JP4580199B2 - 気液接触装置 - Google Patents
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Description
C:流出係数 [−]
A:散布孔の面積 [m2]
g:重力加速度 [m/s2]
H:散布箱内の液深さ [m]
Claims (4)
- 自己分配促進型規則充填物を充填した充填層の上方に液分配器を配置し、該液分配器により分配されて前記充填層中を下降する液体と、下方から前記充填層中を上昇する気体とを接触させる空気液化分離用の気液接触装置において、前記充填層を、それぞれ単一の自己分配促進型規則充填物から構成される下部の主充填層と上部の副充填層とで形成し、該副充填層を、前記主充填層を形成する自己分配促進型規則充填物の比表面積よりも小さい比表面積を有する自己分配促進型規則充填物で形成するとともに、前記液分配器の塔断面積当たりの液散布孔の数が副充填層の蒸留性能を確保する為に必要な液散布孔の数以上であって、かつ、主充填層の蒸留性能を確保するために必要な液散布孔の数よりも少なくしたことを特徴とする気液接触装置。
- 前記液分散器の塔断面積当たりの流出体積流量の運転下限値である減量運転幅が、主充填層の塔断面積当たりの下降液の体積流量の運転下限値である減量運転幅よりも小さいことを特徴とする請求項1記載の気液接触装置。
- 前記主充填層及び副充填層を形成する自己分配促進型規則充填物は、鉛直線に対して30〜45度に傾斜した流路を有する波形シート状金属からなり、その比表面積が250〜750m2/m3の範囲にあることを特徴とする請求項1又は2記載の気液接触装置。
- 前記自己分配促進型規則充填物は、前記流路の上端及び下端の少なくともいずれか一方の形状が鉛直線に対して平行となっていることを特徴とする請求項3記載の気液接触装置。
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