JP4651763B2 - Semiconductor pressure sensor - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、流体圧力を半導体圧力センサ素子により検出して電気信号として出力する半導体圧力センサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図4は、出願人の先願に係る特願平11−957号で提案した半導体圧力センサ100の縦断面図を示したものである。この半導体圧力センサ100は、シリコン半導体基板を用いて形成されて測定すべき流体の圧力を検出する半導体圧力センサ素子101と、この半導体圧力センサ素子101を収納するセラミック製のセンサケース103と、半導体圧力センサ素子101に測定すべき流体を導く金属製の筒体105とを備えている。
【0003】
半導体圧力センサ素子101は、抵抗ブリッジ回路(図示せず)が形成されたダイアフラム部107と、このダイアフラム部107の外周部を支持し且つ抵抗ブリッジ回路に接続された複数の接続用電極(図示せず)が形成されたダイアフラム支持部109a,109bとが一体に形成された構造になっている。
【0004】
セラミック製のセンサケース103は、半導体圧力センサ素子101のダイアフラム部107に圧力測定の対象となる流体を導くための流体導入孔111を備え且つ上面に半導体圧力センサ素子101のダイアフラム支持部109a,109bが流体導入孔111の一方の開口端部を囲むようにして固定される壁部113と、半導体圧力センサ素子101の周囲を囲み壁部113に一体化された周壁部115とを備えている。この周壁部115と壁部113とにより囲まれた空間が素子収容凹部117を構成している。
【0005】
筒体105は、センサケース103側の端部に筒体105の径方向外側に向かって延びる環状のフランジ部119を備えている。筒体105のフランジ部119は、壁部113の裏面上に流体導入孔111の他方の開口端部を囲むように形成された環状の被半田付け部121に半田付けにより固定されている。以下、詳細は特願平11−957号に説明されているので省略する。
【0006】
この半導体圧力センサ100では、流体導入孔111に測定すべき流体が供給されて、その流体の圧力が半導体圧力センサ素子101のダイアフラム部107に作用すると、大気圧との差によりダイアフラム部107に物理的な歪みが生じ、この歪みに応じてダイアフラム部107に設けられている抵抗ブリッジ回路の抵抗値が変化し、この抵抗値の変化を電気的な信号として出力する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
先に提案した構造の半導体圧力センサでも、要求される精度によっては、必要十分な性能を発揮している。しかしながらこの半導体圧力センサ100では、要求される精度によっては、圧力測定の対象である流体の温度変化または周囲の温度変化に伴って出力に現れる出力の変化(温度特性)が問題となってくる。
【0008】
発明者が研究した結果、温度特性が悪くなる原因の一つが,金属製の筒体105をセンサケース103の壁部113の裏面に形成した被半田付け部に半田付けしていることにあることが分かった。すなわち筒体のフランジ部とセンサケースの外面に形成されている被半田付け部との間に形成される半田付け部には、流体の温度変化により生じる筒体の熱膨張(線膨張係数)とセンサケースを構成しているセラミックの熱膨張(線膨張係数)との差から応力が発生する。そしてこの応力がセラミック製のセンサケースに及び、更にこのセラミック製のセンサケースに固定されている半導体センサ素子に及び、この応力が半導体センサ素子の出力に影響を与えることが分かった。センサケース103の壁部113の厚みを厚くすれば、このような応力の影響を小さくすることができる。しかしながらこのようにすることはセンサケースの材料費が高くなってセンサの価格を上げるだけでなく、センサの高さ寸法を大きくする原因となる。
【0009】
本発明の目的は、温度特性が優れた半導体圧力センサを提供することにある。
【0010】
本発明の他の目的は、金属性の筒体が半田付け接続されるセンサケースの壁部の厚みを厚くすることなく、温度特性を改善することができる半導体圧力センサを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体圧力センサは、抵抗ブリッジ回路が形成されたダイアフラム部及びダイアフラム部の外周部を支持するダイアフラム支持部が一体に成形されてなる半導体圧力センサ素子と、表面に半導体圧力センサ素子のダイアフラム支持部が接合され且つ半導体圧力センサ素子のダイアフラム部に圧力測定の対象となる流体を導くための流体導入孔が形成された壁部を備えたセラミック製のセンサケースと、センサケースの壁部の裏面に流体導入孔の開口端部の周囲を囲むように形成された半田付けが可能な被半田付け部と、この被半田付け部に半田付けにより接続された金属製の筒体とを具備する半導体圧力センサを改良の対象とする。
【0012】
本発明では、被半田付け部に半田付けされる金属製の筒体の環状の半田付け端部にフランジ部を設けない。そしてフランジ部の無い半田付け端部の端面を被半田付け部に半田付け接続する。このようにすると、フランジ部を設けた場合と比べて、センサケースの壁部の裏面に形成された被半田付け部と筒体の半田付け端部とを半田付け接続する半田付け部の面積が小さくなる。その結果、流体の温度変化または周囲の温度変化により生じる筒体の熱膨張(線膨張係数)とセンサケースを構成しているセラミックの熱膨張(線膨張係数)との差から被半田付け部に発生する応力が小さくなる。なお本願明細書においては、半田とは加熱されると溶融し、自然に冷却さられると金属どうしを結合する機能を有する接合材料を言う。
【0013】
筒体にフランジ部を設けずに、筒体を半田付け接続した場合でも、センサケースの壁部の厚みが薄くなると、半田付け部に発生する応力の影響が出力に現れる。そこでセンサケースの壁部の裏面に形成する被半田付け部が、所定の幅寸法を有する円形形状であるとすると、筒体の取付位置と半導体圧量センサ素子の取付位置とは、次のような関係にするのが好ましい。すなわち、被半田付け部の内接円と外接円との間に仮想した内接円及び外接円と同心をなす仮想中心円が、ダイアフラム支持部とセンサケースの壁部の接合領域内に流体導入孔を囲むように仮想した仮想環状中心線よりも外側に位置するように被半田付け部の位置を定める。ここで仮想環状中心線とは、ダイアフラム支持部の形状が円環状であれば、円形となり、またダイアフラム支持部の形状が矩形状であれば矩形状になるものであり、ダイアフラム支持部の形状によって形状が変わるものである。この場合、筒体としては、半田付け端部が、仮想中心円と同じまたはそれよりも大きな中心直径を有しているものを用いる。ここで中心直径とは、筒体の半田付け端部の内周面と外周面との間の中心に仮想され前記内周面と外周面と同心をなす仮想円の直径である。そして筒体の半田付け端部は、仮想中心円とほぼ同心的になるように被半田付け部に半田付け接続されている。このようにすると被半田付け部の半田付け部からセンサケースに加わった応力が、半導体センサ素子に加わり難くすることができる。上述した仮想中心円を仮想中心線から離せば離すほど、半導体センサ素子への応力の影響を低減できる。
【0014】
特に、被半田付け部が壁部を間に介して接合領域と部分的に対向させるときに、接合領域と被半田付け部との間の壁部の厚み寸法を2.5mm以下とする場合には、筒体の半田付け端部の肉厚を0.2〜0.8mmの範囲のものとする。このようにすると、壁部の厚みを薄くして、しかも半田付け部の面積をあまり大きくすることなく、筒体の固定に必要な半田付け強度を確保することできる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施の形態の一例を詳細に説明する。図1(A)は本発明の半導体圧力センサの実施の形態の一部切り欠き平面図、図1(B)は図1(A)のB−B線断面図である。また図2は、後述する筒体31を半田付け接続する前のセンサケースの裏面を示す図である。
【0016】
本実施の形態の半導体圧力センサ1は、流体圧力を検出する半導体圧力センサ素子3と、この半導体圧力センサ素子3を支持するセラミック製のセンサケース5と、後述する筒体31とを基本的な構成要件として備えている。半導体圧力センサ素子3は、図3に示すような拡散抵抗R1,R2,R3及びR4からなるブリッジ回路7が形成されたダイアフラム部9と、このダイアフラム部9の外周部を支持するダイアフラム支持部11a,11bとが一体に成形された構造を有している。半導体圧力センサ素子3のダイアフラム部9は、矩形状のシリコンウェハーにエッチングを施して形成されたシリコンダイアフラムであり、ダイアフラム部9を形成することによりダイアフラム支持部11が形成される。ダイアフラム部9の表面は、拡散抵抗R1からR4が形成された後に、保護用の絶縁膜13で覆われる。
【0017】
センサケース5は、表面に半導体圧力センサ素子3の環状のダイアフラム支持部11aが接合される壁部17と周壁部19とを備えている。壁部17には、半導体圧力センサ素子3のダイアフラム部9に圧力測定の対象となる流体を導くための流体導入孔15が形成されており、環状のダイアフラム支持部11は、流体導入孔15の一方の開口端部を囲むように壁部17の表面に接合されている。また周壁部19は、半導体圧力センサ素子3の周囲を囲む形状を有しており、周壁部19の開口部は金属製の蓋板20によって塞がれている。
【0018】
半導体圧力センサ素子3の環状のダイアフラム支持部11は、ダイアフラム支持部11の線膨張係数と壁部17の線膨張係数とに大きな差があっても両者間に剥離が生じないように、硬化しても撓み性のあるゲル状の接着剤を用いて壁部17上の接合領域21に固定されている。また、センサケース5の周壁部19の輪郭形状は、4つの角部を有するほぼ矩形形状を呈している。
【0019】
このようなセンサケース5は、壁部17を含む第1のケース構成部分23と、この第1のケース構成部分23の上面に下面が接合されて周壁部19の残部を構成し且つ内側に第1のケース構成部分23の上面の一部を露出させるように形成された第2のケース構成部分25とにより構成されている。そして第2のケース構成部分25に蓋板20が接合されている。
【0020】
図3に示すように、壁部17を構成している第1のケース構成部分23の裏面には、流体導入孔15の他方の開口端部の周囲を囲むように所定の幅寸法を有する円形形状の被半田付け部29と、複数の電極30…とが形成されている。円形形状の被半田付け部29と1つの電極30とは、接続パターンを介して接続されている。これらの被半田付け部29と電極30…は、タングステン下地層とNi下地メッキ層とAu表面メッキ層とから構成されている。そしてこの被半田付け部29には、半導体圧力センサ素子3のダイアフラム部9に圧力測定の対象となる流体を流体導入孔15を介して導くための金属製の筒体31の環状の端部33(半田付け端部)の端面が半田35により半田付け接続されている。環状の被半田付け部29を形成する金属薄膜の幅寸法は、半田付け強度が著しく低下しない範囲で定められる。筒体31の内部には、流体導入孔15と連通する流体導入路37が形成されている。
【0021】
本例では、第1のケース構成部分23によって構成される壁部17の裏面に形成した被半田付け部29は、被半田付け部29の内接円39と外接円41との間に仮想した内接円39及び外接円41と同心の仮想中心円43が、ダイアフラム支持部11と壁部17との接合領域21内に仮想した流体流通孔15を囲む仮想環状中心線CLよりも外側に位置するように形成されている。筒体31の環状の半田付け端部33は仮想中心円43と同じまたはそれよりも大きな中心直径を有している。そして筒体41は、半田付け端部33が仮想中心円43とほぼ同心になるように、被半田付け部29に半田付け接続されている。半田付け接続する場合には、被半田付け部29上にクリーム半田を印刷し、乾燥処理した後に、その上に筒体1の端部33を載せ、炉の中でこれらを加熱してクリーム半田を溶融させたのち、自然冷却させる。
【0022】
この例のように、被半田付け部29が壁部17を間に介して接合領域21と部分的に対向している場合には、壁部の厚み寸法を2.5mm以下の値まで薄くすることが可能である。そしてこの場合の筒体31の端部33(半田付け端部)の肉厚は0.2〜0.8mmに設定するのが好ましい。半導体圧力センサ素子が大きくなった場合には、被半田付け部29は、その仮想中心円43が常に仮想環状中心線CLよりも外に位置するように形成する。仮想中心円43が、仮想環状中心線CLよりも外側に離れれば離れるほど、筒体31の半田付け部に温度変化で発生する応力の影響を少なくすることができる。
【0023】
センサケース5には半導体圧力センサ素子3に設けられている複数の接続用電極45…(図の右半分の電極は省略している)のうちの所要の接続用電極にボンディングワイヤ51…により接続された複数のケース側接続用電極47…が形成されている。ケース側接続用電極47…はタングステン下地層とNi下地メッキ層とAu表面メッキ層とから構成されている。これらケース側接続用電極47…は、第2のケース構成部分25の内側に露出する第1のケース構成部分25の上面の部分に形成されている。
【0024】
第2のケース構成部分25の下に位置する第1のケース構成部分25の上面の部分には、それぞれ複数のケース側接続用電極47…に接続されてセンサケース5の周壁部19の外周面まで延びる複数の導電性引出パターン49…(図1(A)では示さず)が形成されている。これら複数の導電性引出パターン49…は、ケース側接続用電極47…を構成するタングステン下地層が延長されて構成されている。また第1のケース構成部分23の下面及び第2のケース構成部分25の上面には、複数の導電性引出パターン49…とそれぞれ接続される複数の外部接続用電極53a〜53hと複数の外部接続用電極30…とがそれぞれ形成されている。またセンサケース5の周壁部19の外周面には、第1及び第3のケース構成部分23,25が積層される積層方向に向かって延びて積層方向両側に開口し且つ積層方向と直交し且つ外周面から離れる方向に開口する複数の溝部C1〜C8が形成されている。特に、溝部C1,C2,C3,C4は、センサケース5のほぼ矩形形状をなす周壁部19の4つの角部にそれぞれ形成されている。複数の導電性引出パターン49…の外側端部は、それぞれ対応する複数の溝部C1〜C8内に露出している。
【0025】
複数の外部接続用電極53a〜53h,30…のうち、第1のケース構成部分23の下面に形成される第1グループに属する複数の外部接続用電極53a〜53dと、第2のケース構成部分25の上面に形成される第2グループに属する複数の外部接続用電極55a〜55dは、それぞれ複数の溝部C1〜C8の積層方向両側の開口部に隣接して形成されている。これらの溝部C1〜C8内で、これら溝部の内部に露出する導電性引出パターン49…の外側端部と、これら溝部の積層方向両側に位置する対になった複数の外部接続用電極53a〜53h,55a〜55hとは、これら溝部内に沿って設けられた複数の接続用導電パターン49により電気的に接続されている。
【0026】
上述した構造による半導体圧力センサ1では、測定対象である流体は筒体31の流体導入路37から流体導入孔15に供給される。その流体の圧力が半導体圧力センサ素子3のダイアフラム部9に作用すると、大気圧との差によりダイアフラム部9に物理的な歪みが生じ、この歪みに応じてダイアフラム部9に設けられている抵抗ブリッジ回路7の抵抗値が変化し、この抵抗値の変化を出力として取出す。温度変化があるとセラミック製のセンサケース5と金属製(真鍮)の筒体31との熱膨張係数の違いにより、センサケース5と筒体31との接合部分である被半田付け部29に応力が発生する。本例の半導体圧力センサ1では、筒体31の半田付け端部がフランジ部を有しておらず、また筒体31の仮想中心円43がダイアフラム支持部11の仮想環状中心線CLよりも外側に位置するようにして、筒体31が被半田付け部29に半田付け接続されているので、半田付け部に発生する応力が小さくなる上、半田付け部に発生した応力がセンサケース5の壁部17を介して半導体圧力センサ素子3に伝わるのを抑制できる。その結果、本発明によれば,温度特性が大幅に改善される。
【0027】
【発明の効果】
本発明によれば、セラミック製のセンサケースの壁部の裏面の被半田付け部に半田付け接続される金属製の筒体にフランジ部を設けないので、被半田付け部と筒体の半田付け端部とを接続する半田付け部が小さくなり、半田付け部に発生する応力を小さくすることができ。そのため筒体が接合されるセンサケースの壁部の厚みを薄くしたとしても、温度変化により半田付け部に発生する応力が半導体圧力センサ素子まで及び難くなって、温度特性を改善できる。
【0028】
特に、被半田付け部を、被半田付け部の内接円と外接円との間に仮想した内接円及び外接円と同心をなす仮想中心円が、ダイアフラム支持部とセンサケースの壁部の接合領域内に流体導入孔を囲むように仮想した仮想環状中心線よりも外側に位置するようにする形成し、筒体としてその半田付け端部が仮想中心円と同じまたはそれよりも大きな中心直径を有するものを用い、筒体の半田付け端部を仮想中心円とほぼ同心的に配置されるように被半田付け部に半田付け接続すると、半田付け部で発生する応力の影響を大幅に小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (A)は本発明の半導体圧力センサの一実施の形態の一部切り欠き平面図であり、図1(B)は図1(A)のB−B線断面図である。
【図2】 図1の実施の形態において、筒体をセンサケースに半田付けする前のセンサケースの底面図である。
【図3】 本発明の実施の形態の半導体圧力センサのダイアフラム部に形成されているブリッジ回路の回路図である。
【図4】 従来の半導体圧力センサの一例の構造の縦断端面図である。
【符号の説明】
1 半導体圧力センサ
3 半導体圧力センサ素子
5 センサケース
9 ダイアフラム部
11,11a,11b ダイアフラム支持部
15 流体導入孔
17 壁部
19 周壁部
21 接合領域
29 被半田付け部
31 筒体
33 半田付け端部
35 半田
37 流体導入路
39 内接円
41 外接円
43 仮想中心円
CL 仮想環状中心線[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor pressure sensor that detects a fluid pressure by a semiconductor pressure sensor element and outputs it as an electrical signal.
[0002]
[Prior art]
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the
[0003]
The semiconductor
[0004]
The
[0005]
The
[0006]
In the
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Even the semiconductor pressure sensor with the previously proposed structure exhibits necessary and sufficient performance depending on the required accuracy. However, in this
[0008]
As a result of the inventor's research, one of the causes that the temperature characteristics are deteriorated is that the
[0009]
An object of the present invention is to provide a semiconductor pressure sensor having excellent temperature characteristics.
[0010]
Another object of the present invention is to provide a semiconductor pressure sensor capable of improving temperature characteristics without increasing the thickness of a wall portion of a sensor case to which a metallic cylinder is soldered and connected.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
A semiconductor pressure sensor according to the present invention includes a diaphragm portion in which a resistance bridge circuit is formed and a diaphragm support portion that integrally supports an outer peripheral portion of the diaphragm portion, and a diaphragm of the semiconductor pressure sensor element on the surface. A ceramic sensor case having a wall portion in which a support portion is joined and a fluid introduction hole is formed in the diaphragm portion of the semiconductor pressure sensor element for introducing a fluid to be subjected to pressure measurement, and a wall portion of the sensor case. A solderable portion formed on the back surface so as to surround the periphery of the opening end portion of the fluid introduction hole and capable of being soldered; and a metal cylinder connected to the soldered portion by soldering. A semiconductor pressure sensor is an object of improvement.
[0012]
In the present invention, the flange portion is not provided at the annular soldering end of the metal cylinder to be soldered to the soldered portion. Then, the end face of the soldering end portion without the flange portion is soldered to the soldered portion. In this case, compared with the case where the flange portion is provided, the area of the soldering portion for soldering and connecting the soldered portion formed on the back surface of the wall portion of the sensor case and the soldering end portion of the cylindrical body is reduced. Get smaller. As a result, due to the difference between the thermal expansion (linear expansion coefficient) of the cylinder caused by the temperature change of the fluid or the surrounding temperature and the thermal expansion (linear expansion coefficient) of the ceramic constituting the sensor case, The generated stress is reduced. In the present specification, solder refers to a bonding material that melts when heated and has a function of bonding metals together when cooled naturally.
[0013]
Even when the cylindrical body is soldered and connected without providing the flange portion, if the thickness of the wall portion of the sensor case becomes thin, the influence of the stress generated in the soldered portion appears in the output. Therefore, assuming that the soldered portion formed on the back surface of the wall of the sensor case has a circular shape having a predetermined width dimension, the mounting position of the cylinder and the mounting position of the semiconductor pressure sensor element are as follows. It is preferable that the relationship be In other words, a virtual inscribed circle between the inscribed circle and the circumscribed circle of the soldered portion and a virtual center circle concentric with the circumscribed circle introduces fluid into the junction region between the diaphragm support portion and the sensor case wall. The position of the part to be soldered is determined so as to be located outside the virtual annular center line that is virtual so as to surround the hole. Here, the virtual annular center line is circular if the shape of the diaphragm support portion is annular, and is rectangular if the shape of the diaphragm support portion is rectangular, depending on the shape of the diaphragm support portion. The shape changes. In this case, a cylindrical body having a soldered end portion having a center diameter equal to or larger than the virtual center circle is used. Here, the center diameter is a diameter of an imaginary circle that is hypothesized at the center between the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the soldered end of the cylinder and is concentric with the inner peripheral surface and the outer peripheral surface. The soldering end of the cylinder is soldered to the soldered part so as to be substantially concentric with the virtual center circle. This makes it difficult for the stress applied to the sensor case from the soldered portion of the soldered portion to be applied to the semiconductor sensor element. The further away the virtual center circle is from the virtual center line, the more the influence of stress on the semiconductor sensor element can be reduced.
[0014]
In particular, when the soldered part is partially opposed to the joining region with the wall in between, the thickness of the wall part between the joining region and the soldered part is 2.5 mm or less. The thickness of the soldered end of the cylinder is in the range of 0.2 to 0.8 mm. If it does in this way, the thickness of a wall part can be made thin, and the soldering intensity | strength required for fixation of a cylinder can be ensured, without enlarging the area of a soldering part too much.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1A is a partially cutaway plan view of an embodiment of a semiconductor pressure sensor of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. FIG. 2 is a view showing the back surface of the sensor case before soldering and connecting a
[0016]
The semiconductor pressure sensor 1 according to the present embodiment basically includes a semiconductor
[0017]
The
[0018]
The annular
[0019]
Such a
[0020]
As shown in FIG. 3, the back surface of the
[0021]
In this example, the soldered
[0022]
As in this example, when the soldered
[0023]
The
[0024]
The outer surface of the
[0025]
Among the plurality of
[0026]
In the semiconductor pressure sensor 1 having the above-described structure, the fluid to be measured is supplied from the
[0027]
【The invention's effect】
According to the present invention, since the flange portion is not provided in the metal cylinder that is soldered and connected to the soldered portion on the back surface of the wall portion of the ceramic sensor case, the soldered portion and the cylinder are soldered. The soldering part connecting the end part becomes smaller, and the stress generated in the soldering part can be reduced. Therefore, even if the thickness of the wall portion of the sensor case to which the cylindrical body is joined is reduced, the stress generated in the soldering portion due to the temperature change hardly reaches the semiconductor pressure sensor element, and the temperature characteristics can be improved.
[0028]
In particular, a virtual center circle concentric with the inscribed circle and the circumscribed circle between the inscribed circle and the circumscribed circle of the soldered portion is arranged between the diaphragm support portion and the sensor case wall. Formed so as to be positioned outside the virtual virtual center line so as to surround the fluid introduction hole in the joining region, and the soldered end of the cylinder as a center diameter is the same as or larger than the virtual center circle If the soldered end of the cylinder is soldered and connected to the soldered part so that it is arranged almost concentrically with the virtual center circle, the effect of the stress generated in the soldered part is greatly reduced. can do.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1A is a partially cutaway plan view of an embodiment of a semiconductor pressure sensor of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. 1A.
FIG. 2 is a bottom view of the sensor case before the cylinder is soldered to the sensor case in the embodiment of FIG.
FIG. 3 is a circuit diagram of a bridge circuit formed in a diaphragm portion of the semiconductor pressure sensor according to the embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a longitudinal end view of a structure of an example of a conventional semiconductor pressure sensor.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (2)
表面に前記半導体圧力センサ素子の前記ダイアフラム支持部が接合され且つ前記半導体圧力センサ素子の前記ダイアフラム部に圧力測定の対象となる流体を導くための流体導入孔が形成された壁部を備えたセラミック製のセンサケースと、
前記センサケースの前記壁部の裏面に前記流体導入孔の開口端部の周囲を囲むように形成された半田付けが可能な被半田付け部と、
前記被半田付け部に半田付けにより接続された金属製の筒体とを具備する半導体圧力センサであって、
前記被半田付け部に半田付けされる前記筒体の環状の半田付け端部はフランジ部を備えておらず、前記半田付け端部の端面が前記被半田付け部に半田付け接続されており、
前記被半田付け部は所定の幅寸法を有する円形形状を呈しており、
前記被半田付け部の内接円と外接円との間に仮想した前記内接円及び外接円と同心をなす仮想中心円が、前記ダイアフラム支持部と前記センサケースの前記壁部の接合領域内に前記流体導入孔を囲むように仮想した仮想環状中心線よりも外側に位置するように、前記被半田付け部が形成され、
前記筒体の前記半田付け端部は前記仮想中心円と同じまたはそれよりも大きな中心直径を有しており、前記半田付け端部が前記仮想中心円とほぼ同心的に配置されていることを特徴とする半導体圧力センサ。A semiconductor pressure sensor element in which a diaphragm portion in which a resistance bridge circuit is formed and a diaphragm support portion that supports an outer peripheral portion of the diaphragm portion are integrally formed;
A ceramic having a wall portion on which a diaphragm supporting portion of the semiconductor pressure sensor element is bonded and a fluid introduction hole is formed in the diaphragm portion of the semiconductor pressure sensor element to guide a fluid to be measured. A sensor case made of
A solderable portion capable of being soldered so as to surround the periphery of the opening end portion of the fluid introduction hole on the back surface of the wall portion of the sensor case;
A semiconductor pressure sensor comprising a metal cylinder connected to the soldered portion by soldering,
The annular soldering end of the cylindrical body to be soldered to the soldered portion does not include a flange portion, and the end surface of the soldering end is soldered to the soldered portion ,
The soldered portion has a circular shape having a predetermined width dimension,
An imaginary center circle concentric with the inscribed circle and the circumscribed circle between the inscribed circle and the circumscribed circle of the soldered portion is within a junction region between the diaphragm support portion and the wall portion of the sensor case. The soldered portion is formed so as to be located outside the virtual annular center line that is virtual so as to surround the fluid introduction hole.
The soldering end of the cylindrical body has a center diameter that is the same as or larger than the virtual center circle, and the soldering end is disposed substantially concentrically with the virtual center circle. A semiconductor pressure sensor.
前記接合領域と前記被半田付け部との間の前記壁部の厚み寸法は2.5mm以下であり、
前記筒体の前記半田付け端部の肉厚が、0.2〜0.8mmであることを特徴とする請求項1に記載の半導体圧力センサ。The soldered portion is partially opposed to the joining region with the wall portion in between,
The thickness dimension of the wall part between the joining region and the soldered part is 2.5 mm or less,
2. The semiconductor pressure sensor according to claim 1 , wherein a thickness of the soldering end portion of the cylindrical body is 0.2 to 0.8 mm.
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56161352U (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-01 | ||
JPS60253280A (en) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Omron Tateisi Electronics Co | Semiconductor pressure sensor |
JPS62293131A (en) * | 1986-06-12 | 1987-12-19 | Nippon Soken Inc | Pressure detector |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56161352U (en) * | 1980-04-28 | 1981-12-01 | ||
JPS60253280A (en) * | 1984-05-29 | 1985-12-13 | Omron Tateisi Electronics Co | Semiconductor pressure sensor |
JPS62293131A (en) * | 1986-06-12 | 1987-12-19 | Nippon Soken Inc | Pressure detector |
JPH0255145U (en) * | 1988-10-14 | 1990-04-20 | ||
JPH0272949U (en) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | ||
JPH11201846A (en) * | 1998-01-12 | 1999-07-30 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor pressure detector |
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