JP4592327B2

JP4592327B2 - 光学フィルター

Info

Publication number: JP4592327B2
Application number: JP2004147286A
Authority: JP
Inventors: 光裕岡田; 亨矢野; 哲神田
Original assignee: Adeka Corp
Current assignee: Adeka Corp
Priority date: 2004-05-18
Filing date: 2004-05-18
Publication date: 2010-12-01
Anticipated expiration: 2024-05-18
Also published as: JP2005331545A

Description

本発明は、特定のシアニン化合物を含有する光学フィルターに関し、詳しくは、５５０ｎｍ付近に急峻な光吸収を有するシアニン化合物を含有する光学フィルターに関する。該光学フィルターは、特に画像表示装置用の光学フィルターとして有用である。

特定の光に対して強度の大きい吸収を有する化合物は、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、青色レーザ記録ディスク等の光学記録媒体の記録層や、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等の画像表示装置の光学要素として用いられている。

例えば、画像表示装置における光学要素の用途としては、カラーフィルターの光吸収剤がある。画像表示装置は、赤、青、緑の三原色の光の組合せでカラー画像を表示しているが、カラー画像を表示する光には、緑と赤の間の５５０〜６００ｎｍ等の表示品質の低下をきたす光が含まれており、また、７５０〜１１００ｎｍの赤外リモコンの誤作動の原因となる光も含まれている。そこで、これらの不要な波長の光を選択的に吸収する光吸収性化合物を含有する光学フィルターが使用されている。更に、光学フィルターには、蛍光灯等の外光の反射や映り込みを防止する機能も求められている。

反射や映り込みを防止するには、上記の不要な波長の光を選択的に吸収する機能に加え、４８０〜５００ｎｍ及び５４０〜５６０ｎｍの波長光を吸収することが必要である。この領域の光は画像表示に必要な輝線に近い。従って、画像品質に影響を及ぼさないためには、光吸収剤の光吸収が特別に急峻であること、即ちλmaxの半値幅が小さいことが求められる。また、光吸収剤には、光や熱等により機能が失われないことも求められる。

光学フィルターの光吸収剤としては、吸収ピークが急峻であること及び光安定性に優れることから、シアニン化合物に代表される有機系色素が検討されている。例えば、特許文献１〜３には、光の吸収剤としてシアニン化合物を使用した光学フィルターが報告されているが、これらの光学フィルターは５４０〜５６０ｎｍの光を充分に吸収できるものではなかった。

特開２００２−１４８４３０号公報特開２００２−１７５０２０号公報特開２００２−３２８２１９号公報

従って、本発明の目的は、５４０ｎｍ〜５６０ｎｍの光を選択的に吸収する光学フィルターを提供することにある。

本発明者等は、検討を重ねた結果、５４０ｎｍ〜５６０ｎｍの範囲に急峻な吸収を有し、光安定性の良好な特定の分子構造を有するシアニン化合物を見出し、これを使用することにより上記課題を解決し得ることを知見した。

本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、下記一般式（II）で表されるシアニン化合物を含有してなる画像表示装置用光学フィルターを提供するものである。
また、本発明は、下記一般式(III)で表されるシアニン化合物を含有してなる光学フィルターを提供するものである。

本発明によれば、５４０ｎｍ〜５６０ｎｍの光を選択的に吸収する光学フィルターを提供することができる。該光学フィルターは、画像表示装置の表示品質の向上、及び外光の反射や映り込み防止に有用である。

本発明に係るシアニン化合物は、上記一般式（II）又は（III）で表記される構造を有する。上記一般式（II）又は（III）においてＲ¹〜Ｒ⁴で表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル等が挙げられる。

また、Ｙ¹又はＹ²で表される炭素数１〜３０の有機基としては、特に制限を受けるものではないが、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、２−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、１−フェニルプロペン−３−イル等のアルケニル基；フェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基；ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基、及びこれらの炭化水素基がエーテル結合及び／又はチオエーテル結合で中断されたもの、例えば、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、３−メトキシブチル、２−フェノキシエチル、２−メチルチオエチル、２−フェニルチオエチルが挙げられ、更に、これらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。

