JP4628824B2 - フイルムの欠陥検査装置及びフイルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、フイルムに光を照射し、その透過光に基づいてフイルムの欠陥を検出するフイルムの欠陥検査装置及び方法に関するものである。

光学異方性のある液晶層を透明なフイルム上に形成することにより、液晶表示装置の視野角を改善することができる光学補償フイルム（位相差フイルム）が知られている。この光学補償フイルムは、長尺な透明フイルムに配向膜を形成し、その上に液晶を塗布し乾燥して液晶層を形成する各種工程を経て製造される（例えば、特許文献１参照）。このような製造工程は、厳格な管理下に置かれるが、製造工程での各種要因によって異物の混入，付着による分子配向ムラ、支持体となる透明フイルムの厚みムラ，液晶層の塗工ムラ等の欠陥を完全になくすことは困難である。このため、製造ライン上で検査を行ういわゆるオンライン検査を実施し、上記のような欠陥が発生した光学補償フイルム上の位置を把握する必要があった。

光学補償フイルム等のフイルムの欠陥を検査する方法は、例えば特許文献２〜５等により各種のものが知られている。例えば特許文献２は、検査対象となる搬送中の透明フイルムに光源から検査光を照射し、その反射光、または透過光をラインセンサで受光することによって、フイルム表面に生じた微小な凹凸や、フイルム内部の異物混入、気泡欠陥さらにフイルム表面に施した反射防止膜部に生じる突起等を自動的に、そして高速に検出できるようにした検査方法を提案している。

また、特許文献３は、連続的に移送される透明シートの一方の面に高輝度、高指向性の光を５°〜１５°の角度で照射し、その透明シートを透過してきた光をカメラで受光し、カメラからの出力信号に画像処理を施したものに基づいて欠陥検出を行うようにしたものであり、微細な厚みムラ（深さ：0.1μｍ〜5μｍ、幅0.1〜10μｍ）を検出可能にしている。

特許文献４は、検査対象となるフイルムを挟んで光源とカメラとを対向して配置するとともに、光源の前面に第１の偏光板を、カメラの前面に第２の偏光板をそれぞれ配置し、カメラからの出力信号に画像処理を施して欠陥検出を行うようにしたものである。この特許文献４の検査方法では、各偏光板の偏光方向を直交状態から２０°程度ずらしており、フイルムの内部あるいは外部に異物が存在する部分で生じる偏光状態の変化による増光をカメラで捕えるものである。

特許文献５は、特許文献４と同様に、光源，カメラ，第１の偏光板，第２の偏光板をそれぞれ配置するが、各偏光板の偏光方向のずれを±２０°以内になるように配置することで、フイルムの分子配向ムラや若干の小さな歪みによる直角偏光成分を低減することで地合信号やフイルムの場所による透過光量変化を減少させ、欠陥部による偏光状態の変化を暗部信号として顕在化させるものである。
特開平９−７３０８１号公報 特開平６−２３５６２４号公報 特開平８−５４３５１号公報 特開平６−１４８０９５号公報 特開平１１−３０５９１号公報

ところで、光学補償フイルム等に生じる非常に僅かな厚みムラや塗工ムラが生じた欠陥、例えば厚み差が1nm〜100nm程度の極僅かな欠陥に関しては、上記のような検出方法でその欠陥を検出することが難しかった。例えば特許文献２や特許文献３の検査方法で低反射タイプの光学用途フイルムや、光学補償フイルムの塗工ムラの検出を試みたが、十分な検出ができなかった。また、その塗工ムラを特許文献４の検査方法で捕えようと試みたが、やはり十分な検出結果を得ることができなかった。特に、分子配向ムラや厚みムラによる偏光状態の変化をフイルムに対し垂直方向から捕えようとしても、地合と欠陥とを検出しているときのカメラの出力信号の信号振幅レベルの比であるＳ／Ｎ比が低くなり、正常部分と欠陥部分とを分離できないという問題があった。

さらに、特許文献５の検査方法を用い、各偏光板の偏光方向のずれの角度を±２０°以内になるように配置してフイルムの塗工ムラの検出を試みたが、偏光方向のずれの角度が０度以外ではＳ／Ｎ比は悪化し、しかも０度でも検出が難しいことがわかった。

本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、僅かな厚みムラ，塗工ムラ，分子配向ムラ等の欠陥の検出をすることができるフイルムの欠陥検査装置及び方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するにあたり、請求項１記載のフイルムの欠陥検査装置では、光源とフイルムとの間に配された第１の偏光板と、受光器とフイルムとの間に配され、偏光方向が前記第１の偏光板の偏光方向と直交する第２の偏光板とを備え、受光器を、その光軸がフイルム面に垂直な基準線に対して傾けられるとともに、基準線を回転中心にしてフイルムの搬送方向に対して回転した位置に配されるようにしたものである。

請求項２記載のフイルムの欠陥検査装置では、光軸が基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦５０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすようにしたものであり、請求項３記載のフイルムの欠陥検査装置では、「３０°≦θ１≦４０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすようにしたものである。請求項４記載のフイルムの欠陥検査装置では、検査対象のフイルムを、位相差フイルムとしたものである。

請求項５記載のフイルムの製造方法では、フイルムを作成する第１の工程と、連続的に搬送される前記フイルムを挟んでクロスニコル配置された一対の偏光手段のいずれか一方の偏光手段を介して前記フイルムに光を照射し、このフイルムから射出される光を他方の偏光手段を介して受光器で受光することによって得られる光電信号に基づいて、フイルムの欠陥を検出する第２の工程とを有し、前記第２の工程では、前記受光器の光軸をフイルム面に垂直な基準線に対して傾けるとともに、基準線を回転中心にしてフイルムの搬送方向に対して回転した位置に配された前記受光器で受光を行うようにしたものである。

請求項６記載のフイルムの製造方法では、前記光軸が前記基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、前記基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの前記受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦５０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすものであり、請求項７記載のフイルムの製造方法では、「３０°≦θ１≦４０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすようにしたものである。さらに、請求項８記載のフイルムの製造方法では、第１の工程で作成されるフイルムを、位相差フイルムとし、請求項９記載のフイルムの製造方法では、第１の工程で作成されるフイルムを、透明フイルム上に液晶を塗布し乾燥して液晶層を形成した位相差フイルムとしたものである。

本発明によれば、フイルム面に垂直な基準線と光軸とが３０°〜５０°の範囲で交差し、基準線を回転中心にしてフイルムの搬送方向から−６０°〜＋６０°の範囲で回転させた位置に受光器を配して搬送中のフイルムの欠陥を検査するようにしたから、極僅かなフイルム厚みのムラや塗工物の厚みムラを鋭敏に検出することができ、フイルム厚みや塗工物の厚みに非常に高精度な検査を行うことができる。

本発明を実施した欠陥検査装置を図１に示す。フィルムロール３から送り出された長尺の透明樹脂フイルム３ａは、配向膜を形成する装置４に送られ、その表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液が塗布・加熱乾燥されて、配向膜形成用樹脂層が形成される。そして、透明樹脂フイルム３ａの配向膜形成用樹脂層を、ラビング処理を施して配向膜とした後に、液晶層を形成する装置５に送られる。

装置５では、透明樹脂フイルム３ａの配向膜上に、液晶性化合物を含む塗布液を塗布し、溶剤を蒸発させた後に液晶相形成温度に加熱して液晶層を形成する。この後に、液晶層に紫外線を照射して、液晶層を架橋する。このようにして液晶層が形成された透明樹脂フイルム、すなわち透明な位相差フイルムが製造される。この位相差フイルムは、視野角を改善するための透過型の光学補償フイルムとして利用される。欠陥検査装置１０は、このようにして製造される位相差フイルムを検査対象のフイルム７として検査する。なお、検査対象のフイルムとしては、位相差フイルムに限られるものではなく、反射防止フイルムであってもよく、その他の透明あるいは半透明のフイルムであってもよい。

欠陥検査装置１０は、厚みムラ，塗工ムラ，分子配向ムラ等の欠陥を検出できるようにしており、厚みムラ，塗工ムラについては厚み差が１ｎｍ〜１μｍ，幅０．１ｍｍ〜５０ｍｍ程度の欠陥を検出できるようにしている。

