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JP4633443B2 - 金属複合材料、その金属複合材料を含む放熱部材および金属複合材料の製造方法 - Google Patents

金属複合材料、その金属複合材料を含む放熱部材および金属複合材料の製造方法 Download PDF

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JP4633443B2 JP2004320257A JP2004320257A JP4633443B2 JP 4633443 B2 JP4633443 B2 JP 4633443B2 JP 2004320257 A JP2004320257 A JP 2004320257A JP 2004320257 A JP2004320257 A JP 2004320257A JP 4633443 B2 JP4633443 B2 JP 4633443B2
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Description

この発明は、金属複合材料その金属複合材料を含む放熱部材および金属複合材料の製造方法に関し、特に、高熱伝導層と低熱膨張層とを備えた金属複合材料その金属複合材料を含む放熱部材および金属複合材料の製造方法に関する。
従来、電子材料やヒートシンク(放熱部材)として用いられる、高熱伝導材と低熱膨張材とを備えた金属複合材料が知られている(たとえば、特許文献1、特許文献2および特許文献3参照)。このような金属複合材料では、高熱伝導材により電子部品などから発生する熱を吸収して外部へ放熱するとともに、低熱膨張材により熱膨張を抑制することが可能である。
上記特許文献1には、Al製の板からなる合わせ材(高熱伝導層)と、熱伝導率の小さい36%Ni−Fe製の板からなる基材(低熱膨張層)とを、約15%〜約30%の圧下率で圧接接合した、電子材料などに使用されるAl/36%Ni−Fe/Alクラッド材が開示されている。
また、上記特許文献2には、低熱膨張材を焼結することにより形成した気孔部を有する低密度成形体に、金属製の高熱伝導材を含侵させることによって形成された放熱体(放熱部材)が開示されている。
また、上記特許文献3には、高熱伝導層と、複数の貫通孔が予め形成された低熱膨張層とを交互に積層するとともに、脱気処理を行いながら、高熱伝導層と低熱膨張層とを高圧で加圧することにより接合した、ヒートシンク(放熱部材)などに使用される電子部品用複合材料が開示されている。
特開平5−386号公報 特開2004−200566号公報 特開平9−312361号公報
上記特許文献1に開示されたAl製の板からなる合わせ材と36%Ni−Fe製の板からなる基材とを約15%〜約30%の圧下率で圧接接合した構造では、Al製の板からなる合わせ材の一方の層と他方の層とは、36%Ni−Fe製の板からなる基材を介して接続されているので、Al製の板からなる合わせ材の一方の層の熱を他方の層に伝達する場合に、熱伝導率の小さい36%Ni−Fe製の板からなる基材を介して熱が伝達される。このため、Al/36%Ni−Fe/Alクラッド材の積層方向の熱伝導率が小さくなるという問題点がある。
また、上記特許文献2に開示された構造では、低熱膨張材を焼結することにより気孔部を有する低密度成形体を形成するので、低密度成形体の内部に形成される気孔部の中には、外部とつながっていない気孔部が存在すると考えられる。この場合に、低密度形成体に高熱伝導材を含侵させることによって放熱体を形成すると、放熱体の内部に存在する外部とつながっていない気孔部には、高熱伝導材が含侵されないので、その分、放熱体(放熱部材)の熱伝導率が小さくなるという問題点がある。
また、上記特許文献3に開示された電子部品用複合材料(放熱部材)は、複数の貫通孔が予め形成された低熱膨張層に対して、高熱伝導層を脱気処理を行いながら高圧で加圧することにより、低熱膨張層に形成された貫通孔に、高熱伝導層を流動させて貫通孔の途中で高熱伝導層同士を接合させているので、貫通孔内に、熱を伝達するのに十分な高熱伝導層を充填することは可能であると考えられる。しかしながら、低熱膨張層に予め形成された貫通孔に、高熱伝導層を加圧することにより充填するという方法では、貫通孔を高熱伝導層により隙間なく完全に充填するのは製造プロセス上極めて困難であると考えられるので、上記特許文献3では、貫通孔と高熱伝導層との間に、隙間が発生する場合があると考えられる。この場合には、その隙間に起因して熱伝導率が小さくなるという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、熱膨張率を小さくするとともに、熱伝導率を大きくすることが可能な金属複合材料を提供することである。
課題を解決するための手段および発明の効果
この発明の第1の局面による金属複合材料は、各々が積層された複数の低熱膨張層と、低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有し、低熱膨張層の表面および裏面を挟むように、低熱膨張層に対して交互に積層された複数の高熱伝導層とを備え、複数の低熱膨張層の各々には、複数の低熱膨張層と複数の高熱伝導層とが圧接接合される際に、複数の低熱膨張層の各々不規則的に分断されて、各々の低熱膨張層の表面から裏面まで貫通するように形成された複数の分断領域が設けられており、複数の分断領域は、各々の低熱膨張層において不規則的に分布しており、圧接接合される際に、複数の低熱膨張層の各々において、複数の分断領域の各々に高熱伝導層が移動されることによって複数の断領域を介して、高熱伝導層同士が接続されている。
この発明の第1の局面による金属複合材料では、上記のように、高熱伝導層と低熱膨張層とを圧接接合することにより、低熱膨張層を分断するとともに、分断領域を介して、高熱伝導層同士を接続することによって、少なくとも2つの層からなる高熱伝導層の一方の層の熱を高熱伝導層を介して他方の層に伝達することができるので、高熱伝導層の一方の層の熱を他方の層に伝達させやすくすることができる。これにより、金属複合材料の熱伝導率を大きくすることができる。また、高熱伝導層と低熱膨張層とを圧接接合する際に低熱膨張層が分断されて高熱伝導層同士が接続されるので、低熱膨張層に分断領域を形成した後に、高熱伝導層を圧接接合することにより高熱伝導層同士を接続する場合と異なり、高熱伝導層同士の接続部と低熱膨張層の分断領域との間に隙間が発生することがない。これにより、金属複合材料の熱伝導率をより大きくすることができる。また、金属複合材料に低熱膨張層を用いることにより、金属複合材料の熱膨張率を小さくすることができる。また、低熱膨張層が2層以上設けられた場合にも、低熱膨張層を分断領域を介して、高熱伝導層同士を接続することにより、金属複合材料の熱伝導率を大きくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、Alを主成分とするとともに、低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする。なお、主成分とするとは、50体積%以上の含有率を有することを意味する。このように構成すれば、Alを主成分とする高熱伝導層により金属複合材料の熱伝導率を、容易に、大きくすることができる。また、低熱膨張層を、36%Ni−Feを主成分とすることによって、金属複合材料の熱膨張率を、容易に、小さくすることができる。
上記高熱伝導層はAlを主成分とするとともに、低熱膨張層は36%Ni−Feを主成分とする金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層と低熱膨張層との体積比は、50:50〜75:25である。このように構成すれば、金属複合材料に占める高熱伝導層の体積比率を大きくすることができるので、金属複合材料の熱伝導率を、より容易に、大きくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、Cuを主成分とするとともに、低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする。なお、主成分とするとは、50体積%以上の含有率を有することを意味する。このように構成すれば、Cuを主成分とする高熱伝導層により金属複合材料の熱伝導率を、容易に、大きくすることができる。
上記高熱伝導層はCuを主成分とするとともに、低熱膨張層は36%Ni−Feを主成分とする金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層と低熱膨張層との体積比は、70:30〜80:20である。このように構成すれば、金属複合材料に占める高熱伝導層の体積比率を大きくすることができるので、金属複合材料の熱伝導率を、より容易に、大きくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、高熱伝導層の一方最外層と他方最外層とは、複数の低熱膨張層の各々に設けられた断領域を介して、高熱伝導層により接続されている。このように構成すれば、高熱伝導層の一方最外層の熱を高熱伝導層を介して他方最外層に伝達することができるので、金属複合材料の熱伝導率をより大きくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、高熱伝導層の一方最外層および他方最外層は、一方最外層および他方最外層から低熱膨張層が露出しないように、低熱膨張層を覆っている。このように構成すれば、金属複合材料の一方最外層および他方最外層の熱伝導率を大きくすることができるので、金属複合材料の熱伝導率をより大きくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、低熱膨張層は、網状の構造を有するように不規則的に分断されている。このように構成すれば、同一の層からなる低熱膨張層は分断されながらも全体としては網状に接続されているので、その全体として網状に接続された低熱膨張層により、低熱膨張層の表面および裏面に配置される高熱伝導層が熱により膨張するのを有効に抑制することができる。これにより、金属複合材料の熱膨張率を小さくすることができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、高熱伝導層の一方最外層および他方最外層の少なくとも一方は、Ni層によって覆われている。このように構成すれば、金属複合材料の一方最外層および他方最外層の少なくとも一方をNi層によって保護することができるので、金属複合材料の最外層が酸化されるのを抑制することができる。
上記第1の局面による金属複合材料において、好ましくは、高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、高熱伝導層の一方最外層および他方最外層の少なくとも一方は、Cuを主成分とする層によって覆われている。このように構成すれば、Cuを主成分とする層により、金属複合材料の一方最外層および他方最外層の少なくとも一方の熱伝導率を、容易に、大きくすることができるので、金属複合材料の熱伝導率を、容易に、大きくすることができる。
上記高熱伝導層の一方最外層および他方最外層の少なくとも一方はCuを主成分とする層によって覆われている金属複合材料において、好ましくは、Cuを主成分とする層は、Ni層によって覆われている。このように構成すれば、Cuを主成分とする層をNi層によって保護することができるので、Cuを主成分とする層が酸化されるのを抑制することができる。
この発明の第2の局面による放熱部材は、上記いずれかの構成を有する金属複合材料を含む。このように構成すれば、熱膨張率を小さくするとともに、熱伝導率を大きくすることが可能な放熱部材を得ることができる。
この発明の第3の局面による金属複合材料の製造方法は、複数の低熱膨張層の各々と、低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する複数の高熱伝導層の各々とを交互に積層した状態で圧接接合して、複数の低熱膨張層の各々を不規則的に分断することによって、複数の低熱膨張層の各々に、不規則的に分布した複数の分断領域を形成する工程と、圧接接合に伴い、複数の低熱膨張層の各々に設けられた複数の分断領域の各々に高熱伝導層を移動させることによって、複数の分断領域を介して、高熱伝導層同士を接続する工程とを備える。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の一実施形態による放熱部材を示した断面図である。図2は、本発明の一実施形態による放熱部材を構成する36%Ni−Fe層を示した平面図である。図3は、図1に示した一実施形態による放熱部材に半導体素子を搭載した状態を示した断面図である。まず、図1〜図3を参照して、本発明の一実施形態による放熱部材の構造について説明する。
本発明の一実施形態による放熱部材1は、図1に示すように、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4およびAl層からなる高熱伝導層5を含む金属複合材料層2と、金属複合材料層2の表面および裏面を覆うように形成されたCu層3とを含んでいる。なお、36%Ni−Fe層は、FeとNiとの質量の比率がFe:Ni=64:36の合金である。また、金属複合材料層2は、約1.0mm〜約2.0mmの厚みを有している。また、金属複合材料層2は、36%Ni−Fe層からなる7層の低熱膨張層4と、各低熱膨張層4の表面および裏面を挟むように低熱膨張層4に対して交互に積層されたAl層からなる8層の高熱伝導層5とを圧接接合することにより形成されている。
