JP4554772B2

JP4554772B2 - Method for manufacturing plasma display member

Info

Publication number: JP4554772B2
Application number: JP2000194020A
Authority: JP
Inventors: 一孝草野; 雄一朗井口; 哲夫内田
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2000-06-28
Filing date: 2000-06-28
Publication date: 2010-09-29
Anticipated expiration: 2020-06-28
Also published as: JP2002015662A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、壁掛けテレビや大型モニターに用いられるプラズマディスプレイ用基板およびプラズマディスプレイの製造方法に係り、特にプラズマディスプレイパネルの輝度を向上し、パネルの表示品位を高めたプラズマディスプレイの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薄型・大型テレビに使用できるディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す）が注目されている。ＰＤＰは、例えば、表示面となる前面板側のガラス基板には、対をなす複数のサステイン電極が銀やクロム、アルミニウム、ニッケル等の材料で形成されている。さらにサステイン電極を被覆してガラスを主成分とする誘電体層が２０〜５０μｍ厚みで形成され、誘電体層を被覆してＭｇＯ層が形成されている。一方、背面板側のガラス基板には、複数のアドレス電極がストライプ状に形成され、アドレス電極を被覆してガラスを主成分とする誘電体層が形成されている。誘電体層上に放電セルを仕切るための隔壁が形成され、隔壁と誘電体層で形成された放電空間内に蛍光体層が形成されてなる。フルカラー表示が可能なＰＤＰにおいては、蛍光体層は、ＲＧＢの各色に発光するものにより構成される。前面板側のガラス基板のサステイン電極と背面板側のアドレス電極が互いに直交するように、前面板と背面板が封着され、それらの基板の間隙内にヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される希ガスが封入されＰＤＰが形成される。スキャン電極とアドレス電極の交点を中心として画素セルが形成されるので、ＰＤＰは複数の画素セルを有し、画像の表示が可能になる。
【０００３】
ＰＤＰにおいて表示を行う際、選択された画素セルにおいて、発光していない状態からサステイン電極とアドレス電極との間に放電開始電圧以上の電圧を印加すると電離によって生じた陽イオンや電子は、画素セルが容量性負荷であるために放電空間内を反対極性の電極へと向けて移動してＭｇＯ層の内壁に帯電し、内壁の電荷はＭｇＯ層の抵抗が高いために減衰せずに壁電荷として残留する。
【０００４】
次に、スキャン電極とサステイン電極の間に放電維持電圧を印加する。壁電荷のあるところでは、放電開始電圧より低い電圧でも放電することができる。放電により放電空間内のキセノンガスが励起され、１４７ｎｍの紫外線が発生し、紫外線が蛍光体を励起することにより、発光表示が可能になる。
【０００５】
このようなＰＤＰにおいては蛍光面を発光させた場合の輝度を高めることが重要となっている。この輝度を高めるための手段として、特開平１０−３２１１４８号公報には、隔壁の他に補助隔壁を設け、補助隔壁の表面にも蛍光面を形成することにより蛍光面の発光面積を大きくし、紫外線を効率よく蛍光面に作用させ、輝度を高めることが提案されている。
【０００６】
この隔壁と補助隔壁の形成方法として同公報には例えば感光性材料を用いたフォトリソグラフィ法等で、第１工程として補助隔壁の高さまでの隔壁と補助隔壁を形成し、次に第２工程として、上層の隔壁を形成する方法が提案されている。しかしこの方法では、塗布、乾燥、露光、現像の工程をそれぞれ２回以上要し、工程が複雑であり、また、下層と上層の極めて精緻な位置合わせが必要となり精度よく形成できないという問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の課題は、従来の技術における上述した問題点に着目し、簡略な工程により隔壁および補助隔壁を高精度に形成し、表示品位に優れたプラズマディスプレイ用部材の製造方法、およびプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイ用部材の製造方法は、以下の構成を有する。すなわち、電極を形成した基板上に隔壁と補助隔壁を形成する工程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、少なくとも下記の（Ａ）〜（Ｃ）の工程を順に含むことを特徴とする。
（Ａ）無機粒子、感光性モノマーおよび光重合開始剤を含む第１の感光性ペーストを用いて第１層目の感光性塗布膜を形成する工程、
（Ｂ）前記第１層目の感光性塗布膜上に無機粒子、感光性モノマーおよび光重合開始剤を含む第２の感光性ペーストを用いて、前記第１層目の感光性塗布膜よりも活性光線に対する感度の低い第２層目の感光性塗布膜を形成する工程、
（Ｃ）前記電極と平行方向および直角方向に格子状のパターンが形成され、前記電極と平行方向の透光部パターンの透過率と前記電極と直角方向の透光部パターンの透過率とが異なるフォトマスクを介して露光する工程。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明をＰＤＰの作製手順に沿って説明する。
【００１１】
本発明のＰＤＰ用部材としての背面板に用いる基板としては、ソーダガラスの他にＰＤＰ用の耐熱ガラスである旭硝子社製の“ＰＤ２００”や日本電気硝子社製の“ＰＰ８”を用いることができる。
【００１２】
ガラス基板上に銀やアルミニウム、クロム、ニッケルなどの金属によりアドレス電極を形成する。形成する方法としては、これらの金属の粉末と有機バインダーを主成分とする金属ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷する方法や、有機バインダーとして感光性有機成分を用いた感光性金属ペーストを塗布した後に、フォトマスクを用いてパターン露光し、不要な部分を現像工程で溶解除去し、さらに、通常４００〜６００℃に加熱・焼成して金属パターンを形成する感光性ペースト法を用いることができる。また、ガラス基板上にクロムやアルミニウム等の金属をスパッタリングした後に、レジストを塗布し、レジストをパターン露光・現像した後にエッチングにより、不要な部分の金属を取り除くエッチング法を用いることができる。電極厚みは１〜１０μｍが好ましく、２〜５μｍがより好ましい。電極厚みが薄すぎると抵抗値が大きくなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、厚すぎると材料が多く必要になり、コスト的に不利な傾向にある。アドレス電極の幅は好ましくは２０〜２００μｍ、より好ましくは３０〜１００μｍである。アドレス電極の幅が細すぎると抵抗値が高くなり正確な駆動が困難となる傾向にあり、太いすぎると隣合う電極間の距離が小さくなるため、ショート欠陥が生じやすい傾向にある。さらに、アドレス電極は表示セル（画素の各ＲＧＢを形成する領域）に応じたピッチで形成される。通常のＰＤＰでは１００〜５００μｍ、高精細ＰＤＰにおいては１００〜２５０μｍのピッチで形成するのが好ましい。
【００１３】
次いで誘電体層を好ましく形成する。誘電体層はガラス粉末と有機バインダーを主成分とするガラスペーストをアドレス電極を覆う形で塗布した後に、通常４００〜６００℃で焼成することにより形成できる。誘電体層に用いるガラスペーストには、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化リンの少なくとも１種類以上を含有し、これらを合計で１０〜８０重量％含有するガラス粉末を好ましく用いることができる。１０重量％以上とすることで、６００℃以下での焼成が容易になり、８０重量％以下とすることで、結晶化を防ぎ透過率の低下を防止する。これらのガラス粉末と有機バインダーと混練してペーストを作成できる。用いる有機バインダーとしては、エチルセルロース、メチルセルロース等に代表されるセルロース系化合物、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソブチルアクリレート等のアクリル系化合物等を用いることができる。また、ガラスペースト中に、溶媒、可塑剤等の添加剤を加えても良い。溶媒としては、テルピネオール、ブチロラクトン、トルエン、メチルセルソルブ等の汎用溶媒を用いることができる。また、可塑剤としてはジブチルフタレート、ジエチルフタレート等を用いることができる。
【００１４】
また、ガラス粉末以外にフィラー成分を添加することにより、反射率が高く、輝度の高いＰＤＰを得ることができる。フィラーとしては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が好ましく、粒子径０．０５〜３μｍの酸化チタンを用いることが特に好ましい。フィラーの含有量はガラス粉末：フィラーの重量比で、１：１〜１０：１が好ましい。フィラーの含有量をガラス粉末の１０分の１以上とすることで、輝度向上の実効を得ることができる。また、ガラス粉末の等量以下とすることで、焼結性を保つことができる傾向がある。
【００１５】
また、導電性微粒子を添加することにより駆動時の信頼性の高いＰＤＰを作成することができる。導電性微粒子は、ニッケル、クロムなどの金属粉末が好ましく、粒子径は１〜１０μｍが好ましい。１μｍ以上とすることで十分な効果を発揮でき、１０μｍ以下とすることで誘電体上の凹凸を抑え隔壁形成を容易にすることができる。これらの導電性微粒子が誘電体層に含まれる含有量としては、０．１〜１０重量％が好ましい。０．１重量％以上とすることで実効を得ることができ、１０重量％以下とすることで、隣り合うアドレス電極間でのショートを防ぐことができる。誘電体層の厚みは好ましくは３〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。誘電体層の厚みが薄すぎるとピンホールが多発する傾向にあり、厚すぎると放電電圧が高くなり、消費電力が大きくなる傾向にある。
【００１６】
誘電体層上に、放電セルを仕切るための隔壁および補助隔壁を形成する。図１は本発明で形成する隔壁および補助隔壁の形状の一例を示す斜視図である。図１において、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは隔壁、２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは補助隔壁、３は誘電体層、４はアドレス電極、５はガラス基板である。隔壁１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、アドレス電極と平行方向に形成する。隔壁１Ａ、１Ｂ、１Ｃの断面形状は台形や矩形に形成することができる。補助隔壁２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄは、アドレス電極と直角方向に形成する。補助隔壁２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄの断面形状も、台形や矩形に形成することができる。
【００１７】
補助隔壁を形成することにより、補助隔壁の表面にも蛍光体層を形成することができ、発光面積を大きくとることができる。従って、紫外線が効率よく蛍光面に作用するため輝度を高めることが可能である。また、補助隔壁が存在することで、隔壁全体の結合面積が広くなり、部材の構造的強度が得られる。その結果、隔壁や補助隔壁の幅を小さくすることができ、表示セル部における放電容積を大きくすることができ、放電効率をさらによくすることができる。
【００１８】
隔壁の高さは、８０μｍ〜２００μｍが適している。８０μｍ以上とすることで蛍光体とスキャン電極が近づきすぎるのを防ぎ、放電による蛍光体の劣化を防ぐことができる。また、２００μｍ以下とすることで、スキャン電極での放電と蛍光体の距離を近づけ、十分な輝度を得ることができる。隔壁のピッチ（Ｐ）は、１００μｍ≦Ｐ≦５００μｍのものがよく用いられる。また、高精細プラズマディスプレイとしては、隔壁のピッチ（Ｐ）が、１００μｍ≦Ｐ≦２５０μｍである。１００μｍ以上とすることで放電空間を広くし十分な輝度を得ることができ、５００μｍ以下とすることで画素の細かいきれいな映像表示ができる。２５０μｍ以下にすることにより、ＨＤＴＶ（ハイビジョン）レベルの美しい映像を表示することができる。線幅（Ｌ）は、半値幅で１０μｍ≦Ｌ≦５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上とすることで強度を保ち、前面板と背面板を封着する際に破損が生じるのを防ぐことができる。また、５０μｍ以下とすることで蛍光体の形成面積を大きくとることができ高い輝度を得ることができる。
【００１９】
補助隔壁の高さは、隔壁の高さよりも低いことが好ましく、さらには隔壁の高さの１／２〜５／６の高さであることが好ましい。補助隔壁の高さを隔壁の高さの１／２以上とすることで、発光面積を大きくとることによる輝度向上の効果をより一層得ることができる。また、隔壁よりも低くすることで、製造工程において蛍光体層の形成をより容易にすることができる。
【００２０】
ここで、本発明における隔壁および補助隔壁の形成方法について説明する。本発明においては、隔壁および補助隔壁は、無機微粒子と感光性成分を含む有機成分からなる感光性ペーストを塗布、乾燥した感光性塗布膜を用いてパターン形成した後に、焼成して形成する。
【００２１】
まず、電極が形成された基板上もしくは誘電体層上に第１の感光性ペーストを塗布、乾燥し、第１層目の感光性塗布膜を形成する。感光性塗布膜は、感光性ペーストをスクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなどを用いて塗布し、通風オーブン、ホットプレート、ＩＲ炉などを用いて乾燥し形成することができる。
【００２２】
次に第１層目の感光性ペースト塗布膜上に、さらに第２の感光性ペーストを塗布、乾燥し、第２層目の感光性塗布膜を形成する。
【００２３】
ここで、第１層目と第２層目の感光性塗布膜は、活性光線に対する感度が異なることが必要であり、特に第１層目の感光性塗布膜の感度が第２層目の感光性塗布膜の感度より高いことがより好ましい。ここで、感度が高いとは、感光性塗布膜の硬化を進行させ、現像液に不溶とし、パターン形成を可能にするための活性光線の露光量が少ないことをいう。
【００２４】
ここで、１層目と２層目の感光性塗布膜の感度を変えるためには、感光性ペースト中の感光性モノマーや光重合開始剤、増感剤などの種類を変えることが有効である。
【００２５】
本発明の感光性ペーストに用いられる感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、単官能および多官能性の（メタ）アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができる。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００２６】
