JP4661808B2 - Component mounting apparatus and board conveying method - Google Patents
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Description
本発明は、液晶ディスプレイ用やプラズマディスプレイ用のガラス基板などの基板に対し、ICチップや各種半導体デバイスやフレキシブルプリント基板などの部品を実装するための部品実装装置及びそのような基板を搬送する基板搬送方法に関するものである。 The present invention relates to a component mounting apparatus for mounting components such as an IC chip, various semiconductor devices, and a flexible printed board on a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display or a plasma display, and a substrate for carrying such a substrate. It relates to a transport method.
従来、図6に示すように、ディスプレイ用のガラス基板などの基板1の側端部に部品2を実装する際には、図7(a)、(b)に示すような実装ライン3に基板1を供給することで実装が行われている。実装ライン3は、異方性導電膜(以下、ACFと記す)貼付装置4と仮圧着装置5と本圧着装置6、7を備えており、ACF貼付装置4で、基板1の部品2を実装する側端部上にACFを貼り付けるACF貼付工程を行い、仮圧着装置5で、基板1の側端部上に部品2を供給して仮圧着する仮圧着工程を行い、本圧着装置6、7で、基板1の長辺側と短辺側の各々の側端部に仮圧着されている部品2に圧力と熱を印加して部品2を基板1の側端部に本圧着する本圧着工程を行うことで、基板1に部品2を実装するように構成されている。
Conventionally, as shown in FIG. 6, when a
具体構成例を、図8と図7(b)を参照して説明する。ACF貼付装置4は、基板搬入位置に搬入された基板1を受け取ってACF貼付装置4の適当な位置に設定された基板受渡位置に搬送する基板搬送装置11と、基板受渡位置で基板1を受け取って基板の側端部にACFを貼り付ける作業を行う実装作業装置12aにて構成されている。基板搬送装置11は、基板1を一対の基板載置部15にて両持支持し、吸着手段(図示せず)にて吸着保持して搬送するように構成されている。実装作業装置12aは、基板1の側端部上にACFを供給して貼り付ける動作を行う実装動作装置13aと、基板受渡位置で基板載置部15から基板1を受け取り、基板1の側端部が実装動作装置13aのヘッド部18の直下に配設されたバックアップ部19上に位置する作業位置に基板1を移送して位置決めする移載装置14とを備えている。
A specific configuration example will be described with reference to FIGS. 8 and 7B. The
移載装置14は、基板1の略中央部を下から支持するとともに吸着手段(図示せず)にて吸着する基板保持部16(図9参照)と、基板保持部16を一対の基板載置部15、15間を下側から上側に移動して基板1を基板保持部16上に受け取った後基板1の側端部がバックアップ部19上に位置する作業位置に移送して位置決めする移送手段17にて構成されている。移送手段17は、基板搬送装置11の搬送方向に沿うX方向の移送位置決めを行うX軸テーブルと、X方向と直交し、実装動作装置13aのバックアップ部19に対して遠近方向であるY方向の移送位置決めを行うY軸テーブルと、昇降動作と上下方向の位置決めを行うZ軸テーブルと、基板保持部16の中心を通る垂直軸回りの回転動作と位置決めを行うθ軸テーブルとを備え、基板保持部16上の基板1を、X軸、Y軸、Z軸方向、並びにθ軸回りに任意に移動及び位置決めできるように構成されている。
The
実装動作装置13aでACFを貼り付けられた基板1は、移載装置14にてACF貼付装置4の基板受渡位置に戻され、ACF貼付装置4と仮圧着装置5の間で基板1を搬送するように配設された基板搬送装置11にて次の仮圧着装置5の基板受渡位置に搬送される。
The
仮圧着装置5は、基板1の側端部の所定箇所にそれぞれ部品2を供給して仮圧着する実装動作装置13bと移載装置14からなる実装作業装置12bを備えており、移載装置14にて基板受渡位置から実装動作装置13bに基板1が移載されて部品2が仮圧着され、部品2が仮圧着された基板1が基板受渡位置に戻される。続いて、部品2を仮圧着された基板1は、仮圧着装置5と本圧着装置6の間で基板1を搬送するように配設された基板搬送装置11にて次の本圧着装置6の基板受渡位置に搬送される。
The
本圧着装置6は、基板1の長辺側に仮圧着された部品2を本圧着する実装動作装置13cと移載装置14からなる実装作業装置12cを備えており、移載装置14にて基板受渡位置から実装動作装置13cに基板1が移載されて長辺側の部品2が本圧着され、長辺側の部品2が本圧着された基板1が基板受渡位置に戻される。続いて、長辺側の部品2が本圧着された基板1は、本圧着装置6、7の間で基板1を搬送するように配設された基板搬送装置11にて次の本圧着装置7の基板受渡位置に搬送される。
The
本圧着装置7は、基板1の短辺側に仮圧着された部品2を本圧着する実装動作装置13dと移載装置14からなる実装作業装置12dを備えており、移載装置14にて基板受渡位置から実装動作装置13dに基板1が移載されて短辺側の部品2が本圧着され、短辺側の部品2が本圧着された基板1が基板受渡位置に戻される。続いて、短辺側の部品2が本圧着された基板1は、本圧着装置7と実装ライン3の搬出位置の間で基板1を搬送するように配設された基板搬送装置11にて搬出位置に搬送され、その搬出位置から適宜搬送装置にて次工程に搬送される。
The
なお、本発明の主たる対象は、実装作業装置12a〜12dやその実装動作装置13a〜13dにおける作業内容に係るものでなく、基板搬送装置11と実装作業装置12a〜12dの移載装置14との間での基板1の受け渡し動作に係るものであるため、以下の説明においては実装作業装置12a〜12dは実装作業装置12、実装動作装置13a〜13dは実装動作装置13、ACF貼付装置4と仮圧着装置5及び本圧着装置6、7は部品実装装置10として総称する。
The main object of the present invention is not related to the work contents of the
ところで、従来の基板載置部15と基板保持部16との間での基板1の受け渡し動作は、図9に示すように行われていた。なお、基板載置部15の吸着手段(図示せず)は吸着検出手段15aと大気開放弁15bを介して真空ポンプ20に接続され、基板保持部16の吸着手段(図示せず)も吸着検出手段16aと大気開放弁16bを介して真空ポンプ20に接続されている。また、吸着検出手段15a、16aは、吸着手段(図示せず)に連通する真空経路の真空圧を検出し、予め設定された所定の真空圧に到達していない場合に、適正に吸着されていず、所定の真空圧以上に到達すると適正に吸着されていると判定するものである。
By the way, the transfer operation | movement of the board |
図9において、まず、工程(a)で、基板1が基板載置部15にて吸着保持されて基板受渡位置に位置決めされ、基板保持部16が基板載置部15、15の間の下側に位置している状態から、基板保持部16が上昇を開始する。次に、工程(b)で、基板保持部16を基板受渡位置で停止させ、その状態で基板保持部16による吸着を開始し、その吸着圧が所定圧になったことを吸着検出手段16aで検知した後、次に大気開放弁15bを開いて基板載置部15、15の吸着を開放し、その後吸着検出手段15aにて基板載置部15、15の吸着圧が大気圧又はその近傍まで減圧され、吸着が完全に開放されたことを確認する。こうして基板1の受け渡しが完了した後、次に、工程(c)で、基板保持部16が所定の移送高さまで上昇し、実装動作装置13に向けて移送する。なお、吸着開放時には、大気圧以上(大気圧+α)の高圧空気を真空経路にブローし、基板1を基板載置部15から離間させて、短時間で真空経路を大気圧とすることもできる。
In FIG. 9, first, in step (a), the
上記従来の基板載置部15と基板保持部16の間の受け渡し動作では、基板受渡位置で基板保持部16を停止させた状態で、基板保持部16での吸着を開始し、その吸着を確認した後、基板載置部15での吸着を開放し、その吸着開放を確認した後、基板保持部16を移動させるようにしているので、基板の受け渡し動作に時間がかかり、基板の移載時間を短縮して実装作業効率を向上することができないという問題があった。また、近年は基板1は大型化および/あるいは重量軽減のために薄型化が進展しているため、基板1を基板保持部16と基板載置部15の両方で同時に吸着している状態が発生すると、基板1に歪みが発生し、それが残留歪みとして残り、表示パネルの基板の場合表示むらの原因となるという問題もあった。
In the transfer operation between the conventional
そこで、本出願人は先に、図10に示すような基板1の移載動作を提案している。図10において、工程(a)で、基板1が基板載置部15にて吸着保持されて基板受渡位置に位置決めされ、基板保持部16が基板載置部15、15の間の下側に位置している状態から、基板保持部16の上昇を開始するとともに、大気開放弁15bを開き、吸着を大気開放するか、低真空にして基板載置部15、15での吸着を開放する。次に、工程(b)で、基板保持部16を基板受渡位置で停止することなく、好適には減速してそのまま上昇動作させて基板1を受け取るとともに.その基板1の受取時又はその前後の動作中に基板保持部16にて基板1を吸着し、基板保持部16を移送位置まで上昇させ、移送位置で吸着検出手段16aにて基板1の吸着を確認した後移送動作に移行する。この移載動作によれば、基板1の移送時間を短縮して実装作業効率を向上し、また基板1を基板保持部16と基板載置部15の両方で同時に吸着している状態を無くし、歪みの発生を無くすことができる(特願2006−320393号参照)。
Therefore, the present applicant has previously proposed the transfer operation of the
ところで、基板1は、図11に示すように、(a)の如く精度良く平面状態を維持しているものばかりでなく、(b)の如く上向きにドーム状に反っているものや、(c)、(d)の如く何れかの1軸方向に上向きに山状に反っているものなど、上反りしたものが存在することは避けられないのが現実である。
By the way, as shown in FIG. 11, the
図11の(b)〜(d)に示したような基板1を基板載置部15と基板保持部16との間で、図9に示したように受け渡し動作を行った場合、図12に示すように、工程(a)で、基板保持部16が基板載置部15、15の間の下側に位置している状態から、基板保持部16が上昇を開始し、次に、工程(b)で、基板保持部16を基板受渡位置で停止させ、その状態で基板保持部16にて基板1の吸着を行ったときに、基板1が上反りしていることでその吸着圧が不十分にしか得られずに吸着不良を発生する場合があり、そのまま基板載置部15、15の吸着を停止し、次に、工程(c)で、基板保持部16を所定の移送高さまで上昇させ、その後移送動作に移行したときに、基板保持部16上で基板1が位置ずれして移送不良が発生するという問題がある。
When the transfer operation as shown in FIG. 9 is performed between the
このような問題に対して、基板搬送装置の基板載置アーム(基板載置部に相当)から基板ステージ(基板保持部に相当)に基板を受け渡す際に、基板の受け渡しを行う基板受渡位置に基板ステージを位置決めした後、基板ステージによる基板の吸着保持を開始し、その後吸着保持の保持力を検出し、保持力が予め定められた閾値未満であれば、反り矯正装置により基板を基板ステージに押圧することで基板の反りを矯正して基板を基板ステージにて確実に吸着保持して移送するようにしたものは知られている(例えば、特許文献1参照)。 For such problems, the substrate delivery position for delivering the substrate when delivering the substrate from the substrate placement arm (corresponding to the substrate placement unit) of the substrate transport apparatus to the substrate stage (corresponding to the substrate holding unit) After the substrate stage is positioned, the suction holding of the substrate by the substrate stage is started, and then the holding force of the suction holding is detected. If the holding force is less than a predetermined threshold, the substrate is placed on the substrate stage by the warp correction device. It is known that the substrate is corrected by correcting the warpage of the substrate by pressing the substrate to ensure that the substrate is attracted and held on the substrate stage (for example, see Patent Document 1).
また、上向きの反りを有する基板を矯正するため、基板を吸引パッドで吸引し、吸引パッドで吸引したまま基板に支持ピンを当接させて基板を位置決めし、その後吸引パッドを基板の反りのない位置まで移動させることで基板の反りを矯正して保持するようにしたものも知られている(例えば、特許文献2参照)。
そこで、図9や図12に示した受け渡し動作に、上記特許文献1や特許文献2に記載されているように反り矯正手段を適用することが考えられる。すなわち、図13に示すように、まず、工程(a)で基板載置部15にて基板1が吸着保持されて基板受渡位置に位置決めされ、基板保持部16が基板載置部15、15の間の下側に位置している状態から、基板保持部16の上昇を開始する。次に、工程(b)で、基板保持部16を基板受渡位置で停止させ、その状態で基板保持部16による吸着を開始し、その吸着圧を吸着検出手段16aで検知する。ここで、基板1に上反りがあって、吸着圧が所定圧にならなかった時には、工程(c)で、反り矯正手段21を動作させ、基板保持部16に基板1を押し付け、基板1を確実に吸着保持し、その後大気開放弁15bを開いて基板載置部15、15の吸着を開放する。次に、工程(d)で、基板保持部16が所定の移送高さまで上昇して移送動作に移行することによって、移送時の1の位置ずれの発生の恐れを無くすことができると考えられる。
Therefore, it is conceivable to apply a warp correction means to the delivery operation shown in FIGS. 9 and 12 as described in
しかしながら、図13の構成では、基板1が、例えば42〜50インチやそれ以上の大型の場合、図14に示すように、工程(c)で、反り矯正手段21を動作させて基板1を基板保持部16に押し付けたときに、基板1が大型化および/あるいは薄型化によって強度低下しており、反り矯正手段21で押し付けた部分に局部的に応力が集中し、またこれを解消するために下部に図示したように、反り矯正手段21の基板押圧部22を拡大した場合でも、基板1が基板載置部15、15にて吸着保持されて拘束されているので、基板押圧部22の周辺に応力が集中し、その後工程(d)で、基板保持部16が所定の移送高さまで上昇して移送動作に移行する際に、上記基板1の局部的な応力集中により、基板1が基板保持部16の全面で確実に吸着され難いことと、基板1の自重によって基板1の周辺部がたわむこととが相俟って、移送中に吸着不良が発生するという問題があり、また上記応力集中によって基板1の不具合の原因になるという問題がある。
However, in the configuration of FIG. 13, when the
また、上記のように基板保持部16を基板受渡位置で停止させ、基板1の基板保持部16での吸着と基板載置部15での吸着開放を行うようにしているので、基板1の移送に時間がかかるという問題もある。この問題に対しては、上述のように図10に示した構成を採用することが考えられるが、基板1に反りが存在している場合、図9に示した構成の場合よりもさらに吸着不良が発生し易いという問題がある。そこで、図13で示したのと同様に反り矯正手段21を適用し、基板保持部16が基板1を受け取って移送高さまで上昇したときに吸着不良を検出すると、反り矯正手段21にて基板1を基板保持部16に押し付けて吸着不良を解消することが考えられるが、図14で説明した場合と同様の問題が発生することになる。
Further, as described above, the
本発明は、上記従来の問題に鑑み、基板の受け渡し動作の高速化を図りながら、基板の吸着不良による位置ずれの発生を防止でき、基板に対する部品実装の生産性を向上することができる部品実装装置及び基板搬送方法を提供することを目的とする。 In view of the above-described conventional problems, the present invention can prevent the occurrence of misalignment due to a substrate adsorption failure while speeding up the substrate transfer operation, and can improve the component mounting productivity on the substrate. An object is to provide an apparatus and a substrate transfer method.
本発明の部品実装装置は、基板を基板載置部で両持支持状態で吸着保持して基板受渡位置に搬送する基板搬送装置と、基板受渡位置で受け取った基板に対して部品実装作業を行う実装作業装置と、基板搬送装置及び実装作業装置の動作を制御する制御装置とを備えた部品実装装置であって、実装作業装置は、基板受渡位置で基板を受け取り所定の作業位置に移送して位置決めする移載装置と、作業位置に位置決めされた基板に対して部品実装動作を行う実装動作装置とを備え、移載装置は、基板の略中央部を下から支持するとともに吸着手段にて吸着する基板保持部と、基板保持部による基板の吸着状態を検出する吸着検出手段と、基板保持部を基板載置部の下側から上側に移動して基板保持部上に基板を受け取った後基板を作業位置に移送して位置決めする移送手段と、基板受渡位置の上方で基板の反りを矯正する反り矯正手段とを備え、反り矯正手段は、基板の中央部を押し下げる押下部と基板の周辺部を持ち上げる持上部とを備え、矯正時には基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状にし、制御装置は、基板搬送装置の基板載置部の吸着を開放した後、移載装置の基板保持部にて基板を受け取りかつ基板の受取時又はその前後の動作中に基板保持部の吸着手段による吸着動作を行い、その後吸着検出手段にて吸着保持状態の適否を判定し、吸着保持状態が適正な場合は移送手段の動作を継続し、吸着保持状態が不適正な場合は反り矯正手段にて基板の反りを矯正し、適正な吸着保持状態を確認した後移送手段の動作を継続するように制御するものである。 The component mounting apparatus according to the present invention performs a component mounting operation on a substrate transporting device that sucks and holds a substrate in a both-side supported state by the substrate mounting unit and transports the substrate to the substrate delivery position, and the substrate received at the substrate delivery position. A component mounting apparatus including a mounting work device and a control device for controlling the operation of the board transport device and the mounting work device, the mounting work device receiving a board at a board delivery position and transferring it to a predetermined work position. A transfer device for positioning, and a mounting operation device for performing a component mounting operation on the substrate positioned at the work position. The transfer device supports a substantially central portion of the substrate from below and is suctioned by suction means. The substrate holding unit, the suction detection means for detecting the suction state of the substrate by the substrate holding unit, and the substrate holding unit after moving the substrate holding unit from the lower side to the upper side and receiving the substrate on the substrate holding unit To the working position And a warping correction means for correcting the warpage of the substrate above the substrate delivery position. When the substrate is corrected, the central portion of the substrate is brought into contact with the substrate holding portion and the peripheral portion is lifted to flatten the substrate, and the control device releases the suction of the substrate placement portion of the substrate transfer device and then transfers the transfer device. The substrate holding unit receives the substrate and performs the adsorption operation by the adsorption unit of the substrate holding unit at the time of receiving or before and after receiving the substrate, and then the adsorbing detection unit determines the adequacy of the adsorption holding state, and the adsorption holding If the state is appropriate, continue the operation of the transfer means. If the suction holding state is not correct, correct the substrate warp by the warp correction means, and after confirming the proper suction holding state, continue the operation of the transfer means. Like It is Gosuru thing.
この構成によれば、基板載置部から基板保持部に基板を受け取る時にはその前に基板載置部での基板の吸着が開放されているので、下側から上側に移動する基板保持部にて基板を短時間に無理なく受け取ることができ、従来のように受け取り時に基板保持部を停止した後、その停止状態で基板保持部による吸着保持を行うとともに基板載置部での吸着を開放する場合に比して、基板の受け渡し動作に要する時間を大幅に短縮することができ、それによって部品実装の生産性を向上でき、また基板載置部と基板保持部の両者にて基板を吸着している状態が生じないので、受け渡し工程で基板に歪みを発生するのを防止することができる。しかも、基板に上反りが存在し、基板保持部で基板を受け取った状態で吸着不良を生じたときに、反り矯正手段にて基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状に矯正することで、適正な吸着保持状態を確保することができ、移送中の基板の位置ずれの発生を防止でき、基板に対する部品実装の生産性を向上することができる。 According to this configuration, when the substrate is received from the substrate platform to the substrate holder, the adsorption of the substrate at the substrate platform is released before that, so the substrate holder that moves from the lower side to the upper side When a substrate can be received without difficulty in a short time, and after stopping the substrate holding part at the time of receiving as in the past, when holding the suction by the substrate holding part in the stopped state and releasing the suction at the substrate mounting part Compared to this, the time required for the board transfer operation can be greatly shortened, thereby improving the productivity of component mounting, and the board mounting part and the board holding part both attract and hold the board. Therefore, it is possible to prevent the substrate from being distorted in the delivery process. In addition, when the substrate is warped and a suction failure occurs when the substrate is received by the substrate holder, the warp correction means causes the center portion of the substrate to abut against the substrate holder and the peripheral portion is lifted. By correcting the substrate to a flat surface, it is possible to ensure an appropriate suction holding state, to prevent occurrence of positional displacement of the substrate during transfer, and to improve the productivity of component mounting on the substrate.
また、制御装置は、反り矯正手段にて基板を矯正するときに基板保持部による基板吸着を開放し、反りを矯正した状態で再度吸着するように制御すると、基板に局部応力を発生させずに反りを矯正して適正な吸着保持状態を確保することができる。 In addition, when the control device controls to release the substrate adsorption by the substrate holding unit when correcting the substrate by the warp correction means and to adsorb again with the warp corrected, without generating local stress on the substrate. It is possible to correct the warp and ensure an appropriate suction holding state.
また、反り矯正手段が、押下部を動作させる押下駆動部と、持上部を動作させる持上駆動部と、基板の中央部と周辺部のそれぞれの高さ位置を検出する位置検出センサとを備えた構成であると、位置検出センサによる基板の中央部と周辺部の高さ位置の検出結果に応じて押下駆動部と持上駆動部を動作させることで基板を精度良く平面状に矯正することができ、適正な吸着保持状態を確保することができる。 Further, the warp correction means includes a pressing drive unit that operates the pressing unit, a lifting drive unit that operates the holding unit, and a position detection sensor that detects the respective height positions of the central portion and the peripheral portion of the substrate. With this configuration, the substrate can be accurately corrected to a flat surface by operating the push-down drive unit and the lifting drive unit according to the detection results of the height position of the central part and the peripheral part of the substrate by the position detection sensor. And an appropriate suction holding state can be secured.
また、反り矯正手段が、押下部を動作させる押下駆動部と、持上部を押下部の動作に連動して動作させる連動機構と、基板の中央部の高さ位置を検出する位置検出センサとを備えた構成であると、基板の上反り状態での中央部の突出量と周辺部の垂下量の比はほぼ一定であるため、位置検出センサによる基板の中央部の高さ位置の検出結果に応じて押下駆動部を動作させて押下部を所要量移動させ、連動機構にてそれに連動して持上部を移動することで、簡単制御構成で基板を平面状に矯正することができ、適正な吸着保持状態を確保することができる。 Further, the warp correction means includes a pressing drive unit that operates the pressing unit, an interlocking mechanism that operates the holding unit in conjunction with the operation of the pressing unit, and a position detection sensor that detects the height position of the central portion of the substrate. Since the ratio of the amount of protrusion at the center and the amount of drooping at the periphery when the substrate is warped is almost constant, the position detection sensor detects the height position of the center of the substrate. In response, the pressing drive unit is operated to move the pressing unit by the required amount, and the interlocking mechanism moves the holding unit in conjunction with it, so that the substrate can be corrected to a flat shape with a simple control configuration. An adsorption holding state can be ensured.
また、本発明の基板搬送方法は、基板搬送装置の基板載置部にて基板を両持支持状態で吸着保持して基板受渡位置に搬送する工程と、基板受渡位置で基板載置部での基板の吸着を開放する吸着開放工程と、移載装置の基板保持部を基板受渡位置の下側から上側に移動させて吸着を開放された基板を受け取る基板受取工程と、基板受取工程における基板の受取時又はその前後の動作中に、基板保持部の吸着手段にて吸着動作を行って基板を基板保持部にて下から吸着する吸着工程と、吸着工程にて基板保持部に保持された基板に対して基板保持部による基板の吸着保持状態の適否を検出する工程と、検出した基板の吸着保持状態が不適正な場合、基板保持部による吸着を開放して基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状にして基板の反りを矯正し、再度基板保持部にて基板を吸着する反り矯正工程と、基板を適正に吸着保持した基板保持部を移動する移送工程とを有するものである。 Further, the substrate transport method of the present invention includes a step of sucking and holding a substrate in a both-supported state in the substrate placement unit of the substrate transport apparatus and transporting the substrate to the substrate delivery position, and a substrate placement unit at the substrate delivery position. A suction release step for releasing the suction of the substrate, a substrate receiving step for receiving the substrate released from the suction by moving the substrate holding portion of the transfer device from the lower side to the upper side of the substrate delivery position, and a substrate receiving step in the substrate receiving step. An adsorption process in which an adsorption operation is performed by the adsorption means of the substrate holding unit and the substrate is adsorbed from below by the substrate holding unit, and a substrate held by the substrate holding unit in the adsorption process. If the substrate holding unit detects whether or not the suction holding state of the substrate is appropriate, and if the detected suction holding state of the substrate is inappropriate, the suction by the substrate holding unit is released and the central part of the substrate is moved to the substrate holding unit. Lift up the periphery The substrate is flattened to correct the warp of the substrate, and the substrate holding unit again adsorbs the substrate, and the substrate holding unit appropriately adsorbing and holding the substrate has the transfer step of moving the substrate holding unit. .
この構成によると、基板の受け渡し動作に要する時間を大幅に短縮することができ、また受け渡し工程での基板の歪みの発生を防止することができ、しかも基板に上反りが存在する場合でも反り矯正手段にて基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状に矯正することで、適正な吸着保持状態を確保でき、移送中の基板の位置ずれの発生を防止できるという効果が得られる。 According to this configuration, the time required for the substrate transfer operation can be significantly shortened, the occurrence of distortion of the substrate in the transfer process can be prevented, and even when the substrate is warped, the warp is corrected. By making the center part of the substrate abut the substrate holding part and lifting the peripheral part to correct the substrate to a flat shape, it is possible to secure an appropriate suction holding state and to prevent the substrate from being displaced during transfer. The effect that it can prevent is acquired.
本発明の部品実装装置及び基板搬送方法によれば、基板受渡位置の基板載置部から基板保持部に基板を受け取る時に基板載置部の吸着を開放して基板保持部を下方から上方に移動させるので基板の受け渡し動作に要する時間を大幅に短縮することができ、また基板載置部と基板保持部の両者にて基板を吸着している状態が生じないので、受け渡し工程で基板に歪みを発生することもなく、しかも基板に上反りが存在し、基板保持部で基板を受け取った状態で吸着不良を生じたときに、反り矯正手段にて基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状に矯正することで、適正な吸着保持状態を確保でき、移送中の基板の位置ずれの発生を防止でき、基板に対する部品実装の生産性を向上することができる。 According to the component mounting apparatus and the board conveying method of the present invention, when the board is received from the board mounting part at the board delivery position to the board holding part, the suction of the board mounting part is released and the board holding part is moved upward from below. Therefore, the time required for the substrate transfer operation can be greatly shortened, and the substrate is not attracted by both the substrate mounting portion and the substrate holding portion. When the substrate is warped without any occurrence and a suction failure occurs when the substrate is received by the substrate holder, the center of the substrate is brought into contact with the substrate holder by the warp correction means. In addition, by lifting the peripheral part and correcting the board to a flat shape, it is possible to secure an appropriate suction holding state, prevent occurrence of positional deviation of the board during transfer, and improve the productivity of component mounting on the board it can.
以下、本発明の部品実装装置の各実施形態について、図1〜図5を参照して説明する。なお、各実施形態の部品実装装置は、図6に示したように、基板1に部品2を実装するもので、その全体構成は、図7、図8を参照して説明した部品実装装置10と同一であり、従来例における説明を援用する。
Hereinafter, each embodiment of the component mounting apparatus of this invention is described with reference to FIGS. In addition, the component mounting apparatus of each embodiment mounts the
(第1の実施形態)
まず、本発明の第1の実施形態の部品実装装置10における本発明の要部である基板搬送装置11の基板載置部15と移載装置14の基板保持部16との間での基板1の受け渡し動作を、図1〜図3を参照して説明する。
(First embodiment)
First, the board |
図1において、基板載置部15の吸着手段(図示せず)は吸着検出手段15aと大気開放弁15bを介して真空ポンプ20に接続され、基板保持部16の吸着手段(図示せず)も吸着検出手段16aと大気開放弁16bを介して真空ポンプ20に接続されている。なお、吸着手段(図示せず)は、基板載置部15及び基板保持部16の上面に適当間隔で配設された複数の吸着穴、若しくは好適にはクッション性を持って吸着する複数の吸着パッドにて構成される。また、吸着検出手段15a、16aは、吸着手段(図示せず)に連通する真空経路の真空圧を検出し、予め設定された所定の真空圧に到達していない場合に、適正に吸着されていず、所定の真空圧以上に到達すると適正に吸着されていると判定するものである。
In FIG. 1, the suction means (not shown) of the
図1において、まず、工程(a)で、基板搬送装置11の基板載置部15にて基板1が両持支持状態で吸着保持されて搬送されてきて、基板受渡位置に位置決めされた後、大気開放弁15aが開かれ、吸着手段が大気圧又は低真空状態とされ、基板載置部15での基板1の吸着が開放される。このとき基板保持部16は基板載置部15、15の間の下側に位置しており、その状態から基板保持部16が基板受渡位置の下側から上側に移動を開始する。
In FIG. 1, first, in the step (a), after the
次に、工程(b)で、基板保持部16を基板受渡位置で停止させることなく、好適には基板1が受け渡し時に衝撃を受けないように基板受渡位置で減速させて、基板受渡位置の下側から上側に移動して基板保持部16にて基板1を受け取るとともに、この基板1の受取時又はその前後の動作中に基板保持部16の吸着手段を動作させて基板保持部16で基板1を吸着する。ここで、基板保持部16による基板1の吸着保持状態の適否を吸着検出手段16aにて検出する。吸着保持状態が適正な場合は、後述の工程(d)に移行してそのまま基板1を基板保持部16にて移送する。一方、基板1が上反りしているために吸着保持状態が不適正であると検出された場合は、次の工程(c)に移行する。
Next, in step (b), the
次に、工程(c)で、大気開放弁16bを開いて基板保持部16による基板1の吸着を開放し、反り矯正手段21にて基板1の中央部を基板保持部16に当接させるとともに基板1の周辺部を持ち上げて基板1を平面状に矯正する。すなわち、反り矯正手段21の押下部22にて基板の中央部を押し下げることで基板保持部16に当接させるとともに、それと同時に持上部23にて基板1の周辺部を持ち上げることで、基板1を平面状に矯正する。かくして基板1を平面状に矯正した状態で、大気開放弁16bを閉じて基板保持部16の吸着手段を再度動作させ、基板保持部16で基板1を適正に吸着する。
Next, in the step (c), the
次に、工程(d)で、反り矯正手段21を退避させ、基板保持部16による吸着圧が所定圧になったことを吸着検出手段16aで検知した後、基板保持部16にて基板1を実装動作装置13に向けて移送する。
Next, in step (d), the warp correction means 21 is retracted, and the suction detection means 16a detects that the suction pressure by the
このような基板載置部15と基板保持部16との間での基板1の受け渡し動作は、基板載置部15を有する基板搬送装置11、基板保持部16を有する移載装置14を含めて部品実装装置10の全体を動作制御する制御装置(図示せず)によって制御される。
The transfer operation of the
次に、上記反り矯正手段21の具体構成を図2を参照して説明する。反り矯正手段21の支持フレーム21aの中央部にシリンダ装置から成る押下駆動部24が、支持フレーム21aの四隅部にシリンダ装置から成る持上駆動部25が配設され、押下駆動部24にて首振自在な連結部22aを介して押下部22を昇降動作させ、持上駆動部25にて首振り及び水平方向に位置変位可能な連結部23aを介して持上部23を昇降動作させるように構成されている。これら連結部22a、23aは、矯正動作時の変形・変位を吸収して基板1に応力が発生するのを防止するものである。押下部22には、基板保持部16の平面領域にほぼ対応するように複数の押圧部22bが並設されている。持上部23には、基板1を吸着するように、吸引手段(図示せず)に接続された吸着部23bが設けられている。
Next, a specific configuration of the warp correction means 21 will be described with reference to FIG. At the center of the
また、支持フレーム21aの中央部と四隅部に、それぞれ基板1の中央部と四隅部の高さ位置を検出する位置検出センサ26が配設されている。なお、位置検出センサ26は、基板1の中央部と四隅部の高さ位置を直接検出する代わりに、押下部22と各持上部23の高さ位置を検出して間接的に基板1のそれぞれの高さ位置を検出するようにしても良い。
In addition,
この反り矯正手段21においては、図2(a)に示すように、基板1を基板保持部16にて移送位置まで持ち上げかつ基板1の上反りによって吸着不良を生じた状態で、位置検出センサ26で基板1の各部の高さ位置を検出し、その検出結果に基づいて押下駆動部24及び持上駆動部25を動作させて押下部22及び持上部23を基板1の中央部と四隅部に当接させ、持上部23にて基板1の四隅部を吸着する。なお、この動作において、位置検出センサ26による各部の高さ位置の検出は行わず、押下駆動部24及び持上駆動部25を少しでも負荷がかかると停止するようにして押下部22及び持上部23を下降動作させ、それぞれ基板1の中央部と四隅部に当接した状態で停止させ、持上部23にて基板1の四隅部を吸着するようにしても良い。
In the warp correction means 21, as shown in FIG. 2A, the
次に、図2(b)に示すように、位置検出センサ26にて基板1の中央部と四隅部の高さ位置を検出しつつ押下駆動部24及び持上駆動部25を動作させ、基板1が基板保持部16の上面の全面に当接した状態で平面状となるようにする。これにより、図3(a)に示すように、基板1の移送高さ位置Hに対して、基板1の中央部が距離aだけ上方に突出し、周辺部が距離b、c・・だけ下方に垂れ下がっている状態から、それらの距離a、b、c・・の比に応じて押下駆動部24及び持上駆動部25を動作させて基板1の中央部を押し下げ、周辺部を持ち上げることで、基板1が無理なく、局部応力を発生させることなく矯正されて、図3(b)に示すように、基板1がその移送高さ位置Hに沿った状態で平面状とされ、その状態で基板保持部16にて基板1を吸着することで、基板1が適正に吸着され、移送中に吸着不良が生じて位置ずれを生じる恐れを無くすことができる。
Next, as shown in FIG. 2B, while the
以上の構成によれば、基板載置部15から基板保持部16に基板1を受け取る時にはその前に基板載置部15での基板1の吸着が開放されているので、下側から上側に移動する基板保持部16にて基板1を短時間に無理なく受け取ることができ、従来例に比して、基板1の受け渡し動作に要する時間を大幅に短縮することができ、それによって部品実装の生産性を向上できる。また、基板載置部15と基板保持部16の両者にて基板1を吸着している状態が生じないので、受け渡し工程で基板1に歪みを生じるのを防止でき、基板1が表示パネルのガラス基板の場合に表示むらの発生を防止することができる。
According to the above configuration, when the
また、このように受け渡し動作時間を大幅に短縮して部品実装の生産性向上を図りながら、基板1に上反りが存在し、基板保持部16で基板1を受け取った状態で吸着不良を生じたときには、反り矯正手段21にて基板1の中央部を基板保持部16に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板1が平面状に矯正されるので、基板保持部16にて適正に吸着保持状態を確保でき、その後移送中の基板1の位置ずれの発生を確実に防止でき、基板1に対する部品実装の生産性を向上することができる。
Further, while the delivery operation time is greatly shortened and the productivity of component mounting is improved as described above, the
また、反り矯正手段21にて基板1を矯正するときには、基板保持部16による基板1の吸着を開放し、反りを矯正した状態で再度吸着するようにしているので、基板1の全面を平面状に矯正していることと相俟って、基板1に局部応力を発生させずに反りを矯正でき、一層適正な吸着保持状態を確保することができる。
Further, when the
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について、図4、図5を参照して説明する。本実施形態は、上記第1の実施形態と反り矯正手段21の構成が異なるだけで、他の構成要件は同じであり、同一の構成要素については同一参照符号を付して説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The present embodiment is different from the first embodiment only in the configuration of the warp correction means 21, and the other components are the same. The same components are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図4は、部品実装装置10、具体的にはACF貼付装置4の基板受渡位置の上方に本実施形態の反り矯正装置21を配設した状態を示している。第1の実施形態の反り矯正手段21においては、押下部22と持上部23を押下駆動部24と持上駆動部25にてそれぞれ昇降動作させるようにしたが、本実施形態の反り矯正手段21では、図5に示すように、押下部22を動作させる押下駆動部24と、押下部22の動作に連動して持上部23を動作させる連動機構27を設けるとともに、基板1の中央部の高さ位置を検出する位置検出センサ26を設けた構成としている。連動機構27は、適当なリンク機構を採用することで実現することができる。
FIG. 4 shows a state in which the
このような構成において、図5(a)に示すように、押下部22を基板1の中央部に当接させ、持上部23にて基板1の四隅部を吸着した状態で、位置検出センサ26による基板1の中央部の高さ位置の検出結果に応じて押下駆動部24を動作させ、押下部22を所定量下降動作させると、連動機構27にて所定の移動距離比率で持上部23が持ち上げられることで、図5(b)に示すように、基板1を平面状に矯正することができる。これは、通常、基板1の上反り状態での中央部の突出量と周辺部の垂下量の比はほぼ一定となるためで、基板1の機種ごとに所定の移動距離比率を予め求め、その移動距離比率となるように連動機構27が調整設定されている。
In such a configuration, as shown in FIG. 5A, the
かくして、本実施形態によれば、基板1を平面状に矯正して基板保持部16による適正な吸着保持状態を確保することができるという第1の実施形態と同様の作用効果を奏することができるとともに、機械的な連動機構にて安定した動作を簡単な制御構成で実現することができるという効果がある。
Thus, according to this embodiment, it is possible to obtain the same effect as that of the first embodiment in which the
本発明の部品実装装置及び基板搬送方法によれば、基板載置部から基板保持部に基板を受け取る時に基板の受け渡し動作に要する時間を大幅に短縮することができ、また基板載置部と基板保持部の両者にて基板を吸着している状態が生じないので、受け渡し工程で基板に歪みを生じることもなく、しかも基板に上反りが存在して吸着不良を生じたときでも、基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状に矯正することで、適正な吸着保持状態を確保でき、移送中の基板の位置ずれを防止することができるので、基板に対する部品実装の生産性を向上することができ、各種基板に各種部品を実装する部品実装装置に好適に利用することができる。 According to the component mounting apparatus and the substrate transport method of the present invention, the time required for the substrate transfer operation when receiving the substrate from the substrate mounting unit to the substrate holding unit can be greatly shortened, and the substrate mounting unit and the substrate can be reduced. Since the substrate is not attracted by both of the holding parts, the substrate is not distorted during the transfer process, and even when the substrate is warped and an adsorption failure occurs, the center of the substrate Since the substrate is brought into contact with the substrate holding portion and the peripheral portion is lifted to correct the substrate into a flat shape, an appropriate suction holding state can be secured and the substrate can be prevented from being displaced during transfer. Therefore, it is possible to improve the productivity of component mounting with respect to the above, and it can be suitably used for a component mounting apparatus for mounting various components on various substrates.
1 基板
2 部品
4 ACF貼付装置(部品実装装置)
5 仮圧着装置(部品実装装置)
6、7 本圧着装置(部品実装装置)
10 部品実装装置
11 基板搬送装置
12(12a〜12d) 実装作業装置
13(13a〜13d) 実装動作装置
14 移載装置
15 基板載置部
15a 吸着検出手段
15b 大気開放弁
16 基板保持部
16a 吸着検出手段
16b 大気開放弁
17 移送手段
21 反り矯正手段
22 押下部
23 持上部
24 押下駆動部
25 持上駆動部
26 位置検出センサ
27 連動機構
1
5 Temporary crimping equipment (component mounting equipment)
6, 7 Crimping device (component mounting device)
DESCRIPTION OF
Claims (5)
実装作業装置は、基板受渡位置で基板を受け取り所定の作業位置に移送して位置決めする移載装置と、作業位置に位置決めされた基板に対して部品実装動作を行う実装動作装置とを備え、
移載装置は、基板の略中央部を下から支持するとともに吸着手段にて吸着する基板保持部と、基板保持部による基板の吸着状態を検出する吸着検出手段と、基板保持部を基板載置部の下側から上側に移動して基板保持部上に基板を受け取った後基板を作業位置に移送して位置決めする移送手段と、基板受渡位置の上方で基板の反りを矯正する反り矯正手段とを備え、
反り矯正手段は、基板の中央部を押し下げる押下部と基板の周辺部を持ち上げる持上部とを備え、矯正時には基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状にし、
制御装置は、基板搬送装置の基板載置部の吸着を開放した後、移載装置の基板保持部にて基板を受け取りかつ基板の受取時又はその前後の動作中に基板保持部の吸着手段による吸着動作を行い、その後吸着検出手段にて吸着保持状態の適否を判定し、吸着保持状態が適正な場合は移送手段の動作を継続し、吸着保持状態が不適正な場合は反り矯正手段にて基板の反りを矯正し、適正な吸着保持状態を確認した後移送手段の動作を継続するように制御する
ことを特徴とする部品実装装置。 A substrate transport device that sucks and holds a substrate in a both-side supported state by the substrate placement unit and transports the substrate to a substrate delivery position, a mounting work device that performs a component mounting operation on the substrate received at the substrate delivery position, and a substrate transport device And a component mounting device comprising a control device for controlling the operation of the mounting work device,
The mounting work apparatus includes a transfer device that receives a substrate at a substrate delivery position, transfers the substrate to a predetermined work position, and a mounting operation device that performs a component mounting operation on the substrate positioned at the work position.
The transfer device includes a substrate holding unit that supports a substantially central portion of the substrate from below and is adsorbed by an adsorption unit, an adsorption detection unit that detects an adsorption state of the substrate by the substrate holding unit, and a substrate holding unit. A transfer means for moving the substrate from the lower side to the upper side and receiving the substrate on the substrate holding portion and then transferring the substrate to the working position, and a warp correction means for correcting the warp of the substrate above the substrate delivery position; With
The warp correction means includes a pressing part that pushes down the central part of the substrate and a holding part that lifts the peripheral part of the substrate. During correction, the central part of the substrate is brought into contact with the substrate holding part and the peripheral part is lifted to make the substrate planar. West,
The control device releases the suction of the substrate mounting portion of the substrate transfer device, receives the substrate at the substrate holding portion of the transfer device, and uses the suction means of the substrate holding portion at the time of receiving the substrate or during the operation before and after that. Adsorption operation is performed, and then the adsorbing detection means determines the adequacy of the adsorbing and holding state. If the adsorbing and holding state is appropriate, the operation of the transfer means is continued. If the adsorbing and holding state is inappropriate, the warp correction means is used. A component mounting apparatus characterized in that control is performed so as to continue the operation of the transfer means after correcting the warp of the substrate and confirming an appropriate suction holding state.
基板受渡位置で基板載置部での基板の吸着を開放する吸着開放工程と、
移載装置の基板保持部を基板受渡位置の下側から上側に移動させて吸着を開放された基板を受け取る基板受取工程と、
基板受取工程における基板の受取時又はその前後の動作中に、基板保持部の吸着手段にて吸着動作を行って基板を基板保持部にて下から吸着する吸着工程と、
吸着工程にて基板保持部に保持された基板に対して基板保持部による基板の吸着保持状態の適否を検出する工程と、
検出した基板の吸着保持状態が不適正な場合、基板保持部による吸着を開放して基板の中央部を基板保持部に当接させるとともに周辺部を持ち上げて基板を平面状にして基板の反りを矯正し、再度基板保持部にて基板を吸着する反り矯正工程と、
基板を適正に吸着保持した基板保持部を移動する移送工程とを有することを特徴とする基板搬送方法。 A step of adsorbing and holding the substrate in a both-side supported state at the substrate mounting portion of the substrate transfer device and transferring the substrate to a substrate delivery position;
A suction release process for releasing the suction of the substrate at the substrate placement portion at the substrate delivery position;
A substrate receiving step of receiving the substrate released from suction by moving the substrate holding portion of the transfer device from the lower side to the upper side of the substrate delivery position;
An adsorption step of performing adsorption operation by the adsorption means of the substrate holding unit and adsorbing the substrate from below by the substrate holding unit during operation before or after receiving the substrate in the substrate receiving process ,
Detecting whether or not the substrate holding unit is holding and holding the substrate held by the substrate holding unit in the suction step;
If the detected suction holding state of the substrate is inappropriate, the suction by the substrate holding part is released, the center part of the substrate is brought into contact with the substrate holding part, and the peripheral part is lifted to make the board flat and to warp the substrate. A warp correction process of correcting and adsorbing the substrate again at the substrate holding part;
And a transfer step of moving a substrate holding portion that appropriately holds and holds the substrate.
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