JP4836910B2 - Optical information recording medium, recording / reproducing method and recording / reproducing apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、基板上に形成された薄膜に、レーザー光等の高エネルギー光ビームを照射することにより、信号品質の高い情報信号を記録・再生することのできる光学的情報記録媒体と、記録再生方法及び記録再生装置とに関するものである。 The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording and reproducing an information signal with high signal quality by irradiating a thin film formed on a substrate with a high energy light beam such as a laser beam, and recording and reproducing. The present invention relates to a method and a recording / reproducing apparatus.
透明基板上に薄膜を形成し、この薄膜に微小なスポットに絞り込んだレーザー光を照射して情報信号を記録再生する記録媒体について研究開発が盛んに行われている。追記可能なタイプの記録媒体としては、基板上に、酸化物を母材として金属元素等を分散させた材料、例えばTeとTeO2の混合物であるTeOx(0<x<2)記録薄膜を形成したものが知られている(例えば、特許文献1参照)。この記録媒体からは、再生用光ビームの照射によって大きな反射率変化を得ることができる。 Research and development has been actively conducted on a recording medium in which a thin film is formed on a transparent substrate and an information signal is recorded / reproduced by irradiating the thin film with a laser beam focused on a minute spot. As a recordable type recording medium, a material in which a metal element or the like is dispersed with an oxide as a base material on a substrate, for example, a TeO x (0 <x <2) recording thin film that is a mixture of Te and TeO 2 is used. What was formed is known (for example, refer to Patent Document 1). From this recording medium, a large change in reflectance can be obtained by irradiation with a reproducing light beam.
TeOx記録薄膜は、レーザーアニール等の初期化処理を施すことなく、成膜後の非晶質状態のままで、レーザー光を照射して結晶の記録マークを形成することができる。これは非可逆過程であって上書きによる修正や消去ができないため、この記録薄膜を用いた媒体は、追記のみ可能な記録媒体として利用できる。TeOx記録薄膜では、記録後信号が飽和するまで、すなわち記録薄膜中のレーザー光照射による結晶化が十分進行するまでに若干の時間を要する。このため、この記録薄膜を用いた媒体は、そのままでは、例えばデータをディスクに記録して一回転後にそのデータを検証するコンピュータ用データファイルのように、高速応答性が要求される媒体としては不適当である。この欠点を補うために、TeOxに第3の元素としてPd、Au等を添加することが提案されている(例えば、特許文献2、3及び4参照)。Pd及びAuは、TeOx記録薄膜中において、レーザー光照射時にTeの結晶成長を促進する機能を有すると考えられ、これによって、TeとTe−Pd合金又はTe−Au合金との結晶粒が高速で生成する。Pd及びAuは、耐酸化性が高く、TeOx記録薄膜の高い耐湿性を損なうことがない。
The TeO x recording thin film can be irradiated with laser light in the amorphous state after the film formation without performing an initialization process such as laser annealing to form a crystal recording mark. Since this is an irreversible process and cannot be corrected or erased by overwriting, a medium using this recording thin film can be used as a recording medium that can only be additionally written. In the TeO x recording thin film, it takes some time until the signal is saturated after recording, that is, until the crystallization by laser light irradiation in the recording thin film proceeds sufficiently. For this reason, a medium using this recording thin film is not suitable as a medium requiring high-speed response, such as a computer data file for recording data on a disk and verifying the data after one rotation. Is appropriate. In order to compensate for this drawback, it has been proposed to add Pd, Au, or the like as a third element to TeO x (see, for example,
また、一媒体あたりが扱える情報量を増やすための基本的な手段として、レーザー光の波長を短くする、またはレーザー光を集光する対物レンズの開口数を大きくすることによって、レーザー光のスポット径を小さくして記録面密度を向上させるという方法が、一般的に用いられている。さらに複数の情報層を積層した多層構造媒体も近年実用化されている。このような高密度記録や多層記録に対応するため、TeOxにPd、Au等を添加した記録材料の組成及び膜厚を改良した記録媒体も提案されている(例えば、特許文献5参照)。そしてさらには、反射層を追加することによって得られる光学的エンハンス効果及び冷却によるマーク間熱干渉を抑える効果によって、記録密度を高めている(例えば、特許文献6参照)。
上述のような高密度記録、特に青紫色レーザーを用いた記録を行う場合、記録層(記録薄膜)が高密度記録に適さない可能性がある。レーザー加熱による熱負荷のために、場合によっては記録層が損傷を受けて、ノイズの上昇等により記録信号の品質が悪化する可能性があるためである。これを防ぐためには、誘電体等の材料で作製された保護層を設けるのが有効である。保護層の性能としては、(1)耐熱性が高く、記録層を熱的損傷から保護すること、(2)記録層等の隣接する材料との密着性が良く、高温・高湿条件でも剥離、腐食及び拡散等を生じないこと、(3)透明性が高く適度な屈折率を有しており、記録層の光学変化をエンハンスすること、(4)それ自身熱的に安定で、高温高湿においても粒径や組成分布が変動しないこと、等が要求される。特に追記型の記録媒体においては、高密度記録できることもさることながら、保存信頼性が高いことが非常に重要である。たとえ記録した時点では十分な信号品質が得られていたとしても、例えば高温または高湿環境下に放置した場合等に、記録直後には影響していなかった熱的損傷の影響が顕在化し、ノイズが上昇するといったことも起こり得る。 When performing high-density recording as described above, particularly recording using a blue-violet laser, the recording layer (recording thin film) may not be suitable for high-density recording. This is because the recording layer may be damaged in some cases due to the heat load due to laser heating, and the quality of the recording signal may deteriorate due to an increase in noise or the like. In order to prevent this, it is effective to provide a protective layer made of a material such as a dielectric. The performance of the protective layer is as follows: (1) High heat resistance, protecting the recording layer from thermal damage, (2) Good adhesion to adjacent materials such as the recording layer, and peeling even under high temperature and high humidity conditions (3) It has high transparency and an appropriate refractive index, enhances the optical change of the recording layer, (4) itself is thermally stable, high temperature and high It is required that the particle size and composition distribution do not fluctuate even in wet conditions. Particularly in a write-once recording medium, it is very important to have high storage reliability as well as high density recording. Even if sufficient signal quality is obtained at the time of recording, for example, when left in a high temperature or high humidity environment, the influence of thermal damage that did not affect immediately after recording becomes obvious and noise Can also rise.
また、上述のような、記録層がレーザー加熱による熱負荷のために損傷を受けて、ノイズの上昇等により記録信号の品質が悪化することを防ぐために、誘電体等の材料で作製された保護層を設ける以外の手段として、金属等の放熱性の高い層を設けることもまた有効である。同層に適当な光学定数を有する材料を用いて反射機能を持たせ、すなわち反射層とすることによって、光学的干渉効果を利用して記録層の光吸収率を高めて記録感度を向上させ、さらには記録層の光学変化をエンハンスするのが一般的である。反射層にもまた、耐熱性が高いことや隣接する層との密着性、さらには保存信頼性が高いことが要求される。 In addition, a protection made of a material such as a dielectric to prevent the recording layer from being damaged due to a heat load caused by laser heating as described above and the quality of the recording signal from being deteriorated due to an increase in noise or the like. As a means other than providing a layer, it is also effective to provide a layer with high heat dissipation such as metal. By using a material having an appropriate optical constant in the same layer to have a reflection function, that is, a reflection layer, the optical interference effect is used to increase the light absorption rate of the recording layer and improve the recording sensitivity. Furthermore, it is common to enhance optical changes in the recording layer. The reflective layer is also required to have high heat resistance, adhesion to adjacent layers, and high storage reliability.
本発明は、高密度記録における信号品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体を提供することを目的とするものである。また、本発明は、そのような光学的情報記録媒体の記録再生方法及び記録再生装置を提供することも目的とする。 An object of the present invention is to provide an optical information recording medium having good signal quality in high-density recording and high storage reliability. Another object of the present invention is to provide a recording / reproducing method and a recording / reproducing apparatus for such an optical information recording medium.
本発明の光学的情報記録媒体は、透明基板上に設けられた少なくとも1つの情報層が、前記透明基板側から順に配置された保護層及び追記形の記録層を含んでおり、前記記録層は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含み、前記保護層は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含んでいる。前記保護層に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、前記保護層におけるCr、Zn、Ga、In、Sn、Sb、Bi及びTeの原子数割合の合計が70原子%以上である。 In the optical information recording medium of the present invention, at least one information layer provided on the transparent substrate includes a protective layer and a write-once recording layer arranged in order from the transparent substrate side, , Cr—O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, Bi—O, and Te—O, and the protective layer includes Cr— It contains at least one selected from O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, Bi—O, and Te—O. When the total of all atoms other than oxygen atoms contained in the protective layer is 100 atomic%, the total number ratio of Cr, Zn, Ga, In, Sn, Sb, Bi, and Te in the protective layer is 70. It is at least atomic percent.
本発明の光学的情報記録媒体の記録再生方法は、上記の本発明の光学的情報記録媒体に対し、波長450nm以下の光ビームを照射して情報の記録再生を行う方法である。 The optical information recording medium recording / reproducing method of the present invention is a method for recording / reproducing information by irradiating the optical information recording medium of the present invention with a light beam having a wavelength of 450 nm or less.
本発明の光学的情報記録媒体の記録再生装置は、上記の本発明の光学的情報記録媒体に対して波長450nm以下の光ビームを照射して情報の記録再生を行う記録再生部と、前記光学的情報記録媒体からの反射光を検出する検出部と、を少なくとも備えている。 The recording / reproducing apparatus for the optical information recording medium of the present invention comprises a recording / reproducing unit that records and reproduces information by irradiating the optical information recording medium of the present invention with a light beam having a wavelength of 450 nm or less; And a detection unit for detecting reflected light from the target information recording medium.
本発明によれば、高密度記録における信号品質が良好で、保存信頼性の高い光学的情報記録媒体と、その記録再生方法及び記録再生装置とを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical information recording medium with good signal quality in high-density recording and high storage reliability, and a recording / reproducing method and recording / reproducing apparatus thereof.
本発明の光学的情報記録媒体では、透明基板上に少なくとも1つの情報層が設けられている。この情報層は、保護層及び追記形の記録層を含んでいる。この情報層において、保護層及び記録層は、透明基板側からこの順に配置されている。なお、本発明の光学的情報記録媒体は、透明基板側からレーザー光等の光ビームが入射する構成である。記録層は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含んでいる。保護層は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含んでいる。保護層に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、保護層におけるCr、Zn、Ga、In、Sn、Sb、Bi及びTeの原子数割合の合計は、70原子%以上である。 In the optical information recording medium of the present invention, at least one information layer is provided on a transparent substrate. This information layer includes a protective layer and a write-once recording layer. In this information layer, the protective layer and the recording layer are arranged in this order from the transparent substrate side. The optical information recording medium of the present invention has a configuration in which a light beam such as a laser beam is incident from the transparent substrate side. The recording layer contains at least one selected from Cr—O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, Bi—O, and Te—O. The protective layer contains at least one selected from Cr—O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, Bi—O, and Te—O. When the total of all atoms other than oxygen atoms contained in the protective layer is 100 atomic%, the total number ratio of Cr, Zn, Ga, In, Sn, Sb, Bi and Te in the protective layer is 70 atoms. % Or more.
なお、本明細書において、「元素−O」で表される材料とは、その元素と酸素(O)とを成分として含む材料のことであり、その元素と酸素(O)を含有する化合物、その元素の酸化物、その元素の酸化物において酸素が欠損したもの等を含む。 Note that in this specification, the material represented by “element-O” is a material containing the element and oxygen (O) as components, and a compound containing the element and oxygen (O), It includes oxides of the elements, oxygen deficient in the oxides of the elements, and the like.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら具体的に説明する。なお、以下の説明は本発明の一例であり、本発明はこれらによって限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. In addition, the following description is an example of this invention and this invention is not limited by these.
(実施の形態1)
図1〜3は、本発明の光学的情報記録媒体の各構成例の部分断面図である。なお、同様の機能を有する構成には同じ符号を付して、その説明を省略する場合がある。
(Embodiment 1)
1 to 3 are partial sectional views of structural examples of the optical information recording medium of the present invention. In addition, the same code | symbol may be attached | subjected to the structure which has the same function, and the description may be abbreviate | omitted.
図1に示す光学的情報記録媒体には、透明基板1上に、少なくとも保護層2、記録層3、中間層4及び反射層5がこの順に配置されている。この例では、透明基板1側から順に配置された保護層2、記録層3、中間層4及び反射層5によって情報層が構成されているが、保護層2及び記録層3のみから情報層が構成されていてもよい。また、記録層3に対して保護層2と反対側に配置される中間層4及び反射層5は、両方が設けられていてもよいし、いずれか一方のみが設けられていてもよい。この光学的情報記録媒体に対し、透明基板1の側から、レーザー光6を対物レンズ7で集光し、照射して情報の記録再生を行う。
In the optical information recording medium shown in FIG. 1, at least a
また、図2に示す光学的情報記録媒体のように、保護層2と記録層3との間に緩衝層8を、反射層5に対して中間層4と反対側に保護基板9を、反射層5と保護基板9との間に上部保護層10を設けることもできる。なお、緩衝層8、保護基板9及び上部保護層10は、それぞれ必要に応じて設けることができる。
Further, like the optical information recording medium shown in FIG. 2, a
