情報を取得することができる。
請求項記載の発明によれば、基板の位置合わせを行うために基準基板を用いるので、正確な基板の位置情報を把握することができる。
According to the first or fourth aspect of the present invention, even if the substrate inspection apparatus is arranged at a position where the imaging unit and the inspection unit are different from each other, the imaging is performed by using the alignment method in the substrate inspection apparatus of the present invention. By comparing the first position information in the section and the second position information in the inspection section, the shift of the position information can be calculated.
For this reason, even if the imaging unit and the inspection unit are arranged at different positions, the positional information of the substrate can be surely corrected and the inspection unit can inspect, and an accurate inspection can be performed.
According to the second or fifth aspect of the present invention, even if a temperature adjusting unit that applies a temperature stress to the substrate is arranged, even if expansion or contraction of the substrate or the mounting table due to a temperature change occurs, the imaging unit and Since the positional deviation from the inspection unit can be accurately corrected, it is possible to perform inspection by grasping accurate position information.
According to the third or sixth aspect of the invention, since the first position information and the second position information include the center position information of the substrate and the rotation position information of the substrate, accurate position information of the substrate can be calculated. it can.
According to the invention described in claim 1 or 4 , since the inspection means has a pair of contacts, the contact for performing the inspection can be used as a contact for acquiring position information as it is. The position information can be acquired efficiently.
According to the first aspect of the present invention, since the reference substrate is used to align the substrate, accurate substrate position information can be grasped.

本発明を実施するための最良の形態を説明する。
本発明にかかる基板検査装置における基板の位置合わせ方法は、基板の位置情報を撮像手段により取得する撮像部と、基板の検査を行う検査部が同じ場所に配置されていない基板検査装置において効果を奏することができる。
尚、従来、このような基板検査装置では、撮像部と検査部との位置ずれは生じないことが前提として用いられており、撮像部で取得する基板の位置が検査部での基板の位置として用いられていた。
特に、撮像部の前段階に基板に対して温度ストレスを負荷する基板検査装置では、撮像部での基板の位置と検査部での基板の位置が、僅かな温度変化によって位置ズレが発生しても、本発明を用いることによって、そのズレを正確に補正することができる。
The best mode for carrying out the present invention will be described.
The substrate alignment method in the substrate inspection apparatus according to the present invention is effective in the substrate inspection apparatus in which the imaging unit that acquires the positional information of the substrate by the imaging unit and the inspection unit that inspects the substrate are not arranged at the same place. Can play.
Conventionally, in such a substrate inspection apparatus, it is used on the premise that there is no positional deviation between the imaging unit and the inspection unit, and the position of the substrate acquired by the imaging unit is the position of the substrate in the inspection unit. It was used.
In particular, in a substrate inspection apparatus that applies a temperature stress to the substrate in the previous stage of the imaging unit, the position of the substrate in the imaging unit and the position of the substrate in the inspection unit are misaligned due to a slight temperature change. However, the deviation can be accurately corrected by using the present invention.

本発明に係る基板検査装置の一実施形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板検査方法を用いた基板検査装置の構成の一例を示す外観斜視図である。図1に示す基板検査装置1は、略箱状の筐体2に収納されている。この基板検査装置1の外部には、例えばシリカゲルを用いて空気を乾燥させると共にシリカゲルを加熱して乾燥する空気乾燥機3と、空気乾燥機3で乾燥されると共に加熱されたシリカゲルによって温度が上昇した空気を冷却する空気冷却機4とがダクトによって基板検査装置1と接続されている。また、空気乾燥機6が、ダクトによって基板検査装置1と接続されている。
An embodiment of a substrate inspection apparatus according to the present invention will be described.
FIG. 1 is an external perspective view showing an example of the configuration of a substrate inspection apparatus using a substrate inspection method according to an embodiment of the present invention. A substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is housed in a substantially box-shaped housing 2. Outside the substrate inspection apparatus 1, for example, air is dried using silica gel, and the temperature is increased by the air dryer 3 that heats and drys the silica gel, and the silica gel that is dried and heated by the air dryer 3. The air cooler 4 that cools the air is connected to the board inspection apparatus 1 by a duct. Moreover, the air dryer 6 is connected with the board | substrate inspection apparatus 1 by the duct.

空気乾燥機3と空気冷却機4とは、筐体2内部の空気を循環させて、例えば、零度以下の露点(特に限定されるものではないが、露点温度0℃〜−10℃)となるように乾燥させる。また、空気乾燥機6は、例えば高分子膜に空気を透過させることにより空気を乾燥させる空気乾燥機で、例えば被検査基板の冷却温度より低い露点温度(特に限定されるものではないが、露点温度−10℃〜―70℃)の乾燥した空気を基板検査装置1へ供給する。
この一実施形態に係る基板検査装置1では、検査対象となる基板に対して温度ストレスを負荷するために、上記の如き機能が設けられている。
The air dryer 3 and the air cooler 4 circulate the air inside the housing 2 to have a dew point of, for example, zero degrees or less (although it is not particularly limited, the dew point temperature is 0 ° C. to −10 ° C.). To dry. The air dryer 6 is an air dryer that dries air by allowing air to pass through, for example, a polymer film. For example, a dew point that is lower than the cooling temperature of the substrate to be inspected (not particularly limited, but the dew point is not limited). Dry air having a temperature of −10 ° C. to −70 ° C. is supplied to the substrate inspection apparatus 1.
In the substrate inspection apparatus 1 according to this embodiment, the above-described functions are provided in order to apply a temperature stress to the substrate to be inspected.

筐体2には、操作表示部11,12と、検査対象の基板を受け入れる受入口13と、検査終了後の基板を排出する排出口14と、例えばCRT(Cathode Ray Tube)により構成されたモニタ15と、筐体2内部を目視確認できる窓16,17とが設けられている。操作表示部11,12は、例えばタッチパネル式液晶表示器等から構成され、ユーザからの検査の実行指示等の操作指示を受け付けたり、被検査基板の検査結果を表示したりする。   The housing 2 includes an operation display units 11 and 12, a receiving port 13 for receiving a substrate to be inspected, a discharge port 14 for discharging the substrate after the inspection, and a monitor constituted by, for example, a CRT (Cathode Ray Tube). 15 and windows 16 and 17 through which the inside of the housing 2 can be visually confirmed are provided. The operation display units 11 and 12 are composed of, for example, a touch panel type liquid crystal display or the like, and accept operation instructions such as an inspection execution instruction from a user or display an inspection result of a substrate to be inspected.

図2は、基板検査装置1における筐体2の内部の構造の一例を示す概略構成図である。図3は、基板検査装置1の筐体2内部を上面視した概略構成を示す平面図である。図2、図3には、各図との方向関係を明確にするために、XYZ直交座標軸が示されている。ここで、Y軸は装置の奥行き方向、X軸は被検査基板を各検査ステージに搬送する方向、Z軸は被検査基板の面に垂直な方向である。
この基板検査装置1では、基板に対して温度ストレスを負荷するために、冷却部と加熱部と予熱部が夫々設けられている。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an example of an internal structure of the housing 2 in the substrate inspection apparatus 1. FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of the inside of the housing 2 of the substrate inspection apparatus 1 as viewed from above. 2 and 3 show XYZ orthogonal coordinate axes in order to clarify the directional relationship with each figure. Here, the Y axis is the depth direction of the apparatus, the X axis is the direction in which the substrate to be inspected is transported to each inspection stage, and the Z axis is the direction perpendicular to the surface of the substrate to be inspected.
In the substrate inspection apparatus 1, a cooling unit, a heating unit, and a preheating unit are provided in order to apply a temperature stress to the substrate.

図2に示す基板検査装置1は、投入ワークホルダ21(受入部)、冷却保持部22(冷却部)、予熱保持部23(予熱部)、加熱保持部24(加熱部)、収納ワークホルダ25(収納部)、蓋体26,27,30、固定蓋体28,29、複数のノズル31(エア吹付部)、搬送部32、撮像手段33,34、非接触温度計35,36、移動式プローブ37,38、吸引ポンプ39(吸引部)、ドライエア吹出口51(第2のドライエア供給部)、及びドライエア排出口52を備えている。   The substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 2 includes an input work holder 21 (receiving part), a cooling holding part 22 (cooling part), a preheating holding part 23 (preheating part), a heating holding part 24 (heating part), and a storage work holder 25. (Storage unit), lids 26, 27, 30, fixed lids 28, 29, a plurality of nozzles 31 (air spraying unit), transport unit 32, imaging means 33, 34, non-contact thermometers 35, 36, movable type Probes 37 and 38, a suction pump 39 (suction unit), a dry air outlet 51 (second dry air supply unit), and a dry air discharge port 52 are provided.

ドライエア吹出口51は、ダクトを介して空気冷却機4と接続されており、空気乾燥機3と空気冷却機4とによって、例えば、零度以下の露点(特に限定されるものではないが、露点温度0℃〜−10℃)を有する乾燥空気を筐体2内に供給する。ドライエア排出口52は、ダクトを介して空気乾燥機3と接続されており、筐体2内の空気を空気乾燥機3へ排出して筐体2内部の空気を循環させる。   The dry air outlet 51 is connected to the air cooler 4 through a duct. The dehydration point is, for example, not more than zero degrees by the air dryer 3 and the air cooler 4, but the dew point temperature is not particularly limited. Dry air having 0 ° C. to −10 ° C.) is supplied into the housing 2. The dry air discharge port 52 is connected to the air dryer 3 through a duct, and discharges the air in the housing 2 to the air dryer 3 to circulate the air in the housing 2.

蓋体26及び蓋体27は、X軸方向にスライド自在に構成され、図略の駆動機構によりスライド移動されて冷却保持部22又は加熱保持部24の上部開口部をそれぞれ開閉可能にされている。また、蓋体30は、Y軸方向にスライド自在に構成され、図略の駆動機構によりスライド移動されて予熱保持部23の上部開口部を開閉可能にされている。吸引ポンプ39は、搬送部32、冷却保持部22、予熱保持部23、及び加熱保持部24に接続された図略のチューブを介して空気を吸引する。   The lid body 26 and the lid body 27 are configured to be slidable in the X-axis direction, and are slid and moved by a drive mechanism (not shown) so that the upper opening of the cooling holding unit 22 or the heating holding unit 24 can be opened and closed. . The lid 30 is configured to be slidable in the Y-axis direction, and is slid by a not-shown drive mechanism so that the upper opening of the preheat holding unit 23 can be opened and closed. The suction pump 39 sucks air through a tube (not shown) connected to the transport unit 32, the cooling holding unit 22, the preheating holding unit 23, and the heating holding unit 24.

また、基板検査装置1は、Y軸方向に延びるガイドレール41及びガイドレール42と、X軸方向に延びるガイドレール43と、X軸方向に延びる2本のガイドレール44,44と、ガイドレール44,44間を掛け渡すようにY軸方向に延びるガイドレール45,46とを備えている。そして、図略の駆動機構によって、ガイドレール41に沿って冷却保持部22がスライド自在に構成され、ガイドレール42に沿って加熱保持部24がスライド自在に構成され、ガイドレール43に沿って搬送部32がスライド自在に構成され、ガイドレール44,44に沿ってガイドレール45,46がそれぞれスライド自在に構成されている。   The board inspection apparatus 1 includes a guide rail 41 and a guide rail 42 extending in the Y-axis direction, a guide rail 43 extending in the X-axis direction, two guide rails 44 and 44 extending in the X-axis direction, and a guide rail 44. , 44 is provided with guide rails 45, 46 extending in the Y-axis direction so as to span between them. Then, the cooling holding unit 22 is configured to be slidable along the guide rail 41 and the heating holding unit 24 is configured to be slidable along the guide rail 42 by a drive mechanism (not shown), and is conveyed along the guide rail 43. The portion 32 is configured to be slidable, and the guide rails 45 and 46 are configured to be slidable along the guide rails 44 and 44, respectively.

また、ガイドレール45,46には昇降機構47,48がそれぞれ相対向する向きに取り付けられ、昇降機構47,48は、ガイドレール45,46に沿って図略の駆動機構によりスライド自在に構成されている。そして、昇降機構47,48の相対向する位置には、移動式プローブ37,38がそれぞれ取り付けられ、昇降機構47,48によってZ軸方向に昇降自在にされている。これにより、移動式プローブ37,38は、それぞれX,Y,Z軸方向に移動可能にされている。   In addition, elevating mechanisms 47 and 48 are attached to the guide rails 45 and 46 in opposite directions, and the elevating mechanisms 47 and 48 are configured to be slidable along the guide rails 45 and 46 by a drive mechanism (not shown). ing. The movable probes 37 and 38 are attached to the opposing positions of the elevating mechanisms 47 and 48, respectively, and are movable up and down in the Z-axis direction by the elevating mechanisms 47 and 48. Accordingly, the movable probes 37 and 38 are movable in the X, Y, and Z axis directions, respectively.

図4は、投入ワークホルダ21の詳細の一例を示す斜視図である。図4に示す投入ワークホルダ21は、方形の被検査基板8が載置された状態を示している。そして、投入ワークホルダ21の上面には、被検査基板8の四つ角を支持するように形成された凹部211が5つ一列に並べて形成されており、ユーザが凹部211に被検査基板8をはめ込むことにより、被検査基板8が所定位置に位置決めされるようになっている。
この基板検査装置1では5つの基板を同時に検査することができるが、特に限定される数ではないが、同時に温度ストレスを負荷し、その後、1枚ずつ検査を行うため、5枚程度が好ましい基板の枚数となる。
FIG. 4 is a perspective view showing an example of details of the input work holder 21. The input work holder 21 shown in FIG. 4 shows a state in which a square inspection substrate 8 is placed. Further, five concave portions 211 formed so as to support the four corners of the substrate 8 to be inspected are formed in a line on the upper surface of the input work holder 21, and the user fits the substrate 8 to be inspected into the concave portion 211. Thus, the inspected substrate 8 is positioned at a predetermined position.
In this substrate inspection apparatus 1, five substrates can be inspected at the same time. However, the number is not particularly limited. However, since a temperature stress is applied at the same time and then inspection is performed one by one, about five substrates are preferable. It becomes the number of sheets.

投入ワークホルダ21の端部には、取手212が取り付けられており、ユーザが取手212を引っ張ることにより、投入ワークホルダ21が筐体2から引き出されて被検査基板8を投入ワークホルダ21に載置可能となり、ユーザが投入ワークホルダ21における凹部211に被検査基板8をはめ込んで、投入ワークホルダ21を筐体2に押し込むことにより、被検査基板8が基板検査装置1に受け入れられるようになっている。   A handle 212 is attached to the end of the input work holder 21, and when the user pulls the handle 212, the input work holder 21 is pulled out of the housing 2 and the substrate 8 to be inspected is placed on the input work holder 21. When the user inserts the inspected substrate 8 into the recess 211 of the input work holder 21 and pushes the input work holder 21 into the housing 2, the inspected substrate 8 can be received by the substrate inspection apparatus 1. ing.

図5は、被検査基板8の表裏の一例を示す図である。図5に示す被検査基板8は、例えばBGA(Ball Grid Array)等のICパッケージに用いられるパッケージ基板であり、
ダイ82が実装された状態にされている。図5(a)はハンダボールによって回路基板に接続されるパット81等の配線パターンが設けられている側の外観を示し、図5(b)はダイ82が実装された被検査基板8を側面視した図であり、図5(c)は被検査基板8におけるダイ82が実装された側の外観を示す平面図である。
FIG. 5 is a view showing an example of the front and back of the substrate 8 to be inspected. A test substrate 8 shown in FIG. 5 is a package substrate used for an IC package such as a BGA (Ball Grid Array).
The die 82 is mounted. FIG. 5A shows the appearance of the side provided with a wiring pattern such as a pad 81 connected to the circuit board by solder balls, and FIG. 5B shows the side of the inspected substrate 8 on which the die 82 is mounted. FIG. 5C is a plan view showing the external appearance of the inspected substrate 8 on the side where the die 82 is mounted.

図5に示す被検査基板8において、パット81は被検査基板8の内層に形成された配線パターンやインナーバイア及び基板表面に形成された配線パターン83等の配線を介してそれぞれダイ82に接続され、ダイ82を介して他のパット81に接続されている。なお、被検査基板8は、BGAのパッケージ基板には限られず、ダイ82が実装されていないものの場合もあり、ダイ82を介さず直接パット81等の検査点となる配線パターン同士が導通するものの場合もある。   In the inspected substrate 8 shown in FIG. 5, the pad 81 is connected to the die 82 via wiring such as a wiring pattern formed in the inner layer of the inspected substrate 8, an inner via, and a wiring pattern 83 formed on the substrate surface. , And connected to another pad 81 via a die 82. The substrate 8 to be inspected is not limited to a BGA package substrate, and there may be a case in which the die 82 is not mounted, and the wiring patterns serving as inspection points such as the pads 81 are directly connected without passing through the die 82. In some cases.

図6は、冷却保持部22の構成の一例を示す外観斜視図である。図6に示す冷却保持部22は、例えばアルミ等、熱伝導率の高い材料を用いて構成された略板状の冷却プレート221と、冷却プレート221上に列をなして五つ設けられた載置部222a,222b,222c,222d,222eと、載置部222a,222b,222c,222d,222eの周囲を囲むように設けられた壁状の側壁部223と、側壁部223により囲まれた空間を載置部222a,222b,222c,222d,222e毎に仕切る複数の仕切板224と、冷却プレート221を冷却する冷却器220とを備えて構成されている。冷却器220は、例えば冷却プレート221の下部に配設された図略のペルチェ素子と、当該ペルチェ素子における放熱部を空冷する冷却ファン225とを備えて構成されている。   FIG. 6 is an external perspective view showing an example of the configuration of the cooling holding unit 22. The cooling holding unit 22 shown in FIG. 6 includes, for example, a substantially plate-shaped cooling plate 221 made of a material having high thermal conductivity such as aluminum, and five mounted in a row on the cooling plate 221. A space surrounded by the placement portions 222a, 222b, 222c, 222d, and 222e, a wall-shaped side wall portion 223 that is provided to surround the placement portions 222a, 222b, 222c, 222d, and 222e, and the side wall portion 223 Is provided with a plurality of partition plates 224 for partitioning the mounting portions 222a, 222b, 222c, 222d, and 222e, and a cooler 220 that cools the cooling plate 221. The cooler 220 includes, for example, a Peltier element (not shown) disposed below the cooling plate 221 and a cooling fan 225 that air-cools the heat radiation portion of the Peltier element.

図7は、載置部222a及び載置部222aを囲む側壁部223と仕切板224とを示す部分拡大図である。図7に示す載置部222aにおいて、側壁部223及び仕切板224により囲まれた載置部222aにおける四辺の近傍に、空気乾燥機6から供給された、被検査基板の冷却温度より露点温度が低い乾燥した空気を放出する孔226(第1のドライエア供給部)が設けられている。また、載置部222aにおける冷却プレート221の略中央に、ダイ82と略同一形状の凹部227が形成され、凹部227の略中央に、吸引ポンプ39と図略のチューブを介して接続された孔228が設けられている。   FIG. 7 is a partially enlarged view showing the mounting portion 222a, the side wall portion 223 surrounding the mounting portion 222a, and the partition plate 224. In the mounting portion 222a shown in FIG. 7, the dew point temperature is closer to the four sides of the mounting portion 222a surrounded by the side wall portion 223 and the partition plate 224 than the cooling temperature of the substrate to be inspected supplied from the air dryer 6. A hole 226 (first dry air supply unit) for discharging low dry air is provided. In addition, a recess 227 having substantially the same shape as the die 82 is formed at the approximate center of the cooling plate 221 in the mounting portion 222a, and a hole connected to the suction pump 39 via a tube (not shown) at the approximate center of the recess 227. 228 is provided.

また、載置部222aにおける冷却プレート221の上面に、凹部227と孔226とを避けるようにシート部材229が密着して取り付けられている。さらに、凹部227の底部には、凹部227の周囲、及び孔228を中心として十文字すなわち孔228から放射状に溝271を形成するように、四つの小片にされたシート部材272が密着して取り付けられている。すなわち、略方形の四つのシート部材272が、互いに間隔を空けて碁盤の目状に並んで凹部227の底部に取り付けられることにより、当該間隔が溝271を形成するようにされている。そして、シート部材229とシート部材272とによって、ダイ82と嵌合する形状の凹部が形成されるようになっている。   Further, a sheet member 229 is attached in close contact with the upper surface of the cooling plate 221 in the mounting portion 222a so as to avoid the recess 227 and the hole 226. Furthermore, four small pieces of sheet members 272 are closely attached to the bottom of the concave portion 227 so as to form grooves 271 around the concave portion 227 and radially from the hole 228 around the hole 228. ing. That is, four substantially square sheet members 272 are attached to the bottom of the recess 227 in a grid pattern with a space between each other, so that the space forms a groove 271. The sheet member 229 and the sheet member 272 form a concave portion that fits into the die 82.

シート部材229,272は、略板状の弾性を有する熱伝導性のシートであり、例えばシリコンゴムを用いて構成されている。シート部材229,272としては、
例えば信越化学社製TC50TXEや、3M社製5509S等の熱伝導シートを用いることができる。また、この場合、溝271における十文字の中央部分が請求項における貫通孔に相当している。
The sheet members 229 and 272 are heat conductive sheets having a substantially plate-like elasticity, and are made of, for example, silicon rubber. As the sheet members 229 and 272,
For example, a heat conductive sheet such as TC50TXE manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. or 5509S manufactured by 3M Corporation can be used. In this case, the cross-shaped central portion of the groove 271 corresponds to the through hole in the claims.

なお、溝271は、孔228から放射状に拡がっていればよく、十文字状の溝に限らない。また、冷却プレート221には凹部227が形成されずに平坦にされ、冷却プレート221の平坦な上面にシート部材229が密着して取り付けられ、シート部材229の厚み内で凹部227を形成する構成としてもよい。また、凹部227を設けず、平坦な冷却プレート221の上面にシート部材229を密着して取り付け、平坦なシート部材229を貫通して孔228に達する貫通孔と、その貫通孔から放射状に拡がる溝とを設けてもよい。また、吸引ポンプ39を備えず、基板検査装置1の外部から供給された低圧の空気をチューブ(吸引部)によって孔228に供給する構成としてもよい。   The groove 271 only needs to expand radially from the hole 228 and is not limited to a cross-shaped groove. Further, the cooling plate 221 is flattened without forming the recess 227, and the sheet member 229 is attached to the flat upper surface of the cooling plate 221, so that the recess 227 is formed within the thickness of the sheet member 229. Also good. Further, without providing the recess 227, the sheet member 229 is attached in close contact with the upper surface of the flat cooling plate 221, a through hole that reaches the hole 228 through the flat sheet member 229, and a groove that radially expands from the through hole And may be provided. Alternatively, the suction pump 39 may not be provided, and low-pressure air supplied from the outside of the substrate inspection apparatus 1 may be supplied to the hole 228 through a tube (suction unit).

載置部222b,222c,222d,222eの構成は、載置部222aの構成と同様であるのでその説明を省略する。   Since the configuration of the placement units 222b, 222c, 222d, and 222e is the same as the configuration of the placement unit 222a, description thereof is omitted.

図8は、予熱保持部23及び加熱保持部24の構成の一例を示す外観斜視図である。図8に示す予熱保持部23は、例えばアルミ等、熱伝導率の高い材料を用いて構成された略板状の予熱プレート231と、予熱プレート231上に列をなして五つ設けられた載置部232a,232b,232c,232d,232eと、載置部232a,232b,232c,232d,232eの周囲を囲むように設けられた壁状の側壁部233と、側壁部233により囲まれた空間を載置部232a,232b,232c,232d,232e毎に仕切る複数の仕切板234と、予熱プレート231の下部に配設され、予熱プレート231を加熱する予熱用ヒータ235を備えて構成されている。   FIG. 8 is an external perspective view showing an example of the configuration of the preheating holding unit 23 and the heating holding unit 24. The preheating holding unit 23 shown in FIG. 8 includes a substantially plate-like preheating plate 231 configured using a material having high thermal conductivity such as aluminum, and five mounting plates provided in a row on the preheating plate 231. A space surrounded by the placement portions 232a, 232b, 232c, 232d, and 232e, a wall-shaped side wall portion 233 provided to surround the placement portions 232a, 232b, 232c, 232d, and 232e, and the sidewall portion 233 Is provided with a plurality of partition plates 234 for partitioning each of the mounting portions 232a, 232b, 232c, 232d, and 232e, and a preheating heater 235 that is disposed below the preheating plate 231 and heats the preheating plate 231. .

また、加熱保持部24は、図8に示す予熱保持部23とほぼ同様の構成にされており、例えばアルミ等、熱伝導率の高い材料を用いて構成された略板状の加熱プレート241と、加熱プレート241上に列をなして五つ設けられた載置部242a,242b,242c,242d,242eと、載置部242a,242b,242c,242d,242eの周囲を囲むように設けられた壁状の側壁部243と、側壁部243により囲まれた空間を載置部242a,242b,242c,242d,242e毎に仕切る複数の仕切板244と、加熱プレート241の下部に配設され、加熱プレート241を加熱する加熱用ヒータ245を備えて構成されている。   Further, the heating and holding unit 24 has substantially the same configuration as that of the preheating holding unit 23 shown in FIG. 8. For example, the heating and holding unit 24 includes a substantially plate-like heating plate 241 configured using a material having high thermal conductivity such as aluminum. The five mounting portions 242a, 242b, 242c, 242d, and 242e provided in a row on the heating plate 241 and the surroundings of the mounting portions 242a, 242b, 242c, 242d, and 242e are provided. A wall-shaped side wall portion 243, a plurality of partition plates 244 that partition the space surrounded by the side wall portion 243 for each of the mounting portions 242a, 242b, 242c, 242d, and 242e, and a lower portion of the heating plate 241 are provided. A heater 245 for heating the plate 241 is provided.

図9は、加熱保持部24における載置部242a及び載置部242aを囲む側壁部243と仕切板244とを示す部分拡大図である。図9に示す載置部242aにおける加熱プレート241の略中央に、ダイ82と略同一形状の凹部247が形成され、凹部247の略中央に、吸引ポンプ39と図略のチューブを介して接続された孔248が設けられている。   FIG. 9 is a partially enlarged view showing the placement portion 242a and the side wall portion 243 surrounding the placement portion 242a and the partition plate 244 in the heating and holding portion 24. A recess 247 having substantially the same shape as that of the die 82 is formed at substantially the center of the heating plate 241 in the mounting portion 242a shown in FIG. 9, and is connected to the suction pump 39 via a tube (not shown) at approximately the center of the recess 247. A hole 248 is provided.

また、載置部242aにおける加熱プレート241の上面に、凹部247を避けるようにシート部材249が密着して取り付けられている。さらに、凹部247の底部には、凹部247の周囲、及び孔248を中心として十文字すなわち孔248から放射状に溝250を形成するように、四つの小片にされたシート部材251が密着して取り付けられている。すなわち、略方形の四つのシート部材251が、互いに間隔を空けて碁盤の目状に並んで凹部247の底部に取り付けられることにより、当該間隔が溝250を形成するようにされている。これにより、シート部材249とシート部材251とによって、ダイ82と嵌合する形状の凹部が形成されるようになっている。   In addition, a sheet member 249 is attached in close contact with the upper surface of the heating plate 241 in the mounting portion 242a so as to avoid the concave portion 247. Furthermore, four small pieces of sheet members 251 are closely attached to the bottom of the concave portion 247 so as to form a groove 250 radially around the concave portion 247 and around the concave portion 247, that is, from the hole 248. ing. That is, four substantially square sheet members 251 are attached to the bottom of the recess 247 in a grid pattern with a space therebetween, so that the space forms a groove 250. As a result, the sheet member 249 and the sheet member 251 form a recess that fits into the die 82.

シート部材249,251は、シート部材229,272と同様の略板状の弾性を有する熱伝導性のシートであり、例えばシリコンゴムを用いて構成されている。また、この場合、溝250における十文字の中央部分が請求項における貫通孔に相当している。   The sheet members 249 and 251 are heat conductive sheets having substantially plate-like elasticity similar to the sheet members 229 and 272, and are made of, for example, silicon rubber. In this case, the cross-shaped center portion of the groove 250 corresponds to the through hole in the claims.

なお、溝250は、孔248から放射状に拡がっていればよく、十文字状の溝に限らない。また、加熱プレート241には凹部247が形成されずに平坦にされ、加熱プレート241の平坦な上面にシート部材249が密着して取り付けられ、シート部材249の厚み内で凹部247を形成する構成としてもよい。また、凹部247を設けず、平坦な加熱プレート241の上面にシート部材249を密着して取り付け、平坦なシート部材249を貫通して孔248に達する貫通孔と、その貫通孔から放射状に拡がる溝とを設けてもよい。   In addition, the groove | channel 250 should just expand radially from the hole 248, and is not restricted to a cross-shaped groove | channel. Further, the heating plate 241 is flat without forming the recess 247, and the sheet member 249 is attached to the flat upper surface of the heating plate 241 so that the recess 247 is formed within the thickness of the sheet member 249. Also good. Further, without providing the recess 247, the sheet member 249 is closely attached to the upper surface of the flat heating plate 241, and the through hole reaching the hole 248 through the flat sheet member 249 and the groove radially extending from the through hole And may be provided.

加熱保持部24における載置部242b,242c,242d,242eの構成は、載置部242aの構成と同様であるのでその説明を省略する。また、予熱保持部23における載置部232a,232b,232c,232d,232eは、加熱保持部24における載置部242a,242b,242c,242d,242eと同様に凹部247、孔248、シート部材249,251、及び溝250を備えて構成されている。
以上の冷却部22、予熱部23、加熱部24は、いずれも温度ストレスを負荷する機構であり、特に限定されるものではなく、その他の冷却又は加熱を行う機構を用いても構わない。
Since the configuration of the placement units 242b, 242c, 242d, and 242e in the heating holding unit 24 is the same as the configuration of the placement unit 242a, the description thereof is omitted. Further, the placement portions 232a, 232b, 232c, 232d, and 232e in the preheating holding portion 23 are the concave portions 247, the holes 248, and the sheet member 249 in the same manner as the placement portions 242a, 242b, 242c, 242d, and 242e in the heating holding portion 24. , 251 and a groove 250.
The cooling unit 22, the preheating unit 23, and the heating unit 24 are all mechanisms for applying a temperature stress, and are not particularly limited, and other mechanisms for cooling or heating may be used.

図10は、蓋体26,27の構成の一例を示す分解斜視図である。蓋体26と蓋体27とは、同様の構成にされており、略板状のシート261が4枚と、冷却保持部22及び加熱保持部24における載置部222a〜222e及び載置部242a〜242eの位置と対応するように板状の部材に開口部が設けられたスペーサ262とが、スペーサ262をシート261の間に挟んで交互に積層されて構成されている。
これにより、蓋体26,27は、4枚のシート261によって3層の空気層を挟んだ断熱構造にされ、冷却保持部22への熱の侵入及び加熱保持部24からの熱の放出を低減するようになっている。
FIG. 10 is an exploded perspective view showing an example of the configuration of the lids 26 and 27. The lid body 26 and the lid body 27 are configured in the same manner, with four substantially plate-like sheets 261, the placement units 222 a to 222 e and the placement unit 242 a in the cooling holding unit 22 and the heating holding unit 24. The spacers 262 each having an opening provided in a plate-like member so as to correspond to the positions ˜242e are alternately stacked with the spacers 262 interposed between the sheets 261.
As a result, the lids 26 and 27 have a heat insulating structure in which the three air layers are sandwiched by the four sheets 261, and the heat intrusion into the cooling holding unit 22 and the heat release from the heating holding unit 24 are reduced. It is supposed to be.

また、蓋体26,27の一方端側には、蓋体26,27の長手方向と垂直な方向に延びる長孔263が設けられている。長孔263は、撮像手段33,34による被検査基板8のアライメント及び非接触温度計35,36による温度測定を行うための孔で、アライメントや温度測定の際に、長孔263を介して被検査基板8の画像を撮影したり、被検査基板8から放射される赤外線を検出したりするために必要な最小限の大きさにすることで、アライメントや温度測定を行う際における冷却保持部22及び加熱保持部24に載置された被検査基板8の温度変化を低減するようにされている。   In addition, a long hole 263 extending in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the lid bodies 26 and 27 is provided on one end side of the lid bodies 26 and 27. The long hole 263 is a hole for performing alignment of the substrate 8 to be inspected by the imaging means 33 and 34 and temperature measurement by the non-contact thermometers 35 and 36, and through the long hole 263 during alignment and temperature measurement. The cooling holding unit 22 when performing alignment or temperature measurement by taking an image of the inspection substrate 8 or setting the minimum size necessary for detecting infrared rays emitted from the inspection substrate 8. And the temperature change of the to-be-inspected board | substrate 8 mounted in the heating holding | maintenance part 24 is reduced.

図11は、蓋体30の構成の一例を示す説明図である。図11に示す蓋体30は、略板状のシート301が4枚と、予熱保持部23における載置部232a〜232eの位置と対応するように板状の部材に開口部が設けられたスペーサ302とが、スペーサ302をシート301の間に挟んで交互に積層されて構成されている。これにより、蓋体30は、蓋体26,27と同様にして、予熱保持部23からの熱の放出を低減するようになっている。   FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating an example of the configuration of the lid 30. 11 includes four substantially plate-like sheets 301 and spacers in which openings are provided in plate-like members so as to correspond to the positions of the placement parts 232a to 232e in the preheating holding part 23. 302 are alternately stacked with the spacers 302 sandwiched between the sheets 301. Accordingly, the lid 30 is configured to reduce the release of heat from the preheat holding unit 23 in the same manner as the lids 26 and 27.

図12は、固定蓋体28,29の構成の一例を示す説明図である。固定蓋体28と固定蓋体29とは、略同一の構成にされており、蓋体26,27と同様に略板状のシート281が4枚と、冷却保持部22及び加熱保持部24における載置部222a〜222e及び載置部242a〜242eの位置と対応するように板状の部材に開口部が設けられたスペーサ282とが、スペーサ282をシート281の間に挟んで交互に積層されて構成されている。
これにより、固定蓋体28,29は、4枚のシート281によって3層の空気層を挟んだ断熱構造にされ、冷却保持部22への熱の侵入及び加熱保持部24からの熱の放出を低減するようになっている。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing an example of the configuration of the fixed lid bodies 28 and 29. The fixed lid body 28 and the fixed lid body 29 have substantially the same configuration. Like the lid bodies 26 and 27, the four substantially plate-like sheets 281, the cooling holding unit 22, and the heating holding unit 24 are used. Spacers 282 in which openings are provided in plate-like members so as to correspond to the positions of the placement portions 222 a to 222 e and the placement portions 242 a to 242 e are alternately stacked with the spacers 282 interposed between the sheets 281. Configured.
As a result, the fixed lids 28 and 29 have a heat insulating structure in which the three air layers are sandwiched between the four sheets 281, and the heat intrusion into the cooling holding unit 22 and the heat release from the heating holding unit 24 are prevented. It comes to reduce.

また、固定蓋体28,29の一方端側には、載置部222a〜222e及び載置部242a〜242eにおける載置部一箇所分と同じ又はより小さい大きさにされた開口部283が設けられている。開口部283は、移動式プローブ37,38を用いて冷却保持部22及び加熱保持部24に載置された被検査基板8の配線パターンの導通検査を行うための開口部で、載置部一箇所分の大きさ、すなわち移動式プローブ37,38による被検査基板8の検査のために必要な最小限の大きさにされているので、移動式プローブ37,38による検査中の被検査基板8以外の被検査基板8における温度変化を低減するようにされている。   In addition, on one end side of the fixed lid bodies 28 and 29, an opening 283 having the same or smaller size as that of one placement portion in the placement portions 222a to 222e and the placement portions 242a to 242e is provided. It has been. The opening 283 is an opening for performing a continuity test of the wiring pattern of the substrate 8 to be inspected placed on the cooling holding unit 22 and the heating holding unit 24 using the movable probes 37 and 38. Since the size of the portion, that is, the minimum size necessary for the inspection of the substrate 8 to be inspected by the mobile probes 37 and 38 is set, the substrate 8 to be inspected during the inspection by the mobile probes 37 and 38. The temperature change in the inspected substrate 8 other than the above is reduced.

図2に戻って、収納ワークホルダ25は、略長方形のテーブル状に構成されており、上面に、被検査基板8を五つ載置可能にされている。そして、収納ワークホルダ25の側部には、収納ワークホルダ25の上部に載置された五つの被検査基板8に向けて、空気乾燥機3から供給される常温の乾燥した空気を吹き付ける10本のノズル31が配設されている。収納ワークホルダ25には、加熱保持部24で例えば100°C程度の高温に加熱された被検査基板8が載置されるので、ノズル31によって収納ワークホルダ25上の被検査基板8に常温の空気を吹き付けることにより、被検査基板8を把持した際に人が火傷をすることのない40°C程度の温度まで被検査基板8を冷却する時間を短縮することができる。   Returning to FIG. 2, the storage work holder 25 is configured in a substantially rectangular table shape, and five substrates 8 to be inspected can be placed on the upper surface. Then, 10 pieces of dry air of normal temperature supplied from the air dryer 3 are sprayed on the side of the storage work holder 25 toward the five substrates 8 to be inspected placed on the upper part of the storage work holder 25. Nozzle 31 is provided. Since the inspected substrate 8 heated to a high temperature of, for example, about 100 ° C. by the heating holding unit 24 is placed on the storage work holder 25, the normal temperature is applied to the inspection substrate 8 on the storage work holder 25 by the nozzle 31. By blowing the air, it is possible to shorten the time for cooling the substrate to be inspected 8 to a temperature of about 40 ° C. when the substrate to be inspected 8 is gripped so that a person does not burn.

収納ワークホルダ25の端部には、取手252が取り付けられており、ユーザが取手252を引っ張ることにより、収納ワークホルダ25が筐体2から引き出されて収納ワークホルダ25に載置された検査済みの被検査基板8を取り出し可能にされている。   A handle 252 is attached to the end of the storage work holder 25, and when the user pulls the handle 252, the storage work holder 25 is pulled out of the housing 2 and placed on the storage work holder 25. The substrate 8 to be inspected can be taken out.

搬送部32の下部には、被検査基板8を吸着するバキュームヘッド321が五つ配設されており、図略の昇降機構により、五つのバキュームヘッド321がZ軸方向に昇降可能にされている。また、五つのバキュームヘッド321は、図略のチューブを介して吸引ポンプ39と接続され、被検査基板8を吸着して保持するようになっている。   Five vacuum heads 321 for adsorbing the substrate 8 to be inspected are arranged below the transport unit 32, and the five vacuum heads 321 can be moved up and down in the Z-axis direction by an unillustrated lifting mechanism. . Further, the five vacuum heads 321 are connected to the suction pump 39 via a tube (not shown) so as to suck and hold the substrate 8 to be inspected.

