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JP4590058B2 - 切削装置の切削ブレード検出機構 - Google Patents

切削装置の切削ブレード検出機構 Download PDF

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JP4590058B2
JP4590058B2 JP2000111266A JP2000111266A JP4590058B2 JP 4590058 B2 JP4590058 B2 JP 4590058B2 JP 2000111266 A JP2000111266 A JP 2000111266A JP 2000111266 A JP2000111266 A JP 2000111266A JP 4590058 B2 JP4590058 B2 JP 4590058B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ダイシング装置等の切削装置に装備される切削ブレードの切り込み方向の基準位置や切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための検出機構に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウエーハ等の切断は、一般にダイシング装置とよばれる精密切削装置によって施される。ダイシング装置は、回転する切削ブレードによって半導体ウエーハ等の被加工物を切削する。この切削ブレードは、使用によって磨耗しその直径が減少する。このためダイシング装置は、切削ブレードの直径の減少に対応して切削ブレードの切り込み方向の基準位置を調整する必要があり、この基準位置を検出するための切削ブレード検出機構を備えている。また、ダイシング装置は、磨耗して直径が減少した切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構を備えている。
【0003】
上記切削ブレードの検出機構は、切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部とを備えている。この切削ブレード検出機構は、発光部が発する光を受光部が受光し、その光量に対応した電圧に変換することにより、発光部と受光部との間のブレード侵入部に位置する切削ブレードの状態を検出する。切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構は、被加工物を保持する被加工物保持手段に配設されており、切削ブレードを切り込み方向に移動してブレード侵入部に徐々に侵入せしめ、受光部が受光する光量に対応した電圧が所定値に達したとき切削ブレードの切り込み方向の基準位置を定める。即ち、切削ブレードをブレード侵入部に徐々に侵入せしめると、受光部が受光する光量が徐々に減少して電圧値が下降し、この電圧値が所定値に達したとき例えば被加工物保持手段の上面に切削ブレードが接触する位置として、切削ブレードの切り込み方向の基準値を定める。一方、切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構は、切削ブレードを備えたスピンドルユニットに配設されており、切削ブレードの磨耗に伴い切削ブレードによる発光部と受光部との間を遮る量が減少していく。そして、切削ブレードを交換した当初から検出電圧値が徐々に上昇し、所定の電圧値に達したとき切削ブレードの交換を知らせる。また、上記切削ブレード検出機構は、切削ブレードに欠損が生じた場合には、断続的に電圧値が所定の電圧値を越える値を示すことで、切削ブレードの欠損を判定し切削ブレードの交換を知らせる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
而して、上述した切削ブレード検出機構は、被加工物を切削ブレードによって切削する際に切削によって飛散するコンタミが発光部および受光部の表面に付着するため、発光部と受光部との間のブレード侵入部に位置する切削ブレードの状態を正確に検出することができない場合がある。即ち、発光部の表面に切削粉が付着すると受光部に向けて発する光の光量が減少し、一方、受光部の表面に切削粉が付着すると受光する光量が減少するので、発光部と受光部との間のブレード侵入部に位置する切削ブレードの状態、即ち切削ブレードの切り込み方向の基準値または切削ブレードの交換時期や欠損を正確に検出することができない。
【0005】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、常に安定して精度良く切削ブレードの状態を検出することができる切削装置の切削ブレード検出機構を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する被加工物保持手段に保持された被加工物を切削するための切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部とを有する切削装置の切削ブレード検出機構において、
該発光部および該受光部の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該発光部および該受光部の端面にエアーを供給するエアー供給ノズルとを具備し、該エアー供給ノズルの開口は該発光部および該受光部に隣接して配設され、該洗浄水供給ノズルの開口は該エアー供給ノズルの開口の背後に配設されている、ことを特徴とする切削装置の切削ブレード検出機構が提供される。
【0007】
上記切削ブレード検出装置は、被加工物保持手段に配設され切削ブレードの基準位置を検出する。
また、上記切削ブレード検出装置は、切削ブレードを備えたスピンドルユニットに配設され該切削ブレードの摩耗および欠けを検出する。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による切削装置の切削ブレード検出機構の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0009】
図1には、本発明による切削ブレード検出機構を備えたダイシング装置の斜視図が示されている。
図1に示されたダイシング装置は、略直方体状の装置ハウジング10を具備している。この装置ハウジング10内には、図2に示す静止基台2と、該静止基台2に切削送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、静止基台2に割り出し方向である矢印Yで示す方向(切削送り方向である矢印Xで示す方向に垂直な方向)に移動可能に配設されたスピンドル支持機構4と、該スピンドル支持機構4に切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動可能に配設されたスピンドルユニット5が配設されている。
【0010】
上記チャックテーブル機構3は、静止基台2上に配設され複数個の取付けボルト3aによって固定された支持台31と、該支持台31上に矢印Xで示す方向に沿って平行に配設された2本の案内レール32、32と、該案内レール32、32上に矢印Xで示す方向に移動可能に配設された被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル33を具備している。このチャックテーブル33は、案内レール32、32上に移動可能に配設された吸着チャック支持台331と、該吸着チャック支持台331上に装着された吸着チャック332と、該吸着チャック332の上面から所定高さ下方に配設された支持テーブル333を具備しており、該吸着チャック332上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。なお、チャックテーブル機構3は、チャックテーブル33を2本の案内レール32、32に沿って矢印Xで示す方向に移動させるための駆動手段34を具備している。駆動手段34は、上記2本の案内レール32と32の間に平行に配設された雄ネジロッド341と、該雄ネジロッド341を回転駆動するためのパルスモータ342等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド341は、その一端が上記支持台31に固定された軸受ブロック343に回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ342の出力軸に図示しない減速装置を介して伝動連結されている。なお、雄ネジロッド341は、チャックテーブル33を構成する吸着チャック支持台331の中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ネジブロックに形成された貫通雌ネジ穴に螺合されている。従って、パルスモータ342によって雄ネジロッド341を正転および逆転駆動することにより、チャックテーブル33は案内レール32、32に沿って矢印Xで示す方向に移動せしめられる。また、チャックテーブル機構3は、チャックテーブル33を回転する図示しない回転機構を具備している。
【0011】
上記スピンドル支持機構4は、静止基台2上に配設され複数個の取付けボルト4aによって固定された支持台41と、該支持台41上に矢印Yで示す方向に沿って平行に配設された2本の案内レール42、42と、該案内レール42、42上に矢印Yで示す方向に移動可能に配設された可動支持基台43を具備している。この可動支持基台43は、案内レール42、42上に移動可能に配設された移動支持部431と、該移動支持部431に取り付けられたスピンドル装着部432とからなっている。スピンドル装着部432には取付けブラケット433が固定されており、この取付けブラケット433を複数個の取付けボルト40aによって移動支持部431に締結することにより、スピンドル装着部432は移動支持部431に取り付けられる。また、スピンドル装着部432は、上記取付けブラケット433を装着した面と反対側の面に矢印Zで示す方向に延びる2本の案内レール432a、432aが平行に設けられている。なお、スピンドル支持機構4は、可動支持基台43を2本の案内レール42、42に沿って矢印Yで示す方向に移動させるための駆動手段44を具備している。駆動手段44は、上記2本の案内レール42、42の間に平行に配設された雄ネジロッド441と、該雄ねじロッド441を回転駆動するためのパルスモータ442等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド441は、その一端が上記支持台41に固定された図示しない軸受ブロックに回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ442の出力軸に図示しない減速装置を介して伝動連結されている。なお、雄ネジロッド441は、可動支持基台43を構成する移動支持部431の中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ネジブロックに形成された貫通雌ネジ穴に螺合されている。従って、パルスモータ442によって雄ネジロッド441を正転および逆転駆動することにより、可動支持基台43は案内レール42、42に沿って矢印Yで示す方向に移動せしめられる。
【0012】
上記スピンドルユニット5は、移動基台51と、該移動基台51に複数個の取付けボルト5aによって固定されたスピンドルホルダ52と、該スピンドルホルダ52に取り付けられたスピンドルハウジング53を具備している。移動基台51は、上記スピンドル支持機構4のスピンドル装着部432に設けられた2本の案内レール432a、432aに摺動可能に嵌合する2本の被案内レール51a、51aが設けられており、この被案内レール51a、51aを上記案内レール432a、432aに嵌合することにより、矢印Zで示す方向に移動可能に支持される。上記スピンドルハウジング53内には、上述した切削ブレード54を装着した回転スピンドル56(図3、図5および図8参照)が回転自在に配設されている。この回転スピンドル56は、図示しない回転駆動機構によって回転駆動されるようになっている。なお、スピンドルユニット5は、移動基台51を2本の案内レール432a、432aに沿って矢印Zで示す方向に移動させるための駆動手段55を具備している。駆動手段55は、上記駆動手段34および44と同様に案内レール432a、432aの間に配設された雄ネジロッド(図示せず)と、該雄ネジロッドを回転駆動するためのパルスモータ552等の駆動源を含んでおり、パルスモータ552によって図示しない雄ネジロッドを正転および逆転駆動することにより、スピンドルユニット5を案内レール432a、432aに沿って矢印Zで示す方向に移動せしめる。
【0013】
上記スピンドルユニット5を構成するスピンドルハウジング53の前端部には、図3に示すように切削ブレード54の上半部を覆うブレードカバー570が取り付けられている。このブレードカバー570には、後述する切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構を構成する検出機構本体を取り付けるための支持部材571が案内ピン572、572に沿って摺動可能に装着されている。また、ブレードカバー570には、切削ブレード54の両側に配設された冷却水供給ノズル573a、573bが装着されている。なお、外側の冷却水供給ノズル573bは、ブレードカバー570に支軸574によって回動可能に支持された可動取付部材575に取り付けられている。これらの冷却水供給ノズル573a、573bは、図示しないフレキシブルホースによって冷却水供給源に接続されている。なお、上記可動取付部材575には作動ピン576が取り付けられており、切削ブレード54の交換時に可動取付部材575を支軸574中心として上方に回動すると、作動ピン576が上記支持部材571の下面に当接して支持部材571を案内ピン572、572に沿って上方に移動させるようになっている。
【0014】
図1に戻って説明すると、図示のダイシング装置は被加工物である半導体ウエーハ11をストックするカセット12と、被加工物搬出手段13と、被加工物搬送手段14と、洗浄手段15と、洗浄搬送手段16、および顕微鏡やCCDカメラ等で構成されるアライメント手段17を具備している。なお、半導体ウエーハ11は、フレーム111にテープ112によって装着されており、フレーム111に装着された状態で上記カセット12に収容される。また、カセット12は、図示しない昇降手段によって上下に移動可能に配設されたカセットテーブル121上に載置される。
【0015】
次に、上述したダイシング装置の加工処理動作について簡単に説明する。
カセット12の所定位置に収容されたフレーム111に装着された状態の半導体ウエーハ11(以下、フレーム111に装着された状態の半導体ウエーハ11を単に半導体ウエーハ11という)は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル121が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出手段13が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハ11を被加工物載置領域18に搬出する。被加工物載置領域18に搬出された半導体ウエーハ11は、被加工物搬送手段14の旋回動作によって上記チャックテーブル機構3を構成するチャックテーブル33の吸着チャック332上に搬送され、該吸着チャック332に吸引保持される。このようにして半導体ウエーハ11を吸引保持したチャックテーブル33は、案内レール32、32に沿ってアライメント手段17の直下まで移動せしめられる。チャックテーブル33がアライメント手段17の直下に位置付けられると、アライメント手段17によって半導体ウエーハ11に形成されている切断ラインが検出され、精密位置合わせ作業が行われる。
【0016】
その後、半導体ウエーハ11を吸引保持したチャックテーブル33を切削送り方向である矢印Xで示す方向(切削ブレード54の回転軸と直交する方向)に移動することにより、チャックテーブル33に保持された半導体ウエーハ11は切削ブレード54により所定の切断ラインに沿って切断される。即ち、切削ブレード54は割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されて位置決めされたスピンドルユニット5に装着され、回転駆動されているので、チャックテーブル33を切削ブレード54の下側に沿って切削送り方向に移動することにより、チャックテーブル33に保持された半導体ウエーハ11は切削ブレード54により所定の切断ラインに沿って切断され、半導体チップに分割される。分割された半導体チップは、テープ112の作用によってバラバラにはならず、フレーム111に装着された半導体ウエーハ11の状態が維持されている。このようにして半導体ウエーハ11の切断が終了した後、半導体ウエーハ11を保持したチャックテーブル33は、最初に半導体ウエーハ11を吸引保持した位置に戻され、ここで半導体ウエーハ11の吸引保持を解除する。次に、半導体ウエーハ11は、洗浄搬送手段16によって洗浄手段15に搬送され、ここで洗浄される。このようにして洗浄された半導体ウエーハ11は、被加工物搬送手段14によって被加工物載置領域18に搬出される。そして、半導体ウエーハ11は、被加工物搬出手段13によってカセット12の所定位置に収納される。
【0017】
図示実施形態におけるダイシング装置は、上記切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構6を具備している。切削ブレード検出機構6について、図4および図5をも参照して説明する。この切削ブレード検出機構6は、切削ブレード54の外周部が侵入するブレード侵入部601を有する検出器本体60を具備している。この検出器本体60は、被加工物保持手段としてのチャックテーブル33を構成する支持テーブル333の隅部(図1参照)に配設されている。検出器本体60には、ブレード侵入部601に対峙して配設された発光部602および受光部603が設けられている。発光部602は光ファイバー61aを介して光源62に接続されており、この光源62からの光を受光部603に向けて発光する。受光部603は発光部602が発光した光を受光し、この受光した光を光ファイバー61bを介して光電変換部63に送る。光電変換部63は、受光部602から送られる光の光量に対応した電圧を電圧比較部65へ出力する。一方、電圧比較部65には基準電圧設定部64によって設定された基準電圧(例えば、3V)が入力されている。電圧比較部65は、光電変換部63からの出力と基準電圧設定部64によって設定された基準電圧(例えば、3V)とを比較し、光電変換部63からの出力が基準電圧(例えば、3V)に達したとき、その旨の信号を基準位置検出部66に出力する。
【0018】
即ち、切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出する場合は、切削ブレード54を上記ブレード侵入部601に上方から侵入させていく。このとき、切削ブレード54が発光部602と受光部603との間を全く遮っていない場合は受光部603が受光する光量は最大であり、この光量に対応する光電変換部63からの出力が図示の実施形態においては例えば5Vに設定されている。切削ブレード54が上記ブレード侵入部601に侵入されるに従って切削ブレード54が発光部602と受光部603との間を遮る量が増加するので、光電変換部63からの出力が徐々に減少する。そして、光電変換部63は、切削ブレード54が発光部602と受光部603との下端に対応する位置に達したとき、出力電圧が例えば3Vになるように設定されている。なお、光電変換部63からの出力電圧が例えば3Vになったとき、切削ブレード54が例えば上記吸着チャック332の上面に接触する位置になるように設定されている。従って、光電変換部63の出力電圧が3Vになったとき電圧比較部65は、光電変換部63の出力電圧が基準電圧に達した旨の信号を基準位置検出部66に出力する。このとき、基準位置検出部66は、切削ブレード54の切り込み方向(Z方向)の位置を検出するリニアスケール69の値を基準位置として記憶する。このようにして、切削ブレード検出機構6は切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出する。
【0019】
図示の実施形態における切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構6は、発光部602および受光部603の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル67a、67bと、発光部602および受光部603の端面にエアーを供給するエアー供給ノズル68a、68bとを具備している。この洗浄水供給ノズル67a、67bとエアー供給ノズル68a、68bは、図示の実施形態においてはエアー供給ノズル68a、68bの開口が発光部602および受光部603に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル67a、67bの開口がエアー供給ノズル68a、68bの背後に配設されている。洗浄水供給ノズル67a、67bは図示しないフレシキブルホースを介して洗浄水供給源に接続されており、エアー供給ノズル68a、68bは図示しないフレシキブルホースを介して圧縮エアー供給源に接続されている。なお、図示の実施形態における切削ブレード検出機構6においては、洗浄水供給ノズル67a、67bから噴出される洗浄水は、切削ブレード54による切削作業時に常に発光部602および受光部603に供給されている。一方、エアー供給ノズル68a、68bから噴出されるエアーは、切削作業が終了して洗浄水供給ノズル67a、67bからからの洗浄水の供給が停止されたら発光部602および受光部603に供給されるようになっている。
【0020】
以上のように、図示の実施形態における切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構6は、発光部602および受光部603の端面に常時洗浄水供給ノズル67a、67bから洗浄水が供給されているので、切削ブレード54によって半導体ウエーハ等の被加工物を切削する際に飛散するコンタミが発光部602および受光部603に付着することがない。従って、図示の実施形態における切削ブレード検出機構6は、切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出する際に、コンタミが発光部602に付着することによって生ずる発光光量の減少や、コンタミが受光部603に付着することによって生ずる受光光量の減少を防止することができ、常に安定して精度良く切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出することができる。また、図示の実施形態における切削ブレード検出機構6は、切削作業時に発光部602および受光部603に洗浄水を供給した後に、エアー供給ノズル68a、68bからエアーを噴出して、発光部602および受光部603に付着した洗浄水を吹き飛ばすので、洗浄水の影響を受けることなく常に安定して精度良く切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出することができる。
【0021】
更に、図示の実施形態における切削ブレード検出機構6は、上記エアー供給ノズル68a、68b開口が発光部602および受光部603に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル67a、67bの開口がエアー供給ノズル68a、68bの背後に配設されているので、洗浄水の供給を停止した後にエアーを供給する際に、洗浄水供給ノズル67a、67bに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。即ち、図示の実施形態とは逆にエアー供給ノズル68a、68bが洗浄水供給ノズル67a、67bの背後に配設されている場合には、エアー供給ノズル68a、68bによって洗浄水供給ノズル67a、67bの背後から噴出されるエアーフローの作用により、洗浄水供給ノズル67a、67bの開口部が負圧となり、この結果、洗浄水供給ノズル67a、67bに残留している洗浄水が吸引され霧化されて発光部602および受光部603の端面に付着することがある。しかるに、図示の実施形態における切削ブレード検出機構6は、上記のように洗浄水供給ノズル67a、67bの開口がエアー供給ノズル68a、68bの背後に配設されているので、エアー供給ノズル68a、68bによってエアーを供給する際に洗浄水供給ノズル67a、67bに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。従って、エアー供給ノズル68a、68bから供給するエアーによる発光部602および受光部603に付着した洗浄水の吹き飛ばし作業を効果的に行うことができる。
【0022】
図示実施形態におけるダイシング装置は、上記切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構7を具備している。切削ブレード検出機構7について、図5乃至図8を参照して説明する。この切削ブレード検出機構7は、スピンドルユニット5に配設された検出器本体70を具備している。この検出器本体70は、上記ブレードカバー570に装着された支持部材571に取り付けられている。即ち、検出器本体70は、支持部材571に螺合された調整ねじ577の先端に取り付けられている。検出器本体70は切削ブレード54の外周部が侵入するブレード侵入部701を有しており、この検出器本体70にはブレード侵入部701に対峙して配設された発光部702および受光部703が設けられている。発光部702は光ファイバー71aを介して光源72に接続されており、この光源72からの光を受光部703に向けて発光する。受光部703は発光部702が発光した光を受光し、この受光した光を光ファイバー71bを介して光電変換部73に送る。光電変換部73は、受光部702から送られる光の光量に対応した電圧を電圧比較部75へ出力する。一方、電圧比較部75には基準電圧設定部74によって設定された基準電圧(例えば、4V)が入力されている。電圧比較部75は、光電変換部73からの出力と基準電圧設定部74によって設定された基準電圧(例えば、4V)とを比較し、光電変換部73からの出力が基準電圧(例えば、4V)に達したとき、切削ブレード54が交換時期に達しているか切削ブレードに欠けが発生している旨の信号をブレード交換指示部76に出力する。
【0023】
即ち、切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出する場合は、切削ブレード54が交換された際に切削ブレード54の外周部が上記ブレード侵入部701内に所定量侵入してセットされており、この状態では切削ブレード54が発光部702と受光部703との間を不完全に遮っており、このとき受光部703は受光した光量に対応する光電変換部73からの出力が図示の実施形態においては例えば1Vに設定されている。切削ブレード54が摩耗するに従ってその直径が減少するため切削ブレード54が発光部702と受光部703との間を遮る量が減少するので、光電変換部73からの出力が徐々に増加する。そして、光電変換部73は、切削ブレード54が発光部702と受光部703との下端に対応する位置に達したとき、出力電圧が例えば4Vになるように設定されている。従って、光電変換部73の出力電圧が4Vになったとき電圧比較部65は、切削ブレード54が交換時期に達している旨の信号をブレード交換指示部76に出力する。なお、切削ブレードに欠けが発生した場合には、光電変換部73の出力電圧が急激に4Vを越えるので、このとき電圧比較部65は切削ブレード54を交換する旨の信号をブレード交換指示部76に出力する。
【0024】
図示の実施形態における切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構7は、発光部702および受光部703の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル77a、77bと、発光部701および受光部702の端面にエアーを供給するエアー供給ノズル78a、78bとを具備している。この洗浄水供給ノズル77a、77bとエアー供給ノズル78a、78bはブレードカバー570に配設されており、それぞれ図示しないフレシキブルホースを介して洗浄水供給源と圧縮エアー供給源に接続されている。なお、洗浄水供給ノズル77a、77bとエアー供給ノズル78a、78bは、図示の実施形態においてはエアー供給ノズル78a、78bの開口が発光部702および受光部703に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル77a、77bの開口がエアー供給ノズル78a、78bの背後に配設されている。このように構成された切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構7においては、洗浄水供給ノズル77a、77bから噴出される洗浄水は、切削ブレード54による切削作業時に常に発光部702および受光部703に供給されている。一方、エアー供給ノズル78a、78bから噴出されるエアーは、切削作業が終了して洗浄水供給ノズル77a、77bからの洗浄水の供給が停止されたら発光部702および受光部703に供給されるようになっている。
【0025】
以上のように、図示の実施形態における切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構7は、発光部702および受光部703の端面に常時洗浄水供給ノズル77a、77bから洗浄水が供給されているので、上述した切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構6と同様に、切削ブレード54によって被加工物を切削する際に飛散するコンタミが発光部702および受光部703に付着することがない。従って、切削ブレード検出機構7は、切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出する際に、コンタミが発光部702に付着することによって生ずる発光光量の減少や、コンタミが受光部703に付着することによって生ずる受光光量の減少を防止することができ、常に安定して精度良く切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出することができる。また、図示の実施形態における切削ブレード検出機構7は、切削作業時に発光部702および受光部703に洗浄水を供給した後に、エアー供給ノズル78a、78bからエアーを噴出して、発光部702および受光部703に付着した洗浄水を吹き飛ばすので、洗浄水の影響を受けることなく常に安定して精度良く切削ブレード54の交換時期および切削ブレードの欠けを検出することができる。
【0026】
更に、図示の実施形態における切削ブレード検出機構7は、上記エアー供給ノズル78a、78bの開口が発光部702および受光部703に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル77a、77bの開口がエアー供給ノズル78a、78bの背後に配設されているので、上述した切削ブレード54の切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構6と同様に、洗浄水の供給を停止した後にエアーを供給する際に、洗浄水供給ノズル77a、77bに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。従って、エアー供給ノズル78a、78bから供給するエアーによる発光部702および受光部703に付着した洗浄水の吹き飛ばし作業を効果的に行うことができる。
【0027】
【発明の効果】
本発明による切削装置の切削ブレード検出機構は以上のように構成されているので、次の作用効果を奏する。
【0028】
即ち、本発明によれば、切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部とを有する切削装置の切削ブレード検出機構において、該発光部および該受光部の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該発光部および該受光部の端面にエアーを供給するエアー供給ノズルとを具備しているので、切削ブレードによって被加工物を切削する際に飛散するコンタミが発光部および受光部に付着することがない。従って、切削ブレード検出機構は、切削ブレードの状態を検出する際に、コンタミが発光部に付着することによって生ずる発光光量の減少や、コンタミが受光部に付着することによって生ずる受光光量の減少を防止することができ、常に安定して精度良く切削ブレードの状態を検出することができる。
【0029】
また、本発明によれば、上記エアー供給ノズルの開口が発光部および受光部に隣接して配設され、上記洗浄水供給ノズルの開口はエアー供給ノズルの開口の背後に配設されているので、洗浄水の供給を停止した後にエアーを供給する際に、洗浄水供給ノズルに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。従って、エアー供給ノズルから供給するエアーによる発光部および受光部に付着した洗浄水の吹き飛ばし作業を効果的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って構成された切削ブレード検出機構を備えた切削装置であるダイシング装置の斜視図。
【図2】図1に示すダイシング装置の要部斜視図。
【図3】図1に示すダイシング装置を構成するスピンドルユニットの要部を拡大して示す斜視図。
【図4】本発明に従って構成された切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構の要部斜視図。
【図5】本発明に従って構成された切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構のブロック図。
【図6】本発明に従って構成された切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構の要部斜視図。
【図7】本発明に従って構成された切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構の要部斜視図。
【図8】本発明に従って構成された切削ブレードの交換時期および切削ブレードの欠けを検出するための切削ブレード検出機構のブロック図。
【符号の説明】
2:静止基台
3:チャックテール機構
31:チャックテーブル機構の支持台
32:チャックテーブル機構の案内レール
33:チャックテーブル機構のチャックテール
34:チャックテーブル機構の駆動手段
4:スピンドル支持機構
41:チャックテーブル機構の支持台
42:チャックテーブル機構の案内レール
43:チャックテーブル機構の可動支持基台
44:チャックテーブル機構の駆動手段
5:スピンドルユニット
53:スピンドルユニットのスピンドルハウジング
54:切削ブレード
55:スピンドルユニットの駆動手段
56:回転スピンドル
570:ブレードカバー
571:支持部材
58:挟持フランジ
6:切削ブレード検出機構
60:切削ブレード検出機構の検出器本体
601:ブレード侵入部
602:発光部
603:受光部
62:光源
63:光電変換部
64:基準電圧設定部
65:電圧比較部
66:基準位置検出部
67a、67b:洗浄水供給ノズル
68a、68b:エアー供給ノズル
69:リニアスケール
7:切削ブレード検出機構
70:切削ブレード検出機構の検出器本体
701:ブレード侵入部
702:発光部
703:受光部
72:光源
73:光電変換部
74:基準電圧設定部
75:電圧比較部
76:ブレード交換指示部
77a、77b:洗浄水供給ノズル
78a、78b:エアー供給ノズル
10:装置ハウジング
11:半導体ウエーハ
12:カセット
13:被加工物搬出手段
14:被加工物搬送手段
15:洗浄手段
16:洗浄搬送手段
17:アライメント手段

Claims (3)

  1. 被加工物を保持する被加工物保持手段に保持された被加工物を切削するための切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部とを有する切削装置の切削ブレード検出機構において、
    該発光部および該受光部の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該発光部および該受光部の端面にエアーを供給するエアー供給ノズルとを具備し、該エアー供給ノズルの開口は該発光部および該受光部に隣接して配設され、該洗浄水供給ノズルの開口は該エアー供給ノズルの開口の背後に配設されている、ことを特徴とする切削装置の切削ブレード検出機構。
  2. 該切削ブレード検出装置は、該被加工物保持手段に配設され該切削ブレードの基準位置を検出する、請求項1記載の切削装置の切削ブレード検出機構。
  3. 該切削ブレード検出装置は、該切削ブレードを備えたスピンドルユニットに配設され該切削ブレードの摩耗および欠けを検出する、請求項1記載の切削装置の切削ブレード検出機構。
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KR1020010019377A KR100611897B1 (ko) 2000-04-12 2001-04-11 절삭장치의 절삭블레이드 검출기구

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170113404A (ko) 2016-04-01 2017-10-12 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치
KR20220031494A (ko) 2020-09-04 2022-03-11 가부시기가이샤 디스코 가공 장치
KR20230021587A (ko) 2021-08-05 2023-02-14 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치

Families Citing this family (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002343746A (ja) * 2001-05-14 2002-11-29 Tokyo Seimitsu Co Ltd インターロック付ダイシング装置
SG118084A1 (en) * 2001-08-24 2006-01-27 Micron Technology Inc Method and apparatus for cutting semiconductor wafers
JP2003211354A (ja) * 2002-01-18 2003-07-29 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP2004152923A (ja) * 2002-10-30 2004-05-27 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
NL1026080C2 (nl) * 2004-04-29 2005-11-01 Besi Singulation B V Inrichting en werkwijze voor het conditioneren en monitoren van een zaagblad.
JP2006294641A (ja) * 2005-04-05 2006-10-26 Apic Yamada Corp ダイシング装置
JP5236918B2 (ja) * 2007-10-02 2013-07-17 株式会社ディスコ 切削装置の切削ブレード検出機構
JP2009083077A (ja) * 2007-10-03 2009-04-23 Disco Abrasive Syst Ltd 切削ブレード検出機構
US7495759B1 (en) * 2007-10-23 2009-02-24 Asm Assembly Automation Ltd. Damage and wear detection for rotary cutting blades
JP5291403B2 (ja) * 2008-07-25 2013-09-18 株式会社ディスコ 切削加工装置
JP5415219B2 (ja) * 2009-10-09 2014-02-12 株式会社ディスコ 切削装置
JP5389603B2 (ja) * 2009-10-20 2014-01-15 株式会社ディスコ 切削装置における切削ブレードの消耗量管理方法
JP5389604B2 (ja) * 2009-10-20 2014-01-15 株式会社ディスコ 切削装置における切削ブレードの消耗量管理方法
JP2011110631A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
EP2532477B1 (de) * 2011-06-06 2019-04-24 Weber Maschinenbau GmbH Breidenbach Vorrichtung und Verfahren zum Schleifen von Rotationsmessern
JP2013258204A (ja) * 2012-06-11 2013-12-26 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
WO2014028664A2 (en) 2012-08-17 2014-02-20 Illinois Tool Works Inc. Sample preparation saw
JP2014108463A (ja) * 2012-11-30 2014-06-12 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置
JP6125867B2 (ja) * 2013-03-26 2017-05-10 株式会社ディスコ 切削方法
JP6101140B2 (ja) * 2013-04-18 2017-03-22 株式会社ディスコ 切削装置
JP6279276B2 (ja) * 2013-10-03 2018-02-14 株式会社荏原製作所 基板洗浄装置及び基板処理装置
JP6257360B2 (ja) * 2014-02-04 2018-01-10 株式会社ディスコ ブレードカバー装置
TWI548500B (zh) * 2014-02-10 2016-09-11 The cutting knife position sensing means
JP6294748B2 (ja) 2014-04-23 2018-03-14 株式会社ディスコ 切削装置
KR20160085031A (ko) 2015-01-07 2016-07-15 (주)닷스 블레이드의 마모량 측정장치
JP6727699B2 (ja) 2016-04-19 2020-07-22 株式会社ディスコ 切削装置のセットアップ方法
JP6707396B2 (ja) * 2016-05-11 2020-06-10 株式会社ディスコ 切削装置
JP6800520B2 (ja) * 2016-09-13 2020-12-16 株式会社ディスコ 切削装置
CN110023016B (zh) * 2016-10-10 2021-07-02 伊利诺斯工具制品有限公司 样品制备锯
JP6815824B2 (ja) 2016-10-24 2021-01-20 株式会社ディスコ 切削装置
JP2018192603A (ja) * 2017-05-22 2018-12-06 株式会社ディスコ 切削装置の切削ブレード検出機構
JP6932436B2 (ja) 2017-05-24 2021-09-08 株式会社ディスコ 切削装置
JP6974087B2 (ja) * 2017-09-14 2021-12-01 株式会社ディスコ 切削装置
JP7058908B2 (ja) * 2017-11-21 2022-04-25 株式会社ディスコ 切削装置
CN108115213B (zh) * 2017-12-25 2019-03-15 北京中电科电子装备有限公司 一种气体保护装置和具有其的刀片检测装置、划片机
JP6990588B2 (ja) 2018-01-05 2022-01-12 株式会社ディスコ 切削装置
JP7114166B2 (ja) * 2018-01-16 2022-08-08 株式会社ディスコ 切削ブレードの管理方法及び切削装置
CN108821534A (zh) * 2018-05-22 2018-11-16 徐州工程学院 一种地下工程施工中处理废水沉积物的旋转式切割装置
JP7325904B2 (ja) 2019-07-26 2023-08-15 株式会社ディスコ 切削ユニットの位置検出方法、及び切削装置
JP7370256B2 (ja) * 2020-01-07 2023-10-27 株式会社ディスコ 切削ブレードの状態検知方法
JP7420571B2 (ja) * 2020-01-29 2024-01-23 株式会社ディスコ 切削装置
JP7521173B2 (ja) 2020-06-15 2024-07-24 株式会社東京精密 ブレード検出装置及びブレード検出装置の洗浄方法
JP2022101871A (ja) * 2020-12-25 2022-07-07 Dgshape株式会社 切削加工機
KR20230016069A (ko) 2021-07-22 2023-02-01 한미반도체 주식회사 절삭 블레이드 검출장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02212045A (ja) * 1989-02-10 1990-08-23 Disco Abrasive Syst Ltd ブレード不良を検出する検出装置
JPH0550362A (ja) * 1991-08-21 1993-03-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd ブレード位置検出装置
JPH08288244A (ja) * 1995-04-11 1996-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd 光学検出手段
JPH11251263A (ja) * 1998-03-06 1999-09-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59122209U (ja) * 1983-02-07 1984-08-17 株式会社デイスコ 切断機
US4794736A (en) * 1985-12-27 1989-01-03 Citizen Watch Co., Ltd. Arrangement for mechanically and accurately processing a workpiece with a position detecting pattern or patterns
EP0532933B1 (en) * 1991-08-21 1995-11-02 Tokyo Seimitsu Co.,Ltd. Blade position detection apparatus
BE1006073A3 (nl) * 1992-07-03 1994-05-03 Picanol Nv Inslagwachter voor weefmachines.
BE1010779A3 (nl) * 1996-12-02 1999-01-05 Picanol N V Naamloze Vennoosch Inslagwachter voor een weefmachine.

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02212045A (ja) * 1989-02-10 1990-08-23 Disco Abrasive Syst Ltd ブレード不良を検出する検出装置
JPH0550362A (ja) * 1991-08-21 1993-03-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd ブレード位置検出装置
JPH08288244A (ja) * 1995-04-11 1996-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd 光学検出手段
JPH11251263A (ja) * 1998-03-06 1999-09-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170113404A (ko) 2016-04-01 2017-10-12 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치
CN107263745A (zh) * 2016-04-01 2017-10-20 株式会社迪思科 切削装置
CN107263745B (zh) * 2016-04-01 2020-12-22 株式会社迪思科 切削装置
KR20220031494A (ko) 2020-09-04 2022-03-11 가부시기가이샤 디스코 가공 장치
KR20230021587A (ko) 2021-08-05 2023-02-14 가부시기가이샤 디스코 절삭 장치

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