JP4573272B2 - Continuous film deposition system - Google Patents
Continuous film deposition system Download PDFInfo
- Publication number
- JP4573272B2 JP4573272B2 JP2006202735A JP2006202735A JP4573272B2 JP 4573272 B2 JP4573272 B2 JP 4573272B2 JP 2006202735 A JP2006202735 A JP 2006202735A JP 2006202735 A JP2006202735 A JP 2006202735A JP 4573272 B2 JP4573272 B2 JP 4573272B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- film
- roll
- chamber
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は帯状の被成膜基材を搬送しつつ、その表面に機能性薄膜を連続的に成膜する連続成膜装置に関する。 The present invention relates to a continuous film forming apparatus for continuously forming a functional thin film on a surface of a belt-shaped film forming substrate while conveying the film.
プラスチックや無機質などで形成された長尺のフィルムやシートからなる被成膜基材を、真空チャンバ内で連続的に走行搬送し、その表面に種々の機能性薄膜をスパッタリングや蒸着によって成膜する連続成膜装置がある。この種の連続成膜装置は、バッチ処理毎にスパッタ源の交換、マスクの交換や清掃、被成膜基材の交換や通紙というようなメンテナンスや段取り作業を行う必要がある。近年、このような作業性に優れ、設置スペースも少なくて済む連続成膜装置が提案されている。このような連続成膜装置の一例を図4及び図5に示す。 A film-forming substrate made of a long film or sheet made of plastic or inorganic material is continuously run and transported in a vacuum chamber, and various functional thin films are formed on the surface by sputtering or vapor deposition. There is a continuous film forming apparatus. In this type of continuous film forming apparatus, it is necessary to perform maintenance and setup operations such as replacement of a sputtering source, replacement and cleaning of a mask, replacement of a film formation base material, and paper feeding for each batch process. In recent years, there has been proposed a continuous film forming apparatus that is excellent in workability and requires less installation space. An example of such a continuous film forming apparatus is shown in FIGS.
この連続成膜装置は、真空チャンバ1を有し、その内部にフィルム基材(被成膜基材)が巻き掛けられた成膜ロール2が設けられる。前記真空チャンバ1には、その内部を上下に区画する遮蔽板11が設けられており、真空チャンバ1の上部には巻出しロール3、巻取りロール4、フリーロール5、ロードセルロール6が、下部には成膜ロール2の側方向(横方向)の左右にカソードボックス(成膜源)7L,7Rが設けられている。また、真空チャンバ1の上部背面には真空排気ポンプ10が付設されている。前記成膜ロール2は、定速モータで駆動されてフィルム基材を定速搬送し、巻出しロール3、巻取りロール4はロードセルロール6で検出した張力をフィードバックしてトルク回転制御が行われ、所定の張力にて成膜処理が行われる。
The continuous film forming apparatus has a
前記巻出しロール3には、フィルム基材をコイル状に巻いたボビンが装着され、ボビンに巻かれたフィルム基材は、フリーロール5、ロードセルロール6を介して成膜ロール2に連続的に供給される。真空チャンバ1の内部を真空に減圧した後、成膜ロール2に供給されたフィルム基材は成膜ロール2の外周面上でスパッタ成膜された後、再びロードセルロール6、フリーロール5を介して巻取りロール4に装着されたボビンに巻き取られる。
