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JP4850428B2 - Manufacturing method of slider - Google Patents

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JP4850428B2 JP2005091671A JP2005091671A JP4850428B2 JP 4850428 B2 JP4850428 B2 JP 4850428B2 JP 2005091671 A JP2005091671 A JP 2005091671A JP 2005091671 A JP2005091671 A JP 2005091671A JP 4850428 B2 JP4850428 B2 JP 4850428B2
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Description

本発明は、主に、ハードディスクドライブに用いられるスライダおよびその製造方法に関する。   The present invention mainly relates to a slider used in a hard disk drive and a manufacturing method thereof.

高速、大容量、高信頼性、低コストの記録媒体としてハードディスクドライブが、デジタル情報の記録に広く用いられており、長年の技術開発によりハードディスクドライブの記録密度は、100ギガビット/平方インチを超えつつある。ハードディスクドライブには、アームと、アームの先端に設けられたヘッドジンバルアセンブリとを有するヘッドアームアセンブリが、記録媒体である磁気ディスクの枚数に応じて複数個設けられている。ヘッドジンバルアセンブリは磁気ヘッドスライダ(以下、スライダという。)を有し、スライダは、記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部を有している。リードライト部はスライダの一端部に設けられている。スライダが記録媒体と対向する面は媒体対向面(ABS)と呼ばれる。   Hard disk drives are widely used for recording digital information as high-speed, large-capacity, high-reliability, low-cost recording media, and the recording density of hard disk drives has exceeded 100 gigabits per square inch due to many years of technological development. is there. A hard disk drive is provided with a plurality of head arm assemblies each having an arm and a head gimbal assembly provided at the tip of the arm in accordance with the number of magnetic disks as recording media. The head gimbal assembly has a magnetic head slider (hereinafter referred to as slider), and the slider is provided with at least one of a writing element for writing information to the recording medium and a reading element for reading information from the recording medium. The read / write portion is provided. The read / write part is provided at one end of the slider. The surface where the slider faces the recording medium is called the medium facing surface (ABS).

スライダが記録媒体への情報の記録・再生をおこなう際には、スライダと高速回転する記録媒体との間に空気流が流入する。空気流は、リードライト部の設けられている端部の反対側の端部から流入し、リードライト部の設けられた端部からスライダ外へと抜ける。スライダはこの空気流によって、記録媒体からわずかに浮上する。このように空気流によって浮上しているときのABSと記録媒体の表面との距離は浮上量と呼ばれている。   When the slider records and reproduces information on the recording medium, an air flow flows between the slider and the recording medium rotating at high speed. The airflow flows from the end opposite to the end where the read / write portion is provided, and exits from the end where the read / write portion is provided to the outside of the slider. The slider floats slightly from the recording medium by this air flow. Thus, the distance between the ABS and the surface of the recording medium when flying by an air flow is called the flying height.

浮上量が小さくなると記録媒体のビット長が短くなるため、記録媒体の高密度化には浮上量の低減が有効である。このため、ハードディスクドライブの近年のさらなる高記録密度化の要求に応じ、浮上量をより一層抑えることが要求されている。   Since the bit length of the recording medium is shortened when the flying height is reduced, reducing the flying height is effective for increasing the density of the recording medium. For this reason, it is required to further suppress the flying height in response to the recent demand for higher recording density of hard disk drives.

ところで、スライダの媒体対向面には、スライダと記録媒体との間に適切に空気流を流入させるために、空気の流れを整える凹凸部が形成されている。凸部は、リードライト部と、空気流流入方向に延びるレール部とを含んでいる。しかし、リードライト部と凹部とが90°に近い角度で、すなわちほぼ直角に形成されたエッジ部で接続されると、エッジ部の壁面の近傍で渦流が発生し、空気の流れが不安定となるだけでなく、エッジ部の欠落が起こりやすくなり好ましくない。そのため、リードライト部と凹部との間は傾斜部で接続されることがある。傾斜部を設けることによって、空気流は傾斜部に沿って、リードライト部と記録媒体との間の微小空間にスムーズに流入する。傾斜部は、曲面段傾斜構造とされる場合もある(特許文献1,特許文献2の図3(d)参照。)。   By the way, an uneven portion for adjusting the air flow is formed on the medium facing surface of the slider in order to allow the air flow to appropriately flow between the slider and the recording medium. The convex part includes a read / write part and a rail part extending in the air flow inflow direction. However, if the read / write part and the concave part are connected at an angle close to 90 °, that is, at an edge part formed at a substantially right angle, eddy currents are generated near the wall surface of the edge part, and the air flow is unstable. In addition, the edge portion is easily lost, which is not preferable. Therefore, the read / write part and the recess may be connected by an inclined part. By providing the inclined portion, the airflow smoothly flows along the inclined portion into a minute space between the read / write portion and the recording medium. The inclined portion may be a curved stepped inclined structure (see FIG. 3D of Patent Document 1 and Patent Document 2).

このような傾斜部を形成するためには、イオンミリングが用いられる。イオンミリングとは、イオン源チャンバー内で発生させたプラズマ中のイオンを引出電極によってイオンビームとして引き出し、スライダの製造工程で基板等の被加工物の表面をミリングする方法である。イオンビームの進行方向と被加工物表面の法線との角度を90度以外に設定し(すなわち、イオンビームを斜め入射させ)、被加工物を法線のまわりで回転させることによって、イオンビームがレジストの陰になる部分が生じ、傾斜部を容易に形成することができる。傾斜部の形成には、反応性イオンエッチング(RIE)が用いられることもある(特許文献3参照)。RIEでは、反応性ガス(CF4、CH2、H2など)雰囲気でミリングを行うことで、エッチング速度を増加させることができる。
特開2001−229514号公報 特開2002−312916号公報 特開2003−323707号公報
In order to form such an inclined portion, ion milling is used. Ion milling is a method in which ions in plasma generated in an ion source chamber are extracted as an ion beam by an extraction electrode, and the surface of a workpiece such as a substrate is milled in a slider manufacturing process. By setting the angle between the traveling direction of the ion beam and the normal line of the workpiece surface to a value other than 90 degrees (that is, making the ion beam obliquely incident) and rotating the workpiece around the normal line, As a result, a shadowed portion of the resist is generated, and the inclined portion can be easily formed. Reactive ion etching (RIE) may be used to form the inclined portion (see Patent Document 3). In RIE, the etching rate can be increased by performing milling in a reactive gas (CF 4 , CH 2 , H 2, etc.) atmosphere.
JP 2001-229514 A JP 2002-312916 A JP 2003-323707 A

上述の通り、スライダの浮上量を抑えることは、ハードディスクドライブの高記録密度化を達成する上で重要である。そのためには、空気流をよりスムーズに制御することが重要であり、傾斜部を単なる平面や曲面ではなく、より最適化された形状とすることが望ましい。   As described above, suppressing the flying height of the slider is important in achieving high recording density of the hard disk drive. For that purpose, it is important to control the air flow more smoothly, and it is desirable that the inclined portion has a more optimized shape rather than a simple plane or curved surface.