欠陥検査装置１０では、搬送機構１１によってフイルム７を一方向に搬送する。フイルム７の搬送路には、所定の間隔で２本のガイドローラ１２，１３が配してあり、各ガイドローラ１１，１２にフイルム７が掛けられる。ガイドローラ１２，１３は、回動自在とされており、フイルム７の搬送に従動して回転する。各ガイドローラ１１，１２にフイルム７を掛けることにより、各ガイドローラ１１，１２の間の検査ステージでフイルム７を平面状に保持する。なお、フイルム７は、検査ステージでは液晶層を下にした姿勢で搬送される。

検査ステージには、光源部１５，受光器１６を配してある。光源部１５は、搬送路の下側、すなわちフイルム７の下面側（液層層側）に配してあり、搬送中のフイルム７の下面に向けて光を照射する。この光源部１５は、例えば１００〜２００Ｗ程度のハロゲンランプからの光を石英やプラスチック製のライトガイドを用いてライン状の光に変換して出力するものとなっている。光源部１５は、後述するようにフイルム７の幅方向に対して傾けた検査エリア１７を照明するように、フイルム７の幅方向に対して傾けて配してある。

受光器１６は、搬送路の上側、すなわちフイルム７の上面側に配してある。この受光器１６は、リニアアレイカメラから構成されており、撮影レンズ１６ａと、ライン状に並べた多数の受光素子からなるラインセンサ（図示省略）とを有し、フイルム７が一定長搬送されるごとにライン状の検査エリア１７内のフイルム７を１ラインずつ撮影し電気的な光電信号に変換して出力する。すなわち、受光器１６は、光源部１５からの光のうち検査エリア１７内のフイルム７の部分を透過した１ライン分の光を受光し、その受光した光を電気的な光電信号に変換して出力する。なお、この例では、光源部１５をフイルム７の下面側、すなわち液晶層側に配置してあるが、受光器１６を液晶層側に配置し、光源部１５を液晶層側と反対の面側に配置する構成であってもよい。

撮影レンズ１６ａとしては、ズームタイプのものを用いており、受光器１６とフイルム７との距離を調整しながら検査エリア１７を所定の長さ（この例では２５０ｍｍ）となるように調整してある。また、検査対象のフイルム７として視野角依存性のある位相差フイルムであるため、受光器１６とフイルム７との距離を大きくすることで、視野角依存性の影響を排除し、欠陥の検出をより容易なものとしている。この例では受光器１６とフイルム７との距離を１．５ｍとしてある。さらに、撮影レンズ１６ａのピント位置は、フイルム７の上面から僅かに前あるいは後にずらしてある。このピント位置のずらし量は、実験等により最適値を決めている。

光源部１５とフイルム７との間に第１偏光板１８を配してあり、フイルム７と受光器１６との間に第２偏光板１９を配してある。これにより、光源部１５からの光は第１偏光板１８を介してフイルム７に照射され、受光器１６は、第２偏光板１９を透過する光を受光する。

この例では、位相差フイルムの欠陥を検出するために、第１偏光板１８と第２偏光板１９とがクロスニコルとなるように偏光方向を決めてあるが、フイルム７に対する第１偏光板１５，第２偏光板１６の偏光方向を検査するフイルムに応じて適宜に変更することができる。また、第１偏光板１８と第２偏光板１９との相互の偏光方向の関係は、検査するフイルムに応じて適宜に変更することができる。さらに、検査するフイルムに応じて第１偏光板１８，第２偏光板１９のうちのいずれか一方の偏光板だけを配置してもよく、両方を配置しない構成としてもよい。反射防止フイルムを検査対象のフイルム７とする場合に、各偏光板１８，１９の両方を配置しないのも好ましい態様である。

受光器１６からの光電信号は、画像強調回路２１に送られる。画像強調回路２１は、光電信号に対して、フイルム７の欠陥の信号を強調する強調処理を行う。なお、低周波及び高周波ノイズ成分を除去する処理や、輝度変化を強調させる空間フィルタ処理を施したり、撮影レンズの周辺光量低下を補正するシェーディング補正を行ってもよい。

ゲイン補正回路２２は、画像強調回路２１からの光電信号にゲイン補正を行い、光電信号が適切な信号レベルとなるように自動的に調節する。ゲイン補正回路２２からの光電信号は、判定処理部２４に送られる。

前述のガイドローラ１３には、エンコーダ２５を取り付けてある。エンコーダ２５は、ガイドローラ１３が一定角度回転するごとに、すなわちフイルム７が一定長搬送されるごとに１個エンコードパルス信号を発生する。このエンコードパルス信号は、判定処理部２４に送られる。

判定処理部２４は、所定のしきい値により光電信号を二値化する二値化回路２５を備えており、二値化された光電信号に基づいて欠陥の有無を判定する。この判定で厚みムラ欠陥を検出すると、判定処理部２４は、フイルム７の長手方向と幅方向における欠陥の各位置情報を位置メモリ２６に記憶し、またその欠陥を含む１ライン分の光電信号とその前後の数ラインの光電信号を画像メモリ２７に記憶する。フイルム７の長手方向と幅方向の各位置情報は、エンコーダ２５からのエンコードパルス信号と、１ライン分の光電信号の欠陥箇所に対応する信号位置とから算出される。モニタ２８には、位置メモリ２６に記憶された位置情報と、画像メモリ２７に記憶された数ライン分の光電信号に基づいて作成された画像とが表示される。

図２，図３はフイルム７に対する受光器１６の撮影位置を模式的に示している。図２にように、受光器１６は、フイルム７を俯瞰するように配置されており、その光軸Ｐとフイルム７に垂直な基準線（法線）Ｌｎとの角度（以下、交差角度という）がθ１となっている。交差角度θ１を持たせることは、地合を検出しているときの光電信号の信号振幅レベルに対する欠陥を検出した際の信号振幅レベルの比率であるＳ／Ｎ比を高くする効果があるが、交差角度θ１を大きくしすぎると、逆にＳ／Ｎ比が低下するため、「３０°≦θ１≦５０°」を満たすようにするのがよい。

また、図３に上方から見た状態を示すように、受光器１６は、基準線Ｌｎを回転中心として搬送方向Ｓを基準に回転角度θ２だけ回転させた位置に配してある。回転角度θ２を持たせることは、上記の交差角度θ１程ではないが、やはりＳ／Ｎ比を高くする効果があるが、回転角度θ２を大きくしすぎると逆にＳ／Ｎ比が低下する。このため、「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすようにするのが好ましい。なお、回転角度θ２は、搬送方向を基準（０°）として、液晶層と反対の面側すなわち上方から見て、時計方向を正とし、反時計方向を負としてある。また、図３では、各偏光板を省略して描いてある。

受光器１６を回転角度θ２だけ回転した位置に配置したことにより、受光器１６によるフイルム７上のライン状の検査エリア１７が幅方向Ｍから回転角度θ２だけ傾いたものとなっている。検査エリア１７は、このように傾いた状態で検査に必要な範囲をカバーするように、その長さを決めてある。

上記のような交差角度θ１、回転角度θ２で受光器１６を配置して、検査を行うことにより、深さが１ｎｍ程度の極僅かな厚みムラまでを検出可能としている。

上記欠陥検査装置の作用について説明する。装置４，５によって製造された位相差フイルムが検査対象のフイルム７として検査装置１０に送り込まれ、検査ステージを通って、さらに下流へと搬送される。この搬送中には、光源部１５からの光が第１偏光板１８を介してフイルム７に照射され、フイルム７が一定長送られるごとに受光器１６で１ライン分の撮影が行われる。

１ライン分の撮影を行うごとに受光器１６からは１ライン分の光電信号が出力され、その光電信号が画像強調回路２１，ゲイン補正回路２２を介して判定処理部２４に送られる。そして、判定処理部２４は、二値化した光電信号に基づいて１ラインごとに厚みムラ，塗工ムラ，分子配向ムラ等の欠陥箇所の有無を判定する。

例えば、フイルム７の厚みムラの欠陥がある部分では、正常部分よりも光電信号が高くなり、それが欠陥として判定され、その欠陥のフイルム７の長手方向と幅方向の各位置情報が位置メモリ２６に、またその欠陥を含む１ライン分の光電信号とその前後の数ラインの光電信号が画像メモリ２７にそれぞれ書き込まれるとともに、各位置情報及び厚みムラ欠陥の画像がモニタ２８に表示される。

上記のように交差角度θ１、回転角度θ２を持たせて配置した受光器１６によってフイルム７を撮影して得られる光電信号に基づいて欠陥の判定を行っているので厚みムラ，塗工ムラ，分子配向ムラ等の欠陥を精度良く検出することが可能であり、極僅かな厚み差の厚みムラ，塗工ムラをも検出することができる。

［実施例１］
上記のように構成される欠陥検査装置１０を用いて欠陥の検出を行った。検出の際には、前述のような装置で作成され、透過型の光学補償フイルムとして利用される位相差フイルムのうち液晶層の塗工ムラを有する部分を取り出してサンプルとした。このサンプルの塗工ムラは、図４に示すように、幅が約５ｍｍ、正常部分との厚みの差が約２０ｎｍで僅かに凸状となったものである。

この実施例１では、交差角度θ１，回転角度θ２をそれぞれ変化させて欠陥（塗工ムラ）の検出を試み、画像強調回路２１による強調処理後の光電信号のＳ／Ｎ比によって評価した。Ｓ／Ｎ比は、地合を検出しているときの信号振幅レベルに対する欠陥を検出した際の信号振幅レベルの比率である。各交差角度θ１、各回転角度θ２におけるＳ／Ｎ比は表１の通りであった。なお、回転角度θ２の符号は、搬送方向を基準（０°）として、位相差フイルムの液晶層と反対の面側すなわち上方から見て、時計方向を正、反時計方向を負としてある。

交差角度θ１を大きくするにしたがいＳ／Ｎ比が高くなり、４０°を越えるとＳ／Ｎ比が低下した。４０°を越えた時点で直ちに実用性のないレベルにまでＳ／Ｎ比が低下するわけではないので、交差角度θ１は４０°付近が特に好ましいことがわかる。また、回転角度θ２は、その大きさ（絶対値）を大きくすると交差角度θ１ほどではないがＳ／Ｎ比が高くなり、−４５°付近及び＋６０°付近で特に高い値を示した。

そして、この実施例１において３０°〜５０°範囲の交差角度θ１、−６０°〜＋６０°の範囲の回転角度θ２で良好なＳ／Ｎ比が得られ、オンライン検査では、十分なレベルの精度で塗工ムラを検出可能であった。

図５は、上記の塗工ムラを検出したときの画像強調回路２１による強調処理後の光電信号の波形を示すものである。符号３０で示す部分が塗工ムラを検出した際の波形であり、その前後は正常部分を検出しているときの波形である。塗工ムラを検出した際の波形３０は、正常部分を検出しているときに比べて明確に信号レベルが上昇しており、また地合による光電信号の信号振幅レベルが小さい。このことからも、塗工ムラ等を確実に検出することができることがわかる。

一方、比較例として、同じサンプルを用いて同一の塗工ムラに対して、交差角度θ１を０°，回転角度θ２を０°として検出を行ったところ、図６に示すような光電信号の波形となり、符号３１で示す部分が塗工ムラを検出した波形となった。この比較例では、塗工ムラの光電信号レベルが他の部分の信号レベルと比較してあまり差がなく、また地合による光電信号の信号振幅レベルが大きく、正しく検出できないことが非常に多かった。

［実施例２］
実施例２では、同じく上記のように構成される欠陥検査装置１０を用いて、異なる塗工ムラの検出を行った。サンプルは、実施例１と同様に透過型の光学補償フイルムとして利用される位相差フイルムから塗工ムラを有する部分を取り出しものである。実施例２の塗工ムラは、図７に示すように、幅が約３０ｍｍ、正常部分との厚みの差が約８００ｎｍで凸状となったものである。

実施例１と同様の構成で同様に交差角度θ１，回転角度θ２を変えて、検出を行った所、交差角度θ１，回転角度θ２に対して実施例１と同様なＳ／Ｎ比の変化を示し、厚みの差が約８００ｎｍと実施例１に比べてかなり大きいものであるが、やはり３０°〜５０°範囲の交差角度θ１、−６０°〜＋６０°の範囲の回転角度θ２で良好なＳ／Ｎ比が得られ、十分なレベルの精度で塗工ムラを検出することが可能であった。