A bobbin obtained by winding a film base material in a coil shape is attached to the unwinding roll 3, and the film base material wound around the bobbin is continuously applied to the
前記真空チャンバ1は、背面壁21とこれに対向配置された正面壁22とを上面壁23及び下面壁24によって連結した口字形の外枠部25とその左右の開口を閉塞する側面壁26L,26Rとで構成された箱形をなしており、下部フレーム13の上に設置されている。そして前記外枠部25は固定チャンバ部15とされ、前記側面壁26L,26Rは移動チャンバ部16L,16Rとされ、左右の移動チャンバ部16L,16Rは、固定チャンバ部15の背面壁21の側端部に設けたヒンジ機構18により、固定チャンバ部15に対して気密に開閉自在とされている。前記成膜ロール2、巻出しロール3、巻取りロール4などのロール郡は前記記背面壁21と正面壁22とによって回転自在に支持されており、また前記カソードボックス7L,7Rは前記側面壁26L,26Rに着脱自在に取り付けられている。
The
このため、フィルム基材を成膜した後、左右の移動チャンバ部16L,16Rを固定チャンバ部15から大きく開くだけで、固定チャンバ部15内のロール郡を取り外すことなく、容易にメンテナンスや段取り作業を行うことができる。また、カソードボックス7L,7Rも側面壁26L,26Rに付設されているので、交換やメンテナンスを容易に行うことができる。これらの作業は、移動チャンバ部を開くだけで行うことができるため、設置スペースやメンテナンススペースを小さくすることができる。
For this reason, after the film base material is formed, the left and right moving
上記連続成膜装置は、真空チャンバ1の外枠部25を固定チャンバ部15とし、左右の側面壁26L,26Rを左右の移動チャンバ部16L,16Rとしたが、固定チャンバ部、移動チャンバ部の設け方はこれに限らず、例えば特開2006−77284号公報に記載された分割構造の真空チャンバ1Aの各分割部とすることができる。すなわち、図6に示すように、真空チャンバ1Aの背面壁21の一方の側端部と正面壁22の一方の側部と上面壁23及び下面壁24を通る第1分割面31と、前記背面壁21の他方の側端部と前記正面壁22の他方の側部と前記上面壁23及び下面壁24を通る第2分割面32とによって、真空チャンバ1Aを左分割部34L、中央分割部33及び右分割部34Rに3分割し、前記中央分割部33を固定チャンバ部15とし、前記左分割部34L及び右分割部34Rを左右の移動チャンバ部16L,16Rとしてもよい。このタイプは、移動チャンバ部16L,16Rが開いた際の開口領域がより広くなり、メンテナンス等の作業性をより向上させたものである。図4及び図5に示した連続成膜装置を含めて、これらを両サイド開放タイプの連続成膜装置と呼ぶ。
上記両サイド開放タイプの連続成膜装置は、図例のように、スパッタ源などの成膜源7L,7Rが成膜ロール2の側方に配置される場合、これを移動チャンバ部を構成する側面壁26L,26Rに取り付けることにより、移動チャンバ部を固定チャンバ部から開けば、固定チャンバ部内のロール郡及び成膜源へ容易にアクセスすることができ、清掃やターゲットの交換などのメンテナンス、段取り作業を容易に実施することができる。しかし、成膜の種類によっては成膜ロールの下方にも成膜源を設けることが必要になる場合がある。
When the
この場合、正面壁22に大きな開口を設け、この開口を通して下方の成膜源を引き抜き、また取り付けるようにすることで、下方の成膜源のメンテナンスを行うことができるが、成膜源の着脱作業が面倒で、引き抜き代を考慮するとメンテナンススペースも大きくなる上、正面壁22に成膜源を着脱するための大きな開口を開設する必要があるため、正面壁22の剛性が低下し、その変形によって成膜精度が低下するおそれがある。
In this case, by providing a large opening in the
本発明はかかる問題に鑑みなされたもので、両サイド開放タイプの連続成膜装置において、成膜ロールの下方に成膜源を設けた場合でも下方成膜源のメンテナンス性に優れた連続成膜装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and in a continuous film forming apparatus of both sides open type, even when a film forming source is provided below the film forming roll, the continuous film forming is excellent in maintainability of the lower film forming source. An object is to provide an apparatus.
本発明は、被成膜基材を搬送しながら成膜する連続成膜装置であって、背面壁とこれに対向配置された正面壁とを上面壁及び下面壁によって連結した外枠部と、この外枠部の左右の開口を閉塞する左右の側面壁を有する真空チャンバと、前記真空チャンバ内に収容されて回転自在に設けられた成膜ロールと、前記成膜ロールに巻き掛けられた被成膜基材に側方から成膜する側方成膜源及び下方から成膜する下方成膜源と、前記被成膜基材を前記成膜ロールに供給する巻出しロール及び成膜後の被成膜基材を巻き取る巻取りロールとを備え、前記真空チャンバの前記背面壁の一方の側端部と前記正面壁の一方の側端部あるいは側部を通る第1分割面と、前記背面壁の他方の側端部と前記正面壁の他方の側端部あるいは側部を通る第2分割面とによって、前記真空チャンバを左分割部、中央分割部及び右分割部に3分割し、前記中央分割部を固定チャンバ部とし、前記左分割部及び右分割部をそれぞれ左右の移動チャンバ部とし、前記固定チャンバ部に対して前記左右の移動チャンバ部を開閉機構により開閉自在に設け、前記成膜ロール、巻出しロール及び巻取りロールを前記固定チャンバ部の背面壁及び正面壁に回転自在に支持し、前記側方成膜源を前記移動チャンバ部に着脱自在に設け、前記下方成膜源を前記固定チャンバ部内に設けられた出退機構によって前記固定チャンバ部の内外に出退自在に設けたものである。 The present invention is a continuous film forming apparatus for forming a film while transporting a film-forming substrate, and an outer frame part in which a rear wall and a front wall arranged to face the rear wall are connected by an upper surface wall and a lower surface wall; A vacuum chamber having left and right side walls closing the left and right openings of the outer frame portion, a film forming roll housed in the vacuum chamber and rotatably provided, and a film wound around the film forming roll A lateral film forming source for forming a film on the film forming substrate from the side, a lower film forming source for forming a film from below, an unwinding roll for supplying the film forming substrate to the film forming roll, and after the film forming A winding roll for winding the film-forming substrate, and one side end portion of the back wall of the vacuum chamber and one side end portion or side portion of the front wall, The other side end of the back wall and the other side end of the front wall or the second divided surface passing through the side Then, the vacuum chamber is divided into three parts, a left divided part, a central divided part, and a right divided part, the central divided part is a fixed chamber part, and the left divided part and the right divided part are respectively left and right moving chamber parts, The left and right moving chamber portions are provided to be openable / closable by an opening / closing mechanism with respect to the fixed chamber portion, and the film forming roll, unwinding roll, and winding roll are rotatably supported on the back wall and the front wall of the fixed chamber portion. The lateral film-forming source is detachably provided in the moving chamber portion, and the lower film-forming source is provided in and out of the fixed chamber portion by a retracting mechanism provided in the fixed chamber portion. Is.
上記連続成膜装置によれば、左右の移動チャンバ部を固定チャンバ部から開くことによって、固定チャンバ部内のロール郡並びに左右の移動チャンバ部に設けた側方成膜源のメンテナンスや段取り作業を容易に行うことができ、しかも下方成膜源は出退機構によって、開放された固定チャンバ部から外側に容易に取り出すことができるため、そのメンテナンスを容易に行うことができる。また、装置の設置スペースやメンテナンススペースが少なくてすみ、さらに固定チャンバ部の正面壁に下方成膜源を着脱するための開口が不要なため、正面壁の剛性を低下させるおそれがなく、各ロールの平行度が損なわれず、精度の高い成膜を行うことができる。 According to the continuous film forming apparatus, by opening the left and right moving chamber portions from the fixed chamber portion, it is easy to perform maintenance and setup work for the roll film formation in the fixed chamber portion and the side film forming sources provided in the left and right moving chamber portions. Moreover, since the lower film-forming source can be easily taken out from the opened fixed chamber portion by the withdrawal mechanism, the maintenance can be easily performed. In addition, the installation space and maintenance space of the apparatus can be reduced, and furthermore, since there is no need for an opening for attaching / detaching the lower film forming source to the front wall of the fixed chamber section, there is no risk of lowering the rigidity of the front wall. Therefore, the film can be formed with high accuracy.
