JP4569982B2 - ボイルないしレトルト処理用積層包装材 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ボイルないしレトルト処理用積層包装材に関し、更に詳しくは、酸素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れ、更に、ラミネ−ト強度等を有し、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、その他等の種々の物品を充填包装し、更に、ボイルないしレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造するに有用なボイルないしレトルト処理用積層包装材に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、飲食品、医薬品、化粧品、その他等の種々の物品を充填包装し、更に、ボイルないしレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造するに有用なボイルないしレトルト処理用積層包装材として、種々の形態からなる積層包装材が開発され、提案されている。
それらの中で、近年、ポリエステル系樹脂フィルムあるいはポリアミド系樹脂フィルム等のプラスチック基材の表面に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法(PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(CVD法)等を利用して、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、その他等の無機酸化物の蒸着膜を形成して透明ガスバリア性フィルムを製造し、これを酸素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止するバリア性素材として使用し、これに、他のプラスクックフィルム、その他等の基材を任意に積層してなる積層包装材が注目されている。
而して、上記の透明ガスバリア性フィルムは、従来のアルミニウム箔あるいはポリ塩化ビニリデン系樹脂コ−ト膜等によるバリア性素材と比較して、使用後の焼却廃棄処理適正等に優れ、環境対応に適う素材として、今後、その需要が大いに期待されているものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、実際に、上記の透明ガスバリア性フィルムを使用し、これと他のプラスチックフィルム等を積層して積層包装材を製造し、次いで、これを製袋して包装用袋等を製造し、更に、該包装用袋内に内容物を充填包装して包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品にボイルあるいはレトルト処理等を施して殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造しても、十分に満足し得る包装製品を製造することが極めて困難であるというのが実状である。
例えば、上記の包装製品においては、包装用袋等を構成する積層包装材が、プラスクック基材と無機酸化物の蒸着膜との層間、あるいは、無機酸化物の蒸着膜と他のプラスクックフィルムとの層間等において十分なラミネ−ト強度が得られず、しばしば、層間剥離(デラミ)等の現象を生じ、その商品価値を著しく損ない、もはや商品として使用し得ないという問題点がある。
また、上記の包装製品においては、積層包装材を構成するプラスチック基材の表面に設けた無機酸化物の蒸着膜は、ガラス質で、可撓性に欠け、例えば、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工等の後加工における加熱加圧等により、しばしば、クラック等を発生し、その酸素ガスあるいは水蒸気等に対するガスバリア性を著しく低下し、この場合も、その商品価値を著しく損ない、もはや商品として使用し得ないものである。
特に、上記の包装製品において、プラスチック基材として、ポリアミド系樹脂フィルムを使用した透明ガスバリア性フィルムにおいては、プラスチック基材として、ポリエステル系樹脂フィルム等を使用した透明ガスバリア性フィルムと比較して、該ポリアミド系樹脂フィルムが吸水性が高いことから、レトルトあるいはボイル処理時に、該ポリアミド系樹脂フィルムが水を吸収ないし吸着し、該ポリアミド系樹脂フィルムが、膨潤するという現象を起こし、而して、そのようなポリアミド系樹脂フィルムの膨潤に対し無機酸化物の蒸着膜が追従性に欠けることから、該無機酸化物の蒸着膜にクラック等が発生し、ガスバリア性等を著しく低下させるという問題点がある。
更に、場合によっては、基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルムと無機酸化物の蒸着膜とが剥離し、もはやその用をなさないという問題点もある。
このため、上記の透明ガスバリア性フィルムにおいて、その密着性、ガスバリア性等を向上させるために、プラスチック基材の表面に、予め、プライマ−剤層等を形成する方法等も提案されているが、それによる効果は、それなりに期待し得るものであるが、未だ、ボイルないしレトルト処理適正を有し、十分に満足し得るハイバリア性を有するボイルないしレトルト処理用積層包装材を製造することは困難であるというのが実状である。
そこで本発明は、酸素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れ、更に、ラミネ−ト強度等を有し、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、その他等の種々の物品を充填包装し、更に、ボイルないしレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造するに有用なボイルないしレトルト処理用積層包装材を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記のような問題点を解決すべく種々研究の結果、蒸着膜形成直前のポリエステル系樹脂フィルムあるいはポリアミド系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、酸素ガスによるプラズマ処理、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスによるプラズマ処理を行い酸素プラズマ処理面を形成し、次いで、その酸素プラズマ処理面の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、更にまた、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層して積層包装材を製造し、而して、該積層包装材を使用して包装用袋等を製造し、更に、該包装用袋内に内容物を充填包装して包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品にボイルあるいはレトルト処理等を施して殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造したところ、基材フィルムの表面に、緻密で、柔軟性に富む無機酸化物の蒸着膜を形成することができると共にポリエステル系樹脂フィルムあるいはポリアミド系樹脂フィルム等の基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密接着性に優れ、更に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有し、また、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を積層することから、無機酸化物の蒸着膜とヒ−トシ−ル性樹脂層等とのラミネ−ト強度等にも優れ、ボイルないしレトルト処理等を行っても、上記の各層間において層間剥離(デラミ)等の現象は認められず、極めて強度に優れ、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造することができ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、その他等の種々の物品をレトルト充填包装し、更に、ボイルないしレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造するに有用なボイルないしレトルト処理用積層包装材を製造し得ることができることを見出して本発明を完成したものである。
【0005】
すなわち、本発明は、基材フィルムの一方の面に、酸素プラズマ処理面を設け、更に、該酸素プラズマ処理面の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層したことを特徴とするボイルないしレトルト処理用積層包装材に関するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について図面等を用いて以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材の層構成について、その一例を例示して図面を用いて説明すると、図1は、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材についてその一例の層構成を示す概略的断面図であり、図2は、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用し、これを製袋してなる包装用袋についてその一例を例示する概略的斜視図である。
【0007】
まず、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材Aは、図1に示すように、ポリエステル系樹脂フィルムまたはポリアミド系樹脂フィルム等の基材フィルム1の表面に、無機酸化物の蒸着膜3の形成直前に、酸素ガスによる酸素プラズマ処理面2a、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスによる酸素プラズマ処理面2b等からなる酸素プラズマ処理面2を形成し、更に、該酸素プラズマ処理面2(2a、2b)の面に、無機酸化物の蒸着膜3を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜3の上に、プライマ−剤層4とラミネ−ト用接着剤層5とを介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層6等を積層した構成からなることを基本構造とするものである。
上記の例示は、その一例であり、本発明はこれによって限定されるものではないことは言うまでもないことである。
例えば、本発明においては、図示しないが、上記の無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の一層からなる単層膜のみならず無機酸化物の蒸着膜の2層を重層してなる多層膜、あるいは、異種の無機酸化物の蒸着膜の2層を重層してなる複合膜等のいずれのものでもよいものである。
また、本発明においては、図示しないが、その包装目的、充填包装する内容物、包装法、その他等の条件により、他のプラスクック基材、紙基材、セロファン、合成紙、その他等を任意に積層し、種々の形態からなるボイルないしレトルト処理用積層包装材を製造することができるものである。
【0008】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用し、これを製袋してなる包装用容器についてその一例を例示して説明すると、図2に示すように、上記の図1に示すボイルないしレトルト処理用積層包装材Aを使用した例で例示すると、上記の図1に示すボイルないしレトルト処理用積層包装材Aの2枚を用意し、そのヒ−トシ−ル性樹脂層6、6の面を対向させて重ね合わせ、次に、その三方の外周周辺の端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部7、7、7を形成すると共にその上方に開口部8を形成して、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用し、これを製袋してなる三方シ−ル型軟包装用袋Bを製造することができる。
而して、本発明においては、図示しないが、上記で製造した三方シ−ル型軟包装用袋Bを使用し、その上方の開口部から内容物を充填包装し、次いで、その上方の端部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品に、例えば、90℃、30分間のボイル処理、あるいは、120℃、30分間のレトルト処理等を施して、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造することができるものである。
上記の例示は、その一例であり、本発明はこれによって限定されるものではないことは言うまでもないことである。
例えば、図示しないが、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用し、これを製袋してなる包装用容器の形態としては、例えば、2方シ−ル型軟包装用袋、ガセット型包装用袋、自立性包装用袋、その他等、種々の形態からなる包装用容器を製造し得るものである。
【0009】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成する材料、その製造法、その他等について説明すると、まず、本発明において、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−トあるいはポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン樹脂からなるポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル系樹脂、アセタ−ル系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、単層、あるいは、2層以上の共押し出し法で製膜したもの、または、1ないし2軸方向に延伸加工されているもの等のいずれのものでもを使用することができ、更に、その厚さとしては、製膜時等における安定性等から、約5〜100μm位、好ましくは、9〜50μm位が望ましい。
なお、本発明において、用途に応じて、例えば、光安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、充填剤、その他等の所望の添加剤を、その透明性に影響しない範囲内で任意に添加し、それらを含有する樹脂のフィルムないしシ−ト等も使用することができる。
【0010】
ところで、本発明においては、上記に例示した基材フィルムの中でも、ボイルないしレトルト処理用積層包装材としての強度、耐熱性、特に、ボイルないしレトルト処理適性等を充足するものとしては、例えば、テレフタル酸若しくはその誘導体、2.6−ナフタレンジカルボン酸若しくはその誘導体等のジカルボン酸類と、エチレングリコ−ルとの重縮合反応等によって得られるポリエチレンテレフタレ−トフィルムあるいはポリエチレンナフタレ−トフィルム等のポリエステル系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが最も好ましいものである。
上記のポリエステル系樹脂フィルムとしては、単層、あるいは、2層以上の共押し出し法で製膜したもの、あるいは、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等の通常の延伸加工方式で1軸ないし2軸方向に延伸加工されているもの等を使用することができ、更に、その厚さとしては、フィルムの製造時の安定性等から、約5〜100μm位、好ましくは、9〜50μm位が望ましい。
具体的には、例えば、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、2軸延伸ポリエチレンナフタレ−トフィルム等を使用することが好ましいものである。
【0011】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成する酸素プラズマ処理面について説明すると、かかる酸素プラズマ処理面としては、気体をア−ク放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用して、酸素プラズマ処理面を形成することができるものである。
すなわは、本発明においては、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等のガスをプラズマガスとして使用する方法でプラズマ処理を行って、酸素プラズマ処理面を形成することができる。
而して、本発明において、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に行うプラズマ処理としては、プラズマ放電処理の際に、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行なうことが好ましく、このようなプラズマ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行なうことが可能であり、更に、これによりポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面の変色等も防止して、その表面に、良好に酸素プラズマ処理面を設けることができるものである。
【0012】
ところで、本発明において、上記のプラズマ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うことが最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に無機酸化物の蒸着膜を形成する直前にインラインで行うことが望ましいものである。
すなわち、本発明においては、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、無機酸化物の蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に付着している水分や塵等を除去すると共に、更に、プラズマ中で活性化された酸素分子がポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面と化学反応を起こすことによって、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成した酸素プラズマ処理面を設けることができものである。
更に、本発明においては、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、無機酸化物の蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、例えば、水酸基(−OH基)等が形成されている酸素プラズマ処理面を設けることもできるものである。
【0013】
而して、本発明においては、上記のようなプラズマ処理により、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に酸化被膜、あるいは、水酸基(−OH基)等が形成されている酸素プラズマ処理面上に、後述するように、無機酸化物の蒸着膜を蒸着すると、非常に緻密な、柔軟性に富む無機酸化物の蒸着膜を形成することができ、しかも、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密接着性に優れ、その結果、その両者の層間における層間剥離(デラミ)等の現象は認められず、更に、付言すれば、無機酸化物の蒸着膜の膜厚は、従来のそれと比較して、より薄い膜厚で、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性薄膜を形成することができるものである。
しかも、本発明においては、上記のように無機酸化物の蒸着膜を、従来のそれと比較して、より薄い膜厚で形成して、十分に酸素ガスあるいは水蒸気等に対するハイバリア性薄膜とすることができることから、例えば、フィルムの巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後処理加工において、上記の無機酸化物の蒸着膜にクラック等の発生等を防止することができ、いわゆる、後加工適性を向上させることができるという利点も有するものである。
更に、本発明においては、上記のように、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密着性が優れていることから、他の樹脂のフィルムないしシ−ト等のラミネ−ト適性も向上するものである。
また、本発明においては、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、その無機酸化物の蒸着膜形成直前にインラインでプラズマ処理を行うことから、その製造コスト面においても、他の方法等と比較して極めて優れているものであるという利点を有するものである。
【0014】
なお、本発明において、上記のプラズマ処理においては、プラズマ処理条件等が極めて重要であり、その条件によって得られる効果は、しばしば、異なることになるものである。
而して、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響する要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供給量、および、処理時間等を挙げることができる。
本発明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧としては、1×10-1〜1×10-10 Torr位、より好ましくは、1×10-4〜1×10-8Torr位が望ましく、また、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率としては、分圧比で酸素ガス:アルゴンガスまたはヘリウムガス=100:0〜30:70位、より好ましくは、90:10〜70:30位が望ましく、更に、そのプラズマ出力としては、5〜70kW位、より好ましくは、10〜50kW位が望ましく、更にまた、その処理速度としては、50〜800m/min位、より好ましくは、100〜600m/min位が望ましい。
上記の酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴンガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとしてポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムと反応し、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの酸化による酸化被膜の形成、あるいは、水酸基等の導入が阻害されることから好ましくないものである。
また、上記のプラズマ出力が、5kW未満、更には、10kW未満の場合には、酸素ガスの活性化が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいことから好ましくなく、また、70kWを越えると、更には、50kWを越えると、プラズマ出力が高すぎるので、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの劣化により、ボイルないしレトルト処理用積層包装材そのものの物性が低下するという問題を引き起こすことから好ましくないものである。
更に、上記の処理速度が、50m/min未満、更には、100m/min未満であると、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムに対する酸素プラズマ量が少なく、また、800m/minを越えると、更には、600m/minを越えると、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの酸化が急速に進み、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムが多孔質状になり、バリア性が低下して好ましくないものである。
【0015】
ところで、本発明において、プラズマ処理において、プラズマを発生させる方法としては、例えば、直流グロ−放電、高周波(Audio Frequency:AF、Radio Frequency:RF)放電、マイクロ波放電等の3通りの装置を利用して行うことができる。
而して、本発明においては、通常は、13.56MHzの高周波(AF)放電装置を利用して行うことができる。
【0016】
なお、本発明において、無機酸化物の蒸着膜を形成する直前のポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、上記のようなプラズマ処理により形成されるプラズマ処理面について、例えば、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、プラズマ処理面の元素分析を行うことより、前述のように、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に付着している水分や塵等を除去されると共に、更に、プラズマ中で活性化された酸素分子がポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面と化学反応を起こすことによって、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成した酸素プラズマ処理面であること、更に、ポリエステル系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、例えば、水酸基(−OH基)等の官能基が形成されている酸素プラズマ処理面であることを確認することができるものである。
具体的には、X線源として、MgKα1.2、X線出力として15Kv、20mAの測定条件で表面〜100ÅのXPS分析を行い、而して、酸化被膜の形成状態は、表面のO/Cの組成比を測定して確認することができ、処理前のO/C組成比と処理後のO/C組成比は、処理後の方が、酸化物が形成される分、大きくなるものである。
また、水酸基(−OH基)等の形成状態は、O1sの532eV位置のピ−クを測定して確認することができ、処理前は、532eVの位置にピ−クは存在しないが、O2 プラズマ処理することによって、0H基の存在を意味するO1sの532eVの位置にピ−クが生じるものである。
【0017】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明すると、かかる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、化学気相成長法、または、物理気相成長法、あるいは、その両者を併用して、無機酸化物の蒸着膜の1層からなる単層膜あるいは2層以上からなる多層膜または複合膜を形成して製造することができるものである。
【0018】
本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【0019】
具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、図3は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
上記の図3に示すように、本発明においては、プラズマ化学気相成長装置11の真空チャンバ−12内に配置された巻き出しロ−ル13から基材フィルム1を繰り出し、更に、該基材フィルム1を、補助ロ−ル14を介して所定の速度で冷却・電極ドラム15周面上に搬送する。
而して、本発明においては、例えば、上記の補助ロ−ル14と冷却・電極ドラム15との間にプラズマ処理装置16を配設し、該プラズマ処理装置16により、基材フィルム1の表面にプラズマガスを照射して、該基材フィルム1の表面に、無機酸化物の蒸着膜の形成直前において、酸素プラズマ処理面を形成するものである。
他方、本発明においては、ガス供給装置17、18および、原料揮発供給装置19等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル20を通して真空チャンバ−12内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム15周面上に搬送され、酸素プラズマ処理面を設けた基材フィルム1の酸素プラズマ処理面の上に、グロ−放電プラズマ21によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム15は、真空チャンバ−12の外に配置されている電源22から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム15の近傍には、マグネット23を配置してプラズマの発生が促進されている。
次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1は、補助ロ−ル24を介して巻き取りロ−ル25に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができるものである。
なお、図中、26は、真空ポンプを表す。
【0020】
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
図示しないが、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も1種または2種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
また、本発明においては、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【0021】
上記において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
【0022】
本発明において、上記で形成される酸化珪素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が基材フィルムの酸素プラズマ処理面の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成することができ、通常、一般式SiOX (ただし、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とする連続状の蒸着膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Xの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
また、上記の酸化珪素の蒸着膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å〜4000Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変化しているものである。
更に、上記の酸化珪素の蒸着膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを特徴とするものである。
【0023】
而して、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚50Å〜4000Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、100〜1000Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、更には、4000Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。
また、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
【0024】
次に、本発明において、上記の物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化し、これを基材フィルムの一方の上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの一方の上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式(EB)等にて行うことができる。
【0025】
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物の薄膜膜を形成する方法について、その具体例を挙げると、図4は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図4に示すように、巻き取り式真空蒸着装置31の真空チャンバ−32の中で、巻き出しロ−ル33から繰り出す基材フィルム1は、ガイドロ−ル34、35を介して、冷却したコ−ティングドラム36に案内される。
而して、本発明においては、例えば、上記のガイドロ−ル35と冷却したコ−ティングドラム36との間にプラズマ処理装置37を配設し、該プラズマ処理装置37により、基材フィルム1の表面にプラズマガスを照射して、該基材フィルム1の表面に、無機酸化物の蒸着膜の形成直前において、酸素プラズマ処理面を形成するものである。
次いで、上記の冷却したコ−ティングドラム36上に案内された基材フィルム1の酸素プラズマ処理面の上に、るつぼ38で熱せられた蒸着源39、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口40より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク41、41を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1を、ガイドロ−ル35′、34′を介して送り出し、巻き取りロ−ル42に巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【0026】
上記において、無機酸化物の蒸着膜としては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMOX (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表される。
また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(Si)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(Ca)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の値をとることができる。
上記において、X=0の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケイ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(Al)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜2000Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属、または金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
【0027】
ところで、本発明において、本発明にかかる積層材、包装用容器等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、上記のように化学気相成長法あるいは物理気相成長法等によ無機酸化物の蒸着膜のいずれの蒸着膜でも使用することができるものであるが、本発明においては、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の場合には、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスが、化学的に分解し、更に、これが酸素ガス等と化学反応して蒸着膜を形成することができ、極めて緻密な、柔軟性等に富み、かつ、基材フィルムの酸素プラズマ処理面に強固に密接着した蒸着膜を形成し得ることができるので、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の方が、物理気相成長法によるそれよりも好ましいものである。
また、本発明においては、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできるものである。
而して、上記の異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜としては、まず、基材フィルムの上に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいものである。
勿論、本発明においては、上記とは逆くに、基材フィルムの上に、先に、物理気相成長法により、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成することもできるものである。
【0028】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成するプライマ−剤層について説明すると、かかるプライマ−剤層としては、まず、ポリウレタン系樹脂をビヒクルの主成分とし、該ポリウレタン系樹脂1〜30重量%に対し、シランカップリング剤0.05〜10重量%位、好ましくは、0.1重量%〜5重量%位、充填剤0.1〜20重量%位、好ましくは、1〜10重量%位の割合で添加し、更に、必要ならば、安定剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、紫外線吸収剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶媒、希釈剤等を加えて充分に混合してポリウレタン系樹脂組成物を調整し、而して、該ポリウレタン系樹脂組成物を使用し、これを、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティング法等により、前述の無機酸化物の蒸着膜の上にコ−ティングし、しかる後、コ−ティング膜を乾燥させて溶媒、希釈剤等を除去し、更に、要すれば、エ−ジング処理等を行って、本発明にかかるプライマ−剤層を形成することができる。
なお、本発明において、プライマ−剤層の膜厚としては、例えば、0.1g/m2 〜1.0g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
而して、本発明においては、上記のようなプライマ−剤層により、無機酸化物の蒸着膜とヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性等を向上させると共にプライマ−剤層の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における無機酸化物の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。
【0029】
上記において、ポリウレタン系樹脂組成物を構成するポリウレタン系樹脂としては、例えば、多官能イソシアネ−トとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリウレタン系樹脂を使用することができる。
具体的には、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テルポリオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル、その他等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる一液ないし二液硬化型のポリウレタン系樹脂を使用することができる。
而して、本発明において、上記のようなポリウレタン系樹脂を使用することにより、無機酸化物の蒸着膜とヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性等を向上させると共にプライマ−剤層の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における無機酸化物の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。
【0030】
次にまた、上記において、ポリウレタン系樹脂組成物を構成するシランカップリング剤としては、二元反応性を有する有機官能性シランモノマ−類を使用することができ、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの水溶液等の1種ないしそれ以上を使用することができる。
【0031】
上記のようなシランカップリング剤は、その分子の一端にある官能基、通常、クロロ、アルコキシ、または、アセトキシ基等が加水分解し、シラノ−ル基(SiOH)を形成し、これが、無機酸化物の蒸着膜を構成する金属、あるいは無機酸化物の蒸着膜表面上の活性な基、例えば、水酸基等の官能基と何らかの作用により、例えば、脱水縮合反応等の反応を起こして、無機酸化物の蒸着膜表面上にシランカップリング剤が共有結合等で修飾され、更に、シラノ−ル基自体の無機酸化物の蒸着膜表面に吸着や水素結合等により強固な結合を形成する。
他方、シランカップリング剤の他端にあるビニル、メタクリロキシ、アミノ、エポキシ、あるいは、メルカプト等の有機官能基が、そのシランカップリング剤の薄膜の上に形成される、例えば、印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層、その他の層等を構成する物質と反応して強固な結合を形成し、更に、上記の印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層等を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層が強固に密接着して、そのラミネ−ト強度を高め、このようにして、本発明においては、ラミネ−ト強度の高い強固な積層構造を形成可能とするものである。
本発明においては、シランカップリング剤が有する無機性と有機性とを利用し、無機酸化物の蒸着膜と、印刷模様層、接着剤層あるいはアンカ−コ−ト剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性を向上させ、これにより、そのラミネ−ト強度等を高めるものである。
【0032】
次に、本発明において、上記のポリウレタン系樹脂組成物を構成する充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、シリカ、タルク、ガラスフリット、樹脂粉末、その他等のものを使用することができる。
而して、上記の充填剤は、ポリウレタン系樹脂組成物液の粘度等を調製し、そのコ−ティング適性を向上させると共にバインダ−樹脂としてのポリウレタン系樹脂とシランカップリング剤を介して結合し、コ−ティング膜の凝集力を向上させるものである。
【0033】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成するラミネ−ト用接着剤層について説明すると、かかるラミネ−ト用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。
上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、上記の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
なお、本発明においては、上記のようなラミネ−ト用接着剤の中でも、特に、2液硬化型のポリウレタン系樹脂からなるラミネ−ト用接着剤が、極めて強固な接着強度、柔軟性のコ−ティング膜等を形成し得ることか好ましいものである。
【0034】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成する最内層、あるいは、最外層を形成するヒ−トシ−ル性樹脂層を構成するヒ−トシ−ル性樹脂としては、熱によって溶融し相互に融着し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記のフィルムないしシ−トは、その樹脂を含む組成物によるコ−ティング膜の状態で使用することができる。
その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとしては、5μmないし300μm位が好ましくは、更には、10μmないし100μm位が望ましい。
【0035】
ところで、本発明において、上記のような材料を使用し、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を製造する方法としては、例えば、前述の無機酸化物の蒸着膜の面に、まず、上記のプライマ−剤を塗布して塗布膜を形成してプライマ−剤層を設け、次いで、該プライマ−剤層の面に、上記のラミネ−ト用接着剤をコ−ティングしてコ−ティング膜を形成してラミネ−ト用接着剤層を設け、しかる後、該プライマ−剤層およびラミネ−ト用接着剤層等を介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を構成するヒ−トシ−ル性樹脂フィルムないしシ−トをドライラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、本発明にかかる積層材を製造することができる。
【0036】
なお、本発明においては、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材、包装用容器等を構成する材料として、例えば、水蒸気、水等のバリア−性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、あるいは、酸素、水蒸気等に対するバリア−性を有するポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。
上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、5μmないし300μm位、更には、10μmないし100μm位が望ましい。
【0037】
更に、本発明においては、通常、包装用容器は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装用容器を構成する包装材料には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択して使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
【0038】
なお、本発明においては、本発明にかかる積層材を構成するいずれかの層間に所望の印刷模様層を形成することができるものである。
而して、上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの1種ないし2種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、前述のコ−ティング薄膜の上に、文字、図形、記号、模様等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができる。
【0039】
なお、本発明においては、前述の無機酸化物の蒸着膜の面に設けるプライマ−剤層としては、前述のポリウレタン系樹脂組成物によるプライマ−剤層の他に、更に、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用してプライマ−剤層を形成することができる。
なお、本発明においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成することができ、而して、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0040】
次に、本発明において、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用して製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性フィルムの面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、上記の本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。
【0041】
次にまた、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器の場合には、例えば、本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材として、紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
【0042】
本発明において、上記のようにして製造した包装用容器は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の物品の充填包装に使用されるものである。
具体的には、例えば、ハム・ソ−セ−ジ、ハンバ−グ、カレ−、シチュ−、お粥、中華料理用具、液体調味料、その他等のボイルあるいはレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造する包装用容器として有用なものである。
【0043】
【実施例】
上記の本発明について実施例を挙げて更に具体的に説明する。
実施例1
(1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、まず、下記の条件でプラズマ処理を行い、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタサ−トフィルムの片面に、酸素プラズマ処理面を設けた。
(プラズマ処理条件)
処理面;コロナ処理面
導入ガス量;酸素ガス:ヘリウムガス=7.0:3.0(単位;slm)
真空チャンバ−内の真空度;2〜6×10-6mBar
蒸着チャンバ−内の真空度;2〜5×10-3mBar
冷却・電極ドラム供給電力;3kW
ライン速度;100m/min
次に、上記で形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの酸素プラズマ処理面の上に、インラインで下記のプラズマ化学蒸着条件で、厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
蒸着面;酸素プラズマ処理面
導入ガス量;ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1.0:3.0:3.0(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度;2〜6×10-6mBar
蒸着チャンバ−内の真空度;2〜5×10-3mBar
冷却・電極ドラム供給電力;10kW
ライン速度;100m/min
次に、上記で膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、パワ−9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記の(1)で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、ポリウレタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカップリング剤(8.0重量%)とブロッキング防止剤(1.0重量%)を添加し、十分に混練してなるプライマ−剤組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚0.4g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてプライマ−剤層を形成した。
更に、上記で形成したプライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層して、本発明にかかる積層材を製造した。
(3).次いで、上記で製造した積層材の2枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部からカレ−を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、更に、該包装半製品を90℃、30分間ボイル処理して包装製品を製造した。
上記で製造した包装製品は、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、また、ラミネ−ト強度等に優れ、市場における流通に耐え、かつ、貯蔵保存等に優れているものであった。
【0044】
実施例2
(1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、上記の実施例1と全く同様に行って、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタサ−トフィルムの片面に、酸素プラズマ処理面を設け、更に、該酸素プラズマ処理面の上に、厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更にまた、該厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜の面に、プラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記の(1)で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、上記の実施例1と全く同様に行って、膜厚0.4g/m2 (乾燥状態)からなるプライマ−剤層を形成し、更に、該プライマ−剤層の面に、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)からなるラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これをドライラミネ−ト積層し、次いで、上記で積層した2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層して、本発明にかかる積層材を製造した。
(3).次いで、上記で製造した積層材の2枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部からハンバ−グを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、更に、該包装半製品を120℃、30分間レトルト処理して包装製品を製造した。
上記で製造した包装製品は、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、また、ラミネ−ト強度等に優れ、市場における流通に耐え、かつ、貯蔵保存等に優れているものであった。
【0045】
比較例1
(1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、まず、下記の蒸着条件で、厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
(蒸着条件)
蒸着面;コロナ処理面
導入ガス量;ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1.0:3.0:3.0(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度;2〜6×10-6mBar
蒸着チャンバ−内の真空度;2〜5×10-3mBar
冷却・電極ドラム供給電力;10kW
ライン速度;100m/min
次に、上記で膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、パワ−9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記の(1)で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層して、積層材を製造した。
(3).次いで、上記で製造した積層材の2枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部からカレ−を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、更に、該包装半製品を90℃、30分間ボイル処理して包装製品を製造した。
【0046】
比較例2
(1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、上記の比較例1と全く同様に行って、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの片面に、厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、該厚さ100Åの酸化珪素の蒸着膜の面に、プラズマ処理面を形成した。
(2).次に、上記の(1)で形成した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、上記の比較例1と全く同様に行って、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)からなるラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、これをドライラミネ−ト積層し、次いで、上記で積層した2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤を使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)になるようにコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ60μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層して、積層材を製造した。
(3).次いで、上記で製造した積層材の2枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部からハンバ−グを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、更に、該包装半製品を120℃、30分間レトルト処理して包装製品を製造した。
【0047】
実験例
上記の実施例1〜2、および、比較例1〜2で製造した積層材について、酸素透過度、水蒸気透過度、および、ラミネ−ト強度を測定した。
(1).酸素透過度の測定
これは、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕にて測定した。
(2).水蒸気透過度の測定
これは、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMATRAN)〕にて測定した。
(3).
これは、積層材を15mm巾の短冊きりし、テンシロンでT字剥離で、剥離速度300mm/minで実施して測定した。
上記の測定結果について、下記の表1に示す。
【0048】
上記の表1において、酸素透過度の単位は、〔cc/m2 /day・23℃・90%RH〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔g/m2 /day・40℃・100%RH〕であり、また、ラミネ−ト強度の単位は、〔kgf/15mm巾〕である。
【0049】
上記の表1に示す結果より明らかなように、実施例1〜2にかかるものが、酸素透過度、水蒸気透過度、ラミネ−ト強度等のいずれにおいても優れているものであることが判明した。
これは、本発明において、酸素プラズマ処理面、プライマ−剤層等を形成することによるものである。
【0050】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、蒸着膜形成直前のポリエステル系樹脂フィルムあるいはポリアミド系樹脂フィルム等の基材フィルムの表面に、酸素ガスによるプラズマ処理、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスによるプラズマ処理を行い酸素プラズマ処理面を形成し、次いで、その酸素プラズマ処理面の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、更にまた、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層して積層包装材を製造し、而して、該積層包装材を使用して包装用袋等を製造し、更に、該包装用袋内に内容物を充填包装して包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品にボイルあるいはレトルト処理等を施して殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造して、基材フィルムの表面に、緻密で、柔軟性に富む無機酸化物の蒸着膜を形成することができると共にポリエステル系樹脂フィルムあるいはポリアミド系樹脂フィルム等の基材フィルムと無機酸化物の蒸着膜との密接着性に優れ、更に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有し、また、プライマ−剤層とラミネ−ト用接着剤層とを介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を積層することから、無機酸化物の蒸着膜とヒ−トシ−ル性樹脂層等とのラミネ−ト強度等にも優れ、ボイルないしレトルト処理等を行っても、上記の各層間において層間剥離(デラミ)等の現象は認められず、極めて強度に優れ、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造することができ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、その他等の種々の物品をレトルト充填包装し、更に、ボイルないしレトルト処理し、殺菌ないし滅菌処理した包装製品を製造するに有用なボイルないしレトルト処理用積層包装材を製造し得ることができるというものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材についてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図2】本発明にかかるボイルないしレトルト処理用積層包装材を使用して製袋してなる包装用容器についてその一例を示す概略的斜視図である。
【図3】プラズマ化学蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
【図4】巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
【符号の説明】
A ボイルないしレトルト処理用積層包装材
1 基材フィルム
2(2a、2b) 酸素プラズマ処理面
3 無機酸化物の蒸着膜
4 プライマ−剤層
5 ラミネ−ト用接着剤層
6 ヒ−トシ−ル性樹脂層
7 シ−ル部
8 開口部
B 三方シ−ル型軟包装用袋
Claims (1)
- 二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの一方の面に、該二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの表面に蒸着膜を形成する直前にインラインで、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用し、その酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧としては、1×10 -4 〜1×10 -8 Torr、また、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率としては、分圧比で酸素ガス:アルゴンガスまたはヘリウムガス=90:10〜70:30、更に、そのプラズマ出力としては、10〜50kW、更にまた、その処理速度としては、100〜600m/minからなるプラズマ処理条件でプラズマ処理を行い、上記の二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの表面に付着している水分、塵を除去すると共にプラズマ中で活性化された酸素分子が上記の二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの表面と化学反応を起こし、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜と水酸基が形成されている酸素プラズマ処理面を形成し、
次に、上記の酸素プラズマ処理面の面に、有機珪素化合物からなる蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスからなる蒸着用混合ガス組成物を使用し、低温プラズマ化学気相成長法により、酸化珪素を主体とする蒸着膜を形成し、
しかる後、上記の酸化珪素を主体とする蒸着膜の面に、ポリウレタン系樹脂をビヒクルの主成分とし、更に、シランカップリング剤、充填剤を含むポリウレタン系樹脂組成物を使用し、これをコ−ティングし、更に、エ−ジング処理を行って、膜厚、0.1g/m 2 〜1.0g/m 2 (乾燥状態)からなるプライマ−剤層を形成し、
更に、上記のプライマ−剤層の面に、2液硬化型のポリウレタン系樹脂からなるラミネ−ト用接着剤を使用し、これをコ−ティングして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、
次いで、上記のラミネ−ト用接着剤層の面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層をドライラミネ−ト積層法により積層することを特徴とするボイルないしレトルト処理用積層包装材の製造法。
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