また、図3に示す光学的情報記録媒体のように、透明基板1と保護基板9との間に、分離層11を介して、第1情報層12〜第n情報層13(但し、nは2以上の整数)のn個の情報層を設けてもよい。その際、n個の情報層のうち少なくともいずれか1つの情報層が、透明基板1に近い側から順に、図1または図2に示した情報層の膜構成と同様の構成(多層薄膜構造)を有している。この光学的情報記録媒体の各情報層に対し、透明基板1の側から、所定の情報層にレーザー光6を対物レンズ7で集光し、照射して、情報の記録再生を行う。なお、本発明の光学的情報記録媒体がn個の情報層を含む場合、上述したように、n個の情報層のうち少なくともいずれか1つの情報層が、透明基板1の側(レーザー光入射側)から順に配置された保護層2及び記録層3を含む構成であればよく、他の情報層の構成については限定されない。したがって、他の情報層として、書き換え可能な情報層や再生専用の情報層を用いることもできる。この場合、1回のみ記録し消去したくない情報と、書き換えたい情報や再生専用の情報とを、1枚の媒体に共存させることができるため、利便性が高く、種々のアプリケーションへの応用が可能な光学的情報記録媒体を提供することができる。
In addition, as in the optical information recording medium shown in FIG. 3, the
記録層3は、追記形の記録材料で形成されており、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を母材として含んでいる。記録層3には、これらの母材に加えて、昇温により高速で結晶化して光学変化を生じさせる目的で、Te、Sb、Bi、Ge、Sn、Ga、In、Pd、Au、Pt、Ni、Ag及びCuのいずれか1つまたは複数の元素を添加することができる。また、母材として例えばTe−Oを用いる場合には、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、In、Sn、Sb、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Biから選ばれる1つまたは複数の元素を添加することができる。特に、母材としてTe−Oを用いる場合は、Pd及びAuから選ばれる少なくともいずれか1種が添加元素として好適である。
The
さらに、記録層3には、上記成分以外に、結晶化速度、熱伝導率または光学定数等の調整、あるいは耐熱性または耐湿性の向上等の目的で、さらに他の成分(元素)が含まれていてもよい。記録層3に含まれる他の元素としては、例えばN、F、C、S及びB等の非金属元素から選ばれる1つまたは複数の元素が挙げられる。これらの元素は、必要に応じて記録層3に適宜添加することができるが、その原子数割合は、記録層3に含まれる全ての原子の合計を100原子%とした場合に20原子%以下が好ましく、10原子%以下がより好ましい。
In addition to the above components, the
記録層3の膜厚は、2nm以上70nm以下とするのが好ましく、さらには4nm以上40nm以下とするのがより好ましい。記録層3の膜厚が上記より薄いと、十分な反射率及び反射率変化が得られないためC/N比が低くなってしまう場合がある。また、記録層3の膜厚が上記より厚いと、記録層3の薄膜面内の熱拡散が相対的に大きくなるため記録マークの輪郭が不鮮明となり、高密度記録においてC/N比が低くなってしまう場合がある。
The film thickness of the
保護層2は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含んでいる。保護層2に含まれる上記各成分は、いずれも化合物組成である必要はなく、例えば酸素(O)が欠損した組成であってもよい。記録層3との密着性を向上させるために、積極的に酸素が欠損した組成を用いることもできる。保護層2に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合、保護層2におけるCr、Zn、Ga、In、Sn、Sb、Bi及びTeの原子数割合の合計は、70原子%以上(好ましくは90原子%以上、より好ましくは100原子%)である。なお、保護層2は、上記以外の材料成分(例えばN、F、C、S、B等)を、本来の機能を損なわない程度であれば含むことが可能である。
The
この保護層2は、上記の記録層3との組合せにおいて、前述の(1)耐熱性が高く、記録層3を熱的損傷から保護すること、(2)記録層3等の隣接する材料との密着性が良く、高温・高湿条件でも剥離、腐食及び拡散等を生じないこと、(3)透明性が高く適度な屈折率を有しており、記録層3の光学変化をエンハンスすること、(4)それ自身熱的に安定で、高温高湿においても粒径や組成分布が変動しない、といった条件を全て満たすものである。
This
上記の保護層2の材料の中でも、Zn−O、Te−O及びSn−Oが好適に用いられる。したがって、保護層2がZn−O、Te−O及びSn−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含み、保護層2に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、保護層2におけるZn、Te及びSnの原子数割合の合計が30原子%以上を占めることが好ましい。
Among the materials for the
また、Zn−O、Te−O及びSn−Oからなる群を第1成分群とし、Cr−O、Sb−O、Bi−O、In−O及びGa−Oからなる群を第2成分群とした場合、保護層2が、第1成分群から選ばれる少なくともいずれか1種と、第2成分群から選ばれる少なくともいずれか1種とを含んでいることが好ましい。このとき、保護層2に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、保護層2において、Zn、Te及びSnの原子数割合の合計が33原子%以上96原子%以下であり、かつ、Cr、Sb、Bi、In及びGaの原子数割合の合計が4原子%以上67原子%以下であることが好ましい。その中でも特に、第1成分群から選ばれる1種としてZn−Oが含まれ、第2成分群から選ばれる1種としてCr−Oが含まれることがさらに好ましい。この場合、Znの原子数割合は33原子%以上96原子%以下か好ましく、Crの原子数割合は4原子%以上67原子%以下(好ましくは50原子%未満、より好ましくは34原子%未満)が好ましい。
A group consisting of Zn—O, Te—O and Sn—O is a first component group, and a group consisting of Cr—O, Sb—O, Bi—O, In—O and Ga—O is a second component group. In this case, it is preferable that the
また、保護層2は、硫黄(S)を成分として含んでもよい。Sを含む保護層2を記録層3と隣接させることに関しては、密着性も高く特に問題ないが、樹脂材料からなる透明基板1と隣接させることで剥離、腐食及び拡散等を生じる場合がある。このため、保護層2に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、保護層2におけるSの原子数割合は2原子%以下であることが望ましい。
