JP4669714B2 - 多孔質部材の抗菌処理方法及び抗菌性フィルター - Google Patents
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Description
このようなフィルターは、耐久性を考慮して、プラスチックや金属、セラミックス等が材料とされる場合が多い。
しかしながら、部材の形状が複雑である場合には、部材表面の全面に抗菌性を付与することは困難であるという問題があった(特許文献2参照)。
即ち、本発明の多孔質部材の抗菌処理方法は、請求項1に記載の通り、多孔質部材の表面に蒸着重合法によりナイロン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリイミドの内の何れかの合成樹脂被膜を形成後、抗菌性を得るためにオゾン処理することにより前記多孔質部材に抗菌性を付与することを特徴とする。
また、請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の多孔質部材の抗菌処理方法において、前記多孔質部材がセラミックスであることを特徴とする。
また、本発明の抗菌性フィルターは、請求項3に記載の通り、多孔質部材の表面に蒸着重合法によりナイロン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリイミドの内の何れかの合成樹脂被膜を形成後、抗菌性を得るためにオゾン処理することにより、前記多孔質部材に抗菌性が付与されたことを特徴とする。
また、請求項4に記載の本発明は、請求項3に記載の抗菌性フィルターにおいて、前記部材がセラミックスであることを特徴とする。
また、本発明のフィルターによれば、多孔質部材の孔表面に均一に抗菌性が付与されているため、抗菌性がフィルターの一部のみが低下するということがない。
前記多孔質部材としては、窒化アルミニウム、窒化硅素などのセラミックスや、ガラス、カーボン、金属、プラスチック等を使用することができ、この中でもセラミックスを使用することが好ましい。
また、前記多孔質部材の最小気孔径は3μm以上とすることが好ましい。形成されたポリイミド被膜の膜厚が1μmの場合でも気体流路が確保されるからである。また、前記多孔質部材の最大気孔径は4mmとすることが好ましい。
また、前記多孔質部材の気孔径は、多孔質部材に形成された流路の構造が、多孔質部材の表面側から裏面側に直線的に貫通するような構造の場合には、5μm〜100μmとすることが好ましく、多孔質部材の内部において三次元網目構造の場合には、100μm〜2.5mmとすることが好ましい。
また、前記多孔質部材の気孔率は、10%〜90%の範囲内で選択することができるが、機械的強度の観点からすると30%〜80%の範囲内で選択することが好ましい。
前記合成樹脂被膜は、ナイロン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等を使用することができる。
前記ポリイミド被膜の蒸着重合法については、原料モノマー、蒸着条件など、従来のポリイミドの蒸着重合と特に変わるところはなく、原料モノマーとして、例えば、無水ピロメリト酸(PMDA)と、4,4'−オキシジアニリン(ODA)の組み合わせ、或いは、PMDAと3,5’−ジアミノ安息香酸(DBA)の組み合わせ等特に限定されるものではない。
前記合成樹脂被膜の厚みは、1μm以上とすることが好ましい。1μm未満であると、抗菌性能が不足するからである。
前記オゾン処理に関しては、前記合成樹脂被膜をオゾン雰囲気と接触させることができれば特に温度や時間等の条件については制限はなく、一例として、合成樹脂被膜が形成された多孔質部材を200〜250℃の範囲で加熱して、オゾンに10分程度接触させるようにすればよい。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する。
図1は、蒸着重合対象物に対して、ポリイミド被膜を形成するための蒸着重合装置の略断面図である。
蒸着重合装置1には、図示しないガス導入バルブを介してモノマーガスを導入する一対の第1ガス導入口2及び第2ガス導入口3と、図示しない油拡散ポンプに連通する排気バルブを介して排気作動を行うための真空排気口4とが設けられている。また、蒸着重合装置1の内部には、蒸着重合対象物として直方体形状の多孔質部材(セラミックス)5が配置されている。この多孔質部材5は、蒸着重合装置1の天井部1aから必要な張力に充分耐えうる索条6により懸吊される等して、いずれの面も遮蔽されることなく装置1内に露出されるようになっている。また、蒸着重合装置1は、内部の温度を制御できる温度制御手段7が設置されており、蒸着重合反応に必要な熱を供給できるように構成されている。そして、蒸着重合対象物たる多孔質部材5の表面は、上記した温度制御手段7により加熱された装置1の内壁から輻射熱で全体が均等に加熱される。
このように構成された蒸着重合装置1を用い、その内部に多孔質部材5を配置した状態で、最初に真空排気口4に連なる図示しない排気バルブにより真空排気を作動させて装置1の内部圧力を10-2Paに減圧し、この圧力状態を保ちながら温度制御手段7により、その内部を200℃に加熱してこの状態を保持する。そして、予め温度制御手段9により、208℃に加熱した容器8内の気体状態のピロメリト酸二無水物(PMDA)を第1ガス導入口2から、また、予め温度制御手段11により190℃に加熱した容器10内の気体状態の4,4'−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)を第2ガス導入口3から同時に導入して、この状態で、多孔質部材5の表面で蒸着重合反応を30分に亘って進行させ、多孔質部材5の表面全体に6μmの膜厚のポリイミド膜を被覆した。
次に、蒸着重合装置1の温度を上げることにより該ポリイミド膜被覆多孔質部材5を、300℃まで上昇させて1時間保持した後、温度制御を停止し、真空排気した。自然冷却によりポリイミド膜被覆多孔質部材5の温度が200〜250℃に下がったところで、バルブ12を介して酸素を流量20L/minでオゾン発生器を通して蒸着重合装置1に流入させた。前記酸素は、酸素流入により蒸着重合装置1が大気圧になったところで、図示しないが真空排気系のリークバルブを開放して流出する酸素及びオゾンを、オゾン分解器を介して大気に放出している。この状態で10分間経過後、オゾンを除去し該ポリイミド膜被覆多孔質部材5を取り出し、大気中に1週間放置した。
上記実施例1と同様に蒸着重合法により、ポリエチレンテレフタレート被覆被膜が形成された多孔質部材を、加熱炉内で100℃に加熱し、酸素を流量20L/minでオゾン発生器を通し、この状態を20分間保持し、オゾンを除去し、ポリエチレンテレフタレート被覆被膜が形成された多孔質部材を取り出し、大気中に1週間放置した。
そして、実施例1及び比較例1同様に、JIS Z 2801に従った試験方法で抗菌性の試験を行った。
上記試験の結果を下記表1に示す。
2,3 ガス導入口
4 真空排気口
5 多孔質部材
6 索条
7 温度制御手段
8 容器
9 温度制御手段
10 容器
11 温度制御手段
Claims (4)
- 多孔質部材の表面に蒸着重合法によりナイロン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリイミドの内の何れかの合成樹脂被膜を形成後、抗菌性を得るためにオゾン処理することにより前記多孔質部材に抗菌性を付与することを特徴とする多孔質部材の抗菌処理方法。
- 前記多孔質部材がセラミックスであることを特徴とする請求項1に記載の多孔質部材の抗菌処理方法。
- 多孔質部材の表面に蒸着重合法によりナイロン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート及びポリイミドの内の何れかの合成樹脂被膜を形成後、抗菌性を得るためにオゾン処理することにより、前記多孔質部材に抗菌性が付与されたことを特徴とする抗菌性フィルター。
- 前記多孔質部材がセラミックスであることを特徴とする請求項3に記載の抗菌性フィルター。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827303A (ja) * | 1994-07-19 | 1996-01-30 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 多孔体及びその製造方法 |
JP2002292768A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Kurashiki Seni Kako Kk | ハニカム構造体 |
JP2004115777A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-04-15 | Ulvac Japan Ltd | 抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品 |
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JP2005213310A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Ulvac Japan Ltd | ポリイミド膜の表面親水化方法 |
JP2007528451A (ja) * | 2004-02-02 | 2007-10-11 | ナノシス・インク. | ナノファイバーを含む多孔性の基板、物品、システム及び組成物、並びにそれらの使用及び製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0827303A (ja) * | 1994-07-19 | 1996-01-30 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 多孔体及びその製造方法 |
JP2002292768A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Kurashiki Seni Kako Kk | ハニカム構造体 |
JP2004115777A (ja) * | 2002-09-06 | 2004-04-15 | Ulvac Japan Ltd | 抗菌性高分子及びその製造方法、抗菌性高分子被膜及びその作製方法、並びにこの被膜を表面に有する物品 |
JP2004350935A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Jigyo Sozo Kenkyusho:Kk | フィルター |
JP2005213310A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Ulvac Japan Ltd | ポリイミド膜の表面親水化方法 |
JP2007528451A (ja) * | 2004-02-02 | 2007-10-11 | ナノシス・インク. | ナノファイバーを含む多孔性の基板、物品、システム及び組成物、並びにそれらの使用及び製造方法 |
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