また、Ａｎ^m-で表されるアニオンとしては、例えば、一価のものとして、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン；過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン；ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸アニオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン；オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸アニオン、ナフタレンジスルホン酸アニオン等が挙げられる。また、励起状態にある活性分子を脱励起させる（クエンチングさせる）機能を有するクエンチャーアニオンやシクロペンタジエニル環にカルボキシル基やホスホン酸基、スルホン酸基等のアニオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物アニオン等も、必要に応じて用いることができる。

上記のクエンチャーアニオンとしては、特開２００２−３５０６３２号公報、特開２００３−２２１５２３号公報等に記載されたようなアニオンが使用できる。具体的には、下記一般式（Ａ）又は（Ｂ）で表されるものが挙げられる。

本発明に係るシアニン化合物としては、上記一般式（II）で表されるもの、上記一般式（III）で表されるものが低コストであるので好ましく、上記一般式（II）で表されるものがより好ましい。また、シアニン化合物の製造ルートによっては、インドール環の４位のＮＯ₂を導入する際に、６位のＮＯ₂が副生する場合がある。例えば、上記一般式(III)で表されるシアニン化合物を製造する際には、下記一般式（IV）で表されるシアニン化合物や下記一般式(V)で表されるシアニン化合物が副生成物として生成物中に含有される場合がある。本発明の光学フィルターに使用する際は、これらのシアニン化合物は光学特性がほぼ同じなので、これらを分離精製することなく使用してもよい。

前記一般式（II）又は（III）で表される本発明に係るシアニン化合物の具体例としては、下記化合物Ｎｏ．１〜３０が挙げられる。なお、以下の例示では、アニオンを省いたシアニンカチオンで示している。下記化合物Ｎｏ．１〜３０のうち、Ｎｏ．２８〜３０は参考化合物である。

上記のＹ¹及びＹ²は、置換基が大きいとシアニン化合物のモル吸光係数が小さくなり、光吸収能力に影響を及ぼす場合があるので、炭素数１〜８の炭化水素基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。

前記一般式（I）で表される本発明に係るシアニン化合物は、その製造方法によって制限を受けるものではないが、例えば、中間体である２−メチルインドリウム塩誘導体をＮ，Ｎ’−ジフェニルアミジンやオルソギ酸トリメチル等のブリッジ剤と反応させる方法により製造することができる。該反応は、例えば、下記〔化１０〕に示すルートに従って行うことができる。

本発明に係るシアニン化合物は、５５０ｎｍ付近に極大値を有する急峻な吸収を示し、光安定性及び湿熱安定性が良好であるので、該シアニン化合物を含有してなる本発明の光学フィルターは、５４０〜５５０ｎｍの可視光を吸収する画像表示装置用の光学フィルターとして特に有用である。画像表示装置としては、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイ等が挙げられる。本発明の光学フィルターは、外光の映り込みの影響の大きいプラズマディスプレイに特に有用である。

画像表示装置用の光学フィルターは、通常ディスプレイの前面に配置される。例えば、光学フィルターをディスプレイの表面に直接貼り付けてもよく、ディスプレイの前に前面板や電磁波シールドが設けられている場合は、前面板又は電磁波シールドの表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターを貼り付けてもよい。

本発明の光学フィルターにおいて、本発明に係る上記のシアニン化合物の使用量は、通常光学フィルターの単位面積当たり１〜１０００ｍｇ／ｍ²の範囲であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。１ｍｇ／ｍ²未満の使用量では、光吸収効果を十分に発揮することができず、１０００ｍｇ／ｍ²を超えて使用した場合には、フィルターの色目が強くなりすぎて画像表示装置に用いた場合に表示品質等を低下させるおそれがあり、さらには、明度が低下するおそれもある。

本発明の画像表示装置用の光学フィルターには、色調調整等のために他の波長の光を吸収する光吸収剤や、外光の反射や映り込みを防止する４８０ｎｍ〜５００ｎｍ対応の光吸収剤を用いてもよい。画像表示装置がプラズマディスプレイの場合、７５０〜１１００ｎｍ対応の近赤外線吸収剤を更に用いてもよい。

５５０〜６００ｎｍのオレンジ光の除去のために用いられる色調調整用の光吸収剤としては、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンベンゾオキサゾリウム化合物、トリメチンベンゾチアゾリウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；ペンタメチンオキサゾリウム化合物、ペンタメチンチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；スクアリリウム色素誘導体；アゾメチン色素誘導体；キサンテン色素誘導体；アゾ色素誘導体；ピロメテン色素誘導体；アゾ金属錯体誘導体：ローダミン色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体等が挙げられる。

また、上記の外光の映り込み防止用の４８０〜５００ｎｍ対応の光吸収剤としては、トリメチンインドリウム化合物、トリメチンオキサゾリウム化合物、トリメチンチアゾリウム化合物、インドリデントリメチンチアゾニウム化合物等のトリメチンシアニン誘導体；フタロシアニン誘導体；ナフタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体等が挙げられる。

また、赤外リモコン誤作動防止用の７５０〜１１００ｎｍ対応の近赤外線吸収剤としては、ビスイミニウム誘導体；ペンタメチンベンゾインドリウム化合物、ペンタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ペンタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のペンタメチンシアニン誘導体；ヘプタメチンインドリウム化合物、ヘプタメチンベンゾインドリウム化合物、ヘプタメチンオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾオキサゾリウム化合物、ヘプタメチンチアゾリウム化合物、ヘプタメチンベンゾチアゾリウム化合物等のヘプタメチンシアニン誘導体；スクアリリウム誘導体；ビス（スチルベンジチオラト）化合物、ビス（ベンゼンジチオラト）ニッケル化合物、ビス（カンファージチオラト）ニッケル化合物等のニッケル錯体；スクアリリウム誘導体；アゾ色素誘導体；フタロシアニン誘導体；ポルフィリン誘導体等が挙げられる。

本発明の光学フィルターにおいて、上記の色調調整用の光吸収剤、４８０〜５００ｎｍ対応の光吸収剤及び近赤外線吸収剤は、本発明に係るシアニン化合物と同一の層に含有されていてもよく、別の層に含有されていてもよい。それらの使用量はそれぞれ、通常、光学フィルターの単位面積当たり１〜１０００ｍｇ／ｍ²の範囲であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。

本発明の光学フィルターの代表的な構成としては、透明支持体に、必要に応じて、下塗り層、ハードコート層、潤滑層、反射防止層等の各層を設けたものが挙げられる。本発明の光学フィルターにおける本発明に係るシアニン化合物の使用方法としては、例えば、透明支持体又は任意の各層に含有させる方法、透明支持体又は任意の各層にコーティングする方法、各層間の接着剤に混入させる方法、別に本発明に係るシアニン化合物等の光吸収剤を含有する光吸収層を設ける方法等が挙げられる。

上記透明支持体の材料としては、例えば、ガラス等の無機材料；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等のセルロースエステル；ポリアミド；ポリカーボネート；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４'−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリスチレン；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリエーテルイミド；ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂等の高分子材料が挙げられる。透明支持体の透過率は８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましい。

上記透明支持体中には、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、無機微粒子を添加してもよく、また上記透明支持体には各種表面処理を施すことができる。

上記の無機微粒子としては、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン等が挙げられる。

上記各種表面処理としては、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザ処理、混酸処理、オゾン酸化処理等が挙げられる。