すなわち、本実施形態による金属複合材料層2は、低熱膨張層4と高熱伝導層5とを交互に積層して圧接接合(圧延)することにより、低熱膨張層4と高熱伝導層5との延びの違いを利用して低熱膨張層4を分断するとともに、低熱膨張層4の分断された領域10を介して高熱伝導層5同士が接続されるように形成されている。なお、圧接接合時に7層であった低熱膨張層4の層数は、圧接接合後には2〜6層に減少されている。また、高熱伝導層5と低熱膨張層4との体積比は、50:50〜75:25に構成されている。なお、低熱膨張層4を構成する36%Ni−Fe層は、約1.2ppm/℃の熱膨張率と、約13W/(m・K)の熱伝導率とを有する。また、高熱伝導層5を構成するAl層は、23.7ppm/℃の熱膨張率と、237W/(m・K)の熱伝導率とを有する。また、図1に示した金属複合材料層2から高熱伝導層5(図1参照)を除去した低熱膨張層4を上方向から観察すると、図2に示すように、Al層および36%Ni−Fe層の圧延(圧接接合)時の搬送方向(図2のA方向)に対して実質的に垂直な方向(図1および図2のB方向)にのみ分断された網状の構造を有している。なお、分断された領域10は、本発明の「分断領域」の一例である。
また、本実施形態では、図1に示すように、金属複合材料層2を構成する高熱伝導層5は、積層方向(図1のC方向)の上方向の最外部に配置された一方最外層5aと、積層方向(図1のC方向)の下方向の最外部に配置された他方最外層5bとを含んでいる。この高熱伝導層5の一方最外層5aと他方最外層5bとは、低熱膨張層4が分断された領域10を介して各層の高熱伝導層5により接続されている。
また、本実施形態では、金属複合材料層2を構成する高熱伝導層5の一方最外層5aおよび他方最外層5bは、一方最外層5aおよび他方最外層5bから低熱膨張層4が露出しないように低熱膨張層4を覆っている。また、高熱伝導層5からなる一方最外層5aおよび他方最外層5bは、Cu層3によって覆われている。このCu層3は、約0.06mm〜約0.23mmの厚みを有している。また、Cu層3の上面上には、図3に示すように、半導体素子6が半田やエポキシ樹脂などからなる接合層7によって固定されている。
次に、本発明の一実施形態による金属複合材料層2を含む放熱部材1の製造方法について説明する。まず、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5を、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間焼鈍する。これにより、後述する圧接接合時に、Al層からなる高熱伝導層5を延びやすくすることが可能となる。また、Al層からなる高熱伝導層5と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約2.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備する。そして、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5の上面に、約2.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより、3層材を形成する。このとき、Al層からなる高熱伝導層5および36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4は、各約0.8mmの厚みに変形するので、圧接接合された3層材は、約2.4mmの厚みを有する。この後、圧接接合された約2.4mmの厚みを有する3層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行う。これにより、Al層が焼鈍される一方36%Ni−Fe層が焼鈍されない条件で、拡散させることが可能となるので、Al層からなる高熱伝導層5のみを延びやすくすることが可能となる。これにより、圧接接合時に、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を分断しやすくすることが可能となる。なお、この3層材の状態では、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4は分断されていない。
そして、上記した3層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である各約0.8mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備する。その後、約2.4mmの厚みを有する一方の3層材の上面に、約0.8mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、約2.4mmの厚みを有する他方の3層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより7層材を形成する。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の7層材は、約2.24mmの厚みに形成される。この後、7層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行う。なお、この7層材の状態では、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4は分断されていない。
そして、上記した7層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.32mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備する。その後、一方の7層材の上面に、約0.32mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる前述の低熱膨張層4と、別に用意した前述の7層材と同一の構成の7層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより15層材を形成する。このとき、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)は、圧接接合により分断される。また、圧接接合することにより、Al層からなる8層の高熱伝導層5と36%Ni−Fe層からなる7層の低熱膨張層4とからなる15層構造の金属複合材料層2が形成される。この金属複合材料層2は、約1.92mmの厚みに形成される。また、金属複合材料層2を構成する高熱伝導層5と低熱膨張層4との体積比は、50:50〜75:25になるように形成される。この後、15層構造の金属複合材料層2に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行う。
そして、金属複合材料層2と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)を有するとともに、約0.096mm〜約0.384mmの厚みを有する2つのCu層3を準備する。その後、金属複合材料層2の表面および裏面を挟むように、約0.096mm〜約0.384mmの厚みを有するCu層3を配置した後、約60%の圧下率で圧接接合する。これにより、金属複合材料層2の表面および裏面にCu層3が形成された本実施形態による放熱部材1が形成される。この場合、放熱部材1は、約0.845mm〜約1.075mmの厚みに形成される。
なお、このように形成された本実施形態による放熱部材1を半導体素子6の放熱のために用いる場合には、図3に示すように、放熱部材1の上面に半田やエポキシ樹脂などからなる接合層7を介して半導体素子6を取り付ける。
本実施形態では、上記のように、高熱伝導層5と低熱膨張層4とを圧接接合することにより、低熱膨張層4を分断するとともに、分断した領域10を介して、高熱伝導層5の一方最外層5aと他方最外層5bとを高熱伝導層5により接続することによって、高熱伝導層5の一方最外層5aの熱を高熱伝導層5を介して他方最外層5bに伝達することができるので、放熱部材1の熱伝導率を大きくすることができる。また、高熱伝導層5と低熱膨張層4とを圧接接合することにより低熱膨張層4が分断されて高熱伝導層5同士が接続されるので、低熱膨張層4に分断された領域10を形成した後に、高熱伝導層5を圧接接合することにより高熱伝導層5同士を接続する場合と異なり、高熱伝導層5同士の接続部と低熱膨張層4の分断された領域10との間に隙間が発生することがない。また、放熱部材1に低熱膨張層4を用いることにより、放熱部材1の熱膨張率を小さくすることができるので、放熱部材1が熱により変形するのを抑制することができる。
また、本実施形態では、低熱膨張層4を7層設けるとともに、高熱伝導層5を、各々の低熱膨張層4の表面および裏面を挟むように、低熱膨張層4に対して交互に積層することによって、低熱膨張層4が7層設けられた場合にも、低熱膨張層4を分断した領域10を介して、高熱伝導層5同士を接続することにより、放熱部材1の熱伝導率を大きくすることができる。
また、本実施形態では、高熱伝導層5を、Al層からなるとともに、低熱膨張層4を、36%Ni−Fe層からなることによって、Al層からなる高熱伝導層5により放熱部材1の熱伝導率を、容易に、大きくすることができる。また、低熱膨張層4を、36%Ni−Fe層からなることによって、放熱部材1の熱膨張率を小さくすることができる。
また、本実施形態では、高熱伝導層5と低熱膨張層4との体積比を、50:50〜75:25に構成することによって、放熱部材1に占める高熱伝導層5の体積比率を大きくすることができるので、放熱部材1の熱伝導率を、より大きくすることができる。
また、本実施形態では、高熱伝導層5の一方最外層5aと他方最外層5bとを、低熱膨張層4が分断された領域10を介して、高熱伝導層5により接続することによって、高熱伝導層5の一方最外層5aの熱を高熱伝導層5を介して他方最外層5bに伝達することができるので、放熱部材1の熱伝導率をより大きくすることができる。
また、本実施形態では、高熱伝導層5の一方最外層5aおよび他方最外層5bにより、一方最外層5aおよび他方最外層5bから低熱膨張層4が露出しないように、低熱膨張層4を覆うことによって、放熱部材1の一方最外層5aおよび他方最外層5bの熱伝導率を大きくすることができるので、放熱部材1の熱伝導率をより大きくすることができる。
また、本実施形態では、低熱膨張層4を、網状の構造を有するように分断することによって、同一の層からなる低熱膨張層4は分断されながらも全体としては接続されているので、その全体として網状に接続された低熱膨張層4により、低熱膨張層4の表面および裏面に配置される高熱伝導層5が熱により膨張するのを有効に抑制することができる。これにより、放熱部材1の熱膨張率を小さくすることができる。
また、本実施形態では、高熱伝導層5の一方最外層5aおよび他方最外層5bを、Cu層3によって覆うことによって、放熱部材1の一方最外層5aおよび他方最外層5bの熱伝導率を、容易に、大きくすることができるので、放熱部材1の熱伝導率を、容易に、大きくすることができる。
(実施例)
次に、上記した一実施形態による放熱部材1の効果を確認するために行った比較実験について説明する。まず、Al/36%Ni−Fe/Alの3層材による36%Ni−Feの加工(分断)性を調べた比較実験について説明する。この比較実験では、本実施形態に対応する実施例1〜4による試料と、比較例1および2による試料とを作製した。
まず、Al/36%Ni−Fe/Al中の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の体積比率を、それぞれ、14体積%(実施例1)、33体積%(実施例2)、20体積%(実施例3)、14体積%(実施例4)、33体積%(比較例1)および20体積%(比較例2)にしたAl/36%Ni−Fe/Alの3層材を準備した。なお、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)を積極的に分断するために、Al層(高熱伝導層5)は、予め約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間焼鈍した材料を用いるとともに、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)は、焼鈍を行っていない圧延材を用いた。上記の試料について、実施例1、比較例1および2では、約80%の圧下率で圧接接合するとともに、実施例2〜4では、約95%の圧下率で圧接接合した。そして、これらの試料について、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の分断状態を確認した。
80%の圧下率において、Al/36%Ni−Fe/Al中の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の体積比率が33%(比較例1)および20%(比較例2)の場合には、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されなかった。その一方、80%の圧下率において、Al/36%Ni−Fe/Al中の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の体積比率が14%(実施例1)の場合には、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されることが判明した。この結果から、80%の圧下率で圧接されたAl/36%Ni−Fe/Alの3層材では、3層材中の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の体積比率が小さくなるに従い、圧接接合時に、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)にくびれが生じやすくなるとともに、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されやすくなることが判明した。また、95%の圧下率で圧接接合された実施例2〜4では、全て、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断された。この結果から、圧下率が大きくなるに従い、圧接接合時に、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)にくびれが生じやすくなるとともに、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されやすくなることが判明した。
次に、Alと36%Ni−Feとの繰り返し圧接接合による36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の分断状態を調べた実験について説明する。この実験では、実施例5〜7による試料を作製した。
まず、実施例5では、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5を、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間焼鈍した。また、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約2.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備した。そして、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5の上面に、約2.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層5とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより3層材を作製した。この3層材を2つ作製した。このとき、Al層からなる高熱伝導層5および36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4は、各約0.8mmの厚みに変形したので、3層材の厚みは、約2.4mmになった。この後、3層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。
そして、上記した3層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.8mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備した。その後、約2.4mmの厚みを有する3層材の上面に、約0.8mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、約2.4mmの厚みを有する3層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより、Al層および36%Ni−Fe層の7層材は、約2.24mmの厚みに形成された。そして、この7層材を2つ作製した。この後、7層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。
そして、上記した7層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.32mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4を準備した。その後、7層材の上面に、約0.32mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、7層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより15層材を作製した。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の15層材は、約1.92mmの厚みに形成された。この後、15層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。このようにして、実施例5による試料を作製した。なお、この実施例5による試料の36%Ni−Fe層の体積比率は約53%であった。
また、実施例6では、実施例5と同様の方法で作製した15層材と、15層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.13mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4とを準備した。その後、15層材の上面に、約0.13mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、15層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより31層材を作製した。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の31層材は、約1.59mmの厚みに形成された。この後、31層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。このようにして、実施例6による試料を作製した。
また、実施例7では、実施例6と同様の方法で作製した31層材と、31層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.05mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4とを準備した。その後、31層材の上面に、約0.05mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層4と、31層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより63層材を作製した。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の63層材は、約1.29mmの厚みに形成された。この後、63層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。このようにして、実施例7による試料を作製した。
上記のように作製した試料について、図1に示した放熱部材1と同様に、圧延(圧接接合)時の搬送方向(図2のA方向)に対して実質的に垂直な方向(図1および図2のB方向)に切断し、36%Ni−Fe層の分断状態を調べた。その結果を表1に示す。
Figure 0004633443
表1に示すように、圧接接合時の36%Ni−Fe層の層数と、圧接接合後の36%Ni−Fe層の層数とは異なることが判明した。また、Al層および36%Ni−Fe層の積層数が増加するにしたがって、36%Ni−Fe層の平均厚さが減少することが判明した。なお、36%Ni−Fe層の平均厚さは、図1に示すように、複数の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の最大厚さTを測定して平均することにより算出した。これは、Al層および36%Ni−Fe層の積層数が増加するにしたがって圧接する回数が増加するので、合計の圧下率が増加し36%Ni−Fe層の厚さが減少するためであると考えられる。また、表1に示すように、Al層および36%Ni−Fe層の積層数が増加するにしたがって、36%Ni−Fe層の平均長さが増加することが判明した。なお、36%Ni−Fe層の平均長さは、図1に示すように、複数の36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)の長さLを測定して平均することにより算出した。
次に、上記した実施例5〜7による試料、および、実施例5の作製途中で作製したAl層および36%Ni−Fe層の7層材からなる比較例3による試料に対して、Al/36%Ni−Feの繰り返し圧接接合によるAl/と36%Ni−Feとの多層材の熱伝導率および熱膨張率を測定した実験について説明する。なお、実施例5〜7による試料では、上記したように、圧接接合により36%Ni−Fe層は、分断されている一方、比較例3による試料では、圧接接合により36%Ni−Fe層は分断されなかった。
上記の実施例5〜7および比較例3による試料について熱伝導率を測定した結果を図4に示す。
図4に示すように、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されている実施例5〜7の試料では、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されていない比較例3の試料と比べて大幅に熱伝導率が大きくなることが判明した。これは、以下の理由によると考えられる。すなわち、36%Ni−Fe層(低熱膨張層4)が分断されている実施例5〜7の試料では、図1に示すように、分断された領域10を介して、高熱伝導層5同士が接続されることによって、高熱伝導層5の一方最外層5aの熱を高熱伝導層5を介して他方最外層5bに良好に伝達することができるためであると考えられる。また、実施例5および6の試料において、熱伝導率は同程度であることが判明した。また、Alと36%Ni−Feとの積層数が31層(実施例6)よりも大きくなると、積層数の増加に伴って、熱伝導率が小さくなることが判明した。
また、図5に示すように、36%Ni−Fe層が分断されている実施例5〜7の試料では、36%Ni−Fe層が分断されていない比較例3の試料と比べて大幅に熱膨張率が小さくなることが判明した。また、実施例5〜7の試料において、36%Ni−Fe層の層数(Al/36%Ni−Fe層の積層数)が大きくなるにしたがって、熱膨張率が大きくなることが判明した。
次に、Alと36%Ni−Feとの体積比を変化させてAl/36%Ni−Feの多層材の熱伝導率および熱膨張率を測定した実験について説明する。この測定実験では、上記した実施例5および以下に説明する実施例8および9による試料を作製して測定を行った。なお、上記した実施例5による試料は、上記のように、36%Ni−Fe層の体積比率が約53%に形成されている。
また、実施例8では、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層を、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間焼鈍した。また、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約1.5mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層を準備した。そして、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層の上面に、約1.5mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層と、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより、3層材を作製した。この3層材を2つ作製した。このとき、Al層からなる高熱伝導層は、約0.8mmの厚みに変形するとともに、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層は、各約0.6mmの厚みに変形するので、圧接接合された3層材は、約2.2mmの厚みに形成された。この後、圧接された約2.2mmの厚みを有する3層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。
そして、上記した3層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.6mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層を準備した。その後、約2.2mmの厚みを有する3層材の上面に、約0.6mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層と、約2.2mmの厚みを有する3層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより7層材を作製した。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の7層材は、約2.0mmの厚みに形成された。また、7層材の36%Ni−Feの体積比率は、約64%に形成されている。また、この実施例8では、7層材は、36%Ni−Fe層が分断された。これは、前述のように、36%Ni−Feの層の厚みが小さいので、36%Ni−Fe層が分断されやすくなったためであると考えられる。この後、7層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。このようにして、実施例8による試料を作製した。
また、実施例9では、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層を、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間焼鈍した。また、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約1.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層を準備した。そして、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層の上面に、約1.0mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層と、約2.0mmの厚みを有するAl層からなる高熱伝導層とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより、3層材を作製した。この3層材を2つ作製した。このとき、Al層からなる高熱伝導層は、約0.8mmの厚みに変形するとともに、36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層は、約0.4mmの厚みに変形するので、圧接接合された3層材は、約2.0mmの厚みに形成された。この後、圧接された約2.0mmの厚みを有する3層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。
そして、上記した3層材と積層する面が同程度の大きさ(長さおよび幅)である約0.4mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層を準備した。その後、約2.0mmの厚みを有する3層材の上面に、約0.4mmの厚みを有する36%Ni−Fe層からなる低熱膨張層と、約2.0mmの厚みを有する3層材とをこの順番で重ね合わせた後、約60%の圧下率で圧接接合することにより7層材を作製した。これにより、Al層および36%Ni−Fe層の7層材は、約1.76mmの厚みに形成された。また、7層材の36%Ni−Feの体積比率は、約73%に形成されている。また、この実施例9における7層材は、36%Ni−Fe層が分断された。この後、7層材に対して、水素雰囲気中で、約300℃〜約500℃の温度で1分〜3分間拡散焼鈍を行った。このようにして、実施例9による試料を作製した。
上記の実施例5、8および9による試料について熱伝導率を測定した結果を図6に示す。
図6に示すように、実施例5、8および9の試料では、35W/(m・K)以上の良好な熱伝導率を得ることができるとともに、Alの体積比率が大きくなるにしたがって、熱伝導率が大きくなることが判明した。これは、放熱部材1(図1参照)における高熱伝導層5(図1参照)の体積比率が大きくなるためであると考えられる。この結果から、Alの体積比率が、53%(約50%)〜73%(約75%)であれば、良好な熱伝導率を得ることができると言える。
また、上記の実施例5、8および9による試料について熱膨張率を測定した結果を図7に示す。
図7に示すように、実施例5、8および9の試料では、約13ppm/℃以下の熱膨張率を得ることができるとともに、Alの体積比率が大きくなるにしたがって、熱膨張率が大きくなることが判明した。これは、放熱部材1(図1参照)における低熱膨張層4(図1参照)の体積比率が小さくなるためであると考えられる。
なお、今回開示された実施形態および実施例は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態および実施例の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等などの意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記実施形態では、低熱膨張層の主成分を36%Ni−Feとした例を示したが、本発明はこれに限らず、低熱膨張層の主成分を36%Ni−Fe以外の金属にしてもよい。この場合、低熱膨張層の主成分は、コバールや42Ni−Fe合金などが好ましい。
また、上記実施形態では、高熱伝導層をAl層により形成した例を示したが、本発明はこれに限らず、高熱伝導層をAlを主成分とするAl合金層により形成してもよいし、高熱伝導層をAl層以外のCu層、Ag層およびAu層、または、これらを主成分とする合金層などの金属層により形成してもよい。なお、高熱伝導層をCu層またはCu合金層により形成する場合は、高熱伝導層と低熱膨張層との体積比は、70:30〜80:20とするのが好ましい。
また、上記実施形態では、圧接接合後に低熱膨張層を2〜6層有する構造について説明したが、本発明はこれに限らず、圧接接合後に低熱膨張層を1層のみ有していてもよいし、7層以上有していてもよい。
また、上記実施形態では、Cu層の上面上に半導体素子を接合層によって取り付ける例を示したが、本発明はこれに限らず、図8に示した本発明の一実施形態の第1変形例のように、Cu層3をNi層8によって覆うとともに、Ni層8の上面上に半導体素子6を接合層7によって取り付けてもよい。
また、上記実施形態では、Al層および36%Ni−Fe層を含む金属複合材料層を、Cu層によって覆った例を示したが、本発明はこれに限らず、図9に示した本発明の一実施形態の第2変形例のように、Al層および36%Ni−Fe層を含む金属複合材料層2をCu層によって覆わなくてもよい。なお、この第2変形例において、Al層および36%Ni−Fe層を含む金属複合材料層2をNi層によって覆うようにしてもよい。
また、上記実施形態では、金属複合材料層を放熱部材として用いた例を示したが、本発明はこれに限らず、金属複合材料層を放熱部材以外に電子材料などとして用いてもよい。
本発明の一実施形態による放熱部材を示した断面図である。 本発明の一実施形態による放熱部材の36%Ni−Fe層を示した平面図である。 図1に示した一実施形態による放熱部材に半導体素子を搭載した状態を示した断面図である。 Al/36%Ni−Feの繰り返し圧接接合によるAl/36%Ni−Feの多層材の熱伝導率の比較実験の結果を示したグラフである。 Al/36%Ni−Feの繰り返し圧接接合によるAl/36%Ni−Feの多層材の熱膨張率の比較実験の結果を示したグラフである。 Alと36%Ni−Feとの体積比によるAl/36%Ni−Feの多層材の熱伝導率の比較実験の結果を示したグラフである。 Alと36%Ni−Feとの体積比によるAl/36%Ni−Feの多層材の熱膨張率の比較実験の結果を示したグラフである。 本発明の一実施形態の第1変形例による金属複合材料を用いた放熱部材に半導体素子を搭載した状態を示した断面図である。 本発明の一実施形態の第2変形例による金属複合材料を用いた放熱部材に半導体素子を搭載した状態を示した断面図である。
1 放熱部材
3 Cu層
4 低熱膨張層
5 高熱伝導層
5a 一方最外層
5b 他方最外層
10 分断された領域(分断領域)

Claims (13)

  1. 各々が積層された複数の低熱膨張層と、
    前記低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、前記低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有し、前記低熱膨張層の表面および裏面を挟むように、前記低熱膨張層に対して交互に積層された複数の高熱伝導層とを備え、
    前記複数の低熱膨張層の各々には、前記複数の低熱膨張層と前記複数の高熱伝導層とが圧接接合される際に、前記複数の低熱膨張層の各々不規則的に分断されて、各々の前記低熱膨張層の前記表面から前記裏面まで貫通するように形成された複数の分断領域が設けられており
    前記複数の分断領域は、各々の前記低熱膨張層において不規則的に分布しており、
    前記圧接接合される際に、前記複数の低熱膨張層の各々において、前記複数の分断領域の各々に前記高熱伝導層が移動されることによって前記複数の断領域を介して、前記高熱伝導層同士が接続されている、金属複合材料。
  2. 前記高熱伝導層は、Alを主成分とするとともに、前記低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする、請求項1に記載の金属複合材料。
  3. 前記高熱伝導層と前記低熱膨張層との体積比は、50:50〜75:25である、請求項に記載の金属複合材料。
  4. 前記高熱伝導層は、Cuを主成分とするとともに、前記低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする、請求項1に記載の金属複合材料。
  5. 前記高熱伝導層と前記低熱膨張層との体積比は、70:30〜80:20である、請求項に記載の金属複合材料。
  6. 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
    前記高熱伝導層の前記一方最外層と前記他方最外層とは、前記複数の低熱膨張層の各々に設けられた断領域を介して、前記高熱伝導層により接続されている、請求項1〜のいずれか1項に記載の金属複合材料。
  7. 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
    前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層は、前記一方最外層および前記他方最外層から前記低熱膨張層が露出しないように、前記低熱膨張層を覆っている、請求項1〜のいずれか1項に記載の金属複合材料。
  8. 前記低熱膨張層は、網状の構造を有するように不規則的に分断されている、請求項1〜のいずれか1項に記載の金属複合材料。
  9. 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
    前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層の少なくとも一方は、Ni層によって覆われている、請求項1〜のいずれか1項に記載の金属複合材料。
  10. 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
    前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層の少なくとも一方は、Cuを主成分とする層によって覆われている、請求項1〜のいずれか1項に記載の金属複合材料。
  11. 前記Cuを主成分とする層は、Ni層によって覆われている、請求項10に記載の金属複合材料。
  12. 請求項1〜11のいずれか1項に記載の金属複合材料を含む、放熱部材。
  13. 複数の低熱膨張層の各々と、前記低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、前記低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する複数の高熱伝導層の各々とを交互に積層した状態で圧接接合して、前記複数の低熱膨張層の各々を不規則的に分断することによって、前記複数の低熱膨張層の各々に、不規則的に分布した前記複数の分断領域を形成する工程と、
    前記圧接接合に伴い、前記複数の低熱膨張層の各々に設けられた前記複数の分断領域の各々に前記高熱伝導層を移動させることによって、前記複数の分断領域を介して、前記高熱伝導層同士を接続する工程とを備える、金属複合材料の製造方法。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004200566A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Mitsubishi Materials Corp 放熱体及びその製造方法、パワーモジュール用基板、パワーモジュール
JP2004200571A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びその製造方法、パワーモジュール
JP2004241765A (ja) * 2003-01-15 2004-08-26 Toyota Industries Corp 複合材及びその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05386A (ja) * 1991-06-26 1993-01-08 Nippon Stainless Steel Co Ltd アルミニウム/インバー/アルミニウムクラツド材の製造方法
JPH05109947A (ja) * 1991-10-12 1993-04-30 Sumitomo Special Metals Co Ltd 熱伝導材料とその製造方法
JPH09312361A (ja) * 1996-05-22 1997-12-02 Hitachi Metals Ltd 電子部品用複合材料およびその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004200566A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Mitsubishi Materials Corp 放熱体及びその製造方法、パワーモジュール用基板、パワーモジュール
JP2004200571A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板及びその製造方法、パワーモジュール
JP2004241765A (ja) * 2003-01-15 2004-08-26 Toyota Industries Corp 複合材及びその製造方法

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