前記連続成膜装置において、前記左右の移動チャンバ部を前記真空チャンバの左右の側面壁によって構成することができる。この真空チャンバでは、外枠部の側端面すなわち側面壁の外枠部側表面が分割面となり、これによりシンプルな箱形構造の外枠部からなる固定チャンバ部に、平板状の側面壁を移動チャンバ部とすることができる。このため、構造が簡単で、そのため製作が容易となり、製作コストを低減することができる。 In the continuous film forming apparatus, the left and right moving chamber portions can be constituted by left and right side walls of the vacuum chamber. In this vacuum chamber, the side surface of the outer frame, that is, the surface of the side wall on the side of the outer frame becomes a dividing surface, which moves the flat side wall to the fixed chamber consisting of a simple box-shaped outer frame. It can be a chamber part. For this reason, the structure is simple, so that the manufacture becomes easy and the manufacturing cost can be reduced.
上記連続成膜装置において、前記左右の移動チャンバ部を開閉させる開閉機構及び前記下方成膜源を出退させる出退機構としてヒンジ機構を用いることができる。ヒンジ機構を用いることにより、簡単な機構によって、移動チャンバ部の開閉や下方成膜源の固定チャンバ部の内外への出退を容易に行うことができる。 In the continuous film forming apparatus, a hinge mechanism can be used as an opening / closing mechanism for opening / closing the left and right moving chambers and an exit / retreat mechanism for moving the lower film forming source. By using the hinge mechanism, it is possible to easily open and close the moving chamber part and to move the lower film forming source in and out of the fixed chamber part by a simple mechanism.
この場合、前記左右の移動チャンバ部を開閉させるヒンジ機構が前記固定チャンバ部の背面壁側あるいは正面壁側のいずれか一方に設け、前記下方成膜源を出退させるヒンジ機構がその他方に設けることが好ましい。これにより、側方成膜源が付設された移動チャンバ部と下方成膜源とを反対側に回動させて開くことができ、側方成膜源及び下方成膜源のメンテナンス領域が重複しないようにすることができる。このためメンテナンス性をより向上させることができる。 In this case, a hinge mechanism for opening and closing the left and right moving chamber portions is provided on either the back wall side or the front wall side of the fixed chamber portion, and a hinge mechanism for moving the lower film forming source in and out is provided on the other side. It is preferable. As a result, the movable chamber portion provided with the side film-forming source and the lower film-forming source can be rotated and opened to the opposite side, and the maintenance areas of the side film-forming source and the lower film-forming source do not overlap. Can be. For this reason, maintainability can be improved more.
本発明の連続成膜装置によれば、左右の移動チャンバ部を固定チャンバ部から開くことによって、固定チャンバ部内のロール郡並びに左右の移動チャンバ部に設けた側方成膜源のメンテナンスや段取り作業を容易に行うことができ、しかも下方成膜源を開放された固定チャンバ部から外側に容易に取り出すことができるので、そのメンテナンスを容易に行うことができる。また、設置スペースやメンテナンススペースが少なくてすみ、さらに固定チャンバ部の正面壁に下方成膜源を着脱するための開口を設ける必要がないため、正面壁の剛性が低下せず、各ロールの平行度が損なわれないため、精度の高い成膜を行うことができる。 According to the continuous film forming apparatus of the present invention, the left and right moving chamber portions are opened from the fixed chamber portion, thereby maintaining and setting up the roll film formation in the fixed chamber portion and the side film forming sources provided in the left and right moving chamber portions. In addition, since the lower film-forming source can be easily taken out from the open fixed chamber portion, the maintenance can be easily performed. In addition, installation space and maintenance space are small, and there is no need to provide an opening for attaching and detaching the lower film forming source to the front wall of the fixed chamber. Since the degree is not impaired, highly accurate film formation can be performed.
以下、本発明の連続成膜装置の実施形態を図1〜図3を参照して説明する。なお、図4及び図5に示した従来の連続成膜装置と同部材は同符号を付して説明を省略あるいは簡略することとし、相違点を中心に説明する。 Hereinafter, an embodiment of a continuous film forming apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. The same members as those of the conventional continuous film forming apparatus shown in FIGS. 4 and 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified, and differences will be mainly described.
この実施形態に係る連続成膜装置は、背面壁21とこれと対向配置された正面壁22とを上面壁23及び下面壁24によって連結した、口字形の外枠部25及びその左右の開口を閉塞する左右の側面壁26L,26Rとで構成された真空チャンバ1を備える。前記外枠部25が固定チャンバ部15とされ、前記側面壁26L,26Rがそれぞれ左右の移動チャンバ部16L,16Rとされ、これらが固定チャンバ部15の背面壁21の側端部に設けたヒンジ機構18によって固定チャンバ部15に開閉自在に設けられている。前記外枠部25は、同部の各壁を構成する厚板を溶接して一体化したものである。また、外枠部25からなる固定チャンバ部15と側面壁26L,26Rからなる移動チャンバ部16L,16Rとの合わせ面にはシール部材が設けられており、移動チャンバ部16L,16Rが閉じた状態では固定チャンバ部15と気密に一体化する。
In the continuous film forming apparatus according to this embodiment, a
前記固定チャンバ部15は、背面壁21及び正面壁22に架設された遮蔽板11A,11Bによってその内部が上下方向に上部、中部、下部に区画されている。前記上部には巻出しロール3、巻取りロール4、フリーロール5、ロードセルロール6が背面壁21及び正面壁22に回転自在に支持されている。また、前記中部には、成膜ロール2が回転自在に支持され、この成膜ロール2に対して横方向の左右に、マスク12を介して、スパッタ源となる左右のカソードボックス7L,7Rが配置され、これらは側面壁26L,26Rに着脱自在に取り付けられている。また、前記下部にも左右一対の下方カソードボックス8L,8Rがマスク12を介して前記成膜ロール2に対向するように設けられている。前記マスク12は、成膜ロール2の所定領域を成膜するためのものである。前記遮蔽板11A,11Bは、スパッタ膜の相互汚染を防止するためのものである。また、真空チャンバ1をコンパクトにするため、真空排気ポンプ10は固定チャンバ部15の上面壁23にゲート弁を介して付設されている。
The interior of the fixed
前記下方カソードボックス8L,8Rは、図2に示すように、それぞれ旋回アーム9に取り付けられており、この旋回アーム9が固定チャンバ部15の正面壁22の内側端部に設けたヒンジ機構19に連結され、旋回アーム9をヒンジ機構19により旋回させることで、前記下方カソードボックス8L,8Rは固定チャンバ部15の内外に回転自在に出退するようになっている。
As shown in FIG. 2, the lower cathode boxes 8 </ b> L and 8 </ b> R are respectively attached to a revolving
前記固定チャンバ部15の内部には、下方カソードボックス8L,8Rを冷却するため冷却水管(図示省略)が下面壁24を通して設けられており、この冷却水管は下方カソードボックス8L,8Rに付設されたメタル配管(図示省略)とヒンジ機構19の回転中心付近で回動可能に連結されており、配管を取り付けたまま、下方カソードボックス8L,8Rを固定チャンバ部15の内外へ旋回移動させることができるようになっている。また、下方カソードボックス8L,8Rには、固定チャンバ部15の内部に設けられた電力供給用の絶縁被覆線がコネクタを介して着脱自在に連結されるようになっている。このため、下方カソードボックス8L,8Rを固定チャンバ部15の外へ旋回させる際には、前記絶縁被覆線を容易に取り外すことができる。もちろん、スペースに余裕があれば、絶縁被覆線を取り付けたまま、下方カソードボックス8L,8Rを固定チャンバ部15の外方へ旋回移動させるようにしてもよい。
A cooling water pipe (not shown) is provided in the fixed
この連続成膜装置におけるフィルム基材に対する成膜動作については基本的に従来と同様であり、巻出しロール3から巻き出されたフィルム基材は、フリーロール5、ロードセルロール6を介して成膜ロール2に連続的に供給され、成膜ロール2の外周面上で左右の側方カソードボックス、下方カソードボックスに各々設けられたターゲットから放出された成膜原子によって成膜された後、再びロードセルロール6、フリーロール5を介して巻取りロール4に巻き取られる。
The film forming operation on the film substrate in this continuous film forming apparatus is basically the same as the conventional one, and the film substrate unwound from the unwinding roll 3 is formed through the
成膜されたフィルム基材が巻取りロール4に巻き取られると、真空チャンバ1内を大気圧に戻し、図3に示すように、まず左右の移動チャンバ部16L,16Rを固定チャンバ部15から離反させて開き、固定チャンバ部15の両側を開放する。そして、左右の下方カソードボックス8L,8Rをヒンジ機構19を中心に固定チャンバ部15の内側から外側へ回転移動させる。このように移動チャンバ部16L,16R及び下方カソードボックス8L,8Rを固定チャンバ部15の外方へ開いた後、巻出しロール3、巻取りロール4のボビンの交換や通紙作業を行い、また必要に応じて、各カソードボックス7L,7R,8L,8Rのターゲットの交換を行った後、再び下方カソードボックス8L,8Rを固定チャンバ部15内に戻し、移動チャンバ部16L,16Rを固定チャンバ部15に気密に連結一体化し、真空チャンバ1内を真空排気した後、再び成膜を行う。このように、この連続成膜装置では、側方カソードボックス7L,7Rのみならず、下方カソードボックス8L,8Rについても特別なメンテナンススペースを設けることなく、容易にメンテナンスを行うことができ、また下方カソードボックス8L,8Rについては、その背面側(下側)に対しても容易にアクセスすることができる。
When the film base material having been formed is wound on the take-up roll 4, the inside of the
上記実施形態では、移動チャンバ部16L,16Rのヒンジ機構18を背面壁21の両側端部に設けたが、固定チャンバ部15の正面壁21の両側端部に設けてもよい。もっとも、この場合、下方カソードボックス8L,8Rのヒンジ機構19は、前記移動チャンバ部16L,16Rのヒンジ機構18と対向するように固定チャンバ部15の背面壁21の内側の両側端部に設けることが好ましい。このように設けることで、下方カソードボックス8L,8Rのメンテナンススペースを十分広く取ることができる。また、上記実施形態では、下方カソードボックス8L,8Rは成膜ロール2の下方の左右に設けたが、いずれか一方だけでもよい。また、成膜源となるカソードボックスは、スパッタリングの方式に応じて、バランストマグネトロンスパッタリング、アンバランストスパッタリングなどのスパッタリング源、その他の成膜形式のCVD源やプラズマ処理源などの各種成膜源を用いることができる。
In the above embodiment, the
また、上記実施形態では、下方カソードボックス8L,8Rをヒンジ機構19で固定チャンバ部15の内外に回転移動により出退させるようにしたが、固定チャンバ部15の下面壁24にスライド機構を設け、これにより固定チャンバ部15の開口より外側へカソードボックス8L,8Rをスライドさせるようにしてもよい。また、移動チャンバ部16L,16Rについても、ヒンジ機構18による開閉に限らず、例えば適宜の搬送機構により移動チャンバ部16L,16Rを固定チャンバ部15に対して近接離反するように移動させて開閉するようにしてもよい。
In the above embodiment, the
さらに、上記実施形態では、外枠部25を固定チャンバ部15とし、左右の側面壁26L,26Rを移動チャンバ部16L,16Rとしたが、固定チャンバ部、移動チャンバ部の設け方はこれに限らず、図6に示した3分割構造の左分割部及び右分割部をそれぞれ移動チャンバ部とし、中央分割部を固定チャンバ部としてもよい。
Furthermore, in the above embodiment, the
1 真空チャンバ、 2 成膜ロール、
3 巻出しロール、 4 巻取りロール、
7L,7R 側方カソードボックス、8L,8R 下方カソードボックス、
15 固定チャンバ部、 16L,16R 移動チャンバ部、
18,19 ヒンジ機構、 21 背面壁、
22 正面壁、 23 上面壁、
24 下面壁、 25 外枠部、
26L,26R 側面壁
1 vacuum chamber, 2 film forming roll,
3 unwinding rolls, 4 winding rolls,
7L, 7R side cathode box, 8L, 8R lower cathode box,
15 fixed chamber, 16L, 16R moving chamber,
18, 19 Hinge mechanism, 21 Back wall,
22 front wall, 23 top wall,
24 bottom wall, 25 outer frame,
26L, 26R Side wall
Claims (4)
背面壁とこれに対向配置された正面壁とを上面壁及び下面壁によって連結した外枠部と、この外枠部の左右の開口を閉塞する左右の側面壁を有する真空チャンバと、前記真空チャンバ内に収容されて回転自在に設けられた成膜ロールと、前記成膜ロールに巻き掛けられた被成膜基材に側方から成膜する側方成膜源及び下方から成膜する下方成膜源と、前記被成膜基材を前記成膜ロールに供給する巻出しロール及び成膜後の被成膜基材を巻き取る巻取りロールとを備え、
前記真空チャンバの前記背面壁の一方の側端部と前記正面壁の一方の側端部あるいは側部を通る第1分割面と、前記背面壁の他方の側端部と前記正面壁の他方の側端部あるいは側部を通る第2分割面とによって、前記真空チャンバを左分割部、中央分割部及び右分割部に3分割し、前記中央分割部を固定チャンバ部とし、前記左分割部及び右分割部をそれぞれ左右の移動チャンバ部とし、前記固定チャンバ部に対して前記左右の移動チャンバ部を開閉機構により開閉自在に設け、
前記成膜ロール、巻出しロール及び巻取りロールを前記固定チャンバ部の背面壁及び正面壁に回転自在に支持し、
前記側方成膜源を前記移動チャンバ部に着脱自在に設け、
前記下方成膜源を前記固定チャンバ部内に設けられた出退機構によって前記固定チャンバ部の内外に出退自在に設けた、連続成膜装置。 A continuous film forming apparatus for forming a film while conveying a film forming substrate,
A vacuum chamber having an outer frame portion in which a rear wall and a front wall arranged opposite to each other are connected by an upper surface wall and a lower surface wall, left and right side walls closing right and left openings of the outer frame portion, and the vacuum chamber A film forming roll housed inside the film forming roll, a side film forming source for forming a film on the film forming substrate wound around the film forming roll from the side, and a lower film forming film formed from below. A film source, an unwinding roll for supplying the film-forming substrate to the film-forming roll, and a winding roll for winding the film-forming substrate after film formation,
One side edge of the back wall of the vacuum chamber and one side edge or side of the front wall; the other side edge of the back wall; and the other of the front wall. The vacuum chamber is divided into a left divided part, a central divided part, and a right divided part by a side dividing part or a second dividing surface passing through the side part, the central divided part is a fixed chamber part, and the left divided part and The right split part is a left and right moving chamber part, and the left and right moving chamber parts are provided to be openable and closable by an opening and closing mechanism with respect to the fixed chamber part,
The film forming roll, the unwinding roll and the winding roll are rotatably supported on the back wall and the front wall of the fixed chamber section,
The side film forming source is detachably provided in the moving chamber part,
A continuous film forming apparatus in which the lower film forming source is provided inside and outside the fixed chamber part by a retracting mechanism provided in the fixed chamber part.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006202735A JP4573272B2 (en) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | Continuous film deposition system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006202735A JP4573272B2 (en) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | Continuous film deposition system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008031493A JP2008031493A (en) | 2008-02-14 |
JP2008031493A5 JP2008031493A5 (en) | 2008-09-11 |
JP4573272B2 true JP4573272B2 (en) | 2010-11-04 |
Family
ID=39121245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006202735A Expired - Fee Related JP4573272B2 (en) | 2006-07-26 | 2006-07-26 | Continuous film deposition system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4573272B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5240782B2 (en) * | 2009-05-18 | 2013-07-17 | 株式会社神戸製鋼所 | Continuous film deposition system |
CN110643969A (en) * | 2018-06-27 | 2020-01-03 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | Vacuum evaporation equipment |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60234971A (en) * | 1984-03-28 | 1985-11-21 | ジエネラル・エンジニアリング・ラドクリフ・リミテツド | Vacuum membrane forming device |
JPH11350136A (en) * | 1998-06-11 | 1999-12-21 | Sony Corp | Vacuum film forming device |
JP2001003168A (en) * | 1999-06-18 | 2001-01-09 | Sony Corp | Vacuum film forming device |
JP2006077284A (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Kobe Steel Ltd | Continuous film-forming apparatus |
-
2006
- 2006-07-26 JP JP2006202735A patent/JP4573272B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60234971A (en) * | 1984-03-28 | 1985-11-21 | ジエネラル・エンジニアリング・ラドクリフ・リミテツド | Vacuum membrane forming device |
JPH11350136A (en) * | 1998-06-11 | 1999-12-21 | Sony Corp | Vacuum film forming device |
JP2001003168A (en) * | 1999-06-18 | 2001-01-09 | Sony Corp | Vacuum film forming device |
JP2006077284A (en) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Kobe Steel Ltd | Continuous film-forming apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008031493A (en) | 2008-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5241383B2 (en) | Continuous film deposition system | |
JP6360882B2 (en) | Deposition platform for flexible substrates and method of operation thereof | |
JP5240782B2 (en) | Continuous film deposition system | |
EP0337369B1 (en) | Continuous vacuum vapor deposition apparatus | |
JP5312351B2 (en) | Processing apparatus for vacuum processing of strip-like substrate | |
TWI727921B (en) | Vacuum processing system and method for mounting the same | |
US20080006206A1 (en) | Winding Type Plasma Cvd Apparatus | |
US20200165721A1 (en) | Vacuum processing system and methods therefor | |
US7594970B2 (en) | Web coating apparatus with a vacuum chamber and a coating cylinder | |
US20100304155A1 (en) | Film deposition method, film deposition apparatus, and gas barrier film | |
JP4573272B2 (en) | Continuous film deposition system | |
JP4421980B2 (en) | Continuous film deposition system | |
JP2006077284A5 (en) | ||
TWI647743B (en) | Apparatus for processing a film on a substrate, and method for providing a gas-tight process separation wall | |
US20090084671A1 (en) | Sputtering apparatus | |
JP2008031493A5 (en) | ||
JP2011094188A (en) | Vacuum roll conveying apparatus | |
JPH11350136A (en) | Vacuum film forming device | |
JP5787917B2 (en) | Film forming method and film forming apparatus | |
JP2001003168A (en) | Vacuum film forming device | |
JP2000178717A (en) | Film forming device | |
KR20030028401A (en) | Target arrangement | |
JP2000290389A (en) | Film-forming equipment | |
WO2018149510A1 (en) | Deposition apparatus for coating a flexible substrate and method of coating a flexible substrate | |
JPH0364463A (en) | Continuous vacuum deposition device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080729 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100811 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100811 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4573272 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |