JP4692405B2 - 光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール - Google Patents
光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP4692405B2 JP4692405B2 JP2006168984A JP2006168984A JP4692405B2 JP 4692405 B2 JP4692405 B2 JP 4692405B2 JP 2006168984 A JP2006168984 A JP 2006168984A JP 2006168984 A JP2006168984 A JP 2006168984A JP 4692405 B2 JP4692405 B2 JP 4692405B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- cavity
- clad
- waveguide
- curable resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
(1)フィルムにモノマーを含浸させ、コア部を選択的に露光し、屈折率を変化させてフィルムを張り合わせる方法(選択重合法)、
(2)コア層及びクラッド層を塗布後、反応性イオンエッチングを用いてクラッド部を形成する方法(RIE法)、
(3)高分子材料中に感光性の材料を添加した紫外線硬化樹脂をフォトリソグラフィーにより露光・現像する方法(直接露光法)、
(4)射出成形を利用する方法、
(5)コア層及びクラッド層を塗布後、コア部を露光してコア部の屈折率を変化させる方法(フォトブリーチング法)等の各種の製法が提案されている。
(光導波路の構成)
図1は、本発明における第1の実施の形態である光導波路の一構成例を模式的に示す断面図である。
以上の構成をもつ第1の実施の形態に係る光導波路10は、図2に示す本発明の製造方法によって、以下のように効率的に製造される。なお、以下の製造例にあっては、下部基材11及び上部基材13にフレキシブル性に富む高分子フィルム材を使った光導波路10について説明するが、本発明は高分子フィルム材に限定されない。また、この製造例では、アレイ構成の導波路コア12を同一のアレイ間隔をもって製造する場合について述べるが、アレイ構成の導波路コア12を相互に異なるアレイ間隔をもって製造する場合をも含むものである。
図2(c)に示す鋳型21は、本出願人等が先に提案した上記特許文献1〜3に記載された鋳型の作製技術と同様に、導波路コアの形態に対応する凸部20aを形成した原盤20を用いて作製することができる。この原盤20の作製にあっても、上記特許文献1〜3に記載された原盤の作製技術と実質的に同じ製法によって得ることができる。
高分子フィルム材からなる下部クラッドフィルム基材11(下部基材11)上に導波路コア12を作製する工程は、図2(c)〜図2(f)に示すように、先ず、鋳型21に下部クラッドフィルム基材11を密着させ、下部クラッドフィルム基材11を密着させた鋳型21の凹部21a内に導波路コア形成用の硬化性樹脂を充填する。次に、熱または光などによって、充填したコア形成用の硬化性樹脂を硬化させる。次に、鋳型21を下部クラッドフィルム基材11から剥離する。この工程においては、例えば毛細管現象により鋳型21の凹部21a内に導波路コア形成用の硬化性樹脂を充填するのが好ましい。また、毛細管現象を利用して、硬化性樹脂の鋳型21の凹部21a内への充填を促進するのには、例えば鋳型21の凹部21a内に連通する所定の位置に図示しない吸引口を設けることで、吸引系全体を0.1〜200Pa程度に減圧することが望ましい。
高分子フィルム材からなる上部クラッドフィルム基材13(上部基材13)上に未硬化のクラッド薄膜層14a(薄膜クラッド14a)を作製する工程は、図2(g)及び図2(h)に示すように、先ず、上部クラッドフィルム基材13上にクラッド用の未硬化樹脂を適量滴下して、未硬化のクラッド薄膜層14aを作製する。未硬化のクラッド薄膜層14aは、例えばスピンコート法により形成することができる。
導波路コア12の側面のクラッド14と、下部クラッドフィルム基材11、上部クラッドフィルム基材13及びクラッド14間に導波路コア12に沿って貫通する空洞15を作製する工程は、図2(i)〜図2(k)に示すように、最初に、下部クラッドフィルム基材11上の導波路コア12上に上部クラッドフィルム基材13の未硬化のクラッド薄膜層14aを張り合わせる。この状態で、数分間放置し、樹脂のマイグレーションを利用することにより、未硬化のクラッド薄膜層14aを導波路コア12の側面に流着させる。数分間経過した後、未硬化のクラッド薄膜層14aを紫外線または熱などによって硬化させることで、導波路コア12の側面にクラッド14及び空洞15を形成することができる。
空洞15内に閉鎖部材16となる硬化性樹脂を充填硬化する工程は、空洞15内に未硬化の硬化性樹脂を滴下した後、毛細管現象及び/または減圧吸引にて空洞15内の所望の位置に向けて充填し、空洞15内に充填された硬化性樹脂を熱または光などによって硬化することができる。図3(a)は、空洞15の一方の開口端部内に硬化性樹脂を充填硬化した状態を示し、図3(b)は、空洞15の両側の開口端部内に硬化性樹脂を充填硬化した状態を示している。毛細管現象を利用して、未硬化の硬化性樹脂を吸引口側に向けて自然に拡散させることができる。吸引口側から減圧吸引して、未硬化の硬化性樹脂を吸引口側に向けて強制的に拡散させることもできる。この硬化性樹脂としては、クラッド14とは異なる材料を選択することができ、端部を補強する為に、硬化後により剛性の高い材料を選ぶことが、他のデバイスとの結合を容易にすることができる点から好ましい。また、硬化性樹脂の屈折率は、制限されない。
光導波路の長手方向の両端面をダイシングソーなどにより直角または斜めに切断し、フレキシブルな高分子光導波路10を形成する。なお、光導波路の両端面を切断する方法は、ダイシングソーによる切断法に限定されるものではないことは勿論である。
第1の実施の形態によれば、以下の効果が得られる。
(イ)光導波路10の材質に拘わらず、光導波路10の屈曲性を増大することができるとともに、空洞15において歪や曲折などによる変形を吸収緩和することが可能となる。
(ロ)光導波路10の材料を節約することができるとともに、軽量化を達成することができる。
(ハ)光導波路10の必要な部分だけにフレキシブル性を付与することができるとともに、光導波路10の端部の剛性を高めることができるようになり、導波路コア12に光を入射させる発光部と導波路コア12からの出射光を受光する受光部の取付けを容易に行うことができる。
(ニ)材料の使用効率を高めることができるとともに、材料費を削減することができる。
(ホ)光導波路アレイの実装密度を低下させることなく、光信号を効率よく確実に取り込める形状を得ることができる。
(ヘ)簡易な製造方法であり、作製工程の削減と歩留まりを向上させ、安定して大量生産することができる。
(ト)低コスト化と作製工程の単純化を容易にかつ確実に達成することができる。
(光通信モジュールの構成)
図4は、本発明に係わる第2の実施の形態である光通信モジュールの一構造例を示している。図4は、光通信モジュールの構成を示す概念図である。なお、同図において上記第1の実施の形態と実質的に同じ部材には同一の部材名と符号を付している。従って、これらの部材に関する詳細な説明は省略する。
面発光レーザアレイ31から出射した光信号は、図4に示すように、下部クラッドフィルム基材11を通して高分子光導波路10に入射する。入射した光信号は、傾斜ミラー面で反射され、高分子光導波路10内に沿って伝播する。その光信号は、他方の傾斜ミラー面で再び反射され、伝播方向を変えることで、下部クラッドフィルム基材11を通してフォトダイオード32に入射する。その光信号は、電気信号に変換された後、図示しない電気部品を介して外部へと伝送される。このように、面発光レーザアレイ31とフォトダイオード32とを光学的に結合することが可能となる。
第2の実施の形態によれば、上記第1の実施の形態の作用効果に加えて、以下の効果が得られる。
(イ)空洞15を折り曲げることができるので、電子機器内の電子モジュール間、あるいは電子機器間等の各種の機器内における組立ての制約を緩和することができる。
(ロ)光導波路10の端部の剛性を高めることができるので、面発光レーザアレイ31とフォトダイオード32とを容易にかつ高精度に光結合することが可能となる。
11 下部基材
12 導波路コア
13 上部基材
14 クラッド
14a クラッド薄膜層
15 空洞
16 閉鎖部材
17 通孔
20 原盤
20a 凸部
21 鋳型
21a 凹部
30 光通信モジュール
31 面発光レーザアレイ
32 フォトダイオード
Claims (17)
- フレキシブル性を有する光導波路であって、
クラッド層となる下部基材と、
前記下部基材上に並列に形成された複数の導波路コアと、
前記複数の導波路コアを挟んで前記下部基材に相対するクラッド層となる上部基材と、
前記導波路コア間と前記下部基材及び前記上部基材間に形成された空間内に前記導波路コアに沿って延在する空洞が形成されるように、前記複数の導波路コアの側面を覆うクラッドとを備えたことを特徴とする光導波路。 - 前記導波路コア及び前記空洞が、相互に延在するアレイ構造に形成されてなることを特徴とする請求項1記載の光導波路。
- アレイ化した複数の前記空洞における光進行方向に対する断面の幅が、異なる幅寸法に設定されてなることを特徴とする請求項2記載の光導波路。
- 前記空洞が、光進行方向に対する一方の端面から他方の端面までの間を前記導波路コアに沿って貫通して形成されてなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光導
波路。 - 前記空洞の少なくとも一方の開口端部内に硬化性樹脂が充填硬化されてなることを特徴とする請求項4記載の光導波路。
- 前記空洞の両側開口端部内の所定位置に前記硬化性樹脂が充填硬化されてなり、前記硬化性樹脂の充填開始位置及び充填終了位置間の距離が、互いに異なる寸法に設定されてなることを特徴とする請求項4記載の光導波路。
- 前記硬化性樹脂が、前記クラッドとは異なる物質からなることを特徴とする請求項5または6記載の光導波路。
- 前記硬化性樹脂が、高分子材料からなることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の光導波路。
- 前記下部基材及び前記上部基材が、前記クラッドの屈折率と同一の屈折率、または0.02以内の屈折率差を有し、フレキシブル性を有するフィルム材により構成されてなることを特徴とした請求項1記載の光導波路。
- 前記下部基材及び前記上部基材が、高分子フィルム材料により構成されてなることを特徴とする請求項1または9記載の光導波路。
- 前記クラッドが、硬化型高分子材料により構成されてなることを特徴とする請求項1または9記載の光導波路。
- 前記下部基材及び前記上部基材間の対向内壁面の少なくとも一方に、クラッド層が形成されてなることを特徴とする請求項1記載の光導波路。
- フレキシブル性を有する光導波路の製造方法であって、
下部クラッドフィルム上に複数の導波路コアを並列に形成する工程、
上部クラッドフィルム上に未硬化のクラッドを形成する工程、
前記複数の導波路コア上に前記上部クラッドフィルム上のクラッド形成面を被せる工程、
前記クラッドが流動して前記複数の導波路コアの側面を覆い、前記下部クラッドフィルム、前記上部クラッドフィルム及び前記クラッド間に、前記導波路コアに沿って貫通する空洞を形成する工程、及び
前記クラッドを硬化する工程を備えてなることを特徴とする光導波路の製造方法。 - 前記空洞の開口端部内に硬化性樹脂を充填硬化する工程を更に備えてなることを特徴とする請求項13記載の光導波路の製造方法。
- 前記空洞の開口端部内に前記硬化性樹脂を充填硬化する工程は、前記硬化性樹脂を毛細管現象及び/または減圧吸引によって前記空洞内の所定の位置に充填する工程を含んでなることを特徴とする請求項14記載の光導波路の製造方法。
- 前記下部クラッドフィルムまたは前記上部クラッドフィルムの前記空洞に対応する部位に、毛細管現象及び/または減圧吸引のための通孔を形成する工程を更に備え、
前記空洞の開口端部内に前記硬化性樹脂を充填硬化する工程は、前記硬化性樹脂を前記空洞の一方の開口端部内の所定の位置まで充填した後、熱または光により硬化する工程、及び
前記硬化性樹脂を前記空洞の他方の開口端部内の所定の位置まで充填した後、熱または光により硬化する工程を含んでなることを特徴とする請求項14記載の光導波路の製造方法。 - 上記請求項1〜12のいずれかに記載の光導波路の前記導波路コアに光を入射させる発光部と、前記導波路コアからの出射光を受光する受光部とを有してなることを特徴とする光通信モジュール。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006168984A JP4692405B2 (ja) | 2006-06-19 | 2006-06-19 | 光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール |
US11/605,391 US7561773B2 (en) | 2006-06-19 | 2006-11-29 | Optical waveguide, method of manufacturing the same and optical communication module |
CN 200710084794 CN101093263B (zh) | 2006-06-19 | 2007-02-28 | 光波导及其制造方法以及光通信模块 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006168984A JP4692405B2 (ja) | 2006-06-19 | 2006-06-19 | 光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007334236A JP2007334236A (ja) | 2007-12-27 |
JP4692405B2 true JP4692405B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=38933743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006168984A Expired - Fee Related JP4692405B2 (ja) | 2006-06-19 | 2006-06-19 | 光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4692405B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5558905B2 (ja) * | 2010-05-07 | 2014-07-23 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路フィルム |
US9091807B2 (en) | 2012-12-12 | 2015-07-28 | California Institute Of Technology | Compact tunable photonic crystal nanobeam cavity with low power consumption |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58116505A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | 光伝導シ−ト |
JPS60121402A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-06-28 | Asahi Optical Co Ltd | 光学繊維束 |
JPH0688915A (ja) * | 1992-02-24 | 1994-03-29 | Corning Inc | プレ−ナ光導波路およびその製造方法 |
JPH11352344A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 低クロストーク光配線 |
WO2004051331A1 (en) * | 2002-11-27 | 2004-06-17 | General Electric Company (A New York Corporation) | Polymeric optical device structures having controlled topographic and refractive index profiles |
-
2006
- 2006-06-19 JP JP2006168984A patent/JP4692405B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58116505A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-11 | Nippon Carbide Ind Co Ltd | 光伝導シ−ト |
JPS60121402A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-06-28 | Asahi Optical Co Ltd | 光学繊維束 |
JPH0688915A (ja) * | 1992-02-24 | 1994-03-29 | Corning Inc | プレ−ナ光導波路およびその製造方法 |
JPH11352344A (ja) * | 1998-06-09 | 1999-12-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 低クロストーク光配線 |
WO2004051331A1 (en) * | 2002-11-27 | 2004-06-17 | General Electric Company (A New York Corporation) | Polymeric optical device structures having controlled topographic and refractive index profiles |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007334236A (ja) | 2007-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7561773B2 (en) | Optical waveguide, method of manufacturing the same and optical communication module | |
JP2006017885A (ja) | 導波路フィルム型光モジュール、光導波路フィルム及びその製造方法 | |
JP2008020722A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2008040003A (ja) | フレキシブル光導波路フィルム、光送受信モジュール、マルチチャンネル光送受信モジュール及びフレキシブル光導波路フィルムの製造方法 | |
JP4144468B2 (ja) | 積層型高分子光導波路およびその製造方法 | |
JP2006126568A (ja) | 高分子光導波路デバイスの製造方法 | |
US7604758B2 (en) | Process for producing polymer optical waveguide | |
JP2006011210A (ja) | 発光素子及びモニター用受光素子付き高分子光導波路モジュール | |
JP2010078882A (ja) | 高分子光導波路およびその製造方法 | |
WO2006001452A1 (ja) | 光導波路、光導波路モジュール、光伝送装置、光導波路の製造方法 | |
JP2006023385A (ja) | 積層型光導波路フィルム及びその製造方法、並びに導波路型光モジュール | |
JP2006337748A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2007279515A (ja) | レンズ内蔵光導波路及びその製造方法 | |
JP2007334235A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2009069359A (ja) | 光導波路デバイス、及び、光出力モジュール | |
JP4581328B2 (ja) | 高分子光導波路及び光学素子の製造方法 | |
JP4692405B2 (ja) | 光導波路及びその製造方法、並びに光通信モジュール | |
JP2005202229A (ja) | 光モジュール | |
US7542646B2 (en) | Optical waveguide and method of manufacturing the same | |
JP2007233303A (ja) | 高分子光導波路モジュールの製造方法 | |
JP4962266B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2005321560A (ja) | 受発光素子付き高分子光導波路モジュール | |
JP2007183467A (ja) | ミラー付光導波路及びその製造方法 | |
JP2004020656A (ja) | 光導波路装置および光導波路装置の製造方法 | |
JP2007086330A (ja) | 高分子光導波路デバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090210 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101001 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20101001 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110125 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110207 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |