JP4669506B2 - How to stop gas production equipment - Google Patents
How to stop gas production equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP4669506B2 JP4669506B2 JP2007334430A JP2007334430A JP4669506B2 JP 4669506 B2 JP4669506 B2 JP 4669506B2 JP 2007334430 A JP2007334430 A JP 2007334430A JP 2007334430 A JP2007334430 A JP 2007334430A JP 4669506 B2 JP4669506 B2 JP 4669506B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorption tower
- pressure
- gas
- adsorption
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Description
本発明は、PSA(Pressure Swing Adsorption)機構により不純物の少ないガスを製造するガス製造装置の停止方法に関する。 The present invention relates to a method for stopping a gas manufacturing apparatus that manufactures a gas with less impurities by a PSA (Pressure Swing Adsorption) mechanism.
従来、複数の吸着塔を利用するPSA機構によって、不純物を吸着・除去して、不純物の少ないガスを製造する技術が知られている。この技術に関連して、ガス製造装置(PSA機構)の起動時において、吸着塔から不純物を放出する技術が提案されている(特許文献1参照)。また、次回の再起動時における起動性を良好とするため、停止信号が入力された後、予め設定された規定停止位置(例えば、吸着工程の完了位置や、脱圧工程の完了位置)まで運転を継続した後、停止する技術が提案されている(特許文献2参照)。 2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for producing a gas with few impurities by adsorbing and removing impurities by a PSA mechanism using a plurality of adsorption towers is known. In relation to this technique, a technique has been proposed in which impurities are released from an adsorption tower when a gas production apparatus (PSA mechanism) is started (see Patent Document 1). In addition, in order to improve the startability at the next restart, after the stop signal is input, operation is performed up to a preset stop position (for example, the completion position of the adsorption process or the completion position of the depressurization process) A technique of stopping after continuing is proposed (see Patent Document 2).
ところが、特許文献1の技術では、停止後から次回起動時まで、吸着塔に不純物が残留したままとなり、このように残留する不純物が吸着塔内で拡散し、次回起動時において、製造されるガスに不純物が含まれる虞がある。また、特許文献2の技術では、停止信号が入力された後、予め設定された規定停止位置まで運転を継続し、要求されていないガスの製造を継続する必要があった。 However, in the technique of Patent Document 1, impurities remain in the adsorption tower from the time of stoppage until the next start-up, and thus the remaining impurities diffuse in the adsorption tower and are produced at the next start-up. May contain impurities. Further, in the technique of Patent Document 2, after a stop signal is input, it is necessary to continue operation to a predetermined stop position set in advance, and to continue to produce gas that is not required.
そこで、本発明は、停止信号が入力された際、ガスの製造を停止すると共に、次回起動時において製造されるガスに含まれる不純物を好適に低減可能なガス製造装置の停止方法を提供することを課題とする。 Therefore, the present invention provides a gas production apparatus stop method capable of suitably reducing the impurities contained in the gas produced at the next startup while stopping the gas production when a stop signal is input. Is an issue.
前記課題を解決するための手段として、本発明は、2つ以上の吸着塔を備え、PSA機構によりガスを製造するガス製造装置の停止方法であって、停止信号が入力された後、少なくとも1つの吸着塔の残留ガスを、他の吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とする第1均圧ステップと、前記第1均圧ステップにおいて残留ガスを供給した吸着塔を脱圧する第1脱圧ステップと、前記第1脱圧ステップの後、脱圧していない吸着塔の残留ガスを、脱圧した吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とする第2均圧ステップと、前記第2均圧ステップにおいて残留ガスを供給した吸着塔を脱圧する第2脱圧ステップと、を含むことを特徴とするガス製造装置の停止方法である。 As a means for solving the above-mentioned problems, the present invention is a method for stopping a gas production apparatus that comprises two or more adsorption towers and produces gas by a PSA mechanism, and at least 1 after a stop signal is input. Residual gas from one adsorption tower is supplied to the other adsorption tower, and the first pressure equalization step in which the pressure between the adsorption towers is substantially the same, and the adsorption tower to which the residual gas is supplied in the first pressure equalization step is depressurized. After the first depressurization step and the first depressurization step, a second equalized pressure is supplied by supplying the residual gas of the adsorption tower that has not been depressurized to the depressurized adsorption tower so that the pressure between the adsorption towers is substantially the same. And a second depressurizing step for depressurizing the adsorption tower supplied with the residual gas in the second pressure equalizing step .
このようなガス製造装置の停止方法によれば、PSA機構の運転を停止する停止信号が入力された後、ガスの製造を停止し、少なくとも1つの吸着塔の残留ガスを、他の吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とし(第1均圧ステップ)、つまり、停止信号が発せられる前において、不純物を吸着し、不純物の少ないガスを精製している吸着塔の残留ガスを、脱圧により洗浄中等を実行している他の吸着塔に供給し、吸着塔間における残留ガスの圧力を均一にする。
そして、前記残留ガスを供給した吸着塔を脱圧(第1脱圧ステップ)、つまり、前記残留ガスを供給した吸着塔のガスを外部に排出することにより、この吸着塔の吸着物を除去することができる。これにより、次回起動時において、製造されるガスに含まれる不純物を低減することができる。
なお、吸着塔の脱圧とは、吸着塔内のガスを排出することで、その圧力を下げると共に、排出されるガスによって、吸着物(後記する実施形態では二酸化炭素等の不純物)を、外部に除去し、吸着塔を洗浄することを意味する。
According to such a gas production apparatus stopping method, after a stop signal for stopping the operation of the PSA mechanism is input, the gas production is stopped, and the residual gas of at least one adsorption tower is transferred to another adsorption tower. The pressure between the adsorption towers is made substantially the same (first pressure equalization step), that is, before the stop signal is issued, the residual gas of the adsorption tower that adsorbs impurities and purifies the gas with few impurities is removed. Then, the pressure is supplied to other adsorption towers that are performing cleaning or the like by depressurization to make the pressure of the residual gas uniform between the adsorption towers.
Then, the adsorption tower supplied with the residual gas is depressurized (first depressurization step), that is, the adsorbent in the adsorption tower is removed by discharging the gas of the adsorption tower supplied with the residual gas to the outside. be able to. Thereby, the impurities contained in the produced gas can be reduced at the next startup.
Note that the depressurization of the adsorption tower means that the gas in the adsorption tower is exhausted to lower the pressure, and the adsorbed substance (impurities such as carbon dioxide in the embodiment described later) is externally removed by the exhausted gas. Means that the adsorption tower is washed.
このようなガス製造装置の停止方法によれば、第1脱圧ステップの後、脱圧していない吸着塔の残留ガスを、脱圧した吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とし(第2均圧ステップ)、第2均圧ステップにおいて残留ガスを供給した吸着塔を脱圧することにより(第2脱圧ステップ)、第1脱圧ステップで吸着物を除去していない吸着塔の吸着物を除去することができる。
なお、この後、吸着塔間の圧力を略同一とした後、残留ガスを供給した吸着塔を脱圧し、この吸着塔の吸着物を除去することが好ましい。
According to such a gas production apparatus stopping method, after the first depressurization step, the residual gas of the adsorption tower that has not been depressurized is supplied to the depressurized adsorption tower, and the pressure between the adsorption towers is made substantially the same. (Second pressure equalization step), by depressurizing the adsorption tower to which the residual gas was supplied in the second pressure equalization step (second pressure desorption step), The adsorbate can be removed.
After that, it is preferable to make the pressure between the adsorption towers substantially the same, then depressurize the adsorption tower supplied with the residual gas, and remove the adsorbate from the adsorption tower.
また、前記2つ以上の吸着塔は第1吸着塔及び第2吸着塔を備え、前記第1均圧ステップにおいて、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔とを接続する均圧弁を開き、前記第1吸着塔の残留ガスを、前記第2吸着塔に供給し、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔との圧力を略同一とし、前記第1脱圧ステップにおいて、前記均圧弁を閉じた後、前記第1吸着塔の脱圧弁を開き、当該第1吸着塔を脱圧し、前記第2均圧ステップにおいて、前記第1吸着塔の脱圧弁を閉じた後、前記均圧弁を開き、前記第2吸着塔の残留ガスを、前記第1吸着塔に供給し、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔との圧力を略同一とし、前記第2脱圧ステップにおいて、前記均圧弁を閉じた後、前記第2吸着塔の脱圧弁を開き、当該第2吸着塔を脱圧することを特徴とするガス製造装置の停止方法である。 The two or more adsorption towers include a first adsorption tower and a second adsorption tower, and in the first pressure equalizing step, open a pressure equalizing valve that connects the first adsorption tower and the second adsorption tower, Residual gas of the first adsorption tower is supplied to the second adsorption tower, the pressures of the first adsorption tower and the second adsorption tower are substantially the same, and the pressure equalizing valve in the first depressurization step after closing the open de valve of the first adsorption tower, and depressurization of the first adsorption tower in the second pressure equalization step, after closing the removal valve of the first adsorption tower, the pressure equalizing valve In the second depressurization step, the residual gas of the second adsorption tower is supplied to the first adsorption tower, the pressures of the first adsorption tower and the second adsorption tower are substantially the same , after closing the equalizing valve, the second opening of de valve of the adsorption tower, gas, characterized in that that push de the second adsorption tower A stop process of the manufacturing apparatus.
このようなガス製造装置の停止方法によれば、PSA機構の運転を停止する停止信号が入力された後、ガスの製造を停止する。そして、均圧弁を開き、第1吸着塔の残留ガスを、第2吸着塔に供給し、第1吸着塔と第2吸着塔との圧力を略同一とする(第1均圧ステップ)。次いで、均圧弁を閉じた後、第1吸着塔の脱圧弁を開き、第1吸着塔を脱圧することにより(第1脱圧ステップ)、第1吸着塔の吸着物を除去することができる。
そして、第1吸着塔の脱圧弁を閉じた後、均圧弁を開き、第2吸着塔の残留ガスを、第1吸着塔に供給し、第1吸着塔と前記第2吸着塔との圧力を略同一とする(第2均圧ステップ)。次いで、均圧弁を閉じた後、第2吸着塔の脱圧弁を開き、第2吸着塔を脱圧することにより(第2脱圧ステップ)、第2吸着塔の吸着物を除去することができる。
このように、第1吸着塔と第2吸着塔との両方の吸着塔から、従来、停止後に排出処分していた残留ガスを有効利用して、各吸着塔の不純物を排出することができる。
According to such a gas production apparatus stopping method, after a stop signal for stopping the operation of the PSA mechanism is input, the gas production is stopped. Then, the pressure equalizing valve is opened, the residual gas of the first adsorption tower is supplied to the second adsorption tower, and the pressures of the first adsorption tower and the second adsorption tower are made substantially the same (first pressure equalization step). Next, after closing the pressure equalizing valve, the desorption valve of the first adsorption tower is opened and the first adsorption tower is depressurized (first depressurization step), so that the adsorbate of the first adsorption tower can be removed.
Then, after closing the pressure reducing valve of the first adsorption tower, the pressure equalizing valve is opened, the residual gas of the second adsorption tower is supplied to the first adsorption tower, and the pressure between the first adsorption tower and the second adsorption tower is increased. Substantially the same (second pressure equalization step). Then, after closing the pressure equalizing valve, the adsorbate in the second adsorption tower can be removed by opening the depressurization valve in the second adsorption tower and depressurizing the second adsorption tower (second depressurization step).
Thus, the impurities in each adsorption tower can be discharged from both adsorption towers of the first adsorption tower and the second adsorption tower by effectively utilizing the residual gas that has been conventionally discharged and disposed after stopping.
また、前記停止信号が入力された際、前記第1吸着塔の圧力は、前記第2吸着塔の圧力よりも高いことを特徴とするガス製造装置の停止方法である。 The gas production apparatus stopping method is characterized in that when the stop signal is input, the pressure of the first adsorption tower is higher than the pressure of the second adsorption tower.
このようなガス製造装置の停止方法によれば、停止信号が入力された際、第1吸着塔の圧力は、第2吸着塔の圧力よりも高い。これにより、第1吸着塔の圧力を利用して、第1吸着塔の残留ガスを、第2吸着塔に供給することができる。なお、停止信号が入力された際、第1吸着塔では、吸着が行われていたため、第1吸着塔の圧力が、第2吸着塔の圧力よりも高くなる。
その後、第1吸着塔(残留ガスを供給した吸着塔)を脱圧することにより、吸着物が拡散等する前に、吸着物を速やかに外部に排出できる。
According to such a method for stopping the gas production apparatus, when a stop signal is input, the pressure in the first adsorption tower is higher than the pressure in the second adsorption tower. Thereby, the residual gas of a 1st adsorption tower can be supplied to a 2nd adsorption tower using the pressure of a 1st adsorption tower. Note that when the stop signal is input, since the adsorption is performed in the first adsorption tower, the pressure in the first adsorption tower becomes higher than the pressure in the second adsorption tower.
Thereafter, by depressurizing the first adsorption tower (adsorption tower supplied with residual gas), the adsorbate can be quickly discharged to the outside before the adsorbate diffuses.
また、吸着塔を脱圧するステップにおいて、脱圧していない吸着塔の残留ガスの一部を、脱圧している吸着塔へ供給することを特徴とするガス製造装置の停止方法である。 In the depressurizing step of the adsorption tower, a part of the residual gas in the adsorption tower that has not been depressurized is supplied to the depressurized adsorption tower.
このようなガス製造装置の停止方法によれば、吸着塔を脱圧するステップ(第1脱圧ステップ、第2脱圧ステップ)において、脱圧していない吸着塔から、脱圧している吸着塔に供給される残留ガスにより、脱圧している吸着塔の吸着物を外部に押し出す(パージ)ことができる。なお、脱圧していない吸着塔から、脱圧している吸着塔に供給される残留ガスの流量は、オリフィス等によって小流量に設定されることが好ましい。
また、このように脱圧していない吸着塔の残留ガスを有効利用しつつ、吸着物を除去するので、脱圧している吸着塔に吸着物除去用の新規なガスを導入する必要もない。
According to such a gas production apparatus stopping method, in the step of depressurizing the adsorption tower (the first depressurization step and the second depressurization step), the adsorption tower that is not depressurized is supplied to the depressurized adsorption tower. The adsorbed material in the desorbing adsorption tower can be pushed out (purged) by the residual gas. In addition, it is preferable that the flow rate of the residual gas supplied from the adsorption tower that is not depressurized to the depressurized adsorption tower is set to a small flow rate by an orifice or the like.
Further, since the adsorbed material is removed while effectively using the residual gas of the adsorption tower that has not been depressurized in this way, it is not necessary to introduce a new gas for removing the adsorbed material into the depressurized adsorption tower.
また、各吸着塔の圧力が所定圧力になるまで、各吸着塔において均圧と脱圧とを繰り返すことを特徴とするガス製造装置の停止方法である。 Further, the gas production apparatus stopping method is characterized in that the pressure equalization and depressurization are repeated in each adsorption tower until the pressure in each adsorption tower reaches a predetermined pressure.
このようなガス製造装置の停止方法によれば、各吸着塔に圧力が所定圧力(例えば大気圧)になるまで、各吸着塔において均圧と脱圧とを繰り返すので、各吸着塔の吸着物を確実に除去すると共に、各吸着塔における均圧と脱圧とが長時間にて継続されることを防止できる。
なお、所定圧力は、例えば、各吸着塔に残留するガスの圧力を駆動力として、このガスが流れない圧力に設定される。
また、繰り返し回数毎に、各吸着塔に残留する不純物の残留量を予め別途に計測しておき、その計測結果に基づいて、均圧ステップと脱圧ステップとの繰り返し回数を、予め所定回数に設定しておき、この設定された所定回数に従って、均圧ステップと脱圧ステップとを繰り返すこともできる。
According to such a gas production apparatus stopping method, the pressure equalization and depressurization are repeated in each adsorption tower until the pressure in each adsorption tower reaches a predetermined pressure (for example, atmospheric pressure). Can be reliably removed, and the pressure equalization and depressurization in each adsorption tower can be prevented from continuing for a long time.
The predetermined pressure is set to a pressure at which this gas does not flow, for example, with the pressure of the gas remaining in each adsorption tower as a driving force.
In addition, for each repetition, the residual amount of impurities remaining in each adsorption tower is separately measured in advance, and based on the measurement result, the repetition number of the pressure equalization step and the depressurization step is set to a predetermined number in advance. It is also possible to repeat the pressure equalization step and the depressurization step according to the predetermined number of times set.
本発明によれば、停止信号が入力された際、ガスの製造を停止すると共に、次回起動時において製造されるガスに含まれる不純物を好適に低減可能なガス製造装置の停止方法を提供することができる。 According to the present invention, when a stop signal is input, a gas production apparatus stop method is provided that can stop gas production and suitably reduce impurities contained in the gas produced at the next startup. Can do.
≪第1実施形態≫
以下、本発明の第1実施形態について、図1から図5を参照して説明する。なお、第1実施形態、及び、後記する第2実施形態では、PSA機構により、不純物の少ない水素(ガス)を製造する水素製造装置1を例示する。また、このように製造される水素は、例えば、燃料電池自動車に搭載される燃料電池のアノードに、燃料ガスとして供給される。ただし、水素(燃料ガス)の用途はこれに限定されず、その他、燃焼用等でもよい。
<< First Embodiment >>
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5. In the first embodiment and the second embodiment to be described later, a hydrogen production apparatus 1 that produces hydrogen (gas) with a small amount of impurities is exemplified by the PSA mechanism. The hydrogen produced in this way is supplied as a fuel gas to, for example, the anode of a fuel cell mounted on a fuel cell vehicle. However, the use of hydrogen (fuel gas) is not limited to this, and may be used for combustion.
図1に示す水素製造装置1は、水素を主成分とする原料ガス中の二酸化炭素、水蒸気等の不純物をPSA機構により吸着させ、つまり、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bとにおいて、不純物の吸着/除去を交互に繰り返し、高純度の水素を製造する装置である。なお、原料ガスは、天然ガス、メタノール等の原燃料を水蒸気改質し、改質後のガスから一酸化炭素を除去したものである。 The hydrogen production apparatus 1 shown in FIG. 1 adsorbs impurities such as carbon dioxide and water vapor in a raw material gas mainly containing hydrogen by a PSA mechanism, that is, in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B, This is an apparatus for producing high-purity hydrogen by alternately repeating adsorption / removal of impurities. The raw material gas is obtained by steam reforming a raw fuel such as natural gas or methanol and removing carbon monoxide from the reformed gas.
≪水素製造装置の通常時の動作≫
まず、水素製造装置1の通常時の動作について、図1、図2を参照して、第1吸着塔10Aで不純物を吸着し、第2吸着塔10Bで吸着した不純物(吸着物)を脱圧により、除去している場合を説明する。
≪Normal operation of hydrogen production equipment≫
First, regarding the normal operation of the hydrogen production apparatus 1, with reference to FIGS. 1 and 2, impurities are adsorbed by the first adsorption tower 10A and the impurities (adsorbed material) adsorbed by the second adsorption tower 10B are depressurized. The case where it is removed will be described.
原料ガスは、コンプレッサ21、第1供給弁11Aを介して、第1吸着塔10Aの下部に導入される。導入された原料ガスは、第1吸着塔10A内を鉛直上方に向かって流れつつ、その不純物は、第1吸着塔10A内に装填されている吸着剤(ゼオライト、活性炭等)に吸着される。
そして、不純物が吸着されることで高純度となった水素は、第1吸着塔10Aの上部から第1排出弁12A、保圧弁22を介して、外部(例えば、水素タンク)に供給される。なお、第1均圧弁13A、第1脱圧弁14Aは閉じられている。保圧弁22は、背圧弁であり、第1吸着塔10Aにおける吸着圧を制御するものである。
The source gas is introduced into the lower part of the first adsorption tower 10A through the
And the hydrogen which became high purity by adsorb | sucking an impurity is supplied to the exterior (for example, hydrogen tank) via the
一方、第2供給弁11B、第2排出弁12B、及び、第2均圧弁13Bは閉じられたまま、第2脱圧弁14Bが開かれ、第2吸着塔10Bの残留ガスは、第2脱圧弁14Bを介して、燃焼部23に排出される。このように残留ガスが燃焼部23に供給されることで、第2吸着塔10Bが脱圧され、そして、第2吸着塔10Bから残留ガスが流出することで、第2吸着塔10Bの吸着剤に吸着していた不純物が除去され、第2吸着塔10Bが洗浄される。
なお、第1実施形態に係る二酸化炭素等の不純物は、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10B内を比重の小さい水素が鉛直上向きで流れるので、主に、鉛直下方の吸着剤に吸着している。また、燃焼部23は、このように脱圧されることで排出される残留ガス及び不純物を燃焼するものである。
On the other hand, the
It should be noted that impurities such as carbon dioxide according to the first embodiment mainly adsorb to the adsorbent below vertically because hydrogen having a small specific gravity flows vertically upward in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B. ing. Moreover, the
そして、第1吸着塔10Aにおける吸着と、第2吸着塔10Bの脱圧及び不純物の除去とが完了すると、第1吸着塔10Aを吸着から脱圧に切り替え、吸着した不純物を除去し、第2吸着塔10Bを脱圧から吸着に切り替え、高純度の水素の製造に切り替える(図2参照)。 When the adsorption in the first adsorption tower 10A, the depressurization of the second adsorption tower 10B, and the removal of impurities are completed, the first adsorption tower 10A is switched from adsorption to depressurization, the adsorbed impurities are removed, and the second The adsorption tower 10B is switched from depressurization to adsorption and switched to production of high purity hydrogen (see FIG. 2).
≪水素製造装置の停止方法≫
次に、水素製造装置1の停止方法について、図3、図4を参照して説明する。
なお、水素製造装置1を作動させるスイッチ31のOFF信号をコントローラ30(制御手段)が検知すると、図3のフローチャートに示す処理がスタートする。コントローラ30は、水素製造装置1を電子制御する制御装置であり、CPU、ROM、RAM、各種インタフェイス、電子回路などを含んで構成されており、その内部に記憶されたプログラムに従って、各種機器を制御し、各種処理を実行するようになっている。
≪How to stop hydrogen production equipment≫
Next, a method for stopping the hydrogen production apparatus 1 will be described with reference to FIGS.
When the controller 30 (control means) detects an OFF signal of the
また、ここでは、第1吸着塔10Aに原料ガスを供給し、不純物を吸着させ、高純度の水素を製造中であって、第2吸着塔10Bの脱圧中に、スイッチ31がOFFされた場合を例示する。よって、スイッチ31のOFF信号(停止信号)がコントローラ30に入力された際、第1吸着塔10A内のガスの圧力は、第2吸着塔10B内のガスの圧力よりも高くなっている(図4参照)。
In addition, here, the source gas is supplied to the first adsorption tower 10A, the impurities are adsorbed, and high-purity hydrogen is being produced, and the
ステップS101において、コントローラ30は、全ての弁(第1供給弁11A、第2供給弁11B、第1排出弁12A、第2排出弁12B、第1均圧弁13A、第2均圧弁13B、第1脱圧弁14A、第2脱圧弁14B)を閉じる。
これに並行して、コントローラ30は、コンプレッサ21を停止し、不純物の少ない水素(ガス)の製造を停止する。
In step S101, the
In parallel with this, the
<第1均圧ステップ−第1、第2吸着塔の均圧(第1均圧ステップ)>
ステップS102において、コントローラ30は、第1吸着塔10Aの圧力と第2吸着塔10Bの圧力とを均圧するため、第1均圧弁13A及び第2均圧弁13Bを開く。そうすると、第1吸着塔10Aの残留ガスは、第1均圧弁13A、第2均圧弁13Bを通って、第2吸着塔10Bに供給される。これにより、第1吸着塔10A内のガスの圧力は下がり、第2吸着塔10B内のガスの圧力は上昇する。
<First pressure equalization step-pressure equalization of the first and second adsorption towers (first pressure equalization step)>
In step S102, the
第1均圧弁13A、第2均圧弁13Bは、第1吸着塔10Aのガスの圧力と、第2吸着塔10Bのガスの圧力とが、略同一となるまで開かれる。
なお、第1吸着塔10Aのガスの圧力は、第1吸着塔10Aの出口近傍に設けられた圧力センサ15Aで検出され、第2吸着塔10Bのガスの圧力は、第2吸着塔10Bの出口近傍に設けられた圧力センサ15Bで検出される。そして、検出された圧力は、それぞれコントローラ30に出力されるようになっている。
The first
The pressure of the gas in the first adsorption tower 10A is detected by a
<第1脱圧ステップ−第1吸着塔:脱圧、第2吸着塔:保持>
ステップS103において、コントローラ30は、第2吸着塔10Bを均圧後の圧力で保持したまま、第1吸着塔10Aを脱圧する。
具体的には、コントローラ30は、第1脱圧弁14Aを開く。そうすると、ステップS102で第2吸着塔10Bに残留ガスを供給した第1吸着塔10A内の残留ガスは、第1脱圧弁14Aを介して、燃焼部23に排出され、第1吸着塔10Aは脱圧される。このように排出される残留ガスによって、第1吸着塔10Aの吸着剤に吸着していた不純物(二酸化炭素等)も、燃焼部23に排出され、その結果、第1吸着塔10Aが洗浄される。
このような第1吸着塔10Aの脱圧は、所定時間の間にて継続され、その後、第1脱圧弁14Aは閉じられる。
<First Depressurization Step-First Adsorption Tower: Decompression, Second Adsorption Tower: Holding>
In step S103, the
Specifically, the
Such depressurization of the first adsorption tower 10A is continued for a predetermined time, and then the
一方、第2脱圧弁14Bは閉じたままであるので、第2吸着塔10Bの圧力は、ステップS102の均圧後の圧力で保持される。よって、第1吸着塔10Aの脱圧後において、第2吸着塔10Bの圧力は、第1吸着塔10Aの圧力よりも高くなる。
On the other hand, since the
<第2均圧ステップ−第1、第2吸着塔:均圧>
ステップS104において、コントローラ30は、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bとを均圧するため、第1均圧弁13A及び第2均圧弁13Bを開く。そうすると、第2吸着塔10Bの残留ガスは、第2均圧弁13B、第1均圧弁13Aを通って、第1吸着塔10Aに供給される。これにより、第2吸着塔10Bの圧力は下がり、第1吸着塔10Aの圧力は上昇する。
第1均圧弁13A、第2均圧弁13Bは、第1吸着塔10Aのガスの圧力と、第2吸着塔10Bのガスの圧力とが、略同一となるまで開かれる。
<Second pressure equalization step-first and second adsorption towers: pressure equalization>
In step S104, the
The first
<第2脱圧ステップ−第1吸着塔:保持、第2吸着塔:脱圧>
ステップS105において、コントローラ30は、第1吸着塔10Aを均圧後の圧力で保持したまま、第2吸着塔10Bを脱圧する。
具体的には、コントローラ30は、第2脱圧弁14Bを開く。そうすると、ステップS104で第1吸着塔10Aに残留ガスを供給した第2吸着塔10B内の残留ガスは、第2脱圧弁14Bを介して、燃焼部23に排出され、第2吸着塔10Bは脱圧される。このように排出される残留ガスによって、第2吸着塔10Bの吸着剤に吸着していた不純物(二酸化炭素等)も、燃焼部23に排出され、その結果、第2吸着塔10Bが洗浄される。
このような第2吸着塔10Bの脱圧は、ステップS103における第1吸着塔10Aの脱圧と同様、所定時間の間にて継続され、その後、第2脱圧弁14Bは閉じられる。
<Second Depressurization Step-First Adsorption Tower: Holding, Second Adsorption Tower: Decompression>
In step S105, the
Specifically, the
Such depressurization of the second adsorption tower 10B is continued for a predetermined time similarly to the depressurization of the first adsorption tower 10A in step S103, and then the
一方、第1脱圧弁14Aは閉じたままであるので、第1吸着塔10Aの圧力は、ステップS104の均圧後の圧力で保持される。よって、第2吸着塔10Bの脱圧後において、第1吸着塔10Aの圧力は、第2吸着塔10Bの圧力よりも高くなる。
On the other hand, since the
ステップS106において、コントローラ30は、第1吸着塔10Aの圧力、及び、第2吸着塔10Bの圧力が、所定圧力P0(例えば、略大気圧)であるか否かを判定する。
第1吸着塔10Aの圧力、及び、第2吸着塔10Bの圧力が、所定圧力P0であると判定された場合(S106・Yes)、コントローラ30の処理はステップS107に進む。一方、第1吸着塔10Aの圧力、及び、第2吸着塔10Bの圧力が、所定圧力P0でないと判定された場合(S106・No)、コントローラ30の処理はステップS108に進む。
In step S106, the
When it is determined that the pressure in the first adsorption tower 10A and the pressure in the second adsorption tower 10B are the predetermined pressure P0 (Yes in S106), the process of the
ステップS107において、コントローラ30は、全ての弁(第1供給弁11A、第2供給弁11B、第1排出弁12A、第2排出弁12B、第1均圧弁13A、第2均圧弁13B、第1脱圧弁14A、第2脱圧弁14B)を閉じる。
その後、コントローラ30の処理は、エンドに進み、水素製造装置1の停止方法を終了する。
In step S107, the
Thereafter, the process of the
ステップS108において、コントローラ30は、ステップS102〜S105に係る一連の処理を所定回数(例えば2〜5回)以上にて、繰り返した否かを判定する。所定回数は、第1吸着塔10A、第2吸着塔10Bの大きさ、ガスの種類等に関係し、事前試験等により求められる。
所定回数以上繰り返したと判定した場合(S108・Yes)、コントローラ30の処理は、ステップS107に進む。一方、所定回数以上繰り返してないと判定した場合(S108・No)、コントローラ30の処理はステップS102に進む。
In step S108, the
If it is determined that the process has been repeated a predetermined number of times (Yes at S108), the process of the
≪水素製造装置の停止方法による効果≫
このような水素製造装置1の停止方法によれば、次の効果を得ることができる。
スイッチ31からコントローラ30にOFF信号(停止信号)が入力された際、吸着中の第1吸着塔10Aの高圧のガスを利用して、第1吸着塔10Aの不純物と、第2吸着塔10Bの不純物とを交互に除去することができる。これにより、次回起動時において、製造される水素中に含まれる不純物の濃度を、大きく低減できる(図5参照)。よって、次回起動時において、不純物を多量に含む水素を処理する必要もなく、次回起動後、早期に定常状態に移行することができる。
≪Effects of hydrogen production equipment shutdown method≫
According to such a method for stopping the hydrogen production apparatus 1, the following effects can be obtained.
When an OFF signal (stop signal) is input from the
また、OFF信号の入力後、脱圧することにより、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bで、未だ拡散していない不純物を容易に除去できる。これに対し、不純物を第1吸着塔10A及び第2吸着塔10B内に残したまま、長時間放置すると、不純物が第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bに拡散するので、除去しにくくなる。 Further, by releasing the pressure after inputting the OFF signal, impurities that have not yet diffused can be easily removed in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B. On the other hand, if the impurities are left in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B for a long time, the impurities diffuse into the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B, and thus are difficult to remove. .
さらに、OFF信号が発生された時において、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bに残留するガスは、通常、この後高純度の水素として利用されないが、第1実施形態のように、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bに残留するガスを利用して、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bの不純物を除去することができる。 Furthermore, when the OFF signal is generated, the gas remaining in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B is not normally used as high-purity hydrogen thereafter, but as in the first embodiment, Impurities in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B can be removed using the gas remaining in the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B.
さらにまた、ステップS102〜ステップS105に係る一連の処理は、所定回数にて繰り返すので(S108・No)、一回の脱圧では除去されなかった不純物も、確実に除去し、第1吸着塔10A、第2吸着塔10Bを好適に洗浄できる。
また、第1吸着塔10A、第2吸着塔10Bの圧力が、終了判定基準となる所定圧力P0となり(S106・Yes)、第1吸着塔10Aと第2吸着塔10Bとの間でガスが流れないと判断された場合、脱圧及び均圧を終了するので、OFF信号の後、脱圧及び均圧が無駄に継続することを防止できる。
Furthermore, since a series of processes according to step S102 to step S105 is repeated a predetermined number of times (No in S108), impurities that have not been removed by one depressurization are also reliably removed, and the first adsorption tower 10A. The second adsorption tower 10B can be suitably washed.
Further, the pressures of the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B become a predetermined pressure P0 that is an end determination criterion (S106 / Yes), and the gas flows between the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B. If it is determined that there is not, the depressurization and pressure equalization are terminated, so that it is possible to prevent the depressurization and pressure equalization from continuing unnecessarily after the OFF signal.
≪第2実施形態≫
次に、本発明の第2実施形態について、図6、図7を参照して説明する。なお、第1実施形態と異なる部分のみを説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Only parts different from the first embodiment will be described.
第2実施形態では、図6に示すように、第1実施形態に係るステップS103(図3参照)に代えてステップS203を、ステップS105(図3参照)に代えてステップS205を、備えている。 As shown in FIG. 6, the second embodiment includes step S203 instead of step S103 (see FIG. 3) according to the first embodiment, and step S205 instead of step S105 (see FIG. 3). .
ステップS203において、コントローラ30は、ステップS103と同様に、第1吸着塔10Aを脱圧するため、第1脱圧弁14Aを開くと共に、第2排出弁12B及び第1均圧弁13Aを開く(図7参照)。
そうすると、第2吸着塔10Bのガスが、第2排出弁12B、逆止弁16、オリフィス17、第1均圧弁13Aを介して、第1吸着塔10Aの上部に供給される。第2吸着塔10Bから第1吸着塔10Aに向かうガスは、逆止弁16により逆流防止されると共に、オリフィス17により第2吸着塔10Bの圧力が大きく低下しない程度の小流量に設定される。ただし、オリフィス17に代えて、例えば、絞り弁等を使用してもよい。
In step S203, similarly to step S103, the
Then, the gas in the second adsorption tower 10B is supplied to the upper part of the first adsorption tower 10A via the
このように、第2吸着塔10Bのガスが、小流量で第1吸着塔10Aの上部に供給されると、このように供給されるガスが、第1吸着塔10Aの不純物を外部に押し出し(パージ)、不純物を除去することができる。
このとき、第2供給弁11Bを開いて、コンプレッサ21と第2供給弁11Bとの間に残留するガスの圧力を利用するようにしてもよい。
そして、所定時間経過後、コントローラ30は、第2排出弁12B、第1均圧弁13A、及び、第1脱圧弁14Aを閉じる。
Thus, when the gas of the second adsorption tower 10B is supplied to the upper part of the first adsorption tower 10A at a small flow rate, the gas supplied in this way pushes impurities of the first adsorption tower 10A to the outside ( Purge), impurities can be removed.
At this time, the
Then, after a predetermined time has elapsed, the
ステップS205において、コントローラ30は、ステップS105と同様に、第2吸着塔10Bを脱圧するため、第2脱圧弁14Bを開くと共に、第1排出弁12A及び第2均圧弁13Bを開く(図7参照)。
そうすると、第1吸着塔10Aのガスが、第1排出弁12A、逆止弁16、オリフィス17、第2均圧弁13Bを介して、第2吸着塔10Bの上部に供給される。第1吸着塔10Aから第2吸着塔10Bに向かうガスは、逆止弁16により逆流防止されると共に、オリフィス17により第2吸着塔10Bの圧力が大きく低下しない程度の小流量に設定される。
In step S205, similarly to step S105, the
Then, the gas in the first adsorption tower 10A is supplied to the upper part of the second adsorption tower 10B via the
このように、第1吸着塔10Aのガスが、小流量で第2吸着塔10Bの上部に供給されると、このように供給されるガスが、第2吸着塔10Bの不純物を外部に押し出し(パージ)、不純物を除去することができる。
このとき、第1供給弁11Aを開いて、コンプレッサ21と第1供給弁11Aとの間に残留するガスの圧力を利用するようにしてもよい。
そして、所定時間経過後、コントローラ30は、第1排出弁12A、第2均圧弁13B、及び、第2脱圧弁14Bを閉じる。
Thus, when the gas of the first adsorption tower 10A is supplied to the upper part of the second adsorption tower 10B at a small flow rate, the gas supplied in this way pushes impurities of the second adsorption tower 10B to the outside ( Purge), impurities can be removed.
At this time, the
Then, after a predetermined time has elapsed, the
このように第2実施形態では、脱圧していない第1吸着塔10A又は第2吸着塔10Bのガスを、脱圧している第2吸着塔10B又は第1吸着塔10Aに、小流量で供給し、この小流量で供給されるガスによって、第2吸着塔10B又は第1吸着塔10Aの不純物を押し出し、除去することができる。 As described above, in the second embodiment, the gas from the first adsorption tower 10A or the second adsorption tower 10B that has not been depressurized is supplied to the second adsorption tower 10B or the first adsorption tower 10A that has been depressurized at a small flow rate. The impurities supplied from the second adsorption tower 10B or the first adsorption tower 10A can be pushed out and removed by the gas supplied at this small flow rate.
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、例えば次のように変更することができ、また、次の構成を適宜組合させてもよい。 Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified, for example, as follows without departing from the spirit of the present invention. May be combined as appropriate.
前記した実施形態では、吸着塔が2つである場合を例示したが、吸着塔の数はこれに限定されず、3つ以上でもよい。
すなわち、例えば、第1吸着塔10A、第2吸着塔10Bに加えて、第3吸着塔を備える水素製造装置において、第1吸着塔10Aで不純物を吸着して水素を精製し、第2吸着塔10B及び第3吸着塔を脱圧している場合において、OFF信号が入力されたとき、第1吸着塔10Aの残留ガスを、第2吸着塔10B及び第3吸着塔に供給し、第1〜第3吸着塔の圧力を均圧した後(第1均圧ステップ)、第1吸着塔10Aを脱圧する(第1脱圧ステップ)。その後、第2吸着塔10B及び第3吸着塔の残留ガスを第1吸着塔10Aに供給し、第1〜第3吸着塔の圧力を均圧した後(第2均圧ステップ)、第2吸着塔10B及び第3吸着塔を脱圧する方法でもよい(第2脱圧ステップ)。
In the above-described embodiment, the case where there are two adsorption towers is illustrated, but the number of adsorption towers is not limited to this and may be three or more.
That is, for example, in a hydrogen production apparatus including a third adsorption tower in addition to the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B, impurities are adsorbed by the first adsorption tower 10A to purify hydrogen, and the second adsorption tower When the 10B and the third adsorption tower are depressurized, when an OFF signal is input, the residual gas of the first adsorption tower 10A is supplied to the second adsorption tower 10B and the third adsorption tower, After equalizing the pressure in the three adsorption towers (first pressure equalizing step), the first adsorption tower 10A is depressurized (first depressurizing step). Then, after supplying the residual gas of the second adsorption tower 10B and the third adsorption tower to the first adsorption tower 10A and equalizing the pressure of the first to third adsorption towers (second pressure equalization step), the second adsorption A method of depressurizing the tower 10B and the third adsorption tower may be used (second depressurization step).
また、第1吸着塔10Aを脱圧した後(第1脱圧ステップ)、第3吸着塔の残留ガスはそのまま保持しながら、第2吸着塔10Bから第1吸着塔10Aに残留ガスを供給し、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bを均圧とした後(第2均圧ステップ)、第2吸着塔10Bを脱圧する方法でもよい(第2脱圧ステップ)。そして、このように第2吸着塔10Bを脱圧するとき、第3吸着塔も脱圧してもよい。
同様に、第1吸着塔10Aを脱圧した後(第1脱圧ステップ)、第2吸着塔10Bの残留ガスはそのまま維持しながら、第3吸着塔から第1吸着塔10Aに残留ガスを供給し、第1吸着塔10A及び第3吸着塔を均圧とした後(第2均圧ステップ)、第3吸着塔を脱圧する方法でもよい(第2脱圧ステップ)。そして、このように第3吸着塔を脱圧するとき、第2吸着塔10Bも脱圧してもよい。
Further, after depressurizing the first adsorption tower 10A (first depressurization step), the residual gas is supplied from the second adsorption tower 10B to the first adsorption tower 10A while maintaining the residual gas in the third adsorption tower as it is. Alternatively, after the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B are equalized (second equalization step), the second adsorption tower 10B may be depressurized (second depressurization step). And when depressurizing the 2nd adsorption tower 10B in this way, you may depressurize the 3rd adsorption tower.
Similarly, after depressurizing the first adsorption tower 10A (first depressurization step), the residual gas is supplied from the third adsorption tower to the first adsorption tower 10A while maintaining the residual gas in the second adsorption tower 10B. Alternatively, after the first adsorption tower 10A and the third adsorption tower are equalized (second equalization step), the third adsorption tower may be depressurized (second depressurization step). And when depressurizing the third adsorption tower in this way, the second adsorption tower 10B may also be depressurized.
その他、第1吸着塔10A、第2吸着塔10B、及び、第3吸着塔を備え、各吸着塔が、不純物の吸着(水素の精製)、脱圧(吸着した不純物の排出)、待機を繰り返す水素製造装置であって、第1吸着塔10Aで不純物を吸着して水素を精製し、第2吸着塔10Bで脱圧し、第3吸着塔が待機している場合において、OFF信号が入力されたとき、第1吸着塔10Aの残留ガスを第2吸着塔10Bのみに供給し、第1吸着塔10A及び第2吸着塔10Bを均圧とした後(第1均圧ステップ)、第1吸着塔10Aを脱圧し(第1脱圧ステップ)、その後、第2吸着塔10Bから第3吸着塔に残留ガスを供給し、第2吸着塔10B及び第3吸着塔を均圧とした後(第2均圧ステップ)、第2吸着塔10Bを脱圧する(第2脱圧ステップ)。その後、第3吸着塔から第1吸着塔10Aに残留ガスを供給し、第1吸着塔10A及び第3吸着塔を均圧とした後(第3均圧ステップ)、第3吸着塔を脱圧する方法でもよい(第3脱圧ステップ)。
すなわち、1つの吸着塔の残留ガスを、他の吸着塔の全てではなく、他の吸着塔の一部に供給し、均圧した後、脱圧するという方法、つまり、均圧ステップと脱圧ステップとが、順に繰り返される方法でもよい。
In addition, the first adsorption tower 10A, the second adsorption tower 10B, and the third adsorption tower are provided, and each adsorption tower repeats adsorption of impurities (purification of hydrogen), depressurization (discharge of adsorbed impurities), and standby. In the hydrogen production apparatus, when the first adsorption tower 10A adsorbs impurities to purify hydrogen, the second adsorption tower 10B depressurizes, and the third adsorption tower is waiting, an OFF signal is input. When the residual gas of the first adsorption tower 10A is supplied only to the second adsorption tower 10B and the first adsorption tower 10A and the second adsorption tower 10B are equalized (first pressure equalization step), the first adsorption tower 10A is depressurized (first depressurization step), and then the residual gas is supplied from the second adsorption tower 10B to the third adsorption tower to equalize the pressure in the second adsorption tower 10B and the third adsorption tower (second Pressure equalization step), the second adsorption tower 10B is depressurized (second depressurization step). Thereafter, residual gas is supplied from the third adsorption tower to the first adsorption tower 10A to equalize the pressure in the first adsorption tower 10A and the third adsorption tower (third pressure equalization step), and then the third adsorption tower is depressurized. A method may be used (third decompression step).
That is, a method in which the residual gas of one adsorption tower is supplied to a part of the other adsorption tower, not all of the other adsorption towers, and the pressure is equalized and then depressurized, that is, the pressure equalizing step and the depressurizing step. Or may be repeated in order.
前記した実施形態では、OFF信号が入力された際、第1吸着塔10Aの圧力が第2吸着塔10Bの圧力よりも高い場合を例示したが、OFF信号が入力された際、第1吸着塔10Aで脱圧、第2吸着塔10Bで吸着が実行されており、第2吸着塔10Bの圧力が、第1吸着塔10Aの圧力よりも高い場合(第1吸着塔10Aの圧力が低い場合)、ステップS102〜S105におけるガスの流れは逆となる。
すなわち、ステップS102で第2吸着塔10Bの残留ガスを第1吸着塔10Aに供給し、均圧とした後、ステップS103で第2脱圧弁14Bを開き、第2吸着塔10Bを脱圧する。そして、ステップS104で、第1吸着塔10Aの残留ガスを第2吸着塔10Bに供給し、均圧とした後、ステップS105で、第1脱圧弁14Aを開き、第1吸着塔10Aを脱圧する。
In the above-described embodiment, the case where the pressure of the first adsorption tower 10A is higher than the pressure of the second adsorption tower 10B when the OFF signal is input is illustrated. However, when the OFF signal is input, the first adsorption tower Decompression is performed at 10A, and adsorption is performed at the second adsorption tower 10B, and the pressure of the second adsorption tower 10B is higher than the pressure of the first adsorption tower 10A (when the pressure of the first adsorption tower 10A is low). The gas flow in steps S102 to S105 is reversed.
That is, in step S102, the residual gas in the second adsorption tower 10B is supplied to the first adsorption tower 10A to equalize the pressure, and then in step S103, the
前記した実施形態では、製造されるガスが水素である場合を例示したが、ガスは窒素、二酸化炭素等であってもよい。この場合、ガスの種類に応じて、吸着塔に装填される吸着剤の種類、吸着塔におけるガスの流通方向を、適宜に変更する。 In the above-described embodiment, the case where the produced gas is hydrogen is exemplified, but the gas may be nitrogen, carbon dioxide, or the like. In this case, the type of adsorbent loaded in the adsorption tower and the gas flow direction in the adsorption tower are appropriately changed according to the type of gas.
1 水素製造装置(ガス製造装置)
10A 第1吸着塔
10B 第2吸着塔
11A 第1供給弁
11B 第2供給弁
12A 第1排出弁
12B 第2排出弁
13A 第1均圧弁
13B 第2均圧弁
14A 第1脱圧弁
14B 第2脱圧弁
30 コントローラ
1 Hydrogen production equipment (gas production equipment)
10A 1st adsorption tower 10B
Claims (5)
停止信号が入力された後、少なくとも1つの吸着塔の残留ガスを、他の吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とする第1均圧ステップと、
前記第1均圧ステップにおいて残留ガスを供給した吸着塔を脱圧する第1脱圧ステップと、
前記第1脱圧ステップの後、脱圧していない吸着塔の残留ガスを、脱圧した吸着塔に供給し、吸着塔間の圧力を略同一とする第2均圧ステップと、
前記第2均圧ステップにおいて残留ガスを供給した吸着塔を脱圧する第2脱圧ステップと、
を含むことを特徴とするガス製造装置の停止方法。 A method for stopping a gas production apparatus comprising two or more adsorption towers and producing gas by a PSA mechanism,
After the stop signal is input, a first pressure equalizing step of supplying the residual gas of at least one adsorption tower to the other adsorption towers so that the pressure between the adsorption towers is substantially the same;
A first depressurizing step for depressurizing the adsorption tower supplied with the residual gas in the first pressure equalizing step;
After the first depressurization step, a residual pressure in the adsorption tower that has not been depressurized is supplied to the depressurized adsorption tower, and a second pressure equalizing step in which the pressure between the adsorption towers is substantially the same;
A second depressurizing step for depressurizing the adsorption tower supplied with the residual gas in the second pressure equalizing step;
A method for stopping a gas manufacturing apparatus comprising:
前記第1均圧ステップにおいて、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔とを接続する均圧弁を開き、前記第1吸着塔の残留ガスを、前記第2吸着塔に供給し、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔との圧力を略同一とし、
前記第1脱圧ステップにおいて、前記均圧弁を閉じた後、前記第1吸着塔の脱圧弁を開き、当該第1吸着塔を脱圧し、
前記第2均圧ステップにおいて、前記第1吸着塔の脱圧弁を閉じた後、前記均圧弁を開き、前記第2吸着塔の残留ガスを、前記第1吸着塔に供給し、前記第1吸着塔と前記第2吸着塔との圧力を略同一とし、
前記第2脱圧ステップにおいて、前記均圧弁を閉じた後、前記第2吸着塔の脱圧弁を開き、当該第2吸着塔を脱圧する
ことを特徴とする請求項1に記載のガス製造装置の停止方法。 The two or more adsorption towers include a first adsorption tower and a second adsorption tower,
In the first pressure equalizing step, a pressure equalizing valve that connects the first adsorption tower and the second adsorption tower is opened, the residual gas of the first adsorption tower is supplied to the second adsorption tower, and the first The pressure in the adsorption tower and the second adsorption tower are substantially the same ,
In the first depressurization step, after closing the equalizing valve, to open the removal valve of the first adsorption tower, and depressurization of the first adsorption tower,
In the second pressure equalizing step, after closing the depressure valve of the first adsorption tower , the pressure equalizing valve is opened, and the residual gas of the second adsorption tower is supplied to the first adsorption tower, and the first adsorption The pressure of the tower and the second adsorption tower is substantially the same ,
In the second depressurization step, the after closing the equalizing valve, the second opening of de valve of the adsorption tower, the gas producing apparatus according to claim 1, characterized in that that push de the second adsorption tower How to stop.
ことを特徴とする請求項2に記載のガス製造装置の停止方法。 The method for stopping a gas production apparatus according to claim 2 , wherein when the stop signal is input, the pressure of the first adsorption tower is higher than the pressure of the second adsorption tower.
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のガス製造装置の停止方法。 In step pressure the adsorption tower de, wherein the portion of the residual gas in the adsorption tower which is not depressurized, to any one of claims 1 to 3, wherein the supply to the adsorption tower is depressurized Method for stopping gas production equipment.
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のガス製造装置の停止方法。 The method for stopping a gas production apparatus according to any one of claims 1 to 4 , wherein pressure equalization and depressurization are repeated in each adsorption tower until the pressure in each adsorption tower reaches a predetermined pressure. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007334430A JP4669506B2 (en) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | How to stop gas production equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007334430A JP4669506B2 (en) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | How to stop gas production equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009154079A JP2009154079A (en) | 2009-07-16 |
JP4669506B2 true JP4669506B2 (en) | 2011-04-13 |
Family
ID=40958679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007334430A Expired - Fee Related JP4669506B2 (en) | 2007-12-26 | 2007-12-26 | How to stop gas production equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4669506B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220193600A1 (en) * | 2019-03-28 | 2022-06-23 | Eneos Corporation | Hydrogen gas supply apparatus and hydrogen gas supply method |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5462763B2 (en) * | 2010-10-20 | 2014-04-02 | 株式会社神戸製鋼所 | Operation method of PSA equipment for high purity hydrogen gas production |
JP6571588B2 (en) * | 2016-05-20 | 2019-09-04 | 株式会社神戸製鋼所 | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production apparatus |
JP6646526B2 (en) * | 2016-06-10 | 2020-02-14 | 株式会社神戸製鋼所 | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production device |
JP6667382B2 (en) * | 2016-06-20 | 2020-03-18 | 株式会社神戸製鋼所 | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production device |
US12233377B2 (en) | 2019-03-27 | 2025-02-25 | Eneos Corporation | Hydrogen gas supply apparatus and hydrogen gas supply method |
JP7112446B2 (en) * | 2020-03-30 | 2022-08-03 | 大陽日酸株式会社 | How to operate a gas purifier |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS598605A (en) * | 1982-07-07 | 1984-01-17 | Osaka Oxgen Ind Ltd | Concentration of nitrogen |
JPH03207420A (en) * | 1990-01-10 | 1991-09-10 | Kuraray Chem Corp | Separation of gaseous nitrogen |
JP2005220283A (en) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Honda Motor Co Ltd | Method for stopping fuel gas production apparatus |
JP2005312766A (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Oxygen enricher |
-
2007
- 2007-12-26 JP JP2007334430A patent/JP4669506B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS598605A (en) * | 1982-07-07 | 1984-01-17 | Osaka Oxgen Ind Ltd | Concentration of nitrogen |
JPH03207420A (en) * | 1990-01-10 | 1991-09-10 | Kuraray Chem Corp | Separation of gaseous nitrogen |
JP2005220283A (en) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Honda Motor Co Ltd | Method for stopping fuel gas production apparatus |
JP2005312766A (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Oxygen enricher |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20220193600A1 (en) * | 2019-03-28 | 2022-06-23 | Eneos Corporation | Hydrogen gas supply apparatus and hydrogen gas supply method |
EP3951242A4 (en) * | 2019-03-28 | 2022-12-28 | ENEOS Corporation | DEVICE AND METHOD FOR SUPPLYING HYDROGEN GAS |
AU2020244894B2 (en) * | 2019-03-28 | 2023-10-26 | Eneos Corporation | Hydrogen gas supply device and hydrogen gas supply method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009154079A (en) | 2009-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4669506B2 (en) | How to stop gas production equipment | |
JP4816590B2 (en) | Method for shutting down oxygen concentrator and oxygen concentrator | |
EP2938423B1 (en) | Method and device for separating a gas mixture by means of pressure swing adsorption | |
JP2009179487A (en) | Hydrogen production system | |
JP2008523981A (en) | Temperature based breakthrough detection and pressure swing adsorption system and fuel cell with same | |
CN100463261C (en) | Fuel cell system and method of operation thereof | |
TWI569864B (en) | Purifying method and purifying apparatus for argon gas | |
JP2005272598A (en) | Fuel gas production system and method for starting-up the same | |
JP6667382B2 (en) | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production device | |
JP3947742B2 (en) | Abnormal stopping method for fuel gas production equipment | |
JP2007209868A (en) | Stable operation method of pressure swing adsorption device | |
JP6068148B2 (en) | Method for starting hydrogen production apparatus and hydrogen production apparatus | |
JP6640660B2 (en) | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production device | |
JP6987099B2 (en) | Gas purification equipment and its control method, and hydrogen production equipment | |
JP6937087B2 (en) | Gas purification equipment and its control method, and hydrogen production equipment | |
JP4798076B2 (en) | Oxygen concentrator | |
JP4041085B2 (en) | Fuel gas production system and method for stopping the same | |
JP3867082B2 (en) | Method for stopping household fuel gas production equipment | |
JP2002355519A (en) | Stable operation method of four-column pressure swing adsorption device for hydrogen purification | |
JP6646526B2 (en) | Hydrogen gas production method and hydrogen gas production device | |
JP4139338B2 (en) | Fuel gas production equipment | |
JP6987098B2 (en) | Gas purification equipment and its control method, and hydrogen production equipment | |
JP4357979B2 (en) | Starting method of fuel gas production apparatus | |
JP2005293959A (en) | Hydrogen gas manufacturing power generation system and its operation method | |
JPH0938443A (en) | Gas separation device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101019 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110114 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140121 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |