JP4688401B2 - ガスバリヤー性フィルム - Google Patents
ガスバリヤー性フィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4688401B2 JP4688401B2 JP2002506925A JP2002506925A JP4688401B2 JP 4688401 B2 JP4688401 B2 JP 4688401B2 JP 2002506925 A JP2002506925 A JP 2002506925A JP 2002506925 A JP2002506925 A JP 2002506925A JP 4688401 B2 JP4688401 B2 JP 4688401B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- titanium oxide
- film
- compound
- film layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
- C23C18/1233—Organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1254—Sol or sol-gel processing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Wrappers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンである上記項3に記載のフィルム。
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンをお互いに縮合反応させてなる縮合度2〜30の化合物である上記項3に記載のフィルム。
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンである上記項11に記載のフィルム。
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンをお互いに縮合反応させてなる縮合度2〜30の化合物である上記項11に記載のフィルム。
本発明フィルムにおけるプラスチックフィルム層(A)としては、包装用等に使用されるプラスチックフィルム基材であって、酸化チタン膜層(B)を固定化、保持させることができるものであれば、公知のものをいずれも使用できる。
本発明フィルムにおいて、プラスチックフィルム層(A)の表面に設けられる酸化チタン膜層(B)は、優れたガスバリヤー性、紫外線遮断性、保香性等を発揮し、しかも透明性に優れている。
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンが好ましい。Rで示される炭素数1〜5のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。
本発明のガスバリヤー性フィルムは、例えば、プラスチックフィルム層(A)の表面に、酸化チタン膜形成用塗布剤を塗布し、次いで室温又は200℃以下、好ましくは150℃以下の温度で加熱して、乾燥して、酸化チタン膜層(B)を形成することにより得ることができる。この乾燥時に、酸化チタン膜を硬化させても良い。加熱温度が200℃を超えると、プラスチックフィルム層(A)が変形、変質などの劣化を起こすことがある。
製造例1
テトラiso−プロポキシチタン10部とiso−プロパノール10部の混合物を、30%過酸化水素水10部と脱イオン水100部の混合物中に20℃で1時間かけて撹拌しながら滴下した。その後25℃で2時間熟成し、黄色透明の少し粘性のある固形分2%のペルオキソチタン酸水溶液であるチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(1)とした。この塗布剤(1)のX線回折結果を図1に示す。図1より、この塗布剤中の酸化チタンは、アモルファス酸化チタンであることが判る。
製造例1において、テトラiso−プロポキシチタンに代えて、テトラn−ブトキシチタンを同量使用する他は、製造例1と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(2)とした。
製造例1において、テトラiso−プロポキシチタンに代えて、テトラiso−プロポキシチタンの3量体を同量使用する他は、製造例1と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(3)とした。
製造例1において、過酸化水素水を3倍量用い50℃で1時間かけて滴下し、その後60℃で3時間熟成する他は、製造例1と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(4)とした。
製造例2で得た酸化チタンコーティング剤(2)を、95℃で6時間加熱処理し、白黄色の半透明な酸化チタン分散液である固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(5)とした。
四塩化チタン60%水溶液5ccを蒸留水で500ccとした水溶液に、10%アンモニア水を滴下し、水酸化チタンを沈殿させた。沈殿を蒸留水で洗浄後、過酸化水素水30%溶液を10cc加えかき混ぜ、ペルオキソチタン酸を含む固形分2%の黄色半透明粘性液体であるチタン含有水性液70ccを得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(6)とした。
水酸化チタンを水に0.2mol/l分散させた液体を作成した。これを、比較用の酸化チタン膜形成用塗布剤(7)とした。
酸化チタン膜形成用塗布剤(1)〜(7)を、膜厚20μmの2軸配向ポリプロピレンフィルムのコロナ放電処理を施した片表面に、乾燥膜厚が0.3μmになるようにバーコーターで塗装し、120℃で5分間乾燥を行って、酸化チタン膜を積層して、積層フィルムを得た。塗布剤(1)〜(6)を用いた場合が実施例1〜6であり、塗布剤(7)を用いた場合が比較例1である。
膜厚20μmの2軸配向ポリプロピレンフィルム又は共重合ポリエチレンテレフタレートフィルムを、それぞれ比較例2及び3とした。
製造例8
テトラiso−プロポキシチタン10部とiso−プロパノール10部の混合物を、「TKS−201」(テイカ(株)製、酸化チタンゾル)5部(固形分)、30%過酸化水素水10部及び脱イオン水100部の混合物中に10℃で1時間かけて撹拌しながら滴下した。その後10℃で24時間熟成し黄色透明の少し粘性のある固形分2%のペルオキソチタン酸水溶液であるチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(8)とした。
製造例8において、テトラiso−プロポキシチタンに代えてテトラn−ブトキシチタンを同量使用する他は、製造例8と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(9)とした。
製造例8において、テトラiso−プロポキシチタンに代えてテトラiso−プロポキシチタンの3量体を同量使用する他は、製造例8と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(10)とした。
製造例8において、過酸化水素水を3倍量用い10℃で1時間かけて滴下し、その後10℃で30時間熟成する他は、製造例8と同様にして、固形分2%のチタン含有水性液を得た。これを、酸化チタン膜形成用塗布剤(11)とした。
酸化チタン膜形成用塗布剤(8)〜(11)を、膜厚20μmの2軸配向ポリプロピレンフィルムのコロナ放電処理を施した片表面に、乾燥膜厚が0.3μmになるようにバーコーターで塗装し、120℃で5分間乾燥を行って、酸化チタン膜を積層して、実施例7〜10のフィルムを得た。
製造例12
製造例1で得たチタン含有水性液を、95℃で6時間加熱処理し、白黄色の半透明な酸化チタン分散液である固形分2%のチタン含有水性液を得た。
テトラiso−プロポキシチタン10部とiso−プロパノール10部の混合物を、「TKS−203」(テイカ(株)製、酸化チタンゾル)5部(固形分)、30%過酸化水素水10部及び脱イオン水100部の混合物中に10℃で1時間かけて撹拌しながら滴下した。その後10℃で24時間熟成し黄色透明の少し粘性のあるペルオキソチタン酸水溶液である固形分2%のチタン含有水性液を得た。
反応容器に、エチレングリコールモノブチルエーテル1,200部を入れ、100℃に昇温して保持した中に、メタクリル酸400部、スチレン500部、アクリル酸エチル100部、「パーブチルO」(商品名、日本油脂(株)製、過酸化物系重合開始剤)35部およびエチレングリコールモノブチルエーテル140部の混合物を3時間かけて滴下した。滴下終了後、100℃にて2時間熟成し、ついでn−ブタノール570部を加えて、固形分36%のカルボキシル基含有アクリル樹脂溶液(AC−1)を得た。得られた樹脂の数平均分子量は約7,000であり、樹脂酸価は260mgKOH/gであった。
攪拌装置、還流冷却器、温度計、液体滴下装置を備えた反応装置に、「エピコート1009レジン」(商品名、シェル化学(株)製、分子量3,750のエポキシ樹脂)1,880g(0.5モル)とメチルイソブチルケトン/キシレン=1/1(重量比)の混合溶媒1,000gを加えた後、加熱攪拌し、均一に溶解した。その後70℃まで冷却し、液体滴下装置に分取したジ(n−プロパノール)アミン70gを30分間を要して滴下した。この間、反応温度を70℃に保持した。滴下終了後120℃で2時間保持し、反応を完結させることにより、固形分66%のアミン変性エポキシ樹脂を得た。得られた樹脂1,000gに対して88%の蟻酸25部を混合し、水を加えた後十分に攪拌することによって、固形分30%のアミン変性エポキシ樹脂エマルションを得た。
「ホープゾールA−5100X」(商品名、協和発酵工業(株)製、固形分60%のアクリル変性ポリエステル樹脂溶液)50部に対して、「マイコート106」(商品名、三井サイテック(株)製、固形分77%のベンゾグアナミン樹脂)4部および「NACURE5225」(米国キングインダストリイズ社製、商品名、ドデシルベンゼンスルホン酸のアミン中和溶液、ドデシルベンゼンスルホン酸含有量は25%)6部を混合し、水を加えた後十分に攪拌することによって、固形分30%のアクリル変性ポリエステル/メラミン硬化性樹脂溶液を得た。
水系ウレタン樹脂として、「アデカボンタイターHUX−401」(商品名、旭電化(株)製、固形分37%の水系ウレタン樹脂分散体)を用いた。
下記表3に記載の組成割合に従って、チタン含有水性液の中に、有機塩基性化合物を入れて攪拌し、次に水性有機高分子化合物を入れて攪拌する手順で、酸化チタン膜形成用塗布剤(12)〜(20)を調製した。該塗布剤(12)〜(19)は実施例用であり、塗布剤(20)は、比較用である。
酸化チタン膜形成用塗布剤(12)〜(19)を、膜厚20μmの2軸配向ポリプロピレンフィルムのコロナ放電処理を施した片表面に、乾燥膜厚が0.3μmになるようにバーコーターで塗装し、120℃で5分間乾燥を行って、酸化チタン膜を積層して、実施例11〜18のフィルムを得た。また、酸化チタン膜形成用塗布剤(20)を用いて、同様にして、比較例4のフィルムを得た。
Claims (20)
- プラスチックフィルム層(A)の片面又は両面に、酸化チタン膜層(B)を積層してなるガスバリヤー性フィルムであって、
酸化チタン膜層(B)が、加水分解性チタン化合物、加水分解性チタン化合物の低縮合物、水酸化チタン及び水酸化チタンの低縮合物から選ばれる少なくとも1種のチタン化合物を過酸化水素水と混合して得られるチタン含有水性液(a)、有機塩基性化合物(b)及びpH10以下で安定な水性有機高分子化合物(c)を含有する酸化チタン膜形成用塗布剤を、プラスチックフィルム層(A)上に塗布し、200℃以下の温度で乾燥させることによって、積層されているフィルム。 - チタン含有水性液(a)が、加水分解性チタン化合物及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と混合して得られるペルオキソチタン酸水溶液である請求項1に記載のフィルム。
- 加水分解性チタン化合物が、一般式
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンである請求項1又は2に記載のフィルム。 - 加水分解性チタン化合物の低縮合物が、一般式
Ti(OR)4 (1)
(式中、Rは、同一又は異なって、炭素数1〜5のアルキル基を示す。)で表されるテトラアルコキシチタンをお互いに縮合反応させてなる縮合度2〜30の化合物である請求項1又は2に記載のフィルム。 - 加水分解性チタン化合物及び/又はその低縮合物と過酸化水素水との混合割合が、前者10重量部に対して後者が過酸化水素換算で0.1〜100重量部の範囲内である請求項1〜4のいずれか一項に記載のフィルム。
- チタン含有水性液(a)が、酸化チタンゾルの存在下で、加水分解性チタン化合物及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と混合して得られたペルオキソチタン酸水溶液である請求項1〜5のいずれか一項に記載のフィルム。
- 酸化チタンゾルが、アナターゼ型酸化チタンの水分散液である請求項6に記載のフィルム。
- 酸化チタンゾルの使用量が、加水分解性チタン化合物及び/又はその低縮合物1重量部に対して、固形分で0.01〜10重量部である請求項6又は7に記載のフィルム。
- 有機塩基性化合物(b)が、沸点300℃以下のものである請求項1〜8のいずれか一項に記載のフィルム。
- 有機塩基性化合物(b)の使用量が、チタン含有水性液(a)の固形分100重量部に対して、0.001〜10重量部である請求項1〜9のいずれか一項に記載のフィルム。
- 水性有機高分子化合物(c)が、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリオキシアルキレン鎖含有樹脂、オレフィン−重合性不飽和カルボン酸共重合体系樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種の樹脂である請求項1〜10のいずれか一項に記載のフィルム。
- 水性有機高分子化合物(c)の使用量が、チタン含有水性液(a)の固形分100重量部に対して、0.1〜200重量部である請求項1〜11のいずれか一項に記載のフィルム。
- 酸化チタン膜形成用塗布剤が、pH2〜10の水性塗布剤である請求項1〜12のいずれか一項に記載のフィルム。
- 酸化チタン膜層(B)を構成する酸化チタンの一部又は全部がアモルファス酸化チタンである請求項1〜13のいずれか一項に記載のフィルム。
- プラスチックフィルム層(A)が、食品包装用プラスチックフィルム層である請求項1〜14のいずれか一項に記載のフィルム。
- プラスチックフィルム層(A)が、ポリプロピレンフィルム層である請求項1〜14のいずれか一項に記載のフィルム。
- プラスチックフィルム層(A)の厚さが、5〜100μmである請求項1〜16のいずれか一項に記載のフィルム。
- 酸化チタン膜層(B)の厚さが、0.001〜10μmである請求項1〜17のいずれか一項に記載のフィルム。
- プラスチックフィルム層(A)の片面又は両面に、加水分解性チタン化合物、加水分解性チタン化合物の低縮合物、水酸化チタン及び水酸化チタンの低縮合物から選ばれる少なくとも1種のチタン化合物を過酸化水素水と混合して得られるチタン含有水性液(a)、有機塩基性化合物(b)及びpH10以下で安定な水性有機高分子化合物(c)を含有する酸化チタン膜形成用塗布剤を、プラスチックフィルム層(A)上に塗布する工程、及び
上記工程により得られた塗膜を200℃以下の温度で乾燥させることによって、酸化チタン膜層(B)を積層させる工程
を含む、ガスバリヤー性フィルムの製造方法。 - チタン含有水性液(a)が、酸化チタンゾルの存在下で、加水分解性チタン化合物及び/又はその低縮合物を過酸化水素水と混合して得られたペルオキソチタン酸水溶液である請求項19に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002506925A JP4688401B2 (ja) | 2000-07-03 | 2001-07-03 | ガスバリヤー性フィルム |
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000200682 | 2000-07-03 | ||
JP2000200682 | 2000-07-03 | ||
JP2000211846 | 2000-07-12 | ||
JP2000211846 | 2000-07-12 | ||
JP2001152445 | 2001-05-22 | ||
JP2001152445 | 2001-05-22 | ||
PCT/JP2001/005741 WO2002002313A1 (fr) | 2000-07-03 | 2001-07-03 | Couche mince formant barriere aux gaz |
JP2002506925A JP4688401B2 (ja) | 2000-07-03 | 2001-07-03 | ガスバリヤー性フィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4688401B2 true JP4688401B2 (ja) | 2011-05-25 |
Family
ID=27343950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002506925A Expired - Fee Related JP4688401B2 (ja) | 2000-07-03 | 2001-07-03 | ガスバリヤー性フィルム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20030104211A1 (ja) |
JP (1) | JP4688401B2 (ja) |
AU (1) | AU2001267910A1 (ja) |
DE (1) | DE10196405B4 (ja) |
TW (1) | TWI285155B (ja) |
WO (1) | WO2002002313A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4807851B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2011-11-02 | 関西ペイント株式会社 | 粘土複合体 |
TW200925110A (en) * | 2007-08-09 | 2009-06-16 | Showa Denko Kk | Organized clay complex, method for producing the same, and resin complex containing organized clay complex |
JP5131638B2 (ja) * | 2008-05-27 | 2013-01-30 | 信越化学工業株式会社 | 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法 |
US9574100B2 (en) * | 2011-06-22 | 2017-02-21 | Basf Se | Coated polymer foils with oxygen barrier properties |
CN104114543B (zh) | 2012-01-06 | 2019-03-15 | 安吉奥斯医药品有限公司 | 治疗活性化合物及其使用方法 |
JP6131570B2 (ja) * | 2012-11-07 | 2017-05-24 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア用コーティング液、その製造方法、ガスバリア性積層体の製造方法、包装材料の製造方法および加熱殺菌用包装材料の製造方法 |
EP3092259A4 (en) * | 2013-12-03 | 2017-07-26 | Bar Ilan University | Polyolefins having long lasting hydrophilic interfaces |
JP6914935B2 (ja) * | 2015-12-11 | 2021-08-11 | ミシェルズ グループ | 低放射率を有する被覆ポリマー基材を製造する方法 |
WO2018104433A1 (de) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | Sunny Selection Gmbh | Verfahren zur herstellung einer verpackung und verpackung |
US10799337B2 (en) * | 2018-03-09 | 2020-10-13 | Biosense Webster (Israel) Ltd. | Impermeable inner shell for a breast implant |
DE102022119490A1 (de) | 2022-08-03 | 2024-02-08 | Ingo Schneider | Herstellung kohlenstoffbeschichteter Kunststofffolien und Kunststofffilme |
CN115594919B (zh) * | 2022-10-19 | 2023-12-08 | 南京金陵塑胶化工有限公司 | 一种聚丙烯复合材料及制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5249196A (en) * | 1975-10-17 | 1977-04-19 | Toray Ind Inc | Packing material |
JPS63237940A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | 東レ株式会社 | 透明ガスバリア性フイルム |
JPH08231944A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-09-10 | Toru Yamamoto | 防曇性コーティング組成物およびそれを用いた被覆基材 |
JPH0971418A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-18 | Saga Pref Gov | チタニア膜形成法 |
JPH09113704A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Nakato Kenkyusho:Kk | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
JPH09262481A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-07 | Tao:Kk | 光触媒体及びその製造法 |
JP2000247638A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Saga Prefecture | 結晶性チタン酸化物粒子分散液体の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0617232B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1994-03-09 | 太陽誘電株式会社 | 水和型球形酸化チタンの製造方法 |
JP2549691B2 (ja) * | 1988-03-02 | 1996-10-30 | 触媒化成工業株式会社 | 酸化チタン被覆体の製造方法 |
DE69224808T2 (de) * | 1991-12-26 | 1998-07-09 | Toyo Boseki | Gassperrfilm |
DE4328767C2 (de) * | 1993-08-26 | 1995-08-31 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Herstellen von Folienverbunden und die mit diesen Verfahren hergestellten Verbunde |
JP2875993B2 (ja) * | 1996-05-07 | 1999-03-31 | 佐賀県 | アナターゼ分散液およびその製造方法 |
JP3374322B2 (ja) * | 1996-10-01 | 2003-02-04 | 東京エレクトロン株式会社 | チタン膜及びチタンナイトライド膜の連続成膜方法 |
JP3275032B2 (ja) * | 1997-03-03 | 2002-04-15 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 環境浄化材料及びその製造方法 |
TW460416B (en) * | 1999-02-26 | 2001-10-21 | Saga Prefecture | Processes of producing a titanium oxide-forming solution and a dispersion with crystalline titanium oxide particles |
JP3490013B2 (ja) * | 1999-02-26 | 2004-01-26 | 佐賀県 | チタン酸化物形成用溶液の製造方法 |
-
2001
- 2001-07-03 WO PCT/JP2001/005741 patent/WO2002002313A1/ja active Application Filing
- 2001-07-03 AU AU2001267910A patent/AU2001267910A1/en not_active Abandoned
- 2001-07-03 DE DE10196405T patent/DE10196405B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-07-03 JP JP2002506925A patent/JP4688401B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-07-03 US US10/297,946 patent/US20030104211A1/en not_active Abandoned
- 2001-07-03 TW TW90116270A patent/TWI285155B/zh not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-12-29 US US11/023,532 patent/US20050112413A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5249196A (en) * | 1975-10-17 | 1977-04-19 | Toray Ind Inc | Packing material |
JPS63237940A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-04 | 東レ株式会社 | 透明ガスバリア性フイルム |
JPH08231944A (ja) * | 1994-12-08 | 1996-09-10 | Toru Yamamoto | 防曇性コーティング組成物およびそれを用いた被覆基材 |
JPH0971418A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-18 | Saga Pref Gov | チタニア膜形成法 |
JPH09113704A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Nakato Kenkyusho:Kk | 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
JPH09262481A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-07 | Tao:Kk | 光触媒体及びその製造法 |
JP2000247638A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Saga Prefecture | 結晶性チタン酸化物粒子分散液体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10196405B4 (de) | 2008-01-24 |
US20050112413A1 (en) | 2005-05-26 |
WO2002002313A1 (fr) | 2002-01-10 |
TWI285155B (en) | 2007-08-11 |
US20030104211A1 (en) | 2003-06-05 |
AU2001267910A1 (en) | 2002-01-14 |
DE10196405T1 (de) | 2003-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4688401B2 (ja) | ガスバリヤー性フィルム | |
TWI261610B (en) | Coating composition for forming titanium oxide film, method of forming titanium oxide film and metal substrate coated with titanium oxide film | |
EP3061606B1 (en) | Gas barrier packaging material precursor and gas barrier packaging material | |
CN107849702B (zh) | 表面处理金属板和有机树脂被覆的表面处理金属板 | |
JP5485616B2 (ja) | アルミニウムフィン材用の下地処理剤 | |
JP4575047B2 (ja) | 金属表面処理組成物および金属表面処理鋼板 | |
JP6131570B2 (ja) | ガスバリア用コーティング液、その製造方法、ガスバリア性積層体の製造方法、包装材料の製造方法および加熱殺菌用包装材料の製造方法 | |
JP4573586B2 (ja) | 表面処理鋼板 | |
WO2014192500A1 (ja) | ガスバリア性包装材料 | |
WO2016158444A1 (ja) | ガスバリア性包装材料およびその製造方法 | |
CN115551903A (zh) | 交联材料和其用途 | |
JP5116410B2 (ja) | ガスバリア層形成用塗剤、ガスバリア性フィルム及びその製造方法 | |
JP4079780B2 (ja) | 無機膜形成用塗布剤及び該塗布剤を使用する無機膜形成方法 | |
JP5156250B2 (ja) | 耐食性、導電性および耐アブレージョン性に優れた表面処理鋼板 | |
JPH11116240A (ja) | 紫外線吸収性微粒子およびその用途 | |
JP2010156020A (ja) | 表面処理鋼板 | |
JP2002275650A (ja) | 親水化処理された熱交換器アルミニウムフィン材 | |
WO2021256545A1 (ja) | ガスバリア性積層体、その製造用のコーティング液、包装材料、包装体及び包装物品 | |
JP5577782B2 (ja) | 表面処理鋼板 | |
JP4526859B2 (ja) | 複合体、その複合体からなる塗膜で被覆された基材、塗膜付き基材の製造方法 | |
CN101111546A (zh) | 涂有钛酸膜的树脂基板的制造方法 | |
JP2002275653A (ja) | 金属表面処理鋼板 | |
JP2002275642A (ja) | 耐食性に優れた塗装鋼板 | |
JP3277615B2 (ja) | ガスバリヤ用表面処理用組成物 | |
JP2008208410A (ja) | 表面処理鋼板及び有機樹脂被覆鋼板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101012 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101209 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110106 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110125 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |