JP4574310B2 - Manufacturing method of rigid-flexible substrate - Google Patents
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Description
本発明はリジッド−フレキシブル基板の製造方法に係り、特に複数枚のリジッド基板がフレキシブル基板を介して、前記フレキシブル基板の主面が、リジッド基板の主面と等高又はリジッド基板の主面よりも低くなるように接続されたリジッド−フレキシブル基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a rigid-flexible substrate, and more particularly, a plurality of rigid substrates are interposed via a flexible substrate, and the principal surface of the flexible substrate is equal to the principal surface of the rigid substrate or more than the principal surface of the rigid substrate. The present invention relates to a method for manufacturing a rigid-flexible substrate connected to be lowered.
一般に、筺体内の屈曲部に跨ってリジッド基板を配設する場合には、リジッド基板を複数枚に分割し、分割されたリジッド基板間を、コネクタやフレキシブル基板で接続することが行われている。 In general, when a rigid board is disposed across a bent portion in a housing, the rigid board is divided into a plurality of pieces, and the divided rigid boards are connected with a connector or a flexible board. .
しかし、コネクタやフレキシブル基板でリジッド基板間を接続すると、コネクタやフレキシブル基板の厚さ分だけ高さが高くなって機器の薄型化の障害となるし、リジッド基板間を接続した後では複数個の基板に同時に処理や加工を施すことができなくなるため生産性が低くなる。 However, connecting rigid boards with a connector or flexible board increases the height of the connector or flexible board, resulting in an obstacle to thinning the device. After connecting rigid boards, multiple rigid boards are connected. Productivity is reduced because the substrate cannot be processed or processed simultaneously.
このため、等厚の複数枚のリジッド基板をフレキシブル基板で両基板面が等高又はフレキシブル基板の主面がリジッド基板の主面よりも低くなるように接続したリジッド−フレキシブル基板が用いられる。 For this reason, a rigid-flexible substrate is used in which a plurality of rigid substrates having the same thickness are connected to each other so that both substrate surfaces are equal in height or the principal surface of the flexible substrate is lower than the principal surface of the rigid substrate.
このようなリジッド−フレキシブル基板を、例えば特開平7−86749号に開示された方法、すなわち、電解銅箔のような導電性金属板に突設された硬化された導電組成物からなる円錐状の導体バンプを、熱融性の合成樹脂系シートを介して他の導電性金属板と対向させ、加熱加圧により一体化して両面基板とする方法で作成すると、次のような多くの工程が必要になる。なお、以下の各図においては、それぞれ共通する部分に共通の符号を付して重複する説明を省略する。 Such a rigid-flexible substrate is formed by a method disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 7-86749, that is, a conical shape made of a cured conductive composition protruding from a conductive metal plate such as an electrolytic copper foil. If a conductor bump is made to face another conductive metal plate through a heat-melting synthetic resin sheet and integrated by heating and pressing to make a double-sided board, many processes are required: become. In the following drawings, common portions are denoted by common reference numerals, and redundant description is omitted.
この方法では、まず、図19に模式的に示すように、端縁部分だけカバーフィルム1が被覆されていない両面フレキシブル基板2を作成する。このフレキシブル基板2のカバーフィルム1が被覆されていない部分は、リジット基板内に積層される部分である。なお、同図において、符号3は液晶ポリマーフィルム、4は水平配線部(導体パターン)、5は垂直配線部(導体バンプ)である。
In this method, first, as schematically shown in FIG. 19, a double-sided
垂直配線部5は、導体バンプを用いて、次の方法で形成される。
すなわち、後工程でパターニングにより水平配線部4となる電解銅箔上に、円錐状の導体バンプを形成し、この導体バンプを液晶ポリマーフィルム(合成樹脂系シート)3を介して他の電解銅箔と対向させ、加熱加圧によりこれらを一体化させる。このとき、導体バンプの先端は対設された電解銅箔に圧接されて、その先端が円錐台状に塑性変形し、両面の水平配線部4間を接続する垂直配線部5となる。水平配線部4は、各電解銅箔面にレジストを塗布し、マスクパターンを介して露光し、未露光部を現像により除去し電解銅箔の露出した部分にエッチング加工を施すことにより形成される。
The
That is, a conical conductor bump is formed on the electrolytic copper foil that becomes the
カバーフィルム1は、エッチング加工を終えた基板面にレジストを塗布し、リジット基板と一体化する部分だけをホトリソグラフィにより除去して形成されている。
The
次に、このフレキシブル基板2は、図20に模式的に示す、別に作成された導体バンプ5aを有する積層体6(符号7は離型フィルム)と加熱加圧により一体化されて積層体9となる。
Next, this
積層体6は、次の方法で形成される。
すなわち、後工程でエッチング加工により水平配線部4となる電解銅箔上に円錐状の導体バンプを形成し、この導体バンプをガラス−エポキシ系のプリプレグ(合成樹脂系シート)3aを介して他の電解銅箔4aと対向配置して加熱加圧により一体化させる。このとき、導体バンプの先端は電解銅箔4aに圧接されて、その先端が円錐台状に塑性変形して、両面の電解銅箔4aを接続する垂直配線部5となる。次いで、片方の面の電解銅箔をパターニングして水平配線部4を形成する。さらに、この水平配線部4の垂直配線部5と対応する位置に導体バンプ5aを形成し、導体バンプ5a側を内側にしてガラス−エポキシ系のプリプレグ(合成樹脂系シート)3aと積層し、加熱加圧により一体化するとともに導体バンプ5aの先端を合成樹脂系シート3aから突き出させる。
The
That is, a conical conductor bump is formed on the electrolytic copper foil to be the
この積層体6とフレキシブル基板2との一体化は、導体バンプ5aの突出した側をフレキシブル基板2の水平配線部4の露出面側(カバーフィルム1のない側)にして位置合わせし、加熱加圧することにより行われる(図21)。このとき、積層体6とフレキシブル基板2の境界部には、スリット8を形成し、フレキシブル基板2のカバーフィルム1と対接する面には、スペーサを兼ねた離型フィルム7を介在させる。
The
さらに、この積層体9のフレキシブル基板2側を、図22に模式的に示す、別に作成した積層体10と積層して加熱加圧により一体化して積層体11とする(図23)。
Further, the
積層体9と積層体10の一体化は、次のようにして行われる。
すなわち、積層体10の突出する導体バンプ5aを積層体9(フレキシブル基板2)の所定の水平配線部4に当接させ、積層体9(フレキシブル基板2)のカバーフィルム1と対接する面には、スペーサを兼ねる離型フィルム7を介在させて、積層体10と積層体9を重ね合わせ、加熱加圧することにより、図23に模式的に示す、水平配線部4が8層の積層体11が得られる。
Integration of the laminated body 9 and the laminated
That is, the
この後、図24に模式的に示すように、外層の水平配線部(外層パターン)4をパターニングにより形成し、レジスト等により絶縁保護被覆12を施し、最後に、図25に模式的に示すように、フレキシブル基板2を覆うカバー部分A,Bを除去してリジッド−フレキシブル基板が完成する。
上述したように、従来のリジッド−フレキシブル基板の製造方法では、フレキシブル基板2をリジッド基板の層間に積層するために(フレキシブル基板の主面を、リジッド基板の主面と等高またはこれより低位置にするため)、非常に多くの工程を必要とする難点があった。
As described above, in the conventional rigid-flexible substrate manufacturing method, in order to laminate the
また、この方法は、通常、大きい1枚の基板の中に複数の小さい単位基板を作りこみ、大きい基板のまま、積層されて作成されるため、リジッド基板のフレキシブル基板が配置されることになる部分やフレキシブル基板のリジッド基板が配置されることになる部分は、打ち抜かれて屑となってしまい、材料の歩留まりが低いという問題があった。 Further, in this method, a plurality of small unit substrates are usually formed in one large substrate, and the large substrate is laminated and formed, so that a rigid substrate flexible substrate is disposed. The portion where the rigid substrate of the portion or the flexible substrate is to be disposed is punched and becomes waste, and there is a problem that the yield of the material is low.
また、大きい1枚の基板中に複数の単位リジッド−フレキシブル基板が形成されるため、作成過程において合成樹脂系シートや積層体の単位基板の一つに対応する部分に不良が発生すると全体が不良となってしまい、良品率が低いという問題もあった。 In addition, since a plurality of unit rigid-flexible substrates are formed on one large substrate, if a defect occurs in a portion corresponding to one of the unit substrates of the synthetic resin sheet or the laminate in the preparation process, the whole is defective. There was also a problem that the yield rate was low.
本発明のリジッド−フレキシブル基板の製造方法は、上記の課題を解決すべくなされたもので、リジッド基板とフレキシブル基板とが接続されたリジッド−フレキシブル基板の製造方法において、前記リジッド基板と接続される領域に接続端子を有するフレキシブル基板を作成する工程と、接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程と、前記各リジッド基板の前記段部に露出した前記垂直配線部に前記フレキシブル基板の接続端子を電気的及び機械的に接続し、前記フレキシブル基板の接続部上部並びに前記リジッド基板の上面に、他のリジッド基板を積層し、かつ少なくとも最上面に水平配線部を形成して、各水平配線部を前記垂直配線部で接続した配線部を有するリジッド基板部を形成する工程とを備え、前記接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程は、前記フレキシブル基板が接続される領域に、前記フレキシブル基板が接続される位置又はこれより内層の位置で水平配線部と接続された垂直配線部を有する複数のリジッド基板を作成する工程と、前記各リジッド基板のフレキシブル基板の接続される領域に、座繰り加工を施して前記段部を形成する工程とを有することを特徴とする。 The manufacturing method of the rigid-flexible substrate of the present invention is made to solve the above-mentioned problems, and is connected to the rigid substrate in the manufacturing method of the rigid-flexible substrate in which the rigid substrate and the flexible substrate are connected. A step of creating a flexible substrate having connection terminals in the region, a step of creating a rigid substrate in which the stepped portion where the vertical wiring portion serving as the connection terminal is exposed is deeper than the thickness of the flexible substrate, and the step of each of the rigid substrates Electrically and mechanically connecting the connection terminal of the flexible board to the vertical wiring part exposed at the part, and laminating another rigid board on the connection board upper part of the flexible board and the upper surface of the rigid board, and at least A horizontal wiring portion is formed on the uppermost surface, and each horizontal wiring portion is connected by the vertical wiring portion. Forming a rigid substrate, and forming a rigid substrate having a stepped portion where the vertical wiring portion serving as the connection terminal is exposed deeper than the thickness of the flexible substrate is formed in a region to which the flexible substrate is connected. A step of creating a plurality of rigid substrates having vertical wiring portions connected to horizontal wiring portions at a position where the flexible substrate is connected or an inner layer from the position, and a region where each of the rigid substrates is connected to the flexible substrate And the step of forming the stepped portion by countersinking .
本発明のリジッド−フレキシブル基板の製造方法は、リジッド基板とフレキシブル基板とが接続されたリジッド−フレキシブル基板の製造方法において、前記リジッド基板と接続される領域に接続端子を有するフレキシブル基板を作成する工程と、接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程と、前記各リジッド基板の前記段部に露出した前記垂直配線部に前記フレキシブル基板の接続端子を電気的及び機械的に接続し、前記段部のフレキシブル基板の接続部上に、前記フレキシブル基板を覆うように、他のリジッド基板を加熱圧着させる工程とを備え、前記接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程は、前記フレキシブル基板が接続される領域に、前記フレキシブル基板が接続される位置又はこれより内層の位置で水平配線部と接続された垂直配線部を有する複数のリジッド基板を作成する工程と、前記各リジッド基板のフレキシブル基板の接続される領域に、座繰り加工を施して前記段部を形成する工程とを有することを特徴とする。 The method for producing a rigid-flexible substrate of the present invention is a method for producing a flexible substrate having a connection terminal in a region connected to the rigid substrate in the method for producing a rigid-flexible substrate in which a rigid substrate and a flexible substrate are connected. A step of creating a rigid board having a stepped portion where a vertical wiring portion serving as a connection terminal is exposed deeper than a thickness of the flexible substrate; and the flexible substrate on the vertical wiring portion exposed at the stepped portion of each rigid substrate Electrically connecting the connecting terminal electrically and mechanically, and heating and press-bonding another rigid substrate so as to cover the flexible substrate on the connecting portion of the flexible substrate of the stepped portion, A rigid substrate having a stepped portion where the vertical wiring portion is exposed deeper than the thickness of the flexible substrate is created. The step of creating a plurality of rigid substrates having a vertical wiring portion connected to a horizontal wiring portion at a position where the flexible substrate is connected or at an inner layer position in a region where the flexible substrate is connected; A step of forming the stepped portion by carrying out countersinking in a region to which the flexible substrate of each rigid substrate is connected .
リジッド基板は、その下面に検査端子を有し、リジッド基板の段部の接続端子は金属めっき層及び/又は導電性ペーストの固化物により接続されていることが望ましい。 It is desirable that the rigid substrate has an inspection terminal on its lower surface, and the connection terminal of the step portion of the rigid substrate is connected by a metal plating layer and / or a solidified conductive paste.
また、フレキシブル基板の段部の接続端子は、金属配線、金属めっき層又は導電性ペーストの固化物から形成することができる。 Moreover, the connection terminal of the step part of a flexible substrate can be formed from the solidified material of a metal wiring, a metal plating layer, or an electrically conductive paste.
リジッド基板のフレキシブル基板の接続端子が接続される垂直配線部は、導体バンプを基板の厚さ方向に連接させて形成することができるが、ビアホールやスルーホールによっても形成することができる。また、フレキシブル基板のリジッド基板の垂直配線部と接続される接続端子も導体バンプで形成することができるが、他の端子、例えば高温半田や電解銅箔で構成することも可能である。 The vertical wiring portion to which the connection terminal of the flexible substrate of the rigid substrate is connected can be formed by connecting conductor bumps in the thickness direction of the substrate, but can also be formed by via holes or through holes. Further, the connection terminals connected to the vertical wiring portion of the rigid substrate of the flexible substrate can also be formed with conductor bumps, but can also be configured with other terminals such as high-temperature solder or electrolytic copper foil.
本発明でリジッド基板やフレキシブル基板の垂直配線部やフレキシブル基板の接続端子に用いられる導体バンプは、通常、導電性金属層上に形成される。このような導電性金属層としては、たとえば電解銅箔などの導電性シート(箔)が挙げられ、この導電性金属層は1枚のシートであってもよいし、パターン化されたものでもよく、その形状はとくに限定されないし、さらに導体バンプは、一方の主面だけでなく、両主面にそれぞれ形設した形のものを用いてもよい。 In the present invention, the conductor bumps used for the rigid wiring board, the vertical wiring portion of the flexible board, and the connection terminal of the flexible board are usually formed on the conductive metal layer. Examples of such a conductive metal layer include a conductive sheet (foil) such as an electrolytic copper foil. The conductive metal layer may be a single sheet or a patterned sheet. The shape is not particularly limited, and the conductor bumps may be formed not only on one main surface but also on both main surfaces.
導体バンプは、たとえば銀,金,銅,半田粉などの導電性粉末、これらの合金粉末もしくは複合(混合)金属粉末と、たとえばポリカーボネート樹脂,ポリスルホン樹脂,ポリエステル樹脂,フェノキシ樹脂,フェノール樹脂,ポリイミド樹脂などのバインダー成分とを混合して調製された導電性組成物、あるいは導電性金属などで構成される。導体バンプを導電性組成物で形成する場合、たとえば比較的厚いメタルマスクを用いた印刷法により、アスペクト比の高いバンプを形成することができ、その導体バンプの高さは一般的に、100 〜 400μm 程度が望ましく、さらに導体バンプの高さは一層の合成樹脂系シートを貫通し得る高さおよび複数層の合成樹脂系シートを貫通し得る高さとが適宜混在していてもよい。導電性金属で導体バンプを形成する手段としては、(a)ある程度形状もしくは寸法が一定の微小金属魂を、粘着剤層を予め設けておいた導電性金属層面に散布し、選択的に固着させる(このときマスクを配置して行ってもよい)、(b)電解銅箔面にめっきレジストを印刷・パターニングして、銅,錫,金,銀,半田などめっきして選択的に微小な金属柱(バンプ)を形成する、(c)導電性金属層面に半田レジストの塗布・パターニングして、半田浴に浸漬して選択的に微小な金属柱(バンプ)を形成する、(d)金属板の一部をレジストにて被膜し、エッチングして微小な金属バンプを形成する、などが挙げられる。ここで、導体バンプに相当する微小金属魂ないし微小な金属柱は、異種金属を組み合わせて成る多層構造、多層シェル構造でもよい。たとえば銅を芯にし表面を金や銀の層で被覆して耐酸化性を付与したり、銅を芯にし表面を半田層被覆して半田接合性をもたせたりしてもよい。なお、本発明において、導体バンプを導電性組成物で形成する場合には、めっき法などの手段で行う場合に較べて、さらに工程など簡略化し得るので、低コスト化の点で有効である。 Conductive bumps are, for example, conductive powders such as silver, gold, copper, solder powder, alloy powders or composite (mixed) metal powders, and polycarbonate resins, polysulfone resins, polyester resins, phenoxy resins, phenol resins, polyimide resins, etc. It is comprised with the electroconductive composition prepared by mixing binder components, such as these, or an electroconductive metal. When the conductive bump is formed of a conductive composition, a bump having a high aspect ratio can be formed by, for example, a printing method using a relatively thick metal mask. About 400 μm is desirable, and the height of the conductor bump may be appropriately mixed with the height that can penetrate one layer of the synthetic resin sheet and the height that can penetrate a plurality of layers of the synthetic resin sheet. As means for forming a conductive bump with a conductive metal, (a) a fine metal soul having a certain shape or size is spread on a conductive metal layer surface on which an adhesive layer has been provided in advance, and is selectively fixed. (This may be done by placing a mask), (b) A plating resist is printed and patterned on the surface of the electrolytic copper foil, and copper, tin, gold, silver, solder, etc. are plated to selectively make a minute metal Forming columns (bumps); (c) applying and patterning a solder resist on the surface of the conductive metal layer; and dipping in a solder bath to selectively form minute metal columns (bumps); (d) metal plate A part of the film is coated with a resist and etched to form a fine metal bump. Here, the fine metal soul or the fine metal pillar corresponding to the conductor bump may have a multilayer structure or a multilayer shell structure in which different metals are combined. For example, copper may be cored and the surface may be coated with a gold or silver layer to provide oxidation resistance, or copper may be cored and the surface may be coated with a solder layer to provide solder jointability. In the present invention, when the conductive bump is formed of a conductive composition, the process can be further simplified as compared with the case where the conductive bump is formed by means such as plating, which is effective in terms of cost reduction.
本発明において、導体バンプが貫挿されるリジッド基板やフレキシブル基板の絶縁層を構成する合成樹脂系シートとしては、たとえば熱可塑性樹脂フィルム(シート)や硬化前状態に保持される熱硬化性樹脂シートが挙げられ、またその厚さは50〜300μm程度が好ましい。ここで、熱可塑性樹脂シートとしては、たとえばポリカーボネート樹脂,ポリスルホン樹脂,熱可塑性ポリイミド樹脂,4フッ化ポリエチレン樹脂,6フッ化ポリプロピレン樹脂,ポリエーテルエーテルケトン樹脂などのシート類が挙げられる。また、硬化前状態に保持される熱硬化性樹脂シートとしては、エポキシ樹脂,ビスマレイミドトリアジン樹脂,ポリイミド樹脂,フェノール樹脂,ポリエステル樹脂,メラミン樹脂,あるいはブタジエンゴム,ブチルゴム,天然ゴム,ネオプレンゴム,シリコーンゴムなどの生ゴムのシート類が挙げられる。これら合成樹脂は、単独でもよいが絶縁性無機物や有機物系の充填物を含有してもよく、さらにガラスクロスやマット、有機合成繊維布やマット、あるいは紙などの補強材と組み合わせて成るシートであってもよい。 In the present invention, as the synthetic resin-based sheet constituting the insulating layer of the rigid substrate or flexible substrate into which the conductor bumps are inserted, for example, a thermoplastic resin film (sheet) or a thermosetting resin sheet held in a state before curing is used. The thickness is preferably about 50 to 300 μm. Here, examples of the thermoplastic resin sheet include sheets such as polycarbonate resin, polysulfone resin, thermoplastic polyimide resin, tetrafluoropolyethylene resin, hexafluoropolypropylene resin, and polyetheretherketone resin. In addition, the thermosetting resin sheet held in the pre-curing state includes epoxy resin, bismaleimide triazine resin, polyimide resin, phenol resin, polyester resin, melamine resin, or butadiene rubber, butyl rubber, natural rubber, neoprene rubber, silicone. Examples thereof include raw rubber sheets such as rubber. These synthetic resins may be used alone or may contain insulating inorganic or organic fillers, and sheets made of glass cloth or mat, organic synthetic fiber cloth or mat, or a sheet combined with a reinforcing material such as paper. There may be.
さらに、本発明において、リジッド基板やフレキシブル基板を形成するために導体バンプを形設した導電性金属層の主面に、合成樹脂系シート主面を対接させた構成の複数層を、積層配置して成る積層体を加熱・加圧するとき、合成樹脂系シートを載置する基台(当て板)として、寸法や変形の少ない金属板もしくは耐熱性樹脂板、たとえばステンレス板,真鍮板、ポリイミド樹脂板(シート),ポリテトラフロロエチレン樹脂板(シート)などが使用される。 Furthermore, in the present invention, a plurality of layers having a structure in which the main surface of the synthetic resin sheet is in contact with the main surface of the conductive metal layer in which the conductor bumps are formed in order to form a rigid substrate or a flexible substrate are laminated. When heating and pressurizing the laminated body, the base (pad) on which the synthetic resin sheet is placed is used as a metal plate or heat-resistant resin plate, such as stainless steel plate, brass plate, polyimide resin, with little size and deformation. A plate (sheet), a polytetrafluoroethylene resin plate (sheet), or the like is used.
本発明に係る印刷配線板の製造方法によれば、フレキシブル基板とリジッド基板とを別々に製造して両者を接続するだけの簡易な方法でリジッド−フレキシブル基板を作成し得るので、生産工程を大幅に簡略化することができる。また、リジッド基板とフレキシブル基板とは、それぞれ最終形態まで作成した状態で接続することができるので、リジッド基板内にはフレキシブル基板はなく、またフレキシブル基板のみの部分もリジッド基板を取り除くなどの工程がないため、材料の利用効率を向上させることができる。また、リジッド基板とフレキシブル基板のそれぞれを、接続前に、ほぼ完成された単位基板の状態で良否の判定ができるので、仮に作成過程で不良が生じてもロスを最小限にすることができる。 According to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, a rigid-flexible substrate can be created by a simple method in which a flexible substrate and a rigid substrate are separately manufactured and connected to each other, greatly increasing the production process. Can be simplified. In addition, since the rigid substrate and the flexible substrate can be connected in a state where the final form has been created, there is no flexible substrate in the rigid substrate, and there is a process such as removing the rigid substrate from only the flexible substrate. Therefore, the utilization efficiency of the material can be improved. In addition, since each of the rigid substrate and the flexible substrate can be judged as good or bad in the almost completed unit substrate state before connection, loss can be minimized even if a defect occurs in the production process.
また、その接続部のフレキシブル基板上面を覆うように、他のリジッド基板で被覆するので、接続部の機械的強度を高めるとともに該部の接着力を高めることができる。 Moreover, since it coat | covers with another rigid board | substrate so that the flexible substrate upper surface of the connection part may be covered, the adhesive strength of this part can be raised while improving the mechanical strength of a connection part.
また、接続部が突出しないように被覆するので、外観を損ねることなく、後の実装工程で重要となる基板の部品実装面の平坦性を確保することができる。 Further, since the connection portion is covered so as not to protrude, the flatness of the component mounting surface of the board, which is important in the subsequent mounting process, can be ensured without impairing the appearance.
さらに、前記他のリジッド基板はフレキシブル基板とリジッド基板との接続部を含めた基板上を同一平面として覆うため、実装領域を広くすることができる。 Furthermore, since the other rigid substrate covers the substrate including the connection portion between the flexible substrate and the rigid substrate as the same plane, the mounting area can be widened.
次に、本発明の実施例を図1乃至18を参照しながら説明する。なお、図1乃至18において、図19乃至23と共通する部分には同一符号を付して、重複する説明は省略する。 Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 18, the same reference numerals are given to the portions common to FIGS. 19 to 23, and a duplicate description is omitted.
(フレキシブル基板の作成)
まず、厚さ25μmのポリイミドフィルム3(PI)の両面に厚さ18μmの電解銅箔(4a)を貼着させ基板の所定位置にスルーホールTHを形成して両面銅張りフレキシブル基板を得た。
(Create flexible substrate)
First, an electrolytic copper foil (4a) having a thickness of 18 μm was adhered to both sides of a polyimide film 3 (PI) having a thickness of 25 μm to form a through hole TH at a predetermined position of the substrate to obtain a double-sided copper-clad flexible substrate.
この両面銅張り積層板両面の電解銅箔4aに、通常のエッチングレジストインク(商品名,PSR-4000 H,太陽インキKK)をスクリーン印刷し、導体パターン部をマスクしてから、塩化第2銅をエッチング液としてエッチング処理後、レジストマスク剥離し図1に示す、両面型のフレキシブル基板20を得た。符号4は、電解銅箔4aをエッチングによりパターニングされた水平配線部である。さらに、この両面型フレキシブル基板20のスルーホールTHの上の近傍を除いて水平配線部4上に、ホトリソグラフィによりカバーフィルム1を形成した。
A normal etching resist ink (trade name, PSR-4000 H, Taiyo Ink KK) is screen-printed on the
次に、図2に示すごとく、水平配線部4のスルーホールTHと接続する部分に、導体バンプ5aを形成し、この上に厚さ60μm のガラス−エポキシ系プリプレグ(合成樹脂系シート)3aを当接させ、アルミ箔及びゴムシートを介して、例えば100℃に保持した熱板の間に配置し、1MPaで1分ほど加熱加圧して、導体バンプ5aの先端がガラス−エポキシ系のプリプレグ(合成樹脂系シート)3aから突き出したフレキシブル基板21を作成した。
Next, as shown in FIG. 2, a
なお、図2に示したフレキシブル基板21は、図4に示す、2枚のリジット基板間を接続するためのもので、このフレキシブル基板21は、大きい1枚の基板の中に多数枚を作り込んだものを作成し、図2の状態にまで完成したところで、個々のフレキシブル基板に分割されてリジット基板と接続される。
The
(リジット基板の作成)
前述したポリイミドフィルム3(PI)に代えて厚さ60μm の硬化前のガラス−エポキシ系プリプレグ(合成樹脂系シート)3aを用いた点を除いて、B2it(ビー・スクエア・イット:登録商標)として知られる、たとえば特開平8―204332号公報に記載された方法で、図1と図2に示されたフレキシブル基板の場合と同様の構成の両面型のリジッド基板を用いて、図3の8層の水平配線部4を持つリジッド基板22を作成した。
(Rigid board creation)
As a B2it (B Square It: registered trademark) except that the glass-epoxy prepreg (synthetic resin sheet) 3a before curing having a thickness of 60 μm is used instead of the polyimide film 3 (PI) described above. 3 using the double-sided rigid substrate having the same structure as that of the flexible substrate shown in FIGS. 1 and 2 by a known method described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 8-204332. A
このリジッド基板22は、各層の絶縁層が、全てガラス−エポキシ系プリプレグ(合成樹脂系シート)3aからなる点を除いて、図23に示された積層体11のリジッド基板部分と同一構造である。
This
図3に示したリジッド基板22も、大きい1枚の基板の中に多数枚を作り込んだものを作成し、図3の状態にまで形成したところで、又は後述する座繰り加工が済んだ後、個々のリジッド基板に分割される。
The
(リジッド−フレキシブル基板の作成)
個々のリジッド基板に分割する前の大きい基板の状態で、又は、個々のリジッド基板に分割した後に、各リジッド基板22のフレキシブル基板と接続される垂直配線部5の近傍に座繰り加工を施し、接続すべきフレキシブル基板20の厚さよりも深く座繰って垂直配線部5が露出した段部Sを有するリジッド基板23を作成した(図4)。
(Rigid-Flexible board creation)
In the state of a large substrate before being divided into individual rigid substrates, or after being divided into individual rigid substrates, a countersink process is performed in the vicinity of the
次に、個々に分割された単位リジッド基板23と単位フレキシブル基板21とを、枠体の中に最終形態となるように配置する。通常、この枠体は、複数のリジッド−フレキシブル基板が組み立て可能な大きさのものとされる。
Next, the unit rigid board |
ここで座繰る部分の導体バンプは銅配線で挟む構造でもいいが、深さ方向の座繰り精度を考慮し、導体バンプ部分を表面に露出させるために座繰り部は銅配線を無くしてもよい。また、段差形状を得るために、リジッド基板の形成工程の中で、段差とする部分をルーター加工などにより予め除去した上で積層することで形成することも可能である。 The conductor bumps of the counter-sinking part may be sandwiched between copper wirings, but the counter-sink part may be free of copper wiring in order to expose the conductor bump part on the surface in consideration of the precision of the counter-sinking in the depth direction. . Further, in order to obtain a stepped shape, it is also possible to form the step by laminating a portion to be a step in a rigid substrate forming process by removing in advance by router processing or the like.
図5〜7は、このような段部を有するリジッド基板の他の製法を示すもので、予め、段部より上の部分の積層板50aと段部より下の部分を構成する積層板50bとを別々に作成し(図5)、積層板50aの端部の積層板50bと積層したとき、積層板50bの段部Sとなる部分を切断し(図6)、これらを位置決めして加熱加圧することにより段部Sを有するリジッド基板50を形成することができる(図7)。
FIGS. 5 to 7 show another method for manufacturing a rigid substrate having such a stepped portion, in which a
図8は、枠体24内に、段部Sを形成したリジッド基板23を、段部Sが互いに対向するように配置し、各リジッド基板23の対向する段部Sに跨って、フレキシブル基板21を配設して仮固定した例である。この実施例では、各リジッド基板23の外周に全体の幅が枠体24の保持部の幅とほぼ同一とされた小突起25が形成されており、枠体24内に配設されたリジッド基板23は、この小突起25で枠体24の枠内に保持固定される。なお、必要に応じて、この小突起25を枠体24内面に接着剤で仮固定するようにしてもよい。
In FIG. 8, the
さらに、図9に示すように、リジッド基板23の縁部にT示型の突起部26を設け、枠体24の内面の対応位置に、この突起部が嵌合する凹部27を設けて、嵌め合い構造により、リジッド基板23を枠体に保持させてもよい。
Further, as shown in FIG. 9, a T-shaped
このようにして、複数のリジッド基板23やフレキシブル基板21を、最終形態となる位置関係に保持した枠体24を、複数枚重ねて加熱加圧により一体化させて枠体24に固定されたリジッド−フレキシブル基板が得られる。
In this way, a rigid body in which a plurality of
この後、各リジッド−フレキシブル基板が打ち抜かれて図10に示す状態となる。 Thereafter, each rigid-flexible substrate is punched out, and the state shown in FIG. 10 is obtained.
なお、この実施例では、リジッド基板の2枚がフレキシブル基板の1枚で接続されるリジッド−フレキシブル基板を製造する方法について説明したが、本発明は、リジッド基板とフレキシブル基板の枚数には制限されない。 In this embodiment, a method of manufacturing a rigid-flexible substrate in which two rigid substrates are connected by one flexible substrate has been described. However, the present invention is not limited to the number of rigid substrates and flexible substrates. .
また、図11に示すように、1個のリジッド基板23の辺部に、異なる水平配線部4に接続する複数組の垂直配線部を形成し、それぞれの配線ごとに深さの異なる段部を形成して各段部において、別々のフレキシブル基板と接続するようにしてもよい。また、リジッド基板の異なる辺にそれぞれ段部を形成し、フレキシブル基板と接続するようにしてもよい。
Further, as shown in FIG. 11, a plurality of sets of vertical wiring portions connected to different
なお、以上の実施例では、フレキシブル基板が接続されるリジッド基板の垂直配線部(接続端子)を導体バンプで形成した例について説明したが、本発明はかかる実施例に限定されるものではなく、図12に示す、ビアホール28a内に導電性ペースト28bを充填して形成することも可能である。また、図13に示すように、高温半田(たとえば融点200℃〜240℃程度の半田)により導体バンプ29を形成し、リジッド基板23の段部に形成した端子27(水平配線部4と実質的に同じもの)に半田接続するようにしてもよい。この場合、電子部品を搭載する際に使用する半田は前述の高温半田よりも融点の低いものを使用することで、フレキシブル基板とリジッド基板の接続半田の再溶融を回避することができる。また、絶縁層にレーザーなどで穴明けし、そこに導電ペーストを埋め込んだ後、積層することで導通をとる方法でも可能である。
In addition, although the above example demonstrated the example which formed the vertical wiring part (connection terminal) of the rigid board | substrate to which a flexible substrate is connected with a conductor bump, this invention is not limited to this Example, It is also possible to fill the via
さらに、フレキシブル基板とリジッド基板の接続として、(a)異方性導電膜を挟み圧着することで接続する方法、(b)フレキシブル基板とリジッド基板それぞれの端子に金めっきを施し、金めっき同士を圧着接続する方法、(c)貫通孔を有する絶縁層に導電性ペーストを充填したものを挟み真空熱プレスすることで接続する方法、などでも接続は可能である。 Furthermore, as a connection between the flexible substrate and the rigid substrate, (a) a method of connecting by sandwiching an anisotropic conductive film, (b) gold plating is applied to each terminal of the flexible substrate and the rigid substrate, Connection is also possible by a method of crimping connection, (c) a method of connecting by insulating hot layers filled with a conductive paste and vacuum hot pressing.
(フレキシブル基板の接続部上面の被覆)
この実施例においては、以上の工程で作成された例えば図10に示した状態のリジッド−フレキシブル基板の接続部の上面が他のリジッド基板30で覆われる。
(Coating of the upper surface of the connection part of the flexible substrate)
In this embodiment, the upper surface of the connecting portion of the rigid-flexible substrate formed in the above process, for example, in the state shown in FIG. 10 is covered with another
図14は、他のリジッド基板30として両面配線リジッド基板を積層して、フレキシブル基板の接続部の上面を含めたリジッド基板の上面全域にわたって配線部を形成可能とした実施例を示したものである。同図において、太線AA以下に示された部分は、図10に示した状態のリジッド−フレキシブル基板を示したものである。この実施例によれば、接続部の機械的強度が増すだけでなく、フレキシブル基板の接続部上にも配線層を形成することができるので、設計の自由度が増大する。
FIG. 14 shows an embodiment in which a double-sided wiring rigid board is stacked as another
図15は、図10のリジッド−フレキシブル基板の接続部上面を、未硬化のガラス−エポキシ系のプリプレグ(合成樹脂系シート)3aを介して他のリジッド基板30(配線部のない絶縁基板)で、リジッド基板23の基板面より低くなるように被覆し加熱圧着により一体化した実施例を示したものである。なお、同図では、図10に示した基板の部分は白抜きにし、簡略化して示してある。
FIG. 15 shows the rigid-flexible substrate of FIG. 10 with the upper surface of the rigid-flexible substrate connected to another rigid substrate 30 (insulating substrate having no wiring portion) through an uncured glass-epoxy prepreg (synthetic resin-based sheet) 3a. 3 shows an embodiment in which the substrate is coated so as to be lower than the substrate surface of the
図16,17は、図15におけるBB断面をフレキシブル基板の長手方向に見た状態を模式的に示したものである。図16は、段部の幅をほぼフレキシブル基板の幅と等しくするとともに、他のリジット基板30の幅もほぼ等しくして、フレキシブル基板とリジット基板30が段部に嵌合するようにした例であり、図17は、段部の幅をフレキシブル基板の幅よりも広くして他のリジット基板30の両端が直接段部に接着させて、リジット基板によりフレキシブル基板を段部に押さえつけるようにした例である。図17に示したように、リジット基板30の幅をフレキシブル基板の幅よりも広くした場合には、フレキシブル基板がより強固に段部に固定される。
16 and 17 schematically show a state in which the BB cross section in FIG. 15 is viewed in the longitudinal direction of the flexible substrate. FIG. 16 shows an example in which the width of the step portion is made substantially equal to the width of the flexible substrate, and the widths of the other
図15乃至17に示した実施例では、リジッド基板30の上面がリジッド基板23の基板面より低くなっているが、図18に示すように、他のリジッド基板30の上面がリジッド基板23の上面とほぼ等高になるようにしてもよい。この場合、実質的にリジッド基板上の部品実装面積が増加する。また、リジッド基板30の上面がリジッド基板23の上面とほぼ等高であるため、部品実装面の平坦性が確保できる。このような部品面の平坦性は、例えば半田クリームを部品実装面にスクリーン印刷する場合に重要で、リジッド基板30の上面が高いと印刷用のスクリーン面がリジッド基板30の上面に接触してリジッド基板23の上面に密着せず、印刷の障害となるが、リジッド基板30の上面がほぼ等高か低い位置であれば、前記のような障害は起こらない。ところで、通常リジッド基板上に50μm程度の半田レジスト膜が有っても実用上スクリーン印刷の障害とはならない事から、リジッド基板30の上面がリジッド基板23と実用上ほぼ等高と言える範囲は、通常100μm以下、好ましくは50μm以下である。
In the embodiment shown in FIGS. 15 to 17, the upper surface of the
リジッド−フレキシブル基板の製造にあたり、リジッド基板とフレキシブル基板とを別工程で製造し両者を単位基板に分割した後、リジッド基板とフレキシブル基板とを製造できるため、生産工程を大幅に簡略化することができ、屑となる部分が少なく、材料を有効利用して歩留まりを向上させることができる。また、単位基板ごとに良否を判定して、良品のみで最終の接続工程を行うことができるので、基板の作成過程で不良が生じても屑を最小限にすることができる。さらに、リジッド基板とフレキシブル基板との接続部を他のリジッド基板で被覆したので接続部の機械的強度と接着力を高めることができ、基板の平坦性も確保できる。また、接続部を含めた基板上に通常の多層両面配線板を積層した場合には、実装領域が増加し、設計の自由度も増大する。 When manufacturing rigid-flexible substrates, the rigid substrate and flexible substrate can be manufactured in separate processes, and after both are divided into unit substrates, the rigid substrate and flexible substrate can be manufactured, which greatly simplifies the production process. And there are few parts which become waste, and a yield can be improved by using a material effectively. In addition, since it is possible to determine pass / fail for each unit substrate and perform the final connection process using only non-defective products, it is possible to minimize waste even if a defect occurs in the substrate manufacturing process. Furthermore, since the connecting portion between the rigid substrate and the flexible substrate is covered with another rigid substrate, the mechanical strength and adhesive force of the connecting portion can be increased, and the flatness of the substrate can be ensured. In addition, when an ordinary multilayer double-sided wiring board is laminated on a substrate including the connecting portion, the mounting area increases and the degree of design freedom increases.
1…カバーフィルム、2…1が被覆されていない両面型のフレキシブル基板、3…ポリイミドフィルム、3a…ガラス−エポキシ系のプリプレグ(合成樹脂系シート)、4…水平配線部(導体パターン)、4a…電解銅箔、5…垂直配線部(導体バンプ)、5a…導体バンプ、6,9,10,11…積層体、8…スリット、12…絶縁保護被覆、20,21…フレキシブル基板、22,23…リジッド基板、24…枠体、25…小突起、26…突起部、27…凹部、28…ビアホール、29…高温半田により導体バンプ、TH…スルーホール、30…他のリジッド基板。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記リジッド基板と接続される領域に接続端子を有するフレキシブル基板を作成する工程と、
接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程と、
前記各リジッド基板の前記段部に露出した前記垂直配線部に前記フレキシブル基板の接続端子を電気的及び機械的に接続し、前記フレキシブル基板の接続部上部並びに前記リジッド基板の上面に、他のリジッド基板を積層し、かつ少なくとも最上面に水平配線部を形成して、各水平配線部を前記垂直配線部で接続した配線部を有するリジッド基板部を形成する工程とを備え、
前記接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程は、
前記フレキシブル基板が接続される領域に、前記フレキシブル基板が接続される位置又はこれより内層の位置で水平配線部と接続された垂直配線部を有する複数のリジッド基板を作成する工程と、
前記各リジッド基板のフレキシブル基板の接続される領域に、座繰り加工を施して前記段部を形成する工程と
を有することを特徴とするリジッド−フレキシブル基板の製造方法。 In a manufacturing method of a rigid-flexible substrate in which a rigid substrate and a flexible substrate are connected ,
Creating a flexible substrate having a connection terminal in a region connected to the rigid substrate;
A step of creating a rigid substrate in which a stepped portion where a vertical wiring portion serving as a connection terminal is exposed is deeper than a thickness of the flexible substrate;
The connection terminal of the flexible board is electrically and mechanically connected to the vertical wiring part exposed at the step part of each rigid board, and another rigid board is connected to the upper part of the flexible board and the upper surface of the rigid board. Laminating the substrate, forming a horizontal wiring portion at least on the uppermost surface, and forming a rigid substrate portion having a wiring portion in which each horizontal wiring portion is connected by the vertical wiring portion ,
The step of creating a rigid substrate in which the stepped portion where the vertical wiring portion serving as the connection terminal is exposed is deeper than the thickness of the flexible substrate,
Creating a plurality of rigid substrates having a vertical wiring portion connected to a horizontal wiring portion at a position where the flexible substrate is connected or at a position of an inner layer from the region where the flexible substrate is connected;
Forming the stepped portion by applying a countersink to a region to which the flexible substrate of each rigid substrate is connected;
A method for producing a rigid-flexible substrate, comprising:
前記リジッド基板と接続される領域に接続端子を有するフレキシブル基板を作成する工程と、
接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程と、
前記各リジッド基板の前記段部に露出した前記垂直配線部に前記フレキシブル基板の接続端子を電気的及び機械的に接続し、前記段部のフレキシブル基板の接続部上に、前記フレキシブル基板を覆うように、他のリジッド基板を加熱圧着させる工程とを備え、
前記接続端子となる垂直配線部が露出した段部を前記フレキシブル基板の厚さより深くしたリジッド基板を作成する工程は、
前記フレキシブル基板が接続される領域に、前記フレキシブル基板が接続される位置又はこれより内層の位置で水平配線部と接続された垂直配線部を有する複数のリジッド基板を作成する工程と、
前記各リジッド基板のフレキシブル基板の接続される領域に、座繰り加工を施して前記段部を形成する工程と
を有することを特徴とするリジッド−フレキシブル基板の製造方法。 In a manufacturing method of a rigid-flexible substrate in which a rigid substrate and a flexible substrate are connected ,
Creating a flexible substrate having a connection terminal in a region connected to the rigid substrate;
A step of creating a rigid substrate in which a stepped portion where a vertical wiring portion serving as a connection terminal is exposed is deeper than a thickness of the flexible substrate;
A connection terminal of the flexible substrate is electrically and mechanically connected to the vertical wiring portion exposed at the step portion of each rigid substrate so as to cover the flexible substrate on the connection portion of the flexible substrate of the step portion. And a step of thermocompression bonding another rigid substrate,
The step of creating a rigid substrate in which the stepped portion where the vertical wiring portion serving as the connection terminal is exposed is deeper than the thickness of the flexible substrate,
Creating a plurality of rigid substrates having a vertical wiring portion connected to a horizontal wiring portion at a position where the flexible substrate is connected or at a position of an inner layer from the region where the flexible substrate is connected;
Forming the stepped portion by applying a countersink to a region to which the flexible substrate of each rigid substrate is connected;
A method for producing a rigid-flexible substrate, comprising:
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