JP4645005B2 - ペーストおよびそれを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイなどのディスプレイパネル用部材の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル(以下PDPと称する)は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、また大型化が容易であることからOA機器および広報表示装置などの分野に浸透している。さらに、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。このような用途拡大に伴って、微細で多数の表示セルを有するカラーPDPが注目されている。
【0003】
PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内で電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を放電空間内の蛍光体に当てることにより表示を行うものである。この場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するために、およそ幅20〜80μm、高さ20〜200μmの形状をもつ隔壁が設けられている。
【0004】
この隔壁の形成方法としては、ガラスペーストをスクリーン印刷で印刷・乾燥し、この工程を多数回繰り返し、所定の高さにした後、焼成する方法、感光性ガラスペーストを用いてフォトリソグラフィー技術により形成する方法、フォトリソ法で形成したサブトラティブマスク層を介してサンドブラストや液体ホーニングにより隔壁を形成する方法などが知られている。
【0005】
この隔壁形成に用いられるガラスペーストや感光性ガラスペーストは、スクリーン印刷やドクターブレードあるいはスリットダイコーターによる塗布のためにペーストの流動特性を制御することが必要となる。
【0006】
従来、ガラスペーストや感光性ガラスペーストの流動特性を制御するためにペーストにチキソトロピー付与剤を添加する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、従来から使用されているチキソトロピー付与剤の中には、流動特性の制御が可能であるが、他の特性面では欠点を有しているものもあり、高品質なプラズマディスプレイパネル用部材を作製するのに障害となっていた。例えば、チキソトロピー付与剤を添加したペーストが貯蔵中に粘度変化を起こしたり、チキソトロピー付与剤の凝集力が強いためにペーストの乾燥膜に色差やオレンジピールを生じるさせたり、あるいは、チキソトロピー付与剤がペースト中で溶解−析出の変化を起こし、沈殿物を生じるためにペーストを基板面内に均一に塗布することができなくなる問題を生じていた。
【0007】
【特許文献1】
特開2000−327371号公報(第3〜8頁)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、上記従来技術に鑑みて、基板面内に均一な塗布が可能となるペーストを提供することを目的とする。
【0009】
本発明の他の目的は、かかるペーストを用いた、高品質のプラズマディスプレイパネル用部材を製造する方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明は、少なくとも無機粉末、アミド化合物、およびその他の有機成分を含有するペーストにおいて、前記無機粉末がガラス粉末および耐火物フィラーであり、前記無機粉末の含有量が35〜95重量%の範囲であり、前記アミド化合物が分子内にアミノ基を2個以上含有する炭素数が2〜6の範囲内である化合物と脂肪酸を反応させて得られたものであり、さらに前記脂肪酸がヒドロキシル基を有しない脂肪酸と1,2−ヒドロキシステアリン酸の混合物であることを特徴とするペーストである。また本発明はペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法であって、上記ペーストを用いることを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法である。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明におけるペーストは、無機粉末、分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物と脂肪酸から得られるアミド化合物およびその他の有機成分から構成される。
【0012】
無機粉末の含有量は、35〜95重量%、さらには、40〜90重量%であることが焼成時の収縮率が小さく、焼成による形状変化が小さくなり好ましい。ペースト中の無機粉末は、ガラス粉末および耐火物フィラーなどが挙げられる。
【0013】
ガラス粉末は、50〜400℃の熱膨張係数が50×10-7〜100×10-7であることが好ましい。また、ガラス中に酸化珪素を3〜60重量%、酸化硼素を5〜50重量%の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの隔壁として要求される電気、機械および熱的特性を向上することができる。本発明におけるガラス粉末としては、主として低融点ガラス粉末からなることが好ましい。低融点ガラス粉末のガラス転移温度は、430〜500℃、ガラス軟化点は、470〜620℃であることが好ましい。ガラス転移温度とガラス軟化点がこの範囲にあると、焼成時に基板の歪みが小さく、また、緻密な隔壁層が得られる。ガラス粉末の粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、体積基準分布の中心径が1〜6μm、最大粒子サイズが30μm以下、比表面積1.5〜4cm2/gであることが好ましい。
【0015】
耐火物フィラーは、焼成時の形状を安定させるために好ましく添加される。耐火物フィラーとしては、500〜650℃程度の焼成温度で軟化しないものが広く使用でき、高融点ガラスやアルミナ、マグネシア、カルシア、コーディエライト、シリカ、ムライト、ジルコン、ジルコニア等のセラミックス粉末が例示できる。PDPの外光反射を低減し、実用上のコントラストを上げるために隔壁を暗色にする場合には、耐火性の黒色顔料として、Co−Cr−Fe、Co−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co−Ni−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、Co−Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−Al−Cr−Fe−Si等の顔料を用いてもよい。一方、蛍光体の発光を有効にパネル前面に導く目的で隔壁を白くする場合には、耐火性の白色顔料としてチタニアなどを用いてもよい。
【0016】
本発明の分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物と脂肪酸から得られるアミド化合物の分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物としては、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ポリアミンなどが挙げられる。これら分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物は、炭素数が2〜6であるものが好ましい。さらに、分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物は、ジアミンであることがより好ましく、具体的には、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、ヘキサメチレンジアミンなどが使用できる。これらのジアミンを使用することで、流動特性と塗布性に優れたペーストを得ることができる。
【0017】
脂肪酸としては、プロピオン酸、酪酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸などを挙げることができ、これらはそれぞれ単独であっても混合物であってもよい。
【0018】
また、脂肪酸は、ヒドロキシル基を有しない脂肪酸とヒドロキシル基を有する脂肪酸の混合物であり、ヒドロキシル基を有する脂肪酸として1,2−ヒドロキシステアリン酸を用いた混合物からなる脂肪酸である。飽和もしくは不飽和脂肪酸と1,2−ヒドロキシステアリン酸の混合比率は、0:10〜8:2のモル比の範囲内が好ましく、1:9〜8:2のモル比の範囲がより好ましく、更に好ましい範囲としては、1:9〜6:4である。
【0019】
ヒドロキシル基を有する飽和もしくは不飽和脂肪酸の混合量が上記割合の範囲内にあることで、流動特性と塗布性に優れたペーストを得ることができる。上記割合より減少すると得られるアミド化合物のペースト中での分散性が向上し、ペーストの塗布性は向上するが、チキソ性が低下する。
【0020】
これらアミド化合物の反応は、通常の脂肪酸アミドの反応に準じて行う。例えば、飽和もしくは不飽和脂肪酸とヒドロキシル基を有する飽和もしくは不飽和脂肪酸の混合物をジアミンと150〜200℃の反応温度にて約5時間脱水反応をせしめ、反応の終点を酸価およびアミン価で管理する。
【0021】
上記アミド化合物は、ペースト中にペーストに対し、0.01〜20wt%の範囲で含むまれることが塗布性の点から好ましく、より好ましくは0.05〜10wt%の範囲である。
【0022】
本発明におけるその他の有機成分としては、バインダー樹脂、有機溶剤、界面活性剤などを挙げることができる。また、特に本発明のペーストを感光性ペーストとして用いる場合には、感光性ポリマー、感光性オリゴマー、感光性モノマーといった感光性成分や光重合開始剤、増感剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤などの添加物成分を加えることができる。
【0023】
本発明のペーストにおけるバインダー樹脂は、焼成時に酸化または/および分解または/および気化し、炭化物が無機物中に残存しないことが好ましく、エチルセルロース、メチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等のセルロース系樹脂、または、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ノルマルブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルメチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシルエチル(メタ)アクリレート等の重合体もしくは共重合体からなるアクリル樹脂、ポリ−α−メチルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブテン等が好ましく用いられる。本発明のペーストにおけるバインダー樹脂の含有量は、5〜65重量%、さらには、10〜60重量%であることが好ましい。
【0024】
ペーストを基板に塗布する時の粘度を塗布方法に応じて調整するために有機溶剤が使用される。このとき使用される有機溶剤としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、テルピネオール、ベンジルアルコール、1−ブトキシ−2−プロパン、1,2−ジアセトキシプロパン、1−メトキシ−2−プロパノール、2−アセトキシ−1−エトキシプロパン、(1,2−メトキシプロポキシ)−2−プロパノール、(1,2−エトキシプロポキシ)−2−プロパノール、2−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(イソペンチルオキシ)エタノール、2−(ヘキシルオキシ)エタノール、2−フェノキシエタノール、2−(ベンジルオキシ)エタノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラフルフリルアルコール、2,2’−ジヒドロキシジエチルエーテル、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−[2−(2−メトキシエトキシ)エトキシ]エタノール、2−メチル−1−ブタンノル、3−メチル−2−ブタノール、2−メチル−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチル−1−ブタノール、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−フェノキシエチルアセテート、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、シクロヘキサンノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、1−メチルペンチルアセテート、2−エチルブチルアセテート、2−エチルヘキシルアセテート、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチルケトンなどが挙げられる。本発明では有機溶剤をペースト中に20〜70wt%の範囲で含まれるのが好ましく、より好ましくは30〜65wt%の範囲である。有機溶剤が20wt%未満ではペーストの粘度が高くなり、高速塗布が困難となる。また、有機溶剤が70wt%を越えると分散粒子の沈降が速くなり、ペーストの組成を安定化することが困難となったり、乾燥に多大なエネルギーと時間を要する等の問題を生じる傾向がある。
【0025】
本発明のペーストで用いられる界面活性剤の具体例としては、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテル酢酸ナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルスルホコハク酸2ナトリウム、ヤシ油脂肪酸サルコシンナトリウム、N−ヤシ油脂肪酸アシル−L−グルタミン酸ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースアンモニウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ひまし油硫酸化油、ポリカルボン酸塩などのアニオン性界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキシド、モノステアリン酸グリセリン、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ソルビタン、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルオキシド、ポリオキシエチレン牛脂アルキルヒドロキシミリスチレンエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、モノステアリン酸プロピレングリコール、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンラノリン、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸アルキロールアミドなどの非イオン性界面活性剤、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ベヘニルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、エチル硫酸ラノリン脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム、塩化セチルピリジウム、ステアリン酸ジエチルアミノエチルアミドの乳酸塩、ステアリン酸ジメチルアミノプロピルアミドのクエン酸塩などのカチオン性界面活性剤、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウロイルアミドエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルベタインヒドロキシプロピルリン酸ナトリウム、β−ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウムなどの両性界面活性剤などが挙げられる。
【0026】
上記界面活性剤の中では、焼成残渣の点から非イオン性界面活性剤を用いるのが好ましい。より好ましくは、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ソルビタン、モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン、ポリオキシエチレンジオレイン酸メチルグルオキシド、ポリオキシエチレンセチルエーテル、モノステアリン酸プロピレングリコール、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルから選ばれる少なくとも1種である。
【0027】
本発明のガラスペーストでは、上記の界面活性剤を1種または2種以上使用するのが好ましい。界面活性剤はペーストに対し、0.01〜10wt%の範囲で含むまれることが好ましく、より好ましくは0.05〜5wt%の範囲である。
【0028】
本発明のペーストを感光性ペーストとして用いる場合には、バインダー樹脂として感光性ポリマーまたは/および感光性オリゴマーを用いるのが好ましい。そのオリゴマーまたはポリマーは、炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合により得られる。
不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後のアルカリ水溶液での現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物などが挙げられる。
こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価は50〜180、さらには70〜140の範囲が好ましい。
【0029】
感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭素不飽和二重結合を有する化合物が多く用いられている。官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が応用できる。具体的には、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。
光重合開始剤は、感光性ペーストに対して0.005〜5重量%の範囲で添加するのが、感光特性上好ましい。
【0030】
本発明のペーストは、各種成分を所定の組成となるように調合した後、プラネタリーミキサー等のミキサーによって予備分散した後、3本ローラーなどの分散機で分散・混練手段によって均質に作製する。
このような無機粉末含有ペーストを基板上に全面塗布、もしくは部部的に塗布する。塗布方法としては、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどの常法を用いることができる。塗布した後、通風オーブン、ホットプレート、IR乾燥炉など任意のものを用いて乾燥し、塗布膜を形成する。
【0031】
次に、本発明のペーストの製造方法によって製造されたペーストをディスプレイパネル用部材への適用する例について説明する。
基板上に、書き込み電極として、感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、ストライプ状電極を形成し、この基板に誘電体ペーストを塗布した後、500〜600℃で焼成して、誘電体層を形成する。
さらに、誘電体層上に感光性ガラスペーストを用いて、フォトリソ法でパターン形成後、500〜600℃で10〜60分間焼成し、ストライプ状の隔壁パターンを形成する。
【0032】
このようにして形成された隔壁に、上記蛍光体ペーストを形成する。蛍光体の形成方法は特に限定されないが、例えば、スクリーン印刷法、口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、感光性ペースト法などが挙げられるが、この中でも口金から蛍光体ペーストを吐出する方法、スクリーン印刷法が簡便で、低コストのPDPを得ることができるため好ましい。蛍光体ペーストを塗布して乾燥させた後、例えば、500℃で30分焼成して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成する。
【0033】
【実施例】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。以下において、「部」とは「重量部」を意味する。
【0034】
(実施例1)
12−ヒドロキシステアリン酸300部(1モル)、アゼライン酸94部(0.5モル)を撹拌装置、温度計、分水器を備えた4つ口フラスコに計量し、120℃で加熱溶解させた。次にフラスコを100℃まで冷却し、ヘキサメチレンジアミン116部(1モル)を除々に加え、140℃で30分間攪拌した。さらに200℃まで昇温し、6時間脱水反応を行った。得られたアミド化合物100部に対し、ベンジルアルコール300部を加え、140℃で加熱攪拌後、10℃に冷却したベンジルアルコール200部と急速混合しペースト状とした。さらに、3−メトキシ−3−メチルブタノール100部を加え均一に混合した後、60℃で24時間膨潤を行い、チキソトロピー付与剤とした。
【0035】
次に、上記チキソトロピー付与剤5部、Bi2O3/SiO2/Al2O3/ZnO/B2O3=82/5/3/5/3/2からなるガラスを粉砕した平均粒径2μmのガラス粉末50部、平均粒径0.5μmの酸化チタン5部、エチルセルロース(ハーキュリーズ社製N−50)5部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート35部を混合し、3本ローラーで混練してペーストを得た。
【0036】
次に、ダイコーター(東レ(株)製)を用いて上記ペーストを340×260×2.8mmサイズのガラス基板(PD−200;旭硝子(株)製)上に塗布し、塗布状態を観察したところ、塗布状態は良好であった。また、乾燥後に膜厚分布を形状測定顕微鏡(株式会社キーエンス製、VK−8500)を用いて測定したところ、面内ばらつきは、±3μmであり、面内均一性も良好であった。
【0037】
次に、340×260×2.8mmサイズのガラス基板(PD−200;旭硝子(株)製)を使用してAC(交流)型プラズマディスプレイパネルの背面板を形成した。
【0038】
基板上に、書き込み電極として、感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、ピッチ140μm、線幅60μm、焼成後厚み4μmのストライプ状電極を形成した。この基板に誘電体ペースト塗布した後、550℃で焼成して、厚み10μmの誘電体層を形成した。
【0039】
さらに、誘電体層上に上記のペーストを用いて、フォトリソ法で形成したサブトラクティブマスク層を介してサンドブラスト法により、パターン形成後、570℃で15分間焼成し、ピッチ140μm、線幅20μm、高さ100μmのストライプ状の隔壁パターンを形成した。このようにして形成された隔壁に各色蛍光体ペーストをスクリーン印刷法を用いて塗布焼成(500℃、30分)して隔壁の側面および底部に蛍光体層を形成した。
【0040】
次に、前面板を以下の工程によって作製した。まず、背面板と同じガラス基板上に、ITOをスパッタ法で形成後、レジスト塗布し、露光・現像処理、エッチング処理によって厚み0.1μm、線幅200μmの透明電極を形成した。また、黒色銀粉末からなる感光性銀ペーストを用いてフォトリソグラフィー法により、焼成後厚み10μmのバス電極を形成した。電極はピッチ140μm、線幅60μmのものを作製した。
【0041】
さらに、電極形成した前面板上に透明誘電体ペーストを20μm塗布し、430℃で20分間保持して焼き付けた。次に形成した透明電極、黒色電極、誘電体層を一様に被覆するように電子ビーム蒸着機を用いて、厚みは0.5μmのMgO膜を形成して前面板を完成させた。
【0042】
得られた前面ガラス基板を、前記の背面ガラス基板と貼り合わせ封着した後、放電用ガスを封入し、駆動回路を接合してプラズマディスプレイ(PDP)を作製した。このパネルに電圧を印加して表示を観察したところ、表示状態は良好であった。
【0043】
(実施例2)
ペースト組成を実施例1で作製したチキソトロピー付与剤5部、Bi2O3/SiO2/Al2O3/ZnO/B2O3=82/5/3/5/3/2からなるガラスを粉砕した平均粒径2μmのガラス粉末50部、平均粒径0.5μmの酸化チタン1部、”サイクロマー”P(ACA250、ダイセル化学工業社製)7.5部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート6部、ベンゾフェノン1部、1,6−ヘキサンジオール−ビス[(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]0.1部、ソルベントレッド27を0.1部、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート28.3部を混合し、3本ローラーで混練して感光性ペーストを得た。
【0044】
得られた感光性ペーストを実施例1と同様に塗布し、塗布状態を観察したところ、塗布状態は良好であった。また、乾燥後に膜厚分布を測定したところ、面内ばらつきは、±3μmであり、面内均一性も良好であった。
【0045】
次に、隔壁の形成を次に示す方法で形成した以外は、実施例1と同様にしてパネルを作製した。隔壁の形成は、フォトマスクを介して露光を行なった後、35℃に保持したモノエタノールアミンの0.3重量%水溶液をシャワーで180秒間かけることにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去して隔壁パターンを形成した。得られたPDPの表示状態は良好であった。
(実施例3〜10)
実施例1のチキソトロピー付与剤の作製方法と同様に、表1の配合比率でチキソトロピー付与剤を作製し、さらに実施例1と同様にペーストを作製した。得られたペーストを実施例1と同様に塗布し、塗布状態を観察した。また、実施例1と同様にPDPを作製した。
【0046】
実施例3〜8では、ペーストの塗布状態は良好で、乾燥後に膜厚分布を測定したところ、面内ばらつきは、±3〜5μmの範囲内であり、面内均一性も良好であった。また、PDPの表示状態も良好であった。
【0047】
実施例9〜10では、塗布、乾燥後の膜厚分布が±5〜10μmの範囲にあり、やや面内均一性が不良であったが、PDPの表示状態は良好であった。
【0048】
【表1】
【0049】
(比較例1)
チキソトロピー付与剤として、ポリ・N−ビニルアセトアミド(日本純薬株式会社製、GX−205)100部と2−エトキシエタノール900部を室温で混合、膨潤させた以外は、実施例1と同様に行った。
【0050】
ペーストの塗布状態は、クレーターが多発し、不良であった。また、PDPの表示状態は、クレーター部に起因する不灯箇所が多数存在し、不良であった。
(比較例2)
チキソトロピー付与剤として、ポリアクリル酸(日本純薬株式会社製、PW−150)10部をトリエタノールアミンで中和後、エチレングリコール990部を室温で混合、膨潤させた以外は、実施例1と同様に行った。
【0051】
ペーストに不均一層ができ、ペーストの塗布ができなかった。
(比較例3)
チキソトロピー付与剤として、酸化ポリエチレン(楠本化成株式会社製、4200−10)をキシレンで膨潤させたものを使用した以外は、実施例1と同様に行った。
【0052】
ペーストを塗布、乾燥後に観察したところ、表面に色差やオレンジピールが発生し、塗布状態が不良であった。
【0053】
【発明の効果】
分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物と脂肪酸から得られるアミド化合物を含むペーストを用いることにより、チキソ性の付与と基板面内に均一な塗布が可能となり、高品質なプラズマディスプレイパネル用部材を提供できる。
Claims (5)
- 少なくとも無機粉末、アミド化合物、およびその他の有機成分を含有するペーストにおいて、前記無機粉末がガラス粉末ならびに耐火物フィラーであり、前記無機粉末の含有量が35〜95重量%の範囲であり、前記アミド化合物が分子内にアミノ基を2個以上含有する炭素数が2〜6の範囲内である化合物と脂肪酸を反応させて得られたものであり、さらに前記脂肪酸がヒドロキシル基を有しない脂肪酸と1,2−ヒドロキシステアリン酸の混合物であることを特徴とするペースト。
- 前記分子内にアミノ基を2個以上含有する化合物がジアミンであることを特徴とする請求項1に記載のペースト。
- 前記ヒドロキシル基を有しない脂肪酸の炭素数が3〜22の範囲内であること特徴とする請求項1または2に記載のペースト。
- 前記ヒドロキシル基を有しない脂肪酸と1,2−ヒドロキシステアリン酸の混合比率が1:9〜8:2モル比の範囲内であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のペースト。
- ペーストを基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイパネル用部材の製造方法であって、ペーストに請求項1〜4のいずれかに記載のペーストを用いることを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法。
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