一方、スライダの浮上量を抑えるためには浮上量のばらつきを抑えることも重要である。そのためには、大きな浮力が発生する傾斜部の裾の長さ(すなわち斜面の長さ)のばらつきを抑えることが重要であり、傾斜部を精度よく、ばらつきなく製造することが望まれる。従来技術においては、このような観点から、傾斜部の角度の調整や、曲面傾斜部の形成が容易なイオンミリング法が使われてきた。しかし、イオンミリング法は、傾斜部の長さの製造上のばらつきが目標長さに対して2倍〜5倍に達することがあり、浮上量のばらつきが大きくなっていた。また、硬度の高いセラミクスの形成に使用すると、エッチング速度が非常に遅く、生産性が低下するという問題があった。   On the other hand, in order to suppress the flying height of the slider, it is also important to suppress variations in the flying height. For this purpose, it is important to suppress the variation in the length of the skirt of the inclined portion (that is, the length of the inclined surface) in which large buoyancy is generated, and it is desired to manufacture the inclined portion with high accuracy and no variation. In the prior art, from this point of view, an ion milling method that allows easy adjustment of the angle of the inclined portion and formation of the curved inclined portion has been used. However, in the ion milling method, the manufacturing variation in the length of the inclined portion may reach 2 to 5 times the target length, and the flying height variation is large. Further, when used for forming ceramics with high hardness, there is a problem that the etching rate is very slow and the productivity is lowered.

また、RIEは、イオンの入射方向によってエッチングの方向を決定できるイオンミリングとは異なり、反応性ガスによる化学エッチングを利用しているため、エッチング方向を制御することができず、傾斜部の角度の調整や、特殊形状の斜面構造の形成は困難であった。すなわち、RIEでは、高周波電力を印加してからプラズマが安定するまでに数秒間を要し、その間に10nm以上エッチングが進んでしまい、この不安定期間中のエッチングがばらつきの原因となり、上述のような斜面構造を精度よく形成することは困難であった。   In addition, unlike ion milling in which the etching direction can be determined by the incident direction of ions, RIE uses chemical etching with a reactive gas, so the etching direction cannot be controlled, and the angle of the inclined portion is not controlled. Adjustment and formation of specially shaped slope structures were difficult. In other words, in RIE, it takes several seconds for the plasma to stabilize after applying high-frequency power, and during that time, etching progresses by 10 nm or more, and etching during this unstable period causes variation, as described above. It was difficult to accurately form a simple slope structure.

本発明の目的は、上記の状況を踏まえ、浮力のばらつきが小さい傾斜部構造を有するスライダと、当該傾斜部を精度よく、ばらつきを抑えて、効率的に製造できるスライダの製造方法を提供することにある。   In view of the above situation, an object of the present invention is to provide a slider having an inclined portion structure with small variation in buoyancy, and a slider manufacturing method capable of efficiently manufacturing the inclined portion with high accuracy, suppressing variation. It is in.

本発明のスライダの製造方法は、基板と、基板の記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部と、記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する、媒体対向面の凹部と、リードライト部の表面と接続される直線状の第一の傾斜部と、第一の傾斜部及び前記凹部の表面と接続される直線状の第二の傾斜部と、を有する傾斜部とを有するスライダの製造方法である。本製造方法は、基板上のリードライト部が形成された部分にレジストを形成するステップと、レジストが形成された基板を、CF4ガスを含む第一の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、基板の空気流流入方向側でレジストに隣接する部分に第一の傾斜部を形成する、第一の傾斜部形成ステップと、第一の傾斜部が形成された基板を、CF4ガスとC22ガスとを含む第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、第一の傾斜部の表面上、および、第一の傾斜部に隣接してレジストの反対方向に延びる基板の表面上に、C 2 2 ガスによって生成されたカーボンおよびダイヤモンド状炭素からなる堆積物を堆積させ、堆積物が堆積した基板を、第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、凹部おび第二の傾斜部を、第二の傾斜部の凹部に対する傾斜角θ2(ただし、θ2は鋭角)が第一の傾斜部の凹部に対する傾斜角θ1(ただし、θ1は鋭角または直角)よりも小さくなるように形成する、第二の傾斜部形成ステップとを有している。 The slider manufacturing method of the present invention includes a substrate, a writing element provided as a convex portion on the surface of the substrate facing the recording medium, and writing information to the recording medium, and reading information from the recording medium. A read / write unit provided with at least one of the reading elements to be performed, a recess on the medium facing surface located on the air flow inflow direction when the recording medium is driven to rotate , and a straight line connected to the surface of the read / write unit a first inclined portion of Jo, a method of manufacturing a slider having a second inclined portion straight connected to the first inclined portion and the concave surface, an inclined portion that have a, a. This manufacturing method includes the Luz step to form a resist read-write portion is formed partially on the substrate, the substrate on which the resist is formed by using a first reactive gas containing CF 4 gas, reactive is etched by ion etching to form a first inclined portion in a portion adjacent to resist air stream inflow direction of the substrate, a first inclined portion forming step, a substrate first inclined portion is formed Etching by a reactive ion etching method using a second reactive gas containing CF 4 gas and C 2 H 2 gas, and on the surface of the first inclined portion and adjacent to the first inclined portion. Then, a deposit made of carbon and diamond-like carbon generated by C 2 H 2 gas is deposited on the surface of the substrate extending in the opposite direction of the resist , and the substrate on which the deposit is deposited is used as a second reaction gas. Use reactive ion etch Etched with grayed method, the second inclined portion recess us good beauty, inclination angle .theta.2 with respect to the concave portion of the second inclined portion (although, .theta.2 is acute) angle of inclination .theta.1 (although the relative recess in the first inclined portion , .theta.1 has formed to be smaller than the acute angle or a right angle), a second inclined portion forming step.

このように、CF4ガスを含む第一の反応ガスでエッチングして第一の傾斜部を形成した後、CF4ガスとC22ガスとを含む第二の反応ガスでエッチングすることによって、C22ガスによって生成されたカーボンおよびDLCが第一の傾斜部やその周辺の基板に堆積する。この堆積物は、引き続き行なわれる第二の傾斜部形成ステップにおいて、堆積物の下方にある第一の傾斜部や基板を保護するので、エッチングの進行が堆積物で覆われていない基板に比べて遅くなる。このため、上述したような形状の傾斜部を形成することができる。 As described above, by etching with the first reactive gas containing CF 4 gas to form the first inclined portion, etching with the second reactive gas containing CF 4 gas and C 2 H 2 gas is performed. , Carbon and DLC generated by the C 2 H 2 gas are deposited on the first inclined portion and the surrounding substrate. Since this deposit protects the first inclined portion and the substrate below the deposit in the subsequent second inclined portion forming step, the progress of etching is compared with the substrate not covered with the deposit. Become slow. For this reason, the inclined part having the shape as described above can be formed.

第一の反応ガスArガスをさらに含んでいてもよい。 The first reaction gas may further comprise an Ar gas.

第一の傾斜部形成ステップは、第一の傾斜部形成ステップが終了した状態のまま、反応ガスを第二の反応ガスに変更し、エッチングをおこなうことによって、堆積物を堆積させることが好ましい。 The first inclined portion forming step, the state where the first inclined portion forming step is completed, by changing the reaction gas to the second reaction gas, by performing the error etching, it is preferable to deposit a sediment .

また、第二の傾斜部形成ステップは、堆積物が堆積した後、引き続きエッチングをおこなうことによって、第二の傾斜部を形成することが好ましく、第二の傾斜部形成ステップは、反応ガスを第二の反応ガスのままでエッチングをおこなうことによって、第二の傾斜部を形成することが好ましい。 The second inclined portion forming step, after the deposit has been deposited, by performing continue come et etching, it is preferable to form the second inclined portion, a second inclined portion forming step, the reaction It is preferable to form the second inclined portion by performing etching while keeping the gas as the second reaction gas.

第二の傾斜部形成ステップの終了後、有機系溶液によりレジストを除去するステップを有していてもよい。また、第二の傾斜部形成ステップの終了後、堆積物をO2ガスによって除去するステップを有していてもよい。

You may have the step of removing a resist with an organic type solution after completion | finish of a 2nd inclination part formation step. Further, after the end of the second inclined portion forming step, a deposit may have the step of removing the O 2 gas.

以上説明したように、本発明のスライダによれば、傾斜部を2つ以上の角度を持つ面を組み合わせた多段傾斜構造とすることで、浮力のばらつきが小さい傾斜部構造を有するスライダを提供することができる。また、本発明のおよびスライダの製造方法によれば、このような多段斜面構造を、反応性イオンエッチング法で精度よく製造できるので、製造時間の短縮など製造効率の向上も可能となる。   As described above, according to the slider of the present invention, it is possible to provide a slider having an inclined portion structure in which variation in buoyancy is small by forming the inclined portion into a multistage inclined structure in which surfaces having two or more angles are combined. be able to. In addition, according to the slider manufacturing method of the present invention, such a multi-step slope structure can be accurately manufactured by the reactive ion etching method, so that manufacturing efficiency can be improved, such as shortening of manufacturing time.

以下、図面を参照して、本発明のスライダおよびスライダの製造方法について詳細に説明する。図1には、スライダを先端に有するヘッドアームアセンブリの斜視図を示している。ヘッドアームアセンブリ1は、ハードディスク装置(図11参照)の内部に、ディスクの枚数に応じて複数個設けられている。ヘッドアームアセンブリ1は、アーム11と、アーム11の先端に設けられたヘッドジンバルアセンブリ2とを有しており、アーム11の他端は回転する軸12に支持されている。ヘッドジンバルアセンブリ2は、薄膜磁気ヘッド部28(図2参照)を有するスライダ21と、スライダ21を支持するフレクシャ22と、フレクシャ22をアーム11に接続するロードビーム23とを有している。ヘッドアームアセンブリ1は、軸12を中心に回転し、記録媒体Pに対してスライダ21を所定の位置に位置決めする。ロードビーム23と、ロードビーム23をアーム11に取り付けるベースプレート23aとを合わせて、サスペンションと呼ばれることもある。図1においては、スライダ21は記録媒体Pの下側に設けられているが、記録媒体Pの上側にも同様のヘッドアームアセンブリが設置されている。   Hereinafter, a slider and a method for manufacturing the slider according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a head arm assembly having a slider at the tip. A plurality of head arm assemblies 1 are provided in the hard disk device (see FIG. 11) according to the number of disks. The head arm assembly 1 includes an arm 11 and a head gimbal assembly 2 provided at the tip of the arm 11, and the other end of the arm 11 is supported by a rotating shaft 12. The head gimbal assembly 2 includes a slider 21 having a thin film magnetic head portion 28 (see FIG. 2), a flexure 22 that supports the slider 21, and a load beam 23 that connects the flexure 22 to the arm 11. The head arm assembly 1 rotates about the shaft 12 and positions the slider 21 at a predetermined position with respect to the recording medium P. A combination of the load beam 23 and a base plate 23a for attaching the load beam 23 to the arm 11 may be referred to as a suspension. In FIG. 1, the slider 21 is provided below the recording medium P, but a similar head arm assembly is also provided above the recording medium P.

図2には、スライダを媒体対向面ABSからみた斜視図を示す。スライダ21は、図1と同様に斜め上から見下ろす向きで表示されており、スライダ21の上方に、回転駆動される円盤状の記録媒体Pが設けられている。図1、2におけるx方向は、記録媒体Pのトラック横断方向、z方向は記録媒体Pの円周方向で、記録媒体Pの回転中は空気流流入方向となる。   FIG. 2 is a perspective view of the slider as seen from the medium facing surface ABS. The slider 21 is displayed in a direction looking down obliquely from the top as in FIG. 1, and a disk-shaped recording medium P that is rotationally driven is provided above the slider 21. The x direction in FIGS. 1 and 2 is the track transverse direction of the recording medium P, the z direction is the circumferential direction of the recording medium P, and the air flow inflow direction while the recording medium P is rotating.

スライダ21は、基板27と、積層体からなる薄膜磁気ヘッド部28とを有している。スライダ21はほぼ六面体形状をなし、六面のうちの一面が記録媒体Pと対向する媒体対向面ABSを形成している。媒体対向面ABSには、薄膜磁気ヘッド部28の読み込み・書き込み素子が設けられたリードライト部24と、レール部25a、25bとが設けられ、これらは媒体対向面ABSの凸部29を形成している。リードライト部24の空気流流入方向には、リードライト部24に接続された傾斜部6が形成されている。残りの部分は、媒体対向面ABSの凹部26を形成し、傾斜部6は、凹部26の空気流流入方向側に接続されている。   The slider 21 has a substrate 27 and a thin film magnetic head portion 28 made of a laminate. The slider 21 has a substantially hexahedron shape, and one surface of the six surfaces forms a medium facing surface ABS that faces the recording medium P. The medium facing surface ABS is provided with a read / write portion 24 provided with read / write elements of the thin film magnetic head portion 28 and rail portions 25a and 25b, which form a convex portion 29 of the medium facing surface ABS. ing. An inclined portion 6 connected to the read / write portion 24 is formed in the air flow inflow direction of the read / write portion 24. The remaining portion forms a concave portion 26 of the medium facing surface ABS, and the inclined portion 6 is connected to the air flow inflow direction side of the concave portion 26.

記録媒体Pが回転すると、空気流は、スライダ21の空気流流入方向側から進入し、薄膜磁気ヘッド部28が設けられた記録媒体進行方向zの下流側端部からスライダ21外へ抜ける。すなわち、空気流は、レール部25bと記録媒体Pとの間のわずかな隙間に入り、レール部25a,25bと傾斜部6で整流され、リードライト部24と記録媒体Pとの間の隙間に入る。この空気流によって、図1、2のy方向下向きの揚力が生じ、スライダ21は、記録媒体Pの表面から浮上する。   When the recording medium P rotates, the air flow enters from the air flow inflow direction side of the slider 21 and escapes from the slider 21 from the downstream end in the recording medium traveling direction z where the thin film magnetic head portion 28 is provided. That is, the air flow enters a slight gap between the rail portion 25 b and the recording medium P, is rectified by the rail portions 25 a and 25 b and the inclined portion 6, and enters the gap between the read / write portion 24 and the recording medium P. enter. The air flow generates a downward lift in the y direction in FIGS. 1 and 2, and the slider 21 floats from the surface of the recording medium P.

図3には、図2に示すスライダの、同図中3−3線に沿った断面図を示す。図3において、記録媒体P(図示せず)は、媒体対向面ABSの図面上側に、図面と垂直な方向に広がっている。薄膜磁気ヘッド部28は、記録媒体Pから磁気記録を読み出す磁気抵抗効果素子と、記録媒体Pに磁気記録の書き込みを行なう誘導型磁気変換素子とを有しているが、いずれか一方だけを有していてもかまわない。誘導型磁気変換素子は、記録媒体Pの面内方向への記録を行なう水平記録方式と、記録媒体Pの面外方向への記録を行なう垂直記録方式のいずれでもよい。   FIG. 3 shows a cross-sectional view of the slider shown in FIG. 2 along the line 3-3 in FIG. In FIG. 3, the recording medium P (not shown) extends in the direction perpendicular to the drawing above the medium facing surface ABS. The thin film magnetic head portion 28 has a magnetoresistive effect element that reads magnetic recording from the recording medium P and an inductive magnetic transducer element that writes magnetic recording on the recording medium P, but has only one of them. You can do it. The induction type magnetic conversion element may be either a horizontal recording system that performs recording in the in-plane direction of the recording medium P or a vertical recording system that performs recording in the out-of-plane direction of the recording medium P.

薄膜磁気ヘッド部28は、図中右側の、アルティック(Al23・TiC)等のセラミック材料からなる基板27から、図中左側に向けて順次積層されて構成されている。基板27の上(図中では左側。以下同じ。)には、絶縁層を介して、例えばパーマロイ(NiFe)からなるシールド層31が形成されている。シールド層31の上には読み込み素子であるMR素子32が、媒体対向面ABSに面して設けられている。MR素子32としては、AMR(異方性磁気抵抗効果)素子、GMR(巨大磁気抵抗効果)素子、またはTMR(トンネル磁気抵抗効果)素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子を用いることができる。また、MR素子32には、読み取った信号を送る一対のリード層(図示せず)が接続されている。 The thin film magnetic head portion 28 is configured by sequentially laminating from the substrate 27 made of a ceramic material such as AlTiC (Al 2 O 3 .TiC) on the right side in the drawing toward the left side in the drawing. A shield layer 31 made of, for example, permalloy (NiFe) is formed on the substrate 27 (left side in the figure; the same applies hereinafter) with an insulating layer interposed therebetween. An MR element 32 as a reading element is provided on the shield layer 31 so as to face the medium facing surface ABS. As the MR element 32, an element using a magnetosensitive film showing a magnetoresistance effect, such as an AMR (anisotropic magnetoresistance effect) element, a GMR (giant magnetoresistance effect) element, or a TMR (tunnel magnetoresistance effect) element, is used. Can be used. The MR element 32 is connected to a pair of lead layers (not shown) that send the read signals.

MR素子32の上には、例えば、パーマロイやCoNiFe等の、めっき法によって成膜可能な磁性材料からなる下部磁極層33が形成されている。下部磁極層33は、記録ヘッドの下部磁極層としての機能と、再生ヘッド(MR素子32)の上部シールド層としての機能を兼ねている。   On the MR element 32, a lower magnetic pole layer 33 made of a magnetic material such as permalloy or CoNiFe that can be formed by a plating method is formed. The lower magnetic pole layer 33 has both a function as a lower magnetic pole layer of the recording head and a function as an upper shield layer of the reproducing head (MR element 32).

下部磁極層33の上には、絶縁のための記録ギャップ34を介して、上部磁極層35が設けられている。記録ギャップ34の材料としては、例えば、NiP等のめっき法によって成膜可能な非磁性金属材料が用いられる。上部磁極層35の材料としては、例えば、パーマロイやCoNiFe等のめっき法によって成膜可能な磁性材料が用いられ、特に、高飽和磁束密度材料が好ましい。下部磁極層33と上部磁極層35は接続部36によって接続され、全体で1個のU字型導体を形成している。   An upper magnetic pole layer 35 is provided on the lower magnetic pole layer 33 via a recording gap 34 for insulation. As the material of the recording gap 34, for example, a nonmagnetic metal material that can be formed by a plating method such as NiP is used. As the material of the upper magnetic pole layer 35, for example, a magnetic material that can be formed by a plating method such as permalloy or CoNiFe is used, and a high saturation magnetic flux density material is particularly preferable. The lower magnetic pole layer 33 and the upper magnetic pole layer 35 are connected by a connecting portion 36 to form a single U-shaped conductor as a whole.

上部磁極層35と下部磁極層33との間の、媒体対向面ABSと接続部36との間には、銅等の導電性材料からなる2段積みのコイル37a、37bが設けられている。コイル37a、37bは接続部36を中心に巻回して設けられ、上部磁極層35と下部磁極層33とに磁束を供給する。コイル37aは絶縁層38に、コイル37bは絶縁層39、40に取り囲まれて周囲から絶縁されている。コイル37bには外部からの電流信号を受けるリード層(図示せず)が接続している。上部磁極層35とリード層とを覆うように、オーバーコート層41が形成されている。オーバーコート層41の材料には、例えばアルミナ等の絶縁材料が用いられる。   Between the medium facing surface ABS and the connection portion 36 between the upper magnetic pole layer 35 and the lower magnetic pole layer 33, two-stage coils 37a and 37b made of a conductive material such as copper are provided. The coils 37 a and 37 b are provided around the connection portion 36 and supply magnetic flux to the upper magnetic pole layer 35 and the lower magnetic pole layer 33. The coil 37a is surrounded by the insulating layer 38, and the coil 37b is surrounded by the insulating layers 39 and 40 and insulated from the surroundings. A lead layer (not shown) for receiving a current signal from the outside is connected to the coil 37b. An overcoat layer 41 is formed so as to cover the upper magnetic pole layer 35 and the lead layer. As the material of the overcoat layer 41, for example, an insulating material such as alumina is used.

媒体対向面ABSは、レール部25aが記録媒体Pに対して最も突出し、リードライト部24は、レール部25aよりも1〜3nmほど記録媒体Pに対して引込んでいる。レール部25a、25bの段差は必ずしも必要ではない。媒体対向面ABSには、SiとDLC(Diamond like carbon;ダイヤモンド状炭素)との混合膜からなる厚さ1〜4nm程度の保護膜42が形成されている。スライダ21の媒体対向面ABSの裏面43はスライダ21を支持するフレクシャ22との接触面となる。   In the medium facing surface ABS, the rail portion 25a protrudes most with respect to the recording medium P, and the read / write portion 24 is drawn into the recording medium P by about 1 to 3 nm from the rail portion 25a. The steps of the rail portions 25a and 25b are not necessarily required. On the medium facing surface ABS, a protective film 42 having a thickness of about 1 to 4 nm made of a mixed film of Si and DLC (Diamond like carbon) is formed. The back surface 43 of the medium facing surface ABS of the slider 21 serves as a contact surface with the flexure 22 that supports the slider 21.

図4(a)には、図3のA部に示す傾斜部のyz面(図2参照)と平行な面内における部分拡大断面図を示す。傾斜部6は、リードライト部24と、記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側の凹部26とを接続する直線Lが、リードライト部24の表面に対して90°を越える角度αをなすように形成されている。傾斜部6は略直線状の第一の傾斜部61と、略直線状の第二の傾斜部62とを有している。第一の傾斜部61はリードライト部24の表面と交差角θ1で接続し、第二の傾斜部62は一方が第一の傾斜部61と接続し、他方が凹部26と交差角θ2で接続している。図4(b)は従来技術による傾斜部の部分拡大図を示すが、本実施形態のスライダにおいては、交差角θ1は交差角θ2より大きい。また、図中に示す交差角θ1,θ2、リードライト部24と凹部26との段差d、リードライト部24と、第一,第二の傾斜部61,62の交点63との段差d1、傾斜部長さsは、表1に示す範囲が好ましい。なお、交差角θ1は、第一の傾斜部61とリードライト部24の表面とのなす角度β1の補角であり、交差角θ2は、第二の傾斜部62と凹部27の表面とのなす角度β2の補角である。換言すれば、第一の傾斜部61の凹部26または凹部26の延長線に対する第一の傾斜角(交差角θ1に等しい)が、第二の傾斜部62の凹部26または凹部26の延長線に対する第二の傾斜角(交差角θ2に等しい)よりも大きいということである。   FIG. 4A shows a partially enlarged cross-sectional view in a plane parallel to the yz plane (see FIG. 2) of the inclined portion shown in part A of FIG. The inclined portion 6 has an angle at which a straight line L connecting the read / write portion 24 and the concave portion 26 on the air flow inflow direction side when the recording medium is rotationally driven exceeds 90 ° with respect to the surface of the read / write portion 24. It is formed so as to form α. The inclined portion 6 includes a substantially straight first inclined portion 61 and a substantially straight second inclined portion 62. The first inclined portion 61 is connected to the surface of the read / write portion 24 at an intersection angle θ1, and the second inclined portion 62 is connected to the first inclined portion 61 at one side and the other is connected to the concave portion 26 at an intersection angle θ2. is doing. FIG. 4B shows a partially enlarged view of the inclined portion according to the prior art. In the slider of this embodiment, the crossing angle θ1 is larger than the crossing angle θ2. Further, the intersection angles θ1 and θ2, the step d between the read / write portion 24 and the recess 26, the step d1 between the read / write portion 24 and the intersection 63 of the first and second inclined portions 61 and 62, and the inclination shown in the figure. The part length s is preferably in the range shown in Table 1. The intersection angle θ1 is a complementary angle of the angle β1 formed by the first inclined portion 61 and the surface of the read / write portion 24, and the intersection angle θ2 is formed by the second inclined portion 62 and the surface of the recess 27. It is a complementary angle of the angle β2. In other words, the first inclination angle (equal to the intersection angle θ1) of the first inclined portion 61 with respect to the concave portion 26 or the extension line of the concave portion 26 is relative to the concave portion 26 of the second inclined portion 62 or the extension line of the concave portion 26. This is larger than the second inclination angle (equal to the crossing angle θ2).

Figure 0004850428
これらの2ケースの形状をレール25aの設計にあわせて使い分けることで、より安定に浮上するスライダを製造することができる。
Figure 0004850428
By properly using the shapes of these two cases in accordance with the design of the rail 25a, a slider that floats more stably can be manufactured.

また、傾斜部の形状は上述した2段傾斜構造に限定されず、3段以上の多段傾斜構造も可能である。この場合、スライダは、第一の傾斜部と第二の傾斜部との間に少なくとも一つの中間傾斜部を有し、中間傾斜部の各々は、凹部26に対する傾斜角が、第一の傾斜部から第二の傾斜部に向けて、第一の傾斜角よりも順次小さくなり、かつ第二の傾斜角よりは大きくなるように形成される。   Further, the shape of the inclined portion is not limited to the above-described two-stage inclined structure, and a multi-stage inclined structure having three or more stages is also possible. In this case, the slider has at least one intermediate inclined portion between the first inclined portion and the second inclined portion, and each of the intermediate inclined portions has an inclination angle with respect to the concave portion 26. From the first to the second inclined portion, the first inclined angle is sequentially smaller and the second inclined angle is larger.

また、リードライト部の形状も上述した構造に限定されず、2段以上の多段構造であっても良い。   Further, the shape of the read / write portion is not limited to the above-described structure, and may be a multistage structure having two or more stages.

次に、以上説明したスライダの製造方法、特に傾斜部の形成方法を図5のフロー図を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the slider described above, particularly a method for forming the inclined portion, will be described with reference to the flowchart of FIG.

(ステップ51)まず、図6(a)のように、ウエハ71の上に多数個の薄膜磁気ヘッド部28を薄膜工程によって積層し、図6(b)のように、ウエハ71を短冊状の複数のバー72に切断する。なお、ウエハ71および切断されたバー72には、次のステップ52における媒体対向面ABSの研磨量を管理するため、あらかじめ複数の薄膜磁気ヘッド部28ごとに1つの測定素子73が設けられている。   (Step 51) First, as shown in FIG. 6A, a large number of thin film magnetic head portions 28 are stacked on a wafer 71 by a thin film process, and the wafer 71 is formed into a strip shape as shown in FIG. Cut into multiple bars 72. The wafer 71 and the cut bar 72 are provided with one measuring element 73 in advance for each of the plurality of thin film magnetic head units 28 in order to manage the polishing amount of the medium facing surface ABS in the next step 52. .

(ステップ52)次に、バー72の裏面43を研磨する。研磨作業は例えば、ダイヤモンド砥粒を含む水溶性または油性のラップ液を供給しながら、回転する研磨台上にバー72を固定し、裏面43を押し当てておこなわれる。これによって裏面43が平滑化され、完成したスライダ21がフレクシャ22に確実に固定される。   (Step 52) Next, the back surface 43 of the bar 72 is polished. For example, the polishing operation is performed by fixing the bar 72 on the rotating polishing table and pressing the back surface 43 while supplying a water-soluble or oil-based lapping solution containing diamond abrasive grains. As a result, the back surface 43 is smoothed, and the completed slider 21 is securely fixed to the flexure 22.

(ステップ53)次に、媒体対向面ABSを研磨する。この研磨作業は、図7に示すように、MR素子32のMR高さ(MR素子の媒体対向面ABSから反対側の端部までの高さ)をあらかじめ余裕をもって形成しておき、媒体対向面ABSを研磨することによって所定のMR高さを形成するためにおこなわれる。研磨作業は例えば、Sn(スズ)からなる円板の表面にダイヤモンド砥粒を埋め込んで形成された研磨板の表面に、バー72の媒体対向面ABSを押し当てておこなわれる。これによって、媒体対向面ABSの位置は本ステップ開始前に比べて全体的に内側(コイル37a等のある側)移動する。   (Step 53) Next, the medium facing surface ABS is polished. In this polishing operation, as shown in FIG. 7, the MR height of the MR element 32 (the height of the MR element from the medium facing surface ABS to the opposite end) is formed beforehand with a margin, and the medium facing surface is formed. This is done to form a predetermined MR height by polishing the ABS. The polishing operation is performed, for example, by pressing the medium facing surface ABS of the bar 72 against the surface of a polishing plate formed by embedding diamond abrasive grains in the surface of a disk made of Sn (tin). As a result, the position of the medium facing surface ABS moves as a whole (on the side where the coil 37a and the like are present) as compared to before the start of this step.

