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JP4679490B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

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JP4679490B2
JP4679490B2 JP2006305466A JP2006305466A JP4679490B2 JP 4679490 B2 JP4679490 B2 JP 4679490B2 JP 2006305466 A JP2006305466 A JP 2006305466A JP 2006305466 A JP2006305466 A JP 2006305466A JP 4679490 B2 JP4679490 B2 JP 4679490B2
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Description

本発明は、例えばNAND型フラッシュEEPROMに係り、特に、1つのメモリセルに多値データを記憶することが可能な半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to, for example, a NAND flash EEPROM, and more particularly to a semiconductor memory device capable of storing multi-value data in one memory cell.

NAND形フラッシュメモリは、ロウ方向に配置された複数のセル全て、又は半数のセルが、それぞれビット線に接続され、各ビット線に書き込み、及び読み出し用のラッチ回路が接続されている。ロウ方向に配置された全てのセル又は半数のセルに対してデータを一括して書き込み、又は読み出し動作を行なう。近時、メモリの大容量化に伴い、1セルに2ビット以上のデータを記憶する多値メモリが開発されている(例えば、特許文献1参照)。この多値メモリにおいて、2ビットを記憶する場合、メモリセルに4つの閾値電圧を設定する必要があり、3ビットを記憶する場合、8つの閾値電圧を設定する必要があり、4ビット記憶する場合、16個の閾値電圧を設定する必要がある。   In a NAND flash memory, all or a half of a plurality of cells arranged in the row direction are connected to bit lines, and write and read latch circuits are connected to each bit line. Data is collectively written in or read out from all or half of the cells arranged in the row direction. Recently, with an increase in memory capacity, multi-level memories that store data of 2 bits or more in one cell have been developed (see, for example, Patent Document 1). In this multilevel memory, when storing 2 bits, it is necessary to set four threshold voltages in the memory cell. When storing 3 bits, it is necessary to set eight threshold voltages, and when storing 4 bits. It is necessary to set 16 threshold voltages.

このように、メモリセルに複数ビットのデータを記憶する場合、書き込みデータあるいは読み出しデータを記憶するために、ビット線にデータ記憶回路を接続する必要がある。このデータ記憶回路は、複数のラッチ回路により構成されている。   As described above, when storing data of a plurality of bits in a memory cell, it is necessary to connect a data storage circuit to the bit line in order to store write data or read data. This data storage circuit is composed of a plurality of latch circuits.

しかし、1つのメモリセルに記憶する閾値電圧の数が増加するに従い、データ記憶回路を構成するラッチ回路の数が増加し、書き込み速度が低下するという問題を有している。
特開2004−192789号公報
However, as the number of threshold voltages stored in one memory cell increases, the number of latch circuits constituting the data storage circuit increases and the writing speed decreases.
JP 2004-192789 A

本発明は、ラッチ回路の増加を抑制して多値データを記憶することができ、高速な書き込みが可能な半導体記憶装置を提供しようとするものである。   An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of storing multilevel data while suppressing an increase in latch circuits and capable of high-speed writing.

本発明の半導体記憶装置の態様はワード線、及びビット線に接続された複数のメモリセルがマトリックス状に配置されたメモリセルアレイと、前記ワード線、及びビット線の電位を制御する第1の制御回路と、前記ビット線に接続され、前記メモリセルアレイ内のメモリセルに2個(kは3以上の自然数)の閾値を設定する書込み動作のために、書込みデータを記憶するデータ記憶回路を有し、前記データ記憶回路は、少なくとも1ビットのデータをそれぞれ記憶するk個のラッチ回路で構成され、前記データ記憶回路は、少なくとも1つのスタティックラッチ回路と、複数のダイナミックラッチ回路を有し、前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路は外部に接続され、前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路及び前記複数のダイナミックラッチ回路は、外部から入力された書き込みデータを入力するとともに、書込み動作に対応した内部書込みデータをラッチすることを特徴とする。 According to an aspect of the semiconductor memory device of the present invention, a memory cell array in which a plurality of memory cells connected to a word line and a bit line are arranged in a matrix, and a first control for controlling the potential of the word line and the bit line And a data storage circuit for storing write data for a write operation that is connected to the bit line and sets a threshold of 2 k (k is a natural number of 3 or more) in the memory cell in the memory cell array. and, said data storage circuit is composed of the k latch circuits for storing at least one bit of data, respectively, said data storage circuit comprises at least one static latch circuit, a plurality of dynamic latch circuit, wherein At least one static latch circuit is connected to the outside, the at least one static latch circuit and the plurality of static latch circuits The dynamic latch circuit is characterized by inputting write data input from the outside and latching internal write data corresponding to a write operation.

本発明によれば、ラッチ回路の増加を抑制して多値データを記憶することができ、高速な書き込みが可能な半導体記憶装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor memory device capable of storing multilevel data while suppressing an increase in latch circuits and capable of high-speed writing.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(第1の参考例
図2は、例えば4ビット、16値のデータを記憶するNAND型フラッシュメモリの概略構成を示している。
(First reference example )
FIG. 2 shows a schematic configuration of a NAND flash memory that stores, for example, 4-bit, 16-value data.

メモリセルアレイ1は、複数のビット線と複数のワード線と共通ソース線を含み、例えばEEPROMセルからなる電気的にデータを書き換え可能なメモリセルがマトリクス状に配置されている。このメモリセルアレイ1には、ビット線を制御するためのビット制御回路2とワード線制御回路6が接続されている。   The memory cell array 1 includes a plurality of bit lines, a plurality of word lines, and a common source line, and memory cells that are electrically rewritable, such as EEPROM cells, are arranged in a matrix. A bit control circuit 2 and a word line control circuit 6 for controlling bit lines are connected to the memory cell array 1.

ビット線制御回路2は、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルのデータを読み出したり、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルの状態を検出したり、ビット線を介してメモリセルアレイ1中のメモリセルに書き込み制御電圧を印加してメモリセルに書き込みを行なう。ビット線制御回路2には、カラムデコーダ3、データ入出力バッファ4が接続されている。ビット線制御回路2内のデータ記憶回路はカラムデコーダ3によって選択される。データ記憶回路に読み出されたメモリセルのデータは、前記データ入出力バッファ4を介してデータ入出力端子5から外部へ出力される。   The bit line control circuit 2 reads the data of the memory cells in the memory cell array 1 via the bit lines, detects the state of the memory cells in the memory cell array 1 via the bit lines, and stores the memory via the bit lines. A write control voltage is applied to the memory cells in the cell array 1 to write to the memory cells. A column decoder 3 and a data input / output buffer 4 are connected to the bit line control circuit 2. The data storage circuit in the bit line control circuit 2 is selected by the column decoder 3. Data of the memory cell read to the data storage circuit is output to the outside from the data input / output terminal 5 via the data input / output buffer 4.

また、外部からデータ入出力端子5に入力された書き込みデータは、データ入出力バッファ4を介して、カラムデコーダ3によって選択されたデータ記憶回路に入力される。   Write data input from the outside to the data input / output terminal 5 is input to the data storage circuit selected by the column decoder 3 via the data input / output buffer 4.

ワード線制御回路6は、メモリセルアレイ1に接続されている。このワード線制御回路6は、メモリセルアレイ1中のワード線を選択し、選択されたワード線に読み出し、書き込みあるいは消去に必要な電圧を印加する。   The word line control circuit 6 is connected to the memory cell array 1. The word line control circuit 6 selects a word line in the memory cell array 1 and applies a voltage necessary for reading, writing or erasing to the selected word line.

メモリセルアレイ1、ビット線制御回路2、カラムデコーダ3、データ入出力バッファ4、及びワード線制御回路6は、制御信号及び制御電圧発生回路7に接続され、この制御信号及び制御電圧発生回路7によって制御される。制御信号及び制御電圧発生回路7は、制御信号入力端子8に接続され、外部から制御信号入力端子8を介して入力される制御信号ALE(アドレス・ラッチ・イネーブル)、CLE(コマンド・ラッチ・イネーブル)、WE(ライト・イネーブル)によって制御される。   The memory cell array 1, the bit line control circuit 2, the column decoder 3, the data input / output buffer 4, and the word line control circuit 6 are connected to a control signal and control voltage generation circuit 7, and the control signal and control voltage generation circuit 7 Be controlled. The control signal and control voltage generation circuit 7 is connected to a control signal input terminal 8 and is supplied with control signals ALE (address latch enable) and CLE (command latch enable) input from the outside via the control signal input terminal 8. ) And WE (write enable).

前記ビット線制御回路2、カラムデコーダ3、ワード線制御回路6、制御信号及び制御電圧発生回路7は書き込み回路、及び読み出し回路を構成している。   The bit line control circuit 2, column decoder 3, word line control circuit 6, control signal and control voltage generation circuit 7 constitute a write circuit and a read circuit.

また、制御信号及び制御電圧発生回路7は、ダイナミックデータキャッシュ(DDC)制御回路7−1を有している。このDDC制御回路7−1は、後述するように、データ記憶回路に含まれるダイナミックラッチ回路としての複数のDRAMのリフレッシュ動作を制御する制御信号を発生する。   Further, the control signal and control voltage generation circuit 7 includes a dynamic data cache (DDC) control circuit 7-1. The DDC control circuit 7-1 generates a control signal for controlling refresh operations of a plurality of DRAMs as dynamic latch circuits included in the data storage circuit, as will be described later.

図3は、図2に示すメモリセルアレイ1及びビット線制御回路2の構成を示している。メモリセルアレイ1には複数のNANDセルが配置されている。1つのNANDセルは、直列接続された例えば32個のEEPROMからなるメモリセルMCと、選択ゲートS1、S2とにより構成されている。選択ゲートS2はビット線BL0eに接続され、選択ゲートS1はソース線SRCに接続されている。各ロウに配置されたメモリセルMCの制御ゲートはワード線WL0〜WL29、WL30、WL31に共通接続されている。また、選択ゲートS2はセレクト線SGDに共通接続され、選択ゲートS1はセレクト線SGSに共通接続されている。   FIG. 3 shows the configuration of the memory cell array 1 and the bit line control circuit 2 shown in FIG. A plurality of NAND cells are arranged in the memory cell array 1. One NAND cell includes a memory cell MC made up of, for example, 32 EEPROMs connected in series, and select gates S1 and S2. The selection gate S2 is connected to the bit line BL0e, and the selection gate S1 is connected to the source line SRC. The control gates of the memory cells MC arranged in each row are commonly connected to the word lines WL0 to WL29, WL30, and WL31. The selection gate S2 is commonly connected to the select line SGD, and the selection gate S1 is commonly connected to the select line SGS.

ビット線制御回路2は複数のデータ記憶回路10を有している。各データ記憶回路10には、一対のビット線(BL0e、BL0o)、(BL1e、BL1o)…(BLie、BLio)、(BL8ke、BL8ko)が接続されている。   The bit line control circuit 2 has a plurality of data storage circuits 10. A pair of bit lines (BL0e, BL0o), (BL1e, BL1o)... (BLie, BLio), (BL8ke, BL8ko) are connected to each data storage circuit 10.

メモリセルアレイ1は、破線で示すように、複数のブロックを含んでいる。各ブロックは、複数のNANDセルにより構成され、例えばこのブロック単位でデータが消去される。また、イレーズ動作は、データ記憶回路10に接続されている2本のビット線について同時に行なわれる。   The memory cell array 1 includes a plurality of blocks as indicated by broken lines. Each block includes a plurality of NAND cells, and data is erased in units of blocks, for example. The erase operation is simultaneously performed on two bit lines connected to the data storage circuit 10.

また、ビット線の1つおきに配置され、1つのワード線に接続された複数のメモリセル(破線で囲まれた範囲のメモリセル)は、1セクタを構成する。このセクタ毎にデータが書き込まれ、読み出される。   In addition, a plurality of memory cells arranged every other bit line and connected to one word line (memory cells in a range surrounded by a broken line) constitute one sector. Data is written and read for each sector.

リード動作、プログラムベリファイ動作及びプログラム動作時において、データ記憶回路10に接続されている2本のビット線(BLie、BLio)のうち外部より供給されるアドレス信号(YA0、YA1…YAi…YA8k)に応じて1本のビット線が選択される。さらに、外部アドレスに応じて、1本のワード線が選択され、破線で示す、4ページが選択される。この4ページの切り替えはアドレスによって行われる。   During the read operation, the program verify operation, and the program operation, the address signals (YA0, YA1,... YAi,... YA8k) supplied from the outside of the two bit lines (BLie, BLio) connected to the data storage circuit 10 are used. In response, one bit line is selected. Furthermore, one word line is selected according to the external address, and four pages indicated by broken lines are selected. The four pages are switched by address.

図4(a)(b)はメモリセル及び選択トランジスタの断面図を示している。図4(a)はメモリセルを示している。基板51(後述するP型ウェル領域55)にはメモリセルのソース、ドレインとしてのn型拡散層42が形成されている。P型ウェル領域55の上にはゲート絶縁膜43を介して浮遊ゲート(FG)44が形成され、この浮遊ゲート44の上には絶縁膜45を介して制御ゲート(CG)46が形成されている。図4(b)は選択ゲートを示している。P型ウェル領域55にはソース、ドレインとしてのn型拡散層47が形成されている。P型ウェル領域55の上にはゲート絶縁膜48を介して制御ゲート49が形成されている。   4A and 4B are cross-sectional views of the memory cell and the select transistor. FIG. 4A shows a memory cell. In the substrate 51 (P-type well region 55 described later), an n-type diffusion layer 42 is formed as the source and drain of the memory cell. A floating gate (FG) 44 is formed on the P-type well region 55 via a gate insulating film 43, and a control gate (CG) 46 is formed on the floating gate 44 via an insulating film 45. Yes. FIG. 4B shows the selection gate. In the P-type well region 55, an n-type diffusion layer 47 as a source and a drain is formed. A control gate 49 is formed on the P-type well region 55 via a gate insulating film 48.

図5は、NAND型フラッシュメモリの断面図を示している。例えばP型半導体基板51内には、N型ウェル領域52、53、54、P型ウェル領域56が形成されている。N型ウェル領域52内にはP型ウェル領域55が形成され、このP型ウェル領域55内にメモリセルアレイ1を構成する低電圧NチャネルトランジスタLVNTrが形成されている。さらに、前記N型ウェル領域53、P型ウェル領域56内に、データ記憶回路10を構成する低電圧PチャネルトランジスタLVPTr、低電圧NチャネルトランジスタLVNTrが形成されている。前記基板51内には、ビット線とデータ記憶回路10を接続する高電圧NチャネルトランジスタHVNTrが形成されている。また、前記N型ウェル領域54内には例えばワード線駆動回路等を構成する高電圧PチャネルトランジスタHVPTrが形成されている。図5に示すように、高電圧トランジスタHVNTr、HVPTrは、低電圧トランジスタLVNTr、LVPTrに比べて例えば厚いゲート絶縁膜を有している。   FIG. 5 shows a cross-sectional view of the NAND flash memory. For example, N-type well regions 52, 53 and 54 and a P-type well region 56 are formed in the P-type semiconductor substrate 51. A P-type well region 55 is formed in the N-type well region 52, and a low-voltage N-channel transistor LVNTr constituting the memory cell array 1 is formed in the P-type well region 55. Further, a low-voltage P-channel transistor LVPTr and a low-voltage N-channel transistor LVNTr constituting the data storage circuit 10 are formed in the N-type well region 53 and the P-type well region 56. In the substrate 51, a high-voltage N-channel transistor HVNTr that connects the bit line and the data storage circuit 10 is formed. In the N-type well region 54, for example, a high voltage P-channel transistor HVPTr constituting a word line driving circuit or the like is formed. As shown in FIG. 5, the high voltage transistors HVNTr and HVPTr have, for example, a thicker gate insulating film than the low voltage transistors LVNTr and LVPTr.

図6は、図5に示す各領域に供給される電圧の例を示している。消去、プログラム、リードにおいて、各領域に図6に示すような電圧が供給される。ここで、Veraはデータの消去時に基板に印加される電圧、Vssは接地電圧、Vddは電源電圧、Vpgmhはデータの書き込み時にワード線に供給される電圧Vpgm+Vth、Vfixはデータの読み出し時にメモリセルが形成されたウェルに供給される電圧、Vreadhは、データの読み出し時にワード線に供給される電圧Vread+Vthである。   FIG. 6 shows an example of the voltage supplied to each region shown in FIG. In erasing, programming, and reading, a voltage as shown in FIG. 6 is supplied to each region. Here, Vera is a voltage applied to the substrate at the time of erasing data, Vss is a ground voltage, Vdd is a power supply voltage, Vpgmh is a voltage Vpgm + Vth supplied to a word line at the time of writing data, and Vfix is a memory cell at the time of reading data. The voltage Vreadh supplied to the formed well is the voltage Vread + Vth supplied to the word line when reading data.

図1は、図3に示すデータ記憶回路10の一例を示す回路図である。   FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of the data storage circuit 10 shown in FIG.

このデータ記憶回路10は、例えば4ビット、16値のデータを書き込み、読み出す場合を示しており、プライマリデータキャッシュ(PDC)、セコンダリデータキャッシュ(SDC)、ダイナミックデータキャッシュ(DDCA、DDCB、DDCC、DDCD)、テンポラリデータキャッシュ(TDC)を有している。SDC、PDC、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDは、書き込み時に入力データを保持し、読み出し時に読み出しデータを保持し、ベリファイ時に一時的にデータを保持し、多値データを記憶する際に内部データの操作に使用される。TDCは、データの読み出し時にビット線のデータを増幅し、一時的に保持するとともに、多値データを記憶する際に内部データの操作に使用される。   The data storage circuit 10 shows a case where, for example, 4-bit, 16-value data is written and read, and a primary data cache (PDC), a secondary data cache (SDC), a dynamic data cache (DDCA, DDCB, DDCC, DDCD) and temporary data cache (TDC). SDC, PDC, DDCA, DDCB, DDCC, DDCD hold input data at the time of writing, hold read data at the time of reading, hold data temporarily at the time of verification, and store internal data when storing multi-value data Used for operation. The TDC amplifies and temporarily holds bit line data when reading data, and is used to manipulate internal data when storing multilevel data.

SDCは、スタティックラッチ回路を構成するクロックドインバータ回路61a、61b、及びトランジスタ61c、61dにより構成されている。トランジスタ61cはクロックドインバータ回路61aの入力端と、クロックドインバータ回路61bの入力端の間に接続されている。このトランジスタ61cのゲートには信号EQ2が供給されている。トランジスタ61dはクロックドインバータ回路61aの出力端と接地間に接続されている。このトランジスタ61dのゲートには信号PRSTが供給されている。SDCのノードN2aは、カラム選択トランジスタ61eを介して入出力データ線IOnに接続され、ノードN2bは、カラム選択トランジスタ61fを介して入出力データ線IOに接続される。これらトランジスタ61e、61fのゲートにはカラム選択信号CSLiが供給されている。SDCのノードN2aは、トランジスタ61g、61hを介してPDCのノードN1aに接続されている。トランジスタ61gのゲートには信号BLC2が供給され、トランジスタ61hのゲートには信号BLC1が供給されている。   The SDC includes clocked inverter circuits 61a and 61b and transistors 61c and 61d that constitute a static latch circuit. The transistor 61c is connected between the input terminal of the clocked inverter circuit 61a and the input terminal of the clocked inverter circuit 61b. A signal EQ2 is supplied to the gate of the transistor 61c. The transistor 61d is connected between the output terminal of the clocked inverter circuit 61a and the ground. A signal PRST is supplied to the gate of the transistor 61d. The node N2a of the SDC is connected to the input / output data line IOn via the column selection transistor 61e, and the node N2b is connected to the input / output data line IO via the column selection transistor 61f. A column selection signal CSLi is supplied to the gates of the transistors 61e and 61f. The node N2a of the SDC is connected to the node N1a of the PDC via the transistors 61g and 61h. A signal BLC2 is supplied to the gate of the transistor 61g, and a signal BLC1 is supplied to the gate of the transistor 61h.

PDCは、スタティックラッチ回路を構成するクロックドインバータ回路61i、61j及びトランジスタ61kにより構成されている。トランジスタ61kは、クロックドインバータ回路61iの入力端とクロックドインバータ回路61jの入力端の相互間に接続されている。このトランジスタ61kのゲートには信号EQ1が供給されている。PDCのノードN1bはトランジスタ61lのゲートに接続されている。このトランジスタ61lの電流通路の一端はトランジスタ61mを介して接地されている。このトランジスタ61mのゲートには信号CHK1が供給されている。また、トランジスタ61lの電流通路の他端はトランスファーゲートを構成するトランジスタ61n、61oの電流通路の一端に接続されている。このトランジスタ61nのゲートには信号CHK2nが供給されている。また、トランジスタ61oのゲートはノードN3に接続されている。トランジスタ61n、61oの電流通路の他端は、信号線COMiに接続されている。この信号線COMiは全データ記憶回路10に共通に接続され、この信号線COMiのレベルにより、全データ記憶回路10のベリファイが完了したかどうかを判定できる。すなわち、後述するように、ベリファイが完了すると、PDCのノードN1bがローレベル(ノードN1aがハイレベル)となる。この状態において、信号CHK1、CHK2nをハイレベルとすると、ベリファイが完了している場合、信号COMiがハイレベルとなる。   The PDC includes clocked inverter circuits 61i and 61j and a transistor 61k that constitute a static latch circuit. The transistor 61k is connected between the input terminal of the clocked inverter circuit 61i and the input terminal of the clocked inverter circuit 61j. A signal EQ1 is supplied to the gate of the transistor 61k. The node N1b of the PDC is connected to the gate of the transistor 61l. One end of the current path of the transistor 61l is grounded through the transistor 61m. A signal CHK1 is supplied to the gate of the transistor 61m. The other end of the current path of the transistor 61l is connected to one end of the current path of the transistors 61n and 61o constituting the transfer gate. A signal CHK2n is supplied to the gate of the transistor 61n. The gate of the transistor 61o is connected to the node N3. The other ends of the current paths of the transistors 61n and 61o are connected to the signal line COMi. This signal line COMi is commonly connected to all the data storage circuits 10, and it can be determined whether or not the verification of all the data storage circuits 10 has been completed based on the level of this signal line COMi. That is, as will be described later, when the verification is completed, the node N1b of the PDC becomes low level (the node N1a is high level). In this state, if the signals CHK1 and CHK2n are set to the high level, the signal COMi is set to the high level when the verification is completed.

さらに、前記TDCは、例えばMOSキャパシタ61pにより構成されている。このキャパシタ61pは、一端が前記トランジスタ61g、61hの接続ノードN3に接続され、他端に後述する信号BOOSTが供給されている。また、接続ノードN3には、トランジスタ61qA〜61qDを介してDDCA、DDCB、DDCC、DDCDが接続される。前記トランジスタ61qA〜61qDのゲートには、信号REGA〜REGDが供給されている。   Further, the TDC is constituted by, for example, a MOS capacitor 61p. One end of the capacitor 61p is connected to the connection node N3 of the transistors 61g and 61h, and a signal BOOST described later is supplied to the other end. Further, DDCA, DDCB, DDCC, DDCD are connected to connection node N3 via transistors 61qA-61qD. Signals REGA to REGD are supplied to the gates of the transistors 61qA to 61qD.

ダイナミックラッチ回路を構成するDDCA、DDCB、DDCC、DDCDは、トランジスタ61rA〜61rDにより構成されている。トランジスタ61rA〜61rDの電流通路の一端には信号VPREが供給され、他端は前記トランジスタ61qA〜61qDの電流通路にそれぞれ接続されている。このトランジスタ61rA〜61rDのゲートはトランジスタ61sA〜61sDを介して前記PDCのノードN1aにそれぞれ接続されている。このトランジスタ61sA〜61sDのゲートには信号DTGA〜DTGDがそれぞれ供給されている。   DDCA, DDCB, DDCC, DDCD constituting the dynamic latch circuit are constituted by transistors 61rA to 61rD. The signal VPRE is supplied to one end of the current path of the transistors 61rA to 61rD, and the other end is connected to the current path of the transistors 61qA to 61qD. The gates of the transistors 61rA to 61rD are connected to the node N1a of the PDC via the transistors 61sA to 61sD, respectively. Signals DTGA to DTGD are supplied to the gates of the transistors 61sA to 61sD, respectively.

さらに、前記接続ノードN3にはトランジスタ61t、61uの電流通路の一端が接続されている。トランジスタ61uの電流通路の他端には信号VPREが供給され、ゲートにはBLPREが供給されている。前記トランジスタ61tのゲートには信号BLCLAMPが供給されている。このトランジスタ61tの電流通路の他端はトランジスタ61vを介してビット線BLoの一端に接続され、トランジスタ61wを介してビット線BLeの一端に接続されている。ビット線BLoの一端はトランジスタ61xの電流通路の一端に接続されている。このトランジスタ61xのゲートには信号BIASoが供給されている。ビット線BLeの一端はトランジスタ61yの電流通路の一端に接続されている。このトランジスタ61yのゲートには信号BIASeが供給されている。これらトランジスタ61x、61yの電流通路の他端には、信号BLCRLが供給されている。トランジスタ61x、61yは、信号BIASo、BIASeに応じてトランジスタ61v、61wと相補的にオンとされ、非選択のビット線に信号BLCRLの電位を供給する。   Further, one end of a current path of the transistors 61t and 61u is connected to the connection node N3. The signal VPRE is supplied to the other end of the current path of the transistor 61u, and BLPRE is supplied to the gate. A signal BLCLAMP is supplied to the gate of the transistor 61t. The other end of the current path of the transistor 61t is connected to one end of the bit line BLo through the transistor 61v, and is connected to one end of the bit line BLe through the transistor 61w. One end of the bit line BLo is connected to one end of the current path of the transistor 61x. A signal BIASo is supplied to the gate of the transistor 61x. One end of the bit line BLe is connected to one end of the current path of the transistor 61y. A signal BIASe is supplied to the gate of the transistor 61y. A signal BLCRL is supplied to the other ends of the current paths of the transistors 61x and 61y. The transistors 61x and 61y are turned on complementarily to the transistors 61v and 61w in response to the signals BIASo and BIASe, and supply the potential of the signal BLCRL to the unselected bit lines.

尚、前記ノードN3と接地間には、例えばMOSキャパシタ61zが接続されている。このキャパシタ61zは、後述するTDCのキャパシタ61pを信号BOOSTにより昇圧する際、カップリングにより、ノードN3の電位が上昇し過ぎないように、ノードN3の電位を調整する。以後、PDCのデータはノードN1aの電位、SDCのデータはノードN2aの電位、TDCのデータはノードN3の電位とする。DDCA〜DDCDのデータは、トランジスタ61rA〜61rDのゲートの電位とする。   For example, a MOS capacitor 61z is connected between the node N3 and the ground. The capacitor 61z adjusts the potential of the node N3 so that the potential of the node N3 does not rise too much due to coupling when the TDC capacitor 61p described later is boosted by the signal BOOST. Hereinafter, the PDC data is the potential of the node N1a, the SDC data is the potential of the node N2a, and the TDC data is the potential of the node N3. Data of DDCA to DDCD is the potential of the gates of the transistors 61rA to 61rD.

上記各信号及び電圧は、図2に示す制御信号及び制御電圧発生回路7により生成され、この制御信号及び制御電圧発生回路7の制御に基づき、データの書き込み、ベリファイ、読み出し動作が制御される。さらに、DDCA〜DDCDは、DDC制御回路7−1により、発生された制御信号によりリフレッシュされる。   The above signals and voltages are generated by a control signal and control voltage generation circuit 7 shown in FIG. 2, and data write, verify, and read operations are controlled based on the control of the control signal and control voltage generation circuit 7. Further, DDCA to DDCD are refreshed by the control signal generated by the DDC control circuit 7-1.

本メモリは、1つのセルに16個の閾値電圧により、4ビットのデータを記憶する。この4ビットの切り替えはアドレス(第1ページ、第2ページ、第3ページ、第4ページ)によって制御される。   This memory stores 4-bit data with 16 threshold voltages in one cell. This switching of 4 bits is controlled by an address (first page, second page, third page, fourth page).

図7は、アドレス入力サイクルを示すタイミング図を示している。図7に示すコマンド・ラッチ・イネーブル信号CLEをローレベル(以下、Lレベル又はLと記す)、アドレス・ラッチ・イネーブル信号ALEをハイレベル(以下、Hレベル又はHと記す)として、ライトイネーブル信号WEnをLレベルからHレベルとした時、外部から入力されるI/O0−7がアドレスとして読み取られる。   FIG. 7 shows a timing diagram illustrating the address input cycle. The command latch enable signal CLE shown in FIG. 7 is set to low level (hereinafter referred to as L level or L), the address latch enable signal ALE is set to high level (hereinafter referred to as H level or H), and the write enable signal is set. When WEn is changed from L level to H level, I / O0-7 input from the outside is read as an address.

図8は、入力サイクルとアドレスの割当てを示している。図8に示すように、第1、第2サイクルはカラムアドレス、第3サイクルのI/O0−1(A16,A17)は、ページアドレスを切り替えるMLC(Multi Level Cell)アドレスであり、(A16,A17)=(L,L)のときロワーページ、(A16,A17)=(H,L)のときアッパーページ、(A16,A17)=(L,H)のときハイアーページ、(16,A17)=(H,H)のときトップページとなる、第3サイクルのI/O3(A18)は、2本のビット線(BLie、BLio)の一方を選択し、第3サイクルのI/O3−7(A19−A23)は、NANDセル内の32本のワード線の1つを選択する。第4、5サイクルはブロックアドレスを示している。   FIG. 8 shows the input cycle and address assignment. As shown in FIG. 8, the first and second cycles are column addresses, and the third cycle I / O0-1 (A16, A17) is an MLC (Multi Level Cell) address for switching page addresses. Lower page when A17) = (L, L), Upper page when (A16, A17) = (H, L), Higher page when (A16, A17) = (L, H), (16, A17) = I / O3 (A18) of the third cycle, which becomes the top page when (H, H), selects one of the two bit lines (BLie, BLio), and the I / O 3-7 of the third cycle (A19-A23) selects one of the 32 word lines in the NAND cell. The fourth and fifth cycles indicate block addresses.

図9は、メモリセルアレイ(プレーン0、1)とブロックの関係を示している。図9に示すように、本NAND型フラッシュメモリは、2つのプレーン0、1を有している。各プレーン0,1は、例えば図2に示すメモリセルアレイ1、ビット線制御回路2、カラムデコーダ3、ワード線制御回路6有している。制御信号及び制御電圧発生回路7、制御信号入力端子8、データ入出力バッファ4、データ入出力端子5は、各プレーンに共有される。尚、図9には、ビット線制御回路2のみを示している。   FIG. 9 shows the relationship between the memory cell array (planes 0 and 1) and blocks. As shown in FIG. 9, the NAND flash memory has two planes 0 and 1. Each plane 0, 1 has, for example, the memory cell array 1, the bit line control circuit 2, the column decoder 3, and the word line control circuit 6 shown in FIG. The control signal and control voltage generation circuit 7, the control signal input terminal 8, the data input / output buffer 4, and the data input / output terminal 5 are shared by each plane. In FIG. 9, only the bit line control circuit 2 is shown.

また、プレーン0にブロック0〜2047が配置され、プレーン1にブロック2048〜4095が配置されている。このように、プレーン0、1に対して複数のブロックが配置されているため、プレーンを第5サイクルのI/O3(A36)で選択する。また、各プレーン内の任意のブロックを1ずつ、合計2ブロック同時に選択して、リード、プログラム、イレーズすることが可能とされている。   In addition, blocks 0 to 2047 are arranged on the plane 0, and blocks 2048 to 4095 are arranged on the plane 1. As described above, since a plurality of blocks are arranged for the planes 0 and 1, the plane is selected by the I / O 3 (A36) of the fifth cycle. It is also possible to select, read, program, and erase one block at a time in each plane, for a total of two blocks.

通常のメモリは、図9に示すブロック0〜4095以外に、リダンダンシーブロックがあり、ブロック0〜4095に不良があると、この不良をアクセスした場合、リダンダンシーのブロックが選択される。しかし、リダンダンシーの切り替え回路が大きいため、図49に示すように、ブロックEX0〜31を追加しておき、元々のブロック数を多くする。ブロック0〜4095及びブロックEX0〜31に不良がある場合、不良ブロックは、使用しないようにする。しかし、余分にブロックを設けているため、最低限必要な良品のブロックは存在する。この場合、不良ブロックをアクセスした時、ブロック非選択となり、どのワード線も選択されない。また、例えばリードの場合、ビット線は充電されるが、放電しないため、一番高いレベルのデータが読み出されることにより不良ブロックを区別することができる。   The normal memory has a redundancy block in addition to the blocks 0 to 4095 shown in FIG. 9, and if there is a defect in the blocks 0 to 4095, when this defect is accessed, the redundancy block is selected. However, since the redundancy switching circuit is large, blocks EX0 to EX31 are added to increase the original number of blocks as shown in FIG. If the blocks 0 to 4095 and the blocks EX0 to EX31 are defective, the defective block is not used. However, since extra blocks are provided, there are minimum required non-defective blocks. In this case, when a defective block is accessed, the block is not selected and no word line is selected. For example, in the case of reading, the bit line is charged but not discharged, so that the defective block can be distinguished by reading the highest level data.

しかし、ユーザーは、特定のブロック、例えばブロック0、ブロック2048等に、重要なデータを記憶したい。このため、これら特定ブロックは良品である必要がある。例えばブロック0が不良の場合、ブロックEX31と交換するようにし、ブロック0をアクセスした場合、ブロックEX31(良品)が選択され、ブロックEX31をアクセスした場合、ブロック0を選択しようとする。しかし、ブロック0は不良であるため、どのワード線も選択されない。また、例えばリードの場合、ビット線は充電されるが、放電しない。このため、一番高いレベルのデータが読み出されることにより不良ブロックを区別することができる。無論、特定のブロック、例えばブロック0、ブロック2048等にそれぞれ専用のリダンダンシーブロックを用意しておくことも可能である。   However, the user wants to store important data in specific blocks, such as block 0, block 2048, and the like. For this reason, these specific blocks need to be non-defective. For example, when block 0 is defective, it is replaced with block EX31. When block 0 is accessed, block EX31 (non-defective product) is selected, and when block EX31 is accessed, block 0 is to be selected. However, since block 0 is defective, no word line is selected. For example, in the case of reading, the bit line is charged but not discharged. For this reason, a defective block can be distinguished by reading the highest level data. Of course, it is also possible to prepare dedicated redundancy blocks for specific blocks, such as block 0 and block 2048, respectively.

図10は、メモリセルのデータとメモリセルの閾値の関係を示している。イレーズ動作を行なうと、メモリセルのデータは一番左に示す閾値電圧の分布となる。この後、書き込み動作に応じて、1つのセルに4ビット(16値)のデータが記憶される。すなわち、先ず、図10に示すように、第1ステージの書き込み動作により、ロワーページ、アッパーページの2ビットのデータによって、メモリセルに“0”〜“3”の4つの閾値電圧が設定される。   FIG. 10 shows the relationship between memory cell data and memory cell threshold values. When the erase operation is performed, the memory cell data has the threshold voltage distribution shown on the left. Thereafter, 4-bit (16-valued) data is stored in one cell according to the write operation. That is, first, as shown in FIG. 10, four threshold voltages “0” to “3” are set in the memory cell by the 2-bit data of the lower page and the upper page by the first stage write operation. .

次に、図11に示すように、第2ステージ、第3ステージの書き込み動作により、ロワーページ、アッパーページ、ハイアーページ及びトップページの4ビットのデータにより、メモリセルに“0”〜“F”の16個の閾値電圧が設定される。   Next, as shown in FIG. 11, “0” to “F” are stored in the memory cell by 4-bit data of the lower page, upper page, higher page, and top page by the write operation of the second stage and the third stage. 16 threshold voltages are set.

尚、図10、図11において、R&Vレベルは、リード及びベリファイレベルを示し、VL(3)〜VL(0)は、レベル0〜Fをビットで表している。すなわち、レベル0は(0000)、レベル1は(0001)、レベル2は(0010)…レベルFは(1111)で表している。   10 and 11, the R & V level indicates a read and verify level, and VL (3) to VL (0) indicate levels 0 to F in bits. That is, level 0 is represented by (0000), level 1 is represented by (0001), level 2 is represented by (0010)... Level F is represented by (1111).

(プログラム及びプログラムベリファイ)
(プログラム順序)
図12は、本参考例におけるメモリセルに対する書き込み順序を示している。書き込み動作は、ブロック内において、ソース線に近いメモリセルからページ毎に行なわれる。このとき、隣接するメモリセルの書き込みにより、閾値電圧が変化することを防止する。つまり、先に書き込まれたメモリセルの閾値電圧が、後から書き込まれたメモリセルの閾値電圧の影響を低減するため、一定の順序により書き込み動作が行われる。
(Program and program verify)
(Program order)
FIG. 12 shows the order of writing to the memory cells in this reference example . The write operation is performed for each page from the memory cell close to the source line in the block. At this time, the threshold voltage is prevented from changing due to writing of adjacent memory cells. That is, the write operation is performed in a certain order in order that the threshold voltage of the memory cell written earlier reduces the influence of the threshold voltage of the memory cell written later.

図13(a)〜図13(f)は、書き込み動作に伴うメモリセルの閾値電圧の遷移を示している。第1ステージ、第2ステージ、第3ステージの3回の書き込み動作により、1つのセルに4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   FIG. 13A to FIG. 13F show the transition of the threshold voltage of the memory cell accompanying the write operation. 4-bit (16-valued) data is written to one cell by three write operations of the first stage, the second stage, and the third stage.

まず、図12に示す第1回目の書き込み[0]において、ワード線WL0と偶数ビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。この結果、図13(a)に示すような閾値電圧となる。   First, in the first write [0] shown in FIG. 12, a memory cell is selected by the word line WL0 and the even bit line BLe. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell. As a result, the threshold voltage as shown in FIG.

次に、第2回目の書き込み[1]において、ワード線WL0と奇数ビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the second write [1], a memory cell is selected by the word line WL0 and the odd bit line BLo. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第3回目の書き込み[2]において、ワード線WL1と偶数ビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the third write [2], a memory cell is selected by the word line WL1 and the even bit line BLe. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第4回目の書き込み[3]において、ワード線WL1と奇数ビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the fourth write [3], a memory cell is selected by the word line WL1 and the odd bit line BLo. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

このように、隣接セルにデータが書き込まれると、例えばワード線WL0とビット線BLeにより選択されるメモリセルの閾値分布は、図13(b)に示すように、隣接セルの閾値電圧の変化の影響を受けて広がってしまう。   As described above, when data is written in the adjacent cell, for example, the threshold distribution of the memory cell selected by the word line WL0 and the bit line BLe is changed in the threshold voltage of the adjacent cell as shown in FIG. It is affected and spreads.

次に、第5回目の書き込み[4]において、ワード線WL0とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。この結果、図13(c)に示すような閾値電圧の分布となる。   Next, in the fifth write [4], a memory cell is selected by the word line WL0 and the bit line BLe. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell. As a result, the threshold voltage distribution as shown in FIG.

次に、第6回目の書き込み[5]において、ワード線WL0とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   Next, in the sixth write [5], a memory cell is selected by the word line WL0 and the bit line BLo. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell.

次に、第7回目の書き込み[6]において、ワード線WL2とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the seventh write [6], a memory cell is selected by the word line WL2 and the bit line BLe. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第8回目の書き込み[7]において、ワード線WL2とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the eighth write [7], a memory cell is selected by the word line WL2 and the bit line BLo. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第9回目の書き込み[8]において、ワード線WL1とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   Next, in the ninth write [8], a memory cell is selected by the word line WL1 and the bit line BLe. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell.

次に、第10回目の書き込み[9]において、ワード線WL1とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   Next, in the tenth write [9], a memory cell is selected by the word line WL1 and the bit line BLo. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell.

すると、例えばワード線WL0とビット線BLeにより選択されるメモリセルの閾値電圧の分布は、図13(d)に示すように、隣接セルの閾値電圧が変化することにより、広がってしまう。   Then, for example, the threshold voltage distribution of the memory cell selected by the word line WL0 and the bit line BLe is widened by the change of the threshold voltage of the adjacent cell as shown in FIG.

次に、第11回目の書き込み[10]において、ワード線WL0とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第3ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(15値)のデータが書き込まれる。すると、図13(e)に示すように、各閾値電圧の分布が狭まってくる。   Next, in the eleventh write [10], a memory cell is selected by the word line WL0 and the bit line BLe. By the third stage write operation, 4-bit (15 values) data of the lower page, the upper page, the higher page, and the top page are written into the memory cell. Then, as shown in FIG. 13E, the distribution of each threshold voltage is narrowed.

次に、第12回目の書き込み[11]において、ワード線WL0とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第3ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(15値)のデータが書き込まれる。   Next, in the twelfth write [11], a memory cell is selected by the word line WL0 and the bit line BLo. By the third stage write operation, 4-bit (15 values) data of the lower page, the upper page, the higher page, and the top page are written into the memory cell.

次に、第13回目の書き込み[12]において、ワード線WL3とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the 13th write [12], a memory cell is selected by the word line WL3 and the bit line BLe. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第14回目の書き込み[13]において、ワード線WL3とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第1ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページの2ビット(3値)のデータが書き込まれる。   Next, in the 14th write [13], a memory cell is selected by the word line WL3 and the bit line BLo. By the first stage write operation, 2-bit (ternary) data of the lower page and the upper page is written into this memory cell.

次に、第15回目の書き込み[14]において、ワード線WL2とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   Next, in the fifteenth write [14], a memory cell is selected by the word line WL2 and the bit line BLe. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell.

次に、第16回目の書き込み[15]において、ワード線WL2とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第2ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(16値)のデータが書き込まれる。   Next, in the 16th write [15], a memory cell is selected by the word line WL2 and the bit line BLo. By the second stage write operation, 4-bit (16-value) data of the lower page, upper page, higher page, and top page is written into this memory cell.

次に、第17回目の書き込み[16]において、ワード線WL1とビット線BLeによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第3ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(15値)のデータが書き込まれる。   Next, in the 17th write [16], a memory cell is selected by the word line WL1 and the bit line BLe. By the third stage write operation, 4-bit (15 values) data of the lower page, the upper page, the higher page, and the top page are written into the memory cell.

次に、第18回目の書き込み[17]において、ワード線WL1とビット線BLoによりメモリセルが選択される。このメモリセルに第3ステージの書き込み動作により、ロワーページとアッパーページ、ハイアーページ、トップページの4ビット(15値)のデータが書き込まれる。   Next, in the 18th write [17], a memory cell is selected by the word line WL1 and the bit line BLo. By the third stage write operation, 4-bit (15 values) data of the lower page, the upper page, the higher page, and the top page are written into the memory cell.

すると、例えばワード線WL0とビット線BLeにより選択されるメモリセルの閾値電圧の分布は、図13(f)に示すように、隣接セルの閾値電圧が変化することにより、若干広がってしまう。   Then, for example, the threshold voltage distribution of the memory cells selected by the word line WL0 and the bit line BLe slightly expands as the threshold voltage of the adjacent cells changes as shown in FIG.

このような順番で書き込むことにより、隣接セルの閾値電圧が変化し、セルの閾値電圧が広がりを抑制でき、狭い閾値電圧の分布とすることが可能である。   By writing in this order, the threshold voltage of the adjacent cell changes, the spread of the threshold voltage of the cell can be suppressed, and a narrow threshold voltage distribution can be obtained.

図14、図15は、図12、図13の第1の変形例を示している。   14 and 15 show a first modification of FIGS. 12 and 13.

図14、図15に示す第1の変形例は、第1ステージの書き込み動作において、ロワーページの1ビット(2値)のデータのみを書き込んでいる。この書き込み方法は、隣接セルとのカップリング容量が小さく、閾値電圧の変化が小さい場合に有効である。   In the first modification shown in FIGS. 14 and 15, only 1-bit (binary) data of the lower page is written in the first stage write operation. This writing method is effective when the coupling capacitance with an adjacent cell is small and the change in threshold voltage is small.

図16、図17は、図12、図13の第2の変形例を示している。   16 and 17 show a second modification of FIGS. 12 and 13.

図16、図17に示す第2の変形例は、第1ステージの書き込み動作において、ロワーページ、アッパーページ、ハイアーページの3ビット(8値)のデータを書き込んでいる。この書き込み方法は、隣接セルとのカップリング容量が大きく、閾値電圧の変化が大きい場合に有効である。   In the second modification shown in FIGS. 16 and 17, 3-bit (eight values) data of a lower page, an upper page, and a higher page is written in the first stage write operation. This writing method is effective when the coupling capacity with an adjacent cell is large and the change in threshold voltage is large.

(アドレス入力及びデータ入力)
参考例は、図13乃至図17に示すように、先ず、第1ステージの書き込み動作で、メモリセルに2ビット(4値)、又は1ビット(2値)又は3ビット(8値)のデータを書き込み、この後、隣接セルに同様にデータを書き込む。次いで、第2ステージの書き込み動作において、4ビット(16値)のデータを本来のベリファイレベルより低いレベルまでラフに書き込む。この後、さらに、隣接セルにデータを書き込み。第3ステージの書き込み動作において、4ビット(16値)のデータを本来のベリファイレベルに書き込む。
(Address input and data input)
In this reference example , as shown in FIG. 13 to FIG. 17, first, in the first stage write operation, the memory cell has 2 bits (4 values), 1 bit (2 values), or 3 bits (8 values). Data is written, and thereafter data is similarly written to the adjacent cells. Next, in the second stage write operation, 4 bits (16 values) of data are roughly written to a level lower than the original verify level. Thereafter, data is further written to the adjacent cell. In the third stage write operation, 4-bit (16-valued) data is written to the original verify level.

図18は、第3ステージの書き込み動作を示すタイミング図である。先ず、図18に示すように、図2に示す制御信号入力端子8に供給される制御信号において、コマンド・ラッチ・イネーブル信号CLEをHレベルとし、アドレス・ラッチ・イネーブル信号ALEをLレベル、ライトイネーブル信号WEnをLレベルとしてデータロードコマンド(80h、hは16進を示す)を取り込む。この後、コマンド・ラッチ・イネーブル信号CLEをLレベルとし、アドレス・ラッチ・イネーブル信号ALEをHレベルとし、ライトイネーブル信号WEnをLレベルとして、前述したように、アドレスと、書き込みデータを入力する。書き込みデータは、アドレスで指定されたプレーンに対応するデータ記憶回路(図9に示す)内のSDC(図1に示す)に記憶される。この後、書き込みコマンド(15h又は10h)又は、データ転送コマンド(1Ah)が入力されると、選択されたプレーンのデータ記憶回路2内のSDCのデータがPDCに転送され、さらにDDCA〜DDCDに転送される。外部よりデータ“1”(書き込まない)が入力されると、PDCのノードN1aはHレベルとなり、データ“0”(書き込む)が入力されるとLレベルとなる。以後、PDCのデータはノードN1aの電位、SDCのデータはノードN2aの電位とする。   FIG. 18 is a timing chart showing the write operation in the third stage. First, as shown in FIG. 18, in the control signal supplied to the control signal input terminal 8 shown in FIG. 2, the command latch enable signal CLE is set to H level, the address latch enable signal ALE is set to L level, and the write signal is written. The enable signal WEn is set to L level and a data load command (80h, h indicates hexadecimal) is fetched. Thereafter, the command latch enable signal CLE is set to L level, the address latch enable signal ALE is set to H level, the write enable signal WEn is set to L level, and the address and write data are input as described above. The write data is stored in the SDC (shown in FIG. 1) in the data storage circuit (shown in FIG. 9) corresponding to the plane specified by the address. Thereafter, when a write command (15h or 10h) or a data transfer command (1Ah) is input, SDC data in the data storage circuit 2 of the selected plane is transferred to the PDC, and further transferred to DDCA to DDCD. Is done. When data “1” (not written) is input from the outside, the node N1a of the PDC becomes H level, and when data “0” (write) is input, it becomes L level. Thereafter, the data of the PDC is the potential of the node N1a, and the data of the SDC is the potential of the node N2a.

図19(a)〜図19(k)は、第1ステージ乃至第3ステージにおけるコマンドとデータの関係を示している。   FIG. 19A to FIG. 19K show the relationship between commands and data in the first stage to the third stage.

図19(a)は、第1ステージにおいて、2ビット(4値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、ロワーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力した後、アッパーページアドレスとデータを入力し、書き込みコマンド(10h又は15h)を入力する。回路内部では、アッパーページのアドレスが入力されているため、4値の書き込みであることが分かる。   FIG. 19A shows a case where 2-bit (4-value) writing is performed in the first stage. First, the address and data of the lower page are input, the data transfer command (1Ah) is input, the upper page address and data are input, and the write command (10h or 15h) is input. In the circuit, since the address of the upper page is input, it can be seen that the writing is four values.

図19(b)は、第1ステージにおいて、1ビット(2値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、ロワーページのアドレスとデータを入力し、書き込みコマンド(10h又は15h)を入力する。回路内部は、ロワーページのアドレスのみが入力されているため、2値の書き込みであることが分かる。   FIG. 19B shows a case where 1 bit (binary) is written in the first stage. First, the address and data of the lower page are input, and the write command (10h or 15h) is input. Since only the address of the lower page is input in the circuit, it can be seen that binary writing is performed.

図19(c)は、第1ステージで3ビット(8値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、ロワーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力する。この後、アッパーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力する。この後、ハイアーページアドレスとデータを入力し、書き込みコマンド(10h又は15h)を入力する。回路内部は、ハイアーページのアドレスが入力されているため、8値の書き込みであることが分かる。   FIG. 19C shows a case where 3 bits (8 values) are written in the first stage. First, the address and data of the lower page are input, and the data transfer command (1Ah) is input. Thereafter, the address and data of the upper page are input, and the data transfer command (1Ah) is input. Thereafter, a higher page address and data are input, and a write command (10h or 15h) is input. Since the address of the higher page is input to the inside of the circuit, it can be seen that 8-level writing is performed.

図19(d)は、第1ステージで2ビット(4値)の書き込みを行う場合を示している。ロワーページとアッパーページを替えても、アッパーページが入力されているため、4値の書き込みと認識できる。すなわち、図19(e)は、第1ステージで2ビット(4値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、図19(b)に示すように、1ビット(2値)を書き込み、図19(e)に示すように、アッパーページのみのアドレス及びデータを入力する。書き込みコマンド(10h又は15h)を入力した場合、アッパーページのアドレスが入力されているため、4値の書き込みと認識できる。この場合、ロワーページのデータが入力されていないが、回路内部で前に書き込んだロワーページのデータを、内部でリード動作により読み出す(内部データロード)することも可能である。   FIG. 19D shows a case where 2 bits (4 values) are written in the first stage. Even if the lower page and the upper page are switched, since the upper page is input, it can be recognized as writing four values. That is, FIG. 19E shows a case where 2 bits (4 values) are written in the first stage. First, as shown in FIG. 19B, 1 bit (binary value) is written, and as shown in FIG. 19E, the address and data of only the upper page are input. When a write command (10h or 15h) is input, since the address of the upper page is input, it can be recognized as a 4-value write. In this case, although the data of the lower page is not input, it is also possible to read the data of the lower page previously written in the circuit by a read operation (internal data load).

図19(f)は、第2ステージで4ビット(16値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、ロワーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力した後、アッパーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力した後、ハイアーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力した後、トップページのアドレスとデータを入力し、書き込みコマンド(10h又は15h)を入力する。この場合、トップページのアドレスが入力されているため、4ビット(16値)の書き込みであることを認識できる。しかし、このシーケンスは第3ステージで4ビット(16値)の書き込みを行う場合と同様となる。したがって、第2ステージと第3ステージを区別するため、例えば第2ステージの場合、書き込み前にコマンド0Dhを入力する。   FIG. 19F shows a case where 4 bits (16 values) are written in the second stage. First, the address and data of the lower page are input, the data transfer command (1Ah) is input, the address and data of the upper page are input, the data transfer command (1Ah) is input, and then the address and data of the higher page are input. After inputting the data transfer command (1Ah), the address and data of the top page are input, and the write command (10h or 15h) is input. In this case, since the address of the top page is input, it can be recognized that the writing is 4 bits (16 values). However, this sequence is the same as when 4 bits (16 values) are written in the third stage. Therefore, in order to distinguish between the second stage and the third stage, for example, in the case of the second stage, the command 0Dh is input before writing.

図19(g)は、ハイアーページのアドレスとデータ、及びトップページのアドレスとデータのみを入力し、ロワーページとアッパーページのデータは、先に入力したデータを内部データロードする場合を示している。   FIG. 19G shows a case where only the address and data of the higher page and the address and data of the top page are input, and the data input to the lower page and upper page is loaded with the previously input data. .

図19(h)は、第3ステージにおいて、4ビット(16値)の書き込みを行う場合を示している。先ず、ロワーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力する。この後、アッパーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力する。次いで、ハイアーページのアドレスとデータを入力し、データ転送コマンド(1Ah)を入力する。この後、トップページのアドレスとデータを入力し、書き込みコマンド(15h又は10h)を入力する。トップページのアドレスが入力されているため、4ビット(16値)の書き込みであることを認識できる。第3ステージの動作は、図19(i)に示すように、入力するアドレス及びデータの順序を変えてもよい。   FIG. 19 (h) shows a case where 4 bits (16 values) are written in the third stage. First, the address and data of the lower page are input, and the data transfer command (1Ah) is input. Thereafter, the address and data of the upper page are input, and the data transfer command (1Ah) is input. Next, the address and data of the higher page are input, and the data transfer command (1Ah) is input. Thereafter, the top page address and data are input, and a write command (15h or 10h) is input. Since the address of the top page is input, it can be recognized that the writing is 4 bits (16 values). In the operation of the third stage, as shown in FIG. 19 (i), the order of input addresses and data may be changed.

図19(j)は、図19(h)の場合で、2プレーン同時書き込みの場合を示している。さらに、図19(k)に示すように、任意の順序で入力することも可能である。コマンド11h入力により、短いビジーを出力するが、省くことも可能である。   FIG. 19J shows the case of two-plane simultaneous writing in the case of FIG. Furthermore, as shown in FIG. 19 (k), it is possible to input in an arbitrary order. A short busy is output by inputting the command 11h, but it can be omitted.

尚、第2ステージの書き込みにおいて、消去されているセルにも書き込みを行いレベル0への書込へ書き込みを行う。後述するREASB(Erased Area Self Boost)の書き込みの場合、選択ワード線をVpgm(24V)に設定し、選択ワード線に対してソース側に隣接するワード線をVpass又は中間電位に設定し、さらにそのワード線に隣接するワード線の電位をVss(接地電位)に設定してセルをオフ状態とする。このようにして、誤書き込みを防止するが、消去セルの閾値電圧が低く過ぎるとオフしなくなってしまう。したがって、消去されているセルにも書き込みを行いレベル0への書込へ書き込みを行う。   In the second stage writing, writing is also performed on the erased cell and writing to level 0 is performed. In the case of writing of REASB (Erased Area Self Boost) described later, the selected word line is set to Vpgm (24 V), the word line adjacent to the source side with respect to the selected word line is set to Vpass or an intermediate potential, and further The potential of the word line adjacent to the word line is set to Vss (ground potential) to turn off the cell. In this way, erroneous writing is prevented, but if the threshold voltage of the erase cell is too low, it will not turn off. Therefore, writing is also performed on the erased cell, and writing to level 0 is performed.

図20は、図2に示すDDC制御回路7−1の一例を示している。DDC制御回路7−1は、ページアドレスと選択信号SLDDC(0:3)に応じて、図1に示す信号DTGA〜DTGD及び信号REGA〜REGDを順次生成し、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDの動作を制御する。さらに、DDC制御回路7−1は、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDに記憶されたデータとページアドレスとの関係を変更する。すなわち、書き込みデータは、任意の順にデータ記憶回路に供給され、SDC、PDCを介して、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDのいずれかに記憶される。このため、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDに記憶されているデータがどのページアドレスに対応しているかを認識する必要がある。また、DDCA〜DDCDは、ダイナミックキャッシュであり、記憶したデータを定期的にリフレッシュする必要がある。この際、DDCA〜DDCD、PDCに記憶されたデータをDDCA〜DDCD、TDC,PDCを用いて転送することにより、リフレッシュされる。このリフレッシュ動作を行う場合、DDCA〜DDCD、PDCに転送されたデータがどのデータであるかを認識する必要がある。DDC制御回路7−1は、DDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCにどのページのデータが記憶されているかを記憶することにより、複数のデータの位置を正確に制御可能としている。   FIG. 20 shows an example of the DDC control circuit 7-1 shown in FIG. The DDC control circuit 7-1 sequentially generates the signals DTGA to DTGD and the signals REGA to REGD shown in FIG. 1 according to the page address and the selection signal SLDDC (0: 3), and the operations of DDCA, DDCB, DDCC, DDCD To control. Further, the DDC control circuit 7-1 changes the relationship between the data stored in DDCA, DDCB, DDCC, and DDCD and the page address. That is, the write data is supplied to the data storage circuit in an arbitrary order, and is stored in one of DDCA, DDCB, DDCC, DDCD via SDC, PDC. For this reason, it is necessary to recognize which page address corresponds to the data stored in DDCA, DDCB, DDCC, DDCD. Further, DDCA to DDCD are dynamic caches and it is necessary to periodically refresh stored data. At this time, the data stored in DDCA to DDCD and PDC is refreshed by transferring the data using DDCA to DDCD, TDC and PDC. When performing this refresh operation, it is necessary to recognize which data is transferred to DDCA to DDCD and PDC. The DDC control circuit 7-1 can accurately control the positions of a plurality of data by storing which page of data is stored in DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC.

図20において、コンバータ7a〜7eは、それぞれDDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCに対応している。これらコンバータ7a〜7dは、ロワーページ、アッパーページ、ハイアーページ、トップページ、PDCに応じて、論理的なキャッシュ名を示すデータLDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCPを保持し、このデータをコンバータ7a〜7e間で転送可能とされている。   In FIG. 20, converters 7a to 7e correspond to DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC, respectively. These converters 7a to 7d hold data LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCQ, and LDCCP indicating logical cache names according to the lower page, upper page, higher page, top page, and PDC, and this data is converted into the converter 7a. To 7e can be transferred.

各コンバータ7a〜7dは、それぞれ第1乃至第5の入力端と第1、第2の出力端を有し、コンバータ7eは、入力端、及び出力端を有している。コンバータ7a〜7dの第1の入力端には、例えばデコーダ7fにより4ビットのデータに変換された、ロワーページ(L)、アッパーページ(U)、ハイアーページ(H)、トップページ(T)の何れかが供給される。デコーダ7fは、コマンドに応じて入力されたページアドレスが順次デコードする。第2の入力端には、DDCセット信号DDCSETが供給される。このDDCセット信号DDCSETは、前記デコーダ7fからページアドレスの入力を許容するDDCセットモードを設定する。コンバータ7a〜7dの第3の入力端には、前記DDCA〜DDCDを選択するための例えば4ビットの選択信号SLDDC(0:3)が供給される。コンバータ7a〜7dの第4の入力端には、モード切り替え信号MEXCが供給されている。このモード切り替え信号MEXCは、リフレッシュモードを設定する。コンバータ7a〜7dの第5の入力端は、コンバータ7eの出力端に接続されている。リフレッシュモードにおいて、コンバータ7eの出力信号は、コンバータ7a〜7dの1つに転送される。   Each converter 7a to 7d has first to fifth input ends and first and second output ends, respectively, and converter 7e has an input end and an output end. At the first input terminals of the converters 7a to 7d, for example, a lower page (L), an upper page (U), a higher page (H), and a top page (T) converted into 4-bit data by the decoder 7f. Either is supplied. The decoder 7f sequentially decodes the page address input according to the command. A DDC set signal DDCSET is supplied to the second input terminal. The DDC set signal DDCSET sets a DDC set mode that allows a page address to be input from the decoder 7f. For example, a 4-bit selection signal SLDDC (0: 3) for selecting the DDCA to DDCD is supplied to the third input terminals of the converters 7a to 7d. A mode switching signal MEXC is supplied to the fourth input terminals of the converters 7a to 7d. This mode switching signal MEXC sets the refresh mode. The fifth input terminals of the converters 7a to 7d are connected to the output terminal of the converter 7e. In the refresh mode, the output signal of the converter 7e is transferred to one of the converters 7a to 7d.

コンバータ7a〜7dの第1の出力端は、信号REGA〜REGDを選択的に出力するアンド回路7g〜7jの一方入力端に接続されるとともに、信号DTGA〜DTGDを選択的に出力するアンド回路7k〜7nの一方入力端に接続されている。アンド回路7g〜7jの他方入力端には信号REGが供給され、アンド回路7k〜7nの他方入力端には信号DTGが供給されている。アンド回路7g〜7jは、前記DDCAからDDCDを選択するための信号SLDDCが供給され、コンバータ7a〜7dのうちの1つ乃至複数の第1の出力端から信号DDCASL〜DDCDSLが出力されたとき、これに応じた信号REGA〜REGDを出力する。アンド回路7k〜7nは、前記DDCAからDDCDを選択するための信号SLDDCが供給され、コンバータ7a〜7dのうちの1つ乃至複数の第1の出力端から信号DDCASL〜DDCDSLが出力されたとき、これに応じた信号DTGA〜DTGDを出力する。   The first output terminals of converters 7a to 7d are connected to one input terminals of AND circuits 7g to 7j that selectively output signals REGA to REGD, and AND circuit 7k that selectively outputs signals DTGA to DTGD. To one input terminal of 7 n. A signal REG is supplied to the other input terminals of the AND circuits 7g to 7j, and a signal DTG is supplied to the other input terminals of the AND circuits 7k to 7n. The AND circuits 7g to 7j are supplied with a signal SLDDC for selecting DDCD from the DDCA, and when signals DDCASL to DDCDSL are output from one or more first output terminals of the converters 7a to 7d, Signals REGA to REGD corresponding to this are output. The AND circuits 7k to 7n are supplied with a signal SLDDC for selecting a DDCD from the DDCA, and when signals DDCASL to DDCDSL are output from one or more first output terminals of the converters 7a to 7d, Signals DTGA to DTGD corresponding to this are output.

コンバータ7a〜7dの第2の出力端は、コンバータ7eの入力端に接続されている。DDCA〜DDCDのリフレッシュ時、モード切り替え信号MEXCに応じて、コンバータ7a〜7dのうちの1つの第2の出力端から出力されたデータLDDCは、コンバータ7eの入力端に供給される。また、コンバータ7eから出力されたデータLDDCは、コンバータ7a〜7dの1つのコンバータに供給される。リフレッシュ動作の詳細は後述する。   The second output terminals of the converters 7a to 7d are connected to the input terminal of the converter 7e. When DDCA to DDCD are refreshed, data LDDC output from one second output terminal of converters 7a to 7d is supplied to the input terminal of converter 7e in response to mode switching signal MEXC. Data LDDC output from converter 7e is supplied to one of converters 7a-7d. Details of the refresh operation will be described later.

図21は、コンバータ7aの構成を示している。コンバータ7a〜7dは、ほぼ同一構成であり、入力信号のみが相違している。したがって、コンバータ7aのみ構成を説明する。   FIG. 21 shows the configuration of the converter 7a. Converters 7a to 7d have substantially the same configuration, and only input signals are different. Therefore, only the converter 7a will be described.

コンバータ7aは、レジスタを構成する4つのフリップフロップ回路7a−1〜7a−4と、各フリップフロップ回路7a−1〜7a−4の入力信号を選択するセレクタ7a−5と、比較回路7a−6を有している。各フリップフロップ回路7a−1〜7a−4は、4ビットのデータの1つをそれぞれ保持する。各フリップフロップ回路7a−1〜7a−4は、デフォルトデータをプリセット可能とされている。各フリップフロップ回路7a−1〜7a−4の出力信号は、比較回路7a−6に供給されるとともに、図示せぬ出力セレクタに供給される。出力セレクタは、前記モード切り替え信号MEXCに応じて、コンバータ7a〜7dのうち、リフレッシュ動作中のDDCA〜DDCDに対応するコンバータから出力コンバータ7eにLDDC信号を供給する。   The converter 7a includes four flip-flop circuits 7a-1 to 7a-4 constituting a register, a selector 7a-5 that selects an input signal of each flip-flop circuit 7a-1 to 7a-4, and a comparison circuit 7a-6. have. Each flip-flop circuit 7a-1 to 7a-4 holds one of 4-bit data. Each flip-flop circuit 7a-1 to 7a-4 can preset default data. The output signals of the flip-flop circuits 7a-1 to 7a-4 are supplied to the comparison circuit 7a-6 and to an output selector (not shown). In response to the mode switching signal MEXC, the output selector supplies an LDDC signal to the output converter 7e from the converters corresponding to the DDCA to DDCD during the refresh operation among the converters 7a to 7d.

比較回路7a−6は、フリップフロップ回路7a−1〜7a−4の出力信号と選択信号SLDDC(0:3)とを比較し、両者が一致した場合、選択信号DDCASLをアクティブ状態、例えばハイレベルとする。   The comparison circuit 7a-6 compares the output signals of the flip-flop circuits 7a-1 to 7a-4 with the selection signal SLDDC (0: 3), and if they match, the selection signal DDCASL is in an active state, for example, a high level. And

セレクタ7a−5は、モード切り替え信号MEXCに応じてフリップフロップ回路7a−1〜7a−4の入力信号を切り替える。すなわち、セレクタ7a−5は、DDCセット信号DDCSETがアクティブ状態、例えばハイレベルのとき、前記デコーダ7fから供給されるページアドレスを選択し、モード切り替え信号MEXCがアクティブ状態、例えばハイレベルで、比較回路7a−6の出力信号がアクティブ状態のとき、コンバータ7eから供給されるデータLDDC(0:3)を選択する。したがって、コンバータ7eから出力されたデータLDDC(0:3)が選択された1つのコンバータに供給される。   The selector 7a-5 switches input signals of the flip-flop circuits 7a-1 to 7a-4 according to the mode switching signal MEXC. That is, the selector 7a-5 selects the page address supplied from the decoder 7f when the DDC set signal DDCSET is in an active state, for example, a high level, and the mode switching signal MEXC is in an active state, for example, a high level. When the output signal 7a-6 is in the active state, the data LDDC (0: 3) supplied from the converter 7e is selected. Therefore, the data LDDC (0: 3) output from the converter 7e is supplied to one selected converter.

図22は、コンバータ7eの一例を示している。このコンバータ7eは、フリップフロップ回路7e−1〜7e−4により構成されている。前記モード切り替え信号MEXCに応じて、コンバータ7a〜7dのうち、リフレッシュ動作中のDDCA〜DDCDに対応するコンバータから出力されるデータLDDC(0:3)が各フリップフロップ回路7e−1〜7e−4に供給される。各フリップフロップ回路7e−1〜7e−4に記憶されているデータは、リフレッシュ動作中のDDCA〜DDCDに対応するコンバータ7a〜7dの何れかに供給される。   FIG. 22 shows an example of the converter 7e. The converter 7e is composed of flip-flop circuits 7e-1 to 7e-4. In response to the mode switching signal MEXC, among the converters 7a to 7d, the data LDDC (0: 3) output from the converter corresponding to the DDCA to DDCD being refreshed is the flip-flop circuits 7e-1 to 7e-4. To be supplied. The data stored in each flip-flop circuit 7e-1 to 7e-4 is supplied to any of converters 7a to 7d corresponding to DDCA to DDCD during the refresh operation.

上記構成において、DDC制御回路7−1の動作について説明する。コンバータ7a〜7dは、DDCA〜DDCDに対応している。デフォルト状態において、コンバータ7a、7b、7c、7dは、それぞれLDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、コンバータ7eは、LDDCPと設定されている。書き込むためのアドレス及びデータ入力時に、選択信号SLDDC(0:3)は、SLDDC2、SLDDC1、SLDDC0、SLDDCQの順にアクティブ状態となる。このため、コンパレータは7c、7b、7a、7dの順に、図21に示す比較回路7a−6の入力条件が満足される。したがって、コンパレータ7c、7b、7a、7dの比較回路7a−6から選択信号がDDCCSL、DDCBSL、DDCASL、DDCDSLの順に出力される。このとき、図20に示す信号DTGがアクティブ状態、例えばハイレベルとなっており、アンド回路は7m、7l、7k、7nの順に入力条件が満足し、信号がDTGC、DTGB、DTGA、DTGDの順に出力される。このため、データの転送コマンドに応じて、図1のSDCからPDCに転送されたデータは、DDCC、DDCB、DDCA、DDCDの順に記憶される。   The operation of the DDC control circuit 7-1 in the above configuration will be described. Converters 7a to 7d correspond to DDCA to DDCD. In the default state, converters 7a, 7b, 7c, and 7d are set to LDDC0, LDDC1, LDDC2, and LDDCQ, respectively, and converter 7e is set to LDDCP. When an address and data for writing are input, the selection signal SLDDC (0: 3) becomes active in the order of SLDDC2, SLDDC1, SLDDC0, and SLDDCQ. Therefore, the comparator satisfies the input conditions of the comparison circuit 7a-6 shown in FIG. 21 in the order of 7c, 7b, 7a, and 7d. Therefore, the selection signals are output in the order of DDCCSL, DDCBSL, DDCASL, DDCDSL from the comparison circuit 7a-6 of the comparators 7c, 7b, 7a, 7d. At this time, the signal DTG shown in FIG. 20 is in an active state, for example, high level, the AND circuit satisfies the input conditions in the order of 7m, 7l, 7k, and 7n, and the signals are in the order of DTGC, DTGB, DTGA, and DTGD. Is output. For this reason, the data transferred from the SDC to the PDC in FIG. 1 in accordance with the data transfer command is stored in the order of DDCC, DDCB, DDCA, DDCD.

この後、書き込みコマンド入力後、図20に示すDDCセット信号DDCSETがアクティブ状態、例えばハイレベルのとき、前記デコーダ7fから供給されるページアドレスがコンバータ7a〜7dに供給される。このとき、選択信号SLDDC(0:3)により、コンバータが7c、7b、7a、7dの順に選択される。このため、デコーダ7fのデータは、コンバータ7c、7b、7a、7dの順に供給される。したがって、デコーダ7fから供給されるページデータが、例えば図20に示すように、トップページ(T)、ハイアーページ(H)、アッパーページ(U)、ロワーページ(L)である場合、コンバータ7c、7b、7a、7dの各フリップフロップ回路にトップページ(T)、ハイアーページ(H)、アッパーページ(U)、ロワーページ(L)のデータが設定される。   Thereafter, after the write command is input, when the DDC set signal DDCSET shown in FIG. 20 is in an active state, for example, high level, the page address supplied from the decoder 7f is supplied to the converters 7a to 7d. At this time, the converters are selected in the order of 7c, 7b, 7a, and 7d by the selection signal SLDDC (0: 3). For this reason, the data of the decoder 7f is supplied in the order of converters 7c, 7b, 7a, 7d. Therefore, when the page data supplied from the decoder 7f is a top page (T), a higher page (H), an upper page (U), or a lower page (L) as shown in FIG. 20, for example, the converter 7c, Top page (T), higher page (H), upper page (U), and lower page (L) data are set in the flip-flop circuits 7b, 7a, and 7d.

このようにして、図1に示すDDCA〜DDCDに記憶されたデータと、ページアドレスの関係が一致される。   In this way, the relationship between the page address and the data stored in DDCA to DDCD shown in FIG.

(リフレッシュ)
次に、リフレッシュ動作について説明する。
(refresh)
Next, the refresh operation will be described.

データ転送コマンド1Ahが入力されると、上記のように、選択されているプレーンのデータ記憶回路2内のSDCのデータがPDCに転送され、さらにDDCA〜DDCDに転送される。しかし、DDCA〜DDCDは、トランジスタのゲート容量によりデータを記憶するキャパシタンスであるためリフレッシュ動作が必要である。したがって、転送コマンド1Ahが入力された後、DDCA〜DDCDへの転送動作が済むと、次のデータの入力を待つため、チップはビジー状態からレディ状態となるが、データ記憶回路2の内部では、リフレッシュ動作が繰り返される。   When the data transfer command 1Ah is input, as described above, the SDC data in the data storage circuit 2 of the selected plane is transferred to the PDC, and further transferred to DDCA to DDCD. However, since DDCA to DDCD are capacitances for storing data by the gate capacitance of the transistor, refresh operation is required. Therefore, after the transfer command 1Ah is input, when the transfer operation from DDCA to DDCD is completed, the chip is changed from the busy state to the ready state to wait for the next data input. The refresh operation is repeated.

例えば、図1において、DDCAのデータをリフレッシュする場合、先ず、信号VPRE=Vss(接地電圧)、信号BLPRE=Vssとしてトランジスタ61uをオンさせ、TDCのノードN3をVssとする。この後、信号VPRE=Vdd、信号REGA=Hレベルとしてトランジスタ61qDをオンさせる。すると、DDCA=Hレベルの場合、TDCはHレベルとなり、DDCA=Lレベルの場合、TDCはLレベルのままとなる。この後、信号DTGAを一旦Hレベルとして、PDCのデータをDDCAにコピーした後、BLC1=Hレベルとして、TDCのデータをPDCに移す。これらの動作によりDDCAのデータはPDCに、PDCのデータはDDCAに移動する。これらの動作をもう一度行なうことにより、DDCAのデータが元に戻る。このように、DDCAのデータをリフレッシュする場合、2回のリフレッシュ動作を必要とする。   For example, in FIG. 1, when refreshing DDCA data, first, the transistor 61u is turned on with the signal VPRE = Vss (ground voltage) and the signal BLPRE = Vss, and the node N3 of the TDC is set to Vss. Thereafter, the signal VPRE = Vdd and the signal REGA = H level are set to turn on the transistor 61qD. Then, when DDCA = H level, TDC becomes H level, and when DDCA = L level, TDC remains L level. Thereafter, the signal DTGA is once set to the H level, the PDC data is copied to the DDCA, and then the BDC1 is set to the H level to transfer the TDC data to the PDC. With these operations, DDCA data moves to PDC, and PDC data moves to DDCA. By performing these operations once again, the DDCA data is restored. Thus, when refreshing the DDCA data, two refresh operations are required.

参考例における16値のデータを書き込むメモリの場合、データ記憶回路2は、図1に示すように、DDCA、DDCB、DDCC、DDCDの4つのダイナミックデータラッチを有している。このため、上記の動作によりデータを移動すると、8回のリフレッシュ動作が必要となる。しかし、第1の参考例は、リフレッシュ動作を高速化可能としている。 In the case of the memory for writing 16-value data in this reference example , the data storage circuit 2 has four dynamic data latches DDCA, DDCB, DDCC, and DDCD as shown in FIG. For this reason, when data is moved by the above operation, eight refresh operations are required. However, in the first reference example , the refresh operation can be speeded up.

図23は、リフレッシュ動作の一例を示している。図23に示すように、例えばリフレッシュ前にDDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCに保持されたデータが、例えばLDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCP(それぞれ論理的なキャッシュ名を示)であると仮定した場合を考える。これらデータが図23に示すように、DDCA〜DDCD、PDCを移動した場合(図5において、LDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCPは、単に0、1、2、P、Qで示している)、5回目のデータの移動により全てのデータが移動する。データは、1回移動することによりリフレッシュされる。このため、5回目のデータの移動により全てのデータがリフレッシュされたこことなる。しかし、5回目のデータの移動後、DDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCに、LDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCPが記憶される。つまり、LDDC0が記憶されているデータキャッシュは、リフレッシュ前はDDCAであったが、リフレッシュ後、DDCBとなる。したがって、DDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCのデータの位置関係がリフレッシュ前と、リフレッシュ後では異なっている。しかし、上記リフレッシュ動作を図20、21、22に示すDDC制御回路7を用いて行なうことにより、DDCA、DDCB、DDCC、DDCD、PDCに記憶されたデータとページアドレスとの対応関係を常に一致させることができる。   FIG. 23 shows an example of the refresh operation. As shown in FIG. 23, for example, the data held in DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC before refreshing is, for example, LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCQ, and LDDCP (representing logical cache names, respectively). Consider the assumption. When these data are moved from DDCA to DDCD, PDC as shown in FIG. 23 (in FIG. 5, LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCQ, LDDCP are simply indicated by 0, 1, 2, P, Q) All data is moved by the fifth data movement. Data is refreshed by moving once. For this reason, all the data is refreshed by the fifth data movement. However, after the fifth data movement, LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCQ, and LDCCP are stored in DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC. That is, the data cache in which LDDC0 is stored is DDCA before refreshing, but becomes DDCB after refreshing. Therefore, the positional relationship of DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC data is different before and after refresh. However, by performing the refresh operation using the DDC control circuit 7 shown in FIGS. 20, 21, and 22, the correspondence relationship between the data stored in DDCA, DDCB, DDCC, DDCD, and PDC and the page address is always matched. be able to.

すなわち、図20に示す各コンバータ7a〜7eの各レジスタに記憶されたデータが図23に示すリフレッシュ前のように、LDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCPであると仮定する。   That is, it is assumed that the data stored in the registers of the converters 7a to 7e shown in FIG. 20 are LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCQ, and LDCCP as before the refresh shown in FIG.

この状態において、図20、図21に示すモード切り替え信号MEXCをアクティブ状態とし、例えば選択信号SLDDC(0:3)により、LDDC0を選択すると、コンバータ7aの比較回路7a−6の入力条件を満足させる。このため、コンバータ7aより信号DDCASLが出力される。このとき、図20に示す信号REG、DTGがHレベルとされ、信号REGA、DTGAがHレベルとされる。   In this state, when the mode switching signal MEXC shown in FIGS. 20 and 21 is set in an active state and, for example, LDDC0 is selected by the selection signal SLDDC (0: 3), the input condition of the comparison circuit 7a-6 of the converter 7a is satisfied. . For this reason, the signal DDCASL is output from the converter 7a. At this time, signals REG and DTG shown in FIG. 20 are set to H level, and signals REGA and DTGA are set to H level.

一方、DDCAのデータを転送する以前に、図1に示す信号BLPREがHレベル、信号VPREがLレベル、例えばVss(接地電位)とされ、ノードN3が接地電位にリセットされる。この後、信号VPREがHレベル、例えばVddとされる。前記信号REGAがHレベルとされるとトランジスタ61qAがオンし、DDCAのデータがTDCに転送される。すなわち、トランジスタ61rAのゲートがHレベルの場合、ノードN3がHレベルとされ、トランジスタ61rAのゲートがLレベルの場合、ノードN3はLレベルのままとされる。   On the other hand, before transferring the data of DDCA, the signal BLPRE shown in FIG. 1 is set to the H level, the signal VPRE is set to the L level, for example, Vss (ground potential), and the node N3 is reset to the ground potential. Thereafter, the signal VPRE is set to the H level, for example, Vdd. When the signal REGA is set to H level, the transistor 61qA is turned on, and DDCA data is transferred to the TDC. That is, when the gate of the transistor 61rA is at H level, the node N3 is at H level, and when the gate of the transistor 61rA is at L level, the node N3 is kept at L level.

また、図20に示す信号DTGAに伴い、トランジスタ61sAがオンし、PDCのデータがDDCAに転送される。この後、信号BLC1がHレベルとされ、トランジスタ61hを介してTDCのデータがPDCに転送される。   Further, in accordance with the signal DTGA shown in FIG. 20, the transistor 61sA is turned on, and the data of the PDC is transferred to DDCA. Thereafter, the signal BLC1 is set to the H level, and the TDC data is transferred to the PDC via the transistor 61h.

このとき、図20に示すコンバータ7eのPDCに対応するデータLDDCPがコンバータ7aに転送され、コンバータ7aに記憶されたDDCAに対応するデータLDDC0がコンバータ7eに転送される。   At this time, data LDCCP corresponding to the PDC of converter 7e shown in FIG. 20 is transferred to converter 7a, and data LDDC0 corresponding to DDCA stored in converter 7a is transferred to converter 7e.

上記のようにして、1回目の転送動作が実行されると、図23の1回後に示すようになる。このような動作をLDDC1、LDDC2、LDDCQ、LDDCPについて順次行なうことにより、5回の転送動作により、DDCA〜DDCDのデータをリフレッシュすることができる。しかも、リフレッシュ後のデータの位置は、コンバータ7a〜7eにより保持されているため、データを正確に制御することができる。   As described above, when the first transfer operation is executed, it is as shown after one time in FIG. By sequentially performing such an operation on LDDC1, LDDC2, LDDCQ, and LDCCP, the data of DDCA to DDCD can be refreshed by five transfer operations. In addition, since the position of the refreshed data is held by the converters 7a to 7e, the data can be accurately controlled.

(書き込みシーケンス、データロード、プログラム)
図24は、書き込みシーケンスを示し、図25(a)(b)(c)(d)(e)は、図24に示す書き込みシーケンスに伴う16値、8値、4値、2値における入力データと書き込みレベルの関係を示している。
(Write sequence, data load, program)
24 shows a write sequence. FIGS. 25A, 25B, 25C, 25D, and 25E show input data in 16-value, 8-value, 4-value, and 2-value accompanying the write sequence shown in FIG. And the write level relationship.

図24に示すように、80h(データロードコマンド)−Add(アドレス)−D(データ)により、任意のページ(例えば2kB)のデータが外部より、データ記憶回路10のSDCに入力される(S1、図25(a))。1ページのみのデータ入力の場合は、書き込みコマンドである10h又はキャッシ書き込みコマンド15hが入力される(S2)。複数ページのデータが入力される場合、1Ahコマンドが入力される。1Ahの場合、SDCのデータは、PDCを介してDDCA〜DDCDに転送される。前述したように、本参考例において、第1回目の1Ahのときは、SDCのデータはLDDC2(DDCC)へ転送され(S3)、第2回目の1Ahのときは、SDCのデータはLDDC1(DDCB)へ転送され(S4)、第3回目の1Ahのときは、SDCのデータはLDDC0(DDCA)へ転送する(S5)。この後、書き込みコマンドである10h又はキャッシ機能つき書き込みコマンド15hが入力されると(S6)、SDCのデータはLDDCQ(DDCD)へ転送され、ビジー状態となる(図18参照)。また、データをSDC、PDC、DDCA〜DDCDに転送するとき、書き込みレベルが16値、8値、4値、2値(16LV/8LV/4LV/2LV)のいずれであるかを判別する。 As shown in FIG. 24, data of an arbitrary page (for example, 2 kB) is input from the outside to the SDC of the data storage circuit 10 by 80h (data load command) -Add (address) -D (data) (S1 FIG. 25 (a)). In the case of data input for only one page, a write command 10h or a cache write command 15h is input (S2). When multiple pages of data are input, a 1Ah command is input. In the case of 1Ah, SDC data is transferred to DDCA to DDCD via PDC. As described above, in this reference example , when the first time is 1 Ah, the SDC data is transferred to LDDC2 (DDCC) (S3), and when the second time is 1 Ah, the SDC data is LDDC1 (DDCB). (S4), and in the case of the first 1Ah, the SDC data is transferred to LDDC0 (DDCA) (S5). Thereafter, when the write command 10h or the write command 15h with a cache function is input (S6), the SDC data is transferred to the LDDCQ (DDCD) and is in a busy state (see FIG. 18). When data is transferred to the SDC, PDC, DDCA to DDCD, it is determined whether the write level is 16-value, 8-value, 4-value, or 2-value (16LV / 8LV / 4LV / 2LV).

図1に示すデータ記憶回路10は、DDC制御回路7−1の出力信号に従って、SDCのデータをPDC、DDCA〜DDCDに転送する。以下、DDCA〜DDCD、PDCに記憶されるデータをLDDC0、LDDC1、LDDC2、LDDCP、LDDCQとして説明する。   The data storage circuit 10 shown in FIG. 1 transfers SDC data to the PDC and DDCA to DDCD according to the output signal of the DDC control circuit 7-1. Hereinafter, data stored in DDCA to DDCD and PDC will be described as LDDC0, LDDC1, LDDC2, LDDCP, and LDDCQ.

SDCのデータを図20に示すDDC制御回路7−1のデータに従ってLDDCQへ転送する。この後、書き込みレベルに対してデータ入力回数が少ない場合、内部データをロードして空いているLDDCにデータを入力する(S7)。外部より入力されたデータ、及び内部データロードにより入力されたデータと入力後のデータキャッシュに記憶されるデータの関係を、図25(b)に示す。図25(b)において、L又はUで示すデータは、書き込みレベルに対してデータ入力回数が少ない場合、内部データをロードして空いているLDDCにデータを入力したことを示している。また、W、X、Y、Zは、任意の順序で入力されるデータの順番を便宜的に示している。   The SDC data is transferred to the LDDCQ according to the data of the DDC control circuit 7-1 shown in FIG. Thereafter, when the number of data inputs is small with respect to the write level, the internal data is loaded and the data is input to the vacant LDDC (S7). FIG. 25B shows the relationship between the data input from the outside, the data input by the internal data load, and the data stored in the data cache after the input. In FIG. 25 (b), data indicated by L or U indicates that when the number of times of data input is small with respect to the write level, the internal data is loaded and data is input to an empty LDDC. W, X, Y, and Z indicate the order of data input in an arbitrary order for convenience.

この後、データキャッシュDDCA〜DDCBの定義が行なわれる(S8、図25(c),25(d))。   Thereafter, the data caches DDCA to DDCB are defined (S8, FIGS. 25 (c) and 25 (d)).

すなわち、前述したように、DDCA〜DDCBに記憶されたデータとページアドレスとの対応関係が定義される。具体的には、16値の場合、ロワーページのデータを記憶しているDDCをLDDC2と定義し、アッパーページを記憶しているDDCをLDDC1と定義し、ハイアーページを記憶しているDDCをLDDC0と定義し、トップページを記憶しているDDCをLDDCQと定義する。また、8値の場合、ロワーページのデータを記憶しているDDCをLDDC2と定義し、アッパーページのデータを記憶しているDDCをLDDC0と定義し、ハイアーページのデータを記憶しているDDCをLDDCQと定義する。さらに、4値の場合、ロワーページのデータを記憶しているDDCをLDDC1と定義し、アッパーページのデータを記憶しているDDCをLDDCQと定義する。さらに、2値の場合、ロワーページのデータを記憶しているDDCをLDDC0と定義する。   That is, as described above, the correspondence relationship between the data stored in DDCA to DDCB and the page address is defined. Specifically, in the case of 16 values, the DDC storing the lower page data is defined as LDDC2, the DDC storing the upper page is defined as LDDC1, and the DDC storing the higher page is defined as LDDC0. And DDC storing the top page is defined as LDDCQ. In the case of eight values, the DDC storing lower page data is defined as LDDC2, the DDC storing upper page data is defined as LDDC0, and the DDC storing higher page data is defined as LDDC0. It is defined as LDDCQ. Further, in the case of four values, a DDC storing lower page data is defined as LDDC1, and a DDC storing upper page data is defined as LDDCQ. Further, in the case of binary, the DDC storing the data of the lower page is defined as LDDC0.

参考例において、書き込み及び非書き込みの区別をPDCに記憶する。書き込みの場合、PDC=Lレベル、非書き込みの場合、PDC=Hレベルとなっている。本来のベリファイレベルの他に低めのベリファイレベルを設定し、この低めのベリファイレベルを超えた場合、以降の書き込み電圧の増分を小さくすることにより、書き込み分布を狭める方法が提案されている。この低めのベリファイレベルを超えたかどうかの区別をLDDCQとして記憶する。低めのベリファイレベルを超えていない場合、LDDCQ=Lレベル、低めのベリファイレベルを超えた場合、LDDCQ=Hレベルとする。16値の書き込みにおいて、16値を区別するために4ビットのデータが必要であり、これらのデータは、LDDC2,LDDC1,LDDC0,SDCとして記憶される。8値の書き込みの場合、8値を区別するために3ビットのデータが必要であり、これらのデータはLDDC2,LDDC1,LDDC0として記憶される。4値の書き込みの場合、4値を区別するために2ビットのデータが必要であり、これらのデータはLDDC1,LDDC0として記憶される。 In this reference example , the distinction between writing and non-writing is stored in the PDC. In the case of writing, PDC = L level, and in the case of non-writing, PDC = H level. A method has been proposed in which a lower verify level is set in addition to the original verify level, and when this lower verify level is exceeded, the write distribution is narrowed by decreasing the increment of the subsequent write voltage. The distinction as to whether or not this lower verify level has been exceeded is stored as LDDCQ. When the lower verify level is not exceeded, LDDCQ = L level, and when the lower verify level is exceeded, LDDCQ = H level. In writing 16 values, 4-bit data is necessary to distinguish the 16 values, and these data are stored as LDDC2, LDDC1, LDDC0, and SDC. In the case of 8-level writing, 3-bit data is necessary to distinguish the 8-level values, and these data are stored as LDDC2, LDDC1, and LDDC0. In the case of four-value writing, 2-bit data is necessary to distinguish the four values, and these data are stored as LDDC1 and LDDC0.

図25(e)は、これら書き込みレベルとデータキャッシ内に設定されるデータを示している。図24、ステップS9、図25(c)に示すデータキャッシュDDCA、DDCBの操作により、各閾値電圧におけるデータを並び変える。このように、各閾値電圧に対するデータを設定することにより、データの書き込みが進むに従って、SDCやLDDC2等を順次書き込み動作から開放することが可能となる。従って、開放されたSDCやLDDC2等に次のデータを設定することができるため、書き込み速度を高速化することが可能となる。このような効果を得るため、図25(e)に示すようにデータを設定している。   FIG. 25E shows the write level and the data set in the data cache. Data at each threshold voltage is rearranged by the operations of the data caches DDCA and DDCB shown in FIG. 24, step S9, and FIG. In this way, by setting data for each threshold voltage, it becomes possible to release SDC, LDDC2, and the like from sequential write operations as data write progresses. Therefore, since the next data can be set in the opened SDC, LDDC2, etc., the writing speed can be increased. In order to obtain such an effect, data is set as shown in FIG.

図25(e)において、閾値電圧が低い側から高い側へ、0−レベル乃至f−レベルと定義している。イレーズ動作により、セルの閾値電圧は0−レベルとなり、書き込み動作により1−レベルからf−レベルへ上昇される。   In FIG. 25E, the threshold voltage is defined as 0-level to f-level from the low side to the high side. By the erase operation, the threshold voltage of the cell becomes 0-level, and is raised from the 1-level to the f-level by the write operation.

データの書き込み中、低い閾値への書き込みは高い閾値への書き込みより早く書き込みが完了する。このため、キャッシ機能つき書き込みコマンド15hが入力された場合、16値の書き込みでは、0−レベルから7−レベルへの書き込みが完了すると、SDCのデータデータが不要になる。したがって、チップ外部にはレディ状態を示し、次の書き込みデータを入力する。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   During data writing, writing to the lower threshold is completed faster than writing to the higher threshold. For this reason, when the write command 15h with a cache function is input, in the 16-value write, when the write from the 0-level to the 7-level is completed, the data data of the SDC becomes unnecessary. Therefore, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data is input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

また、1Ahコマンドの場合、8−レベルからb−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC2のデータデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC2に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータ入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   Further, in the case of the 1Ah command, when the writing from the 8-level to the b-level is completed, the data data of the LDDC 2 becomes unnecessary. Therefore, after the data input to the SDC is moved to the LDDC 2, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、c−レベルとd−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC1のデータデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC1に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of the 1Ah command, when the writing to the c-level and the d-level is completed, the data data of the LDDC 1 becomes unnecessary. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC1, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、e−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC0のデータデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC0に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、書き込みコマンドである15hコマンド又は10hコマンドによりビジー状態となり、前のページの書き込みが終了後、次のページの書き込み動作が開始される。   In the case of the 1Ah command, when the writing to the e-level is completed, the data data of LDDC0 becomes unnecessary. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC0, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by a 15h command or a 10h command, which is a write command, and after the previous page has been written, the next page write operation is started.

8値の書き込みの場合、もともとSDCは使用しないため、データキャッシュ操作後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of 8-level writing, since the SDC is not used originally, after the data cache operation, the ready state is shown outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、0−レベルから3−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC2のデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC2に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of the 1Ah command, when the writing from the 0-level to the 3-level is completed, the data in the LDDC 2 becomes unnecessary. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC 2, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、4−レベルと5−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC1のデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC1に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of the 1Ah command, when the writing to the 4-level and the 5-level is completed, the data of the LDDC1 becomes unnecessary. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC1, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、6−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC0のデータデータが不要となるため、SDCに入力されているデータをLDDC0に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、書き込みコマンドである15hコマンド又は10hコマンドによりビジー状態となり、前のページの書き込みが終了後、次のページの書き込み動作が開始される。   In the case of the 1Ah command, when the writing to the 6th level is completed, the data data of LDDC0 becomes unnecessary, so after the data input to SDC is moved to LDDC0, the ready state is indicated outside the chip and the next writing is performed. Allows data entry. Thereafter, a busy state is entered by a 15h command or a 10h command, which is a write command, and after the previous page has been written, the next page write operation is started.

4値の書き込みの場合、もともとSDCは使用しない。このため、データキャッシュ操作後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of writing four values, SDC is not used originally. For this reason, after the data cache operation, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、4値の書き込みにおいて、LDDC2は使用しない。このため、SDCに入力されているデータをLDDC2に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、1Ahコマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of a 1Ah command, the LDDC2 is not used for writing four values. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC 2, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by inputting a 1 Ah command.

1Ahコマンドの場合、1−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC1のデータデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC1に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of the 1Ah command, when writing to the 1-level is completed, the data data of the LDDC 1 becomes unnecessary. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC1, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、2−レベルへの書き込みが完了すると、LDDC1のデータデータが不要となる。このため、SDCに入力されているデータをLDDC1に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、書き込みコマンドである15hコマンド又は10hコマンドによりビジー状態となり、前のページの書き込みが終了後、次のページの書き込み動作が開始される。   In the case of the 1Ah command, the data data of the LDDC 1 becomes unnecessary when the writing to the 2-level is completed. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC1, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by a 15h command or a 10h command, which is a write command, and after the previous page has been written, the next page write operation is started.

2値の書き込みの場合、もともとSDCは使用しない。このため、データキャッシュ操作後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、”1Ah/10h/15h”コマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of binary writing, SDC is not used originally. For this reason, after the data cache operation, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. After that, a “1Ah / 10h / 15h” command is input to enter a busy state.

1Ahコマンドの場合、2値の書き込みにおいて、LDDC2は使用しない。このため、SDCに入力されているデータをLDDC2に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、1Ahコマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of a 1Ah command, LDDC2 is not used in binary writing. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC 2, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by inputting a 1 Ah command.

1Ahコマンドの場合、2値の書き込みでは、LDDC1は使用しない。このため、SDCに入力されているデータをLDDC1に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、1Ahコマンド入力によりビジー状態となる。   In the case of a 1Ah command, LDDC1 is not used for binary writing. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC1, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by inputting a 1 Ah command.

1Ahコマンドの場合、2値の書き込みにおいて、LDDC0は使用しない。このため、SDCに入力されているデータをLDDC0に移した後、チップ外部にレディ状態を示し、次の書き込みデータの入力を可能とする。この後、書き込みコマンドである15hコマンド又は10hコマンドによりビジー状態となり、前のページの書き込みが終了後、次のページの書き込み動作が開始される。   In the case of a 1Ah command, LDDC0 is not used in binary writing. For this reason, after the data input to the SDC is moved to the LDDC0, the ready state is indicated outside the chip, and the next write data can be input. Thereafter, a busy state is entered by a 15h command or a 10h command, which is a write command, and after the previous page has been written, the next page write operation is started.

このような動作によれば、1Ah転送コマンドが3回続くこと、すなわち、次の書き込みデータが4ページ、16値の場合にも使用できる。しかし、例えば次の書き込みが2値の場合、1ページのデータ入力後、書き込みコマンドである10h/15hが入力される。しかし、例えば別の書き込みコマンド16hを用意し、コマンド16hが入力された後、SDCに入力されているデータをLDDCに転送する。この後、次のデータを外部から入力することも可能である。LDDCは2、1、0とSDCがあるため、4ページ先のデータまでデータをロードすることも可能である。   According to such an operation, it can be used even when the 1Ah transfer command continues three times, that is, when the next write data has 4 pages and 16 values. However, for example, when the next writing is binary, 10h / 15h which is a writing command is input after data of one page is input. However, for example, another write command 16h is prepared, and after the command 16h is input, the data input to the SDC is transferred to the LDDC. Thereafter, the next data can be input from the outside. Since LDDC has 2, 1, 0 and SDC, it is possible to load data up to four pages ahead.

同様に、4値、8値の時も、次の書き込みデータだけでなく、その次の書き込みデータ若しくは、さらに、その次の書き込みデータまで、データロードすることが可能である。   Similarly, not only the next write data but also the next write data or even the next write data can be loaded in the case of 4-value and 8-value.

(プログラム動作)
データキャッシュの操作及びデータキャッシュの定義後、プログラム動作が行なわれる(S10)。
(Program operation)
After the operation of the data cache and the definition of the data cache, a program operation is performed (S10).

図1において、信号BLC1をVdd+Vth(トランジスタの閾値電圧)に設定し、PDCにデータ“1”(書き込みを行なわない)が記憶されている時、ビット線はVddとなり、データ“0”(書き込みを行なう)時、ビット線はVssとなる。また、選択されたワード線に接続され、非選択ページ(ビット線が非選択)のセルは、書き込みが行なわれてはならない。このため、これらのセルに接続されているビット線にも電圧Vddを供給する。   In FIG. 1, when the signal BLC1 is set to Vdd + Vth (transistor threshold voltage) and data “1” (not written) is stored in the PDC, the bit line becomes Vdd, and data “0” (write is written). The bit line is at Vss. In addition, the cell in the non-selected page (bit line is not selected) connected to the selected word line must not be written. Therefore, the voltage Vdd is also supplied to the bit lines connected to these cells.

次いで、信号BLC1=Vssとした後、データLDDCQを記憶したDDCが選択される。すなわち、図20に示すDDC制御回路7−1により、DDCA〜DDCEのうちからLDDCQを記憶したDDCに対応する信号REGA〜REGDのうちの1つがHレベルとされる。低めのベリファイレベルをパスしている場合、ビット線を中間電位とする。但し、プログラムベリファイのループ1回目は、1度もベリファイ動作を行なっていないため、ビット線を中間電位にすることは無い。   Next, after setting the signal BLC1 = Vss, the DDC storing the data LDDCQ is selected. That is, the DDC control circuit 7-1 shown in FIG. 20 sets one of the signals REGA to REGD corresponding to the DDC storing LDDCQ among the DDCA to DDCE to the H level. When the lower verify level is passed, the bit line is set to an intermediate potential. However, since the verify operation is not performed once in the first program verify loop, the bit line is not set to the intermediate potential.

ここで、選択されているブロックのセレクト線SG1をVdd、選択ワード線にVpgm(24V)、非選択ワード線にVpass(10V)を供給する。すると、ビット線がVssである場合、セルのチャネルがVss、ワード線がVpgmとなるため、書き込みが行なわれる。一方、ビット線がVddである場合、セルのチャネルがVssではなく、Vpgmを上昇することとなり、カップリングによりVpgm/2程度となる。このため、プログラムされない。また、ビット線が中間電位になっている場合、少しのみ書き込みが行われる。   Here, the select line SG1 of the selected block is supplied with Vdd, the selected word line is supplied with Vpgm (24V), and the non-selected word line is supplied with Vpass (10V). Then, when the bit line is Vss, the cell channel is Vss and the word line is Vpgm, so that writing is performed. On the other hand, when the bit line is Vdd, the cell channel rises Vpgm instead of Vss, and becomes approximately Vpgm / 2 due to coupling. For this reason, it is not programmed. Further, when the bit line is at an intermediate potential, writing is performed only slightly.

(プログラム動作、書き込みデータ検知)
図1に示す信号線COMiは全てのデータ記憶回路10に共通接続されている。書き込み動作中、信号線COMiを一旦充電し、信号CHK2n=Hレベル、信号CHK1=Hレベルとする。書き込み中のデータ記憶回路10のPDCのノードN1aがLレベルであるため、トランジスタ61lがオンし、信号線COMiの電位がLレベルとなる。一方、全てのデータ記憶回路のPDCのノードN1aがHレベルであると、信号線COMiの電位はHレベルのままである。このため、全ての書き込みが完了したことが分かる。
(Program operation, write data detection)
The signal line COMi shown in FIG. 1 is commonly connected to all the data storage circuits 10. During the write operation, the signal line COMi is temporarily charged to set the signal CHK2n = H level and the signal CHK1 = H level. Since the node N1a of the PDC of the data storage circuit 10 being written is at the L level, the transistor 61l is turned on and the potential of the signal line COMi becomes the L level. On the other hand, when the node N1a of the PDCs of all the data storage circuits is at the H level, the potential of the signal line COMi remains at the H level. Therefore, it can be seen that all writing has been completed.

また、信号線COMiに電流検出回路を接続することにより、オンとなっているデータ記憶回路の数を数えることもできる。例えば書き込み未完成のデータ記憶回路が僅かである場合、この僅かなセルの書き込みは残して、書き込み終了にすることにより、書き込みスピードを向上させることができる。これらのセルは、データを読み出した時、エラーとなるが、エラー訂正回路により訂正できる。   Further, the number of data storage circuits that are turned on can be counted by connecting a current detection circuit to the signal line COMi. For example, when the number of data storage circuits that are not yet completed is small, the writing speed can be improved by leaving the writing of the few cells and ending the writing. These cells cause errors when data is read, but can be corrected by an error correction circuit.

(プログラム動作、リフレッシュ)
DDCA〜DDCDは、前述したようにキャパシタンスであるため、書き込み途中、及び書き込みリカバリー中に、リフレッシュ動作が必要である。リフレッシュ動作は、前述したように、1Ah入力後のリフレッシュ動作と同じである。
(Program operation, refresh)
Since DDCA to DDCD are capacitances as described above, a refresh operation is required during writing and during writing recovery. As described above, the refresh operation is the same as the refresh operation after 1 Ah input.

図26(a)に示すように、PDCにデータLPDC(書き込み又は非書き込みの区別)、DDCAにLDDCQ(低めのベリファイレベルを超えているどうかの区別)、DDCBにLDDC0、DDCCにLDDC1、DDCDにLDDC2がそれぞれ記憶されていると仮定する。5回目のリフレッシュ動作により、PDCにLPDC、DDCAにLDDC2、DDCBにLDDCQ、DDCCにLDDC0、DDCDにLDDC1のデータがそれぞれ記憶される。 As shown in FIG. 26 (a), (distinction of writing or non-writing) data LPDC in PDC, (distinction whether it exceeds the lower verify level) LDDCQ to DDCA, the DDCB to LDDC0, DDCC LDDC1, DDCD Assume that LDDC2 is stored in each. With the fifth refresh operation, LPDC is stored in PDC, LDDC2 is stored in DDCA, LDDCQ is stored in DDCB, LDDC0 is stored in DDCC, and LDDC1 is stored in DDCD.

(プログラムとプログラムベリファイリード)
図27、図28、図29は、書き込みシーケンス中のプログラムとベリファイの関係の一例を表している。
(Program and program verify read)
27, 28, and 29 show an example of the relationship between the program and the verify in the write sequence.

また、図36は、プログラムベリファイにおける1つのレベルでのワード線とビット線の電位を示している。図36は、本来のベリファイレベルより低いレベル(VL)のベリファイと、本来のベリファイレベル(V)でのベリファイの2つのシーケンスによりベリファイされることを示している。   FIG. 36 shows the potentials of the word line and the bit line at one level in the program verify. FIG. 36 shows that verification is performed by two sequences of verification at a level (VL) lower than the original verification level and verification at the original verification level (V).

図27は、第1ステージで3レベルを書き込み、図28は、第2ステージで16レベルを書き込み、図29は、第3ステージで15レベルを書き込む例を示している。   FIG. 27 shows an example in which 3 levels are written in the first stage, FIG. 28 shows 16 levels in the second stage, and FIG. 29 shows 15 levels in the third stage.

例えば図29に示す第3ステージの書き込みシーケンスは、第1回目の書き込み(ループ回数1のプログラム(P))後、閾値の低いレベルより書き込まれるため、レベル1によりベリファイする。この後、第2回目の書き込み(ループ回数2のプログラム(P))、レベル1のベリファイ、第3回目の書き込み、レベル1のベリファイを行なった後、第4回目の書き込み後、レベル1のベリファイとレベル2のベリファイを行なう。このように書き込みループ回数が増加するに従って、高いレベルのベリファイを開始する。   For example, in the third stage write sequence shown in FIG. 29, after the first write (program (P) with a loop count of 1), the write is performed from a level with a lower threshold value, so verify is performed at level 1. After this, after performing the second write (loop 2 program (P)), level 1 verify, third write, level 1 verify, after the fourth write, level 1 verify is performed. And level 2 verify. As the number of write loops increases in this way, high level verification is started.

また、第22回目の書き込み後、レベル1からレベル8のベリファイが行なわれる。次いで、第23目の書き込み後、レベル2からレベル8のベリファイを行い、レベル1のベリファイを省略する。すなわち、レベル1への書き込みビットが存在し、書き込みが未完成の場合においても、第23回目以降は、レベル1のベリファイは行なわないこととすることもできる。このように、各レベルのベリファイにベリファイ回数の最大回数を設けた場合、最大回数に達しても書き込みが完了しないセルは、当然読み出し時にエラーとなる。しかし、このエラーは、エラー訂正回路により訂正できる。このようにすると、ベリファイ回数を削減することができ、書き込み時間を高速化することが可能である。また、SDC、DDCを開放することが可能であるため、次の書き込みデータを入力することも可能である。   Further, after the 22nd writing, verify from level 1 to level 8 is performed. Next, after the 23rd write, verify from level 2 to level 8 is performed, and verify at level 1 is omitted. That is, even when there is a write bit to level 1 and writing is incomplete, level 1 verification may not be performed after the 23rd time. As described above, when the maximum number of times of verification is provided for each level of verification, a cell in which writing is not completed even when the maximum number of times has been reached naturally causes an error in reading. However, this error can be corrected by an error correction circuit. In this way, the number of verifications can be reduced, and the writing time can be increased. Further, since it is possible to open SDC and DDC, it is also possible to input next write data.

また、第61回目の書き込み後、レベルEとレベルFのベリファイ後、第62回目の書き込み、及びレベルFのみのベリファイを行い、第63回目、第64回目の書き込み、及びレベルFのみのベリファイを行い終了する。書き込み中に行っている、書き込みデータ検知により、全てのデータ記憶回路10の書き込みが完了し、信号線COMiがHレベルとなった場合、つまり、書き込みセルが無くなった場合、若しくは、書き込みセルが規定値数以下となった場合、以降の書き込み及びベリファイは行なわれない。   After the 61st write, after the level E and level F verify, the 62nd write and the level F only verify are performed, and the 63rd, 64th write, and the level F only verify are performed. To finish. When writing to all the data storage circuits 10 is completed and the signal line COMi becomes H level by writing data detection performed during writing, that is, when there is no writing cell, or the writing cell is defined. When the number is less than the number, subsequent writing and verification are not performed.

また、各レベルのベリファイは、このレベルへの書き込みビットが存在しない場合、以降このレベルのベリファイは行なわない。この各レベルへの書き込みビットが存在するかどうかは、各レベルのベリファイ中に検知する。   Further, the verify at each level is not performed thereafter when there is no write bit to this level. Whether there is a write bit for each level is detected during verification of each level.

図30は、プログラム(書き込み)中、又はプログラムベリファイ中に、プログラム及びプログラムベリファイ動作と並行して行なわれ、次にプログラムを行うか、ベリファイを行なうかを決める。さらに、プログラムベリファイを行なう場合、どのレベルを実行するかを決定する。   FIG. 30 is performed in parallel with the program and the program verify operation during the program (write) or program verify, and determines whether to perform the next program or verify. Further, when performing program verification, it is determined which level is executed.

PCは、プログラムのループ回数をカウントするプログラムカウンタであり、PCVは、プログラムベリファイの開始回数を記憶するレジスタである。PCV=PCV+DPCV+DDPCV(VL)(VLはベリファイレベル)で決まる。DPCV、DDPCV(0)からDDPCV(F)は、チップ内の図示せぬROMに記憶された値であり、例えば図29において、DPCV=3、DDPCV(0)からDDPCV(F)=0、図28においてDPCV=2、DDPCV(0)=1、DDPCV(1)からDDPCV(F)=0、図27において、DPCV=4、DDPCV(1)からDDPCV(3)=0となる。   PC is a program counter that counts the number of program loops, and PCV is a register that stores the number of program verify starts. PCV = PCV + DPCV + DDPCV (VL) (VL is a verify level). DPCV, DDPCV (0) to DDPCV (F) are values stored in a ROM (not shown) in the chip. For example, in FIG. 29, DPCV = 3, DDPCV (0) to DDPCV (F) = 0, 28, DPCV = 2, DDPCV (0) = 1, DDPCV (1) to DDPCV (F) = 0, and in FIG. 27, DPCV = 4 and DDPCV (1) to DDPCV (3) = 0.

ステップS21において、先ずVL(次のベリファイレベル)=0、PCV=0とする。ステップS22において、PCがPCV以上となったかどうかが判断される。この結果達していない場合、プログラム電圧がステップアップされ、再びプログラムが実行される。   In step S21, first, VL (next verify level) = 0 and PCV = 0 are set. In step S22, it is determined whether the PC is equal to or higher than PCV. If this result is not reached, the program voltage is stepped up and the program is executed again.

また、PCがPCV以上となった場合、ステップ23において、次のベリファイレベルが書き込み完了になっているかどうかが判断される。次のベリファイレベルの書き込みが完了していない場合、COMP(0)=Lである。このため、プログラムベリファイが実行される。このとき、ベリファイレベルはVL=0であるため、レベル0のベリファイが実行される。   If PC is equal to or higher than PCV, it is determined in step 23 whether or not the next verify level is write completion. If writing at the next verify level has not been completed, COMP (0) = L. For this reason, program verify is executed. At this time, since the verify level is VL = 0, level 0 verification is executed.

次のベリファイレベルの書き込みが完了となっている場合、COMP(0)=Hである。このため、ステップS25において、VL=VL+1が実行され、その次のプログラムベリファイを行なうかどうかの判断をする(S26)。例えばレベル0のベリファイを行なうと、先ず、ステップS24において、VLがVLX(現在のベリファイレベルを示す)に移され、VLXがVLXX(前のベリファイレベルを示す)に移される。   When the writing of the next verify level is completed, COMP (0) = H. Therefore, in step S25, VL = VL + 1 is executed, and it is determined whether or not the next program verify is performed (S26). For example, when verify of level 0 is performed, first, in step S24, VL is moved to VLX (indicating the current verify level), and VLX is moved to VLXX (indicating the previous verify level).

つまり、VL=0であったら、VLX=0となる。ここで、PCがベリファイ毎に設定されている最大ループ回数に達したかどうかが判断され(PC≧DPCVMAX+PCV)、達している場合、このレベルのCOMP(VL)=Hとする。最大ループ回数は、例えば図27において8回、図28において11回、図23において22回となっている。この後、ステップS25において、VL=VL+1とされる。次いで、ステップS26において、16値の書き込みの場合、VL=0、8値の書き込みの場合、VL=8、4値の書き込みの場合、VL=4、2値の書き込みの場合、VL=2となっているかが判断され、これらの条件を満足する場合、プログラム電圧がステップアップされ、再度、プログラムが実行される。前記条件を満足しない場合、ステップS22に移行し、次のプログラムベリファイを行なうかどうかが判断される。   That is, if VL = 0, VLX = 0. Here, it is determined whether or not the PC has reached the maximum number of loops set for each verification (PC ≧ DPCVMAX + PCV). If it has reached, this level of COMP (VL) = H is set. For example, the maximum number of loops is 8 in FIG. 27, 11 in FIG. 28, and 22 in FIG. Thereafter, in step S25, VL = VL + 1 is set. In step S26, VL = 0 in the case of 16-value writing, VL = 8 in the case of 8-value writing, VL = 4 in the case of quaternary writing, VL = 4, and VL = 2 in the case of binary writing. If these conditions are satisfied, the program voltage is stepped up and the program is executed again. If the condition is not satisfied, the process proceeds to step S22, and it is determined whether or not to perform the next program verify.

(プログラムベリファイ:ビット線プリチャージ)
図31(a)(b)(c)は、図29に示す第3ステージのレベル1、レベル2のベリファイを示し、図32(a)(b)は、第3ステージのレベルBのベリファイ時の書き込みレベルと各データキャッシュに記憶されたデータSDC、LDDC2〜LDDC0、PDCの関係を示している。第1回目の書き込み動作後、データキャッシュは図31(a)、図32(a)に示すようになっている。
(Program verify: Bit line precharge)
FIGS. 31A, 31B, and 31C show level 1 and level 2 verification of the third stage shown in FIG. 29, and FIGS. 32A and 32B show the level B verification of the third stage. The write level and the data SDC, LDDC2 to LDDC0, and PDC stored in each data cache are shown. After the first write operation, the data cache is as shown in FIGS. 31 (a) and 32 (a).

例えば図31(a)(b)(c)に示すように、レベル1のベリファイ動作を行う場合、選択されているセルのウェル、ソース線、非選択ビット線、非選択ブロックのセレクトゲートに制御信号及び制御電圧発生回路7より、電圧Vfix(例えば1.6V)が供給される。選択ワード線にリードの時の電位レベル1より少し高い電位レベル1’が供給される。以後“’”は、リードの電位より若干高いベリファイ電位を示すものとする。したがって、リード及びベリファイ時、選択ワード線に供給される電位がVfixより低い場合、見かけ上セルのゲートに負電位が供給さているようになる。これと同時に、選択ブロックの非選択ワード線にVread(読み出し時の電位)、選択ブロックのセレクトゲートSGDに所定の電位が供給される。   For example, as shown in FIGS. 31A, 31B, and 31C, when performing a level 1 verify operation, control is performed to the well of the selected cell, the source line, the non-selected bit line, and the select gate of the non-selected block. A voltage Vfix (for example, 1.6 V) is supplied from the signal and control voltage generation circuit 7. A potential level 1 'slightly higher than the potential level 1 at the time of reading is supplied to the selected word line. Hereinafter, “′” represents a verify potential slightly higher than the read potential. Therefore, at the time of reading and verifying, if the potential supplied to the selected word line is lower than Vfix, it appears that a negative potential is supplied to the gate of the cell. At the same time, Vread (reading potential) is supplied to the unselected word lines of the selected block, and a predetermined potential is supplied to the select gate SGD of the selected block.

次に、図1に示すデータ記憶回路10の信号VPREがVdd(例えば2.5V)、信号BLPREがVsg(Vdd+Vth)に設定され、信号BLCLAMPを例えば(0.6V+Vth)+Vfixの電位に一旦設定し、ビット線を例えば0.6V+Vfix=2.2Vにプリチャージする。この後、信号BLPRE=Vss、信号BLCLAMP=Vssとした後、セレクトゲートSGSに所定の電位が供給される。   Next, the signal VPRE of the data storage circuit 10 shown in FIG. 1 is set to Vdd (for example, 2.5 V), the signal BLPRE is set to Vsg (Vdd + Vth), and the signal BLCLAMP is temporarily set to a potential of (0.6 V + Vth) + Vfix, for example. The bit line is precharged to 0.6V + Vfix = 2.2V, for example. Thereafter, after setting the signal BLPRE = Vss and the signal BLCLAMP = Vss, a predetermined potential is supplied to the select gate SGS.

セルの閾値が、ベリファイレベル1’より高い時は、セルがオフする。このため、ビット線はHレベル(例えば2.2V)のままである。また、ベリファイレベル1’より低い場合、セルがオンする。このため、ビット線は放電され、ソースと同電位つまりVfix(例えば1.6V)となる。   When the threshold value of the cell is higher than the verify level 1 ', the cell is turned off. For this reason, the bit line remains at the H level (eg, 2.2 V). If the verify level is lower than 1 ', the cell is turned on. For this reason, the bit line is discharged to the same potential as the source, that is, Vfix (for example, 1.6 V).

(プログラムベリファイ:データ反転、順転リフレッシュ)
前記ビット線放電時間中に、図26(b)に示すように、データキャッシをリフレッシュする。この時、例えば図31(b)に示すように、レベル1のベリファイで、レベル1に書き込んでいるデータ記憶回路のデータが0となるよう、LDDC0のデータのみが反転されるようリフレッシュ動作が実行される。また、図31(b)に示すレベル1の後に、図31(c)に示すレベル2のベリファイを行なうとき、レベル2に書き込んでいるデータ記憶回路のデータが0となるよう、LDDC1とLDDC0のデータが反転されるよう、リフレッシュ動作が実行される。したがって、図26(b)に示すように、LDDC(k)は、前のベリファイVLXX(k)と現在のベリファイVLX(k)のXOR(排他的論理和)=1の場合、反転動作によりリフレッシュ動作を実行する。
(Program verify: data inversion, forward refresh)
During the bit line discharge time, the data cache is refreshed as shown in FIG. At this time, for example, as shown in FIG. 31 (b), the refresh operation is executed so that only the data of LDDC0 is inverted so that the data of the data storage circuit written in level 1 becomes 0 in the verify of level 1. Is done. Further, when level 2 verification shown in FIG. 31C is performed after level 1 shown in FIG. 31B, LDDC1 and LDDC0 are set so that the data in the data storage circuit written in level 2 becomes 0. A refresh operation is performed so that the data is inverted. Therefore, as shown in FIG. 26B, LDDC (k) is refreshed by an inversion operation when XOR (exclusive OR) of the previous verify VLXX (k) and the current verify VLX (k) = 1. Perform the action.

ここで、低めのベリファイレベルでベリファイを行う場合、PDCにデータLPDCが記憶され、DDCにデータLDDCQが記憶されるように操作する。また、本来のベリファイレベルでベリファイする場合、PDCにデータLDDCQが記憶され、DDCにデータLPDCが記憶されるように操作する。   Here, when the verification is performed at a lower verification level, the operation is performed so that the data LPDC is stored in the PDC and the data LDDCQ is stored in the DDC. When verifying at the original verify level, the operation is performed so that the data LDDCQ is stored in the PDC and the data LPDC is stored in the DDC.

(プログラムベリファイ:ビット線電位読み出し)
図26(c)に示すように、0〜7レベルのベリファイ時、SDC=Hとし、レベル0〜7に書き込んでいるデータ記憶回路のTDCのノードN3をVddにプリチャージする。レベル8〜Fのベリファイ時は、信号BLPREを一旦Vsg(Vdd+Vth)に設定し、TDCのノードN3をVddにプリチャージする。信号BOOSTをLレベルからHレベルに設定した後、信号BLCLAMPを例えば(0.45V+Vth)+Vfixに設定する。TDCのノードN3は、TDCが始めにVddにプリチャージされ、ビット線の電位が0.45V+Vfixより低い場合、Lレベル(Vfix(例えば1.6V))となり、ビット線の電位が0.45Vより高い場合、Hのまま(αVdd(例えば4.25V))となる。信号BLCLAMP=Vtr(例えば0.1V+Vth)とした後、信号BOOSTをHレベルからLレベルに設定する。
(Program verify: Read bit line potential)
As shown in FIG. 26 (c), at the time of verifying 0 to 7 levels, SDC = H, and the node N3 of the TDC of the data storage circuit written in the levels 0 to 7 is precharged to Vdd. When verifying level 8 to F, the signal BLPRE is once set to Vsg (Vdd + Vth), and the node N3 of the TDC is precharged to Vdd. After setting the signal BOOST from the L level to the H level, the signal BLCLAMP is set to, for example, (0.45 V + Vth) + Vfix. The node N3 of the TDC is precharged to Vdd at the beginning of the TDC. When the potential of the bit line is lower than 0.45V + Vfix, the node N3 becomes L level (Vfix (for example, 1.6V)), and the potential of the bit line is from 0.45V. When it is high, it remains H (αVdd (eg, 4.25 V)). After setting the signal BLCLAMP = Vtr (for example, 0.1 V + Vth), the signal BOOST is set from the H level to the L level.

この後、信号VPREをVssに設定し、例えば図31(b)に示すレベル1(VLX=1、0001)のベリファイにおいて、LDDC2とLDDC1に対応する信号REGをHレベルとする。各データ記憶回路のデータは図31(b)に示すようになっている。このため、レベル1に書き込んでいるデータ記憶回路において、ベリファイレベルに達した場合のみ、TDCがHレベルとなる。ベリファイレベルに達していない場合、TDCはLレベルのままである。また、レベル8〜Fに書き込んでいる場合、SDCのデータが0である。このため、TDCは初めからVssになっている。さらに、レベル2〜7に書き込んでいる場合、信号REGをHレベルとすることにより、強制的にTDC=Vssとなる。例えば図32(a)(b)に示すレベルB(VLX=B、1011)のベリファイにおいて、データLDDC2に対応する信号REGをHレベルとする。各データ記憶回路のデータは図32(b)に示すようになっている。このため、レベルBに書き込んでいるデータ記憶回路において、ベリファイレベルに達した場合のみ、TDCがHレベルとなる。ベリファイレベルに達していない場合、TDCはLレベルのままである。また、レベルBより低いレベルに書き込んでいる場合、セルはオンする。このため、TDCはLレベルである。このため、レベルBに書き込んでいるデータ記憶回路において、ベリファイレベルに達した場合のみTDCはHレベルとなる。ベリファイレベルに達していない場合、TDCはLレベルのままである。また、レベルC〜Fに書き込んでいる場合、信号REGをHレベルとすることにより、強制的にTDCはVssとなる。   Thereafter, the signal VPRE is set to Vss, and the signal REG corresponding to LDDC2 and LDDC1 is set to the H level in the verification of level 1 (VLX = 1, 0001) shown in FIG. The data in each data storage circuit is as shown in FIG. For this reason, in the data storage circuit written in level 1, TDC becomes H level only when the verify level is reached. If the verify level has not been reached, the TDC remains at the L level. In addition, when data is written in levels 8 to F, the SDC data is 0. For this reason, TDC is Vss from the beginning. Further, when writing to levels 2 to 7, the signal REG is set to the H level to force TDC = Vss. For example, in the verification of level B (VLX = B, 1011) shown in FIGS. 32A and 32B, the signal REG corresponding to the data LDDC2 is set to H level. The data in each data storage circuit is as shown in FIG. For this reason, in the data storage circuit written in level B, only when the verify level is reached, TDC becomes H level. If the verify level has not been reached, the TDC remains at the L level. When writing to a level lower than level B, the cell is turned on. For this reason, TDC is L level. For this reason, in the data storage circuit written at level B, the TDC becomes H level only when the verify level is reached. If the verify level has not been reached, the TDC remains at the L level. Further, when writing to levels C to F, TDC is forcibly set to Vss by setting the signal REG to the H level.

つまり、レベルn(VLX=VLX(3)、VLX(2)、VLX(1)、VLX(0))とすると、レベルnでのベリファイは、VLX(3)=0の場合、SDCからTDCをプリチャージし、VLX(3)=1の場合、信号BLPREを一旦Vsg(Vdd+Vth)に設定し、TDCのノードN3をVddにプリチャージする。VLX(2)、VLX(1)、VLX(0)は、LDDC2、LDDC1、LDDC0に対応し、VLX(2)=0、VLX(1)=0、VLX(0)=0のLDDCの信号REGをHレベルとし、強制的にTDC=Vssとする。   That is, when level n (VLX = VLX (3), VLX (2), VLX (1), VLX (0)) is set, verify at level n is performed when SDC is changed to TDC when VLX (3) = 0. When precharge is performed and VLX (3) = 1, the signal BLPRE is once set to Vsg (Vdd + Vth), and the node N3 of the TDC is precharged to Vdd. VLX (2), VLX (1), and VLX (0) correspond to LDDC2, LDDC1, and LDDC0, and an LDDC signal REG with VLX (2) = 0, VLX (1) = 0, and VLX (0) = 0. Is set to H level and TDC = Vss is forcibly set.

ここで、信号VREG=Hとし、低めのレベルでベリファイを行う場合、LDDCQに対応する信号REGをHレベルとし、本来のレベルでベリファイを行う場合、LPDCに対応する信号REGをHレベルとして強制的にTDCをVddに設定する。この後、信号BLC1をVsg(Vdd+Vth)に設定して、TDCの電位をPDCに読み込む。この結果、低めのレベルでベリファイを行う場合、PDCにはLDDCQのデータが記憶され、ベリファイをパスする場合、PDCはHレベルとなる。また、ベリファイレベルに未到達の場合、PDCはLレベル、本来のベリファイレベルでベリファイを行う場合、PDCにはLPDCのデータが記憶され、ベリファイをパスする場合、PDCはHレベル、ベリファイレベルに未到達の場合、PDCはLレベルとなる。   Here, when the signal VREG = H and verification is performed at a low level, the signal REG corresponding to LDDCQ is set to H level, and when verification is performed at the original level, the signal REG corresponding to LPDC is forced to be H level. TDC is set to Vdd. Thereafter, the signal BLC1 is set to Vsg (Vdd + Vth), and the potential of the TDC is read into the PDC. As a result, when verification is performed at a lower level, LDDCQ data is stored in the PDC, and when verification is passed, the PDC becomes H level. In addition, when the verify level has not been reached, the PDC is L level, when verifying at the original verify level, the LPDC data is stored in the PDC, and when verifying is passed, the PDC is not at the H level and verify level. In the case of arrival, the PDC becomes L level.

(プログラムベリファイ:Comp)
この後、このベリファイレベルによる書き込みが完了したかどうかが検証される。この動作は、本来のベリファイレベルによるベリファイシーケンスのリカバリー中に実行される。この検証によりベリファイデータの有無が検知される。
(Program verify: Comp)
Thereafter, it is verified whether or not the writing by the verify level is completed. This operation is executed during recovery of the verify sequence at the original verify level. The presence or absence of verify data is detected by this verification.

図26(d)は、検証動作のシーケンスを示している。すなわち、レベル0〜7のベリファイ時において、信号BLC2をHレベルに設定し、レベル8〜Fのベリファイ時において、信号VPREをVddに設定し、この状態において、信号BLPREをHレベルとしてTDCを充電する。TDCがHレベルとなるのは、レベル8〜Fのベリファイ時と、レベル0〜7のベリファイ時でレベル0〜7に書き込んでいるデータ記憶回路のみである。この後、信号VPREをLレベルとして、LDDC0、LDDC1、LDDC2に対応する信号REGをHレベルとする。すると、例えば図31(b)に示すレベル1のベリファイにおいて、レベル8〜Fに書き込んでいるデータ記憶回路のTDCは元々Lレベルであり、レベル0、2〜7に書き込んでいるデータ記憶回路のLDDC2からLDDC0は何れかが、Hレベルであるため、TDCはLレベルとなる。さらに、レベル1に書き込んでいるデータ記憶回路のTDCのみHレベルとなる。   FIG. 26D shows the sequence of the verification operation. That is, the signal BLC2 is set to the H level during the verification of the levels 0 to 7, the signal VPRE is set to the Vdd during the verification of the levels 8 to F, and in this state, the signal BLPRE is set to the H level and the TDC is charged. To do. The TDC is at the H level only in the data storage circuits that are written in the levels 0 to 7 at the time of verifying the levels 8 to F and at the time of verifying the levels 0 to 7. Thereafter, the signal VPRE is set to L level, and the signals REG corresponding to LDDC0, LDDC1, and LDDC2 are set to H level. Then, for example, in the level 1 verify shown in FIG. 31B, the TDC of the data storage circuit written in the levels 8 to F is originally at the L level, and the data storage circuit written in the levels 0 and 2 to 7 Since any of LDDC2 to LDDC0 is at the H level, TDC is at the L level. Further, only the TDC of the data storage circuit written in level 1 becomes H level.

例えば図32(b)に示すレベルBのベリファイの場合、レベル3、レベルBに書き込んでいるデータ記憶回路のLDDC2からLDDC0は何れかが、Hレベルである。このため、TDCはLレベルとなり、レベル3、レベルBに書き込んでいるデータ記憶回路のTDCのみがHレベルとなる。   For example, in the case of level B verification shown in FIG. 32B, any one of LDDC2 to LDDC0 of the data storage circuit written in level 3 and level B is at the H level. For this reason, TDC becomes L level, and only the TDC of the data storage circuit written in level 3 and level B becomes H level.

この後、書き込み中のデータ検知と同様に、全てのデータ記憶回路に共通に接続されている信号線COMiを一旦充電し、信号CHK2nをLレベル、信号CHK1をHレベルとする。すると、書き込み中のデータ記憶回路のPDCはLレベルであり、且つ、TDCがHレベルの場合のみトランジスタ61lがオンし、信号線COMiの電位が下がる。したがって、このレベルを書き込んでいて、書き込み不完全のセルがあるかどうかを判断することができる。   Thereafter, similarly to the data detection during writing, the signal line COMi commonly connected to all the data storage circuits is temporarily charged, and the signal CHK2n is set to L level and the signal CHK1 is set to H level. Then, the PDC of the data storage circuit being written is at the L level and the transistor 61l is turned on only when the TDC is at the H level, and the potential of the signal line COMi is lowered. Therefore, it is possible to determine whether or not there is an incompletely written cell when this level is written.

しかし、図32(b)に示す場合、レベルBのベリファイの時に、レベル3で書き込み不十分のデータ記憶回路が残っていると、レベルBでのデータ検知はパスしない。   However, in the case shown in FIG. 32 (b), if there is an insufficiently written data storage circuit at level 3 during level B verification, data detection at level B will not pass.

(データキャッシュ設定)
図27、28、29にそれぞれ示すように、プログラムとプログラムベリファイを何度か繰り返すと、低いレベルの書き込みが完了するはずである。しかし、たまたま数ビットの書き込みの遅いセルがある場合、このセルの書き込みが終了するまでベリファイを繰り返す。このため、ある回数以上はベリファイをしないようにする。しかし、例えば図32(b)に示す例の場合、レベルBのベリファイの時に、レベル3で書き込み不十分のデータ記憶回路が残っていると、レベルBでのデータ検知はパスとならなくなってしまう。したがって、16値の書き込みの場合、レベル0〜7の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成した場合、SDCを開放する。但し、この前にレベル0〜7となっているデータ記憶回路をレベルFの書き込みとしてからSDCを開放する。
(Data cache setting)
As shown in FIGS. 27, 28, and 29, when the program and the program verify are repeated several times, the low level writing should be completed. However, if there is a cell with a slow write of several bits, the verify is repeated until the writing of this cell is completed. For this reason, verification is not performed more than a certain number of times. However, in the case of the example shown in FIG. 32B, for example, if there is an insufficiently written data storage circuit at level 3 at the time of level B verification, data detection at level B will not be a pass. . Therefore, in the case of 16-value writing, when the writing of levels 0 to 7 is completed or the predetermined maximum number of loops is reached, the SDC is released. However, the SDC is released after the data storage circuit at levels 0 to 7 is written at level F before this.

また、16値の書き込みの場合、レベル8〜B、8値の書き込みの場合、レベル0〜3の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成した場合、を開放する。但し、この前にこれらの書き込み状態なっているデータ記憶回路をレベルF(16値)、レベル7(8値)の書き込みとしてからLDDC2を開放する。   Further, in the case of 16-value writing, level 8 to B, and in the case of 8-value writing, when the writing of level 0 to 3 is completed or the predetermined maximum number of loops is reached, the state is released. However, before this, the data storage circuit in the writing state is set to the level F (16 value) and level 7 (8 value) writing, and then the LDDC 2 is released.

また、16値の書き込みの場合、レベルCとレベルD、8値の書き込みの場合、レベル4とレベル5、4値の書き込みの場合、レベル1の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成すると、LDDC1を開放する。しかし、この前にこれら書き込み状態となっているデータ記憶回路をレベルF(16値)、レベル7(8値)、レベル3(4値)の書き込みとしてからLDDC1開放する。   Further, in the case of 16-level writing, level C and level D, in the case of 8-level writing, level 4 and level 5, in the case of 4-level writing, the level 1 writing is completed or a predetermined maximum number of loops If achieved, LDDC1 is opened. However, before this, the data storage circuit in the writing state is written at level F (16 values), level 7 (8 values), and level 3 (4 values), and then the LDDC 1 is released.

また、16値の書き込みの場合、レベルE、8値の書き込みの場合、レベル6、4値の書き込みの場合、レベル2の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成した場合、LDDC0を開放する。但し、この前にこれら書き込み状態となっているデータ記憶回路をレベル15(16値)、レベル7(8値)、レベル3(4値)の書き込みとしてからLDDC0を開放する。   In the case of 16-level writing, level E, 8-level writing, level 6, 4-level writing, level 2 writing is completed, or when the predetermined maximum number of loops is reached, LDDC0 Is released. However, before this, the data storage circuit in the writing state is written at level 15 (16 values), level 7 (8 values), and level 3 (4 values), and then LDDC0 is released.

一方、レベル0の書き込みは、消去セルの深い閾値電圧を浅くすることのみ行っている。このため、レベル0の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成した後、PDCを強制的にHレベル(非書き込み)とし、前述した書き込み未完成のデータ記憶回路が僅かであるかどうかの数の対象にしないようにすることもできる。この場合(OMITOPSPASS=Hレベル:OMITOPSPASSは、所定の最大ループ回数に達した後、PDCを強制的にHレベルとするためのパラメータである)も、レベル0の書き込みが終了するか、若しくは所定の最大ループ回数に達成した後に、PDCを強制的にHレベルとする。   On the other hand, level 0 writing is performed only by reducing the deep threshold voltage of the erase cell. For this reason, whether level 0 writing is completed, or after the predetermined maximum number of loops has been reached, the PDC is forcibly set to H level (non-writing), and the above-mentioned incomplete data storage circuit is small. It can also be made not to be the target of the number. In this case (OMITOPPASS = H level: OMITOPPASS is a parameter for forcibly setting the PDC to the H level after reaching the predetermined maximum number of loops). After reaching the maximum number of loops, the PDC is forced to H level.

図33(a)(b)(c)は、データキャッシュに対するデータ設定のシーケンスを示している。先ず、図33(a)に示すように、LDDC0,1,2のデータが反転している場合もあるため、全てのLDDC0,1,2のデータを元に戻す。しかし、LDDC2を開放する場合、LDDC2のデータは反転するようにし、LDDC1を開放す場合、LDDC1のデータは反転するようにする。   FIGS. 33A, 33B, and 33C show a data setting sequence for the data cache. First, as shown in FIG. 33 (a), the data of LDDCs 0, 1, and 2 may be inverted, so all the data of LDDCs 0, 1, and 2 are restored. However, when the LDDC2 is opened, the data of the LDDC2 is inverted, and when the LDDC1 is opened, the data of the LDDC1 is inverted.

次に、図33(b)に示すように、通常のリフレッシュ動作時は、先ず、VPRE=Vss、BLPRE=HレベルとしてTDC=Vssとしていた。しかし、SDCを開放する場合、BLC2=HレベルとしてTDCを充電し、LDDC0、LDDC1、LDDC2をリフレッシュさせる。すると、SDC=Hレベル、つまりレベル0〜7への書き込みとなっているデータ記憶回路のLDDC0、LDDC1、LDDC2を“1”にする。つまり、レベルFの書き込みとすることができる。   Next, as shown in FIG. 33B, during the normal refresh operation, first, VPRE = Vss, BLPRE = H level, and TDC = Vss. However, when the SDC is released, the TDC is charged with BLC2 = H level, and the LDDC0, LDDC1, and LDDC2 are refreshed. Then, SDC = H level, that is, LDDC0, LDDC1, and LDDC2 of the data storage circuit in which data is written to levels 0 to 7 are set to “1”. That is, level F writing can be performed.

また、LDDC2を開放する場合、LDDC2は“1”となっているため、信号VPRE=Vss、信号BLPRE=HレベルとしてTDC=Vssとした後、信号VPRE=Vdd、LDDC2の信号REG=Hレベルとする。このようにして、TDCを充電し、LDDC0、LDDC1をリフレッシュさせると、レベル15(16値)、レベル7(8値)の書き込みとすることができる。   When the LDDC2 is opened, the LDDC2 is “1”. Therefore, after setting the signal VPRE = Vss, the signal BLPRE = H level and TDC = Vss, the signal VPRE = Vdd, the LDDC2 signal REG = H level To do. In this way, when the TDC is charged and the LDDC0 and LDDC1 are refreshed, level 15 (16 values) and level 7 (8 values) can be written.

また、LDDC1を開放する場合、LDDC1は“1”となっている。このため、信号VPRE=Vss、信号BLPRE=HレベルとしてTDC=Vssとした後、信号VPRE=Vdd、LDDC1の信号REG=Hレベルとする。このようにして、TDCを充電し、LDDC0をリフレッシュさせると、レベル15(16値)、レベル7(8値)、レベル3(4値)の書き込みとすることができる。   When the LDDC 1 is opened, the LDDC 1 is “1”. For this reason, after setting the signal VPRE = Vss, the signal BLPRE = H level and TDC = Vss, the signal VPRE = Vdd and the signal REG of the LDDC1 are set to H level. In this way, when the TDC is charged and the LDDC0 is refreshed, writing of level 15 (16 values), level 7 (8 values), and level 3 (4 values) can be performed.

この後、図33(c)に示すように、OMITOPSPASSがHレベルの場合で、16レベルの場合、信号BLC2をHレベルとして、SDCのデータをTDCにコピーする。この後、信号VPREをLレベルとし、全ての信号REGをHレベルとして、レベル0に書き込んでいる場合のみTDCをHレベルにする。   After that, as shown in FIG. 33C, when OMITOPPASS is at the H level and is at the 16 level, the signal BLC2 is set to the H level, and the SDC data is copied to the TDC. Thereafter, the signal VPRE is set to the L level, all the signals REG are set to the H level, and the TDC is set to the H level only when writing to the level 0.

OMITOPSPASSがHレベルの場合で、8レベルの場合、信号VPREをHレベル、信号BLPREをHレベルとして、TDCを一旦Vddにプリチャージした後、信号VPREをLレベルとし、全ての信号REGをHレベルとして、レベル0に書き込んでいる場合のみTDCをHレベルにする。この後、LDDCQをTDCにコピーし、PDCをDDCに転送した後、TDCをPDCに移す。再び同じようにTDCをHレベルとし、LDDCPをTDCにコピー、PDCをDDCに転送した後、TDCをPDCに移す。   If OMITOPPASS is at H level, if it is at level 8, signal VPRE is set to H level, signal BLPRE is set to H level, TDC is once precharged to Vdd, signal VPRE is set to L level, and all signals REG are set to H level. The TDC is set to the H level only when writing to the level 0. Thereafter, LDDCQ is copied to TDC, PDC is transferred to DDC, and then TDC is transferred to PDC. Again, in the same manner, the TDC is set to H level, the LDCCP is copied to the TDC, the PDC is transferred to the DDC, and then the TDC is transferred to the PDC.

このようにして、レベル0へ書き込むデータ記憶回路のPDCを、強制的に書込み非選択であるHレベルとする。図26(c)において、ベリファイのビット線のデータをTDCに取り出した後、信号REGをHレベルとする。これにより、ベリファイ対象レベル以外のデータ記憶回路を強制的にフェイルとしていた。しかし、LDDC2を開放した後、LDDC2には次のページの書込みデータなどが入力してくるはずであるため、LDDC2は動かさない。同様に、LDDC1を開放した後、LDDC1は動かさず、LDDC0を開放した後、LDDC0は動かさない。   In this way, the PDC of the data storage circuit to be written to level 0 is forcibly set to the H level where writing is not selected. In FIG. 26C, after the verify bit line data is taken out to the TDC, the signal REG is set to the H level. As a result, data storage circuits other than the level to be verified are forced to fail. However, after the LDDC2 is released, the write data of the next page should be input to the LDDC2, and therefore the LDDC2 does not move. Similarly, after opening LDDC1, LDDC1 does not move, and after opening LDDC0, LDDC0 does not move.

PDCがLレベルの場合、再び書き込み動作を行ない全てのデータ記憶回路のデータがHレベルになるまで、このプログラム動作とベリファイ動作を繰り返す。   When the PDC is at the L level, the write operation is performed again, and this program operation and verify operation are repeated until the data in all the data storage circuits become the H level.

本例では、第2ステージにおいてレベル0への書き込みを行い、第3ステージにおいて、レベル0への書き込みを行わなかった。つまり、図27、図28、図29に示すように、第1ステージでレベル3を書き込み、第2ステージでレベル16を書き込み、第3ステージでレベル15を書き込んでいた。しかし、第2ステージにおいて、レベル0への書き込みを行わず、第3ステージにおいて、レベル0への書き込みを行うことも可能である。この場合、第1ステージにおいて、3値のレベルに書き込み、第2ステージにおいて15値のレベルに書き込み、第3ステージにおいて、16値のレベルに書き込む。また、第1ステージにおいてレベル0への書き込みを行うことも可能である。   In this example, writing to level 0 was performed in the second stage, and writing to level 0 was not performed in the third stage. That is, as shown in FIGS. 27, 28, and 29, level 3 was written in the first stage, level 16 was written in the second stage, and level 15 was written in the third stage. However, it is also possible to write to level 0 in the third stage without writing to level 0 in the second stage. In this case, in the first stage, writing is performed at a ternary level, writing is performed in a 15-level level in the second stage, and writing is performed in a 16-level level in the third stage. It is also possible to write to level 0 in the first stage.

各レベルでのベリファイは、それぞれのベリファイレベルより低めのベリファイレベルを設定し、この低めのレベルを超えた場合、書き込みスピードを遅くして書き込みを行うことにより、狭い閾値電圧の分布幅に書き込むことが可能である。   For verification at each level, a verification level lower than each verification level is set, and when this lower level is exceeded, writing is performed at a lower threshold voltage by writing at a lower writing speed. Is possible.

図13、図15、図17において、ワード線の電圧が最も低い電圧になるベリファイは、レベル0のベリファイであり、低めのベリファイのレベル0のベリファイが最も低い電圧、つまり0Vとなる。しかし、レベル0のベリファイのみ、他のベリファイレベルで行っている。低めのベリファイレベルを設けずに、レベル0のベリファイを0Vとし、低めのレベルを超えた場合、書き込みスピードを遅くして書き込みをやめることも可能である。これにより、レベル0のベリファイレベルを下げることが可能である。また、低めのレベルのベリファイ動作がなくなるため書き込み速度の高速化が可能である。   In FIG. 13, FIG. 15, and FIG. 17, the verify at which the voltage of the word line is the lowest is the verify of level 0, and the verify at the level 0 of the lower verify is the lowest voltage, that is, 0V. However, only level 0 verification is performed at other verification levels. Without providing a lower verify level, if the verify of level 0 is set to 0V and the lower level is exceeded, writing can be stopped by slowing down the writing speed. As a result, the verify level of level 0 can be lowered. Further, since the lower level verify operation is eliminated, the writing speed can be increased.

無論、レベル0のみでなく、任意の数レベルのみ、低めのベリファイレベルを超えた場合、書き込みスピードを遅くして書き込み動作を停止することも可能である。   Of course, when not only level 0 but only a few arbitrary levels exceed a lower verify level, it is possible to slow down the write speed and stop the write operation.

低めのベリファイレベルを超えた場合、書き込みスピードを遅くして書き込み動作を遅くする動作を、高いレベル(例えば、レベルF、レベルFとレベルE、レベルFとレベルEとレベルDとレベルC)の書き込みの時に停止する。すると、書き込みスピードが遅くならない。このため、プログラムとプログラムベリファイのループが少なくなり、書き込み電圧を低くできる。したがって、高い書き込み電圧による誤書き込みを防止することが可能である。   When the lower verify level is exceeded, the operation of slowing down the write operation by slowing down the write speed is performed at a high level (for example, level F, level F and level E, level F and level E, level D and level C). Stop when writing. Then, writing speed does not slow down. For this reason, the loop of program and program verify is reduced, and the write voltage can be lowered. Therefore, erroneous writing due to a high write voltage can be prevented.

また、図26(b)に示すように、PDC⇔LDDC0、PDC⇔LDDC1、PDC⇔LDDC2のリフレッシュ動作の後に、PDC⇔LDDCQ、又はPDC⇔LDDCPのリフレッシュ動作を必ず行い、PDCのデータを、LDDCQ、又はLDDCPとしていた。この理由は、読み出したビット線の電位を、DDCA乃至DDCD、及びSDCに記憶されているデータにより操作するためである。すなわち、あるレベルのベリファイ時、このレベルより上のレベルに書き込んでいるセルが、書き込み完了となってしまうことを防止するため、信号REGA〜REGDをHレベルとし、TDCに読み出されたビット線の電位を強制的にLレベル、すなわち、書き込み未完了とする必要があるためである。   Further, as shown in FIG. 26B, after the refresh operation of PDCDCLDDC0, PDC⇔LDDC1, and PDC⇔LDDC2, the refresh operation of PDC⇔LDDCQ or PDC⇔LDDCP is always performed, and the data of PDC is converted to LDDCQ. Or LDDCP. This is because the read potential of the bit line is manipulated by data stored in DDCA to DDCD and SDC. That is, at the time of verifying a certain level, in order to prevent a cell written to a level higher than this level from being completely written, the signals REGA to REGD are set to the H level and the bit line read to the TDC is read. This is because it is necessary to forcibly set the potential at L level, that is, write incomplete.

これに対して、図1に破線で示すように、TDCの放電回路を接続することにより、リフレッシュ回数を削減できる。この放電回路は、例えば電源VPRE又はVssが供給されるノードとノードN3の間に直列接続されたNチャネルMOSトランジスタ62a、62bにより構成されている。トランジスタ62aのゲートはノードN1aに接続され、トランジスタ62bのゲートには、信号REGPが供給されている。PDCのノードN1aがハイレベルで、信号REGPをハイレベルとすることにより、TDCの電荷を放電させることができる。   On the other hand, the number of refreshes can be reduced by connecting a TDC discharge circuit as shown by a broken line in FIG. This discharge circuit is composed of N-channel MOS transistors 62a and 62b connected in series between a node supplied with power supply VPRE or Vss and a node N3, for example. The gate of the transistor 62a is connected to the node N1a, and the signal REGP is supplied to the gate of the transistor 62b. When the node N1a of the PDC is at a high level and the signal REGP is at a high level, the charge of the TDC can be discharged.

このような構成とすることにより、LDDC0、LDDC1、LDDC2のデータがPDC内にあっても、信号REGPをHレベルとすることにより、TDCを放電させることができる。この後、信号VPREをHレベルとし、LPDC又はLDDCQの信号REGをHレベルとする。これにより、元々非書き込みの場合、TDCを強制的に“Hレベル”とし、PDCのデータをDDCA〜Bの何れかに転送した後、TDCのデータをPDCに転送する。このため、元々非書込みの場合、PDCは“Hレベル”となる。また、書き込みの場合で、ベリファイレベルより高いレベルに書き込んでいる場合、PDCは“Lレベル”となり、ベリファイが強制的に完了しないようにすることができる。したがって、PDCのデータを、LDDCQ、又はLDDCPとしなくとも信号REGPをハイレベルとすることにより、ベリファイが強制的に完了しない状態にPDCを設定できる。このため、リフレッシュ回数を減らすことができる。   With such a configuration, even if the data of LDDC0, LDDC1, and LDDC2 is in the PDC, the TDC can be discharged by setting the signal REGP to the H level. Thereafter, the signal VPRE is set to H level, and the LPDC or LDDCQ signal REG is set to H level. Thus, in the case of non-writing originally, the TDC is forcibly set to “H level”, the PDC data is transferred to any one of DDCA to B, and then the TDC data is transferred to the PDC. For this reason, in the case of non-writing originally, the PDC becomes “H level”. In the case of writing, when writing is performed at a level higher than the verify level, the PDC becomes “L level”, and verification can be prevented from being forcibly completed. Therefore, the PDC can be set in a state where the verification is not forcibly completed by setting the signal REGP to the high level even if the data of the PDC is not LDDCQ or LDCCP. For this reason, the number of refreshes can be reduced.

尚、書き込み動作において、低めのベリファイレベルを使用しない場合、DDCA〜DDCDの内の1つを削除することができる。   In the write operation, when a lower verify level is not used, one of DDCA to DDCD can be deleted.

さらに、本参考例は、図12、図14、図16に示す書き込み順序で隣接セルを書き込みながら、第1ステージ、第2ステージ、第3ステージと3回のデータ入力により書き込んでいる。しかし、隣接セルのフローティングゲート間のカップリング容量が少ない場合、隣接セルを書き込まず、選択されたセルに、第1ステージ、第2ステージ、第3ステージの書き込みを続けて行うことも可能である。この場合、続けて書き込みを行うため、例えば第2ステージで16値のレベルを、本来のベリファイレベルより低めに書き込む。全てのPDCは書き込み完了状態となっているが、DDC0,DDC1,DDC2,SDCのデータを残しておくと、次回の第3ステージの書き込みデータを再生することができる。このようにすることで、第3ステージのデータロードを省略することもできる。さらに、第1ステージ又は第2ステージの書き込みを省略したり、第1ステージ及び第2ステージの書き込みを省略し、第3ステージの書き込みのみとすることも可能である。 Furthermore, this reference example, FIG. 12, FIG. 14, while writing the adjacent cell in the write sequence shown in FIG. 16, is written first stage, second stage, the data input of the third stage and 3 times. However, when the coupling capacity between the floating gates of the adjacent cells is small, it is possible to continue writing in the first stage, the second stage, and the third stage to the selected cell without writing the adjacent cells. . In this case, in order to continue writing, for example, the 16-level level is written lower than the original verify level in the second stage. All the PDCs are in the write completion state, but if the data of DDC0, DDC1, DDC2, and SDC are left, the next third stage write data can be reproduced. In this way, the third stage data load can be omitted. Furthermore, writing in the first stage or the second stage can be omitted, or writing in the first stage and the second stage can be omitted and only writing in the third stage can be performed.

図13(f)、図15、図17にそれぞれ示すベリファイレベルの差分を図46に示す。図47に示すように、中性閾値電圧から離れるに従い、必要なデータリテンションマージン多くなる。このため、図46に示す差分は、中性閾値電圧から離れるに従って、増加する。レベル0とレベル1の間の差分が、他のレベルとの間の差分より広いが、これはレベル0の分布は、例えば図13(c)に示すdvpgm0.3Vと大きいステップサイズの第2ステージで書き込みを行っているためである。また、レベル0の閾値電圧の分布が、他のレベルを書き込んでいる間に誤書き込みにより、広がった場合においてもレベル1の閾値電圧の分布に達しないようにマージンを設定している。   FIG. 46 shows the differences between the verify levels shown in FIG. 13 (f), FIG. 15, and FIG. As shown in FIG. 47, the necessary data retention margin increases as the distance from the neutral threshold voltage increases. For this reason, the difference shown in FIG. 46 increases as the distance from the neutral threshold voltage increases. The difference between the level 0 and the level 1 is wider than the difference between the other levels. This is because the distribution of the level 0 is, for example, the second stage having a large step size of dvpgm 0.3V shown in FIG. This is because the writing is performed at. In addition, a margin is set so that the distribution of the threshold voltage of level 0 does not reach the distribution of the threshold voltage of level 1 even when the distribution of the threshold voltage of the level 0 is widened due to erroneous writing while another level is being written.

しかし、通常の書込みシーケンスにおいて、下の閾値レベルの書き込みが上の閾値レベルの書き込みより先に完了する。このため、上の閾値レベルを書いている間に、既に書き込みが完了した、下の閾値レベルの閾値分布が、誤書き込みにより、広がってしまうことがある。この閾値分布の拡大が大きい場合、図46に示すように、差分に補正値を加えて、補正後の差分とする。さらに、下の閾値レベルのほうが、誤書き込みが発生し易いため、下の閾値レベルに対応する補正値を、大きい値とすることも可能である。   However, in a normal write sequence, the lower threshold level write is completed prior to the upper threshold level write. For this reason, while writing the upper threshold level, the threshold distribution of the lower threshold level that has already been written may spread due to erroneous writing. When the threshold distribution is greatly expanded, as shown in FIG. 46, a correction value is added to the difference to obtain a corrected difference. Further, since the lower threshold level is more likely to be erroneously written, the correction value corresponding to the lower threshold level can be set to a larger value.

また、この問題を抑えるために、本参考例では、16レベル乃至15レベルを同時に書き込んでいた。しかし、16レベル乃至15レベルの内、最初に上のレベル8〜F、又はレベルC〜F、又はレベルE,F、又はレベルFのみ書き込み、この後、残りのレベルを書き込むことも可能である。 In addition, in order to suppress this problem, in this reference example , 16th to 15th levels were written simultaneously. However, it is also possible to write only the upper level 8 to F, or the level C to F, or the level E, F, or level F among the 16 levels to 15 levels, and then write the remaining levels. .

参考例では、図12、図14、図16に示すように、NANDセル内のソース側のセルからドレイン側セルの順で書き込んでいた。しかし、図48(a)に実線(a)で示すように、ソース側セル(例えばWL0に接続されたセル)ベリファイレベルまで書き込んだ後、ドレイン側セル(WL1〜31)が書き込まれると、ドレイン側セル(例えばWL31に接続されたセル、図48(a)に実線(c)で示す)は、ベリファイレベルまで書き込まれる。しかし、ソース側セル(例えばWL0に接続されたセル、図48(a)に破線(b)で示す)の閾値分布が高くなる。このため、次のレベルのリードレベルに近くなり、正しく読み出すことができなくなるという問題がある。 In this reference example, FIG. 12, FIG. 14, as shown in FIG. 16 was written from the source side of the cell in a NAND cell in the order of the drain-side cells. However, as shown by the solid line (a) in FIG. 48 (a), when the drain side cells (WL1 to 31) are written after writing to the source side cell (for example, the cell connected to WL0) verify level, the drain side A side cell (for example, a cell connected to WL31, indicated by a solid line (c) in FIG. 48A) is written to the verify level. However, the threshold distribution of the source side cell (for example, a cell connected to WL0, indicated by a broken line (b) in FIG. 48A) becomes high. For this reason, there is a problem that the read level becomes close to the next level and cannot be read correctly.

このため、ソース側のセルを書き込む場合、図48(b)に実線(a)で示すように、ベリファイレベルを図48(a)に示すベリファイレベルより予め少し下げておく。この後、ドレイン側セル(WL1〜31)が書き込まれると、ソース側セル(例えばWL0に接続されたセル、図48(b)に破線(b)で示す)の閾値分布が、次のレベルのリードレベルより低くなる。   Therefore, when writing a cell on the source side, as shown by a solid line (a) in FIG. 48 (b), the verify level is slightly lowered in advance from the verify level shown in FIG. 48 (a). After this, when the drain side cells (WL1 to 31) are written, the threshold distribution of the source side cell (for example, a cell connected to WL0, shown by a broken line (b) in FIG. 48B) is the next level. Lower than the lead level.

このようにすることで、ソース側セルの閾値分布(図48(b)に破線(b)で示す)と、ドレイン側セルの閾値分布(図48(a)に実線(c)で示す)を、ほぼ同じレベルに設定することができる。ソース側セルの閾値が高くシフトするシフト量は、ソース側セルからドレイン側セルに向かって徐々に小さくなる。このため、ベリファイレベルを下げる大きさは、ソース側からドレイン側に向かって徐々に小さくするとよい。徐々に小さくするのが困難なときは、例えばWL0〜7を1セット、WL8〜15を1セット、WL16〜23を1セット、WL24〜31を1セット(ベリファイレベルは下げない)とすることも可能である。   By doing so, the threshold distribution of the source side cell (shown by a broken line (b) in FIG. 48B) and the threshold distribution of the drain side cell (shown by a solid line (c) in FIG. 48A) are obtained. Can be set to almost the same level. The shift amount at which the threshold value of the source side cell shifts high gradually decreases from the source side cell toward the drain side cell. For this reason, the magnitude for lowering the verify level may be gradually reduced from the source side toward the drain side. If it is difficult to reduce the size gradually, for example, WL0-7 may be set as one set, WL8-15 may be set as one set, WL16-23 may be set as one set, and WL24-31 may be set as one set (the verify level is not lowered). Is possible.

(イレーズ動作)
イレーズ動作は、図3に破線で示すブロック単位に行なわれる。また、データ記憶回路に接続されている2本のビット線(BLie、BLio)について同時に行う。消去後、セルの閾値は、図10、図13に示すように、レベル0(負電位)となる。EASB(Erased Area Self Boost)書き込み方法の場合、消去セルの閾値電圧を浅くする必要がある。
(Erase operation)
The erase operation is performed in units of blocks indicated by broken lines in FIG. Further, two bit lines (BLie, BLio) connected to the data storage circuit are performed simultaneously. After erasing, the threshold value of the cell becomes level 0 (negative potential) as shown in FIGS. In the case of an EASB (Erased Area Self Boost) writing method, it is necessary to make the threshold voltage of the erase cell shallow.

図34(a)は、EASB書き込み方法を示している。この書き込み方法は、必ずソース側のメモリセルから書き込みを行う。先ず、ビット線を書き込みの場合Vss、非書き込みの場合Vddに設定する。次に、例えばワード線WL7に接続されたセルを書き込む場合、ワード線WL0〜WL4はVpass、ワード線WL5はVss、ワード線WL6はVdd、中間電位、又はVpass、ワード線WL7はVpgm、ワード線WL8〜31はVpassにそれぞれ設定される。このとき、書き込みの場合、ワード線WL7のゲートがVpgm、チャネルがVssとなり、書き込みが行なわれる。   FIG. 34A shows an EASB writing method. In this writing method, writing is always performed from the memory cell on the source side. First, the bit line is set to Vss for writing and Vdd for non-writing. Next, for example, when writing a cell connected to the word line WL7, the word lines WL0 to WL4 are Vpass, the word line WL5 is Vss, the word line WL6 is Vdd, an intermediate potential or Vpass, and the word line WL7 is Vpgm. WL8 to 31 are set to Vpass, respectively. At this time, in the case of writing, the gate of the word line WL7 becomes Vpgm and the channel becomes Vss, and writing is performed.

しかし、一般に、非書き込みの場合、チャネルは、ブーストされて例えばVpass/2となるが、書き込まれたセルの数が多いと、チャネルはブーストされにくくなる。このため、誤書き込みが発生し易くなる。ところが、EASB書き込み方法の場合、必ずソース側から書き込まれている。したがって、ワード線WL5を0Vとしてブーストすると、ワード線WL4〜WL31に接続されたセルは消去されているため、チャネルはブーストされ、書き込まれなくなる。   However, in general, in the case of non-writing, the channel is boosted to, for example, Vpass / 2. However, if the number of written cells is large, the channel is hardly boosted. For this reason, erroneous writing is likely to occur. However, in the case of the EASB writing method, writing is always performed from the source side. Therefore, when the word line WL5 is boosted to 0V, the cells connected to the word lines WL4 to WL31 are erased, so that the channel is boosted and cannot be written.

このように、既に書き込まれたセルにブーストした電荷が移動しないようにしなくてはならないが、ワード線WL5に接続されたセルが消去状態の場合で、閾値電圧が深い場合、オフしなくなってしまう。したがって、消去セルの閾値電圧を浅くする必要がある。   As described above, it is necessary to prevent the boosted charge from moving to the already written cell. However, when the cell connected to the word line WL5 is in the erased state and the threshold voltage is deep, it is not turned off. . Therefore, it is necessary to make the threshold voltage of the erase cell shallow.

参考例は、第2ステージでの書き込み時、レベル0のセルに対して書き込みを行い、閾値電圧を浅くする。このため、以下に示すように、消去後、ブロック単位で、閾値電圧が深いセルを浅くする書き込みを必要としない。しかし、第1ステージの書き込みなどにおいて、隣接セルの閾値電圧が低いレベルから高いレベルへ移動すると、閾値電圧が大きく変動する。このため、カップリング容量により既に書き込まれたメモリセルの閾値電圧が変動してしまうなどの問題がある。したがって、イレーズ動作後、ブロック内の全ワード線を選択して、プログラム及びプログラムベリファイリードを行ない、図13に示すように、各セルの消去後の閾値電圧を一定のレベルまで書き込むこともできる。この時の、プログラム及びプログラムベリファイリード動作は、全ワード線を選択状態にし、通常のプログラム及びプログラムベリファイリードと全く同じに行なえばよい。 In this reference example , at the time of writing in the second stage, writing is performed on a cell of level 0 to reduce the threshold voltage. For this reason, as will be described below, after erasing, it is not necessary to perform writing in which a cell having a deep threshold voltage is shallowed in units of blocks. However, when the threshold voltage of the adjacent cell moves from a low level to a high level in the first stage writing or the like, the threshold voltage greatly fluctuates. For this reason, there is a problem that the threshold voltage of the already written memory cell fluctuates due to the coupling capacitance. Therefore, after the erase operation, all word lines in the block can be selected, and program and program verify read can be performed to write the threshold voltage after erasing each cell to a certain level as shown in FIG. The program and program verify read operations at this time may be performed in exactly the same manner as normal program and program verify read with all word lines selected.

図34(b)は、図34(a)を変形したものである。選択ワード線WL7よりソース側の2つのメモリセルのワード線WL6、WL5をVdd、中間電位、又はVpassとし、3つ目のワード線WL4をVssとしてオフとする。その他のワード線はVpass又は中間電位とする。この場合、第2ステージにおいて、レベル0のセルに対して書き込みを行なわず、第3ステージの書き込み時にレベル0のセルに対して書き込みを行なう。   FIG. 34 (b) is a modification of FIG. 34 (a). The word lines WL6 and WL5 of the two memory cells on the source side from the selected word line WL7 are set to Vdd, intermediate potential, or Vpass, and the third word line WL4 is set to Vss and turned off. Other word lines are set to Vpass or intermediate potential. In this case, in the second stage, writing is not performed on the level 0 cell, and writing is performed on the level 0 cell at the time of writing in the third stage.

(読み出し動作)
図35は、16レベル書き込み後における閾値電圧の分布と、各ページにおけるデータの割付を示している。
(Read operation)
FIG. 35 shows the threshold voltage distribution after 16-level writing and the data allocation in each page.

ロワーページのデータを読む場合、リード及びベリファイレベル(R&V Level)のレベル8で読み出し動作を行う。すると、セルがオンし、ビット線の電位がLレベルとなった場合、出力データはHレベル(“1”)、セルがオフし、ビット線の電位がHレベルとなった場合、出力データはLレベル(“0”)となる。   When reading the data of the lower page, the read operation is performed at level 8 of the read and verify level (R & V Level). Then, when the cell is turned on and the bit line potential becomes L level, the output data is H level (“1”). When the cell is turned off and the bit line potential becomes H level, the output data is L level (“0”).

アッパーページのデータを読む場合、レベルCとレベル4で読み出し動作を行う。したがって、2シーケンスの読み出しが必要である。   When reading the data of the upper page, the read operation is performed at level C and level 4. Therefore, two sequences need to be read.

ハイアーページのデータを読む場合、レベルE、レベルA、レベル6、レベル2で読み出し動作を行えばよい。したがって、4シーケンスの読み出しが必要である。   When reading the data of the higher page, the read operation may be performed at level E, level A, level 6 and level 2. Therefore, it is necessary to read four sequences.

トップページのデータを読む場合、レベルF、レベルD、レベルB、レベル9、レベル7、レベル5レベル3、レベル1で読み出し動作を行う。したがって、8シーケンスの読み出しが必要である。   When reading the top page data, the read operation is performed at level F, level D, level B, level 9, level 7, level 5, level 3, and level 1. Therefore, it is necessary to read out 8 sequences.

図37は、1シーケンスの読み出し動作におけるワード線とビット線の波形を示し、図38は、読み出しのアルゴリズムを示している。   FIG. 37 shows the waveforms of the word lines and bit lines in one sequence of read operations, and FIG. 38 shows the read algorithm.

第1回目のリード動作について説明する。読み出しアドレス及びリードコマンドが入力されると(S31)、選択されたメモリセルのウェル、ソース線、非選択ビット線、非選択ブロックのセレクトゲートに制御信号及び制御電圧発生回路7より、電圧Vfix(例えば1.6V)を供給する(S32)。選択ワード線には、ロワーページの場合、レベル8の電位を供給し、アッパーページ場合、レベルCの電位を与え、ハイアーページの場合、レベルEの電位を供給し、トップページの場合、レベルFの電位を供給する(S33)。これらワード線の電位がウェル、ソース線の電位Vfixより低い場合、見かけ上セルのゲートには負電位が印加されたこととなる。これと同時に、選択ブロックの非選択ワード線にVreadを供給し、選択ブロックのセレクトゲートSGDに所定の電圧を供給する。   The first read operation will be described. When a read address and a read command are input (S31), the control signal and control voltage generation circuit 7 supplies the voltage Vfix () to the well, source line, unselected bit line, and select gate of the unselected block of the selected memory cell. For example, 1.6V) is supplied (S32). A potential of level 8 is supplied to the selected word line in the case of the lower page, a potential of level C is supplied in the case of the upper page, a potential of level E is supplied in the case of the higher page, and level F in the case of the top page. Is supplied (S33). When the potential of these word lines is lower than the potential Vfix of the well and source lines, a negative potential is apparently applied to the gate of the cell. At the same time, Vread is supplied to the non-selected word lines of the selected block, and a predetermined voltage is supplied to the select gate SGD of the selected block.

次に、図1に示すデータ記憶回路10の信号VPREをVdd(例えば2.5V)に設定し、信号BLPREをVsg(Vdd+Vth)に設定し、信号BLCLAMPを例えば(0.6V+Vth)+Vfixに一旦設定し、ビット線を例えば0.6V+Vfix=2.2Vにプリチャージする。次に、セルのソース側のセレクト線SGSに所定の電圧を供給する。ウェル及びソースがVfixとなっているため、セルがオフする場合、ビット線の電位はHレベル(例えば2.2V)のままであり、セルがオンする場合、ビット線の電位は放電され、ソースと同電位つまりVfix(例えば1.6V)となる。   Next, the signal VPRE of the data storage circuit 10 shown in FIG. 1 is set to Vdd (for example, 2.5 V), the signal BLPRE is set to Vsg (Vdd + Vth), and the signal BLCLAMP is temporarily set to, for example, (0.6 V + Vth) + Vfix. Then, the bit line is precharged to 0.6V + Vfix = 2.2V, for example. Next, a predetermined voltage is supplied to the select line SGS on the source side of the cell. Since the well and the source are at Vfix, when the cell is turned off, the potential of the bit line remains at H level (eg, 2.2 V). When the cell is turned on, the potential of the bit line is discharged and the source And the same potential, that is, Vfix (for example, 1.6 V).

この後、信号BLPREに一旦Vsg(Vdd+Vth)を供給し、TDCのノードN3をVddにプリチャージする。この後、信号BOOSTをLレベルからHレベルとし、TDCのノードN3の電位をαVdd(例えばα=1.7、αVdd=4.25V)に設定する。   Thereafter, Vsg (Vdd + Vth) is once supplied to the signal BLPRE, and the node N3 of the TDC is precharged to Vdd. Thereafter, the signal BOOST is changed from L level to H level, and the potential of the node N3 of TDC is set to αVdd (for example, α = 1.7, αVdd = 4.25V).

ここで、信号BLCLAMPを例えば(0.45V+Vth)+Vfixに設定する。TDCのノードN3は、ビット線の電位が0.45V+Vfixより低い場合、Lレベル(Vfix(例えば1.6V))となり、ビット線の電位が0.45Vより高い場合、Hレベルのまま(αVdd(例えば4.25V))となる。次いで、信号BLCLAMPをVtr(例えば0.1V+Vth)とした後、信号BOOSTをHレベルからLレベルとする。ここで、TDCはLレベルの場合、ノードN3の電位がVfix(例えば1.6V)から下がるが、信号BLCLAMPをVtr(例えば0.1V+Vth)に設定しているため、0.1Vよりは下がらない。TDCはHレベルの場合、ノードN3の電位が(αVdd(例えば4.25V))からVddとなる。   Here, the signal BLCLAMP is set to, for example, (0.45 V + Vth) + Vfix. When the bit line potential is lower than 0.45V + Vfix, the node N3 of the TDC becomes L level (Vfix (eg, 1.6V)), and when the bit line potential is higher than 0.45V, it remains at H level (αVdd ( For example, 4.25V)). Next, after the signal BLCLAMP is set to Vtr (for example, 0.1 V + Vth), the signal BOOST is changed from H level to L level. Here, when the TDC is at the L level, the potential of the node N3 falls from Vfix (eg, 1.6 V), but since the signal BLCLAMP is set to Vtr (eg, 0.1 V + Vth), it does not fall below 0.1 V. . When TDC is at the H level, the potential of the node N3 changes from (αVdd (eg, 4.25 V)) to Vdd.

ここで、信号BLC1をVsg(Vdd+Vth)として、TDCの電位をPDCに読み込む。したがって、セルの閾値電圧が、8レベルより低い場合、PDCはLレベル、高い場合PDCはHレベルとなり、読み出しが行なわれる。   Here, the signal BLC1 is set to Vsg (Vdd + Vth), and the potential of the TDC is read into the PDC. Therefore, when the threshold voltage of the cell is lower than 8 levels, PDC is at L level, and when it is higher, PDC is at H level and reading is performed.

ロワーページの読み出し(S33)は、リードシーケンスが1回だけである。このため、リードシーケンスの後、ステップS41(dt_p2sシーケンス)に移行され、このステップ41において、PDCのデータがSDCに移動され、SDCのデータは出力バッファ近くに転送される。   The lower page is read (S33) only once. Therefore, after the read sequence, the process proceeds to step S41 (dt_p2s sequence). In this step 41, the data of the PDC is moved to the SDC, and the data of the SDC is transferred near the output buffer.

アッパーページの読み出し(S34)は、リードシーケンスが2回必要であり、ハイアーページの読み出しは、リードシーケンスが4回必要である(S33〜S36)。さらに、トップページの読み出しは、リードシーケンスが8回必要である(S33〜S40)。このため、リードシーケンスの後、アッパーページの場合1回、ハイアーページの場合3回、トップページの場合7回の(後述するリードアッド)シーケンスが実行される(S34〜S40)。この後、ステップS41に移行され、ステップS41において、PDCのデータがSDCに転送され、このSDCのデータが出力バッファ近くに転送される。   Reading the upper page (S34) requires two read sequences, and reading the higher page requires four read sequences (S33 to S36). Further, the read of the top page requires eight read sequences (S33 to S40). For this reason, after the read sequence, the sequence is executed once for the upper page, three times for the higher page, and seven times (read add described later) for the top page (S34 to S40). Thereafter, the process proceeds to step S41. In step S41, the PDC data is transferred to the SDC, and the SDC data is transferred near the output buffer.

(リードアッド:Read Add)
第2回目以降のリード動作も1回目のリード動作と同様であり、選択ワード線には、次のような電位が供給される。
(Read Add)
The second and subsequent read operations are the same as the first read operation, and the following potential is supplied to the selected word line.

アッパーページの2回目:レベル4の電位、
ハイアーページの2回目:レベルAの電位、
ハイアーページの3回目:レベル6の電位、
ハイアーページの4回目:レベル2の電位、
トップページの2回目:レベルDの電位、
トップページの3回目:レベルBの電位、
トップページの4回目:レベル9の電位、
トップページの5回目:レベル7の電位、
トップページの6回目:レベル5の電位、
トップページの7回目:レベル3の電位、
トップページの8回目:レベル1の電位。
2nd upper page: Level 4 potential,
Second higher page: level A potential,
Third page of higher page: level 6 potential,
4th higher page: level 2 potential,
Second time on top page: Level D potential,
Third time on top page: Level B potential,
Top page 4th: Level 9 potential,
Top page 5th: Level 7 potential,
6th top page: Level 5 potential
Top page 7th: Level 3 potential,
Top page 8th: Level 1 potential.

上記のように選択ワード線の電位を設定した後、ビット線をプリチャージして、放電させ、ビット線の電位をTDCに転送する。1回目のリードでは信号BLC1をVsg(Vdd+Vth)に設定して、TDCの電位をPDCに読み込んだ。これに対して、2回目のリードの場合、PDCに読み込む前に、信号DTGA〜DTGDのうちの1つがHレベルに設定され、信号VPREをLレベルとされる。PDCのデータがHレベルの場合、強制的にTDCをLレベルとした後、信号BLC1をVsg(Vdd+Vth)として、TDCの電位をPDCに読み込む。リードアッドにおいて、ハイアーページは3回同じ動作を行い、トップページは7回同じ動作を行なう。図35に示すデータは、PDCに読み込まれたデータを示している。   After the potential of the selected word line is set as described above, the bit line is precharged and discharged, and the bit line potential is transferred to the TDC. In the first read, the signal BLC1 is set to Vsg (Vdd + Vth), and the potential of the TDC is read into the PDC. On the other hand, in the case of the second read, before reading into the PDC, one of the signals DTGA to DTGD is set to the H level and the signal VPRE is set to the L level. When the PDC data is at the H level, the TDC is forcibly set to the L level, the signal BLC1 is set to Vsg (Vdd + Vth), and the potential of the TDC is read into the PDC. In the read add, the higher page performs the same operation three times, and the top page performs the same operation seven times. The data shown in FIG. 35 indicates data read into the PDC.

上記第1の参考例によれば、メモリセルに4ビット、16値のデータを記憶する場合、データ記憶回路に4つのダイナミックデータキャッシュにより構成されたDDCA、DDCB、DDCC、DDCDと、スタティックデータキャッシュにより構成されたPDC,SDCを設けることにより、これらのデータをメモリセルに書き込むことが可能となる。このため、メモリセルに設定する閾値電圧の数より少ないラッチ回路により、16値のデータを書き込むことができる。したがって、データ記憶回路の面積を削減することが可能である。 According to the first reference example , when 4-bit, 16-value data is stored in a memory cell, DDCA, DDCB, DDCC, DDCD configured by four dynamic data caches in a data storage circuit, and a static data cache By providing the PDC and SDC configured as described above, these data can be written into the memory cell. Therefore, 16-value data can be written by a latch circuit that is smaller than the number of threshold voltages set in the memory cell. Therefore, the area of the data storage circuit can be reduced.

しかも、4つのデータは4つのDDCA〜DDCDにより記憶している。DDCA〜DDCDのそれぞれは、3つのトランジスタにより構成されているため、フリップフロップ回路により構成されたSDC,PDCに比べて回路構成が簡単である。したがって、ダイナミックデータキャッシュを多用することによりデータ記憶回路の面積を削減することが可能である。   Moreover, the four data are stored by four DDCA to DDCD. Since each of DDCA to DDCD is composed of three transistors, the circuit configuration is simpler than SDC and PDC composed of flip-flop circuits. Therefore, it is possible to reduce the area of the data storage circuit by using many dynamic data caches.

さらに、書き込み途中において、閾値電圧の低い値は、書き込みが完了する。この場合、このPDC、SDC、DDCA〜DDCDの何れかを順次開放して、次のデータの入力を可能としている。したがって、入力データをプリフェッチすることができるため、高速な書き込みが可能となる。   Further, in the middle of writing, writing with a low threshold voltage is completed. In this case, any one of the PDC, SDC, DDCA to DDCD is sequentially opened so that the next data can be input. Therefore, since input data can be prefetched, high speed writing becomes possible.

また、複数のDDCを用いる場合、これらDDCに記憶されたデータをリフレッシュする必要があり、一般に、このリフレッシュ回数はDDCの数だけ必要である。しかも、1つのDDCに対するリフレッシュ動作は、DDC→PDC、PDC→DDCの2動作が必要であり、4つのDDCを用いたデータ記憶回路の場合、通常8回のリフレッシュ動作を必要とする。しかし、第1の参考例の場合、DDC制御回路7−1を設け、DDCをリフレッシュする毎に、各DDCが記憶しているデータの定義を変更することにより、5回のリフレッシュ動作に抑えている。したがって、第1の参考例によれば、書き込み時間を短縮することが可能となる。 In addition, when a plurality of DDCs are used, it is necessary to refresh the data stored in these DDCs. In general, the number of refreshes is required by the number of DDCs. In addition, the refresh operation for one DDC requires two operations of DDC → PDC and PDC → DDC. In the case of a data storage circuit using four DDCs, normally, eight refresh operations are required. However, in the case of the first reference example , the DDC control circuit 7-1 is provided, and each time the DDC is refreshed, the definition of the data stored in each DDC is changed, so that the refresh operation is suppressed to five times. Yes. Therefore, according to the first reference example , the writing time can be shortened.

また、DDC制御回路7−1は、任意の順序で入力されるデータを予め設定された順序でDDCA〜DDCDに転送し、この後、入力されたページアドレスに応じてDDCA〜DDCDのデータの定義を変更している。このため、任意の順序で入力されるデータとDDCA〜DDCD及びPDCの関係を確実に制御することができる。   Further, the DDC control circuit 7-1 transfers data input in an arbitrary order to DDCA to DDCD in a preset order, and then defines the data of DDCA to DDCD according to the input page address. Has changed. For this reason, it is possible to reliably control the relationship between the data input in an arbitrary order and DDCA to DDCD and PDC.

(第2の参考例
上記第1の参考例は、図36、図37に示すように、1つのレベルのベリファイ動作は2回のリードで行なった。しかし、これに限定されるものではない。
(Second reference example )
In the first reference example , as shown in FIGS. 36 and 37, one level of verify operation is performed by two reads. However, it is not limited to this.

図39は、第2の参考例を示している。図39に示すように、ビット線BLをプリチャージした後、ワード線WLに低めのベリファイ電圧VLを設定し、第1のベリファイ動作を行う。これに続いて、ワード線WLに本来のベリファイ電圧Vを設定し、第2のベリファイ動作を行なう。 Figure 39 shows a second embodiment. As shown in FIG. 39, after precharging the bit line BL, a lower verify voltage VL is set to the word line WL, and the first verify operation is performed. Subsequently, the original verify voltage V is set to the word line WL, and a second verify operation is performed.

第2の参考例によれば、ビット線BLを1回プリチャージし、この状態において、低めのベリファイ電圧による第1のベリファイ動作と本来のベリファイ電圧による第2のベリファイ動作を連続して行っている。このため、ビット線の充電時間を短縮することができ、第1、第2のベリファイ動作毎にビット線をプリチャージする場合に比べてプログラム動作を高速化することができる。 According to the second reference example , the bit line BL is precharged once, and in this state, the first verify operation by the lower verify voltage and the second verify operation by the original verify voltage are continuously performed. Yes. Therefore, the charging time of the bit line can be shortened, and the program operation can be speeded up as compared with the case where the bit line is precharged for each of the first and second verify operations.

図40は、第2の参考例に係るリード動作の例を示している。図40に示すように、ビット線BLをプリチャージした後、ワード線WLに低めのリード電圧RLを供給し、ダミーリードとしての第1のリード動作を行う。これに続いて、本来のリード電圧Rをワード線WLに供給し、本来のリード電圧Rによる第2のリード動作を行なうようにしてもよい。ダミーリードを行なうのは、ベリファイと同様の動作とするためである。 FIG. 40 shows an example of the read operation according to the second reference example . As shown in FIG. 40, after precharging the bit line BL, a lower read voltage RL is supplied to the word line WL, and a first read operation as a dummy read is performed. Subsequently, the original read voltage R may be supplied to the word line WL, and the second read operation with the original read voltage R may be performed. The dummy read is performed for the same operation as the verify operation.

(第3の参考例
図41は、第3の参考例を示している。図41は、ビット線をプリチャージした後、例えば4レベルを続けて読み出す例を示している。すなわち、ビット線BLをプリチャージした後、ワード線WLに複数の異なる低めのベリファイ電圧AVL、BVL、CVL、DVLを順次供給し、これらベリファイ電圧AVL、BVL、CVL、DVLにより、連続して低めの第1乃至第4のベリファイを行なう。この後、再度、ビット線BLをプリチャージした後、ワード線WLに複数の異なる本来のベリファイ電圧AV、BV、CV、DVを順次供給し、これら本来のベリファイ電圧AV、BV、CV、DVにより、本来の第1乃至第4のベリファイを行なう。
(Third reference example )
FIG. 41 shows a third reference example . FIG. 41 shows an example in which, for example, four levels are continuously read after the bit line is precharged. That is, after the bit line BL is precharged, a plurality of different lower verify voltages AVL, BVL, CVL, and DVL are sequentially supplied to the word line WL, and are continuously decreased by these verify voltages AVL, BVL, CVL, and DVL. First to fourth verify operations are performed. After that, after precharging the bit line BL again, a plurality of different original verify voltages AV, BV, CV, DV are sequentially supplied to the word line WL, and the original verify voltages AV, BV, CV, DV are supplied. The original first to fourth verify operations are performed.

上記第3の参考例によれば、1回のビット線のプリチャージに対して4回のベリファイを行っている。したがって、ビット線のプリチャージ回数を削減することができ、4値のデータの書き込み速度を高速化することが可能である。 According to the third reference example , verification is performed four times for one bit line precharge. Therefore, the number of times of precharging the bit line can be reduced, and the writing speed of quaternary data can be increased.

また、図42は、第3の参考例に係るリード動作の例を示している。リード動作は、ベリファイにおいてまとめたレベルと同じレベルでまとめる。すなわち、第2ステージは、レベル0〜Fの16レベルのベリファイを行い、第3ステージは、レベル1〜Fの15レベルのベリファイを行う。このため、例えばレベル0は1レベルのみで、図39に示すように、ベリファイ及びリードし、レベル1〜3は3レベル連続的にベリファイ及びリードする。さらに、レベル4〜7は3レベル連続的にベリファイ及びリードし、レベル8〜Bは4レベル連続的にベリファイ及びリードする。さらに、レベルC〜Fは4レベル連続的にベリファイ及びリードする。 FIG. 42 shows an example of the read operation according to the third reference example . The read operation is summarized at the same level as the level summarized in verification. That is, the second stage performs 16-level verification of levels 0 to F, and the third stage performs 15-level verification of levels 1 to F. Therefore, for example, level 0 is only 1 level, and verify and read are performed as shown in FIG. 39, and levels 1 to 3 are verified and read continuously for 3 levels. Further, levels 4 to 7 are verified and read continuously for 3 levels, and levels 8 to B are verified and read continuously for 4 levels. Further, the levels C to F are verified and read continuously for four levels.

このように複数レベルをまとめてベリファイ及びリードすることにより、ベリファイ及びリード動作を高速化することが可能である。   Thus, by verifying and reading a plurality of levels collectively, it is possible to speed up the verifying and reading operations.

(第4の参考例
上記第1乃至第3の参考例は、プログラム時に、非書き込みのビット線に信号BLC1=Vsgを設定し、非選択ビット線に信号BLCRL=Vddとして、ビット線をVddに充電していた。しかし、信号BIASo(又はBIASe)をVLIMIT(VLIMIT≦Vdd+Vth)に設定し、信号BLSo(又はBLSe)をVLIMITに設定し、ビット線の電位をVddより低く設定することも可能である。
(Fourth reference example )
In the first to third reference examples , the signal BLC1 = Vsg is set to the non-write bit line and the bit line is charged to Vdd by setting the signal BLCRL = Vdd to the unselected bit line at the time of programming. However, it is also possible to set the signal BIASo (or BIASe) to VLIMIT (VLIMIT ≦ Vdd + Vth), set the signal BLSo (or BLSe) to VLIMIT, and set the bit line potential to be lower than Vdd.

このようにプログラム時において、非選択ビット線の電位をVddより低く設定することにより、プログラム時におけるビット線の充電量を抑えることもができ、充電時のピーク電流を抑制でき、消費電流を削減することが可能である。   Thus, by setting the potential of the non-selected bit line lower than Vdd at the time of programming, the amount of charge of the bit line at the time of programming can be suppressed, the peak current at the time of charging can be suppressed, and the current consumption is reduced Is possible.

(第5の実施形態)
第1の実施形態の場合、図25(e)に示すように、16レベルの書き込みは、1つのデータ記憶回路に、合計6個のデータキャッシュが必要であった。すなわち、書き込み/非書き込みを区別するためのPDC、低めのベリファイレベルを超えているどうかを区別するためのLDDCQ、16ビットのデータを区別するためのSDC、LDDC2、LDDC1、LDDC0が必要であった。しかし、レベル0は、元々消去セルであり、このレベル0のプログラムが必要でない場合、低めのベリファイレベルを超えているどうかをPDCにより区別し、15ビットのデータをSDC、LDDC2、LDDC1、LDDC0により区別する。さらに、非書き込み時は、SDC、LDDC2、LDDC1、LDDC0を全て“0”にセットする。
(Fifth embodiment)
In the case of the first embodiment, as shown in FIG. 25E, 16 levels of writing require a total of six data caches in one data storage circuit. That is, a necessary SDC, LDDC2, LDDC1, LDDC0 for distinguishing LDDCQ, 16-bit data for distinguishing PDC for distinguishing the write / non-write, whether it exceeds a lower verify level It was. However, the level 0 is the originally erased cell, if the program is not required for this level 0, whether beyond the lower verify level is distinguished by PDC, the 15-bit data SDC, LDDC2, LDDC1, LDDC0 Differentiate by. Further, at the time of non-writing, all of SDC, LDDC2, LDDC1, and LDDC0 are set to “0”.

図43は、第の実施形態に係わるデータキャッシュとデータの関係を示している。 FIG. 43 shows the relationship between the data cache and the data according to the first embodiment.

図43に示すようにデータを設定し、プログラム時、非選択ビット線に対応する信号BIASo(又はBIASe)をVdd+Vth(又は<Vdd+Vth)として、ビット線にVddを供給する。この状態において、選択されたビット線のみをフローティング状態とし、LDDC2,LDDC1,LDDC0のいずれかが“1”となっている場合、信号VPREをVssに設定し、信号REGをVddに設定し、さらにSDCがLレベルになっているとする。すると、非書き込みビット線以外に対応するビット線がVssになり書き込み状態となる。   As shown in FIG. 43, data is set, and at the time of programming, the signal BIASo (or BIASe) corresponding to the unselected bit line is set to Vdd + Vth (or <Vdd + Vth), and Vdd is supplied to the bit line. In this state, when only the selected bit line is in a floating state and any of LDDC2, LDDC1, and LDDC0 is “1”, the signal VPRE is set to Vss, the signal REG is set to Vdd, Assume that SDC is at L level. Then, the bit lines corresponding to other than the non-write bit lines become Vss and are in a write state.

一方、SDCがHレベルで、LDDC2,LDDC1,LDDC0の全てが“0”の場合、ビット線はフローティングのままである。しかし、非選択ビット線をVddに充電することにより、カップリングによってビット線の電位がVddに近い電位となり、書き込み非選択となる。この後、信号BLCLAMPをVssとした後、信号VPREをVssに設定し、信号BLPREをVddとし、信号TDCをVssとし、信号VPREをVdd,信号REGiをHレベルとし、LDDCi(iは0〜2のうち任意)のデータをTDCに移動し、信号DTGiをHレベルとして、PDCに記憶されているデータ(低めのベリファイレベルを超えているどうかの区別を示す)をLDDCiにコピーする。この状態において、信号BLC1をHレベルとしてTDCのデータをPDCに移動した後、信号VPREをVdd、信号REGiを中間電位とする。すると、低めのベリファイをパスしている場合、ビット線に中間電位が供給され、少しのみ書き込みを行う。 On the other hand, when SDC is at the H level and all of LDDC2, LDDC1, and LDDC0 are “0”, the bit line remains floating. However, by charging the non-selected bit line to Vdd, the potential of the bit line becomes close to Vdd by coupling, and writing is not selected. Thereafter, after setting the signal BLCLAMP to Vss, the signal VPRE is set to Vss, the signal BLPRE is set to Vdd, the signal TDC is set to Vss, the signal VPRE is set to Vdd, the signal REGi is set to H level, and LDDCi (i is 0 to 2). move data from any) to TDC of copies signal DTGi H level, the data stored in the PDC (indicating the distinction whether it exceeds the lower verify level) in LDDCi. In this state, after the signal BLC1 is set to the H level and the TDC data is moved to the PDC, the signal VPRE is set to Vdd and the signal REGi is set to the intermediate potential. Then, when a lower verify is passed, an intermediate potential is supplied to the bit line and writing is performed only slightly.

上記第1の実施形態によれば、レベル0のプログラムが必要でない場合、低めのベリファイレベルを超えているどうかをPDCにより区別し、15ビットのデータをSDC、LDDC2、LDDC1、LDDC0により区別している。このため、データキャッシュの数を1つ削減することが可能である。 According to the first embodiment, if the program of level 0 is not required, whether beyond the lower verify level is distinguished by PDC, the 15 bits of data and distinguished by SDC, LDDC2, LDDC1, LDDC0 Yes. For this reason, the number of data caches can be reduced by one.

図44は、第1の実施形態の変形例を示し、7レベルの書き込みの場合を示している。7レベルの場合、4つのデータキャッシュを必要とする。すなわち、低めのベリファイレベルを超えているどうかをPDCにより区別し、7ビットのデータをSDC、LDDC1、LDDC0により区別する。非書き込み時、SDCがHレベル、LDDC1、LDDC0は全て“0”に設定され、PDCは1に設定される。 FIG. 44 shows a modification of the first embodiment and shows a case of writing at 7 levels. For 7 levels, 4 data caches are required. That is, whether or not the lower verify level is exceeded is distinguished by PDC, and 7-bit data is distinguished by SDC, LDDC1, and LDDC0. At the time of non-writing, SDC is H level, LDDC1 and LDDC0 are all set to “0”, and PDC is set to 1.

図45は、第1の実施形態の別の変形例を示し、3レベルの書き込みの場合を示している。3レベルの場合、3つのデータキャッシュを必要とする。すなわち、低めのベリファイレベルを超えているどうかはPDCにより区別し、3ビットのデータはSDC、LDDC0により区別する。非書き込み時、SDCがHレベル、LDDC1、LDDC0は全て“0”に設定され、PDCは1に設定される。 FIG. 45 shows another modification of the first embodiment and shows a case of three-level writing. For 3 levels, 3 data caches are required. That is, whether more than the lower verify level is distinguished by PDC, the data of 3 bits distinguishes the SDC, LDDC0. At the time of non-writing, SDC is H level, LDDC1 and LDDC0 are all set to “0”, and PDC is set to 1.

さらに、低めのベリファイをパスした後、ビット線に中間電位が供給され、少しのみ書き込みを行う書き込みを行わない場合、低めのベリファイレベルを超えているどうかを区別するためのデータを記憶する必要がない。この場合、図43、図44、図45に示す例からさらに1つずつデータキャッシュを削減することが可能である。 Furthermore, after passing the lower verification, the intermediate potential is supplied to the bit line if not written to perform a little seen write, need to store data for distinguishing whether it exceeds a lower verify level There is no. In this case, it is possible to further reduce the data cache one by one from the examples shown in FIGS. 43, 44, and 45.

その他、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変えない範囲において種々変形実施可能なことは勿論である。 In addition, the present invention is not limited to the above you facilities embodiment, various modifications may be a range not changing the gist of the invention is a matter of course.

本発明に係るデータ記憶回路の一例を示す回路図。1 is a circuit diagram showing an example of a data storage circuit according to the present invention. 本発明に係るNAND型フラッシュメモリの概略構成を示す図。1 is a diagram showing a schematic configuration of a NAND flash memory according to the present invention. 図2に示すメモリセルアレイ及びビット線制御回路の構成を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a memory cell array and a bit line control circuit shown in FIG. 2. 図4(a)はメモリセルを示す断面図、図4(b)は選択トランジスタを示す断面図。4A is a cross-sectional view showing a memory cell, and FIG. 4B is a cross-sectional view showing a selection transistor. NAND型フラッシュメモリを示す断面図。Sectional drawing which shows NAND type flash memory. 図5に示す各領域に供給される電圧の例を示す図。The figure which shows the example of the voltage supplied to each area | region shown in FIG. 図2に示すメモリのアドレス入力サイクルを示すタイミング図。FIG. 3 is a timing chart showing an address input cycle of the memory shown in FIG. 2. 入力サイクルとアドレスの割当てを示す図。The figure which shows assignment of an input cycle and an address. メモリセルアレイ(プレーン0、1)とブロックの関係を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the relationship between a memory cell array (plane 0, 1) and a block. メモリセルのデータとメモリセルの閾値の関係を示す図。The figure which shows the relationship between the memory cell data and the threshold value of a memory cell. メモリセルのデータとメモリセルの閾値の関係を示す図。The figure which shows the relationship between the memory cell data and the threshold value of a memory cell. 第1の参考例におけるメモリセルに対する書き込み順序を示す図。 The figure which shows the write-in order with respect to the memory cell in a 1st reference example . 図13は、書き込み動作に伴うメモリセルの閾値電圧の遷移を示す図FIG. 13 is a diagram showing transition of the threshold voltage of the memory cell accompanying the write operation. 図12の第1の変形例を示す図。The figure which shows the 1st modification of FIG. 図13の第1の変形例を示す図。The figure which shows the 1st modification of FIG. 図12の第2の変形例を示す図。The figure which shows the 2nd modification of FIG. 図13の第2の変形例を示す図。The figure which shows the 2nd modification of FIG. 第3ステージの書き込み動作を示すタイミング図。FIG. 9 is a timing chart showing a write operation in a third stage. 図19(a)乃至図19(k)は、第1ステージ乃至第3ステージにおけるコマンドとデータの関係を示す図。FIG. 19A to FIG. 19K are diagrams showing the relationship between commands and data in the first stage to the third stage. 図2に示すDDC制御回路の一例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a DDC control circuit shown in FIG. 2. 図20に示すコンバータの一例を示す構成図。The block diagram which shows an example of the converter shown in FIG. 図20に示す他のコンバータの一例を示す構成図。The block diagram which shows an example of the other converter shown in FIG. リフレッシュ動作の一例を示す図。The figure which shows an example of refresh operation. 書き込みシーケンスを示す図。The figure which shows a write-in sequence. 図25(a)乃至図25(e)は、図24に示す書き込みシーケンスに伴う16値、8値、4値、2値における入力データと書き込みレベルの関係を示す図。FIGS. 25A to 25E are diagrams showing the relationship between input data and write levels in 16-value, 8-value, 4-value, and 2-value associated with the write sequence shown in FIG. 図26(a)乃至図26(d)は、プログラム動作及びリフレッシュ動作を説明するために示す図。FIGS. 26A to 26D are diagrams for explaining a program operation and a refresh operation. 第1ステージのプログラムベリファイ動作を示す図。The figure which shows the program verify operation | movement of a 1st stage. 第2ステージのプログラムベリファイ動作を示す図。The figure which shows the program verify operation | movement of a 2nd stage. 第3ステージのプログラムベリファイ動作を示す図。The figure which shows the program verify operation | movement of a 3rd stage. 各レベルへの書き込みビットが存在するかどうかを検出するためのサブルーチンを示す図。The figure which shows the subroutine for detecting whether the write bit to each level exists. 図31(a)乃至図31(c)は、図29に示す第3ステージのレベル1、レベル2のベリファイを示す図。31 (a) to 31 (c) are diagrams showing level 1 and level 2 verification in the third stage shown in FIG. 図32(a)、図32(b)は、第3ステージのレベルBのベリファイ時の書き込みレベルと各データキャッシュに記憶されたデータの関係を示す図。FIGS. 32A and 32B are diagrams showing the relationship between the write level at the time of verifying level B in the third stage and the data stored in each data cache. 図33(a)乃至図33(c)は、データキャッシュに対するデータ設定のシーケンスを示す図。FIGS. 33A to 33C are diagrams showing a data setting sequence for the data cache. 図34(a)は、EASB書き込み方法を示す図、図34(b)は図34(a)の変形例を示す図。FIG. 34 (a) is a diagram showing an EASB writing method, and FIG. 34 (b) is a diagram showing a modification of FIG. 34 (a). 16レベル書き込み後における閾値電圧の分布と、各ページにおけるデータの割付を示す図。The figure which shows distribution of the threshold voltage after 16 level writing, and allocation of the data in each page. プログラムベリファイにおける1つのレベルでのワード線とビット線の電位を示す波形図。The wave form diagram which shows the electric potential of the word line in one level in a program verify, and a bit line. 1シーケンスの読み出し動作におけるワード線とビット線の電位を示す波形図。FIG. 6 is a waveform diagram showing potentials of word lines and bit lines in one sequence read operation. 読み出し動作のアルゴリズムを示す図。The figure which shows the algorithm of read-out operation | movement. 第2の参考例に係わるベリファイ動作の電位を示す波形図。FIG. 10 is a waveform diagram showing a potential of a verify operation according to a second reference example . 第2の参考例に係わるリード動作の電位を示す波形図。The wave form diagram which shows the electric potential of the read operation concerning the 2nd reference example . 第3の参考例に係わるベリファイ動作の電位を示す波形図。FIG. 10 is a waveform diagram showing a potential of a verify operation according to a third reference example . 参考例に係わるリード動作の電位を示す波形図。The wave form diagram which shows the electric potential of the read operation concerning a 4th reference example . の実施形態に係わり、データキャッシュを削減するためのデータキャッシュとデータの関係を示す図。The figure which concerns on 1st Embodiment and shows the relationship between the data cache and data for reducing a data cache. の実施形態の変形例に係わり、データキャッシュを削減するためのデータキャッシュとデータの関係を示す図。The figure which concerns on the modification of 1st Embodiment, and shows the relationship between the data cache and data for reducing a data cache. の実施形態の別の変形例に係わり、データキャッシュを削減するためのデータキャッシュとデータの関係を示す図。The figure which concerns on another modification of 1st Embodiment, and shows the relationship between the data cache and data for reducing a data cache. 第1の参考例に係り、ベリファイレベルの差分を示す図。The figure which concerns on the 1st reference example and shows the difference of a verify level. 第1の参考例に係り、中性閾値電圧と必要なデータリテンションマージンの関係を示す図。The figure which shows the relationship between a neutral threshold voltage and a required data retention margin concerning a 1st reference example . 図48(a)(b)は、第1の参考例の変形例を示す図。48A and 48B are diagrams showing a modification of the first reference example . メモリセルアレイの変形例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the modification of a memory cell array.

符号の説明Explanation of symbols

1…メモリセルアレイ、2…ビット線制御回路、5…データ入出力端子、7…制御信号及び制御電圧発生回路、8…制御信号入力端子、7−1…ダイナミックデータキャッシュ(DDC)制御回路、7a〜7e…コンバータ、7a−1〜7a−4…フリップフロップ回路、7a−6…比較回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Bit line control circuit, 5 ... Data input / output terminal, 7 ... Control signal and control voltage generation circuit, 8 ... Control signal input terminal, 7-1 ... Dynamic data cache (DDC) control circuit, 7a ˜7e... Converter, 7a-1 to 7a-4... Flip-flop circuit, 7a-6.

Claims (7)

ワード線、及びビット線に接続された複数のメモリセルがマトリックス状に配置されたメモリセルアレイと、
前記ワード線、及びビット線の電位を制御する第1の制御回路と、
前記ビット線に接続され、前記メモリセルアレイ内のメモリセルに2個(kは3以上の自然数)の閾値を設定する書込み動作のために、書込みデータを記憶するデータ記憶回路を有し、前記データ記憶回路は、少なくとも1ビットのデータをそれぞれ記憶するk個のラッチ回路で構成され、
前記データ記憶回路は、少なくとも1つのスタティックラッチ回路と、
複数のダイナミックラッチ回路を有し、
前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路は外部に接続され、前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路及び前記複数のダイナミックラッチ回路は、外部から入力された書き込みデータを入力するとともに、書込み動作に対応した内部書込みデータをラッチすることを特徴とする半導体記憶装置。
A memory cell array in which a plurality of memory cells connected to word lines and bit lines are arranged in a matrix;
A first control circuit for controlling the potential of the word line and the bit line;
A data storage circuit for storing write data for a write operation that is connected to the bit line and sets a threshold of 2 k (k is a natural number of 3 or more) in the memory cells in the memory cell array; The data storage circuit is composed of k latch circuits each storing at least 1-bit data,
The data storage circuit includes at least one static latch circuit;
Having a plurality of dynamic latch circuits;
The at least one static latch circuit is externally connected, and the at least one static latch circuit and the plurality of dynamic latch circuits receive externally input write data and receive internal write data corresponding to a write operation. A semiconductor memory device characterized by latching.
複数の前記ダイナミックラッチ回路うちの1つのデータを前記スタティックラッチ回路に移動し、前記スタティックラッチ回路のデータを前記複数のダイナミックラッチ回路の1つに移動することによりデータをリフレッシュする第2の制御回路を
さらに具備することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
Move one data among the plurality of the dynamic latch circuit to said static latch circuit, a second control for refreshing the data by moving the data of the static latch circuit to one of said plurality of dynamic latch circuits The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a circuit.
前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路は外部に接続されることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。   2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the at least one static latch circuit is connected to the outside. 前記データ記憶回路は、少なくとも第1、第2のスタティックラッチ回路と、
複数のダイナミックラッチ回路を有し、
複数の前記ダイナミックラッチ回路うちの1つのデータを前記第1のスタティックラッチ回路に移動し、前記第1のスタティックラッチ回路のデータを前記複数のダイナミックラッチ回路の1つに移動することによりデータをリフレッシュする第2の制御回路をさらに具備し、
前記第2のスタティックラッチ回路は、外部に接続されることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
The data storage circuit includes at least first and second static latch circuits;
Having a plurality of dynamic latch circuits;
Move one data among the plurality of the dynamic latch circuit in the first static latch circuit, data by moving the data of the first static latch circuit in one of the plurality of dynamic latch circuits A second control circuit for refreshing;
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the second static latch circuit is connected to the outside.
前記書き込み動作により、前記メモリセルの閾値電圧を、第1の閾値電圧、第2の閾値電圧乃至第2の閾値電圧に設定し、前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路及び前記複数のダイナミックラッチ回路は、それぞれ1ビットのデータを記憶する第1のラッチ回路、第2のラッチ回路乃至第kのラッチ回路を構成し、
前記第1ラッチ回路は、第1乃至第2(k−1)の閾値電圧、又は第2(k−1)+1乃至第2の閾値電圧を区別し、
前記第2ラッチ回路は、第2(k−1)+1乃至第2(k−1)+2(k−2)の閾値電圧、又は第2(k−1)+2(k−2)+1の閾値電圧を区別し、
前記第kのラッチ回路は、第2−1の閾値電圧、又は第2の閾値電圧を区別するためのデータを記憶することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
By the write operation, the threshold voltage of the memory cell, the first threshold voltage is set to the threshold voltage of the second threshold voltage to the second k, wherein at least one static latch circuit and the plurality of dynamic latch circuit , Constituting a first latch circuit, a second latch circuit to a k-th latch circuit each storing 1-bit data,
The first latch circuit distinguishes between first to second (k−1) threshold voltages or second (k−1) +1 to second k threshold voltages;
The second latch circuit has a second (k−1) +1 to a second (k−1) +2 (k−2) threshold voltage or a second (k−1) +2 (k−2) +1 threshold. Distinguish voltage,
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the k-th latch circuit stores data for distinguishing a 2 k −1 threshold voltage or a 2 k threshold voltage.
前記少なくとも1つのスタティックラッチ回路及び前記複数のダイナミックラッチ回路は、それぞれ1ビットのデータを記憶する第1のラッチ回路、第2のラッチ回路乃至第kのラッチ回路を構成し、
前記書き込み動作の途中において、第1乃至第2(k−1)の閾値電圧への書き込みが終了した場合、前記第1のラッチ回路は、次の書き込みデータを記憶し、前記第2(k−1)+1乃至第2(k−1)+2(k−2)の閾値電圧への書き込みが終了した場合、前記第2のラッチ回路は、次の書き込みデータを記憶し、第2−1の閾値電圧への書き込みが終了した場合、前記第kのラッチ回路は、次の書き込みデータを記憶することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
The at least one static latch circuit and the plurality of dynamic latch circuits constitute a first latch circuit, a second latch circuit to a kth latch circuit, each storing 1-bit data,
In the middle of the write operation, when writing to the first to second (k−1) threshold voltages is completed, the first latch circuit stores the next write data, and the second (k− 1) When writing to the threshold voltages from +1 to the second (k−1) +2 (k−2) is completed, the second latch circuit stores the next write data, and the second k −1 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein when the writing to the threshold voltage is completed, the kth latch circuit stores the next write data.
第1ページ乃至第kページとして複数ビットのデータ記憶する場合、外部より入力されるアドレスが前記kページのアドレスの場合、2レベルの書き込みを行うことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein when a plurality of bits of data are stored as the first page to the k-th page, if the address inputted from the outside is the address of the k-page, 2 k level writing is performed. apparatus.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11264090B2 (en) 2019-09-12 2022-03-01 Kioxia Corporation Memory system
US12293787B2 (en) 2019-09-12 2025-05-06 Kioxia Corporation Memory system

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5150245B2 (en) * 2007-12-27 2013-02-20 株式会社東芝 Semiconductor memory device
KR101772577B1 (en) * 2010-11-09 2017-08-29 삼성전자주식회사 Data storage system having multi-bit memory device and operating method thereof
US8355280B2 (en) * 2010-03-09 2013-01-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Data storage system having multi-bit memory device and operating method thereof
US8565020B2 (en) 2010-04-14 2013-10-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device
JP5827520B2 (en) * 2010-09-13 2015-12-02 株式会社半導体エネルギー研究所 Semiconductor memory device
KR101785007B1 (en) 2011-06-14 2017-11-07 삼성전자주식회사 Data storage system having multi-bit memory device and on-chip buffer program method thereof
KR101893145B1 (en) 2011-12-06 2018-10-05 삼성전자주식회사 Memory systems and block copy methods thereof
JP5398872B2 (en) * 2012-04-27 2014-01-29 株式会社東芝 Semiconductor memory device
KR102053958B1 (en) * 2013-05-27 2019-12-10 삼성전자주식회사 Nonvolatile memory device and reprogram method thereof
JP6453729B2 (en) * 2015-08-17 2019-01-16 東芝メモリ株式会社 Semiconductor memory device and memory system
US10593398B2 (en) 2016-09-13 2020-03-17 Toshiba Memory Corporation Semiconductor storage device including a controller configured to execute a first write and a second write
JP6759440B2 (en) * 2019-11-28 2020-09-23 キオクシア株式会社 Memory system
JP7135185B2 (en) * 2020-07-22 2022-09-12 キオクシア株式会社 Information processing system

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09326197A (en) * 1996-06-06 1997-12-16 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor storage device and bit line charging method
JPH103792A (en) * 1996-04-19 1998-01-06 Toshiba Corp Semiconductor memory and memory system
JP2000276887A (en) * 1998-09-16 2000-10-06 Sony Corp Non-volatile semiconductor memory, and methods for verifying and reading non-volatile semiconductor memory
JP2001167590A (en) * 1999-09-28 2001-06-22 Toshiba Corp Non-volatile semiconductor memory
JP2004192789A (en) * 2002-11-29 2004-07-08 Toshiba Corp Semiconductor memory

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH103792A (en) * 1996-04-19 1998-01-06 Toshiba Corp Semiconductor memory and memory system
JPH09326197A (en) * 1996-06-06 1997-12-16 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor storage device and bit line charging method
JP2000276887A (en) * 1998-09-16 2000-10-06 Sony Corp Non-volatile semiconductor memory, and methods for verifying and reading non-volatile semiconductor memory
JP2001167590A (en) * 1999-09-28 2001-06-22 Toshiba Corp Non-volatile semiconductor memory
JP2004192789A (en) * 2002-11-29 2004-07-08 Toshiba Corp Semiconductor memory

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11264090B2 (en) 2019-09-12 2022-03-01 Kioxia Corporation Memory system
US11756611B2 (en) 2019-09-12 2023-09-12 Kioxia Corporation Memory system
US12293787B2 (en) 2019-09-12 2025-05-06 Kioxia Corporation Memory system

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