JP4705045B2 - ジブロックコポリマーを用いた希土類凝集体配合物 - Google Patents
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Description
本発明は、コポリマーの特性(すなわち、分子量及び組成)を変化させ、凝集した希土類基礎粒子数を微調整し、それによって無機領域の最終サイズを微調整する方法を適用する。
カチオン性又はアニオン性の希土類基礎粒子(a);
少なくとも2つのブロックA及びブロックBを含むブロックコポリマー(b)、
ここで、
上記ブロックAは、粒子(a)がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして粒子(a)がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
上記ブロックBは中性である;及び
水:
を含む配合物に関する。
i)下記を含む第一の溶液を調製する段階;
カチオン性又はアニオン性の希土類基礎粒子(a);及び
液体;
ii)下記を含む第二の溶液を調製する段階;
少なくとも2つのブロックA及びBを含むブロックコポリマー(b)、
ここで
ブロックAは、粒子(a)がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして粒子(a)がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
ブロックBは中性である;及び
液体;そして
iii)上記第一の溶液及び上記第二の溶液を接触させ、配合物を得る段階:
を含む上記配合物の調製法に関する。
希土類粒子の凝集体は、希土類粒子から生成する。本質的に、より小さなサイズの希土類基礎粒子が、明確な(well defined)より大きな希土類粒子又は凝集体を得るために用いられる。従って、超微細な希土類基礎粒子が、希土類ナノ粒子を生成させるために用いられうる。本発明に従う希土類凝集体を生成させるために、約10nm以下の流体力学的径を有する、より小さなサイズの希土類基礎粒子が用いられることが好ましい。本発明に従って、好適なサイズの任意の凝集体を生成させることができる。本発明の実施形態の1つでは、生成した凝集体は、約25nm以上、さらに好ましくは、約60nm〜約100nm、又はそれ以上の流体力学的径を有しうる。
ブロックコポリマー(b)は、少なくとも2種の異なるブロックである、ブロックAとブロックBとを含むことが好ましい。それは、(ブロックA)−(ブロックB)ジブロックコポリマー、(ブロックA)−(ブロックB)−(ブロックA)トリブロックコポリマー、及び(ブロックB)−(ブロックA)−(ブロックB)トリブロックコポリマーから成る群から選択されることが好ましい。詳細には、上記ブロックコポリマー(A)は、直鎖のブロックコポリマー、櫛形構造体を有するブロックコポリマー、星形構造体、又はデンドリマー(超分岐)構造体から選択される。上記ブロックコポリマーは、直鎖のブロックコポリマーであることが好ましい。直鎖とは、各ブロックの配列が線状であることを意味する。
カチオン性ブロックの例は、下記;
アミノアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アミノアルキル(メタ)アクリルアミド;
少なくとも1つの第二級、第三級又は第四級アミン官能基を含むモノマー、又は窒素原子、ビニルアミン若しくはエチレンイミンを含む複素環式基;
それらの混合物、それらの塩、及びそれらに由来するマクロモノマー:
から成る群から選択されるモノマーに由来するユニットを含むブロックである。
−NR3+
(式中、Rは、同一又は異なって、水素原子、1〜10個の炭素原子を含むアルキル基、又はベンジル基(随意選択的に、ヒドロキシル基を有する)を表す。)
の第四級アンモニウム基が含まれ、そしてアニオン(対イオン)が含まれる。
アニオンの例は、ハロゲン化物(塩化物及び臭素化物等)、硫酸塩、ヒドロ硫酸塩、アルキル硫酸塩(例えば、1〜6個の炭素原子を含む)、リン酸塩、クエン酸塩、蟻酸塩、及び酢酸塩である。
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジテルチオ(ditertio)ブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド;
エチレンイミン、ビニルアミン、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン;
トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートメチルスルフェート、ジメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートベンジルクロリド、4−ベンゾイルベンジルジメチルアンモニウムエチルアクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリルアミドクロリド、トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミドクロリド、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド;
ジアリルジメチルアンモニウムクロリド;
それらの混合物、及びそれに由来するマクロモノマー:
が含まれる。
ポリアニオン性ブロックの例は、下記;
ホスフェート又はホスフォネート基を含む、エチレン系のα−不飽和モノマー(alpha ethylenically unsaturated monomer);
エチレン系のα−不飽和モノカルボン酸;
エチレン系のα−不飽和ジカルボン酸のモノアルキルエステル;
エチレン系のα−不飽和ジカルボン酸のモノアルキルアミド;
スルホン酸基を含むエチレン系のα−不飽和化合物、及びスルホン酸基を含むエチレン系のα−不飽和化合物の塩:
から成る群から選択されるモノマーに由来するユニットを含む。
アクリル酸、メタクリル酸、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸塩;
ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸塩;
α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸塩;
2−スルホエチルメタクリレート、2−スルホエチルメタクリレートの塩;
アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の塩;及び
スチレンスルホン酸塩(SS):
から成る群から選択される少なくとも1種のモノマーに由来するブロックである。
エチレンオキシド;
ビニルアルコール;
ビニルピロリドン;
ポリエチレンオキシド(メタ)アクリレート(すなわち、ポリエトキシレート化(メタ)アクリル酸);
エチレン系のα−不飽和ジカルボン酸のモノアルキルエステル;
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジテルチオブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド;
エチレン系のα−不飽和ジカルボン酸のモノアルキルアミド、及びポリ(エチレングリコール)nエチル又はメチルエーテルアクリレート(nは、4超、そして好ましくは6超である):
から成る群から選択される少なくとも1種のモノマーに由来するユニットを含むブロックである。
アクリルアミド、メタクリルアミド;
2−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールエーテル(メタ)アクリレート;及び
ポリ(エチレングリコール)nエチル又はメチルエーテルアクリレート(nは、4超、そして好ましくは6超である):
から成る群から選択される少なくとも1種のモノマーに由来するユニットを含むブロックである。
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、ジテルチオブチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノメチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド;
エチレンイミン、ビニルアミン、2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン;
トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレート(2−(アシルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)クロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレート(2−(アシルオキシ)エチルトリメチルアンモニウム、TMAEAMSとも称される)メチルスルフェート、ジメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリレートベンジルクロリド、4−ベンゾイルベンジルジメチルアンモニウムエチルアクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチル(メタ)アクリルアミドクロリド、トリメチルアンモニウムプロピル(メタ)アクリルアミドクロリド、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド;
ジアリルジメチルアンモニウムクロリド;
アクリル酸、メタクリル酸;
ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸塩;
ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸塩;
α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、α−アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸塩;
2−スルホエチルメタクリレート、2−スルホエチルメタクリレートの塩;
アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(AMPS)、アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸塩;
スチレンスルホネート(SS);
ビニルアルコール;
ビニルピロリドン;
アクリルアミド、メタクリルアミド;及び
2−ヒドロキシエチルアクリレート:
が含まれる。
この種の重合の文脈では、下記等の、いわゆるリビング又は制御重合によって得られるブロックコポリマーが推奨される;
国際公開第98/58974号パンフレットに教示に従うザンセート(xanthate)による制御ラジカル重合;
国際公開第97/01478号パンフレットの教示に従うジチオエステルによる制御ラジカル重合;
国際公開第99/03894号パンフレットの教示に従うニトロキシド前駆体を用いる重合;
国際公開第99/31144号パンフレットの教示に従うジチオカルバメートによる制御ラジカル重合;
国際公開第96/30421号パンフレットの教示に従う原子移動ラジカル重合(ATRP);
Otuらの「Makromol.Chem.Rapid.Commun.,3,127(1982)」の教示に従う開始剤による制御ラジカル重合;
タテモトらの「Jap.50,127,991(1975)、Daikin Kogyo Co Ltd Japan」及びMatyjaszewskiらの「Macromolecules,28,2093(1995))」の教示に従うヨウ素の変性移動(degradation transfer)による制御ラジカル重合;
「Encyclopedia of Polymer Science and Engineering,vol.7」に由来するWebster O.W.の「Group Transfer Polymerization,p.580−588」、そしてH.F.Mark,N.M.Bikales,C.G.Overberger及びG.Menges,Eds.の「Wiley Interscience,New York,1987」の教示に従う基移動重合;
テトラフェニルエタン誘導体による制御ラジカル重合(D.BraunらのMacromol.Symp.111,63(1996))
有機コバルト錯体による制御ラジカル重合(WaylandらのJ.Am.Chem.Soc.116,7973(1994))。
リビング又は制御ラジカル重合法には、ブロックコポリマーを得るために、移動剤の使用と、異なるモノマーの添加を実施することとが含まれる。
a)エチレン系のモノ−α−不飽和モノマー、少なくともフリーラジカル源化合物、及び移動剤を反応させ、第一のブロックを得る段階、上記移動剤は、上記第一のブロックに結合している;
b1)上記第一のブロック、別のエチレン系のモノ−α−不飽和モノマー、及び随意選択的な、少なくともラジカル源化合物を反応させ、ジブロックコポリマーを得る段階;
b2)随意選択的に、段階b1)をn回(nは0以上)繰返し、(n−2)−ブロックコポリマーを得る段階;次いで
c)随意選択的に、上記移動剤を、それを不活性にする手段と反応させる段階:
が含まれる。
a)エチレン系のモノ−α−不飽和モノマー、少なくともフリーラジカル源化合物、及び移動剤を反応させ、第一のブロックを得る段階、上記移動剤は、上記第一のブロックに結合している;
b)上記第一のブロック、別のエチレン系のモノ−α−不飽和モノマー、及び随意選択的な、少なくともラジカル源化合物を反応させ、ジブロックコポリマーを得る段階;次いで
c)随意選択的に、上記移動剤を、それを不活性にする手段と反応させる段階:
が含まれる。
・Rは、R2O基、R2R’2N又はR3基を表し、R2及びR’2は、同一又は異なって、(i)アルキル、アシル、アリール、アルケン又はアルキン基、又は(ii)随意選択的に芳香族である、飽和又は不飽和の炭素質環、又は(iii)飽和又は不飽和の複素環(これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は、置換されていてもよい)を表し、R3は、H、Cl、アルキル、アリール、アルケン又はアルキン基、随意選択的に置換された、飽和又は不飽和の(複素)環、アルキルチオ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシル、アシルオキシ、カルバモイル、シアノ、ジアルキル若しくはジアリールホスホネート、又はジアルキル若しくはジアリールホスフィネート基、又はポリマー鎖を表し、
・R1は、(i)随意選択的に置換されたアルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)飽和又は不飽和であり、そして随意選択的に置換された炭素質環若しくは芳香族、又は(iii)随意選択的に置換された、飽和又は不飽和の複素環又はポリマー鎖を表し、そして
R1、R2、R’2及びR3基は、置換されたフェニル又はアルキル基、置換された芳香族群又は下記群:オキソ、アルコキシカルボニル又はアリールオキシカルボニル(−COOR)、カルボキシル(−COOH)、アシルオキシ(−O2CR)、カルバモイル(−CONR2)、シアノ(−CN)、アルキルカルボニル、アルキルアリールカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、イソシアナト、フタルイミド、マレイミド、スクシンイミド、アミジノ、グアニジノ、ヒドロキシル(−OH)、アミノ(−NR2)、ハロゲン、アリル、エポキシ、アルコキシ(−OR)、S−アルキル、S−アリール又はシリル、親水性又はイオン性を示す群、例えば、カルボン酸のアルカリ性塩又はスルホン酸のアルカリ性塩、ポリ(アルキレンオキシド)(PEO、PPO)鎖、若しくはカチオン性置換基(第四級アンモニウム塩)によって置換されることができ、Rは、アルキル又はアリール基を表す。)
・R2及びR2’は、(i)アルキル、アシル、アリール、アルケン若しくはアルキン基、又は(ii)随意選択的に芳香族である、飽和若しくは不飽和の炭素質環、又は(iii)飽和若しくは不飽和の複素環(これらの基及び環(i)、(ii)及び(iii)は、置換されてもよい)を表し、
・R1及びR1’は、(i)随意選択的に置換されたアルキル、アシル、アリール、アルケン又はアルキン基、又は(ii)飽和又は不飽和であり、そして随意選択的に置換された炭素質環若しくは芳香族、又は(iii)随意選択的に置換された、飽和又は不飽和の複素環又はポリマー鎖を表し、
・pは、2〜10である。)
本発明に従う配合物を生成させるための方法には、希土類基礎粒子(a)及びブロックコポリマー(b)を混合し、希土類基礎粒子の安定凝集体を生成させることが含まれる。
i)下記を含む第一の溶液を調製する段階;
カチオン性又はアニオン性の希土類基礎粒子(a);及び
液体:
ii)下記を含む第二の溶液を調製する段階;
少なくとも2つのブロックA及びBを含むブロックコポリマー(b)、
ここで、
ブロックAは、粒子(a)がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして粒子(a)がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
ブロックBは中性である;及び
液体:そして
iii)上記第一の溶液と上記第二の溶液とを混合し、配合物を得る段階:
が含まれる。
本発明に従う配合物は、水中のコロイドの懸濁液の状態である。一般的に、上記コロイドには、希土類基礎粒子及びポリマーが含まれる。実施形態の1つでは、上記コロイドには、希土類基礎粒子及びジブロックコポリマーが含まれる。いかなる理論にも結び付けられることを意図しないが、ポリマー(c)及び粒子のイオン群が相互作用し、錯体を生成し、上記錯体がコロイド状であることが考えられる。上記基礎粒子と、電荷を帯びたコポリマーブロックとの間の化学系及び静電気的な会合が、上記ナノ粒子の凝集を進め、それにより、凝集体全体が、中性のコポリマーブロックによって安定化されると考えられる。
本発明及びそれらの優位性を、さらに具体的に説明するために、次の非限定的な例を記載する。
イットリウムナノ粒子及びブロックコポリマー間の会合の結果、イットリウムポリマー凝集体を生成させた。イットリウムポリマー凝集体の調製は、次の通りである。
約4ナノメートル(nm)のイットリウムナノ粒子を、25.5質量%の質量濃度における合成から得た。次いで、上記イットリウムナノ粒子を、3回蒸留した水(tridistilled water)で、2質量%の初期濃度C0まで希釈し、イットリウムナノ粒子溶液を生成させた。次いで、上記工程の際にナノ粒子のサイズに変化が無く、そして4nmのままであることを確認するために、上記イットリウムナノ粒子溶液を、光散乱で観察した。
ブロックコポリマー溶液を、同一の初期濃度(C0=2質量%)で、粉末のブロックコポリマー及び水から生成させた。この例で用いられたブロックコポリマーは、5000gmol-1の分子量の電荷を帯びたブロックと、60,000gmol-1の中性のブロックとを有する、ポリ(アクリル酸ナトリウム)−b−ポリ(アクリルアミド)ジブロック(「PANa−b−PAM」と略す)であった。上記ジブロックの流体力学半径は、約7.9nmであり、そして光散乱で測定されたその重量平均分子量は、68,300±2,000gmol-1であった。水酸化ナトリウムを添加して、2質量%のブロックコポリマー溶液のpHを、最大pH7まで調整した。
混合比率
上記2つの溶液を、20体積%−80体積%の比率で混合した(ナノ粒子を20体積%、そしてポリマーを80体積%)。
小角X線散乱(SAXS)
透過型電子顕微鏡法(TEM)
熱重量分析(TGA)
本発明の種々の実施形態を実証するために、種々のコポリマーと共に、イットリウムヒドロキシアセテートナノ粒子の溶液を調製した。上記イットリウムヒドロキシアセテートナノ粒子の溶液は、以下の本明細書において、「イットリウム基礎分散液」と称する。従って、温度計及び撹拌棒を備えている1000mLの還流反応器内で、86.5gの酸化イットリウム粉末(Rhodia Co.,Ltd.が製造し、純度99.99%)を、300rpmの撹拌速度で、500mLの2Nの酢酸溶液(Aldrich Co.,Ltd.が供給)中に分散させ、この例で用いられるイットリウム基礎分散液を調製した。次いで、上記混合物を、オイル浴注で、100℃まで加熱した。100℃に達した後、上記混合物を、2時間100℃に保った。得られた溶液を室温まで冷却し、そして10,000rpmにおいて遠心分離機にかけ、未溶解の酸化イットリウムを除去した。最終溶液を、イットリウム基礎分散液として用いた。上記イットリウム基礎分散液の最終pHは6.8であった。
錯体Aは、PANa−b−PAMの5k−30kコポリマーを有するイットリウム基礎分散液である。錯体Aは、それぞれ、5,000及び30,000g/モルの平均分子量を有するポリ(アクリル酸)−b−ポリアクリルアミドコポリマー(Rhodia Co.,Ltd.が製造)1〜5gを、質量濃度が1.0及び5.0質量%となる様に、脱イオン水中に溶解させることで生成させた。上記ポリアクリル酸中の複数のカルボキシル基を解離させるように、0.25NのNaOH溶液(Aldrich Co.,Ltd.が供給)を用いて、上記溶液をpH7まで中和させた。
錯体Bは、PANa−b−PAMの5k−60kコポリマーを有するイットリウム基礎分散液である。上記錯体は、それぞれ、5,000及び60,000g/モルの平均分子量を有するポリ(アクリル酸)−b−ポリアクリルアミドコポリマー(Rhodia Co.,Ltd.が製造)1〜5gを、質量濃度が1.0、5.0及び10.0質量%となる様に、脱イオン水中に溶解させることで生成させた。上記ポリアクリル酸中の複数のカルボキシル基を解離させるように、0.25NのNaOH溶液を用いて、上記溶液をpH7まで中和させた。
錯体Cは、PANaの1.2k及び30kのホモポリマーを有するイットリウム基礎分散液である。錯体Cは、それぞれ、1,200及び30,000g/モルの平均分子量を有するポリ(アクリル酸)ホモポリマー(Aldrich Co.,Ltd.が製造)1〜5gを、質量濃度が1.0質量%となる様に、脱イオン水中に溶解させることで生成させた。上記ポリアクリル酸中の複数のカルボキシル基を解離させるように、0.25NのNaOH溶液を用いて、上記溶液をpH7まで中和させた。
錯体Dは、PSSNa−b−PAMの7k−30kコポリマーを有するイットリウム基礎分散液である。錯体Dは、それぞれ、7,000及び30,000g/モルの平均分子量を有するポリ(スチレンスルホネート)−b−ポリアクリルアミドコポリマー(Rhodia Co.,Ltd.により製造)1〜5gを、質量濃度が1.0及び5.0質量%となる様に、脱イオン水中に溶解させることで生成させた。上記ポリアクリル酸中の複数のスルホネートを解離させるように、0.25NのNaOH溶液を用いて、上記溶液をpH7まで中和させた。
試料としての錯体A〜Dとして調製された凝集体と、試料としての上記イットリウム分散液単体(以下、「錯体Z」と称する。)とを用いて、相安定性、錯体サイズ、及び錯体構造に関する特徴付けを、動的光散乱(DLS)及び小角X線散乱(SAXS)技法を用いて実施した。
各試料を、3ヶ月超、直射日光を避けて、室温で貯蔵した。混合物の状態は、錯体A、B及びDにおける試料に関して似た傾向を示した。0.1〜10の間の「反応性の」混合比があり、そこでは、上記試料は、異なる状態を呈する。すなわち、低濃度において、青みがかり、かつ若干濁った溶液で相分離せず、そして高濃度において、白っぽい沈殿を有する相分離を有する。1.0未満のより低い混合比と、10超のより高い混合比とにおいて、上記混合物は、相分離がなく透明であった。
図4a及び図4bは、代表として、錯体A及びB中で、1.0質量%の濃度の凝集体の流体力学的半径を示すものである。この測定は、DLS技法(BI−9000AT autocorrelator、Brookhaven Co.,Ltd.が製造)に基づいている。0.1を超える反応性混合比は、上記の相挙動と一致している。青みがかった状態が消失する、10.0を超える高い混合比に関しては、散乱強度の直線的な減少によって説明され、凝集体数が混合比約1.0のところで次第に減少することを示している。流体力学的径DH(=2RH)としてここで言及する凝集体のサイズは、錯体A中で70nm〜100nm、そして錯体B中で60nm〜100nmである。同様の傾向がまた、錯体Dの試料中で観察されたが、そのサイズは、100nm〜200nmであった。これは、適切な種のブロックコポリマーを選択することで、凝集体のサイズを調整することが可能であることを示している。
錯体A、B、C及びD中で試料のSAXS測定を行った(X21ビームライン、Brookhaven National Laboratory、NY、USA)。錯体Bの概要を、図5に示す。データに対するギニエ(Guinier)近似から、2つの異なる旋回半径が得られた。小さい方のRGは約20Åであり、DLSによるイットリウム基礎粒子に関して得られた流体力学的半径と一致している。大きい方のRGは約100Åであり、それは、凝集体が、PANa鎖と相互作用の強い密集イットリウム粒子であることを示している。従って、図1中で図式化されたような、錯体の「コアコロナ」構造体と同様の状況が与えられた。
イットリウム基礎分散液及び他の錯体において、pH及びイオン強度に関する安定性を調査した。0.1NのHNO3及び0.1NのNaOH溶液(Aldrich Co.,Ltd.が供給)を用いてpHを調整した。イオン強度の影響を観察するために、KNO3塩(Aldrich Co.,Ltd.が供給)を用いて、電解液を不安定化させた。
Claims (17)
- 希土類基礎粒子を、(i)前記希土類基礎粒子と逆に帯電しているブロックと、(ii)中性のブロックとを含むブロックコポリマーと錯化させ、希土類凝集体の安定錯体を生成させる工程、
を含む、凝集の調整法。 - 前記ブロックコポリマーが、ジブロックコポリマーである、請求項1に記載の方法。
- 前記希土類基礎粒子が、イットリウムヒドロキシアセテート粒子を含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記希土類基礎粒子が、イットリウムヒドロキシアセテートナノ粒子を含む、請求項3に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーが、(i)前記希土類基礎粒子と逆に帯電しているブロックとしてのポリ(アクリル酸ナトリウム)のブロックと、(ii)中性のブロックとしてのポリ(アクリルアミド)のブロックから成る、ポリ(アクリル酸ナトリウム)−b−ポリ(アクリルアミド)ブロックコポリマー(NaPA−b−PAM)を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記希土類基礎粒子が、希土類超微粒子を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーが、ジブロックコポリマーを含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- イットリウムヒドロキシアセテート粒子を、(i)前記イットリウムヒドロキシアセテート粒子と逆に帯電しているブロックとしてのポリ(アクリル酸ナトリウム)のブロックと、(ii)中性のブロックとしてのポリ(アクリルアミド)のブロックから成る、ポリ(アクリル酸ナトリウム)−b−ポリ(アクリルアミド)ブロックコポリマー(NaPA−b−PAM)と錯化させる工程、
を含む、イットリウムヒドロキシアセテート凝集体の生成法。 - 希土類基礎粒子及びブロックコポリマーを含む希土類ナノ粒子であって、
前記ブロックコポリマーが、少なくとも2つのブロックA及びブロックBを有し、
ブロックAは、前記希土類基礎粒子がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして前記希土類基礎粒子がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
ブロックBが中性である、
前記希土類ナノ粒子。 - カチオン性又はアニオン性である希土類基礎粒子(a)、
少なくとも2つのブロックA及びブロックBを含むブロックコポリマー(b)、及び
水、
を含む配合物であって、
ブロックAは、希土類基礎粒子(a)がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして希土類基礎粒子(a)がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
ブロックBは、中性である、
前記配合物。 - 化学的な堆積又は機械的な堆積によって、請求項10に記載の配合物を、物品に適用する工程、
を含む前記物品の研磨法。 - 請求項10に記載の配合物の調製法であって、
次の各工程、
i)下記を含む第一の溶液を調製する工程、
希土類基礎粒子(a)、及び
液体、
ii)下記を含む第二の溶液を調製する工程、
ブロックコポリマー(b)、及び
液体、そして
iii)前記配合物を得るために、第一の溶液及び第二の溶液を接触させる工程、
を含む調製法。 - 前記接触させる工程が、混合する工程を含む、請求項12に記載の方法。
- 次の各工程、
i)カチオン性又はアニオン性の希土類基礎粒子を生成させる工程、
ii)少なくとも2つのブロックA及びブロックBを含むブロックコポリマーを生成させる工程、
ここで、ブロックAは、前記希土類基礎粒子がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして前記希土類基礎粒子がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そしてブロックBは、中性である、
iii)前記希土類基礎粒子を、前記ブロックコポリマーと接触させる工程、
を含む、希土類粒子の凝集体の安定化法。 - 次の各工程、
i)下記を含む第一の溶液を調製する工程、
カチオン性又はアニオン性である希土類基礎粒子(a)、及び
液体、
ii)下記を含む第二の溶液を調製する工程、
少なくとも2つのブロックA及びブロックBを含むブロックコポリマー(b)、
ここで、
ブロックAは、希土類基礎粒子(a)がアニオン性である場合にはカチオン性であり、そして希土類基礎粒子(a)がカチオン性である場合にはアニオン性であり、そして
ブロックBは、中性である、及び
液体、
iii)第一の溶液及び第二の溶液を接触させ、溶液中に希土類粒子の凝集体を得る工程、そして
iv)溶液中の前記希土類粒子の凝集体を乾燥させ、フィルムを形成する工程、
を含む、フィルムの調製方法。 - 工程iii)が、前記希土類凝集体のサイズを調整すること含む、請求項16に記載の方法。
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