JP4633443B2 - 金属複合材料、その金属複合材料を含む放熱部材および金属複合材料の製造方法 - Google Patents
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Description
次に、上記した一実施形態による放熱部材1の効果を確認するために行った比較実験について説明する。まず、Al/36%Ni−Fe/Alの3層材による36%Ni−Feの加工(分断)性を調べた比較実験について説明する。この比較実験では、本実施形態に対応する実施例1〜4による試料と、比較例1および2による試料とを作製した。
3 Cu層
4 低熱膨張層
5 高熱伝導層
5a 一方最外層
5b 他方最外層
10 分断された領域(分断領域)
Claims (13)
- 各々が積層された複数の低熱膨張層と、
前記低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、前記低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有し、前記低熱膨張層の表面および裏面を挟むように、前記低熱膨張層に対して交互に積層された複数の高熱伝導層とを備え、
前記複数の低熱膨張層の各々には、前記複数の低熱膨張層と前記複数の高熱伝導層とが圧接接合される際に、前記複数の低熱膨張層の各々が不規則的に分断されて、各々の前記低熱膨張層の前記表面から前記裏面まで貫通するように形成された複数の分断領域が設けられており、
前記複数の分断領域は、各々の前記低熱膨張層において不規則的に分布しており、
前記圧接接合される際に、前記複数の低熱膨張層の各々において、前記複数の分断領域の各々に前記高熱伝導層が移動されることによって、前記複数の分断領域を介して、前記高熱伝導層同士が接続されている、金属複合材料。 - 前記高熱伝導層は、Alを主成分とするとともに、前記低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする、請求項1に記載の金属複合材料。
- 前記高熱伝導層と前記低熱膨張層との体積比は、50:50〜75:25である、請求項2に記載の金属複合材料。
- 前記高熱伝導層は、Cuを主成分とするとともに、前記低熱膨張層は、36%Ni−Feを主成分とする、請求項1に記載の金属複合材料。
- 前記高熱伝導層と前記低熱膨張層との体積比は、70:30〜80:20である、請求項4に記載の金属複合材料。
- 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
前記高熱伝導層の前記一方最外層と前記他方最外層とは、前記複数の低熱膨張層の各々に設けられた分断領域を介して、前記高熱伝導層により接続されている、請求項1〜5のいずれか1項に記載の金属複合材料。 - 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層は、前記一方最外層および前記他方最外層から前記低熱膨張層が露出しないように、前記低熱膨張層を覆っている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属複合材料。 - 前記低熱膨張層は、網状の構造を有するように不規則的に分断されている、請求項1〜7のいずれか1項に記載の金属複合材料。
- 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層の少なくとも一方は、Ni層によって覆われている、請求項1〜8のいずれか1項に記載の金属複合材料。 - 前記高熱伝導層は、積層方向の一方の最外部に配置された一方最外層と、前記積層方向の他方の最外部に配置された他方最外層とを含み、
前記高熱伝導層の前記一方最外層および前記他方最外層の少なくとも一方は、Cuを主成分とする層によって覆われている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の金属複合材料。 - 前記Cuを主成分とする層は、Ni層によって覆われている、請求項10に記載の金属複合材料。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の金属複合材料を含む、放熱部材。
- 複数の低熱膨張層の各々と、前記低熱膨張層の熱膨張率よりも大きい熱膨張率を有するとともに、前記低熱膨張層の熱伝導率よりも大きい熱伝導率を有する複数の高熱伝導層の各々とを交互に積層した状態で圧接接合して、前記複数の低熱膨張層の各々を不規則的に分断することによって、前記複数の低熱膨張層の各々に、不規則的に分布した前記複数の分断領域を形成する工程と、
前記圧接接合に伴い、前記複数の低熱膨張層の各々に設けられた前記複数の分断領域の各々に前記高熱伝導層を移動させることによって、前記複数の分断領域を介して、前記高熱伝導層同士を接続する工程とを備える、金属複合材料の製造方法。
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JPH05109947A (ja) * | 1991-10-12 | 1993-04-30 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 熱伝導材料とその製造方法 |
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