また、感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、炭素−炭素２重結合を有する化合物のうちの少なくとも１種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これらのモノマの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマと共重合することができる。ポリマーやオリゴマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、または、これらの酸無水物などが挙げられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基などの酸性基を有するポリマ、もしくは、オリゴマーの酸価（ＡＶ）は、５０〜１８０の範囲が好ましく、７０〜１４０の範囲がより好ましい。以上に示したポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。
【００２７】
特に、第１層目の感光性塗布膜として好ましい感度の高い感光性塗布膜としては、感光性モノマーとして、多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレートなどを用い、光重合開始剤に特開平１１−３０６９６４号公報等記載の光重合開始剤、例えば２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホニル）ブタノン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−メチル−２−メチルスルホニル−１−（４−メチルチオフェニル）プロパノン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンなどを組み合わせることで得ることができる。
【００２８】
また、前記高感度感光性塗布膜より感度の低い感光性塗布膜を得るためには、高感度感光性塗布膜に用いた感光性モノマー中の感光性の官能基数を少なくした感光性モノマー、例えば、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピルメタクリレートなどや吸光係数のより小さい光重合開始剤や増感剤例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンなどを用いることである。また、前記高感度感光性塗布膜に重合禁止剤や吸光剤などを添加する方法も有効である。
【００２９】
続いて、露光装置を用いて露光を行う。この際使用される活性光源は、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、通常１〜１００ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜１０分間露光を行う。
【００３０】
本発明ではこの露光の際、電極と平行方向および直角方向に格子状のパターンが形成されたフォトマスクを介して露光する。格子状のパターンが形成されたマスクを介して露光することで、隔壁と補助隔壁のパターンとなる部分の感光性塗布膜が光硬化し、現像によって隔壁と補助隔壁のパターンが得られる。
【００３１】
また、本発明では、上記フォトマスクは、電極と平行方向の透光部パターンの透過率と電極と直角方向の透光部パターンの透過率とが異なることが好ましく、電極と平行方向の透光部パターンの透過率と電極と直角方向の透光部パターンの透過率との差が１０％以上であることがより好ましい。さらに好ましくは１５％以上である。透過率差が１０％以上あるフォトマスクを用いて露光することで、そのパターンに対応する感光性塗布膜は露光量に差が生じる。１層目に感度の高い感光性塗布膜を用いると露光量が変化しても充分に光硬化が進行し、現像液に不溶となる。２層目に感度の低い感光性塗布膜を用いると、マスクの透光部パターンの透過率が高い部分は光硬化が進行し、現像液に不溶となるが、マスクの透光部パターンの透過率が低い部分は光硬化が進まず、現像液に可溶となる。したがって、１回の露光、現像工程で高さの異なる焼成前の隔壁と補助隔壁のパターンが得られる。
【００３２】
フォトマスクの透光部の透過率を変える方法としては、例えば、フォトマスク用の基板上に、クロム等を蒸着方式によりパターンニングし、活性光線透過部と活性光線を遮光する遮光部を形成（活性光線透過部が電極と直角方向および平行方向に格子状に形成）した後、電極と直角方向の透光部パターン上にクロムを薄く形成し、電極と直角方向の透過部のパターンの透過率を下げる方法や電極と直角方向の透光部パターン上に活性光線を吸収するような樹脂を形成し、電極と直角方向の透過部のパターンの透過率を下げる方法などが挙げられる。上記活性光線を吸収するような樹脂としては、例えばポリアミド、ポリイミド、ポリウレタンなどが挙げられる。また、紫外線吸収剤の骨格にメタクリル基などを導入し、反応型とし、共重合体とする方法も有効である。
【００３３】
現像は、浸漬法やスプレー法、ブラシ法等で行うことができる。現像液は、感光性ペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、通常、０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低過ぎれば可溶部が除去されない傾向にあり、アルカリ濃度が高過ぎれば、パターン部を剥離したり、また、非可溶部を腐食させる傾向にある。また、現像時の現像温度は、通常２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００３４】
次に、焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やローラーハース式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、４００〜８００℃で行うと良い。ガラス基板上に直接隔壁を形成する場合は、通常４５０〜６２０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行うと良い。
【００３５】
なお、本発明で用いられる感光性ペーストを構成する無機微粒子としては、ガラス、セラミック（アルミナ、コーディライトなど）などを用いることができる。特に、ケイ素酸化物、ホウ素酸化物、または、アルミニウム酸化物を必須成分とするガラスやセラミックスが好ましい。無機微粒子の粒子径（マイクロトラック社製のレーザー式粒度分布測定装置ＤＨＸ−１００）は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれるが、体積平均粒子径（Ｄ５０）が、１〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍである。Ｄ５０を１０μｍ以下とすることで、表面凸凹が生じるのを防ぐことができる。まさらに、比表面積０．２〜３ｍ²／ｇのガラス微粒子を用いることが、パターン形成において、特に好ましい。
【００３６】
隔壁は、好ましくは熱軟化点の低いガラス基板上にパターン形成されるため、無機微粒子として、熱軟化温度が３５０℃〜６００℃のガラス微粒子を６０重量％以上含む無機微粒子を用いることが好ましい。また、熱軟化温度が６００℃以上のガラス微粒子やセラミック微粒子を添加することによって、焼成時の収縮率を抑制することができるが、その量は、４０重量％以下が好ましい。
【００３７】
用いるガラス粉末としては、焼成時にガラス基板にそりを生じさせないためには線膨脹係数が５０×１０^-7〜９０×１０^-7、更には、６０×１０^-7〜９０×１０^-7のガラス微粒子を用いることが好ましい。
【００３８】
隔壁を形成する素材としては、ケイ素および／またはホウ素の酸化物を含有したガラス材料が好ましく用いられる。
【００３９】
酸化ケイ素は、３〜６０重量％の範囲で配合されていることが好ましい。３重量％以上とすることで、ガラス層の緻密性、強度や安定性が向上し、また、熱膨脹係数を所望の範囲内とし、ガラス基板とのミスマッチを防ぐことができる。また、６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００４０】
酸化ホウ素は、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％以下とすることでガラスの安定性を保つことができる。
【００４１】
さらに、酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうちの少なくとも１種類を合計で５〜５０重量％含有させることによって、ガラス基板上にパターン加工するのに適した温度特性を有するガラスペーストを得ることができる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラス微粒子を用いると、ペーストのポットライフが長いなどの利点が得られる。ビスマス系ガラス微粒子としては、次の組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化ビスマス：１０〜４０重量部
酸化ケイ素：３〜５０重量部
酸化ホウ素：１０〜４０重量部
酸化バリウム：８〜２０重量部
酸化アルミニウム：１０〜３０重量部。
【００４２】
また、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち、少なくとも１種類を３〜２０重量％含むガラス微粒子を用いてもよい。アルカリ金属酸化物の添加量は、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。上記３種のアルカリ金属酸化物の内、酸化リチウムがペーストの安定性の点で、特に好ましい。リチウム系ガラス微粒子としては、例えば次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
【００４３】
この場合の具体的なガラス微粒子としては、次に示す組成を含むガラス粉末を用いることが好ましい。
酸化リチウム：２〜１５重量部
酸化ケイ素：１５〜５０重量部
酸化ホウ素：１５〜４０重量部
酸化バリウム：２〜１５重量部
酸化アルミニウム：６〜２５重量部。
【００４４】
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム，酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラス微粒子を用いれば、より低いアルカリ含有量で、熱軟化温度や線膨脹係数を容易にコントロールすることができる。
【００４５】
また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、加工性を改良することができるが、熱軟化点、熱膨脹係数の点からは、その含有量は、４０重量部以下が好ましく、より好ましくは２５重量部以下である。
【００４６】
感光性成分を含む有機成分としては、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうちの少なくとも１種類から選ばれた感光性成分を含有することが好ましく、更に、必要に応じて、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、有機溶媒、増感助剤、重合禁止剤等を添加する。
【００４７】
光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾフェノン、Ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、感光性成分に対し、好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜５重量％の範囲で添加される。重合開始剤の量が少な過ぎると、光感度が低下する傾向にあり、光重合開始剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなり過ぎる傾向にある。
【００４８】
光吸収剤を添加することも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。光吸収剤としては、有機系染料からなるものが好ましく用いられる、具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないので、光吸収剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機染料の添加量は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましくは、０．０５〜１重量％である。添加量が少なすぎると、光吸収剤の添加効果が減少する傾向にあり、多すぎると、焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向にある。
【００４９】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノンなどが挙げられる。これらを１種または２種以上使用することができる。増感剤を感光性ペーストに添加する場合、その添加量は、感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量が少な過ぎると光感度を向上させる効果が発揮されない傾向にあり、増感剤の量が多過ぎると、露光部の残存率が小さくなる傾向にある。
【００５０】
有機溶媒としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。ここで、感光性ペーストは、通常、上記の無機微粒子や有機成分を所定の組成になるように調合した後、３本ローラーや混練機で均質に混合分散し作製する。
【００５１】
次いで所定の隔壁間に、ＲＧＢ各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体層は、蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させ、乾燥し、必要に応じて焼成することにより形成することができる。
【００５２】
蛍光体ペーストを所定の隔壁間に塗着させる方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、蛍光体ペーストの有機バインダーとして前述の感光性を有する有機成分を用いた感光性ペースト法により各色の蛍光体ペーストを所定の場所に塗着させることができる。
【００５３】
Ｒ蛍光体層の厚みをＴｒ、Ｇ蛍光体層の厚みをＴｇ、および、Ｂ蛍光体層の厚みをＴｂとしたとき、好ましくは、
１０μｍ≦Ｔｒ＜Ｔｂ≦５０μｍ
１０μｍ≦Ｔｇ＜Ｔｂ≦５０μｍ
なる関係を有することにより、より本発明の効果を発揮できる。つまり、発光輝度の低い青色について、厚みを緑色、赤色よりも厚くすることにより、より色バランスに優れた（色温度の高い）プラズマディスプレイを作製できる。蛍光体層の厚みとしては、１０μｍ以上とすることで十分な輝度を得ることができる。また、５０μｍ以下とすることで放電空間を広くとり高い輝度を得ることができる。この場合の蛍光体層の厚みは、隣り合う隔壁の中間点での形成厚みとして測定する。つまり、放電空間（セル内）の底部に形成された蛍光体層の厚みとして測定する。
【００５４】
塗着させた蛍光体層を必要に応じて、４００〜５５０℃で焼成する事により、本発明のプラズマディスプレイ用部材を作製することができる。
【００５５】
このプラズマディスプレイ用部材を背面板として用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜（ＭｇＯ）を形成した部材である。背面板上に形成されたＲＧＢ各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。
【００５６】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。
（透過率の測定方法）
光線透過率の測定は、島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて行った。測定条件は次の通りである。

（実施例１〜４、比較例１〜２）
まず前面板を作製した。旭硝子社製ガラス基板ＰＤ２００上に、ＩＴＯを用いて、ピッチ３７５μｍ、線幅１５０μｍのスキャン電極を形成した。また、その基板上に感光性銀ペーストを塗布した後に、フォトマスクを介したマスク露光、０．３％炭酸ナトリウム水溶液を用いた現像、５８０℃で１５分間の焼成工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍのバス電極を形成した。
【００５７】
次に、酸化鉛を７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を７０％、エチルセルロース２０％、テルピネオール１０％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って前面誘電体を形成した。
【００５８】
誘電体を形成した基板上に電子ビーム蒸着により保護膜として、厚み０．５μｍの酸化マグネシウム層を形成して前面板を作製した。
【００５９】
次に、背面板を作製した。
ガラス基板ＰＤ２００上に感光性銀ペースト用いてアドレス電極を作成した。感光性銀ペーストを塗布、乾燥、露光、現像、焼成工程を経て、線幅５０μｍ、厚み３μｍ、ピッチ２５０μｍのアドレス電極を形成した。
【００６０】
次に、酸化ビスマスを７５重量％含有する低融点ガラスの粉末を６０％、平均粒子径０．３μｍの酸化チタン粉末を１０重量％、エチルセルロース１５％、テルピネオール１５％を混練して得られたガラスペーストをスクリーン印刷により、表示部分のバス電極が覆われるように５０μｍの厚みで塗布した後に、５７０℃１５分間の焼成を行って前面誘電体層を形成した。
【００６１】
誘電体上に、表１に示す組成の感光性ペーストを塗布、乾燥し、第１層目と第２層目の感光性塗布膜を形成した。表１に示した以外の感光性ペーストの組成は、ガラス粉末として：酸化リチウム１０重量％、酸化珪素２５重量％、酸化硼素３０重量％、酸化亜鉛１５重量％、酸化アルミニウム５重量％、酸化カルシウム１５重量％からなる組成のガラスを粉砕した平均粒子径２μｍのガラス粉末、有機成分として、ポリマー：メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（重量平均分子量３１０００、酸価１１０）３０重量％、有機溶剤：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル３０重量％である。また、表１のモノマーは、３０重量％、開始剤は、１０重量％である。
【００６２】
【表１】