Moreover, the
また、保護層2は必ずしも記録層3と接している必要はなく、両層の膜応力や加熱または加湿時における膨張収縮の不均衡から生じる剥離等を防止するために、必要に応じて緩衝層8(図2参照)を介在させることも可能である。例えば各種誘電体材料、中でも特に硫化物、炭化物等を用いて形成された緩衝層8を設けることで、より密着性を高めることができる。例えば、ZnSまたはZnSをベースとしてSiO2等を混合した材料を用いて形成された緩衝層8を、保護層2と記録層3との間に挿入することが好ましい。
In addition, the
反射層5の材料としては、Ag、Au、Al、Cu等の金属またはそれらをベースとした合金を用いることができるが、中でも特に反射率の高いAg合金が好ましい。Agへの添加元素としては、特に限定されないが、例えば、少量で凝集防止及び粒径微細化の効果が高いPd、Pt、Ni、Ru、Au、Cu、Zn、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Sb、Bi、Ca、Mg、Y、Nd、Sm、Ti、Cr、O、N、F、C、S、B等が適しており、中でも、Pd、Cu、Bi、Nd、Y、Gaがより効果が高く、これらのうちの1つまたは複数の元素を用いることができる。このような効果を発揮しつつもAgの高い熱伝導率や反射率を損なわせないために、添加元素の原子数割合は、反射層5全体に対して(反射層5に含まれる全原子の合計を100原子%とした場合)、0.01原子%以上10原子%以下であることが好ましく、さらには0.05原子%以上5原子%以下であることがより好ましい。
The material of the
中間層4の材料としては、例えば、Y、Ce、Ti、Zr、Nb、Ta、Co、Zn、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi及びTe等の酸化物、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn及びPb等の窒化物、Ti、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo、W及びSi等の炭化物、Zn及びCd等の硫化物、セレン化物またはテルル化物、Mg、Ca及びLa等の希土類等のフッ化物、C、Si及びGe等の単体、あるいはこれらの混合物を用いることができる。ただし、反射層5がAgまたはAg合金を含む場合は、中間層4に硫化物を用いると腐食を生じる可能性があるため、硫化物を含まない材料を用いることが好ましい。また、中間層4に保護層2と同じ材料を用いることも可能である。中間層4の膜厚は2nm以上40nm以下であることが好ましく、さらには5nm以上20nm以下であることがより好ましい。
Examples of the material of the
上部保護層10の材料としては、中間層4の材料として挙げたものを用いることができるが、中間層4と同じ材料である必要はなく、例えば反射層5がAgまたはAg合金を含む場合は、硫化物を含まない材料を用いることが好ましい。また、上部保護層10は、保護層2または中間層4と同じ材料で形成されていてもよい。上部保護層10の膜厚は、2nm以上80nm以下であることが好ましく、さらには5nm以上50nm以下であることがより好ましい。
As the material of the upper
上記の各薄膜は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法等の気相薄膜堆積法によって形成することができる。なお、上記の各薄膜は、オージェ電子分光法、X線光電子分光法または2次イオン質量分析法等の方法(例えば応用物理学会/薄膜・表面物理分科学会編「薄膜作製ハンドブック」共立出版株式会社、1991年等)により、各層の材料及び組成を調べることが可能である。なお、本実施の形態においては、各層のターゲット材料組成と実際に形成された薄膜の組成が略同等であることを確認した。ただし、成膜装置、成膜条件またはターゲットの製造方法等によっては、ターゲット材料組成と実際に形成された薄膜の組成が異なる場合もある。そのような場合には、あらかじめ組成のずれを補正する補正係数を経験則から求め、所望の組成の薄膜が得られるようにターゲット材料組成を決めることが好ましい。 Each of the above thin films can be formed by a vapor phase thin film deposition method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, an MBE (Molecular Beam Epitaxy) method, or the like. Each of the above thin films is formed by a method such as Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, or secondary ion mass spectrometry (for example, “Thin Film Handbook” edited by the Society of Applied Physics / Thin Film / Surface Physics Society) Company, 1991, etc.), it is possible to examine the material and composition of each layer. In the present embodiment, it was confirmed that the composition of the target material of each layer and the composition of the actually formed thin film were substantially equivalent. However, depending on the film forming apparatus, film forming conditions, target manufacturing method, and the like, the target material composition may differ from the actually formed thin film composition. In such a case, it is preferable to obtain a correction coefficient for correcting the composition deviation in advance from an empirical rule and to determine the target material composition so that a thin film having a desired composition can be obtained.
本発明の光学的情報記録媒体には、透明基板側からレーザー光が入射する。したがって、透明基板1の材料は、レーザー光6の波長において略透明であることが好ましく、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、紫外線硬化性樹脂、ガラス、あるいはこれらを適宜組み合わせたもの等が使用できる。また、透明基板1の厚さは特に限定されないが、0.01〜1.5mm程度のものを用いることができ、例えば対物レンズ5の開口数NAが0.6〜0.7程度の場合には厚さ0.3〜0.8mm程度、開口数NAが0.8〜0.9程度の場合には厚さ0.03〜0.2mm程度とすることが好ましい。透明基板1が例えば0.3mm以下のように薄い場合は、情報層の上に、シート状の上記各樹脂を貼り付けるか、紫外線硬化性樹脂をスピンコートにより塗布して紫外線照射により硬化させることによって、透明基板1を作製できる。
Laser light is incident on the optical information recording medium of the present invention from the transparent substrate side. Therefore, the material of the
保護基板9は、媒体においてレーザー光入射側と反対側に配置される基板である。保護基板9の材料としては、透明基板1の材料として挙げたのと同じものを用いることができるが、透明基板1とは異なる材料としてもよく、レーザー光6の波長において必ずしも透明でなくともよい。また、保護基板9の厚さは特に限定されないが、0.01〜3.0mm程度のものを用いることができる。
The
分離層11としては、紫外線硬化性樹脂等を用いることができる。分離層11の厚さは、第1情報層12〜第n情報層13までのいずれか一層を再生する際に他層からのクロストークが小さくなるように、少なくとも対物レンズ7の開口数NAとレーザー光6の波長λとから決定される焦点深度以上の厚さであることが必要であり、また、全ての情報層が集光可能な範囲に収まる厚さであることも必要である。例えば、分離層11の厚さは、λ=660nm、NA=0.6の場合は10μm以上100μm以下、λ=405nm、NA=0.85の場合は5μm以上50μm以下であることが、少なくとも必要である。但し、層間のクロストークを低減できる光学系や技術が開発されれば、分離層11の厚さは上記より薄くできる可能性もある。
As the
また、図2や図3に示すような光学的情報記録媒体2枚を、それぞれの保護基板9の側を対向させて貼り合わせ、両面構造とすることにより、媒体1枚あたりに蓄積できる情報量をさらに2倍にすることができる。
Also, two optical information recording media as shown in FIGS. 2 and 3 are bonded to each other with the respective
本実施の形態の光学的情報記録媒体を製造する際には、透明基板1上に上記の各薄膜や分離層11を順次形成した後に保護基板9を形成または貼り合わせてもよいし、逆に保護基板9上に各薄膜等を順次形成した後に透明基板1を形成または貼り合わせてもよい。特に後者は、例えば対物レンズ7の開口数NAが0.8以上と大きく、透明基板1が0.2mm以下のように薄い場合に適している。その場合、レーザー光6案内用の溝であるグルーブやアドレス信号等の凹凸パターンは、保護基板9及び分離層11の表面上に形成、すなわちスタンパ等のあらかじめ所望の凹凸パターンが形成されたものから転写されて形成される。その際、特に分離層11のようにその層厚が薄く、通常用いられているインジェクション法が困難な場合は、2P法(photo−polymerization法)を用いることができる。
When the optical information recording medium of the present embodiment is manufactured, the
図4に、本発明の光学的情報記録媒体の記録再生を行う記録再生装置について、最小限必要な装置構成の一例の概略図を示す。この装置には、少なくとも、光学的情報記録媒体17に対して波長450nm以下のレーザー光6を照射して情報の記録再生を行う記録再生部と、光学的情報記録媒体17からの反射光を検出するフォトディテクター(検出部)18とを備えている。本実施の形態では、記録再生部は、波長450nm以下のレーザー光6を出射するレーザーダイオード14と、ハーフミラー15と、対物レンズ7とを含んでいる。レーザーダイオード14から出射されたレーザー光6は、ハーフミラー15及び対物レンズ7を通じて、モーター16によって回転されている光学的情報記録媒体17上にフォーカシングされる。情報の再生は、光学的情報記録媒体17からの反射光をフォトディテクター18に入射させ、信号を検出することによって行われる。なお、光学的情報記録媒体17は、図1〜図3に示した本実施の形態の媒体である。
FIG. 4 shows a schematic diagram of an example of the minimum necessary apparatus configuration for a recording / reproducing apparatus that performs recording / reproducing of the optical information recording medium of the present invention. In this apparatus, at least a recording / reproducing unit for recording / reproducing information by irradiating the optical
情報信号の記録を行う際には、レーザー光6の強度を複数のパワーレベル間で変調する。レーザー光6の強度を変調するには、半導体レーザーの駆動電流を変調して行うのが良く、あるいは電気光学変調器、音響光学変調器等の手段を用いることも可能である。マークを形成する部分に対しては、ピークパワーP1の単一矩形パルスでもよいが、特に長いマークを形成する場合は、過剰な熱を省き、マーク幅を均一にする目的で、図5に示すようにピークパワーP1及びボトムパワーP3(但し、P1>P3)との間で変調された複数のパルスの列からなる記録パルス列を用いる場合もある。また、最後尾のパルスの後に冷却パワーP4の冷却区間を設けても良い。マークを形成しない部分に対しては、バイアスパワーP2(但し、P1>P2)で一定に保つ。
When recording an information signal, the intensity of the
ここで、記録するマークの長さ、さらにはその前後のスペースの長さ等の各パターンによってマークエッジ位置に不揃いが生じ、ジッタ増大の原因となることがある。本発明の光学的情報記録媒体の記録再生方法では、これを防止し、ジッタを改善するために、上記パルス列の各パルスの位置または長さを、パターン毎にエッジ位置が揃うように必要に応じて調整し、補償することもできる。 Here, each pattern such as the length of the mark to be recorded and the length of the space before and after the mark causes irregularities in the mark edge position, which may cause an increase in jitter. In the recording / reproducing method of the optical information recording medium of the present invention, in order to prevent this and improve the jitter, the position or length of each pulse of the pulse train is set as necessary so that the edge position is aligned for each pattern. Can be adjusted and compensated.
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例は本発明を限定するものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, a following example does not limit this invention.
(実施例1)
本実施例では、2個の情報層(第1情報層及び第2情報層)が設けられた光学的情報記録媒体を作製した。本実施例では、透明基板側に配置される第1情報層が、本発明の光学的情報記録媒体における情報層に該当する。
Example 1
In this example, an optical information recording medium provided with two information layers (first information layer and second information layer) was produced. In this embodiment, the first information layer arranged on the transparent substrate side corresponds to the information layer in the optical information recording medium of the present invention.
保護基板としては、ポリカーボネイト樹脂からなり、直径約12cm、厚さ約1.1mm、溝ピッチ0.32μm、溝深さ約20nmのものを用いた。この保護基板の溝が形成された表面上に、第2情報層として、Ag98Pd1Cu1からなる膜厚60nmの反射層、(ZnO)80(Cr2O3)5(In2O3)15からなる膜厚10nmの中間層、Te36O54Pd10からなる膜厚24nmの記録層、(ZnO)80(Cr2O3)20からなる膜厚20nmの保護層の各層をスパッタリング法によりこの順に積層した。この第2情報層の表面上に、紫外線硬化性樹脂を用いて2P法により保護基板と同じ溝パターンを転写し、厚さ約25μmの分離層を形成した。この分離層の表面上に、第1情報層として、Ag98Pd1Cu1からなる膜厚10nmの反射膜、(ZnO)80(Cr2O3)5(In2O3)15からなる膜厚10nmの中間層、Te36O54Pd10からなる膜厚12nmの記録層、様々な材料からなる膜厚15nmの保護層の各薄膜を、スパッタリング法によりこの順に積層した。この第1情報層の表面上に、紫外線硬化樹脂を用いて厚さ75μmの透明基板を形成した。 A protective substrate made of polycarbonate resin having a diameter of about 12 cm, a thickness of about 1.1 mm, a groove pitch of 0.32 μm, and a groove depth of about 20 nm was used. On the surface of the protective substrate on which the groove is formed, a reflective layer made of Ag 98 Pd 1 Cu 1 and having a thickness of 60 nm, (ZnO) 80 (Cr 2 O 3 ) 5 (In 2 O 3 ) is formed as the second information layer. Sputtering is used to form each of an intermediate layer made of 15 with a thickness of 10 nm, a recording layer made of Te 36 O 54 Pd 10 with a thickness of 24 nm, and a protective layer made of (ZnO) 80 (Cr 2 O 3 ) 20 with a thickness of 20 nm. Were stacked in this order. On the surface of the second information layer, the same groove pattern as that of the protective substrate was transferred by the 2P method using an ultraviolet curable resin to form a separation layer having a thickness of about 25 μm. On the surface of this separation layer, as a first information layer, a 10 nm-thick reflective film made of Ag 98 Pd 1 Cu 1 , a film made of (ZnO) 80 (Cr 2 O 3 ) 5 (In 2 O 3 ) 15 Each thin film of an intermediate layer having a thickness of 10 nm, a recording layer having a thickness of 12 nm made of Te 36 O 54 Pd 10, and a protective layer having a thickness of 15 nm made of various materials was laminated in this order by a sputtering method. A transparent substrate having a thickness of 75 μm was formed on the surface of the first information layer using an ultraviolet curable resin.
本発明の実施例として、第1情報層の保護層にZnO、SnO2、TeO2、(ZnO)80(Cr2O3)20、(ZnO)80(Sb2O3)20、(ZnO)80(Bi2O3)20、(SnO2)70(In2O3)30、(SnO2)70(Ga2O3)30、(TeO2)80(Cr2O3)20、(ZnO)80(Cr2O3)5(In2O3)15、(ZnO)50(TeO2)50及び(SnO2)50(TeO2)50をそれぞれ用いたディスク1〜12を作製し、比較例として第1情報層の保護層に(ZnO)50(SiO2)50、(TiO2)50(Cr2O3)50、Si3N4、SiO2、(ZnS)50(SiO2)50、(ZnS)80(Cr2O3)20をそれぞれ用いたディスク13〜18を作製した。
As an embodiment of the present invention, the protective layer of the first information layer is ZnO, SnO 2 , TeO 2 , (ZnO) 80 (Cr 2 O 3 ) 20 , (ZnO) 80 (Sb 2 O 3 ) 20 , (ZnO). 80 (Bi 2 O 3 ) 20 , (SnO 2 ) 70 (In 2 O 3 ) 30 , (SnO 2 ) 70 (Ga 2 O 3 ) 30 , (TeO 2 ) 80 (Cr 2 O 3 ) 20 , (ZnO )
上記各ディスクのグルーブ、すなわち溝及び溝間のうちレーザー光入射側から見て手前に凸になっている部分に対し、波長405nmでレンズ開口数0.85の光学系を用いて、線速4.9m/sで回転させながら、レーザー光を照射して周波数16.5MHzの単一信号を記録した。
Using the optical system having a wavelength of 405 nm and a lens numerical aperture of 0.85 for the groove of each disk, that is, between the groove and the groove between the grooves, the
信号を記録する際にはパワーレベルP1・幅6nsの単一パルスを用い、P2、P3、P4及び再生パワーは全て0.7mWとした。 When recording a signal, a single pulse having a power level P1 and a width of 6 ns was used, and P2, P3, P4 and the reproduction power were all 0.7 mW.
この条件で、未記録のトラックに信号を1回記録し、単一信号のC/N比をスペクトラムアナライザーで測定した。P1を任意に変化させて測定し、振幅が最大値より3dB低くなるパワーの1.25倍の値を設定パワーとした。各ディスクの設定パワーにおけるC/N比(加速前C/N比)を測定した後に、保存信頼性を確認するために、各ディスクを温度90℃相対湿度80%の条件で100時間保持した後に、再度C/N比(加速後C/N比)を測定した。その第1情報層の結果を表1に示す。また、表1には、保護層に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合の、保護層におけるCr、Zn、Ga、In、Sn、Sb、Bi及びTeの原子数割合の合計(原子%)も示す。 Under this condition, a signal was recorded once on an unrecorded track, and the C / N ratio of a single signal was measured with a spectrum analyzer. Measurement was performed by arbitrarily changing P1, and a value 1.25 times the power at which the amplitude was 3 dB lower than the maximum value was set as the set power. After measuring the C / N ratio (pre-acceleration C / N ratio) at the set power of each disk, each disk was held for 100 hours at a temperature of 90 ° C. and a relative humidity of 80% in order to confirm storage reliability. The C / N ratio (C / N ratio after acceleration) was measured again. The results of the first information layer are shown in Table 1. Table 1 also shows the number of atoms of Cr, Zn, Ga, In, Sn, Sb, Bi, and Te in the protective layer when the total of all atoms other than oxygen atoms contained in the protective layer is 100 atomic%. The total percentage (atomic%) is also shown.
表1によると、本発明の実施例であるディスク1〜12はいずれも加速前のC/N比が十分高く、加速後の低下も小さく良好な保存信頼性を示している。一方、比較例のディスク13〜18は、本発明とは材料組成が異なるものであるが、いずれも加速後の低下が大きく保存信頼性が不十分という結果であった。
According to Table 1, all of the
なお、同様に保護層材料を比較する実験を、第2情報層の場合、第1情報層及び中間層を有さず透明基板の厚さを100μmとした第2情報層のみの単一情報層の場合、あるいは記録層の材料をCr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−OまたはBi−Oとした場合等についても行ったが、やはり上記各保護層の材料・組成の間における保存信頼性の優劣は変わらなかった。 Similarly, in the case of the second information layer, an experiment for comparing the protective layer material was performed, and in the case of the second information layer, a single information layer having only the second information layer in which the thickness of the transparent substrate was 100 μm. In this case, the recording layer was made of Cr—O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, or Bi—O. The superiority or inferiority of the storage reliability between the materials and compositions of the layers did not change.
以上のように、本発明の光学的情報記録媒体は、高密度記録における信号品質が良好であって、さらに保存信頼性も高いので、映像、音楽、情報等の電子化できるデータを保存する媒体として有用である。 As described above, since the optical information recording medium of the present invention has good signal quality in high-density recording and high storage reliability, it is a medium that stores data that can be digitized such as video, music, and information. Useful as.
1 透明基板
2 保護層
3 記録層
4 中間層
5 反射層
6 レーザー光
7 対物レンズ
8 緩衝層
9 保護基板
10 上部保護層
11 分離層
12 第1情報層
13 第n情報層
14 レーザーダイオード
15 ハーフミラー
16 モーター
17 光学的情報記録媒体
18 フォトディテクター(検出部)
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記記録層は、Cr−O、Zn−O、Ga−O、In−O、Sn−O、Sb−O、Bi−O及びTe−Oから選ばれる少なくともいずれか1種を含み、
前記保護層は、Zn−Oと、Cr−O、Sb−O、Bi−O、In−O及びGa−Oから選ばれる少なくともいずれか1種とを含み、前記保護層に含まれる酸素原子以外の全原子の合計を100原子%とした場合に、前記保護層において、Znの原子数割合が33原子%以上96原子%以下であり、かつ、Cr、Sb、Bi、In及びGaの原子数割合の合計が4原子%以上67原子%以下である、光学的情報記録媒体。 At least one information layer provided on the transparent substrate includes a protective layer and a write-once recording layer arranged in order from the transparent substrate side,
The recording layer includes at least one selected from Cr—O, Zn—O, Ga—O, In—O, Sn—O, Sb—O, Bi—O, and Te—O,
The protective layer contains Zn—O and at least one selected from Cr—O, Sb—O, Bi—O, In—O, and Ga—O, except for oxygen atoms contained in the protective layer In the protective layer, the atomic ratio of Zn is 33 atomic% or more and 96 atomic% or less, and the number of Cr, Sb, Bi, In, and Ga atoms in the protective layer is 100 atomic%. An optical information recording medium having a total ratio of 4 atomic% to 67 atomic% .
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