［実施例３］
実施例３では、正常部に対して厚みが極端に薄くなっている塗工ムラについて検出を行った。サンプルは、実施例１と同様に透過型の光学補償フイルムとして利用される位相差フイルムから塗工ムラを有する部分を取り出しものである。この実施例３の検出対象とした塗工ムラは、配向膜上に液晶性化合物を含む塗布液を塗布した際に、その塗布液が弾かれることによって正常部に対して厚みが極端に薄くなった、いわゆるハジキ状欠陥である。この塗工ムラは、図８に示すように、正常部に対する厚み差が１０００ｎｍ程度、幅が0.2ｍｍ程度のものであった。

実施例１と同様の構成で同様に交差角度θ１，回転角度θ２を変えて、検出を行った所、交差角度θ１，回転角度θ２に対して実施例１と同様なＳ／Ｎ比の変化を示した。そして、急峻な厚み変化のあるこのような塗工ムラに関しても、十分なレベルの精度で検出可能であった。

本発明を実施した欠陥検査装置を示す概略図である。 受光器の交差角度θ１を説明する説明図である。 受光器の回転角度θ２を説明する説明図である。 厚みムラ欠陥の一例を示す厚みのグラフである。 本発明の欠陥検査装置で厚みムラ欠陥を検出したときの光電信号の波形を示すグラフである。 従来の検査方法で厚みムラ欠陥を検出したときの光電信号の波形を示すグラフである。 比較的に大きな厚みムラ欠陥の一例を示す厚みのグラフである。 液晶層が極薄くなった厚みムラ欠陥の一例を示す厚みのグラフである。

符号の説明

７ フイルム
１０ 欠陥検査装置
１５ 光源部
１６ 受光器
１６ａ 撮影レンズ
１８，１９ 偏光板
２１ 画像強調回路
２４ 判定処理部

Claims (9)

1. 連続的に搬送される検査対象のフイルムの一方の面側に配置され、前記フイルムに光を照射する光源と、前記フイルムの他方の面側に配置され、フイルムを透過した前記光源からの光を受光する受光器とを有し、受光器からの出力信号に基づいてフイルムの欠陥を検出するフイルムの欠陥検査装置において、
   前記光源とフイルムとの間に配された第１の偏光板と、前記受光器とフイルムとの間に配され、偏光方向が前記第１の偏光板の偏光方向と直交する第２の偏光板とを備え、
   前記受光器は、その光軸がフイルム面に垂直な基準線に対して傾けられた位置に配されているとともに、基準線を回転中心にしてフイルムの搬送方向に対して回転した位置に配されていることを特徴とするフイルムの欠陥検査装置。
2. 前記光軸が前記基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、前記基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの前記受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦５０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすことを特徴とする請求項１記載のフイルムの欠陥検査装置。
3. 前記光軸が前記基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、前記基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの前記受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦４０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすことを特徴とする請求項１記載のフイルムの欠陥検査装置。
4. 検査対象のフイルムは、位相差フイルムであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のフイルムの欠陥検査装置。
5. フイルムを作成する第１の工程と、
   連続的に搬送される前記フイルムを挟んでクロスニコル配置された一対の偏光手段のいずれか一方の偏光手段を介して前記フイルムに光を照射し、このフイルムから射出される光を他方の偏光手段を介して受光器で受光することによって得られる光電信号に基づいて、フイルムの欠陥を検出する第２の工程とを有し、
   前記第２の工程では、前記受光器の光軸をフイルム面に垂直な基準線に対して傾けるとともに基準線を回転中心にしてフイルムの搬送方向に対して回転した位置に前記受光器を配して受光を行うことを特徴とするフイルムの製造方法。
6. 前記光軸が前記基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、前記基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの前記受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦５０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすことを特徴とする請求項５記載のフイルムの製造方法。
7. 前記光軸が前記基準線に対して傾けられる角度をθ１とし、前記基準線を回転中心にしたフイルムの搬送方向からの前記受光器の回転角度をθ２としたときに、「３０°≦θ１≦４０°」，「−６０°≦θ２≦＋６０°」を満たすことを特徴とする請求項５記載のフイルムの製造方法。
8. 第１の工程で作成されるフイルムは、位相差フイルムであることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載のフイルムの製造方法。
9. 第１の工程で作成されるフイルムは、透明フイルム上に液晶を塗布し乾燥して液晶層を形成した位相差フイルムであることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか１項に記載のフイルムの製造方法。

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