上記下塗り層は、別に光吸収剤を含有する光吸収層を設ける場合に、透明支持体と光吸収層との間に用いる層である。下塗り層は、ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む層、光吸収層側の表面が粗面である層又は光吸収層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成する。なお、光吸収層が設けられていない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体とその上に設けられる層（例えば、反射防止層、ハードコート層）との接着力を改善するために設けてもよく、また、下塗り層は、光学フィルターと画像表示装置とを接着するための接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。下塗り層の厚みは、２ｎｍ〜２０μｍが好ましく、５ｎｍ〜５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜２μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ〜１μｍがさらにまた好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍが最も好ましい。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体と光吸収層とを接着する。ガラス転移温度が−６０〜６０℃のポリマーは、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル又はメチルビニルエーテルの重合又は共重合により得ることができる。ガラス転移温度は、５０℃以下であることが好ましく、４０℃以下であることがより好ましく、３０℃以下であることがさらに好ましく、２５℃以下であることがさらにまた好ましく、２０℃以下であることが最も好ましい。下塗り層の２５℃における弾性率は、１〜１０００ＭＰａであることが好ましく、５〜８００ＭＰａであることがさらに好ましく、１０〜５００ＭＰａであることが最も好ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上に光吸収層を形成することで、透明支持体と光吸収層とを接着する。表面が粗面である下塗り層は、ポリマーラテックスの塗布により容易に形成することができる。ラテックスの平均粒径は、０．０２〜３μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。光吸収層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナイロン及び高分子ラテックスが含まれる。また、本発明の光学フィルターにおいては、二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。

上記反射防止層においては、低屈折率層が必須である。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５５であることが好ましく、１．３０〜１．５０であることがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、５０〜４００ｎｍであることが好ましく、５０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリマーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各公報に記載）として形成することができる。微粒子を含む層では、微粒子間又は微粒子内のミクロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子を含む層は、３〜５０体積％の空隙率を有することが好ましく、５〜３５体積％の空隙率を有することがさらに好ましい。

広い波長領域の反射を防止するためには、上記反射防止層において、低屈折率層に加えて、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．９０であることが好ましく、１．５５〜１．７０であることがさらに好ましい。中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ〜１μｍであることが最も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環式又は芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。

さらに高い屈折率を得るため、上記ポリマーバインダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子の屈折率は、１．８０〜２．８０であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物又は硫化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は硫化物の例には、酸化チタン（例えば、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム及び硫化亜鉛が含まれる。これらの中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物又は硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、無機微粒子を構成する成分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物（例えばキレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成することもできる。

上記反射防止層の表面には、アンチグレア機能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に移るのを防止する機能）を付与することができる。例えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そしてその表面に反射防止層を形成するか、あるいは、反射防止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成することにより、アンチグレア機能を得ることができる。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に３〜３０％のヘイズを有する。

上記ハードコート層は、透明支持体の硬度よりも高い硬度を有する。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系等のポリマー、オリゴマー又はモノマー（例えば紫外線硬化型樹脂）を用いて形成することができる。シリカ系材料からハードコート層を形成することもできる。

また、上記反射防止層（低屈折率層）の表面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例えばシリコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤又はその誘導体を用いて形成することができる。潤滑層の厚さは、２〜２０ｎｍであることが好ましい。

別に光吸収層を設ける場合は、本発明に係るシアニン化合物をそのまま使用することもでき、バインダーを使用することもできる。バインダーとしては、例えば、ゼラチン、カゼイン、澱粉、セルロース誘導体、アルギン酸等の天然高分子材料、あるいは、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド等の合成高分子材料が用いられる。

上記の下塗り層、反射防止層、ハードコート層、潤滑層、光吸収層等は、一般的な塗布方法により形成することができる。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、及びホッパーを使用するエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号及び同３５２６５２８号の各明細書並びに原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載がある。

以下、製造例、評価例及び実施例をもって本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例等によって何ら制限を受けるものではない。

［製造例１］化合物Ｎｏ．５の六フッ化リン塩の製造
窒素置換した反応フラスコに１−イソペンチル−２-メチル−５−トリフルオロメチルインドリウムのトルエンスルホン酸塩５０．０ｍｍｏｌ、ジフェニルホルムアミジン２５．０ｍｍｏｌ及びピリジン５００ｍｍｏｌを仕込み、攪拌しながら、さらに無水酢酸７５．０ｍｍｏｌを滴下した。滴下後９０℃で２時間攪拌した。２５℃まで冷却してから、反応系にクロロホルムと水を加え、攪拌してから水相を廃棄した。クロロホルム相に六フッ化リンカリウム１５０ｍｍｏｌの３質量％水溶液を加え、室温で１時間攪拌した。水相を廃棄し、脱溶媒をして得た残渣にジメチルアセトアミド９ｇ及びイソプロパノール９０ｇを加え晶析を行った。濾取した結晶をイソプロパノールで洗浄し、１５０℃で真空乾燥を行い、赤紫色結晶を収率５０％で得た。得られた結晶は、目的物である化合物Ｎｏ．５の六フッ化リン塩と同定された。得られた結晶の分析結果を以下に示す。

分析結果
・光学特性（クロロホルム、４．０×１０^-3モル／リットル溶液）
λmax；５５３ｎｍ、ε；１．８２×１０⁵、半値幅２８ｎｍ
・融点（窒素中１０℃／分昇温でのＤＳＣ測定による吸熱ピークトップ温度）
２５８℃
・分子量（ＴＯＦ−マススペクトル分析）
７５０．７
・¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重ＤＭＳＯ）（ケミカルシフト：多重度：Ｈ数）
（１．０９：ｄ：１２）（１．１７：ｑ：４）（１．８３：ｓ：１２）（１．８５：ｍ：２）（４．２７：ｔ：４）（６．６４：ｄ：２）（７．７２：ｄ：２）（７．９３：ｄ：２）（８．２１：ｓ：２）（８．５１：ｔ：１）

［製造例２］化合物Ｎｏ．２６の過塩素酸塩の製造
窒素置換した反応フラスコに１−イソペンチル−２，２，３−トリメチル−４−ニトロインドリウムのトルエンスルホン酸塩２０ｇ、オルソギ酸トリエチル７．７８ｇ及びピリジン５０ｇを仕込み、攪拌しながら昇温し、１００℃で８時間攪拌した。２５℃まで冷却してから、反応系にクロロホルム１００ｇ及び過塩素酸ナトリウム１５０ｍｏｌの３質量％水溶液を加え、攪拌してから水相を廃棄した。油相を１００ｇの水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水し、脱溶媒をして得た残渣をエタノールを用いて晶析と再結晶を行った。１５０℃で真空乾燥を行い、赤褐色結晶を収率７６．１％で得た。得られた結晶は、目的物である化合物Ｎｏ．２６の過塩素酸塩と同定された。得られた結晶の分析結果を以下に示す。

分析結果
・光学特性（重クロロホルム、４．０×１０^-3モル／リットル溶液）
λmax；５５１ｎｍ、ε；１．８５×１０⁵、半値幅２７ｎｍ
・融点（窒素中１０℃／分昇温でのＤＳＣ測定による吸熱ピークトップ温度）
２１５℃
・分子量（ＴＯＦ−マススペクトル分析）
６５９．２
・¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重アセトン）（ケミカルシフト：多重度：Ｈ数）
（１．６６：ｄ：１２）（２．３０：ｍ：４）（２．５０：ｍ：２）（２．６０：ｓ：１２）（４．９０：ｔ：４）（７．２８：ｄ：２）（８．３８：ｔ：２）（８．４７：ｄ：２）（８．６２：ｄ：２）（９．３２：ｔ：１）

［評価例１］
上記の製造例１及び２それぞれで得たシアニン化合物、並びに下記〔化１１〕に示すシアニン化合物（比較化合物１〜４）について、クロロホルム、４．０×１０^-3モル／リットル溶液でのλmax、ε及び半値幅を測定し比較した。結果を表１に示す。

表１に示す結果から、本発明に係るシアニン化合物と類似構造のシアニン化合物とを比較すると、本発明に係るシアニン化合物は特異的に５４０〜５６０ｎｍに急峻な吸収を示すことが確認できた。

［評価例２］
製造例１で得られた化合物Ｎｏ．５の六フッ化リン塩、製造例２で得られた化合物Ｎｏ．２６の過塩素酸塩又は比較化合物１の１質量部を１，３−ジオキソラン５５０質量部に溶解した溶液と、ポリカーボネート含有量１７質量％の１，３−ジオキソラン溶液３６００質量部とを混合して、シアニン化合物含有塗布液を調製した。この塗布液をＰＥＴフィルム上にバーコーター（Ｒ.Ｄ.Ｓ.ラボラトリーコーティング・ロッドＮｏ．９、２０．６μｍ）で塗布し、８０℃で１０分間乾燥して試験片を作成した。得られた試験片について、下記の条件下に曝露して耐性試験（耐光性試験及び耐湿熱性試験）を行った。耐性は、曝露前のＵＶ吸収スペクトルのλmaxでの吸光度に対する曝露後の吸光度の残率（％）で評価した。結果を表２に示す。
（耐光性試験条件）
キセノンランプを用いて５５０００ルクスの光を６０時間照射した。
（耐湿熱性試験条件）
温度８０℃、湿度８０％で５０時間保存した。

表２に示す結果から、本発明に係るシアニン化合物を用いた光学フィルターと類似構造のシアニン化合物を用いた光学フィルターとを比較すると、本発明の光学フィルターが耐光性及び耐湿熱性に優れることが確認できた。

［実施例１］
下記の配合をプラストミルで２６０℃にて５分間溶融混練した。混練後直径６ｍｍのノズルから押出し水冷却ペレタイザーで色素含有ペレットを得た。このペレットを電気プレスを用いて２５０℃で０．２５ｍｍ厚の薄板に成形した。これについて（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが５５４ｍで半値巾が２９ｎｍであり、光学フィルターとして好適であることが確認された。

（配合）
ユーピロンＳ−３０００１００ｇ
（三菱瓦斯化学（株）製；ポリカーボネート樹脂）
化合物Ｎｏ．５の六フッ化リン素塩０．０１ｇ

［実施例２］
下記の配合にてＵＶワニスを作成し、これを易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレートフィルムにバーコーター（Ｒ.Ｄ.Ｓ.ラボラトリーコーティング・ロッドＮｏ．９、２０．６μｍ）で塗布し、８０℃で３０秒乾燥した。その後、赤外線カットフィルムフィルター付き高圧水銀灯にて紫外線を１００ｍＪ照射し、硬化膜厚約５ミクロンのフィルムを得た。これを（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが５５３ｎｍで半値巾が２９ｎｍであり、光学フィルターとして好適であることが確認された。

（配合）
アデカオプトマーＫＲＸ−５７１−６５１００ｇ
（旭電化工業（株）製ＵＶ硬化樹脂、樹脂分８０重量％）
化合物Ｎｏ．５の過塩素酸塩０．５ｇ
メチルエチルケトン６０ｇ

［実施例３］
下記の配合にてバインダー組成物を作成し、これを易密着処理した１８８ミクロン厚のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにバーコーター（Ｒ.Ｄ.Ｓ.ラボラトリーコーティング・ロッドＮｏ．９、２０．６μｍ）で塗布し、８０℃で３０秒乾燥した。その後、このフィルムを０．９ｍｍ厚アルカリガラス板に１００℃で熱圧着し、ガラス板とＰＥＴフィルムの間のバインダー層に光吸収性色素を含有するＰＥＴ保護ガラス板を作成した。これについて（株）日立製作所スペクトロフォトメーターＵ−３０１０で測定したところ、λmaxが５５４ｎｍで半値巾が３０ｎｍで、光学フィルターとして好適であることが確認された。

（配合）
アデカアークルズＲ−１０３１００ｇ
（旭電化工業（株）製アクリル樹脂系バインダー、樹脂分５０重量％）
化合物Ｎｏ．５の六フッ化リン塩０．１ｇ

Claims

下記一般式(II)で表されるシアニン化合物を含有してなる画像表示装置用光学フィルター。
下記一般式(III)で表されるシアニン化合物を含有してなる光学フィルター。
上記一般式（II）のＹ¹及びＹ²が炭素数１〜８のアルキル基である請求項１に記載の画像表示装置用光学フィルター。
上記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項１又は３に記載の画像表示装置用光学フィルター。