【００６３】
感光性ペーストは、これらのガラス粉末と感光性成分を含む有機成分をそれぞれ７０：３０の重量比率で混合した後に、ロールミルで混練して作製した。塗布は、ダイコーターを用いて、１層目と２層目それぞれが乾燥後厚み９０μｍになるように塗布した。乾燥は、クリーンオーブン（ヤマト科学社製）を用いて８０℃で３０分間行った。
【００６４】
乾燥後、アドレス電極と直角方向および平行方向にピッチ２５０μｍ、線幅３０μｍの格子状パターンを有するフォトマスクを用いて露光した（露光量１５００ｍＪ／ｃｍ²）。アドレス電極と直角方向および平行方向の透光部パターンの透過率を表１に示した。透過率は、アドレス電極と直角方向の透過部パターン上にクロムを薄く形成して、変化させた。透過率を測定する光の波長は、感光性塗布膜を露光する光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。したがって、３６５ｎｍでの測定値とした。
【００６５】
露光後、０．５重量％の炭酸ナトリウム水溶液中で現像し、さらに、５６０℃で１５分間焼成し、隔壁と補助隔壁得た。
【００６６】
次に、隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布した。蛍光体の塗布は、２５６カ所の穴（口径：１３０μｍ）が形成されたノズル先端から蛍光体ペーストを吐出するディスペンサー法により形成した。蛍光体は隔壁側面に焼成後厚み２５μｍ、誘電体上に焼成後厚み２５μｍになるように塗布した後に、５００℃で１０分間の焼成を行った。
かくしてＰＤＰ用部材として、背面板を作製した。
【００６７】
さらに、作製した前面基板と背面基板を封着ガラスを用いて封着して、Ｘｅ５％含有のＮｅガスを内部ガス圧６６５００Ｐａになるように封入した。さらに、駆動回路を実装してＰＤＰを作製した。ＰＤＰのスキャン電極に電圧を印加して発光させた。その輝度計を用いて輝度を測定したところ、実施例１〜４では、２５０ｃｄ／ｍ²であり、高い輝度の表示特性を得ることができた。
【００６８】
一方、比較例１では、１層目と２層目の感光性塗布膜の感度が同じであったために、隔壁と補助隔壁の高さが同じになり、補助隔壁上にも蛍光体が形成され、前面基板との封着ができず、ＰＤＰが作製できなかった。また、比較例２では、フォトマスクの透過率が同じであったために、隔壁と補助隔壁の高さが同じになり、補助隔壁上にも蛍光体が形成され、前面基板との封着ができず、ＰＤＰが作製できなかった。
【００６９】
【発明の効果】
本発明によれば、簡略な工程によりアドレス電極と平行方向の隔壁とアドレス電極と直角方向の補助隔壁とを高精度に形成し、表示品位に優れたプラズマディスプレイ用部材の製造方法、およびプラズマディスプレイを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で形成する隔壁および補助隔壁の形状の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ、１Ｃ隔壁
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ補助隔壁
３誘電体層
４アドレス電極
５ガラス基板[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a plasma display substrate and a plasma display manufacturing method used for a wall-mounted television or a large monitor, and more particularly to a plasma display manufacturing method for improving the brightness of a plasma display panel and improving the display quality of the panel.
[0002]
[Prior art]
A plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) has attracted attention as a display that can be used for thin and large televisions. In the PDP, for example, a plurality of paired sustain electrodes are formed of a material such as silver, chromium, aluminum, or nickel on a glass substrate on the front plate side serving as a display surface. Further, a dielectric layer mainly composed of glass is formed with a thickness of 20 to 50 μm by covering the sustain electrode, and an MgO layer is formed by covering the dielectric layer. On the other hand, on the glass substrate on the back plate side, a plurality of address electrodes are formed in stripes, and a dielectric layer mainly composed of glass is formed by covering the address electrodes. A barrier rib for partitioning the discharge cells is formed on the dielectric layer, and a phosphor layer is formed in a discharge space formed by the barrier rib and the dielectric layer. In a PDP capable of full color display, the phosphor layer is composed of materials that emit light of RGB colors. The front plate and the back plate are sealed so that the sustain electrode of the glass substrate on the front plate side and the address electrode on the back plate side are orthogonal to each other, and helium, neon, xenon, etc. are formed in the gap between the substrates. A rare gas is enclosed to form a PDP. Since the pixel cell is formed around the intersection of the scan electrode and the address electrode, the PDP has a plurality of pixel cells and can display an image.
[0003]
When a display is performed in the PDP, when a voltage higher than the discharge start voltage is applied between the sustain electrode and the address electrode from the non-lighted state in the selected pixel cell, positive ions and electrons generated by ionization are Is a capacitive load and moves toward the opposite polarity electrode in the discharge space and charges the inner wall of the MgO layer. The inner wall charge is not attenuated due to the high resistance of the MgO layer, and becomes a wall charge. Remains.
[0004]
Next, a sustaining voltage is applied between the scan electrode and the sustain electrode. Where there is a wall charge, it can be discharged even at a voltage lower than the discharge start voltage. The xenon gas in the discharge space is excited by the discharge, and ultraviolet light having a wavelength of 147 nm is generated. The ultraviolet light excites the phosphor, thereby enabling light emission display.
[0005]
In such a PDP, it is important to increase the luminance when the phosphor screen emits light. As means for increasing the brightness, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-32148 provides an auxiliary partition wall in addition to the partition wall, and increases the light emitting area of the phosphor screen by forming a phosphor screen on the surface of the auxiliary partition wall. It has been proposed to increase the luminance by efficiently applying ultraviolet rays to the phosphor screen.
[0006]
In this publication, for example, a photolithography method using a photosensitive material is used as a method for forming the partition walls and the auxiliary partition walls. In the first step, the partition walls and the auxiliary partition walls up to the height of the auxiliary partition walls are formed, and then as the second step. A method of forming an upper partition wall has been proposed. However, this method requires two or more steps of coating, drying, exposure, and development, and the process is complicated. Further, there is a problem in that it is impossible to form with high precision because extremely precise alignment of the lower layer and the upper layer is required. .
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, an object of the present invention is to pay attention to the above-mentioned problems in the prior art, and to form a partition and an auxiliary partition with high accuracy by a simple process, and a method for manufacturing a member for a plasma display excellent in display quality, and plasma The object is to provide a display.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, a method for producing a member for a plasma display of the present invention has the following configuration. That is, a method for manufacturing a member for a plasma display including a step of forming a partition and an auxiliary partition on a substrate on which an electrode is formed, wherein the method includes at least the following steps (A) to (C): .
(A) forming a first photosensitive coating film using a first photosensitive paste containing inorganic particles, a photosensitive monomer and a photopolymerization initiator;
(B) inorganic particles in the first layer of photosensitive coating film, using the second photosensitive paste containing a photosensitive monomer and a photopolymerization initiator, than the first layer of photosensitive coating film Forming a second photosensitive coating film having low sensitivity to actinic rays;
(C) grid-like pattern is formed on the electrode parallel direction and a perpendicular direction, and the transmittance of the electrode perpendicular to the direction of the transparent portion pattern and the transmittance of the transparent portion pattern of the electrode and parallel directions are different A process of exposing through a photomask.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Below, this invention is demonstrated along the preparation procedure of PDP.
[0011]
As the substrate used for the back plate as the PDP member of the present invention, “PD200” manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. and “PP8” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., which are heat-resistant glass for PDP, can be used in addition to soda glass. .
[0012]
Address electrodes are formed of a metal such as silver, aluminum, chromium, or nickel on a glass substrate. As a method of forming, after applying a metal paste mainly composed of these metal powder and organic binder by screen printing, or after applying a photosensitive metal paste using a photosensitive organic component as an organic binder, It is possible to use a photosensitive paste method in which pattern exposure is performed using a photomask, unnecessary portions are dissolved and removed in a development step, and further, a metal pattern is formed by heating and baking at 400 to 600 ° C. usually. Further, an etching method in which a metal such as chromium or aluminum is sputtered on a glass substrate, a resist is applied, the resist is subjected to pattern exposure / development, and then an unnecessary portion of the metal is removed by etching can be used. The electrode thickness is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 2 to 5 μm. If the electrode thickness is too thin, the resistance value tends to be large and accurate driving tends to be difficult. If it is too thick, a large amount of material is required, which tends to be disadvantageous in terms of cost. The width of the address electrode is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. If the width of the address electrode is too narrow, the resistance value tends to be high and accurate driving tends to be difficult. If the address electrode is too thick, the distance between adjacent electrodes tends to be small, so that a short defect tends to occur. Further, the address electrodes are formed at a pitch corresponding to the display cell (region where each RGB of the pixel is formed). The pitch is preferably 100 to 500 μm for a normal PDP and 100 to 250 μm for a high definition PDP.
[0013]
A dielectric layer is then preferably formed. The dielectric layer can be formed by applying a glass paste containing glass powder and an organic binder as main components so as to cover the address electrodes, and then firing at 400 to 600 ° C. As the glass paste used for the dielectric layer, glass powder containing at least one of lead oxide, bismuth oxide, zinc oxide and phosphorus oxide and containing 10 to 80% by weight in total can be preferably used. By setting it as 10 weight% or more, baking at 600 degrees C or less becomes easy, and setting it as 80 weight% or less prevents crystallization and the fall of the transmittance | permeability. A paste can be prepared by kneading these glass powder and an organic binder. As the organic binder to be used, cellulose compounds typified by ethyl cellulose, methyl cellulose and the like, acrylic compounds such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate and isobutyl acrylate can be used. Moreover, you may add additives, such as a solvent and a plasticizer, in glass paste. As the solvent, general-purpose solvents such as terpineol, butyrolactone, toluene and methyl cellosolve can be used. As the plasticizer, dibutyl phthalate, diethyl phthalate, or the like can be used.
[0014]
Further, by adding a filler component in addition to the glass powder, a PDP having a high reflectance and a high luminance can be obtained. As the filler, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide and the like are preferable, and it is particularly preferable to use titanium oxide having a particle diameter of 0.05 to 3 μm. The filler content is preferably a glass powder: filler weight ratio of 1: 1 to 10: 1. The brightness improvement effect can be obtained by setting the filler content to 1/10 or more of the glass powder. Moreover, there exists a tendency which can maintain sinterability by setting it as the equivalent amount or less of glass powder.
[0015]
Further, by adding conductive fine particles, a PDP with high reliability during driving can be created. The conductive fine particles are preferably metal powders such as nickel and chromium, and the particle diameter is preferably 1 to 10 μm. When the thickness is 1 μm or more, a sufficient effect can be exhibited, and when the thickness is 10 μm or less, unevenness on the dielectric can be suppressed and partition formation can be facilitated. The content of these conductive fine particles contained in the dielectric layer is preferably 0.1 to 10% by weight. When the content is 0.1% by weight or more, an effect can be obtained, and when the content is 10% by weight or less, a short circuit between adjacent address electrodes can be prevented. The thickness of the dielectric layer is preferably 3 to 30 μm, more preferably 3 to 15 μm. If the thickness of the dielectric layer is too thin, pinholes tend to occur frequently, and if it is too thick, the discharge voltage tends to be high and the power consumption tends to increase.
[0016]
A barrier rib and an auxiliary barrier rib for partitioning the discharge cell are formed on the dielectric layer. FIG. 1 is a perspective view showing an example of the shape of the partition and auxiliary partition formed in the present invention. In FIG. 1, 1A, 1B, and 1C are partition walls, 2A, 2B, 2C, and 2D are auxiliary partition walls, 3 is a dielectric layer, 4 is an address electrode, and 5 is a glass substrate. The partition walls 1A, 1B, and 1C are formed in a direction parallel to the address electrodes. The cross-sectional shapes of the partition walls 1A, 1B, and 1C can be formed in a trapezoidal shape or a rectangular shape. The

auxiliary barrier ribs

2A, 2B, 2C, and 2D are formed in a direction perpendicular to the address electrodes. The cross-sectional shapes of the

auxiliary partitions

2A, 2B, 2C, and 2D can also be formed in a trapezoidal shape or a rectangular shape.
[0017]
By forming the auxiliary barrier rib, a phosphor layer can also be formed on the surface of the auxiliary barrier rib, and the light emitting area can be increased. Accordingly, it is possible to increase the luminance because the ultraviolet rays efficiently act on the phosphor screen. Further, the presence of the auxiliary partition wall increases the bonding area of the entire partition wall, and the structural strength of the member can be obtained. As a result, the width of the barrier ribs and auxiliary barrier ribs can be reduced, the discharge volume in the display cell portion can be increased, and the discharge efficiency can be further improved.
[0018]
The height of the partition wall is suitably 80 μm to 200 μm. By setting the thickness to 80 μm or more, the phosphor and the scan electrode can be prevented from being too close to each other, and the phosphor can be prevented from being deteriorated by discharge. Further, by setting the thickness to 200 μm or less, the distance between the discharge at the scan electrode and the phosphor can be reduced, and sufficient luminance can be obtained. The partition pitch (P) is often 100 μm ≦ P ≦ 500 μm. In the high-definition plasma display, the partition pitch (P) is 100 μm ≦ P ≦ 250 μm. By setting the thickness to 100 μm or more, the discharge space can be widened and sufficient luminance can be obtained, and by setting the thickness to 500 μm or less, a fine image with fine pixels can be displayed. By setting it to 250 μm or less, it is possible to display a beautiful video of HDTV (high definition) level. The line width (L) is preferably 10 μm ≦ L ≦ 50 μm in half width. By setting the thickness to 10 μm or more, strength can be maintained, and damage can be prevented from occurring when the front plate and the back plate are sealed. Further, when the thickness is 50 μm or less, the formation area of the phosphor can be increased and high luminance can be obtained.
[0019]
The height of the auxiliary partition is preferably lower than the height of the partition, and more preferably 1/2 to 5/6 of the height of the partition. By setting the height of the auxiliary partition wall to be ½ or more of the height of the partition wall, it is possible to further obtain the effect of improving luminance by increasing the light emitting area. In addition, the phosphor layer can be more easily formed in the manufacturing process by making it lower than the partition wall.
[0020]
Here, the formation method of the partition in this invention and an auxiliary partition is demonstrated. In the present invention, the barrier ribs and the auxiliary barrier ribs are formed by baking after forming a pattern using a photosensitive coating film obtained by applying and drying a photosensitive paste made of an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive component.
[0021]
First, a first photosensitive paste is applied on a substrate on which an electrode is formed or a dielectric layer, and dried to form a first photosensitive coating film. The photosensitive coating film may be formed by applying a photosensitive paste using a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, a blade coater, or the like, and drying it using a ventilation oven, a hot plate, an IR furnace, or the like. it can.
[0022]
Next, a second photosensitive paste is further applied and dried on the first-layer photosensitive paste coating film to form a second-layer photosensitive coating film.
[0023]
Here, the photosensitive coating films of the first layer and the second layer are required to have different sensitivities to actinic rays. In particular, the sensitivity of the photosensitive coating film of the first layer is different from that of the second layer. It is more preferable that the sensitivity of the adhesive coating film is higher. Here, high sensitivity means that the amount of exposure to actinic rays is small for allowing the photosensitive coating film to harden and becoming insoluble in the developer, and enabling pattern formation.
[0024]
Here, in order to change the sensitivity of the photosensitive coating film of the first layer and the second layer, it is effective to change the types of the photosensitive monomer, the photopolymerization initiator, the sensitizer and the like in the photosensitive paste. .
[0025]
The photosensitive monomer used in the photosensitive paste of the present invention is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond, and specific examples thereof include monofunctional and polyfunctional (meth) acrylates, vinyl compounds. And allyl compounds can be used. These can be used alone or in combination of two or more.
[0026]
Moreover, as a photosensitive oligomer and a photosensitive polymer, the oligomer and polymer obtained by superposing | polymerizing at least 1 type of the compound which has a carbon-carbon double bond can be used. In the polymerization, it can be copolymerized with other photosensitive monomers so that the content of these monomers is 10% by weight or more, more preferably 35% by weight or more. By copolymerizing an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid with a polymer or oligomer, the developability after exposure can be improved. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. The acid value (AV) of the polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is preferably in the range of 50 to 180, and more preferably in the range of 70 to 140. By adding a photoreactive group to the side chain or molecular end of the polymer or oligomer shown above, it can be used as a photosensitive polymer or photosensitive oligomer having photosensitivity. Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acrylic group, and a methacryl group.
[0027]
In particular, as a photosensitive coating film having high sensitivity preferable as the photosensitive coating film of the first layer, a polyfunctional monomer such as trimethylolpropane trimethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, Use ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, etc. 11-306964 and the like, for example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinyl) butanone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiol). Methylphenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-methylsulfonyl-1- (4-methylthiophenyl) propanone, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, etc. It can be obtained by combining.
[0028]
In order to obtain a photosensitive coating film having a lower sensitivity than the high-sensitivity photosensitive coating film, a photosensitive monomer having a reduced number of photosensitive functional groups in the photosensitive monomer used in the high-sensitivity photosensitive coating film, for example, , N-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, tert-butyl cyclohexyl methacrylate, lauryl methacrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, and the like, and a photopolymerization initiator and sensitization having a smaller extinction coefficient Agents such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-di Eniruetan-1-one, is the use of such 2-hydroxy-2-methyl-. It is also effective to add a polymerization inhibitor or a light absorber to the high-sensitivity photosensitive coating film.
[0029]
Subsequently, exposure is performed using an exposure apparatus. Examples of the active light source used at this time include visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light. Among these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or a germicidal lamp can be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp is suitable. Although exposure conditions vary depending on the coating thickness, exposure is usually performed for 0.1 to 10 minutes using an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 1 to 100 mW / cm ² .
[0030]
In the present invention, the exposure is performed through a photomask in which a grid pattern is formed in a direction parallel to and perpendicular to the electrodes. By exposing through a mask in which a lattice-like pattern is formed, the photosensitive coating film in a portion to be a partition wall and auxiliary partition wall pattern is photo-cured, and a partition wall and auxiliary partition wall pattern is obtained by development.
[0031]
In the present invention, it is preferable that the transmissivity of the translucent part pattern in the direction parallel to the electrode and the transmissivity of the translucent part pattern in the direction perpendicular to the electrode are different in the photomask. More preferably, the difference between the transmittance of the part pattern and the transmittance of the translucent part pattern perpendicular to the electrode is 10% or more. More preferably, it is 15% or more. When exposure is performed using a photomask having a transmittance difference of 10% or more, a difference occurs in the exposure amount of the photosensitive coating film corresponding to the pattern. When a photosensitive coating film having high sensitivity is used for the first layer, photocuring sufficiently proceeds even if the exposure amount changes, and becomes insoluble in the developer. When a low-sensitivity photosensitive coating film is used as the second layer, the portion where the transmittance of the light-transmitting portion pattern of the mask is high is light-cured and becomes insoluble in the developing solution. The portion where the rate is low does not proceed with photocuring and becomes soluble in the developer. Therefore, the pattern of the partition wall before auxiliary | assistant and an auxiliary partition wall from which height differs by one exposure and image development process is obtained.
[0032]
As a method for changing the transmittance of the light transmitting part of the photomask, for example, chromium or the like is patterned on the substrate for the photomask by a vapor deposition method to form an active light transmitting part and a light shielding part that shields the active light ( After the actinic ray transmission part is formed in a grid pattern in a direction perpendicular to and parallel to the electrode), a thin chrome is formed on the light transmission part pattern perpendicular to the electrode, and the transmittance of the pattern of the transmission part perpendicular to the electrode And a method of forming a resin that absorbs actinic rays on the translucent part pattern perpendicular to the electrode and lowering the transmittance of the transmissive part pattern perpendicular to the electrode. Examples of the resin that absorbs the active light include polyamide, polyimide, and polyurethane. It is also effective to introduce a methacryl group or the like into the skeleton of the ultraviolet absorber to obtain a reactive type copolymer.
[0033]
Development can be performed by a dipping method, a spray method, a brush method, or the like. As the developer, a solution in which an organic component to be dissolved in the photosensitive paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, it can be developed with an alkaline aqueous solution. As the alkaline aqueous solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium carbonate aqueous solution, calcium hydroxide aqueous solution or the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution because an alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, and diethanolamine. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion tends not to be removed. If the alkali concentration is too high, the pattern portion tends to be peeled off or the insoluble portion tends to be corroded. The development temperature during development is preferably 20 to 50 ° C. in terms of process control.
[0034]
Next, baking is performed in a baking furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste and substrate, but firing is performed in an atmosphere of air, nitrogen, hydrogen, or the like. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a roller hearth-type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is preferably 400 to 800 ° C. In the case where the partition walls are formed directly on the glass substrate, firing is usually performed at a temperature of 450 to 620 ° C. for 10 to 60 minutes.
[0035]
In addition, glass, ceramics (alumina, cordierite, etc.) etc. can be used as an inorganic fine particle which comprises the photosensitive paste used by this invention. In particular, glass or ceramics containing silicon oxide, boron oxide, or aluminum oxide as an essential component is preferable. The particle size of the inorganic fine particles (Laser particle size distribution measuring device DHX-100 manufactured by Microtrack) is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced, but the volume average particle size (D50) is 1 to 10 μm. It is preferable that it is 1-5 micrometers. By setting D50 to 10 μm or less, it is possible to prevent surface irregularities from occurring. Furthermore, it is particularly preferable in the pattern formation to use glass fine particles having a specific surface area of 0.2 to ³ m ² / g.
[0036]
Since the partition walls are preferably patterned on a glass substrate having a low heat softening point, it is preferable to use inorganic fine particles containing 60% by weight or more of glass fine particles having a heat softening temperature of 350 ° C. to 600 ° C. as the inorganic fine particles. Further, by adding glass fine particles or ceramic fine particles having a heat softening temperature of 600 ° C. or higher, the shrinkage rate during firing can be suppressed, but the amount is preferably 40% by weight or less.
[0037]
As the glass powder to be used, a glass having a linear expansion coefficient of 50 × 10 ^{−7 to} 90 × 10 ⁻⁷ , or 60 × 10 ^{−7 to} 90 × 10 ⁻⁷ in order to prevent warping of the glass substrate during firing. It is preferable to use fine particles.
[0038]
As a material for forming the partition wall, a glass material containing an oxide of silicon and / or boron is preferably used.
[0039]
It is preferable that silicon oxide is blended in the range of 3 to 60% by weight. When the content is 3% by weight or more, the denseness, strength, and stability of the glass layer are improved, and the thermal expansion coefficient is within a desired range, thereby preventing mismatch with the glass substrate. Moreover, by setting it as 60 weight% or less, there exists an advantage that a thermal softening point becomes low and baking to a glass substrate is attained.
[0040]
Boron oxide can improve electrical, mechanical and thermal characteristics such as electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, and denseness of the insulating layer by blending in the range of 5 to 50% by weight. The stability of glass can be maintained by setting it as 50 weight% or less.
[0041]
Furthermore, by containing at least one of bismuth oxide, lead oxide, and zinc oxide in a total amount of 5 to 50% by weight, a glass paste having temperature characteristics suitable for patterning on a glass substrate can be obtained. it can. In particular, when glass fine particles containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide are used, advantages such as a long pot life of the paste can be obtained. As the bismuth-based glass fine particles, glass powder containing the following composition is preferably used.
Bismuth oxide: 10-40 parts by weight Silicon oxide: 3-50 parts by weight Boron oxide: 10-40 parts by weight Barium oxide: 8-20 parts by weight Aluminum oxide: 10-30 parts by weight
[0042]
Moreover, you may use the glass fine particle which contains 3-20 weight% of at least 1 sort (s) among lithium oxide, sodium oxide, and potassium oxide. By adding the alkali metal oxide in an amount of 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less, the stability of the paste can be improved. Of the above three types of alkali metal oxides, lithium oxide is particularly preferred from the viewpoint of paste stability. As the lithium glass fine particles, for example, glass powder containing the following composition is preferably used.
[0043]
As specific glass fine particles in this case, it is preferable to use glass powder having the following composition.
Lithium oxide: 2-15 parts by weight Silicon oxide: 15-50 parts by weight Boron oxide: 15-40 parts by weight Barium oxide: 2-15 parts by weight Aluminum oxide: 6-25 parts by weight
[0044]
In addition, if glass fine particles containing both metal oxides such as lead oxide, bismuth oxide and zinc oxide and alkali metal oxides such as lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide are used, with a lower alkali content, The thermal softening temperature and linear expansion coefficient can be easily controlled.
[0045]
Also, workability is improved by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, etc., especially aluminum oxide, barium oxide, zinc oxide, etc. to the glass fine particles. However, the content is preferably 40 parts by weight or less, and more preferably 25 parts by weight or less from the viewpoint of the thermal softening point and the thermal expansion coefficient.
[0046]
The organic component including the photosensitive component preferably contains a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer, and, if necessary, photopolymerization. An initiator, a light absorber, a sensitizer, an organic solvent, a sensitization aid, a polymerization inhibitor, etc. are added.
[0047]
Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl O-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, 4- Examples include benzoyl-4-methylphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, and the like. One or more of these can be used. The photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity tends to decrease, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to be too small.
[0048]
It is also effective to add a light absorber. By adding a compound having a high absorption effect of ultraviolet light or visible light, a high aspect ratio, high definition, and high resolution can be obtained. As the light absorber, an organic dye is preferably used. Specifically, an azo dye, an aminoketone dye, a xanthene dye, a quinoline dye, an anthraquinone dye, a benzophenone dye, a diphenylcyanoacrylate dye. Dyes, triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, and the like can be used. Since organic dye does not remain in the insulating film after baking, it is preferable because the deterioration of the insulating film characteristics due to the light absorber can be reduced. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are preferable. The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 0.05 to 1% by weight. When the addition amount is too small, the effect of adding the light absorber tends to decrease, and when it is too large, the insulating film characteristics after firing tend to decrease.
[0049]
A sensitizer is added in order to improve sensitivity. Specific examples of the sensitizer include 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, and the like. Is mentioned. One or more of these can be used. When adding a sensitizer to a photosensitive paste, the addition amount is 0.05 to 10 weight% normally with respect to the photosensitive component, More preferably, it is 0.1 to 10 weight%. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity tends not to be exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion tends to be small.
[0050]
Examples of the organic solvent include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, and γ-butyllactone. N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene, dichlorobenzene, bromobenzoic acid, chlorobenzoic acid, and the like, and one or more of these An organic solvent mixture is used. Here, the photosensitive paste is usually prepared by mixing the above-mentioned inorganic fine particles and organic components so as to have a predetermined composition, and then uniformly mixing and dispersing them with a three-roller or a kneader.
[0051]
Next, phosphor layers that emit light of RGB colors are formed between predetermined partitions. The phosphor layer can be formed by applying a phosphor paste mainly composed of phosphor powder, an organic binder, and an organic solvent between predetermined partitions, drying, and firing as necessary.
[0052]
As a method of applying the phosphor paste between predetermined partition walls, a screen printing method in which a pattern is printed using a screen printing plate, a dispenser method in which the phosphor paste is discharged from the tip of a discharge nozzle, or a phosphor paste The phosphor paste of each color can be applied to a predetermined place by the photosensitive paste method using the organic component having photosensitivity as an organic binder.
[0053]
When the thickness of the R phosphor layer is Tr, the thickness of the G phosphor layer is Tg, and the thickness of the B phosphor layer is Tb,
10 μm ≦ Tr <Tb ≦ 50 μm
10 μm ≦ Tg <Tb ≦ 50 μm
By having such a relationship, the effect of the present invention can be exhibited more. That is, a plasma display having a better color balance (high color temperature) can be produced by making the thickness of blue with low emission luminance thicker than green and red. When the thickness of the phosphor layer is 10 μm or more, sufficient luminance can be obtained. Further, by setting the thickness to 50 μm or less, a wide discharge space can be obtained and high luminance can be obtained. In this case, the thickness of the phosphor layer is measured as a formation thickness at an intermediate point between adjacent barrier ribs. That is, it is measured as the thickness of the phosphor layer formed at the bottom of the discharge space (in the cell).
[0054]
The member for plasma display of this invention can be produced by baking the apply | coated fluorescent substance layer at 400-550 degreeC as needed.
[0055]
Using this plasma display member as the back plate, after sealing with the front plate, after enclosing a discharge gas composed of helium, neon, xenon, etc. in the space formed between the front and back substrates, the drive circuit is A plasma display can be manufactured by mounting. The front plate is a member in which a transparent electrode, a bus electrode, a dielectric, and a protective film (MgO) are formed on a substrate in a predetermined pattern. You may form a color filter layer in the part corresponding to the RGB each color phosphor layer formed on the back plate. Further, a black stripe may be formed in order to improve contrast.
[0056]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The concentration (%) in Examples and Comparative Examples is% by weight.
(Measurement method of transmittance)
The light transmittance was measured using a spectrophotometer (UV-3101PC) manufactured by Shimadzu Corporation. The measurement conditions are as follows.

(Examples 1-4, Comparative Examples 1-2)
First, a front plate was produced. A scan electrode having a pitch of 375 μm and a line width of 150 μm was formed on a glass substrate PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. using ITO. In addition, after applying a photosensitive silver paste on the substrate, mask exposure through a photomask, development using a 0.3% aqueous sodium carbonate solution, and a baking process at 580 ° C. for 15 minutes, a line width of 50 μm, A bus electrode having a thickness of 3 μm was formed.
[0057]
Next, a glass paste obtained by kneading 70% low melting point glass powder containing 75% by weight of lead oxide, 20% ethyl cellulose, and 10% terpineol is screen-printed so that the bus electrode of the display portion is covered. After coating with a thickness of 50 μm, baking was performed at 570 ° C. for 15 minutes to form a front dielectric.
[0058]
A front plate was produced by forming a 0.5 μm thick magnesium oxide layer as a protective film by electron beam evaporation on the substrate on which the dielectric was formed.
[0059]
Next, a back plate was produced.
Address electrodes were formed on the glass substrate PD200 using a photosensitive silver paste. A photosensitive silver paste was applied, dried, exposed, developed, and baked to form an address electrode having a line width of 50 μm, a thickness of 3 μm, and a pitch of 250 μm.
[0060]
Next, a glass obtained by kneading 60% of low melting point glass powder containing 75% by weight of bismuth oxide, 10% by weight of titanium oxide powder having an average particle size of 0.3 μm, 15% of ethyl cellulose, and 15% of terpineol. The paste was applied by screen printing to a thickness of 50 μm so as to cover the bus electrode of the display portion, and then baked at 570 ° C. for 15 minutes to form a front dielectric layer.
[0061]
On the dielectric, a photosensitive paste having the composition shown in Table 1 was applied and dried to form the first and second photosensitive coating films. The composition of the photosensitive paste other than those shown in Table 1 is as glass powder: lithium oxide 10% by weight, silicon oxide 25% by weight, boron oxide 30% by weight, zinc oxide 15% by weight, aluminum oxide 5% by weight, calcium oxide Glass powder having an average particle diameter of 2 μm obtained by grinding glass having a composition of 15% by weight, as an organic component, polymer: methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight average molecular weight 31000, acid value 110) 30% by weight, organic solvent: 30% by weight of dipropylene glycol monomethyl ether. Moreover, the monomer of Table 1 is 30 weight%, and an initiator is 10 weight%.
[0062]
[Table 1]

[0063]
The photosensitive paste was prepared by mixing the glass powder and the organic component containing the photosensitive component in a weight ratio of 70:30, and then kneading them with a roll mill. The coating was performed using a die coater so that the first layer and the second layer each had a thickness of 90 μm after drying. Drying was performed at 80 ° C. for 30 minutes using a clean oven (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.).
[0064]
After drying, exposure was performed using a photomask having a grid pattern with a pitch of 250 μm and a line width of 30 μm in a direction perpendicular to and parallel to the address electrodes (exposure amount: 1500 mJ / cm ² ). Table 1 shows the transmissivity of the translucent pattern in the direction perpendicular to and parallel to the address electrodes. The transmittance was changed by thinly forming chrome on the transmissive part pattern perpendicular to the address electrodes. The wavelength of the light for measuring the transmittance is accurate for confirming the effect of measuring the wavelength of the light for exposing the photosensitive coating film. Therefore, it was set as the measured value at 365 nm.
[0065]
After the exposure, development was performed in a 0.5% by weight sodium carbonate aqueous solution, followed by baking at 560 ° C. for 15 minutes to obtain partition walls and auxiliary partition walls.
[0066]
Next, a phosphor was applied between adjacent barrier ribs. The phosphor was applied by a dispenser method in which the phosphor paste was discharged from the tip of a nozzle in which 256 holes (caliber: 130 μm) were formed. The phosphor was baked at 500 ° C. for 10 minutes after being applied on the side wall of the partition wall so that the thickness was 25 μm after firing and on the dielectric so that the thickness was 25 μm after firing.
Thus, a back plate was produced as a member for PDP.
[0067]
Further, the produced front substrate and back substrate were sealed using sealing glass, and Ne gas containing Xe 5% was sealed so as to have an internal gas pressure of 66500 Pa. Further, a driving circuit was mounted to produce a PDP. A voltage was applied to the scan electrode of the PDP to emit light. When the luminance was measured using the luminance meter, in Examples 1 to 4, it was 250 cd / m ² , and high luminance display characteristics could be obtained.
[0068]
On the other hand, in Comparative Example 1, since the sensitivity of the first and second photosensitive coating films was the same, the heights of the barrier ribs and the auxiliary barrier ribs were the same, and a phosphor was formed on the auxiliary barrier ribs. The front substrate could not be sealed and the PDP could not be produced. In Comparative Example 2, since the transmittance of the photomask is the same, the height of the partition wall and the auxiliary partition wall is the same, and the phosphor is formed on the auxiliary partition wall, which can be sealed to the front substrate. Therefore, PDP could not be produced.
[0069]
【The invention's effect】
According to the present invention, a method for manufacturing a member for a plasma display excellent in display quality by forming a partition in a direction parallel to an address electrode and an auxiliary partition in a direction perpendicular to the address electrode with high accuracy by a simple process, and a plasma display Can provide.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an example of shapes of a partition wall and an auxiliary partition wall formed in the present invention.
[Explanation of symbols]
1A, 1B,

1C Partition

2A, 2B, 2C, 2D Auxiliary partition 3 Dielectric layer 4 Address electrode 5 Glass substrate

Claims

A method for manufacturing a member for a plasma display including a step of forming a partition and an auxiliary partition on a substrate on which an electrode is formed, the plasma display comprising at least the following steps (A) to (C): Method for manufacturing a member.
(A) forming a first photosensitive coating film using a first photosensitive paste containing inorganic particles, a photosensitive monomer and a photopolymerization initiator;
(B) inorganic particles in the first layer of photosensitive coating film, using the second photosensitive paste containing a photosensitive monomer and a photopolymerization initiator, than the first layer of photosensitive coating film Forming a second photosensitive coating film having low sensitivity to actinic rays;
(C) grid-like pattern is formed on the electrode parallel direction and a perpendicular direction, and the transmittance of the electrode perpendicular to the direction of the transparent portion pattern and the transmittance of the transparent portion pattern of the electrode and parallel directions are different A process of exposing through a photomask.

The first photosensitive paste comprises trimethylolpropane trimethacrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate as a photosensitive monomer. , Pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate or dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinyl) butanone, 2-methyl-2 as a photopolymerization initiator -Morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-methyl-2-methylsulfonyl-1- (4-methylthiophenyl) propanone or 4- Include (2-hydroxy-2-propyl) ketone, - 2-hydroxyethoxy) phenyl
Further, the second photosensitive paste is composed of n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, tert-butylcyclohexyl methacrylate, lauryl methacrylate or 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate as a photosensitive monomer. Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one or 2 as a polymerization initiator -Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one or a polymerization inhibitor or light absorber Method of manufacturing a plasma display member according to claim 1, characterized in that.

As the photomask, a lattice-like pattern is formed on the electrode parallel direction and a perpendicular direction, and the transmittance of the electrode perpendicular to the direction of the transparent portion pattern and the transmittance of the transparent portion pattern of the electrode parallel to the direction The method for manufacturing a member for a plasma display according to claim 1, wherein a photomask having a difference of 10% or more is used.