(ステップ54)次に、図8に示すように、媒体対向面ABSに凹凸部を形成する。具体的には、媒体対向面ABSの一部をRIEによって除去し、凹部26とレール部25bと、傾斜部6を形成する。このうち、傾斜部6の形成方法について、表1のケース2の形状を形成する場合を例に、図9を参照して詳細に説明する。   (Step 54) Next, as shown in FIG. 8, an uneven portion is formed on the medium facing surface ABS. Specifically, a part of the medium facing surface ABS is removed by RIE, and the concave portion 26, the rail portion 25b, and the inclined portion 6 are formed. Among these, the method of forming the inclined portion 6 will be described in detail with reference to FIG. 9 by taking as an example the case of forming the shape of the case 2 in Table 1.

まず、図9(a)に示すように、基板27の上にレール25aやリードライト部24をエッチングから保護するためのレジスト69を形成する。   First, as shown in FIG. 9A, a resist 69 is formed on the substrate 27 to protect the rails 25a and the read / write portion 24 from etching.

次に、図9(b)に示すように、RIEの第一ステップとして、一部がレジスト69で覆われた基板27を、RIEでエッチングする。エッチング条件は表2の第一ステップの欄に示す。反応ガスにはCF4を用いるが、CF4に不活性ガスArを加えた混合ガスを使用してもよい。このステップによって、第一の傾斜部61が形成される。第一の傾斜部61の角度は、RIE装置の各条件(拡散チャンバー内気圧、CF4ガス流量、Arガス流量、コイル電流など)やレジスト69の厚みによって調整することができる。なお、本製造方法の各ステップにおけるRIEは、ヘリコン波プラズマ方式、平行平板方式、マグネトロン方式、2周波励磁方式、ECR(Electron Cyclotron Resonance)方式、ICP(Inductively Coupled Plasma)方式などを適宜選択できる。 Next, as shown in FIG. 9B, as a first step of RIE, the substrate 27 partially covered with the resist 69 is etched by RIE. The etching conditions are shown in the column of the first step in Table 2. Although CF 4 is used as the reaction gas, a mixed gas obtained by adding an inert gas Ar to CF 4 may be used. By this step, the first inclined portion 61 is formed. The angle of the first inclined portion 61 can be adjusted by each condition of the RIE apparatus (diffusion chamber pressure, CF 4 gas flow rate, Ar gas flow rate, coil current, etc.) and the thickness of the resist 69. As the RIE in each step of the manufacturing method, a helicon wave plasma method, a parallel plate method, a magnetron method, a two-frequency excitation method, an ECR (Electron Cyclotron Resonance) method, an ICP (Inductively Coupled Plasma) method, or the like can be appropriately selected.

次に、RIEの第二のステップとして、第一ステップが終了した状態のまま、RIEの条件を表2の第二ステップの条件に変更する。この変更直後から10〜45秒後に、図9(c)のように、第一ステップで形成された第一の傾斜部61の周辺に堆積物68が形成される。この堆積物68は、第二ステップの条件で新たに加えたC22ガスによって生成されたカーボンおよびDLCである。この堆積物68は、基板27およびレジスト69の表面全体に生成、堆積するが、チャンバー内の気体の流れによって、堆積しやすい場所と堆積しにくい場所とに別れ、図9(c)のように、レジスト69の基部とその周辺、すなわち、第一の傾斜部61の周辺や、第一の傾斜部61から延びる凹部76に多く堆積する。 Next, as the second step of RIE, the RIE condition is changed to the condition of the second step in Table 2 with the first step completed. 10 to 45 seconds after the change, as shown in FIG. 9C, the deposit 68 is formed around the first inclined portion 61 formed in the first step. The deposit 68 is carbon and DLC generated by C 2 H 2 gas newly added under the conditions of the second step. The deposit 68 is generated and deposited on the entire surface of the substrate 27 and the resist 69, but it is divided into a place where it is easily deposited and a place where it is difficult to deposit due to the gas flow in the chamber, as shown in FIG. A large amount is deposited on the base portion of the resist 69 and its periphery, that is, the periphery of the first inclined portion 61 and the recess 76 extending from the first inclined portion 61.

その後、続けて第二のステップの条件のまま、1〜10分間、RIEによって基板27をエッチングすると、図9(d)のように第一の傾斜部61と、第二の傾斜部62と、凹部26が形成される。このとき、第二のステップの条件に切り替えたときに生成された堆積物68によって、第一の傾斜部61およびその周辺の凹部76が保護され、これらの部分は、保護されていない凹部76よりも、図9(d)のようにエッチング量が少なくなり、第二の傾斜部62が形成される。   Thereafter, when the substrate 27 is etched by RIE for 1 to 10 minutes under the condition of the second step, the first inclined portion 61, the second inclined portion 62, as shown in FIG. A recess 26 is formed. At this time, the deposit 68 generated when switching to the condition of the second step protects the first inclined portion 61 and the concave portion 76 around it, and these portions are more than the unprotected concave portion 76. However, as shown in FIG. 9D, the etching amount is reduced, and the second inclined portion 62 is formed.

その後、RIE装置からスライダを取り出し、図9(e)のように有機系溶液によりレジスト69を剥離する。このとき、図9(d)のエッチングで除去できなかった堆積物69があった場合は、O2によるアッシングで除去してもよい。 Thereafter, the slider is taken out from the RIE apparatus, and the resist 69 is peeled off with an organic solution as shown in FIG. At this time, if there is a deposit 69 that could not be removed by the etching of FIG. 9D, it may be removed by ashing with O 2 .

Figure 0004850428

(ステップ55)次に、バー72を100〜200℃で1〜2時間、プレヒートする。これは研磨時と製品としての使用時との温度差によって基板27と薄膜磁気ヘッド部28との間に生じる熱変形の差を補正するためである。
Figure 0004850428

(Step 55) Next, the bar 72 is preheated at 100 to 200 ° C. for 1 to 2 hours. This is for correcting a difference in thermal deformation generated between the substrate 27 and the thin film magnetic head portion 28 due to a temperature difference between polishing and use as a product.

(ステップ56)次に、媒体対向面ABSを常温で再研磨する。これによって、レール25a、25bやリードライト部24の平滑度が向上し、レール部のエッジが丸みを帯びるため、エッジ部の欠落やレール部周辺への異物の付着を抑えることができる。   (Step 56) Next, the medium facing surface ABS is re-polished at room temperature. As a result, the smoothness of the rails 25a, 25b and the read / write portion 24 is improved and the edges of the rail portions are rounded, so that the loss of the edge portions and the adhesion of foreign matter to the periphery of the rail portions can be suppressed.

(ステップ57)次に、媒体対向面ABSに、厚さ1〜4nm程度の保護膜42を形成する。保護膜42としては、DLC膜やSiO2などの無機系材料を用いることができる。このときの状態は図3に示したとおりである。 (Step 57) Next, a protective film 42 having a thickness of about 1 to 4 nm is formed on the medium facing surface ABS. As the protective film 42, an inorganic material such as a DLC film or SiO 2 can be used. The state at this time is as shown in FIG.

(ステップ58)次に、バー72を洗浄する。   (Step 58) Next, the bar 72 is washed.

(ステップ59)次に、バー72を切断し1片毎のスライダピースを作成する。   (Step 59) Next, the bar 72 is cut to create a slider piece for each piece.

なお、本発明は、あらかじめバーを1片毎のスライダピースに切断し、各スライダピースに対して上記の各ステップをおこなう手順や、ステップの途中段階でスライダピースに切断する手順なども可能である。また、第一ステップ、第二ステップを繰り返すことで、3段以上の多段傾斜構造も形成できる。   In the present invention, a bar can be cut in advance into individual slider pieces, and the above steps can be performed on each slider piece, or the slider pieces can be cut in the middle of the steps. . Further, by repeating the first step and the second step, a multi-stage inclined structure having three or more stages can be formed.

本発明の効果をまとめると以下の通りである。まず、本製造方法によって形成される2段傾斜形状とすることで、傾斜部の長さのばらつきを従来に比べ飛躍的に抑えることができるようになった。従来の形状(図4(b))では、傾斜部の長さは2〜6μmと、最大値/最小値が3倍にも達していたのに対し、本発明の一実施例では、この比率が最大でも1.7倍(ケース1の場合)となり、ばらつきを抑えることができた。また、本製造方法によって、従来イオンミリングでしかできなかった2段傾斜構造を、反応性イオンエッチングで形成することが可能となり、1バッチ処理あたりの処理時間が短くなる。一例では、イオンミリングで28分かかった処理が22分で可能となった。このため、イオンミリングを用いる従来技術の場合よりも、スライダを短時間で形成することが可能となる。   The effects of the present invention are summarized as follows. First, by adopting a two-stage inclined shape formed by the present manufacturing method, variation in the length of the inclined portion can be drastically suppressed as compared with the prior art. In the conventional shape (FIG. 4B), the length of the inclined portion is 2 to 6 μm, and the maximum value / minimum value has reached 3 times. In one embodiment of the present invention, this ratio is Was 1.7 times at most (in the case of Case 1), and variation could be suppressed. In addition, according to this manufacturing method, it is possible to form a two-step inclined structure, which has been possible only by conventional ion milling, by reactive ion etching, and the processing time per batch processing is shortened. In one example, a process that took 28 minutes by ion milling became possible in 22 minutes. For this reason, the slider can be formed in a shorter time than in the case of the prior art using ion milling.

また、RIEは、上記のような原理から、エッチング面の表面粗さを抑えることが容易であるというメリットもある。一例では、傾斜部の算術平均粗さRaが8.86から2.38に改善された。なお、算術平均粗さRaとは、JIS B0601−1994記載の表面粗さの指標で、粗さ曲線から所定の基準長さを抜き取り、抜き取り部分の平均表面高さと実高さとの偏差の絶対値を抜き取り部分の基準長さで平均化した数値である。   In addition, RIE has an advantage that it is easy to suppress the surface roughness of the etched surface based on the principle as described above. In one example, the arithmetic average roughness Ra of the inclined portion is improved from 8.86 to 2.38. The arithmetic average roughness Ra is an index of surface roughness described in JIS B0601-1994. A predetermined reference length is extracted from the roughness curve, and the absolute value of the deviation between the average surface height and the actual height of the extracted portion. Is a numerical value averaged by the reference length of the extracted portion.

最後に、図10および図11を参照して、本発明のスライダを用いたヘッドスタックアセンブリとハードディスク装置について説明する。図10はハードディスク装置の要部を示す説明図、図11はハードディスク装置の平面図である。ヘッドスタックアセンブリ250は、複数のアーム252を有するキャリッジ251を有している。複数のアーム252には、複数のヘッドジンバルアセンブリ220が、互いに間隔を開けて直交方向に並ぶように取り付けられている。キャリッジ251においてアーム252の反対側には、ボイスコイルモータの一部となるコイル253が取り付けられている。ヘッドスタックアセンブリ250は、ハードディスク装置に組み込まれる。ハードディスク装置は、スピンドルモータ261に取り付けられた複数枚のハードディスク262を有している。ハードディスク262毎に、ハードディスク262を挟んで対向するように2つのスライダ210が配置される。また、ボイスコイルモータは、ヘッドスタックアセンブリ250のコイル253を挟んで対向する位置に配置された永久磁石263を有している。   Finally, a head stack assembly and a hard disk drive using the slider of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is an explanatory view showing a main part of the hard disk device, and FIG. 11 is a plan view of the hard disk device. The head stack assembly 250 has a carriage 251 having a plurality of arms 252. A plurality of head gimbal assemblies 220 are attached to the plurality of arms 252 so as to be arranged in the orthogonal direction at intervals. A coil 253 that is a part of the voice coil motor is attached to the carriage 251 on the opposite side of the arm 252. The head stack assembly 250 is incorporated in a hard disk device. The hard disk device has a plurality of hard disks 262 attached to a spindle motor 261. For each hard disk 262, two sliders 210 are arranged so as to face each other with the hard disk 262 interposed therebetween. Further, the voice coil motor has permanent magnets 263 arranged at positions facing each other with the coil 253 of the head stack assembly 250 interposed therebetween.

スライダ210を除くヘッドスタックアセンブリ250およびアクチュエータは、本発明における位置決め装置に対応し、スライダ210を支持すると共にハードディスク262に対して位置決めする。   The head stack assembly 250 and the actuator excluding the slider 210 correspond to the positioning device in the present invention, and support the slider 210 and position it relative to the hard disk 262.

本ハードディスク装置では、アクチュエータによって、スライダ210をハードディスク262のトラック横断方向に移動させて、スライダ210をハードディスク262に対して位置決めする。スライダ210に含まれる薄膜磁気ヘッドは、記録ヘッドによって、ハードディスク262に情報を記録し、ハードディスク262に記録されている情報を再生する。   In the hard disk device, the slider 210 is moved with respect to the hard disk 262 by moving the slider 210 in the track crossing direction of the hard disk 262 by the actuator. The thin film magnetic head included in the slider 210 records information on the hard disk 262 by the recording head, and reproduces the information recorded on the hard disk 262.

本発明のスライダ製造方法の対象となるスライダを先端に有するヘッドアームアセンブリの斜視図である。It is a perspective view of the head arm assembly which has the slider used as the object of the slider manufacturing method of this invention in the front-end | tip. 図1に示すスライダの斜視図である。It is a perspective view of the slider shown in FIG. 図1に示すスライダの積層状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the lamination | stacking state of the slider shown in FIG. 図3に示すスライダのA部の部分詳細図である。FIG. 4 is a partial detail view of a part A of the slider shown in FIG. 3. 本発明のスライダ製造方法のフロー図である。It is a flowchart of the slider manufacturing method of this invention. 薄膜磁気ヘッド部が形成されたウエハおよびバーの斜視図である。It is a perspective view of the wafer and bar in which the thin film magnetic head part was formed. 本発明のスライダ製造方法における製造中の一段階の状況を説明する図である。It is a figure explaining the condition of one step in manufacture in the slider manufacturing method of the present invention. 本発明のスライダ製造方法における製造中の一段階の状況を説明する図である。It is a figure explaining the condition of one step in manufacture in the slider manufacturing method of the present invention. 本発明のスライダ製造方法における傾斜部の加工手順を示すステップ図である。It is a step figure which shows the process sequence of the inclination part in the slider manufacturing method of this invention. 本発明のスライダを組み込んだハードディスク装置の要部を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the principal part of the hard-disk apparatus incorporating the slider of this invention. 本発明のスライダを組み込んだハードディスク装置の平面図である。It is a top view of the hard disk drive incorporating the slider of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ヘッドアームアセンブリ
2 ヘッドジンバルアセンブリ
21 スライダ
22 フレクシャ
23 ロードビーム
24 リードライト部
25a、25 レール部
26 凹部
27 基板
28 薄膜磁気ヘッド部
31 シールド層
32 MR素子
33 下部磁極層
34 記録ギャップ
35 上部磁極層
36 接続部
37a、37b コイル
38、39、40 絶縁層
41 オーバーコート層
42 保護膜
43 裏面
45 仮保護膜
6 傾斜部
61 第一の傾斜部
62 第二の傾斜部
71 ウエハ
72 バー
ABS 媒体対向面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Head arm assembly 2 Head gimbal assembly 21 Slider 22 Flexure 23 Load beam 24 Read / write part 25a, 25 Rail part 26 Recessed part 27 Substrate 28 Thin film magnetic head part 31 Shield layer 32 MR element 33 Lower magnetic pole layer 34 Recording gap 35 Upper magnetic pole layer 36 connecting portion 37a, 37b coil 38, 39, 40 insulating layer 41 overcoat layer 42 protective film 43 back surface 45 temporary protective film 6 inclined portion 61 first inclined portion 62 second inclined portion 71 wafer 72 bar ABS medium facing surface

Claims (7)

基板と、
前記基板の記録媒体と対向する媒体対向面に凸部として設けられ、前記記録媒体への情報の書込みをおこなう書込み素子と、前記記録媒体からの情報の読出しをおこなう読込み素子の少なくとも一方が設けられたリードライト部と、
前記記録媒体が回転駆動されるときの空気流流入方向側に位置する、前記媒体対向面の凹部と、
前記リードライト部の表面と接続される直線状の第一の傾斜部と、前記第一の傾斜部及び前記凹部の表面と接続される直線状の第二の傾斜部と、を有する傾斜部と
を有するスライダの製造方法であって、
前記基板上の前記リードライト部が形成された部分にレジストを形成するステップと、
前記レジストが形成された基板を、CF4ガスを含む第一の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、前記基板の前記空気流流入方向側で前記レジストに隣接する部分に前記第一の傾斜部を形成する、第一の傾斜部形成ステップと、
前記第一の傾斜部が形成された前記基板を、CF4ガスとC22ガスとを含む第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、前記第一の傾斜部の表面上、および、前記第一の傾斜部に隣接して前記レジストの反対方向に延びる前記基板の表面上に、前記C 2 2 ガスによって生成されたカーボンおよびダイヤモンド状炭素からなる堆積物を堆積させ、前記堆積物が堆積した前記基板を、前記第二の反応ガスを用いて、反応性イオンエッチング法でエッチングし、前記凹部おび前記第二の傾斜部を、前記第二の傾斜部の前記凹部に対する傾斜角θ2(ただし、θ2は鋭角)が前記第一の傾斜部の前記凹部に対する傾斜角θ1(ただし、θ1は鋭角または直角)よりも小さくなるように形成する、第二の傾斜部形成ステップと
を有する、スライダの製造方法。
A substrate,
Provided as protrusions on the medium facing surface that faces the recording medium of the substrate, a write element for writing information to the recording medium, at least one of the reading device for reading information from the recording medium is provided Read / write section,
The recording medium is positioned in the air flow inlet direction when it is rotated, and the recess of the bearing surface,
Inclination that Yusuke a first inclined portion straight connected to said read-write portion of the surface, and a second inclined portion straight to be connected to the first inclined portion and the concave surface, the and parts,
A method of manufacturing a slider having
And Luz step to form a resist on the part read-write portion is formed on said substrate,
The substrate on which the resist is formed by using a first reactive gas containing CF 4 gas, is etched by reactive ion etching, a portion adjacent to the resist prior Symbol air flow inlet side of the substrate forming said first inclined portion, a first inclined portion forming step,
The first said substrate inclined portion is formed of, by using the second reactive gas containing CF 4 gas and C 2 H 2 gas, is etched by reactive ion etching, the first inclined portion on the surface, and, on the surface of the substrate adjacent to the first inclined portion extending in the opposite direction of the resist, a deposit consisting of the C 2 H carbon and diamond-like carbon produced by the two gas depositing, the substrate on which the deposit has been deposited, with the second reaction gas, and etching by reactive ion etching, the concave portion Contact good beauty said second inclined portion, the second inclination angle .theta.2 (although, .theta.2 is an acute angle) with respect to the concave portion of the inclined portion of the inclined angle .theta.1 is with respect to the concave portion of the first inclined portion (although, .theta.1 is acute or right angle) formed to be smaller than, the Step for forming the second slope And,
A method for manufacturing a slider.
前記第一の反応ガスArガスをさらに含んでいる、請求項1に記載のスライダの製造方法。 Wherein the first reaction gas is further includes an Ar gas, a manufacturing method of the slider according to claim 1. 前記第二の傾斜部形成ステップは、前記第一の傾斜部形成ステップが終了した状態のまま、反応ガスを前記第二の反応ガスに変更し、エッチングをおこなうことによって、前記堆積物を堆積させることを含んでいる、請求項1または2に記載のスライダの製造方法。 The second inclined portion forming step, the state where the first inclined portion forming step is completed, the reaction gas was changed to the second reaction gas, by performing the error etching, depositing the deposit It contains thereby method of slider according to claim 1 or 2. 前記第二の傾斜部形成ステップは、前記堆積物が堆積した後、引き続きエッチングをおこなうことによって、前記第二の傾斜部を形成することを含んでいる、請求項3に記載のスライダの製造方法。 The second inclined portion forming step, after the deposit has been deposited, by performing continue come et etching, the second includes forming an inclined portion, slider according to claim 3 Manufacturing method. 前記第二の傾斜部形成ステップは、反応ガスを前記第二の反応ガスのままでエッチングをおこなうことによって、前記第二の傾斜部を形成することを含んでいる、請求項4に記載のスライダの製造方法。 5. The slider according to claim 4 , wherein the second inclined portion forming step includes forming the second inclined portion by performing etching while the reactive gas remains the second reactive gas. Manufacturing method. 前記第二の傾斜部形成ステップの終了後、有機系溶液により前記レジストを除去するステップを有する、請求項1から5のいずれか1項に記載のスライダの製造方法。 6. The method for manufacturing a slider according to claim 1, further comprising a step of removing the resist with an organic solution after the second inclined portion forming step. 前記第二の傾斜部形成ステップの終了後、前記堆積物をO2ガスによって除去するステップを有する、請求項1から6のいずれか1項に記載のスライダの製造方法。 The method for manufacturing a slider according to claim 1, further comprising a step of removing the deposit with O 2 gas after the second inclined portion forming step.
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