そして、搬送部32は、投入ワークホルダ21によって受け入れられ凹部211にはめ込まれた被検査基板8をバキュームヘッド321によって吸着して冷却保持部22における載置部222a〜222eへ搬送し、冷却保持部22に載置された被検査基板8をバキュームヘッド321によって吸着して予熱保持部23における載置部242a〜242eへ搬送し、予熱保持部23に載置された被検査基板8をバキュームヘッド321によって吸着して加熱保持部24における載置部242a〜242eへ搬送し、加熱保持部24に載置された被検査基板8をバキュームヘッド321によって吸着して収納ワークホルダ25へ搬送する。   Then, the transport unit 32 sucks the substrate 8 to be inspected received by the input work holder 21 and fitted in the recess 211 by the vacuum head 321 and transports it to the placement units 222 a to 222 e in the cooling holding unit 22. The substrate to be inspected 8 placed on the substrate 22 is sucked by the vacuum head 321 and conveyed to the placement units 242a to 242e in the preheating holding unit 23, and the substrate 8 to be inspected placed on the preheating holding unit 23 is vacuumed. The substrate to be inspected 8 placed on the heating and holding unit 24 is sucked by the vacuum head 321 and conveyed to the storage work holder 25.

符号33と符号34は撮像手段を示している。この撮像手段33、34は、例えば画像を作成するカメラを用いることができる。
撮像手段33及び撮像手段34は、冷却保持部22における載置部222a〜222e及び加熱保持部24における載置部242a〜242eにそれぞれ載置された被検査基板8のアライメントを行うための画像を撮影する。また、この撮像手段33,34によって撮影された画像はモニタ15へ出力され、ユーザが撮像手段33,34によって撮影された画像を確認できるようになっている。
この撮像手段33、34が撮影した画像情報は、制御手段へ送信されることになる。
Reference numerals 33 and 34 indicate imaging means. As the imaging means 33 and 34, for example, a camera for creating an image can be used.
The imaging unit 33 and the imaging unit 34 are images for alignment of the inspected substrates 8 placed on the placement units 222a to 222e in the cooling holding unit 22 and the placement units 242a to 242e in the heating holding unit 24, respectively. Take a picture. Further, the images photographed by the imaging means 33 and 34 are output to the monitor 15 so that the user can check the images photographed by the imaging means 33 and 34.
Image information captured by the image capturing means 33 and 34 is transmitted to the control means.

非接触温度計35,36は、例えば赤外線によって物体の表面温度を測定する非接触の温度計で、冷却保持部22における載置部222a〜222e及び加熱保持部24における載置部242a〜242eにそれぞれ載置された被検査基板8の温度を測定する。   The non-contact thermometers 35 and 36 are non-contact thermometers that measure the surface temperature of an object using, for example, infrared rays. The non-contact thermometers 35 and 36 are mounted on the mounting units 222 a to 222 e in the cooling holding unit 22 and the mounting units 242 a to 242 e in the heating holding unit 24. The temperature of each substrate 8 to be inspected is measured.

図13は、検査手段である一対の接触子からなる移動式プローブの詳細を示す外観図である。この検査手段である移動式プローブ37と移動式プローブ38とは、同様の構成にされており、弾性を有する線状の導電性材料からなる2本のプローブ371と、筒状体の内部に2本のプローブ371を貫通させて被検査基板8の検査点に略垂直に支持する支持部材372とを備えている。そして、2本のプローブ371における検査点と接触する部分である先端部373を除き、2本のプローブ371の表面には絶縁被覆が形成されている。また、2本のプローブ371における先端部373の反対側は、2本の信号線374を介して後述する検査制御手段50へそれぞれ接続されている。   FIG. 13 is an external view showing details of a movable probe including a pair of contacts as inspection means. The movable probe 37 and the movable probe 38 which are the inspection means have the same configuration, and two probes 371 made of a linear conductive material having elasticity, and 2 inside the cylindrical body. A support member 372 that penetrates the probe 371 and supports it substantially perpendicularly to the inspection point of the substrate 8 to be inspected is provided. In addition, an insulating coating is formed on the surfaces of the two probes 371 except for the tip portion 373 which is a portion in contact with the inspection point in the two probes 371. Further, the opposite sides of the distal end portion 373 of the two probes 371 are connected to an inspection control means 50 described later via two signal lines 374, respectively.

これにより、二つの検査点間における導通を検査する場合、一方の検査点に移動式プローブ37の2本のプローブ371を圧接し、他方の検査点に移動式プローブ38の2本のプローブ371を圧接し、移動式プローブ37における一方のプローブ371と移動式プローブ38における一方のプローブ371との間に電流を流し、移動式プローブ37における他方のプローブ371と移動式プローブ38における他方のプローブ371との間に生じた電圧を測定することにより、四端子測定法による高精度の抵抗測定を行うようにされている。   Thereby, when inspecting continuity between two inspection points, the two probes 371 of the movable probe 37 are pressed against one inspection point, and the two probes 371 of the movable probe 38 are connected to the other inspection point. A current is passed between one probe 371 in the movable probe 37 and one probe 371 in the movable probe 38, and the other probe 371 in the movable probe 37 and the other probe 371 in the movable probe 38 are By measuring the voltage generated between the two, a highly accurate resistance measurement is performed by a four-terminal measurement method.

また、この一対の接触子373を有する移動式プローブ37は、導体に接触した場合にその接触確認を行うことができる。この接触確認は、一対の接触子373の一方の端子373から他方の端子373へ電流を流すように動作する。このとき、導体に移動式プローブが接触していれば、一方の端子373から他方の端子へ電流が流れることになり、導体との接触確認を行うことができる。   In addition, the movable probe 37 having the pair of contacts 373 can confirm contact when contacting the conductor. This contact confirmation operates so that a current flows from one terminal 373 of the pair of contacts 373 to the other terminal 373. At this time, if the movable probe is in contact with the conductor, a current flows from one terminal 373 to the other terminal, so that contact with the conductor can be confirmed.

図14は、基板検査装置1の電気的構成の一例を示すブロック図である。図14に示す基板検査装置1は、操作表示部11,12、モニタ15、撮像手段33,34、非接触温度計35,36、吸引ポンプ39、移動式プローブ37,38、搬送駆動部40、プローブ駆動部49、検査制御手段50、制御手段60、温度調節器61,62,63、冷却器220、予熱用ヒータ235、及び加熱用ヒータ245を備えている。   FIG. 14 is a block diagram illustrating an example of an electrical configuration of the substrate inspection apparatus 1. The substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 14 includes operation display units 11 and 12, a monitor 15, imaging means 33 and 34, non-contact thermometers 35 and 36, a suction pump 39, movable probes 37 and 38, a transport drive unit 40, A probe driving unit 49, an inspection control unit 50, a control unit 60, temperature controllers 61, 62, and 63, a cooler 220, a preheating heater 235, and a heating heater 245 are provided.

温度調節器61,62,63は、制御手段60により設定された設定温度に応じて温度制御を行う制御回路によって構成されており、例えばPID制御等に基づく温度制御を行ういわゆる電子式温度調節器が用いられる。温度調節器61は、冷却プレート221の温度を制御手段60により設定された設定温度にさせるべく、冷却器220の動作を制御する。温度調節器62は、予熱プレート231の温度を制御手段60により設定された設定温度にさせるべく、予熱用ヒータ235の動作を制御する。温度調節器63は、加熱プレート241の温度を制御手段60により設定された設定温度にさせるべく、加熱用ヒータ245の動作を制御する。   The temperature controllers 61, 62, and 63 are configured by a control circuit that performs temperature control in accordance with the set temperature set by the control means 60. For example, a so-called electronic temperature controller that performs temperature control based on PID control or the like. Is used. The temperature controller 61 controls the operation of the cooler 220 so that the temperature of the cooling plate 221 becomes the set temperature set by the control means 60. The temperature controller 62 controls the operation of the preheating heater 235 so that the temperature of the preheating plate 231 is set to the set temperature set by the control means 60. The temperature controller 63 controls the operation of the heater 245 so that the temperature of the heating plate 241 is set to the set temperature set by the control means 60.

搬送駆動部40(蓋体開閉部)は、例えばモータやギア、ベルト等の駆動機構により構成されており、制御手段60からの制御信号に応じて、冷却保持部22をガイドレール41に沿ってY軸方向に移送したり、加熱保持部24をガイドレール42に沿ってY軸方向に移送したり、蓋体26をX軸方向にスライドさせて冷却保持部22の上部開口部を開閉したり、蓋体30をY軸方向にスライドさせて予熱保持部23の上部開口部を開閉したり、蓋体27をX軸方向にスライドさせて加熱保持部24の上部開口部を開閉したり、搬送部32をガイドレール43に沿ってX軸方向に移動させたり、バキュームヘッド321をZ軸方向に昇降させたりする。   The conveyance drive unit 40 (lid opening / closing unit) is configured by a drive mechanism such as a motor, a gear, or a belt, for example, and the cooling holding unit 22 is moved along the guide rail 41 in accordance with a control signal from the control unit 60. Transfer in the Y-axis direction, transfer the heating and holding unit 24 in the Y-axis direction along the guide rails 42, and slide the lid 26 in the X-axis direction to open and close the upper opening of the cooling holding unit 22 The lid 30 is slid in the Y-axis direction to open and close the upper opening of the preheating holding unit 23, the lid 27 is slid in the X-axis direction to open and close the upper opening of the heating holding unit 24, and the conveyance The part 32 is moved along the guide rail 43 in the X-axis direction, and the vacuum head 321 is moved up and down in the Z-axis direction.

プローブ駆動部49は、検査制御手段50からの制御信号に応じて、移動式プローブ37をガイドレール44,45に沿ってX,Y軸方向に移動させたり昇降機構47によってZ軸方向に昇降させたりする。また、プローブ駆動部49は、検査制御手段50からの制御信号に応じて、移動式プローブ38をガイドレール44,46に沿ってX,Y軸方向に移動させたり昇降機構48によってZ軸方向に昇降させたりする。   The probe driving unit 49 moves the movable probe 37 in the X and Y axis directions along the guide rails 44 and 45 in accordance with a control signal from the inspection control means 50 or moves it up and down in the Z axis direction by the lifting mechanism 47. Or The probe driving unit 49 moves the movable probe 38 in the X and Y axis directions along the guide rails 44 and 46 in accordance with a control signal from the inspection control means 50 or moves in the Z axis direction by the lifting mechanism 48. Move up and down.

検査制御手段50は、被検査基板8の検査を行う制御回路で、例えば所定の演算処理を実行するCPU(Central Processing Unit)と、所定の制御プログラムが記録されたROM(Read Only Memory)と、データを一時的に記録するRAM(Random Access Memory)と、その周辺回路等とを備えて構成されている。   The inspection control means 50 is a control circuit for inspecting the substrate 8 to be inspected. For example, a CPU (Central Processing Unit) that executes predetermined arithmetic processing, a ROM (Read Only Memory) in which a predetermined control program is recorded, It comprises a RAM (Random Access Memory) for temporarily recording data and its peripheral circuits.

具体的には、検査制御手段50は、制御手段60からの制御信号に応じて、プローブ駆動部49へ制御信号を出力して移動式プローブ37,38をそれぞれ被検査基板8におけるパット81等の検査点へ移動させると共に圧接させ、移動式プローブ37,38に接続された信号線374を介して二箇所の検査点間における抵抗値を四端子測定法により測定する。このとき、検査制御手段50は、制御手段60から得られた検査点の位置のアライメント情報に応じて、移動式プローブ37,38を圧接させる位置を補正するようになっている。   Specifically, the inspection control unit 50 outputs a control signal to the probe driving unit 49 in accordance with a control signal from the control unit 60 to cause the mobile probes 37 and 38 to be connected to the pads 81 and the like on the substrate 8 to be inspected. The resistance value between the two inspection points is measured by the four-terminal measurement method via the signal line 374 connected to the movable probes 37 and 38 while being moved to the inspection point and pressed. At this time, the inspection control means 50 corrects the position where the movable probes 37 and 38 are pressed in accordance with the alignment information of the position of the inspection point obtained from the control means 60.

そして、検査制御手段50は、被検査基板8において予め設定された全ての検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値以下であれば、当該被検査基板8は良品であると判定してその判定結果を示す信号を制御手段60へ出力する一方、被検査基板8において予め設定されたいずれかの検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値を超えていれば、当該被検査基板8は当該検査点間に導通不良があるものと判定し、その判定結果を示す信号を制御手段60へ出力する。   Then, the inspection control means 50 determines that the substrate 8 to be inspected is a non-defective product if the resistance value is not more than a preset threshold value between all the inspection points set in advance on the substrate 8 to be inspected. While a signal indicating the determination result is output to the control means 60, if the resistance value exceeds a preset threshold between any of the preset inspection points in the inspected substrate 8, the inspected substrate 8 determines that there is a continuity failure between the inspection points, and outputs a signal indicating the determination result to the control means 60.

なお、検査制御手段50は、被検査基板8の良否判定を行うことなく各検査点間における抵抗測定値を制御手段60へ出力してもよい。また、温度ストレスにより各検査点間において生じる抵抗値の変化は微小なものとなるので、高精度の抵抗値測定が可能な四端子測定法が適しているが、基本的には検査制御手段50は、検査点間の抵抗測定を行うものであればよい。従って、検査制御手段50は、必ずしも四端子測定法による抵抗測定を行うものに限られず、移動式プローブ37,38は、それぞれ一本ずつプローブ371を備えるものであってもよい。   The inspection control unit 50 may output the resistance measurement value between the inspection points to the control unit 60 without performing pass / fail determination of the substrate 8 to be inspected. In addition, since the change in resistance value generated between the inspection points due to temperature stress is very small, the four-terminal measurement method capable of measuring the resistance value with high accuracy is suitable. May be any device that measures resistance between inspection points. Therefore, the inspection control means 50 is not necessarily limited to performing resistance measurement by the four-terminal measurement method, and each of the mobile probes 37 and 38 may include one probe 371.

また、移動式プローブ37,38の代わりに複数の検査点に多針状に保持された複数の検査用接触子を同時に押し当てて接触させ、それら複数の検査用接触子との間で選択的に検査用信号を入出力することにより各検査点間の抵抗測定を行うようにしてもよい。あるいは、移動式プローブ37,38の代わりに静電容量やレーザ光等を用いて非接触で配線パターンの検査を行うようにしてもよい。   Further, instead of the movable probes 37 and 38, a plurality of inspection contacts held in a multi-needle shape are simultaneously pressed and brought into contact with a plurality of inspection points, and selective between the plurality of inspection contacts. Alternatively, the resistance between the inspection points may be measured by inputting / outputting inspection signals. Alternatively, the wiring pattern may be inspected in a non-contact manner using capacitance, laser light, or the like instead of the movable probes 37 and 38.

制御手段60は、基板検査装置1における全体の動作を制御する制御回路で、例えば所定の演算処理を実行するCPUと、所定の制御プログラムが記録されたROMと、データを一時的に記録するRAMと、その周辺回路等とを備えて構成されている。
具体的には、制御手段60は、操作表示部11,12によって受け付けられたユーザの操作指示を示す信号を受信して、当該操作指示に応じて温度調節器61,62,63へ制御信号を出力し、温度調節器61,62,63の設定温度を設定することにより、温度調節器61,62,63による温度制御を開始させ、被検査基板8の冷却、加熱に先立って、予め冷却保持部22における冷却プレート221を所定の設定温度、例えば0°Cに冷却させ、予熱保持部23及び加熱保持部24における予熱プレート231及び加熱プレート241を所定の設定温度、例えば100°Cに加熱させる。
The control means 60 is a control circuit that controls the overall operation of the board inspection apparatus 1. For example, a CPU that executes predetermined arithmetic processing, a ROM that stores a predetermined control program, and a RAM that temporarily stores data. And its peripheral circuits and the like.
Specifically, the control means 60 receives a signal indicating a user's operation instruction received by the operation display units 11 and 12, and sends a control signal to the temperature regulators 61, 62, and 63 in accordance with the operation instruction. The temperature control by the temperature regulators 61, 62, 63 is started by outputting and setting the set temperatures of the temperature regulators 61, 62, 63, and the temperature is held in advance prior to cooling and heating of the inspected substrate 8. The cooling plate 221 in the unit 22 is cooled to a predetermined set temperature, for example, 0 ° C., and the preheating plate 231 and the heating plate 241 in the preheating holding unit 23 and the heating holding unit 24 are heated to a predetermined set temperature, for example, 100 ° C. .

また、制御手段60は、吸引ポンプ39に制御信号を出力して吸引動作を開始させ、被検査基板8を載置部222a〜222e、載置部232a〜232e、載置部242a〜242e、及びバキュームヘッド321に吸着させる。   In addition, the control means 60 outputs a control signal to the suction pump 39 to start the suction operation, and places the inspected substrate 8 on the placement portions 222a to 222e, the placement portions 232a to 232e, the placement portions 242a to 242e, and Adsorbed to the vacuum head 321.

そして、制御手段60は、搬送駆動部40へ制御信号を出力して被検査基板8を冷却保持部22、予熱保持部23、及び加熱保持部24に順次搬送させつつ、検査制御手段50に制御信号を出力して被検査基板8が冷却された状態と、加熱された状態とにおいて基板検査を行わせる。また、制御手段60は、検査制御手段50による被検査基板8の検査に際して、非接触温度計35,36により測定された被検査基板8の温度を取得して予め設定された温度範囲となっていることを確認し、撮像手段33及び撮像手段34により撮影された被検査基板8の画像から検査位置のアライメント情報を取得して検査制御手段50へ送信した後、検査制御手段50による被検査基板8の検査を実行させる。   Then, the control unit 60 outputs a control signal to the transport driving unit 40 to control the inspection control unit 50 while transporting the inspected substrate 8 sequentially to the cooling holding unit 22, the preheating holding unit 23, and the heating holding unit 24. A substrate is inspected in a state in which a signal is output and the inspected substrate 8 is cooled and in a heated state. Further, the control means 60 acquires the temperature of the inspected substrate 8 measured by the non-contact thermometers 35 and 36 when the inspection control means 50 inspects the inspected substrate 8, and has a preset temperature range. The inspection position alignment information is acquired from the images of the inspected substrate 8 imaged by the imaging means 33 and the imaging means 34 and transmitted to the inspection control means 50, and then the inspected substrate by the inspection control means 50 is obtained. 8 inspections are executed.

また、この制御手段60は、上記の如き基板8を検査するために動作するとともに、撮像部と検査部において基板が載置される載置台での位置情報を補正するための位置情報を作成する。この補正位置情報を基にして、移動式プローブ37,38の動作を制御する。
この制御手段60は、撮像手段によって取得される第一位置情報と、検査手段(移動式プローブ)によって取得される第二位置情報を受信する。
制御手段60は、これら第一位置情報と第二位置情報を比較し、その差分を算出することによって、位置ズレ情報として把握し、この位置ズレ情報を補正位置情報として、移動式プローブ(検査手段)37,38に転送することによって、撮像部と検査部との位置ズレを補正することができる。
The control unit 60 operates to inspect the substrate 8 as described above, and creates position information for correcting position information on the mounting table on which the substrate is mounted in the imaging unit and the inspection unit. . Based on the corrected position information, the operation of the movable probes 37 and 38 is controlled.
The control means 60 receives first position information acquired by the imaging means and second position information acquired by the inspection means (movable probe).
The control means 60 compares the first position information with the second position information, calculates the difference, and grasps it as position deviation information. The position deviation information is used as corrected position information, and a mobile probe (inspection means) is obtained. ) 37, 38, the positional deviation between the imaging unit and the inspection unit can be corrected.

この制御手段60が受信する第一位置情報と第二位置情報は、基板8の位置情報を示す情報であるが、この位置情報を取得する場合には、基準となる基準基板を作成して、位置合わせ情報を取得することが好ましい。
このため、まず、基準基板(マスターピース)について説明する。
The first position information and the second position information received by the control means 60 are information indicating the position information of the substrate 8, but when obtaining the position information, a reference substrate serving as a reference is created, It is preferable to obtain alignment information.
Therefore, first, the reference substrate (master piece) will be described.

この基準基板は、どのような形状や模様を有していても構わないが、図15(a)で示される如き基板であることが好ましい。この図6で示される基板8(基準基板)では、検査対象となる基板と同じ外形を有し(図9では略正方形)、基板8の中央に中央点84f、その中央点84から水平方向と垂直方向に夫々所定距離d離れた位置に周縁点84a,84b、84c、85dが設けられている。これらの点は、導電性の素材で形成されるとともに撮像手段37,38が撮像する画像において、その存在や位置が認識することができるように形成されている。
この基準基板自体は、絶縁性の素材で形成されており、中央点と周縁点のみが導電性の素材で形成されていることになる。
また、この基板8の中央点84fの周縁には、中央点84fと色彩の相違する周縁部84eが設けられ、より確実に中央点84fを確実に把握することができるように形成されている。
これらの点は、撮像手段33,34の分解能や移動式プローブ37,38の一対の接触子の離間距離の影響を受けるが、略1mmの直径の円を形成するように設けられる。
The reference substrate may have any shape or pattern, but is preferably a substrate as shown in FIG. The substrate 8 (reference substrate) shown in FIG. 6 has the same outer shape as the substrate to be inspected (substantially square in FIG. 9), a central point 84f at the center of the substrate 8, and a horizontal direction from the central point 84. Peripheral points 84a, 84b, 84c, and 85d are provided at positions separated by a predetermined distance d in the vertical direction. These points are formed of a conductive material and are formed so that their presence and position can be recognized in images captured by the imaging means 37 and 38.
The reference substrate itself is formed of an insulating material, and only the center point and the peripheral point are formed of a conductive material.
Further, a peripheral edge portion 84e having a color different from that of the central point 84f is provided at the peripheral edge of the central point 84f of the substrate 8 so that the central point 84f can be surely grasped more reliably.
Although these points are affected by the resolution of the imaging means 33 and 34 and the distance between the pair of contacts of the movable probes 37 and 38, they are provided so as to form a circle having a diameter of approximately 1 mm.

撮像手段が取得する第一位置情報について説明する。
撮像手段33、34(以下、34の符号省略)が取得する第一位置情報は、撮像手段33が基板を撮像することにより作成される。
まず、撮像手段33は、基板8の中央点84fを探す。この中央点84fを探す方法は、特に限定されないが、撮像手段33が撮像する画像から基板8の周縁(辺)を画像認識により割り出し、その周縁から基板8の略中央を算出する。その後、略中央近辺に撮像手段33を移動させて、中央点84fを画像認識により探し出す。
First position information acquired by the imaging unit will be described.
The first position information acquired by the imaging units 33 and 34 (hereinafter, reference numeral 34 is omitted) is created when the imaging unit 33 images the substrate.
First, the imaging means 33 searches for the center point 84 f of the substrate 8. The method of searching for the center point 84f is not particularly limited, but the peripheral edge (side) of the substrate 8 is determined by image recognition from the image captured by the imaging means 33, and the approximate center of the substrate 8 is calculated from the peripheral edge. Thereafter, the imaging means 33 is moved to approximately the vicinity of the center, and the center point 84f is found by image recognition.

中央点84fが探し出されると、基準基板8の水平方向又は垂直方向の2点の周縁点84a,84b又は周縁点84c,84dが探される。
この2点の周縁点を探す方法は、中央点84fの位置情報から2点の周縁点の位置をある程度割り出すことができるので、概略的な位置まで撮像手段33を移動させる。そして、中央点84fの位置を探したように撮像手段33が撮像する画像認識によって、この一方の周縁点を探す。一方の周縁点を探し出されると、同様にして、他方の周縁点を中央点84fからのおおよその位置を割り出し、その近傍を画像認識により他方の周縁点を探し出す。
When the center point 84f is found, two peripheral points 84a and 84b or peripheral points 84c and 84d in the horizontal direction or the vertical direction of the reference substrate 8 are searched.
In this method of searching for the two peripheral points, the positions of the two peripheral points can be determined to some extent from the position information of the central point 84f, and therefore the imaging means 33 is moved to an approximate position. And this one peripheral point is searched for by the image recognition which the imaging means 33 images as if it searched for the position of the center point 84f. When one peripheral point is found, the other peripheral point is similarly determined from the central point 84f, and the other peripheral point is searched for the vicinity by image recognition.

2点の周縁点(例えば、周縁点84a,84b)が探し出される(中央点84fと2点の周縁点の位置情報が取得される)と、予め設定された基準軸に対して基準基板8がどの程度回転されているかの情報を取得する。
例えば、基準軸に対して中央点84fと2点の周縁点の3点による直線が基準軸とどのような位置関係にあるかを算出することによって、基準基板8が基準軸に対してどの程度回転しているか(例えば、基準軸からθ度回転)の情報を取得することができる。
以上の説明の如く、第一位置情報は、撮像部における基準基板8の中央点84fの位置情報と基準基板8の基準軸に対する回転位置情報(角度情報)を含んでいる。
尚、この第一位置情報は、2点の周縁点の夫々の位置情報を含ませても良い。
When two peripheral points (for example, peripheral points 84a and 84b) are found (position information of the central point 84f and the two peripheral points is acquired), the reference substrate 8 is set with respect to a preset reference axis. Get information on how much has been rotated.
For example, by calculating the positional relationship between the reference axis and the straight line formed by the three points of the central point 84f and the two peripheral points with respect to the reference axis, how much the reference substrate 8 is relative to the reference axis. It is possible to acquire information on whether the rotation is occurring (for example, θ degree rotation from the reference axis).
As described above, the first position information includes the position information of the center point 84f of the reference board 8 and the rotation position information (angle information) with respect to the reference axis of the reference board 8 in the imaging unit.
The first position information may include position information of each of the two peripheral points.

検査手段が取得する第二位置情報について説明する。
検査手段37、38(以下、38の符号省略)が取得する第二位置情報は、検査手段37が実際に基準基板8に接触することにより作成される。
検査手段37は、図13で示す如く、一対の接触子373を有しており、この一対の接触子373間の導通の有無を用いることによって、基準基板8の位置情報を取得する。
基板8の中央点84fは、導電性の素材で形成されている。このため、一対の接触子373がこの中央点84fに接触した場合には、一対の接触子373間は導通状態となる。つまり、中央点84fや周縁点84a,・・・、84dに一対の接触子373が接触すると、一対の接触子373は導通状態となるため、この導通の有無を確認することにより、中央点や周縁点の位置情報を取得することができる。
The second position information acquired by the inspection unit will be described.
The second position information acquired by the inspection means 37 and 38 (hereinafter, reference numeral 38 is omitted) is created when the inspection means 37 actually contacts the reference substrate 8.
As shown in FIG. 13, the inspection unit 37 has a pair of contacts 373, and acquires the position information of the reference substrate 8 by using the presence or absence of conduction between the pair of contacts 373.
The central point 84f of the substrate 8 is formed of a conductive material. For this reason, when a pair of contact 373 contacts this center point 84f, between a pair of contact 373 will be in a conduction | electrical_connection state. That is, when the pair of contacts 373 come into contact with the center point 84f and the peripheral points 84a,..., 84d, the pair of contacts 373 are in a conductive state. The position information of the peripheral point can be acquired.

この検査手段37が第二位置情報を取得する方法は、撮像手段33と同様に、まず、中央点84fの位置情報を取得する。この方法は、上記の如く、まず、検査手段37を中央付近に移動させ、一対の接触子373を基準基板に接触させて、その導通の有無を確認することによって、中央点84fを探し出す。一対の接触子373が導通状態になると、その位置に中央点84fが存在することになり、中央点84fの位置情報が取得される。
中央点84fの位置情報が取得されると、撮像手段33の場合と同様、基準基板8の水平方向又は垂直方向の2点の周縁点84a,84b又は周縁点84c,84dが探される。
この2点の周縁点84a,84bも、中央点84fの位置情報取得と同様に、中央点84fから所定距離d離れた位置において、一対の接触子373が基準基板8に接触され、導通の有無の検査が繰り返し行われて、一方の周縁点と他方の周縁点が探し出される。
The inspection unit 37 obtains the second position information by first obtaining the position information of the center point 84f as in the imaging unit 33. In this method, as described above, first, the inspection means 37 is moved to the vicinity of the center, the pair of contacts 373 are brought into contact with the reference substrate, and the presence / absence of the conduction is confirmed to find the center point 84f. When the pair of contacts 373 becomes conductive, the center point 84f exists at that position, and the position information of the center point 84f is acquired.
When the position information of the center point 84f is acquired, the two peripheral points 84a and 84b or the peripheral points 84c and 84d in the horizontal direction or the vertical direction of the reference substrate 8 are searched as in the case of the imaging unit 33.
Similarly to the acquisition of the position information of the center point 84f, the two peripheral points 84a and 84b are also brought into contact with the reference substrate 8 at a position away from the center point 84f by a predetermined distance d, and the presence or absence of conduction. These inspections are repeated to find one peripheral point and the other peripheral point.

検査手段37が、中央点84fと2点の周縁点の位置情報が夫々取得されると、第一位置情報の取得の場合と同様に、予め設定された基準軸に対して基準基板8がどの程度回転されているかの情報を取得する。
例えば、基準軸に対して中央点84fと2点の周縁点の3点による直線が基準軸とどのような位置関係にあるかを算出することによって、基準基板8が基準軸に対してどの程度回転しているか(例えば、基準軸からθ度回転)の情報を取得することができる。
図15(b)は、撮像手段と検査手段が取得する基板の位置情報の相違を検出する場合の概念図である。この図15(b)では、撮像手段が取得した基準基板8bの位置情報(図中点線で示す)と検査手段が取得した基準基板8aの位置情報が示されており、これらの基準基板8のズレが角度θとして示されている。この図15(b)では、撮像手段による基板の位置情報(第一位置情報)を基に検査手段による基板の位置情報(第二位置情報)のズレを示している。
以上の説明の如く、第二位置情報は、検査部における基準基板8の中央点84fの位置情報と基準基板8の基準軸に対する回転位置情報(角度情報)を含んでいる。
尚、この第二位置情報は、2点の周縁点の夫々の位置情報を含ませても良い。
When the inspection unit 37 acquires the position information of the center point 84f and the two peripheral points, as in the case of the acquisition of the first position information, which of the reference substrates 8 is set with respect to the reference axis set in advance. Get information about whether it is rotated to some extent.
For example, by calculating the positional relationship between the reference axis and the straight line formed by the three points of the central point 84f and the two peripheral points with respect to the reference axis, how much the reference substrate 8 is relative to the reference axis. It is possible to acquire information on whether the rotation is occurring (for example, θ degree rotation from the reference axis).
FIG. 15B is a conceptual diagram in the case of detecting a difference in substrate position information acquired by the imaging unit and the inspection unit. In FIG. 15B, position information (indicated by a dotted line in the figure) of the reference substrate 8b acquired by the imaging unit and position information of the reference substrate 8a acquired by the inspection unit are shown. The deviation is shown as angle θ. FIG. 15B shows a deviation of the substrate position information (second position information) by the inspection unit based on the substrate position information (first position information) by the imaging unit.
As described above, the second position information includes the position information of the center point 84f of the reference substrate 8 and the rotation position information (angle information) of the reference substrate 8 with respect to the reference axis in the inspection unit.
The second position information may include position information of each of the two peripheral points.

この検査手段37が基準基板8から取得する情報には、z方向の高さ情報を含ませることもできる。これは、基準基板8の中央点84fの位置情報が取得された際に、この中央点84fに高さ制御を行いながら一対の接触子373を接触させることにより、高さ方向の位置情報を取得する。この方法によって、中央点84fの高さ方向(z方向)の位置情報を取得して、第二位置情報として用いることができる。   The information acquired from the reference substrate 8 by the inspection means 37 can include height information in the z direction. This is because, when the position information of the center point 84f of the reference substrate 8 is acquired, the position information in the height direction is acquired by bringing the pair of contacts 373 into contact with the center point 84f while performing height control. To do. By this method, position information in the height direction (z direction) of the center point 84f can be acquired and used as second position information.

制御手段60が第一位置情報と第二位置情報を受信すると、この制御手段60は、第一位置情報と第二位置情報を比較することによって、撮像部と検査部のずれを検出する。このズレが補正位置情報として取得される。制御手段60は、この補正位置情報を基に撮像手段33、34が取得する検査対象の基板8の位置情報を補正し、検査手段37,38に転送する。
このため、検査手段37、38は、撮像部における基板の位置情報から検査部における基板の位置情報を用いて検査を行うことができ、より正確な基板の位置を把握することができる。撮像部と検査部とが相違する位置に配置されていても、より正確に位置情報を把握することができる。
以上が本発明に係る基板検査装置の構成の説明である。
When the control means 60 receives the first position information and the second position information, the control means 60 compares the first position information and the second position information to detect a deviation between the imaging unit and the inspection unit. This deviation is acquired as correction position information. The control unit 60 corrects the position information of the substrate 8 to be inspected acquired by the imaging units 33 and 34 based on the corrected position information, and transfers it to the inspection units 37 and 38.
For this reason, the inspection means 37 and 38 can perform inspection using the position information of the substrate in the inspection unit from the position information of the substrate in the imaging unit, and can grasp the more accurate position of the substrate. Even if the imaging unit and the inspection unit are arranged at different positions, the position information can be grasped more accurately.
The above is the description of the configuration of the substrate inspection apparatus according to the present invention.

次に、本基板検査装置1の基準基板8を用いた基板の位置合わせ方法について説明する。図16は、本発明にかかる基板の位置合わせ方法のフローチャートである。
まず、投入ワークホルダ21に基準基板8(図15参照)を5個投入する(ステップA)。
次に、投入された基準基板8が搬送部32により冷却保持部22の載置部に載置される。このとき、図17で示される如く、所定の温度となるまで基準基板8が冷却される(ステップB)。
Next, a substrate alignment method using the reference substrate 8 of the substrate inspection apparatus 1 will be described. FIG. 16 is a flowchart of the substrate alignment method according to the present invention.
First, five reference substrates 8 (see FIG. 15) are loaded into the loading work holder 21 (step A).
Next, the input reference substrate 8 is placed on the placement unit of the cooling holding unit 22 by the transport unit 32. At this time, as shown in FIG. 17, the reference substrate 8 is cooled until a predetermined temperature is reached (step B).

基準基板8が所定温度まで冷却されると、次に、図18で示される如く、撮像部まで5個の基準基板8が移動される。
このとき、撮像手段33が、各基準基板8に対して、第一位置情報を取得する(ステップC)。
この第一位置情報は、上記の如き撮像部における基準基板8の中央点84fの位置情報と基準基板の回転位置情報を含んでいる。取得された第一位置情報は、制御手段60へ送信される。
When the reference substrate 8 is cooled to a predetermined temperature, next, as shown in FIG. 18, five reference substrates 8 are moved to the imaging unit.
At this time, the imaging means 33 acquires the first position information for each reference substrate 8 (step C).
This first position information includes the position information of the center point 84f of the reference substrate 8 and the rotation position information of the reference substrate in the imaging unit as described above. The acquired first position information is transmitted to the control means 60.

第一位置情報が撮像手段33により取得されると、5個の基準基板8は、図19で示される検査部へ移動される。
このとき、検査手段37が、各基準基板8に対して、第二位置情報を取得する(ステップD)。
この第二位置情報は、上記の如き検査部における基準基板8の中央点84fの位置情報と基準基板の回転位置情報を含んでいる。取得された第二位置情報は、制御手段60へ送信される。
When the first position information is acquired by the imaging means 33, the five reference substrates 8 are moved to the inspection unit shown in FIG.
At this time, the inspection unit 37 acquires second position information for each reference substrate 8 (step D).
This second position information includes the position information of the center point 84f of the reference substrate 8 and the rotation position information of the reference substrate in the inspection section as described above. The acquired second position information is transmitted to the control means 60.

制御手段60は、第一位置情報と第二位置情報を受信すると、これらの位置情報の差分である補正位置情報を算出する(ステップE)。
このとき、算出された補正位置情報は、制御手段60が有するメモリなどの記憶手段に記憶されて、実際に検査対象の基板が検査される場合にこの補正位置情報を用いることによって、検査手段(移動式プローブ)の移動を制御する(ステップF)。
尚、本実施形態で示される基板検査装置1では、加熱保持部24も同様に上記の方法を行うことによって、
When receiving the first position information and the second position information, the control means 60 calculates corrected position information that is a difference between these position information (step E).
At this time, the calculated corrected position information is stored in a storage unit such as a memory included in the control unit 60, and the corrected position information is used when the substrate to be inspected is actually inspected. The movement of the movable probe) is controlled (Step F).
In addition, in the board | substrate inspection apparatus 1 shown by this embodiment, the heating holding | maintenance part 24 carries out said method similarly,

次に、上述のように構成された基板検査装置1の動作について説明する。まず、空気乾燥機3及び空気冷却機4の電源が投入されると、空気乾燥機3及び空気冷却機4によって乾燥空気がドライエア吹出口51から筐体2内に供給されると共に筐体2内の空気がドライエア排出口52から空気冷却機4へ戻されて循環し、筐体2内に乾燥空気が充満する。これにより、冷却保持部22で冷却される被検査基板8の表面や、冷却保持部22の表面、及びその周辺部等、低温になる部分で結露が発生することが抑制される。   Next, the operation of the substrate inspection apparatus 1 configured as described above will be described. First, when the power of the air dryer 3 and the air cooler 4 is turned on, dry air is supplied from the dry air outlet 51 into the housing 2 by the air dryer 3 and the air cooler 4 and the housing 2 The air is returned to the air cooler 4 from the dry air discharge port 52 and circulates, and the housing 2 is filled with dry air. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of dew condensation at a low temperature portion such as the surface of the substrate 8 to be inspected cooled by the cooling holding unit 22, the surface of the cooling holding unit 22, and its peripheral part.

次に、空気乾燥機6の電源が投入されると、空気乾燥機6によって例えば露点温度−60°Cの乾燥した空気が冷却保持部22における冷却プレート221に設けられた孔226から載置部222a〜222eへ供給される。これにより、最も低温となる載置部222a〜222eにおいて結露が発生することが抑制される。   Next, when the power of the air dryer 6 is turned on, the air dried by the air dryer 6, for example, with a dew point temperature of −60 ° C., is placed from the hole 226 provided in the cooling plate 221 in the cooling holding unit 22. 222a to 222e. Thereby, it is suppressed that dew condensation occurs in mounting part 222a-222e used as the lowest temperature.

図20、図21は、基板検査装置1の動作を説明するための説明図である。以下、図2、図14、図20、図21を参照しつつ、基板検査装置1の動作を説明する。まず、操作表示部11によって、ユーザからの検査の実行を開始する旨の操作指示が受け付けられると、制御手段60からの制御信号に応じて、吸引ポンプ39による吸引が開始され、載置部222a〜222e、載置部232a〜232e、載置部242a〜242e、及びバキュームヘッド321が、被検査基板8を吸引可能な状態にされる。   20 and 21 are explanatory diagrams for explaining the operation of the substrate inspection apparatus 1. Hereinafter, the operation of the substrate inspection apparatus 1 will be described with reference to FIGS. 2, 14, 20, and 21. First, when the operation display unit 11 accepts an operation instruction to start execution of an examination from the user, suction by the suction pump 39 is started in accordance with a control signal from the control means 60, and the placement unit 222a. ˜222e, the placement portions 232a˜232e, the placement portions 242a˜242e, and the vacuum head 321 are brought into a state capable of sucking the substrate 8 to be inspected.

次に、制御手段60によって、温度調節器61の設定温度を例えば0°Cに設定する旨の制御信号が出力され、温度調節器61によって、冷却器220の動作が制御されて冷却保持部22における冷却プレート221の温度が例えば0°Cにされる(ステップS1)。   Next, a control signal for setting the set temperature of the temperature regulator 61 to, for example, 0 ° C. is output by the control means 60, and the operation of the cooler 220 is controlled by the temperature regulator 61, and the cooling holding unit 22. The temperature of the cooling plate 221 is set to 0 ° C., for example (step S1).

同様に、制御手段60によって、温度調節器62,63の設定温度を例えば100°Cに設定する旨の制御信号が出力され、温度調節器62によって予熱用ヒータ235の動作が制御されて予熱保持部23における予熱プレート231の温度が100°Cにされる(ステップS2)と共に、温度調節器63によって加熱用ヒータ245の動作が制御されて加熱保持部24における加熱プレート241の温度が100°Cにされる(ステップS3)。   Similarly, the control means 60 outputs a control signal for setting the set temperature of the temperature regulators 62 and 63 to, for example, 100 ° C., and the operation of the preheating heater 235 is controlled by the temperature regulator 62 to keep the preheat. The temperature of the preheating plate 231 in the unit 23 is set to 100 ° C. (step S2), and the operation of the heating heater 245 is controlled by the temperature controller 63 so that the temperature of the heating plate 241 in the heating holding unit 24 is 100 ° C. (Step S3).

これにより、冷却保持部22による被検査基板8の冷却、予熱保持部23による被検査基板8の予熱、及び加熱保持部24による被検査基板8の加熱に先立って、予め冷却プレート221が所定の設定温度に冷却され、予熱プレート231及び加熱プレート241が所定の設定温度に加熱されると共に、冷却プレート221、予熱プレート231及び加熱プレート241の温度がそれぞれ設定温度に維持される。   Thus, prior to cooling of the substrate 8 to be inspected by the cooling holding unit 22, preheating of the substrate 8 to be inspected by the preheating holding unit 23, and heating of the substrate 8 to be inspected by the heating holding unit 24, the cooling plate 221 is set in advance. Cooling to the set temperature, the preheating plate 231 and the heating plate 241 are heated to a predetermined setting temperature, and the temperatures of the cooling plate 221, the preheating plate 231 and the heating plate 241 are respectively maintained at the set temperatures.

次に、ユーザが取手212を引っ張ることにより投入ワークホルダ21が筐体2から引き出され、ユーザが投入ワークホルダ21の五箇所の凹部211に五つの被検査基板8をはめ込むように載置して投入ワークホルダ21を押し込むことにより、被検査基板8が基板検査装置1に投入され、受け入れられる(ステップS4)。   Next, when the user pulls the handle 212, the input work holder 21 is pulled out of the housing 2, and the user places the five inspected substrates 8 into the five concave portions 211 of the input work holder 21. By pushing the input work holder 21, the inspected substrate 8 is input to the substrate inspection apparatus 1 and received (step S4).

次に、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送部32により、投入ワークホルダ21に載置された五つの被検査基板8が冷却保持部22における載置部222a,222b,222c,222d,222eへそれぞれ搬送される(ステップS5)。
そうすると、被検査基板8は、図7に示す載置部222aにおいて、ダイ82が凹部227にはめ込まれてダイ82の表面がシート部材272に密着し、被検査基板8におけるダイ82の周囲の基板部分がシート部材229に密着する。この場合、シート部材229,272は弾性を有するので、被検査基板8との密着度が向上する。
Next, in response to a control signal from the control means 60, the five inspected substrates 8 placed on the input work holder 21 are placed on the placement holders 222 a, 222 b, 222 c, and 222 d by the transport unit 32. , 222e (step S5).
Then, the substrate 8 to be inspected has the die 82 fitted into the recess 227 in the mounting portion 222a shown in FIG. 7 so that the surface of the die 82 is in close contact with the sheet member 272, and the substrate around the die 82 in the substrate 8 to be inspected. The portion is in close contact with the sheet member 229. In this case, since the sheet members 229 and 272 have elasticity, the degree of adhesion with the inspected substrate 8 is improved.

そして、吸引ポンプ39によって孔228から空気が吸引されるので、被検査基板8が吸着されてシート部材229,272に押し付けられ、さらに密着度が向上される。この場合、例えば被検査基板8に反りがある等、被検査基板8が平坦でない場合には、被検査基板8を載置部222aに載置しただけでは被検査基板8の表面がシート部材229,272と密着せず、部分的に浮き上がってしまうおそれがある。   Since air is sucked from the hole 228 by the suction pump 39, the substrate 8 to be inspected is sucked and pressed against the sheet members 229 and 272, and the degree of adhesion is further improved. In this case, for example, when the substrate 8 to be inspected is not flat, for example, when the substrate 8 to be inspected is warped, the surface of the substrate 8 to be inspected is simply placed on the mounting portion 222a. , 272 and may partially float.

しかし、載置部222aにおいては孔228から空気が吸引され、被検査基板8が吸着されてシート部材229,272に押し付けられるので、被検査基板8に反りがある場合であっても被検査基板8とシート部材229,272との密着度を向上させることができる。また、シート部材272には、孔228から放射状に形成された溝271が形成されているので被検査基板8の吸着面積が拡大し、載置部222aにおける被検査基板8の吸着力を向上させることができる。
さらに、被検査基板8がダイ82と逆側に凸に反っている場合、載置部222aにおいてダイ82、すなわち被検査基板8の中央部付近を吸着することにより基板の反りが矯正される。
なお、載置部222aを例に説明したが、載置部222b〜222eにおいても同様に、被検査基板8が吸着されてシート部材229,272と密着される。
However, in the mounting portion 222a, air is sucked from the holes 228, and the substrate 8 to be inspected is adsorbed and pressed against the sheet members 229 and 272. Therefore, even if the substrate 8 to be inspected is warped, 8 and the sheet members 229 and 272 can be improved. Further, since the sheet member 272 has grooves 271 formed radially from the holes 228, the suction area of the substrate 8 to be inspected is expanded, and the suction force of the substrate 8 to be inspected in the mounting portion 222a is improved. be able to.
Further, when the substrate 8 to be inspected is convexly warped on the opposite side to the die 82, the warp of the substrate is corrected by attracting the die 82, that is, the vicinity of the center of the substrate 8 to be inspected, in the mounting portion 222a.
Although the placement unit 222a has been described as an example, similarly in the placement units 222b to 222e, the substrate 8 to be inspected is adsorbed and brought into close contact with the sheet members 229 and 272.

そして、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって蓋体26が冷却保持部22の上部にスライド移動され、載置部222a〜222eにおける側壁部223及び仕切板224の上端部からなる開口部が蓋体26によって閉蓋される。この場合、側壁部223及び仕切板224からなる上端開口部と、蓋体26とは、スライド可能な程度に微少な間隔を空けて閉蓋されるようになっている。   Then, according to a control signal from the control means 60, the lid 26 is slid to the upper part of the cooling holding part 22 by the transport driving part 40, and the upper end part of the side wall part 223 and the partition plate 224 in the placement parts 222a to 222e. The opening made of is closed by the lid body 26. In this case, the upper end opening made up of the side wall 223 and the partition plate 224 and the lid 26 are closed with a very small interval so as to be slidable.

これにより、載置部222a〜222eにおいて吸着された被検査基板8は、側壁部223,仕切板224、及び蓋体26によって覆われ、外気から略遮断される。また、蓋体26は、4枚のシート261によって3層の空気層を挟んだ断熱構造にされているので、側壁部223,仕切板224、及び蓋体26によって覆われた空間への外部からの熱の侵入や、被検査基板8周辺の気流の乱れが低減される。この場合、側壁部223,仕切板224、及び蓋体26によって、カバー部材が構成されている。   Thereby, the to-be-inspected substrate 8 adsorbed on the placement portions 222a to 222e is covered with the side wall portion 223, the partition plate 224, and the lid body 26, and is substantially shielded from the outside air. In addition, since the lid body 26 has a heat insulating structure in which the three air layers are sandwiched between the four sheets 261, the side wall 223, the partition plate 224, and the space covered by the lid body 26 from the outside. Heat intrusion and turbulence of airflow around the substrate 8 to be inspected are reduced. In this case, the side wall 223, the partition plate 224, and the lid body 26 constitute a cover member.

そして、載置部222a〜222eにおいて、側壁部223,仕切板224、及び蓋体26によって覆われた空間に、孔226から放出された乾燥空気、例えば露点温度−60°Cの空気が充満するので、載置部222a〜222e及び被検査基板8において結露が発生することが抑制される。   And in mounting part 222a-222e, the dry air discharge | released from the hole 226, for example, the air of dew point temperature-60 degreeC, is filled with the space covered with the side wall part 223, the partition plate 224, and the cover body 26. Therefore, the occurrence of dew condensation on the placement portions 222a to 222e and the inspected substrate 8 is suppressed.

さらに、被検査基板8は、予め所定の設定温度、例えば0°Cにされた冷却プレート221によって、熱伝導性のシートであるシート部材229,272を介して冷却されるので、載置部222aに被検査基板8が載置されてから冷却プレート221を冷却する場合よりも被検査基板8の冷却速度を向上させることができる。   Further, the inspected substrate 8 is cooled by the cooling plate 221 that has been set to a predetermined set temperature, for example, 0 ° C. in advance, through the sheet members 229 and 272 that are thermally conductive sheets, and thus the placement portion 222a. The cooling rate of the inspected substrate 8 can be improved as compared with the case where the cooling plate 221 is cooled after the inspected substrate 8 is placed on the substrate.

また、吸引ポンプ39によって被検査基板8が弾性を有するシート部材229,272に吸着され、密着度が向上されるので、被検査基板8と冷却プレート221との間における熱伝導率が増大され、冷却プレート221による被検査基板8の冷却速度が増大される。そして、シート部材229,272は、被検査基板8における一方表面全体と密着するので、被検査基板8の全体に渡って均一に冷却され、被検査基板8における各部の温度を均一化することができる。さらに、被検査基板8は、側壁部223,仕切板224、及び蓋体26によって覆われ、外部からの熱の侵入や被検査基板8周辺の気流の乱れが低減されるので、被検査基板8における各部の温度の均一性を向上させることができる。   Further, since the inspected substrate 8 is attracted to the elastic sheet members 229 and 272 by the suction pump 39 and the adhesion is improved, the thermal conductivity between the inspected substrate 8 and the cooling plate 221 is increased, The cooling rate of the inspected substrate 8 by the cooling plate 221 is increased. Since the sheet members 229 and 272 are in close contact with the entire surface of the substrate 8 to be inspected, the sheet members 229 and 272 are uniformly cooled over the entire substrate 8 to be inspected, and the temperature of each part of the substrate 8 to be inspected can be made uniform. it can. Further, the substrate 8 to be inspected is covered with the side wall part 223, the partition plate 224, and the lid 26, and heat intrusion from outside and turbulence of the air current around the substrate 8 to be inspected are reduced. The uniformity of the temperature of each part in can be improved.

このようにして、冷却保持部22により被検査基板8の冷却が行われる(ステップS6)。図17、図18、図19は、アライメント、温度測定、及び基板検査動作を説明するための説明図である。図17、図18、図19においては、これら加熱状態における動作に関わる構成の符号も併せて記載している。   In this way, the inspected substrate 8 is cooled by the cooling holding unit 22 (step S6). 17, 18, and 19 are explanatory diagrams for explaining alignment, temperature measurement, and substrate inspection operations. In FIGS. 17, 18, and 19, reference numerals of configurations related to the operation in the heating state are also described.

そして、ステップS6において図17に示すように、蓋体26を閉蓋した状態で冷却プレート221上の被検査基板8が冷却され、予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って移送され、図18に示すように、載置部222aに吸着されている被検査基板8が長孔263と対向する位置に位置決めされる。   Then, in step S6, as shown in FIG. 17, the inspected substrate 8 on the cooling plate 221 is cooled with the lid body 26 closed, and when a predetermined time, for example, 30 seconds elapses, the control means In response to the control signal from 60, the cooling and holding unit 22 is moved along the guide rail 41 by the transport driving unit 40, and the inspected substrate 8 adsorbed to the mounting unit 222a is long as shown in FIG. It is positioned at a position facing the hole 263.

そして、撮像手段33によって、長孔263を介して載置部222aに吸着されている被検査基板8の画像が制御手段60へ送信され、制御手段60によってその被検査基板8の画像から検査位置のアライメント情報が取得されて検査制御手段50へ送信され、検査制御手段50によって、制御手段60からのアライメント情報に基づいて、被検査基板8を検査するための位置情報が補正される(ステップS7)。
このとき、撮像手段33が取得する第一位置情報は、検査手段に送られるために、補正位置情報により補正が行われることになる。
また、非接触温度計35によって、長孔263を介して載置部222aに吸着されている被検査基板8の温度が測定されてその測定温度を示す温度データが制御手段60へ送信され、制御手段60によって、被検査基板8の温度が予め設定された温度範囲、例えば0℃±3℃になっているか否かが確認される(ステップS8)。
この場合、長孔263は、撮像手段33によって被検査基板8の画像を撮影したり、非接触温度計35によって被検査基板8から放射される赤外線を検出したりするために必要な最小限の大きさにされているので、空気が長孔263を介して出入りすることが低減され、被検査基板8の温度変化が低減される。
Then, the image of the inspected substrate 8 attracted to the mounting portion 222a is transmitted to the control means 60 by the imaging means 33 through the long hole 263, and the inspection position is detected from the image of the inspected substrate 8 by the control means 60. Alignment information is acquired and transmitted to the inspection control means 50, and the position information for inspecting the substrate 8 to be inspected is corrected by the inspection control means 50 based on the alignment information from the control means 60 (step S7). ).
At this time, since the first position information acquired by the imaging unit 33 is sent to the inspection unit, the correction is performed based on the corrected position information.
Further, the non-contact thermometer 35 measures the temperature of the inspected substrate 8 adsorbed to the mounting portion 222a through the long hole 263, and transmits temperature data indicating the measured temperature to the control means 60 for control. The means 60 confirms whether or not the temperature of the substrate 8 to be inspected is within a preset temperature range, for example, 0 ° C. ± 3 ° C. (step S8).
In this case, the long hole 263 is the minimum necessary for taking an image of the substrate 8 to be inspected by the imaging means 33 and detecting infrared rays emitted from the substrate 8 to be inspected by the non-contact thermometer 35. Since the size is set, the entry / exit of air through the long hole 263 is reduced, and the temperature change of the inspected substrate 8 is reduced.

そして、被検査基板8の温度が例えば0℃±3℃の範囲に入っていなければ被検査基板8の温度が当該温度範囲となるまで待って、被検査基板8の温度が例えば0℃±3℃の範囲となれば、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って載置部一つ分だけ移送され、載置部222bが長孔263と対向する位置に位置決めされ、ステップS7,S8の動作が繰り返される。この場合、載置部222a〜222eはそれぞれ仕切板224によって仕切られているので、アライメント処理中、及び温度測定中の被検査基板8以外の被検査基板8は、長孔263を介して出入りする空気にさらされることがなく、被検査基板8の温度変化が低減される。   If the temperature of the substrate 8 to be inspected is not in the range of 0 ° C. ± 3 ° C., for example, the temperature of the substrate 8 to be inspected is waited until the temperature is in the temperature range. When the temperature is in the range of ° C., the cooling drive unit 22 is moved along the guide rail 41 by one transfer unit according to the control signal from the control means 60, and the mounting unit 222b is long. Positioning is made at a position facing the hole 263, and the operations of steps S7 and S8 are repeated. In this case, since the placement portions 222 a to 222 e are partitioned by the partition plate 224, the inspected substrate 8 other than the inspected substrate 8 during the alignment process and during the temperature measurement enters and exits through the long hole 263. Without being exposed to air, the temperature change of the inspected substrate 8 is reduced.

このようにして載置部222a〜222eに吸着されている五枚の被検査基板8について、アライメント処理(ステップS7)と温度測定(ステップS8)が繰り返された後、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って移送され、図19に示すように、載置部222aに吸着されている被検査基板8が開口部283と対向する位置(第1の検査位置)に位置決めされる。   After the alignment process (step S7) and the temperature measurement (step S8) are repeated for the five substrates to be inspected 8 adsorbed on the placement portions 222a to 222e in this way, a control signal from the control means 60 is obtained. Accordingly, the cooling and holding unit 22 is transferred along the guide rail 41 by the transport driving unit 40, and the substrate 8 to be inspected attracted to the mounting unit 222a faces the opening 283 as shown in FIG. Positioned at a position (first inspection position).

そして、制御手段60からの制御信号に応じて検査制御手段50による基板検査が行われる(ステップS9)。具体的には、検査制御手段50からの制御信号に応じて、プローブ駆動部49によって、移動式プローブ37,38が移動され、開口部283を介して被検査基板8における二箇所の検査点に移動式プローブ37,38におけるプローブ371の先端部373がそれぞれ圧接され、検査制御手段50によって、当該二箇所の検査点間における抵抗値が四端子測定法により測定される。   Then, the substrate inspection is performed by the inspection control unit 50 in accordance with the control signal from the control unit 60 (step S9). Specifically, in accordance with a control signal from the inspection control means 50, the movable probes 37 and 38 are moved by the probe driving unit 49, and two inspection points on the inspected substrate 8 are passed through the opening 283. The distal end portions 373 of the probes 371 in the movable probes 37 and 38 are pressed against each other, and the resistance value between the two inspection points is measured by the inspection control means 50 by the four-terminal measurement method.

そして、検査制御手段50によって、載置部222aに吸着されている被検査基板8において予め設定された全ての検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値以下であれば、当該被検査基板8は良品であると判定されてその判定結果を示す信号が制御手段60へ出力される一方、被検査基板8において予め設定されたいずれかの検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値を超えていれば、当該被検査基板8は導通不良があるものと判定され、その判定結果を示す信号が制御手段60へ出力されることにより、基板検査が行われる。   Then, if the resistance value is equal to or less than a preset threshold value between all the inspection points set in advance in the inspection substrate 8 attracted to the mounting portion 222a by the inspection control means 50, the inspection substrate 8 is determined to be a non-defective product, and a signal indicating the determination result is output to the control means 60, while a resistance value is set in advance between any inspection points set in advance on the substrate 8 to be inspected. If it exceeds, it is determined that the inspected substrate 8 has a continuity failure, and a signal indicating the determination result is output to the control means 60, whereby the substrate inspection is performed.

この場合、開口部283は、載置部一箇所分の大きさにされており、載置部222a〜222eはそれぞれ仕切板224によって仕切られているので、検査制御手段50による基板検査処理中の被検査基板8以外の被検査基板8は、開口部283を介して出入りする空気にさらされることがなく、被検査基板8の温度変化が低減される。   In this case, the opening 283 has a size corresponding to one place of the placement portion, and the placement portions 222a to 222e are partitioned by the partition plate 224, so that the inspection control means 50 is performing the substrate inspection process. The substrates 8 to be inspected other than the substrate to be inspected 8 are not exposed to the air that enters and exits through the opening 283, and the temperature change of the substrate 8 to be inspected is reduced.

このようにして、載置部222aに吸着されている被検査基板8の基板検査が終了すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って載置部一つ分だけ移送され、以降、検査制御手段50による基板検査と搬送駆動部40による載置部一つ分の冷却保持部22の移送動作が繰り返されて、載置部222b〜222eに吸着されている各被検査基板8について基板検査が行われる(ステップS9)。   In this way, when the substrate inspection of the inspected substrate 8 adsorbed to the placement unit 222a is completed, the cooling holding unit 22 is moved to the guide rail 41 by the transport driving unit 40 in accordance with a control signal from the control unit 60. Then, only one mounting portion is transferred, and thereafter, the substrate inspection by the inspection control means 50 and the transfer operation of the cooling holding portion 22 for one mounting portion by the transport driving unit 40 are repeated, and the mounting portion 222b. Substrate inspection is performed on each of the inspected substrates 8 adsorbed to ˜222e (step S9).

この場合、冷却プレート221には、五つの載置部222a〜222eが設けられ、同時に五つの被検査基板8を冷却することができるので、被検査基板8を一つずつ冷却する場合と比べて冷却時間を短縮することができる。また、五つの被検査基板8は、搬送部32によってガイドレール43に沿ってX軸方向に搬送されて冷却プレート221に載置され、冷却プレート221が搬送部32による搬送方向と交差するY軸方向に搬送された後に、被検査基板8を移動式プローブ37,38による検査が実行されるので、ガイドレール43に沿ってX軸方向に移動動作を行う搬送部32の移動範囲外に移動式プローブ37,38及びこれらを駆動するガイドレール44,45,46、昇降機構47,48、プローブ駆動部49等の移動式プローブにおける駆動機構を配設して、搬送部32と移動式プローブの駆動機構との干渉を避けることが容易となる。   In this case, the five mounting parts 222a to 222e are provided on the cooling plate 221, and the five substrates to be inspected 8 can be cooled at the same time, so that the substrates to be inspected 8 are cooled one by one. The cooling time can be shortened. The five substrates 8 to be inspected are transported in the X-axis direction along the guide rails 43 by the transport unit 32 and placed on the cooling plate 221, and the Y-axis where the cooling plate 221 intersects the transport direction by the transport unit 32. After being transported in the direction, the inspection of the inspected substrate 8 by the movable probes 37 and 38 is performed, so that the substrate 8 is movable out of the moving range of the transport unit 32 that moves along the guide rail 43 in the X-axis direction. Driving mechanisms for the mobile probes such as the probes 37, 38 and guide rails 44, 45, 46 for driving them, elevating mechanisms 47, 48, and a probe driving unit 49 are arranged to drive the transport unit 32 and the mobile probe. It is easy to avoid interference with the mechanism.

そして、載置部222a〜222eに吸着されている被検査基板8のすべてについて基板検査が終了すると、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って図2におけるY軸方向手前側に移送され、蓋体26が開蓋され、搬送部32におけるバキュームヘッド321が、載置部222a〜222eにおける各被検査基板8を吸着可能な搬送位置(第1の搬送位置)に位置決めされる。   When the substrate inspection is completed for all of the inspected substrates 8 adsorbed on the placement units 222a to 222e, the cooling drive unit 22 is guided by the transport driving unit 40 according to the control signal from the control unit 60. 2, the lid body 26 is opened, and the vacuum head 321 in the transport section 32 can transport each substrate 8 to be inspected in the mounting sections 222a to 222e. Positioned to a position (first transport position).

次に、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送部32により、冷却保持部22における載置部222a〜222eに載置された五つの被検査基板8が予熱保持部23における載置部232a〜232eへ搬送され、搬送駆動部40によって蓋体30が予熱保持部23の上部にスライド移動され、載置部232a〜232eにおける側壁部233及び仕切板234の上端部からなる開口部が蓋体30によって閉蓋される(ステップS10)。   Next, in response to a control signal from the control means 60, the five test substrates 8 placed on the placement units 222 a to 222 e in the cooling holding unit 22 are placed on the placement unit in the preheating holding unit 23 by the transport unit 32. The lid body 30 is slid to the upper part of the preheating holding unit 23 by the conveyance driving unit 40, and the opening portion including the side wall portion 233 and the upper end portion of the partition plate 234 in the placement units 232a to 232e is a lid. The lid is closed by the body 30 (step S10).

そうすると、被検査基板8は、図9に示す載置部232aにおいて、ダイ82が凹部247にはめ込まれてダイ82の表面がシート部材251に密着し、被検査基板8におけるダイ82の周囲の基板部分がシート部材249に密着する。この場合、シート部材249,251は弾性を有するので、被検査基板8との密着度が向上する。   As a result, in the mounting portion 232a shown in FIG. 9, the inspected substrate 8 is inserted into the recess 247 so that the surface of the die 82 is in close contact with the sheet member 251. The portion is in close contact with the sheet member 249. In this case, since the sheet members 249 and 251 have elasticity, the degree of adhesion with the inspected substrate 8 is improved.

そして、上述したステップS5において冷却保持部22における載置部222a〜222eにより被検査基板8が吸着された場合と同様に、予熱保持部23における載置部232a〜232eにより被検査基板8が吸着され、被検査基板8とシート部材249,251とが密着される。これにより、被検査基板8は、予め所定の設定温度、例えば100°Cにされた予熱プレート231によって、熱伝導性のシートであるシート部材249,251を介して加熱されるので、載置部232a〜232eに被検査基板8が載置されてから予熱プレート231を加熱する場合よりも被検査基板8の加熱速度を向上させることができる。   In the same manner as in the case where the inspected substrate 8 is adsorbed by the placement units 222a to 222e in the cooling holding unit 22 in step S5 described above, the inspected substrate 8 is adsorbed by the placement units 232a to 232e in the preheating holding unit 23. Then, the inspected substrate 8 and the sheet members 249 and 251 are brought into close contact with each other. Accordingly, the inspected substrate 8 is heated by the preheating plate 231 that has been set to a predetermined set temperature in advance, for example, 100 ° C., through the sheet members 249 and 251 that are heat conductive sheets. The heating rate of the inspected substrate 8 can be improved as compared with the case where the preheating plate 231 is heated after the inspected substrate 8 is placed on the 232a to 232e.

また、吸引ポンプ39によって被検査基板8が弾性を有するシート部材249,251に吸着され、密着度が向上されるので、被検査基板8と予熱プレート231との間における熱伝導率が増大され、予熱プレート231による被検査基板8の加熱速度が増大される。そして、シート部材249,251は、被検査基板8における一方表面全体と密着するので、被検査基板8の全体に渡って均一に加熱され、被検査基板8における各部の温度を均一化することができる。   Further, since the inspected substrate 8 is adsorbed to the elastic sheet members 249 and 251 by the suction pump 39 and the adhesion is improved, the thermal conductivity between the inspected substrate 8 and the preheating plate 231 is increased, The heating rate of the inspected substrate 8 by the preheating plate 231 is increased. Since the sheet members 249 and 251 are in close contact with the entire surface of the substrate 8 to be inspected, the sheet members 249 and 251 are uniformly heated over the entire substrate 8 to be inspected, and the temperature of each part of the substrate 8 to be inspected can be made uniform. it can.

さらに、被検査基板8は、側壁部233,仕切板234、及び蓋体30によって覆われ、外部への放熱や被検査基板8周辺の気流の乱れが低減されるので、被検査基板8における各部の温度の均一性を向上させることができる。
このようにして、予熱保持部23によって、被検査基板8の加熱が行われる(ステップS11)。
一方、ステップS6〜S10の処理が実行されている間、投入ワークホルダ21には被検査基板8が載置されていないので、ユーザは筐体2から投入ワークホルダ21を引き出して、新たな被検査基板8を五つ、投入ワークホルダ21に載置して投入ワークホルダ21を押し込むことにより基板検査装置1に投入することができる(ステップS12)。
Further, the substrate 8 to be inspected is covered with the side wall portion 233, the partition plate 234, and the lid body 30, and heat radiation to the outside and turbulence of airflow around the substrate to be inspected 8 are reduced. The temperature uniformity can be improved.
In this way, the inspected substrate 8 is heated by the preheating holding unit 23 (step S11).
On the other hand, since the inspected substrate 8 is not placed on the input work holder 21 while the processes of steps S6 to S10 are being performed, the user pulls out the input work holder 21 from the housing 2 and creates a new object. The five inspection substrates 8 can be placed on the substrate inspection apparatus 1 by placing them on the input work holder 21 and pushing the input work holder 21 (step S12).

これにより、ステップS6〜S10の処理と並行して新たな被検査基板8を基板検査装置1に投入することができるので、見かけ上、新たな被検査基板8を基板検査装置1に投入するために必要な作業時間をゼロにすることができ、被検査基板8の検査時間を短縮することができる。   As a result, a new substrate to be inspected 8 can be input to the substrate inspection apparatus 1 in parallel with the processing of steps S6 to S10. Therefore, it is apparent that a new substrate to be inspected 8 is input to the substrate inspection apparatus 1. The work time required for the inspection can be made zero, and the inspection time of the inspected substrate 8 can be shortened.

そして、ステップS5,S6と同様に、ステップS11における被検査基板8の加熱と並行して搬送部32により投入ワークホルダ21に載置された新たな五つの被検査基板8が冷却保持部22における載置部222a〜222eへ搬送され(ステップS13)、冷却保持部22により新たな五つの被検査基板8が設定温度、例えば0℃に冷却される(ステップS14)。   As in steps S5 and S6, in parallel with the heating of the substrate 8 to be inspected in step S11, five new substrates to be inspected 8 placed on the input work holder 21 by the transport unit 32 are in the cooling holding unit 22. It is conveyed to the mounting parts 222a to 222e (step S13), and the new five substrates to be inspected 8 are cooled to a set temperature, for example, 0 ° C. by the cooling holding part 22 (step S14).

これにより、被検査基板8の加熱と、冷却保持部22への新たな被検査基板8の搬送及び冷却とが並行して行われるので、見かけ上、被検査基板8の搬送及び冷却のための処理時間を短縮することができる。   Thereby, the heating of the inspected substrate 8 and the conveyance and cooling of the new inspected substrate 8 to the cooling holding unit 22 are performed in parallel. Processing time can be shortened.

そして、予熱保持部23による被検査基板8の加熱(ステップS11)の開始から予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、蓋体30がスライド移動されて開蓋され、搬送部32におけるバキュームヘッド321が、載置部232a〜232eにおける各被検査基板8を吸着可能な搬送位置に位置決めされる。   Then, when a predetermined time, for example, 30 seconds elapses from the start of heating of the substrate 8 to be inspected (step S11) by the preheating holding unit 23, the conveyance driving unit 40 responds to a control signal from the control means 60. The lid 30 is slid and opened, and the vacuum head 321 in the transport unit 32 is positioned at a transport position where each of the substrates to be inspected 8 in the placement units 232a to 232e can be sucked.

次に、ステップS14における新たな被検査基板8の冷却中に、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送部32により、予熱保持部23における載置部232a〜232eに載置された五つの被検査基板8が加熱保持部24における載置部242a〜242eへ搬送され、搬送駆動部40によって蓋体27が予熱保持部23の上部にスライド移動され、載置部242a〜242eにおける側壁部243及び仕切板244の上端部からなる開口部が蓋体27によって閉蓋される(ステップS15)。   Next, during the cooling of the new substrate 8 to be inspected in step S14, the five parts placed on the placement parts 232a to 232e in the preheating holding part 23 by the transport part 32 according to the control signal from the control means 60. One substrate 8 to be inspected is transported to the placement units 242a to 242e in the heating and holding unit 24, the lid 27 is slid to the upper part of the preheating holding unit 23 by the transport drive unit 40, and the side walls of the placement units 242a to 242e The opening part which consists of 243 and the upper end part of the partition plate 244 is closed by the cover body 27 (step S15).

そうすると、被検査基板8は、図9に示す載置部242aにおいて、ダイ82が凹部247にはめ込まれてダイ82の表面がシート部材251に密着し、被検査基板8におけるダイ82の周囲の基板部分がシート部材249に密着する。この場合、シート部材249,251は弾性を有するので、被検査基板8との密着度が向上する。   As a result, in the mounting portion 242a shown in FIG. 9, the substrate to be inspected 8 has the die 82 fitted into the recess 247 so that the surface of the die 82 is in close contact with the sheet member 251, and the substrate around the die 82 in the substrate 8 to be inspected. The portion is in close contact with the sheet member 249. In this case, since the sheet members 249 and 251 have elasticity, the degree of adhesion with the inspected substrate 8 is improved.

そして、上述したステップS5において冷却保持部22における載置部222a〜222eにより被検査基板8が吸着された場合と同様に、加熱保持部24における載置部242a〜242eにより被検査基板8が吸着され、被検査基板8とシート部材249,251とが密着される。これにより、被検査基板8は、予め所定の設定温度、例えば100°Cにされた加熱プレート241によって、熱伝導性のシートであるシート部材249,251を介して加熱されるので、載置部242a〜242eに被検査基板8が載置されてから加熱プレート241を加熱する場合よりも被検査基板8の加熱速度を向上させることができる。   In the same manner as in the case where the inspected substrate 8 is adsorbed by the mounting portions 222a to 222e in the cooling holding unit 22 in the above-described step S5, the inspected substrate 8 is adsorbed by the mounting portions 242a to 242e in the heating holding unit 24. Then, the inspected substrate 8 and the sheet members 249 and 251 are brought into close contact with each other. As a result, the inspected substrate 8 is heated by the heating plate 241 that has been previously set to a predetermined set temperature, for example, 100 ° C., through the sheet members 249 and 251 that are thermally conductive sheets. The heating rate of the inspected substrate 8 can be improved as compared with the case where the heating plate 241 is heated after the inspected substrate 8 is placed on 242a to 242e.

また、吸引ポンプ39によって被検査基板8が弾性を有するシート部材249,251に吸着され、密着度が向上されるので、被検査基板8と加熱プレート241との間における熱伝導率が増大され、加熱プレート241による被検査基板8の加熱速度が増大される。そして、シート部材249,251は、被検査基板8における一方表面全体と密着するので、被検査基板8の全体に渡って均一に加熱され、被検査基板8における各部の温度を均一化することができる。   Further, the inspected substrate 8 is attracted to the elastic sheet members 249 and 251 by the suction pump 39 and the adhesion is improved, so that the thermal conductivity between the inspected substrate 8 and the heating plate 241 is increased, The heating rate of the inspected substrate 8 by the heating plate 241 is increased. Since the sheet members 249 and 251 are in close contact with the entire surface of the substrate 8 to be inspected, the sheet members 249 and 251 are uniformly heated over the entire substrate 8 to be inspected, and the temperature of each part of the substrate 8 to be inspected can be made uniform. it can.

さらに、被検査基板8は、側壁部243,仕切板244、及び蓋体27によって覆われ、外部への放熱や被検査基板8周辺の気流の乱れが低減されるので、被検査基板8における各部の温度の均一性を向上させることができる。   Further, the inspected substrate 8 is covered with the side wall portion 243, the partition plate 244, and the lid 27, and heat radiation to the outside and turbulence of airflow around the inspected substrate 8 are reduced. The temperature uniformity can be improved.

このようにして、加熱保持部24により被検査基板8の加熱が行われる(ステップS16)。そして、ステップS14における冷却保持部22による新たな被検査基板8の冷却開始から予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、ステップS7,S8と同様に制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって冷却保持部22がガイドレール41に沿って移送され、冷却プレート221に載置された五つの被検査基板8について、アライメント処理(ステップS17)と温度測定(ステップS18)とが行われた後、ステップS9と同様に、移動式プローブ37,38を用いた基板検査が行われる(ステップS19)。   In this way, the inspected substrate 8 is heated by the heating holding unit 24 (step S16). Then, when a predetermined time, for example, 30 seconds elapses from the start of cooling of the new substrate 8 to be inspected by the cooling holding unit 22 in step S14, in response to the control signal from the control means 60 as in steps S7 and S8. Then, the cooling holding unit 22 is transferred along the guide rail 41 by the transport driving unit 40, and the alignment processing (step S17) and the temperature measurement (step S18) are performed on the five inspected substrates 8 placed on the cooling plate 221. Then, the substrate inspection using the movable probes 37 and 38 is performed in the same manner as in step S9 (step S19).

そして、ステップS19において、載置部222a〜222eに吸着されている被検査基板8のすべてについて基板検査が終了すると、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって、冷却保持部22がガイドレール41に沿って図2における手前側に移送され、蓋体26が開蓋され、搬送部32におけるバキュームヘッド321が、載置部222a〜222eに吸着されている各被検査基板8を吸着可能な搬送位置に位置決めされる。   In step S19, when the substrate inspection is completed for all of the inspected substrates 8 adsorbed to the placement units 222a to 222e, the cooling and holding unit is operated by the conveyance driving unit 40 in accordance with a control signal from the control unit 60. 2 is transferred along the guide rail 41 to the front side in FIG. 2, the lid body 26 is opened, and the vacuum head 321 in the transport unit 32 is attracted to the placement units 222a to 222e. Is positioned at a conveyance position where the suction can be sucked.

なお、ステップS14における新たな被検査基板8の冷却中に、ステップS15における被検査基板8の搬送動作が並行して実行される例を示したが、ステップS15における搬送動作は、例えばステップS17〜S19の処理中に並行して実行されるようにしてもよい。   In addition, while the new board | substrate 8 to be inspected in step S14 was cooled, the example in which the conveyance operation | movement of the to-be-inspected board | substrate 8 in step S15 was performed in parallel was shown, but the conveyance operation in step S15 is step S17- It may be executed in parallel during the process of S19.

次に、ステップS16における被検査基板8の加熱中に、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送部32により、冷却保持部22における載置部222a〜222eに載置された五つの被検査基板8が予熱保持部23における載置部232a〜232eへ搬送され、搬送駆動部40によって蓋体30が予熱保持部23の上部にスライド移動され、載置部232a〜232eにおける側壁部233及び仕切板234の上端部からなる開口部が蓋体30によって閉蓋され(ステップS20)、ステップS11と同様にして予熱保持部23による被検査基板8の予熱が行われる(ステップS21)。   Next, during the heating of the substrate 8 to be inspected in step S <b> 16, the five objects placed on the placement parts 222 a to 222 e in the cooling holding part 22 by the transport part 32 according to the control signal from the control means 60. The inspection substrate 8 is conveyed to the placement units 232a to 232e in the preheating holding unit 23, the lid 30 is slid to the upper part of the preheating holding unit 23 by the conveyance driving unit 40, and the side wall portions 233 and 233 in the placement units 232a to 232e The opening part which consists of the upper end part of the partition plate 234 is closed by the cover body 30 (step S20), and preheating of the board | substrate 8 to be inspected by the preheating holding | maintenance part 23 is performed similarly to step S11 (step S21).

一方、ステップS14〜S21の処理が実行されている間、投入ワークホルダ21には被検査基板8が載置されていないので、ユーザは筐体2から投入ワークホルダ21を引き出して、さらに新たな被検査基板8を五つ、投入ワークホルダ21に載置して投入ワークホルダ21を押し込むことにより基板検査装置1に投入することができる(ステップS22)。   On the other hand, since the inspected substrate 8 is not placed on the input work holder 21 while the processing of steps S14 to S21 is being performed, the user pulls out the input work holder 21 from the housing 2 and adds a new one. Five substrates to be inspected 8 can be loaded on the substrate inspection apparatus 1 by placing them on the loading work holder 21 and pushing the loading work holder 21 (step S22).

そして、ステップS5,S6と同様に、ステップS16における被検査基板8の加熱と並行して搬送部32により投入ワークホルダ21に載置されたさらに新たな五つの被検査基板8が冷却保持部22における載置部222a〜222eへ搬送され(ステップS23)、冷却保持部22により新たな五つの被検査基板8が設定温度、例えば0℃に冷却される(ステップS24)。   As in steps S5 and S6, in parallel with the heating of the substrate 8 to be inspected in step S16, five new substrates to be inspected 8 placed on the input work holder 21 by the transport unit 32 are cooled and held by the holding unit 22. Are transferred to the mounting portions 222a to 222e (step S23), and the cooling holding unit 22 cools the new five substrates to be inspected 8 to a set temperature, for example, 0 ° C. (step S24).

この場合、冷却保持部22による冷却中の新たな被検査基板8についてアライメント処理(ステップS17)、温度測定(ステップS18)、基板検査(ステップS19)、加熱保持部24から予熱保持部23への被検査基板8の搬送(ステップS20)、被検査基板8の予熱処理(ステップS21)の一部、被検査基板8の投入処理(ステップS22)、及び投入ワークホルダ21から冷却保持部22への被検査基板8の搬送(ステップS23)が、加熱保持部24における被検査基板8の加熱処理(ステップS16)と並行して行われるので、見かけ上、被検査基板8のアライメント、温度測定、基板検査、加熱保持部24から予熱保持部23への搬送、予熱、基板投入、及び投入ワークホルダ21から冷却保持部22への搬送のための処理時間を短縮することができる。   In this case, the alignment processing (step S17), temperature measurement (step S18), substrate inspection (step S19), and the heating holding unit 24 to the preheating holding unit 23 are performed on the new inspected substrate 8 being cooled by the cooling holding unit 22. Transport of the substrate 8 to be inspected (step S20), part of the pre-heat treatment (step S21) of the substrate 8 to be inspected, processing for loading the substrate to be inspected 8 (step S22), and from the input work holder 21 to the cooling holding unit 22 Since the transport of the inspected substrate 8 (step S23) is performed in parallel with the heating process (step S16) of the inspected substrate 8 in the heating and holding unit 24, apparently the alignment of the inspected substrate 8, the temperature measurement, the substrate For inspection, conveyance from the heating and holding unit 24 to the preheating holding unit 23, preheating, substrate loading, and conveyance from the loading work holder 21 to the cooling holding unit 22 It is possible to reduce the management time.

そして、ステップS16において、図17に示すように蓋体27を閉蓋した状態で加熱プレート241上の被検査基板8が加熱され、予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、加熱保持部24がガイドレール42に沿って移送され、図18に示すように、載置部242aに吸着されている被検査基板8が長孔263と対向する位置に位置決めされる。   In step S16, when the inspected substrate 8 on the heating plate 241 is heated with the lid 27 closed as shown in FIG. 17, and a predetermined time, for example, 30 seconds elapses, the control means In response to a control signal from 60, the heating and holding unit 24 is moved along the guide rail 42 by the transport driving unit 40, and the inspected substrate 8 adsorbed to the mounting unit 242a is long as shown in FIG. It is positioned at a position facing the hole 263.

そして、撮像手段34によって、長孔263を介して載置部242aに吸着されている被検査基板8の画像が制御手段60へ送信され、制御手段60によってその被検査基板8の画像から検査位置のアライメント情報が取得されて検査制御手段50へ送信され、検査制御手段50によって、制御手段60からのアライメント情報に基づいて、被検査基板8を検査するための位置情報が補正される(ステップS25)。
このとき、撮像手段が取得する第一位置情報は、検査手段に送られるために、補正位置情報により補正が行われていることになる。
また、非接触温度計36によって、長孔263を介して載置部242aに吸着されている被検査基板8の温度が測定されてその測定温度を示す温度データが制御手段60へ送信され、制御手段60によって、被検査基板8の温度が予め設定された温度範囲、例えば100℃±3℃になっているか否かが確認される(ステップS26)。この場合、長孔263は、アライメントや温度測定に必要な最小限の大きさにされているので、空気が長孔263を介して出入りすることが低減され、被検査基板8の温度変化が低減される。
Then, the image of the inspected substrate 8 adsorbed to the mounting portion 242a through the long hole 263 is transmitted to the control unit 60 by the imaging unit 34, and the inspection position is determined from the image of the inspected substrate 8 by the control unit 60. Alignment information is acquired and transmitted to the inspection control means 50, and the inspection control means 50 corrects the position information for inspecting the inspected substrate 8 based on the alignment information from the control means 60 (step S25). ).
At this time, since the first position information acquired by the imaging unit is sent to the inspection unit, the correction is performed using the corrected position information.
Further, the non-contact thermometer 36 measures the temperature of the inspected substrate 8 adsorbed to the mounting portion 242a through the long hole 263, and transmits temperature data indicating the measured temperature to the control means 60 for control. The means 60 confirms whether or not the temperature of the inspected substrate 8 is within a preset temperature range, for example, 100 ° C. ± 3 ° C. (step S26). In this case, since the long hole 263 has a minimum size necessary for alignment and temperature measurement, the entry and exit of air through the long hole 263 is reduced, and the temperature change of the inspected substrate 8 is reduced. Is done.

そして、被検査基板8の温度が例えば100℃±3℃の範囲に入っていなければ被検査基板8の温度が当該温度範囲となるまで待って、被検査基板8の温度が例えば100℃±3℃の範囲となれば、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、加熱保持部24がガイドレール42に沿って載置部一つ分だけ移送され、載置部242bが長孔263と対向する位置に位置決めされ、ステップS25,S26の動作が繰り返される。この場合、載置部242a〜242eはそれぞれ仕切板244によって仕切られているので、アライメント処理中、及び温度測定中の被検査基板8以外の被検査基板8は、長孔263を介して出入りする空気にさらされることがなく、被検査基板8の温度変化が低減される。   If the temperature of the substrate 8 to be inspected is not in the range of 100 ° C. ± 3 ° C., for example, the temperature of the substrate 8 to be inspected is waited until the temperature is in the temperature range. If the temperature is in the range of ° C., the conveyance driving unit 40 moves the heating holding unit 24 along the guide rail 42 by one transfer unit according to a control signal from the control unit 60, and the mounting unit 242b is long. Positioning is made at a position facing the hole 263, and the operations of steps S25 and S26 are repeated. In this case, since the placing portions 242a to 242e are partitioned by the partition plate 244, the inspected substrates 8 other than the inspected substrate 8 during the alignment process and during the temperature measurement enter and exit through the long holes 263. Without being exposed to air, the temperature change of the inspected substrate 8 is reduced.

このようにして載置部242a〜242eに吸着されている五枚の被検査基板8について、アライメント処理(ステップS25)と温度測定(ステップS26)とが繰り返された後、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、加熱保持部24がガイドレール42に沿って移送され、図19に示すように、載置部242aに吸着されている被検査基板8が開口部283と対向する位置に位置決めされる。   Thus, after the alignment process (step S25) and the temperature measurement (step S26) are repeated for the five substrates to be inspected 8 adsorbed to the placement units 242a to 242e, the control from the control means 60 is performed. In response to the signal, the heating and driving unit 24 is transferred along the guide rail 42 by the transport driving unit 40, and the substrate 8 to be inspected attracted to the mounting unit 242a faces the opening 283 as shown in FIG. It is positioned at the position to do.

そして、制御手段60からの制御信号に応じて検査制御手段50による基板検査が行われる(ステップS27)。具体的には、まず、検査制御手段50からの制御信号に応じてプローブ駆動部49(検査移送部)によって、移動式プローブ37,38が、固定蓋体28における開口部283と対向する位置、すなわち冷却保持部22に載置された被検査基板8を検査するための検査位置(第1の検査位置)から固定蓋体29における開口部283と対向する位置、すなわち加熱保持部24に載置された被検査基板8を検査するための検査位置(第2の検査位置)へ、ガイドレール44に沿って移送される。   Then, the substrate inspection is performed by the inspection control unit 50 in accordance with the control signal from the control unit 60 (step S27). Specifically, first, a position where the movable probes 37 and 38 are opposed to the opening 283 in the fixed lid 28 by the probe driving unit 49 (inspection transfer unit) according to a control signal from the inspection control means 50, That is, it is placed at the position facing the opening 283 in the fixed lid 29 from the inspection position (first inspection position) for inspecting the inspected substrate 8 placed on the cooling holding unit 22, that is, placed on the heating holding unit 24. The test substrate 8 is transferred along the guide rail 44 to an inspection position (second inspection position) for inspecting the inspected substrate 8.

これにより、移動式プローブ37,38を、冷却状態における被検査基板8の基板検査と、加熱状態における被検査基板8の基板検査とに共用して用いることができるので、移動式プローブ37,38を二つずつ備える必要がなく、移動式プローブ37,38の数を減少させて基板検査装置1のコストを低減することができる。   Accordingly, the movable probes 37 and 38 can be used in common for the substrate inspection of the substrate 8 to be inspected in the cooled state and the substrate inspection of the substrate 8 to be inspected in the heated state. It is not necessary to provide two each, and the number of the movable probes 37 and 38 can be reduced, and the cost of the board | substrate inspection apparatus 1 can be reduced.

なお、移動式プローブ37,38を、冷却状態における被検査基板8の基板検査と、加熱状態における被検査基板8の基板検査とに共用して用いる例を示したが、固定蓋体28における開口部283と対向する位置に、冷却状態における被検査基板8の基板検査用の移動式プローブ(第1の検査部)を備え、固定蓋体29における開口部283と対向する位置に、加熱状態における被検査基板8の基板検査用の移動式プローブ(第2の検査部)を別途備えてもよい。   In addition, although the example which uses the movable probes 37 and 38 for both the board | substrate inspection of the to-be-inspected board | substrate 8 in a cooling state and the board | substrate inspection of the to-be-inspected board | substrate 8 in a heating state was shown, opening in the fixed cover body 28 is shown. A movable probe (first inspection unit) for inspecting the substrate 8 to be inspected in the cooled state is provided at a position facing the part 283, and in a heated state at a position facing the opening 283 in the fixed lid 29. A movable probe (second inspection unit) for inspecting the substrate 8 to be inspected may be additionally provided.

なお、制御手段60は、ステップS19における検査終了後、ステップS16,S25,S26の処理中にプローブ駆動部49により移動式プローブ37,38を固定蓋体28における開口部283と対向する位置(第1の検査位置)から固定蓋体29における開口部283と対向する位置(第2の検査位置)へ移送させておくようにしてもよい。これにより、ステップS27における移動式プローブ37,38の移送時間が短縮される。   Note that after the inspection in step S19 is completed, the control means 60 causes the probe driving unit 49 to position the movable probes 37 and 38 opposite the opening 283 in the fixed lid 28 during the processing in steps S16, S25, and S26 (first position). It may be transferred from the first inspection position) to a position (second inspection position) facing the opening 283 in the fixed lid 29. Thereby, the transfer time of the movable probes 37 and 38 in step S27 is shortened.

さらに、固定蓋体29における開口部283を介して被検査基板8における二箇所の検査点に移動式プローブ37,38におけるプローブ371の先端部373がそれぞれ圧接され、検査制御手段50によって、当該二箇所の検査点間における抵抗値が四端子測定法により測定される。   Further, the distal end portions 373 of the probes 371 in the movable probes 37 and 38 are respectively pressed into two inspection points on the substrate 8 to be inspected through the openings 283 in the fixed lid 29, and the inspection control means 50 performs the second inspection. The resistance value between the inspection points is measured by the four-terminal measurement method.

そして、検査制御手段50によって、載置部242aに吸着されている被検査基板8において予め設定された全ての検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値以下であれば、当該被検査基板8は良品であると判定されてその判定結果を示す信号が制御手段60へ出力される一方、被検査基板8において予め設定されたいずれかの検査点間について、抵抗値が予め設定された閾値を超えていれば、当該被検査基板8は導通不良があるものと判定され、その判定結果を示す信号が制御手段60へ出力されることにより、基板検査が行われる。   Then, if the resistance value is equal to or less than a preset threshold value between all the inspection points set in advance in the inspection substrate 8 attracted to the mounting portion 242a by the inspection control means 50, the inspection substrate 8 is determined to be a non-defective product, and a signal indicating the determination result is output to the control means 60, while a resistance value is set in advance between any inspection points set in advance on the substrate 8 to be inspected. If it exceeds, it is determined that the inspected substrate 8 has a continuity failure, and a signal indicating the determination result is output to the control means 60, whereby the substrate inspection is performed.

この場合、固定蓋体29における開口部283は、載置部一箇所分の大きさにされており、載置部242a〜242eはそれぞれ仕切板244によって仕切られているので、検査制御手段50による基板検査処理中の被検査基板8以外の被検査基板8は、固定蓋体29における開口部283を介して出入りする空気にさらされることがなく、被検査基板8の温度変化が低減される。   In this case, the opening 283 in the fixed lid 29 has a size corresponding to one placement portion, and the placement portions 242a to 242e are each partitioned by the partition plate 244. The inspected substrates 8 other than the inspected substrate 8 during the substrate inspection process are not exposed to the air entering and exiting through the opening 283 in the fixed lid 29, and the temperature change of the inspected substrate 8 is reduced.

このようにして、載置部242aに吸着されている被検査基板8の基板検査が終了すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、加熱保持部24がガイドレール41に沿って載置部一つ分だけ移送され、以降、検査制御手段50による基板検査と搬送駆動部40による載置部一つ分の加熱保持部24の移送動作が繰り返されて、載置部242b〜242eに吸着されている各被検査基板8について基板検査が行われる(ステップS27)。   In this way, when the substrate inspection of the substrate 8 to be inspected adsorbed on the placing portion 242a is completed, the heating holding portion 24 is moved to the guide rail 41 by the transport driving portion 40 in accordance with a control signal from the control means 60. Then, only one placement part is transferred, and thereafter, the substrate inspection by the inspection control means 50 and the transfer operation of the heating holding part 24 for one placement part by the transport drive part 40 are repeated, and the placement part 242b. Substrate inspection is performed for each of the inspected substrates 8 adsorbed to ˜242e (step S27).

この場合、加熱プレート241には、五つの載置部242a〜242eが設けられ、同時に五つの被検査基板8を加熱することができるので、被検査基板8を一つずつ加熱する場合と比べて加熱時間を短縮することができる。また、被検査基板8は、搬送部32によってガイドレール43に沿ってX軸方向に搬送されて加熱プレート241に載置され、加熱プレート241が搬送部32による搬送方向と交差するY軸方向に搬送された後に、被検査基板8を移動式プローブ37,38により検査することができるので、ガイドレール43に沿ってX軸方向に移動動作を行う搬送部32の移動範囲外に移動式プローブの駆動機構を配設して、搬送部32と移動式プローブの駆動機構との干渉を避けることが容易となる。   In this case, the heating plate 241 is provided with five mounting portions 242a to 242e, and the five substrates to be inspected 8 can be heated at the same time, so that the substrates to be inspected 8 are heated one by one. Heating time can be shortened. The inspected substrate 8 is transported in the X-axis direction along the guide rail 43 by the transport unit 32 and placed on the heating plate 241, and the heating plate 241 crosses the transport direction by the transport unit 32 in the Y-axis direction. Since the substrate 8 to be inspected can be inspected by the mobile probes 37 and 38 after being transported, the mobile probe is moved out of the moving range of the transport unit 32 that moves along the guide rail 43 in the X-axis direction. By providing a drive mechanism, it becomes easy to avoid interference between the transport unit 32 and the drive mechanism of the movable probe.

なお、ステップS16における被検査基板8の加熱中に、ステップS20における新たな被検査基板8の搬送動作及びステップS23におけるさらに新たな被検査基板8の搬送動作が行われる例を示したが、ステップS20,S23における搬送動作は、例えばステップS25〜S27の処理中に並行して実行されるようにしてもよい。   In addition, while the substrate 8 to be inspected in step S16 is heated, an example in which a new operation of transporting the substrate 8 to be inspected in step S20 and a new operation of transporting the substrate to be inspected 8 in step S23 are shown. The transport operations in S20 and S23 may be performed in parallel during the processing of steps S25 to S27, for example.

そして、載置部242a〜242eに吸着されている被検査基板8のすべてについて基板検査が終了すると、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって、加熱保持部24がガイドレール42に沿って図2における手前側に移送され、蓋体27が開蓋され、搬送部32におけるバキュームヘッド321が、載置部242a〜242eに吸着されている各被検査基板8を吸着可能な搬送位置(第2の搬送位置)に位置決めされる。   When the substrate inspection is completed for all of the inspected substrates 8 adsorbed to the placement units 242a to 242e, the conveyance driving unit 40 causes the heating holding unit 24 to guide the guide rail in accordance with a control signal from the control unit 60. 2, the lid 27 is opened, and the vacuum head 321 in the transport unit 32 can suck each substrate 8 to be inspected that is sucked by the placement units 242a to 242e. It is positioned at the transfer position (second transfer position).

次に、ステップS21における新たな被検査基板8の予熱処理中であって、かつステップS24におけるさらに新たな被検査基板8の冷却処理中において、制御手段60からの制御信号に応じて、搬送部32により、加熱保持部24における載置部242a〜242eに載置された五つの被検査基板8が収納ワークホルダ25の上面に搬送され、載置される(ステップS28)。   Next, during the pre-heat treatment of the new substrate 8 to be inspected in step S21 and in the cooling process of the new substrate to be inspected 8 in step S24, the transfer unit is set according to the control signal from the control means 60. 32, the five to-be-inspected substrates 8 placed on the placement units 242a to 242e in the heating and holding unit 24 are transported and placed on the upper surface of the storage work holder 25 (step S28).

この場合、予熱保持部23における新たな被検査基板8の予熱処理(ステップS21)と、加熱保持部24におけるアライメント処理(ステップS25)、温度測定(ステップS26)、基板検査(ステップS27)、及び被検査基板8の搬送処理(ステップS28)と、冷却保持部22におけるさらに新たな被検査基板8の冷却処理(ステップS24)とは、並行して行われるので、見かけ上の処理時間を短縮し、単位時間当たりの被検査基板8の検査数量を増大させることができる。   In this case, pre-heat treatment (step S21) of the new substrate 8 to be inspected in the preheating holding unit 23, alignment processing (step S25) in the heating holding unit 24, temperature measurement (step S26), substrate inspection (step S27), and Since the transporting process of the inspected substrate 8 (step S28) and the new cooling process of the inspected substrate 8 in the cooling holding unit 22 (step S24) are performed in parallel, the apparent processing time is shortened. Thus, the inspection quantity of the substrate 8 to be inspected per unit time can be increased.

また、加熱保持部24から収納ワークホルダ25へ搬送された被検査基板8については、ステップS9における低温状態での基板検査と、ステップS27における高温状態での基板検査とが終了しているので、制御手段60によって、収納ワークホルダ25に載置されている五つの被検査基板8についての検査結果を示す信号が操作表示部12へ送信され、操作表示部12によってその検査結果が表示される。   Further, for the substrate 8 to be inspected transferred from the heating holding unit 24 to the storage work holder 25, the substrate inspection in the low temperature state in step S9 and the substrate inspection in the high temperature state in step S27 are completed. The control means 60 transmits a signal indicating the inspection result of the five substrates to be inspected 8 placed on the storage work holder 25 to the operation display unit 12, and the operation display unit 12 displays the inspection result.

そして、10本のノズル31によって、収納ワークホルダ25に載置された被検査基板8へ、常温の乾燥した空気が吹き付けられる(ステップS29)。これにより、被検査基板8の温度を、40°C程度の温度まで冷却する時間が短縮される。   The ten nozzles 31 blow dry air at room temperature onto the substrate 8 to be inspected placed on the storage work holder 25 (step S29). Thereby, the time for cooling the temperature of the inspected substrate 8 to a temperature of about 40 ° C. is shortened.

一方、予熱保持部23による新たな被検査基板8の加熱(ステップS21)の開始から予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、制御手段60からの制御信号に応じて搬送駆動部40によって、蓋体30がスライド移動されて開蓋され、搬送部32におけるバキュームヘッド321が、載置部232a〜232eに吸着されている各被検査基板8を吸着可能な搬送位置に位置決めされる。   On the other hand, when a predetermined time, for example, 30 seconds elapses from the start of heating of the new substrate to be inspected 8 by the preheating holding unit 23 (step S21), for example, the transport driving unit 40 according to a control signal from the control means 60. Thus, the lid body 30 is slid and opened, and the vacuum head 321 in the transport section 32 is positioned at a transport position where each of the inspected substrates 8 sucked by the placement sections 232a to 232e can be sucked.

そして、ステップS15と同様に、ステップS29における被検査基板8の冷却中に、搬送部32により、予熱保持部23における載置部232a〜232eに載置された新たな被検査基板8が加熱保持部24における載置部242a〜242eへ搬送され(ステップS30)、ステップS16と同様に、加熱保持部24によって新たな被検査基板8が加熱される(ステップS31)。   Similarly to step S15, during the cooling of the inspected substrate 8 in step S29, a new inspected substrate 8 placed on the placement portions 232a to 232e in the preheating holding portion 23 is heated and held by the transport unit 32. The substrate 24 is transported to the placement units 242a to 242e in the unit 24 (step S30), and a new substrate 8 to be inspected is heated by the heating holding unit 24 (step S31) as in step S16.

他方、ステップS24における冷却保持部22によるさらに新たな被検査基板8の冷却開始から予め設定された所定時間、例えば30秒が経過すると、ステップS7,S8と同様に制御手段60からの制御信号に応じて、搬送駆動部40によって冷却保持部22がガイドレール41に沿って移送され、冷却プレート221に載置された五つの被検査基板8について、アライメント処理(ステップS32)と温度測定(ステップS33)とが行われた後、検査制御手段50からの制御信号に応じてプローブ駆動部49(検査移送部)によって、移動式プローブ37,38がステップS27において過熱状態の被検査基板8を検査した第2の検査位置から固定蓋体28における開口部283と対向する位置(第1の検査位置)へ、ガイドレール44に沿って移送され、ステップS9と同様に、移動式プローブ37,38を用いた基板検査が行われる(ステップS34)。   On the other hand, when a predetermined time, for example, 30 seconds elapses from the start of further cooling of the inspected substrate 8 by the cooling holding unit 22 in step S24, a control signal from the control means 60 is sent as in steps S7 and S8. Accordingly, the cooling holding unit 22 is transferred along the guide rail 41 by the transport driving unit 40, and the alignment processing (step S32) and the temperature measurement (step S33) are performed on the five inspected substrates 8 placed on the cooling plate 221. ), The mobile probes 37 and 38 inspect the overheated inspected substrate 8 in step S27 by the probe driving unit 49 (inspection transfer unit) according to the control signal from the inspection control means 50. From the second inspection position to the position facing the opening 283 in the fixed lid 28 (first inspection position), the guide rail 4 It is transported along a, similarly to step S9, the substrate inspection using the mobile probe 37 is performed (step S34).

なお、制御手段60は、ステップS27における検査終了後、ステップS28〜33の処理中に、プローブ駆動部49により移動式プローブ37,38を固定蓋体28における開口部283と対向する位置(第1の検査位置)へ移送させておくようにしてもよい。これにより、ステップS34における移動式プローブ37,38の移送時間が短縮される。   It should be noted that after the inspection in step S27 is completed, the control means 60 causes the probe probes 49 and 38 to move the movable probes 37 and 38 to the opening 283 in the fixed lid 28 during the processing in steps S28 to S33 (first position). May be transferred to the inspection position). Thereby, the transfer time of the movable probes 37 and 38 in step S34 is shortened.

また一方、ステップS29における収納ワークホルダ25上の被検査基板8が、所定時間、10本のノズル31により吹き付けられた空気によって冷却された後、ユーザが収納ワークホルダ25の取手252を引っ張ることにより、収納ワークホルダ25が筐体2から引き出されて収納ワークホルダ25に載置された検査済みの被検査基板8が取り出され(ステップS35)、ステップS4において基板検査装置1に投入された被検査基板8の検査を終了する。   On the other hand, after the substrate 8 to be inspected on the storage work holder 25 in step S29 is cooled by the air blown by the ten nozzles 31 for a predetermined time, the user pulls the handle 252 of the storage work holder 25. Then, the inspected board 8 to be inspected, which is pulled out of the housing 2 and placed on the storage work holder 25, is taken out (step S35), and the inspected is put into the board inspection apparatus 1 in step S4. The inspection of the substrate 8 is finished.

この場合、収納ワークホルダ25における被検査基板8の冷却処理(ステップS29)及び被検査基板8の取り出し(ステップS35)と、予熱保持部23から加熱保持部24への新たな被検査基板8の搬送(ステップS30)と、加熱保持部24における加熱処理(ステップS31)と、冷却保持部22におけるさらに新たな被検査基板8の冷却処理(ステップS24)、アライメント処理(ステップS32)、温度測定(ステップS33)、及び基板検査(ステップS34)とは、並行して実行されるので、見かけ上の処理時間を短縮し、単位時間当たりの被検査基板8の検査数量を増大させることができる。   In this case, the cooling process of the inspected substrate 8 in the storage work holder 25 (step S29), the removal of the inspected substrate 8 (step S35), and the new inspected substrate 8 from the preheating holding unit 23 to the heating holding unit 24. Transport (step S30), heating process in the heating and holding unit 24 (step S31), further cooling process of the inspected substrate 8 in the cooling and holding unit 22 (step S24), alignment process (step S32), temperature measurement ( Since step S33) and substrate inspection (step S34) are executed in parallel, the apparent processing time can be shortened and the inspection quantity of the inspected substrate 8 per unit time can be increased.

なお、ステップS24におけるさらに新たな被検査基板8の冷却中に、ステップS28における被検査基板8の搬送動作が並行して実行される例を示したが、ステップS28における搬送動作は、例えばステップS32〜S34の処理中に並行して実行されるようにしてもよい。   In addition, while the cooling operation of the new substrate to be inspected 8 in step S24 has been described, the transfer operation of the substrate 8 to be inspected in step S28 is performed in parallel. However, the transfer operation in step S28 is, for example, step S32. It may be executed in parallel during the processing of .about.S34.

そして、新たな被検査基板8について、ステップS25〜S29、S35と同様の処理がステップS41〜45、S51において繰り返され、ステップS51において、検査済みの新たな被検査基板8が取り出され、検査を終了する。この場合、ステップS35において被検査基板8の基板検査を終了してから、ステップS51において新たな被検査基板8の基板検査を終了するまでの時間、すなわちタクトタイムTが、新たな五つの被検査基板8についての見かけ上の処理時間となる。タクトタイムTは、ステップS31における被検査基板8の加熱時間の一部と、ステップS41〜S45,S51の処理時間とを合わせた時間となる。   Then, for the new substrate 8 to be inspected, the same processing as in steps S25 to S29 and S35 is repeated in steps S41 to S45 and S51. In step S51, the inspected new substrate 8 to be inspected is taken out and inspected. finish. In this case, the time from the completion of the substrate inspection of the inspected substrate 8 in step S35 to the completion of the substrate inspection of the new inspected substrate 8 in step S51, that is, the tact time T is five new inspections. This is an apparent processing time for the substrate 8. The tact time T is a time obtained by combining a part of the heating time of the inspected substrate 8 in step S31 and the processing times of steps S41 to S45 and S51.

一方、上述の投入ワークホルダ21、冷却保持部22、予熱保持部23、加熱保持部24、及び収納ワークホルダ25による並行処理を行わない場合、新たな被検査基板8の検査には、ステップS12〜S14,S17〜S21,S30,S31,S41〜S45,S51における処理時間が必要となるのに対し、基板検査装置1は、投入ワークホルダ21、冷却保持部22、予熱保持部23、加熱保持部24、及び収納ワークホルダ25によって、いわゆるパイプライン動作による並行処理を行うことにより、ステップS12〜S14,S17〜S21,S30における処理時間、及びステップS31における処理時間の一部を見かけ上短縮し、新たな被検査基板8の検査をタクトタイムTで実行することができる。   On the other hand, when the parallel processing by the above-mentioned input work holder 21, the cooling holding unit 22, the preheating holding unit 23, the heating holding unit 24, and the storage work holder 25 is not performed, the inspection of the new substrate 8 to be inspected is step S12. While the processing time in S14, S17 to S21, S30, S31, S41 to S45, and S51 is required, the substrate inspection apparatus 1 includes the input work holder 21, the cooling holding unit 22, the preheating holding unit 23, and the heating holding. The processing time in steps S12 to S14, S17 to S21, and S30 and a part of the processing time in step S31 are apparently shortened by performing parallel processing by so-called pipeline operation by the unit 24 and the storage work holder 25. A new inspection of the inspected substrate 8 can be executed at the tact time T.

以降、基板検査装置1によって、タクトタイムT毎に、新たな五つの被検査基板8の検査が繰り返されるので、上述の並列処理を行わない場合に対して単位時間当たりの被検査基板8の検査数量を増大させることができる。   Thereafter, the substrate inspection apparatus 1 repeats the inspection of five new substrates to be inspected every tact time T, so that the inspection of the substrate to be inspected 8 per unit time is performed when the above parallel processing is not performed. The quantity can be increased.

なお、冷却保持部22、予熱保持部23、及び加熱保持部24を備え、まず冷却保持部22で被検査基板8を冷却状態で検査した後、被検査基板8を予熱保持部23で予熱し、加熱保持部24で加熱した状態で検査する構成を示したが、予熱保持部23の代わりに冷却保持部22とほぼ同一の構成にされた予冷部を備え、まず加熱保持部24で被検査基板8を加熱状態で検査した後、被検査基板8を予冷部で予冷し、冷却保持部22で冷却した状態で検査する構成としてもよい。   The cooling holding unit 22, the preheating holding unit 23, and the heating holding unit 24 are provided. First, the inspected substrate 8 is inspected in the cooled state by the cooling holding unit 22, and then the inspected substrate 8 is preheated by the preheating holding unit 23. Although the configuration in which the inspection is performed while being heated by the heating and holding unit 24 is shown, a pre-cooling unit having substantially the same configuration as that of the cooling and holding unit 22 is provided instead of the preheating holding unit 23. After inspecting the substrate 8 in a heated state, the substrate 8 to be inspected may be pre-cooled by the pre-cooling unit and inspected in the state cooled by the cooling holding unit 22.

本説明の如く、冷却部や加熱部などの温度ストレスを基板に負荷する基板検査装置で、基板の位置情報を取得する撮像部と、実際に検査が行われる検査部とが相違する位置に設けられる場合には、この位置合わせ方法を用いることによって、精度良く基板の位置情報を取得することができるようになる。   As described in this explanation, a board inspection device that applies temperature stress to the substrate, such as a cooling unit and a heating unit, is provided at a position where the imaging unit that acquires the positional information of the substrate and the inspection unit that is actually inspected are different. In this case, the position information of the substrate can be obtained with high accuracy by using this alignment method.

本発明の一実施形態に係る基板検査方法を用いた基板検査装置の構成の一例を示す外観斜視図である。It is an appearance perspective view showing an example of composition of a substrate inspection device using a substrate inspection method concerning one embodiment of the present invention. 図1に示す基板検査装置における筐体の内部の構造の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the structure inside the housing | casing in the board | substrate inspection apparatus shown in FIG. 図2に示す基板検査装置の筐体内部を上面視した概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure which looked at the inside of the housing | casing of the board | substrate inspection apparatus shown in FIG. 図2に示す投入ワークホルダの詳細の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of the detail of the input workpiece holder shown in FIG. 被検査基板の表裏の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the front and back of a to-be-inspected board | substrate. 図2に示す冷却部の構成の一例を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows an example of a structure of the cooling part shown in FIG. 図6に示す冷却部の載置部及び載置部を囲む側壁部と仕切板とを示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the side wall part and partition plate which surround the mounting part of the cooling part shown in FIG. 6, and a mounting part. 図2に示す予熱部及び加熱部の構成の一例を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows an example of a structure of the preheating part and heating part which are shown in FIG. 図8に示す予熱部及び加熱部における載置部及び載置部を囲む側壁部と仕切板とを示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the side wall part and partition plate which surround the mounting part and mounting part in the preheating part and heating part which are shown in FIG. 図2に示す蓋体の構成の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of a structure of the cover body shown in FIG. 図2に示す蓋体の構成の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of a structure of the cover body shown in FIG. 図2に示す固定蓋体の構成の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of a structure of the fixed cover body shown in FIG. 図2に示す移動式プローブの詳細を示す外観図である。It is an external view which shows the detail of the movable probe shown in FIG. 図2に示す基板検査装置の電気的構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of an electrical configuration of the board | substrate inspection apparatus shown in FIG. (a)は基準基板の一実施形態を示す平面図であり、(b)は撮像手段と検査手段が取得する基板の位置情報の相違を検出する場合の概念図である。(A) is a top view which shows one Embodiment of a reference | standard board | substrate, (b) is a conceptual diagram in the case of detecting the difference in the positional information on the board | substrate which an imaging means and an inspection means acquire. 本発明にかかる基板の位置合わせ方法のフローチャートである。3 is a flowchart of a substrate alignment method according to the present invention. 図15,図16に示すアライメント、温度測定、及び基板検査動作を説明するための説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining the alignment, temperature measurement, and substrate inspection operations illustrated in FIGS. 15 and 16. 図15,図16に示すアライメント、温度測定、及び基板検査動作を説明するための説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining the alignment, temperature measurement, and substrate inspection operations illustrated in FIGS. 15 and 16. 図15,図16に示すアライメント、温度測定、及び基板検査動作を説明するための説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram for explaining the alignment, temperature measurement, and substrate inspection operations illustrated in FIGS. 15 and 16. 図14に示す基板検査装置の動作を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating operation | movement of the board | substrate inspection apparatus shown in FIG. 図14に示す基板検査装置の動作を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating operation | movement of the board | substrate inspection apparatus shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板検査装置
2 筐体
3,6 空気乾燥機
4 空気冷却機
8 被検査基板
11,12 操作表示部
13 受入口
14 排出口
21 投入ワークホルダ
22 冷却部
23 予熱部
24 加熱部
25 収納ワークホルダ
26,27,30 蓋体
28,29 固定蓋体
31 ノズル
32 搬送部
33,34 カメラ
35,36 非接触温度計
37,38 移動式プローブ
39 吸引ポンプ
40 搬送駆動部
41,42,43,44,45 ガイドレール
47,48 昇降機構
49 プローブ駆動部
50 検査制御部
51 ドライエア吹出口
52 ドライエア排出口
60 制御手段
61,62,63 温度調節器
81 パット
82 ダイ
211 凹部
212,252 取手
220 冷却器
221 冷却プレート
222a〜222e,232a〜232e,242a〜242e 載置部
223 側壁部
224 仕切板
225 冷却ファン
226,228,247,248 孔
227 凹部
229,249,251,272 シート部材
231 予熱プレート
233 側壁部
234,244 仕切板
235 予熱用ヒータ
241 加熱プレート
243 側壁部
245 加熱用ヒータ
250,271 溝
261,281,301 シート
262,282,302 スペーサ
263 長孔
283 開口部
321 バキュームヘッド
371 プローブ
373 一対の接触子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 2 Housing | casing 3,6 Air dryer 4 Air cooler 8 Board | substrate to be inspected 11,12 Operation display part 13 Inlet 14 Outlet 21 Input work holder 22 Cooling part 23 Preheating part 24 Heating part 25 Storage work holder 26, 27, 30 Lid 28, 29 Fixed lid 31 Nozzle 32 Transport unit 33, 34 Camera 35, 36 Non-contact thermometer 37, 38 Mobile probe 39 Suction pump 40 Transport drive unit 41, 42, 43, 44, 45 Guide rail 47, 48 Elevating mechanism 49 Probe drive unit 50 Inspection control unit 51 Dry air outlet 52 Dry air discharge port 60 Control means 61, 62, 63 Temperature controller 81 Pad 82 Die 211 Recess 212, 252 Handle 220 Cooler 221 Cooling Plates 222a to 222e, 232a to 232e, 242a to 242 Placement part 223 Side wall part 224 Partition plate 225 Cooling fan 226, 228, 247, 248 Hole 227 Recess 229, 249, 251, 272 Sheet member 231 Preheating plate 233 Side wall part 234, 244 Partition plate 235 Preheating heater 241 Heating plate 243 Side wall 245 Heater 250, 271 Groove 261, 281, 301 Sheet 262, 282, 302 Spacer 263 Long hole 283 Opening 321 Vacuum head 371 Probe 373 Pair of contacts

Claims (6)

複数の配線パターンが形成される基板を所定検査位置に載置して、該配線パターンの良不良を判断する基板検査装置における基板の位置合わせ方法であって、
基板が載置される載置台に基準基板を載置し、該載置台を撮像手段が配置される撮像位置へ移動させ、
前記撮像位置において、前記基準基板の第一位置情報を前記撮像手段により取得し、
前記載置台を前記撮像位置から、基板の検査が行われる検査位置へ移動させ、
前記検査位置において、前記基準基板の第二位置情報を、導電性の一対の接触子を有する検査手段により取得し、
前記第一位置情報と前記第二位置情報を比較することによって、前記撮像位置と前記検査位置との補正位置情報を得
前記検査手段が取得する前記第二位置情報は、前記一対の接触子を前記基板に接触させて、該一対の接触子の導通を検出することにより取得されることを特徴とする基板検査装置の位置合わせ方法。
A substrate alignment method in a substrate inspection apparatus for mounting a substrate on which a plurality of wiring patterns are formed at a predetermined inspection position and judging whether the wiring pattern is good or defective,
Placing the reference substrate on the mounting table on which the substrate is mounted , moving the mounting table to the imaging position where the imaging means is disposed,
In the imaging position, the first position information of the reference substrate is acquired by the imaging means,
Move the mounting table from the imaging position to the inspection position where the substrate is inspected,
In the inspection position, the second position information of the reference substrate is acquired by an inspection means having a pair of conductive contacts ,
By comparing the first position information and the second position information, the correction position information of the imaging position and the inspection position is obtained ,
The second position information acquired by the inspection means is acquired by bringing the pair of contacts into contact with the substrate and detecting conduction of the pair of contacts . Alignment method.
前記載置台は、前記載置台に載置される基板を加熱又は冷却するための温度調整位置から前記撮像位置へ移動させられることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置の位置合わせ方法。   2. The alignment method for a substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the mounting table is moved from a temperature adjustment position for heating or cooling a substrate mounted on the mounting table to the imaging position. 前記撮像手段が取得する第一位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含み、
前記検査手段が取得する第二位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含んでいることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置の位置合わせ方法。
The first position information acquired by the imaging means includes at least the center position information of the center of the substrate and the rotation position information of the substrate,
2. The alignment method for a substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the second position information acquired by the inspection means includes at least central position information of the center of the substrate and rotation position information of the substrate.
複数の配線パターンが形成される基板を所定検査位置に載置して、該配線パターンの良不良を判断する基板検査装置であって、
前記基板を撮像するための撮像部において、載置台に載置される基準基板を撮像して該基準基板の第一位置情報を作成する撮像手段と、
前記基板を検査するための検査部において、載置台に載置される前記基準基板と電気的接触により該基準基板の第二位置情報を作成する検査手段と、
前記載置台を、前記撮像部から前記検査部へ移動させる移動手段と、
前記第一位置情報と前記第二位置情報を受信して、検査対象となる基板の位置情報のずれを算出する制御手段とを有し、
前記検査手段は、導電性の一対の接触子を有し、該一対の接触子を前記基準基板に接触させて、該一対の接触子の導通を検出することにより前記第二位置情報を取得することを特徴とする基板検査装置。
A substrate inspection apparatus for placing a substrate on which a plurality of wiring patterns are formed at a predetermined inspection position and judging whether the wiring pattern is good or bad,
In an imaging unit for imaging the substrate, an imaging unit that images a reference substrate placed on a mounting table and creates first position information of the reference substrate;
In the inspection unit for inspecting the substrate, inspection means for creating second position information of the reference substrate by electrical contact with the reference substrate placed on a mounting table;
Moving means for moving the mounting table from the imaging unit to the inspection unit;
Control means for receiving the first position information and the second position information, and calculating a displacement of the position information of the substrate to be inspected ;
The inspection means has a pair of conductive contacts, contacts the pair of contacts with the reference substrate, and acquires the second position information by detecting conduction of the pair of contacts. A substrate inspection apparatus.
前記移動手段は、前記載置台を加熱又は冷却するための温度調整部から前記撮像部へ移動させることを特徴とする請求項記載の基板検査装置。 5. The substrate inspection apparatus according to claim 4 , wherein the moving unit moves the temperature of the mounting table from the temperature adjustment unit for heating or cooling to the imaging unit. 前記撮像手段が取得する第一位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含み、
前記検査手段が取得する第二位置情報は、少なくとも前記基板の中央の中央位置情報と該基板の回転位置情報を含んでいることを特徴とする請求項記載の基板検査装置。
The first position information acquired by the imaging means includes at least the center position information of the center of the substrate and the rotation position information of the substrate,
5. The substrate inspection apparatus according to claim 4 , wherein the second position information acquired by the inspection means includes at least central position information of the center of the substrate and rotation position information of the substrate.
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