JP4639067B2 - Manufacturing method of ceramic substrate - Google Patents
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Description
本発明は、フォルステライトを主成分とするセラミック基板に関する。更に詳しくは、無機EL基板に有用なセラミック基板に関する。 The present invention relates to a ceramic substrate mainly composed of forsterite. More specifically, the present invention relates to a ceramic substrate useful for an inorganic EL substrate.
フォルステライト基板はフォルステライト(2MgO・SiO2)を主結晶とするセラミックの基板であり、フォルステライトを主成分としたセラミックスはマイクロ波に対する誘電体損失が小さく、体積固有抵抗も高いので、高周波絶縁材料として高周波用回路部品、抵抗芯材などに使用されている。また、アルミナ基板など他のセラミック材料に比較して、かなり低い温度で焼成することができるので製造効率的にも有利なセラミック材料である。 The forsterite substrate is a ceramic substrate whose main crystal is forsterite (2MgO · SiO2), and ceramics mainly composed of forsterite have a low dielectric loss against microwaves and a high volume resistivity. It is used for high-frequency circuit components and resistance core materials. In addition, since it can be fired at a considerably lower temperature than other ceramic materials such as an alumina substrate, it is an advantageous ceramic material in terms of production efficiency.
上記各種用途に使用する際に、フォルステライト基板の表面を平滑にするため焼成して得られたフォルステライト基板をサンディングにより研磨する必要があるが、研磨することにより内部に存在するボイドが表面に現れてくる。この表面に導電体ペーストを使用して回路パターンを印刷する場合にペーストがボイドに流れ込むなどして正確な印刷パターンが得られないという問題があった。 When used in the above various applications, it is necessary to polish the forsterite substrate obtained by baking to smooth the surface of the forsterite substrate by sanding. Appear. When a circuit pattern is printed on this surface using a conductive paste, there is a problem that an accurate print pattern cannot be obtained because the paste flows into the void.
また、面積が大きく、且つ厚みが薄い用途、例えば無機EL(エレクトロルミネッセンス)基板などのフラットディスプレイ基板に使用する場合にはA4サイズ程度以上の面積をもち、厚みが3mm程度の厚みであるため、曲げ強度が要求される。 In addition, when used for a flat display substrate such as an inorganic EL (electroluminescence) substrate having a large area and a small thickness, for example, it has an area of about A4 size or more, and the thickness is about 3 mm. Bending strength is required.
本発明は、平滑な面を得るために表面を研磨しても、表面に現れるボイドが少なく、強度の大きく、比較的低温度で焼成が可能であり、マイクロ波に対する誘電損失が少なく、体積固有抵抗が高いという特性をもつセラミック基板を提供することである。 Even if the surface is polished to obtain a smooth surface, the present invention has few voids appearing on the surface, has high strength, can be fired at a relatively low temperature, has low dielectric loss with respect to microwaves, and is inherent in volume. It is to provide a ceramic substrate having a characteristic of high resistance.
上記目的を達成するため、検討を進めた結果、特定の組成の成形体を焼成してセラミック基板を得ることが有用であることを見出し、下記構成の本発明を完成するに至った。
1.少なくともフォルステライト80〜99.8重量%及びイットリア0.2〜5重量%からなる成形体を焼成することを特徴とするセラミック基板の製造方法であって、イットリアのメディアン径D50であらわした粒度が4μm以下である上記1に記載のセラミック基板の製造方法。
2.セラミック基板がフラットパネル用の基板である上記1に記載のセラミック基板の製造方法。
3.フラットパネルが無機ELパネルである上記1又は2に記載のセラミック基板の製造方法。
4.少なくともフォルステライト80〜99.8重量%及びイットリア0.2〜5重量%からなる成形体を焼成して得られるセラミック基板を基板として含むことを特徴とするフラットパネルであって、
前記フラットパネルがELフラットパネルである上記3に記載のフラットパネル。
As a result of investigations to achieve the above object, it has been found useful to obtain a ceramic substrate by firing a molded body having a specific composition, and the present invention having the following constitution has been completed.
1. A method for producing a ceramic substrate comprising firing a molded body comprising at least 80-99.8% by weight of forsterite and 0.2-5% by weight of yttria, wherein the particle size represented by a median diameter D50 of yttria is 4 μm or less. 2. A method for producing a ceramic substrate as described in 1 above.
2 . 2. The method for producing a ceramic substrate according to 1 above, wherein the ceramic substrate is a substrate for a flat panel.
3 . 3. The method for producing a ceramic substrate according to 1 or 2 above, wherein the flat panel is an inorganic EL panel.
4 . A flat panel comprising a ceramic substrate obtained by firing a compact comprising at least 80-99.8% by weight of forsterite and 0.2-5% by weight of yttria as a substrate ,
4. The flat panel as described in 3 above, wherein the flat panel is an EL flat panel.
本発明は、上記の問題点を解決すべくなされたもので、平滑な面を得るために表面を研磨しても、表面に現れるボイドが少なく、強度の大きく、比較的低温度で焼成が可能であり、マイクロ波に対する誘電損失が少なく、体積固有抵抗が高いという特性をもつセラミック基板を提供する効果を有する。 The present invention has been made to solve the above problems, and even if the surface is polished to obtain a smooth surface, there are few voids appearing on the surface, the strength is high, and firing is possible at a relatively low temperature. And having an effect of providing a ceramic substrate having characteristics of low dielectric loss to microwaves and high volume resistivity.
本発明のセラミック基板は、特定量のフォルステライト及びイットリアからなる成形体を焼成することを特徴とするセラミック基板である。
全成形体中に、フォルステライトが80〜99.8重量%、
イットリアが0.2〜5重量%含有されるのが好ましく、
全成形体中に、フォルステライトが95〜99.5重量%、
イットリアが0.5〜2重量%含有されるのが更に好ましい。
The ceramic substrate of the present invention is a ceramic substrate characterized by firing a molded body made of a specific amount of forsterite and yttria.
Forsterite is 80-99.8% by weight in the whole molded body,
It is preferable that yttria is contained in an amount of 0.2 to 5% by weight,
95-99.5% by weight of forsterite in the whole molded body
More preferably, 0.5 to 2% by weight of yttria is contained.
フォルステライトの組成が上記下限値未満であるとフォルステライト基板が本来有する比較的低温で焼成が可能であり、マイクロ波に対する誘電損失が少なく、体積固有抵抗が高いという特性値が低下し、フォルステライトの組成値が上記上限値を超えると、相対的にイットリアの量が低下するためにボイドの数が増加する。
イットリアの組成が上記下限値であると、イットリアの添加効果が低下してボイドの数が増加し、上記上限値を超えると、イットリアが高価であるため基板のコストが高くなるのみでボイドの数そのものはそれ以上低下するわけではないため好ましくない。
If the forsterite composition is less than the above lower limit value, the forsterite substrate can be fired at a relatively low temperature, and the characteristic value of low dielectric loss against microwaves and high volume resistivity decreases. When the composition value exceeds the above upper limit, the amount of yttria is relatively reduced, so that the number of voids increases.
If the composition of yttria is the above lower limit, the effect of yttria addition is reduced and the number of voids increases, and if the upper limit is exceeded, yttria is expensive and the number of voids only increases the cost of the substrate. This is not preferable because it does not decrease any further.
上記イットリアのメディアン径D50であらわした粒度は、4μm未満であるのが好ましく、2μm以下であるのが更に好ましい。
D50の値が、上記4μm以上であるとイットリアの添加効果が低下して、ボイドの数が増加する。
Particle size expressed by the median diameter D50 of the yttria is preferably less than 4 [mu] m, and even more preferably less 2.mu. m.
If the value of D50 is 4 μm or more, the effect of adding yttria is reduced and the number of voids is increased.
本発明のセラミック基板は、フォルステライト、イットリア以外の化合物、鉱物を上記フォルステライト及びイットリアの特定含有量の値を損なわない量で含有され得る。 The ceramic substrate of the present invention may contain compounds other than forsterite and yttria, and minerals in amounts that do not impair the values of the specific content of forsterite and yttria.
本発明のセラミック基板は、所定割合の各種成形体原料を含有するセラミックスラリーを押出成型、射出成型、カレンダーロール、コーティング等の方法でスラリーシートとし、スラリーシートを乾燥して、グリーンシートを得た後、焼成して得られる。
平坦な形状のシートが得られる観点から、スラリーシートはセラミックスラリーをコーティングすることにより製造することが好ましい。
The ceramic substrate of the present invention is a slurry sheet formed by extrusion molding, injection molding, calender roll, coating, etc., using a ceramic slurry containing a predetermined proportion of various molded body materials, and the slurry sheet is dried to obtain a green sheet. Thereafter, it is obtained by firing.
From the viewpoint of obtaining a flat sheet, the slurry sheet is preferably produced by coating a ceramic slurry.
上記セラミックスラリーは、成形体原料、溶媒、更に必要に応じて公知の分散剤、結着樹脂、可塑剤、滑剤等を混合して得ることができる。 The ceramic slurry can be obtained by mixing a molded body raw material, a solvent, and, if necessary, a known dispersant, binder resin, plasticizer, lubricant and the like.
溶媒は、セラミックスラリーを乾燥してグリーンシートを製造する場合に、大部分が揮散して消失するが、セラミックスラリーを適当な粘度とするため、あるいはセラミックスラリーを乾燥する場合に均一な乾燥を可能とするためにその種類、量を選択することが重要である。特に、乾燥工程では、低沸点の溶媒を使用すると乾燥が急激に進み、膜に亀裂が入り、逆に高沸点の溶媒を使用すると乾燥が遅くなるため、複数の溶媒を混合して使用することが好ましい。 When a ceramic slurry is dried to produce a green sheet, most of the solvent is volatilized and disappears. However, a uniform drying is possible to make the ceramic slurry have an appropriate viscosity or when the ceramic slurry is dried. Therefore, it is important to select the type and amount. In particular, in the drying process, if a low-boiling solvent is used, the drying proceeds rapidly, the film cracks, and conversely, if a high-boiling solvent is used, the drying becomes slow. Is preferred.
上記溶媒としては、特に限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、n-プロピルベンゼン、t-ブチルベンゼン、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、テトラリン、デカリン、芳香族ナフサなどの芳香族炭化水素類;例えば、n-ヘキサン、n-ヘプタン、n-オクタン、i-オクタン、n-デカン、ジペンテン、石油スピリット、石油ナフサ、テレピン油などの脂肪系もしくは脂環族系炭化水素類;例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル、酢酸n-アミル、酢酸2-ヒドロキシエチル、酢酸2-ブトキシエチル、酢酸3-メトキシブチル、安息香酸メチルなどのエステル類;例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル-i-ブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンなどのケトン類;例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコールエーテル類;例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、i-ブチルアルコール、s-ブチルアルコール、t-ブチルアルコールなどのアルコール類;水などを挙げることができる。 The solvent is not particularly limited, and examples thereof include benzene, toluene, ethylbenzene, n-propylbenzene, t-butylbenzene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, tetralin, decalin, and aromatic naphtha. Aromatic hydrocarbons; for example, aliphatic or alicyclic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane, n-octane, i-octane, n-decane, dipentene, petroleum spirit, petroleum naphtha, turpentine oil, etc. Esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, n-amyl acetate, 2-hydroxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methyl benzoate; for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl- ketones such as i-butyl ketone, isophorone, cyclohexanone, methylcyclohexanone; for example, ethylene glycol monomer Glycol ethers such as ether ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether; for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n -Alcohols such as butyl alcohol, i-butyl alcohol, s-butyl alcohol, t-butyl alcohol; water and the like.
上記結着樹脂としては、特に制限は無いが、エチレン酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン、APP、メタクリル系樹脂、ポリアセタール、セルロース、エチレン酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、などを挙げることができる。 The binder resin is not particularly limited, and examples thereof include ethylene vinyl acetate resin, polystyrene, APP, methacrylic resin, polyacetal, cellulose, ethylene vinyl acetate, polyvinyl butyral, and polyvinyl acetate.
原材料の配合は、ボールミル、振動ミル、ホモミキサー、ロールミル等の公知の混合装置で混合し、セラミックスラリーを得ることができる。 The raw materials can be mixed by a known mixing device such as a ball mill, a vibration mill, a homomixer, or a roll mill to obtain a ceramic slurry.
セラミックスラリーの粘度は、好ましくは5000〜40000 mPa・s (ミリパスカル・セカンド)、更に好ましくは10000〜30000 mPa・s であり、溶媒の添加量を調整して粘度を調整することができ、粘度が低いと無機粉体が沈降する傾向にあり、また、粘度が高いと塗工性が低下する。 The viscosity of the ceramic slurry is preferably 5000 to 40000 mPa · s (millipascal second), more preferably 10000 to 30000 mPa · s. The viscosity can be adjusted by adjusting the amount of solvent added. When it is low, the inorganic powder tends to settle, and when the viscosity is high, the coating property is lowered.
セラミックスラリーにおける溶媒以外の成分の割合は、50〜90%が好ましく、65〜80%がより好ましい。 The proportion of components other than the solvent in the ceramic slurry is preferably 50 to 90%, more preferably 65 to 80%.
セラミックスラリーを塗工することによりスラリーシートを得る場合には、コンマコーター、ダイコーター、カーテンコーター、ファウンテンコーター等の塗工機を使用して基材フィルム上に塗工し、セラミックスラリーの塗工層を製造することができる。 When obtaining a slurry sheet by applying ceramic slurry, apply it on the base film using a coating machine such as a comma coater, die coater, curtain coater, fountain coater, etc. Layers can be manufactured.
セラミックスラリーを塗工する基材フィルムとしては、公知の合成樹脂シート、紙、布、不織布等を離型処理したものを使用することができるが、表面精度の観点からポリエステル樹脂等の合成樹脂シートの表面を離型処理したものが好ましい。 As the base film for applying the ceramic slurry, a known synthetic resin sheet, paper, cloth, non-woven fabric or the like can be used, but from the viewpoint of surface accuracy, a synthetic resin sheet such as a polyester resin can be used. Those obtained by subjecting the surface to mold release treatment are preferred.
塗工厚みは用途によりさまざまであるが、本発明のセラミック基板が回路基板に使用される場合は乾燥厚みが好ましくは200μm〜2mm、無機EL基板に使用される場合には乾燥厚みが好ましくは1mm〜5mmになるように塗工厚みを調整する。 Although coating thickness will vary depending on the application, if the ceramic substrate of the present invention is used for the circuit board dry thickness is preferably 200 [mu] m to 2 mm, dry thickness when used for the inorganic EL substrate preferably Adjust the coating thickness to be 1mm to 5mm.
基材フィルム上に塗工されたスラリーシートは、温風乾燥機、熱風乾燥機、遠赤外乾燥機等で乾燥してグリーンシートを得ることができる。乾燥操作後にシートの内部に溶媒が残存すると、膜に亀裂が入る可能性があるため、スラリー内部の溶媒が抜けきる前にスラリー表面が乾燥しないようにすることが好ましい。乾燥温度は20〜150℃が好ましく、更に好ましくは40〜120℃、乾燥時間は5〜60分が好ましく、10〜40分が更に好ましく、低温から高温まで段階的に、若しくは連続的に昇温して乾燥することが好ましい。 The slurry sheet coated on the substrate film can be dried with a hot air dryer, hot air dryer, far-infrared dryer or the like to obtain a green sheet. If the solvent remains in the sheet after the drying operation, there is a possibility that the film may crack. Therefore, it is preferable that the slurry surface is not dried before the solvent in the slurry is completely removed. The drying temperature is preferably 20 to 150 ° C, more preferably 40 to 120 ° C, the drying time is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes, and the temperature is raised stepwise or continuously from low to high temperatures. And drying.
グリーンシートの焼成に先立ち、得られたグリーンシートを使用目的に応じてカットし、必要に応じて複数枚積層する。 Prior to firing the green sheet, the obtained green sheet is cut according to the purpose of use, and a plurality of sheets are laminated as necessary.
基材フィルムを剥離したグリーンシートを焼成する場合には、グリーンシート中のフォルステライト等の成型体が焼結を開始する前に結着剤樹脂が分解し、その後成形体が焼成される必要がある。
このため、例えは゛200〜500℃で約1〜10時間加熱して結着樹脂を十分に分解した後、1000〜1500℃で数時間加熱して、成形体を焼結する焼成工程をとることができる。
When firing the green sheet from which the base film has been peeled off, the binder resin must be decomposed before the molded body such as forsterite in the green sheet starts sintering, and then the molded body needs to be fired. is there.
For this reason, for example, after the binder resin is sufficiently decomposed by heating at 200 to 500 ° C. for about 1 to 10 hours, it is heated at 1000 to 1500 ° C. for several hours to take a firing step of sintering the molded body. it can.
以上のようにして得られるセラミック基板を使用目的に応じて表面等を公知の方法で研磨して使用することができる。 The ceramic substrate obtained as described above can be used by polishing the surface or the like by a known method according to the purpose of use.
以下に実施例を挙げ、本発明の効果を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。なお、実施例において用いた試験方法及び評価方法は以下のとおりである。 EXAMPLES Examples will be given below to specifically describe the effects of the present invention, but the present invention is not limited to these examples. The test methods and evaluation methods used in the examples are as follows.
(1)研磨
各実施例で得られた厚み1.7mmのセラミック基板を一辺5cmの正方形にカットした試験辺を作成した。この試験片を、研磨機(丸本ストリアス株式会社製:丸本試料準備研磨機型式6525/B)の研磨面上に押し当て、C80の研磨剤で1分、C400の研磨剤で5分、C1500の研磨剤で10分研磨して厚み1.5mmの平滑な新しい表面を得た。
(1) Polishing A test side was prepared by cutting a 1.7 mm thick ceramic substrate obtained in each example into a square with a side of 5 cm. This test piece was pressed on the polishing surface of a polishing machine (manufactured by Marumoto Streas Co., Ltd .: Marumoto Sample Preparation Polishing Machine Model 6525 / B), 1 minute with C80 abrasive, 5 minutes with C400 abrasive, Polishing with a C1500 abrasive for 10 minutes gave a smooth new surface with a thickness of 1.5 mm.
(2)ボイド測定
上記研磨試料片の研磨面を50倍の光学顕微鏡で観察し、研磨試料一枚当たりの5μm以上のボイドの数を測定した。
(2) a polishing surface voids measuring the polishing test piece was observed with 50x optical microscope to measure the number of 5 [mu] m or more voids per piece polishing sample.
(3)強度
焼成して得られた試料を長さ50mm、巾12mmにカットして測定試料を作成し、JIS C-2141 に準じて強度を測定した
(3) Strength
A sample obtained by firing was cut into a length of 50 mm and a width of 12 mm to prepare a measurement sample, and the strength was measured according to JIS C-2141.
実施例1
(1)セラミックスラリーの作成
フォルステライト(共立マテリアル株式会社製:合成フォルステライトFF-200)99重量部、イットリア(日本イットリウム株式会社製:微粉末99.9%イットリウムオキサイド、メディアン径D50=1.38)1重量部、メタノール23重量部、トルエン27重量部、ポリビニルブチラール(積水化学工業株式会社製:エスレックBM−S)10重量部、ジブチルフタレート8重量部をボールミルに添加し、30時間混合して、粘度15,000センチポイズ(BM型粘度計10rpm)のセラミックスラリーを得た。
Example 1
(1) Preparation of ceramic slurry 99 parts by weight of forsterite (manufactured by Kyoritsu Material Co., Ltd .: synthetic forsterite FF-200), yttria (manufactured by Japan Yttrium Co., Ltd .: fine powder 99.9% yttrium oxide, median diameter D50 = 1.38) 1 weight Parts, methanol 23 parts by weight, toluene 27 parts by weight, polyvinyl butyral (Sekisui Chemical Co., Ltd .: ESREC BM-S) 10 parts by weight, dibutyl phthalate 8 parts by weight are added to a ball mill, mixed for 30 hours, viscosity 15,000 A ceramic slurry of centipoise (BM type viscometer 10 rpm) was obtained.
(2)グリーンシートの作成
上記セラミックスラリーをPET剥離シート上にアプリケーターを使用し、縦20cm、横20cm、乾燥厚み2mmに塗布し、熱風乾燥機中で80℃で60分乾燥してグリーンシートを得た。
(2) Preparation of green sheet Apply the above ceramic slurry onto a PET release sheet to a length of 20cm, a width of 20cm, and a dry thickness of 2mm, and dry at 80 ° C for 60 minutes in a hot air dryer to obtain a green sheet. Obtained.
(3)セラミック基板の作成
上記グリーンシートを縦15cm、横15cmにカットし、焼成炉中で400℃で8時間加熱し、更に1350℃で4時間加熱して厚み1.7mmのセラミック基板を得た。
得られたセラミック基板の原板を前記条件下で物性試験を行なった結果を表1に示す。
ボイドが存在せず良好な表面が得られた。
(3) Preparation of ceramic substrate The above green sheet was cut into 15 cm length and 15 cm width, heated in a firing furnace at 400 ° C for 8 hours, and further heated at 1350 ° C for 4 hours to obtain a 1.7 mm thick ceramic substrate. .
Table 1 shows the results of physical properties tests performed on the obtained ceramic substrate original plate under the above conditions.
There was no void and a good surface was obtained.
実施例2
フォルステライトの量を99.4重量部、微粉末イットリアの量を0.6重量部とする以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
Example 2
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of forsterite was 99.4 parts by weight and the amount of fine powder yttria was 0.6 parts by weight.
実施例3
成形体としてフォルステライト93重量部、微粉末イットリア1重量部、炭酸カルシウム6重量部を使用する以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
Example 3
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that 93 parts by weight of forsterite, 1 part by weight of fine powder yttria, and 6 parts by weight of calcium carbonate were used as the compact.
実施例4
成形体としてフォルステライト99.2重量部、イットリア(日本イットリウム株式会社製:99.9%イットリウムオキサイド、メディアン径D50=3.8)0.8重量部を使用する以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
Example 4
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 99.2 parts by weight of forsterite and 0.8 parts by weight of yttria (manufactured by Japan Yttrium Co., Ltd .: 99.9% yttrium oxide, median diameter D50 = 3.8) were used.
参考例1
成形体としてフォルステライト100重量部のみを使用する以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。多数のボイドが存在する基板であった。
Reference example 1
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that only 100 parts by weight of forsterite was used as a molded body. The substrate had a large number of voids.
参考例2
成形体としてアルミナ、カルシア、マグネシア、シリカ、等よりなるアルミナ96%セラミック粉末99重量部、微粉末イットリア1重量部を使用する以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。フォルステライトを焼成する低温の焼成条件では焼成が不十分で得られた基板の強度は測定不能であった。
Reference example 2
A ceramic substrate was obtained in the same manner as in Example 1 except that 99 parts by weight of alumina 96% ceramic powder made of alumina, calcia, magnesia, silica, etc. and 1 part by weight of fine powder yttria were used as the molded body. Under low-temperature firing conditions for firing forsterite, the strength of the substrate obtained due to insufficient firing was not measurable.
本発明のセラミック基板は各種の回路基板、ディスプレイ基板に利用が可能であり、前記の特性を有するので大面積のフラットディスプレイパネル、特に無機EL基板に有用である。
The ceramic substrate of the present invention can be used for various circuit boards and display substrates. Since it has the above-mentioned characteristics, it is useful for a large area flat display panel, particularly an inorganic EL substrate.
Claims (5)
イットリア0.2〜5重量%からなる成形体を焼成することを特徴とするセラミック基板の製造方法であって、
前記イットリアのメディアン径D50であらわした粒度が4μm未満であるセラミック基板の製造方法。 A method for producing a ceramic substrate, comprising firing a molded body comprising at least 80-99.8% by weight of forsterite and 0.2-5% by weight of yttria ,
A method for producing a ceramic substrate, wherein the particle size expressed by the yttria median diameter D50 is less than 4 μm.
イットリア0.2〜5重量%からなる成形体を焼成して得られるセラミック基板を基板として含むことを特徴とするフラットパネルであって、前記イットリアのメディアン径D50であらわした粒度が4μm未満であるフラットパネル。 A flat panel comprising a ceramic substrate obtained by firing a compact comprising at least 80-99.8% by weight of forsterite and 0.2-5% by weight of yttria as a substrate , wherein the yttria median A flat panel having a particle size represented by a diameter D50 of less than 4 μm .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004280099A JP4639067B2 (en) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | Manufacturing method of ceramic substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004280099A JP4639067B2 (en) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | Manufacturing method of ceramic substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006089357A JP2006089357A (en) | 2006-04-06 |
JP4639067B2 true JP4639067B2 (en) | 2011-02-23 |
Family
ID=36230681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004280099A Expired - Fee Related JP4639067B2 (en) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | Manufacturing method of ceramic substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4639067B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN119223218A (en) * | 2024-11-29 | 2024-12-31 | 苏州珂玛材料科技股份有限公司 | A method for detecting the damaged layer on the machining surface of yttrium oxide ceramic parts |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63100057A (en) * | 1986-10-15 | 1988-05-02 | 日立金属株式会社 | High density forsterite sintered body and manufacture |
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-
2004
- 2004-09-27 JP JP2004280099A patent/JP4639067B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006089357A (en) | 2006-04-06 |
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Date | Code | Title | Description |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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