[go: up one dir, main page]

JP4553104B2 - Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound - Google Patents

Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound Download PDF

Info

Publication number
JP4553104B2
JP4553104B2 JP2004028961A JP2004028961A JP4553104B2 JP 4553104 B2 JP4553104 B2 JP 4553104B2 JP 2004028961 A JP2004028961 A JP 2004028961A JP 2004028961 A JP2004028961 A JP 2004028961A JP 4553104 B2 JP4553104 B2 JP 4553104B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
bis
phenylphosphonate
acid
carbon atoms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004028961A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005220064A (en
Inventor
秀雄 鈴木
保夫 河村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2004028961A priority Critical patent/JP4553104B2/en
Publication of JP2005220064A publication Critical patent/JP2005220064A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4553104B2 publication Critical patent/JP4553104B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、カルボキシフェニルホスホン酸エステル化合物及びその製造法に関する。   The present invention relates to a carboxyphenylphosphonic acid ester compound and a method for producing the same.

ジカルボキシフェニルホスホン酸化合物は、重合反応性の高いリン化合物であり、ポリアミドまたはポリエステル中に組み込まれ、それら重合物に難燃性及び耐熱性を付与できることが知られている(特許文献1:特開平11−106495号公報、特許文献2:特開平11−286545号公報参照)。また、その製造方法としてビス(アルコキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジアルキル化合物を加水分解させる方法が知られている(特許文献3:特開平11−193292号公報参照)。   Dicarboxyphenylphosphonic acid compounds are phosphorus compounds with high polymerization reactivity, and are known to be incorporated in polyamides or polyesters to impart flame retardancy and heat resistance to these polymers (Patent Document 1: Special). (See Kaihei 11-106495, Patent Document 2: JP-A-11-286545). Further, as a production method thereof, a method of hydrolyzing a dialkyl compound of bis (alkoxycarbonyl) phenylphosphonate is known (see Patent Document 3: JP-A-11-193292).

近年、多様化する難燃性及び耐熱性高分子材料又は他の有機材料に対応するために、種々のリン化合物が必要となってきた。カルボキシフェニルホスホン酸エステル化合物において、カルボキシフェニルホスホン酸ジアルキル化合物、カルボキシフェニルホスホン酸モノアルキル化合物及びアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキル化合物を難燃性及び耐熱性高分子材料のモノマー又は他の有機材料の原料として使用することが期待できる。   In recent years, various phosphorus compounds have been required to cope with the diversifying flame retardant and heat resistant polymer materials or other organic materials. In the carboxyphenylphosphonic acid ester compound, a carboxyphenylphosphonic acid dialkyl compound, a carboxyphenylphosphonic acid monoalkyl compound and an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid monoalkyl compound are used as monomers for flame-retardant and heat-resistant polymer materials or other organic materials. Can be used as.

これまで、フェニルホスホン酸エステル化合物の製造方法としては、カルボキシフェニルホスホン酸モノアリールエステル化合物(非特許文献1:ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランスアクションズ(J. Chem. Soc., Perkin Transactions)、第1巻、No.21、p.2796−2803、2001年参照)及び置換フェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物(非特許文献2:ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー(J.Heterocyclic Chem.,)、第29巻、No.4、p.867−875、1992年参照)の製造方法が報告されている。   Until now, as a method for producing a phenylphosphonic acid ester compound, a carboxyphenylphosphonic acid monoaryl ester compound (Non-patent Document 1: Journal of the Chemical Society, Perkin Transactions (J. Chem. Soc., Perkin Transactions), Vol. 1, No. 21, p. 2796-2803, 2001) and substituted phenylphosphonic acid monoalkyl ester compounds (Non-Patent Document 2: Journal of Heterocyclic Chemistry (J. Heterocyclic) Chem.,), Vol. 29, No. 4, p. 867-875 (1992)).

しかしながら、カルボキシフェニルホスホン酸ジアルキル化合物、カルボキシフェニルホスホン酸モノアルキル化合物及びアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキル化合物の製造方法は知られていない。   However, methods for producing a dialkyl compound of carboxyphenylphosphonic acid, a monoalkyl compound of carboxyphenylphosphonic acid and a monoalkyl compound of alkoxycarbonylphenylphosphonic acid are not known.

特開平11−106495号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-106495 特開平11−286545号公報JP-A-11-286545 特開平11−286545号公報JP-A-11-286545 ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ、パーキン・トランスアクションズ(J. Chem. Soc., Perkin Transactions)、第1巻、No.21、p.2796−2803、2001年Journal of the Chemical Society, J. Chem. Soc., Perkin Transactions, Volume 1, No. 21, p. 2796-2803, 2001 ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリー(J.Heterocyclic Chem.,)、第29巻、No.4、p.867−875、1992年Journal of Heterocyclic Chem., Vol. 29, No. 4, p. 867-875, 1992

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、難燃性及び耐熱性高分子材料のモノマー又は他の有機材料の原料として有用なカルボキシフェニルホスホン酸ジアルキル化合物、カルボキシフェニルホスホン酸モノアルキル化合物及びアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキル化合物、並びに、その製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is useful as a monomer for a flame-retardant and heat-resistant polymer material or as a raw material for other organic materials. It is an object of the present invention to provide an alkyl compound, an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid monoalkyl compound, and a production method thereof.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
1. 式[1]

Figure 0004553104

(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物。
2. 式[2]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物。
3.式[3]
Figure 0004553104
(式中、R及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物。
4.式[4]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で表される1記載のジカルボキシフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物。
5.式[5]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で表される2記載のジカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物。
6.式[6]
Figure 0004553104
(式中、R及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で表される3記載のビス(アルコキシカルボニル)フェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物。
7.式[7]
Figure 0004553104
(式中、R及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物を、アルカリ金属炭酸塩化合物、アルカリ金属リン酸塩化合物、アルカリ土金属炭酸塩化合物、アルカリ土金属水酸化物、アルカリ土金属リン酸塩化合物及び有機塩基の一種以上を用いて加水分解することを特徴とする式[1]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物の製造法。
8.式[7]
Figure 0004553104
(式中、R及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物を、アルカリ金属水酸化物で加水分解することを特徴とする式[2]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜10のアルキルを表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物の製造法。
9.式[2]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜10のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物を、式[8]
Figure 0004553104
(式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で表されるアルキルアルコールと酸触媒下反応させることを特徴とする、式[3]
Figure 0004553104
(式中、R及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物の製造法。 The inventors of the present invention have completed the present invention as a result of intensive studies in order to achieve the above object.
That is, the present invention
1. Formula [1]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
A carboxyphenylphosphonic acid dialkyl ester compound represented by:
2. Formula [2]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
A carboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound represented by:
3. Formula [3]
Figure 0004553104
(Wherein, R 1 and R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is an integer of 1-2.) Alkoxycarbonyl phenylphosphonic acid represented by the monoalkyl ester compound.
4). Formula [4]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
The dicarboxyphenylphosphonic acid dialkyl ester compound according to 1, which is represented by:
5). Formula [5]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
The dicarboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound of 2 represented by these.
6). Formula [6]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 and R 3 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
3. The bis (alkoxycarbonyl) phenylphosphonic acid monoalkyl ester compound according to 3, represented by:
7). Formula [7]
Figure 0004553104
(Wherein R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2), an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid dialkyl ester compound represented by an alkali metal carbonate Hydrolysis using one or more of compounds, alkali metal phosphate compounds, alkaline earth metal carbonate compounds, alkaline earth metal hydroxides, alkaline earth metal phosphate compounds and organic bases [1 ]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
The manufacturing method of the carboxyphenylphosphonic acid dialkyl ester compound represented by these.
8). Formula [7]
Figure 0004553104
(Wherein R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2), an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid dialkyl ester compound represented by alkali metal hydroxide Formula [2] characterized by hydrolysis with a product
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
The manufacturing method of the carboxyphenylphosphonic acid monoalkylester compound represented by these.
9. Formula [2]
Figure 0004553104
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
A carboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound represented by the formula:
Figure 0004553104
(In the formula, R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
The reaction is carried out in the presence of an acid catalyst with an alkyl alcohol represented by the formula [3]
Figure 0004553104
(Wherein R 1 and R 3 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2). A method for producing an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound represented by

本発明のカルボキシフェニルホスホン酸ジアルキル化合物、カルボキシフェニルホスホン酸モノアルキル化合物及びアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキル化合物は、難燃性及び耐熱性のポリエステル、ポリアミド、エポキシ熱硬化性樹脂等の高分子材料のモノマー及び他の有機材料の原料として有用である。
また、本発明の製法を用いることにより、カルボキシフェニルホスホン酸ジアルキル化合物、カルボキシフェニルホスホン酸モノアルキル化合物及びアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキル化合物を高収率で得ることができる。
The dialkyl compound of carboxyphenylphosphonic acid, the monoalkyl compound of carboxyphenylphosphonic acid and the monoalkyl compound of alkoxycarbonylphenylphosphonic acid of the present invention are made of a polymer material such as flame retardant and heat resistant polyester, polyamide, and epoxy thermosetting resin. It is useful as a raw material for monomers and other organic materials.
Further, by using the production method of the present invention, a carboxyphenylphosphonic acid dialkyl compound, a carboxyphenylphosphonic acid monoalkyl compound and an alkoxycarbonylphenylphosphonic acid monoalkyl compound can be obtained in high yield.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明化合物は、上記式[1]乃至[6]で表されるものである。ここで、nは1〜2であり、高分子材料のモノマー及び他の有機材料への応用を考慮すると、好ましくは、nは2である。さらに、好ましくは、上記式[4]、[5]及び[6]で表されるものである。
The present invention will be described in detail below.
The compound of the present invention is represented by the above formulas [1] to [6]. Here, n is 1 to 2, and n is preferably 2 in consideration of application of the polymer material to the monomer and other organic materials. Further, preferably, those represented by the above formulas [4], [5] and [6].

なお、上記各式において、炭素数1〜20のアルキル基としては、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよく、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、c-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、t-ブチル、c-ブチル、s-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、n−トリデシル、n−テトラデシル、n−ペンタデシル、n−ヘキサデシル、n−ヘプタデシル、n−オクタデシル、2-エチルプロピル、2,2-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、c-ヘキシル、1-メチル-c-ペンチル、1-エチル-c-ブチル及び1,2-ジメチル-c-ブチル等があげられる。
上記において、nはノルマルを、iはイソを、sはセカンダリーを、cはシクロを、tはターシャリーをそれぞれ表す。
In each of the above formulas, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms may be linear, branched or cyclic. For example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, c-propyl, n-butyl , I-butyl, t-butyl, c-butyl, s-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, n-undecyl, n-dodecyl, n -Tridecyl, n-tetradecyl, n-pentadecyl, n-hexadecyl, n-heptadecyl, n-octadecyl, 2-ethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, 1,2-dimethylpropyl, 1,1,2-trimethylpropyl 1,2,2-trimethylpropyl, 1-ethyl-1-methylpropyl, 1-ethyl-2-methylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2 -Dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,2- Methylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 3,3-dimethylbutyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, c-hexyl, 1- Examples include methyl-c-pentyl, 1-ethyl-c-butyl and 1,2-dimethyl-c-butyl.
In the above, n represents normal, i represents iso, s represents secondary, c represents cyclo, and t represents tertiary.

本発明化合物の製造法は、前述した様に次の3つの反応スキームで表される。   The production method of the compound of the present invention is represented by the following three reaction schemes as described above.

Figure 0004553104
Figure 0004553104

Figure 0004553104
Figure 0004553104

Figure 0004553104
Figure 0004553104

(式中、R 及びRは炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
ここでは、特に限定されるものではないが、nが2で、ベンゼン環の置換基が3,5位の場合について説明する。
(Wherein, R 1, R 2 and R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, n is an integer of 1-2.)
Here, although not particularly limited, a case where n is 2 and the substituent of the benzene ring is in the 3rd and 5th positions will be described.

以下順にスキーム(1)から述べる。
まず原料である3,5−ビス(アルコキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物の製造法は、特開平11−193292号公報に記載された以下の反応スキームで表される。
This will be described in order from scheme (1) below.
First, a method for producing a 3,5-bis (alkoxycarbonyl) phenylphosphonic acid dialkyl ester compound as a raw material is represented by the following reaction scheme described in JP-A-11-193292.

Figure 0004553104
Figure 0004553104

(式中、R及びR2は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
即ち、3,5−ビス(アルコキシカルボニル)フェニルブロマイドとトリアルキルフォスファイトから金属触媒を用いて、高収率で目的物が得られる。
(In the formula, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
That is, the desired product can be obtained in high yield from 3,5-bis (alkoxycarbonyl) phenyl bromide and trialkyl phosphite using a metal catalyst.

具体的には、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(プロポキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(ブトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(デカオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル、3,5−ビス(エイコシルオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチル、3,5−ビス(ドコサオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチル、3,5−ビス(エイコシルオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジプロピル、3,5−ビス(エイコシルオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジブチル、3,5−ビス(エイコシルオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジデシル、3,5−ビス(エイコシルオキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエイコシル等が挙げられる。原料の入手し易さや反応性からR及びR2が、メチル基またはエチル基からなる化合物類が好ましい。 Specifically, dimethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, diethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, dipropyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3,5 -Dibutyl bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, didecyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, dieicosyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphone Dimethyl 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphonate, dipropyl 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphonate, dibutyl 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3,5-bis (Ethoxycal Nyl) didecyl phenylphosphonate, dieicosyl 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphonate, dimethyl 3,5-bis (propoxycarbonyl) phenylphosphonate, diethyl 3,5-bis (propoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3, , 5-bis (propoxycarbonyl) phenylphosphonate dipropyl, 3,5-bis (propoxycarbonyl) phenylphosphonate dibutyl, 3,5-bis (propoxycarbonyl) phenylphosphonate didecyl, 3,5-bis (propoxycarbonyl) Diaecosyl phenylphosphonate, dimethyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, diethyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphone Dipropyl, 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate dibutyl, 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate didecyl, 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate dieicosyl, 3,5-bis ( Dimethyl butoxycarbonyl) phenylphosphonate, diethyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, diprotyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, dibutyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, Didecyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, dieicosyl 3,5-bis (butoxycarbonyl) phenylphosphonate, dimethyl 3,5-bis (decaoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3,5-bis (decaoxy) Dicarbonyl) phenylphosphonate, 3,5-bis (decaoxycarbonyl) phenyl phosphonate dipropyl, 3,5-bis (decaoxycarbonyl) phenylphosphonate dibutyl, 3,5-bis (decaoxycarbonyl) phenylphosphone Didecyl acid, dieicosyl 3,5-bis (decaoxycarbonyl) phenylphosphonate, dimethyl 3,5-bis (eicosyloxycarbonyl) phenylphosphonate, diethyl 3,5-bis (docosaoxycarbonyl) phenylphosphonate, 3, , 5-bis (eicosyloxycarbonyl) phenylphosphonate dipropyl, 3,5-bis (eicosyloxycarbonyl) phenylphosphonate dibutyl, 3,5-bis (eicosyloxycarbonyl) phenylphosphonate didecyl, 3,5 -Screw ( Icosyl oxycarbonyl) dieicosyl and phenyl phosphonic acid. From the standpoint of availability of raw materials and reactivity, compounds in which R 1 and R 2 are methyl groups or ethyl groups are preferred.

加水分解に必要な塩基の種類が本発明で重要である。塩基1は、アルカリ金属炭酸塩化合物、アルカリ土金属炭酸塩化合物、アルカリ土金属水酸化物、アルカリ金属リン酸塩化合物、アルカリ土金属リン酸塩化合物及び有機塩基である。 The type of base required for hydrolysis is important in the present invention. Base 1 is an alkali metal carbonate compound, an alkaline earth metal carbonate compound, an alkaline earth metal hydroxide, an alkali metal phosphate compound, an alkaline earth metal phosphate compound, and an organic base.

具体的には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム及び炭酸水素バリウム等に代表されるアルカリ金属炭酸塩化合物及びアルカリ土金属炭酸塩化合物。水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム及び水酸化バリウム等に代表されるアルカリ土金属水酸化物。燐酸リチウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸マグネシウム、燐酸カルシウム、燐酸バリウム、燐酸一水素リチウム、燐酸一水素ナトリウム、燐酸一水素カリウム、燐酸一水素マグネシウム、燐酸一水素カルシウム、燐酸一水素バリウム、燐酸二水素リチウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸二水素カリウム、燐酸二水素マグネシウム、燐酸二水素カルシウム及び燐酸二水素バリウム等に代表されるアルカリ金属リン酸塩化合物及びアルカリ土金属リン酸塩化合物。
更に、トリエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン及び4−(ジメチルアミノ)ピリジン等に代表される脂肪族アミン類や芳香族アミン類等の有機塩基が挙げられる。
Specific examples include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, magnesium hydrogen carbonate, calcium hydrogen carbonate and barium hydrogen carbonate. Alkali metal carbonate compounds and alkaline earth metal carbonate compounds. Alkaline earth metal hydroxides typified by magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide and barium hydroxide. Lithium phosphate, sodium phosphate, potassium phosphate, magnesium phosphate, calcium phosphate, barium phosphate, lithium monohydrogen phosphate, sodium monohydrogen phosphate, potassium monohydrogen phosphate, magnesium monohydrogen phosphate, calcium monohydrogen phosphate, barium monohydrogen phosphate, dihydrogen phosphate Alkali metal phosphate compounds and alkaline earth metal phosphate compounds represented by lithium hydrogen, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, magnesium dihydrogen phosphate, calcium dihydrogen phosphate, barium dihydrogen phosphate, and the like;
Furthermore, organic bases such as aliphatic amines and aromatic amines represented by triethylamine, triethylamine, pyridine, 4- (dimethylamino) pyridine and the like can be mentioned.

これらの中で目的物の収率や経済性の面から好ましものは、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム等である。これらは、単独または二種以上を混合して使用することもできる。
その使用量は、基質に対し2〜5当量が好ましく、特には2〜3当量が高収率で目的生成物を与える。
Among these, sodium carbonate and potassium carbonate are preferred from the viewpoint of the yield and economical efficiency of the target product. These can also be used individually or in mixture of 2 or more types.
The amount used is preferably 2 to 5 equivalents relative to the substrate, and particularly 2 to 3 equivalents gives the desired product in high yield.

また、溶媒として水とアルコール類が好ましい。水の使用量は、基質に対し2〜50質量倍が好ましく、特には2〜5質量倍が好ましい。アルコール類としては、炭素数1〜10の脂肪族鎖状第一級または、第二級アルコールが好ましい。具体的には、基質のリン酸エステル基のアルキル基と同じアルキルアルコールを用いることが好ましい。例えば、基質が3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチルの場合はメタノールが、基質が3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチルの場合はエタノールが好ましい。その使用量は、基質に対し2〜50質量倍が好ましく、特には2〜10質量倍が好ましい。 Moreover, water and alcohols are preferable as the solvent. The amount of water used is preferably 2 to 50 times, more preferably 2 to 5 times, the substrate. As the alcohol, an aliphatic chain primary or secondary alcohol having 1 to 10 carbon atoms is preferable. Specifically, it is preferable to use the same alkyl alcohol as the alkyl group of the phosphate group of the substrate. For example, when the substrate is dimethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, methanol is preferable, and when the substrate is diethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, ethanol is preferable. The amount used is preferably 2 to 50 times by mass, and particularly preferably 2 to 10 times by mass with respect to the substrate.

反応温度は、0〜200℃間で行うのが好ましく、特には50〜150℃間で行うのが好ましい。反応時間は、反応温度に依存するが、通常2〜24時間で終了する。   The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, and particularly preferably 50 to 150 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually completed in 2 to 24 hours.

反応終了後は、溶媒を留去した後、水を加えてから塩酸水溶液を滴下し酸性にし、得られた結晶をろ過するか、酸性にしてから酢酸エチルやメチルイソブチルケトン(MIBK)等で抽出した後濃縮することにより、目的の生成物が得られる。更に必要により再結晶法で精製することができる。 After completion of the reaction, the solvent is distilled off, water is added, and then an aqueous hydrochloric acid solution is added dropwise to make the solution acidic. The resulting crystals are filtered or made acidic and then extracted with ethyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK) or the like. And then concentrating to obtain the desired product. Further, it can be purified by recrystallization if necessary.

次にスキーム(2)の3,5−ビス(アルコキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物の加水分解による3,5−ジカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物の製造法について述べる。   Next, a method for producing a 3,5-dicarboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound by hydrolysis of the 3,5-bis (alkoxycarbonyl) phenylphosphonic acid dialkyl ester compound of Scheme (2) will be described.

塩基2は、アルカリ金属水酸化物であり、具体的には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム及び水酸化セシウム等である。特に好ましくは、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムである。
その使用量は、基質に対し3〜10当量が好ましく、特には3〜6当量が高収率で目的生成物を与える。
The base 2 is an alkali metal hydroxide, specifically, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, and the like. Particularly preferred are sodium hydroxide and potassium hydroxide.
The amount used is preferably 3 to 10 equivalents relative to the substrate, and particularly 3 to 6 equivalents gives the desired product in high yield.

また、溶媒としては水とアルコール類が好ましい。水の使用量は、基質に対し2〜50質量倍が好ましく、特には2〜5質量倍が好ましい。アルコール類としては、炭素数1〜10の脂肪族鎖状第一級または、第二級アルコールが好ましい。具体的には、基質のリン酸エステル基のアルキル基と同じアルキルアルコールを用いることが好ましい。例えば、基質が3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジメチルの場合はメタノールが、基質が3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホン酸ジエチルの場合はエタノールが好ましい。その使用量は、基質に対し2〜50質量倍が好ましく、特には2〜10質量倍が好ましい。 Moreover, as a solvent, water and alcohol are preferable. The amount of water used is preferably 2 to 50 times, more preferably 2 to 5 times, the substrate. As the alcohol, an aliphatic chain primary or secondary alcohol having 1 to 10 carbon atoms is preferable. Specifically, it is preferable to use the same alkyl alcohol as the alkyl group of the phosphate group of the substrate. For example, when the substrate is dimethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, methanol is preferable, and when the substrate is diethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate, ethanol is preferable. The amount used is preferably 2 to 50 times by mass, and particularly preferably 2 to 10 times by mass with respect to the substrate.

反応温度は、0〜200℃間で行うのが好ましく、特には50〜150℃間で行うのが好ましい。反応時間は、反応温度に依存するが、通常2〜24時間で終了する。   The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, and particularly preferably 50 to 150 ° C. The reaction time depends on the reaction temperature, but is usually completed in 2 to 24 hours.

反応終了後は、溶媒を留去してから、水を加えてから塩酸水溶液を滴下し酸性にし、得られた結晶をろ過するか、酸性にしてから酢酸エチルやメチルイソブチルケトン(MIBK)等で抽出した後濃縮することにより、目的の生成物が得られる。更に必要により再結晶法で精製することができる。 After completion of the reaction, the solvent is distilled off, water is added and then an aqueous hydrochloric acid solution is added dropwise to make the solution acidic. The resulting crystals are filtered or made acidic and then ethyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK) or the like. Extraction and concentration yields the desired product. Further, it can be purified by recrystallization if necessary.

次にスキーム3について述べる。
スキーム2で得られた3,5−ジカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステルを、酸触媒の存在下アルキルアルコールでエステル化し、3,5−ビス(アルコキシカルボニル)フェニルホスホン酸モノアルキルエステルを得る製法である。
Next, scheme 3 will be described.
The 3,5-dicarboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester obtained in Scheme 2 is esterified with an alkyl alcohol in the presence of an acid catalyst to give 3,5-bis (alkoxycarbonyl) phenylphosphonic acid monoalkyl ester. is there.

アルキルアルコールとしては、炭素数1〜20の第一級または第二級アルキルアルコール類が挙げられる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、エイコサノール等の第一級又は第二級アルコール類が挙げられる。特には、メタノールやエタノールが好ましい。その使用量は、基質に対し1〜50質量倍が好ましく、特には2〜10重量倍が好ましい。 Examples of the alkyl alcohol include primary or secondary alkyl alcohols having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples include primary or secondary alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, amyl alcohol, hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, and eicosanol. In particular, methanol and ethanol are preferable. The amount used is preferably 1 to 50 times by mass, and particularly preferably 2 to 10 times by mass with respect to the substrate.

酸触媒としては、塩酸、硫酸及び燐酸等の無機酸類が好ましく、特には硫酸が好ましい。その使用量は、基質に対し0.01〜50質量%が好ましく、特には1〜30質量%が好ましい。 As the acid catalyst, inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid are preferable, and sulfuric acid is particularly preferable. The amount used is preferably 0.01 to 50% by mass, particularly 1 to 30% by mass, based on the substrate.

反応温度は、0℃〜200℃で可能であるが、特には50〜180℃のアルコール類の沸点で反応を行うのが好ましい。
反応時間は、液体クロマトグラフィー等の反応液の分析結果から決定することができ、通常1〜30時間で終了させることができる。
The reaction temperature can be 0 ° C. to 200 ° C., but the reaction is particularly preferably carried out at the boiling point of alcohols of 50 to 180 ° C.
The reaction time can be determined from the analysis result of the reaction solution such as liquid chromatography, and can usually be completed in 1 to 30 hours.

反応終了後は、濃縮により残余アルコール類を留去後、その残査に酢酸エチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)又はトルエン等で抽出した後濃縮することにより、目的の生成物が得られる。更に必要により再結晶法やカラムクロマトグラフィー法で精製することができる。
以上述べた本発明の反応及び精製は、回分式でも連続式でも可能である。
又、反応は常圧でも加圧でも行うことができる。
After completion of the reaction, the residual alcohols are distilled off by concentration, and the residue is extracted with ethyl acetate, methyl isobutyl ketone (MIBK), toluene or the like and then concentrated to obtain the desired product. Further, it can be purified by recrystallization or column chromatography if necessary.
The reaction and purification of the present invention described above can be performed batchwise or continuously.
The reaction can be carried out at normal pressure or at elevated pressure.

以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
尚、実施例で用いた分析法は以下の通りである。
[1] [ガスクロマトグラフィー (GC)]
機種: Shimadzu GC-17A, Column : キャピラリカラム CBP1-W25-100 ( 25 m x 0.53 mm φx 1μm ), カラム温度: 100℃( 保持 2 min.)- 8℃/min. ( 昇温速度 )-290℃( 保持10 min. ), 注入口温度 : 290 ℃, 検出器温度 : 290 ℃, キャリアガス : ヘリウム, 検出法 : FID 法.
[2] [質量分析 (MASS)]
機種: LX-1000 (JEOL Ltd.), 検出法: FAB 法.
[3] [1H NMR]
機種: INOVA500 (VARIAN Corp.), 測定溶媒: DMSO-d6
[4] [13C NMR]
機種: INOVA500 (VARIAN Corp.), 測定溶媒: DMSO-d6
[5][融点(mp)]
測定機器: 自動融点測定装置、FP62 (METTLER TOLEDO)
[6] [液体クロマトグラフィー (LC)]
機種: Shimadzu LC-10A, Column : YMC-Pack ODS-AM(S-5μm, 120A, AM-303, AM12S05-2546WT ) ( 250 mm x 4.6 mm φ ), カラム温度: 40℃, 検出器波長 : UV 230 nm, 溶離液: H2O/CH3CN=1/2, 流速:0.5ml/min.
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
The analytical methods used in the examples are as follows.
[1] [Gas chromatography (GC)]
Model: Shimadzu GC-17A, Column: Capillary column CBP1-W25-100 (25 mx 0.53 mm φx 1μm), Column temperature: 100 ℃ (holding 2 min.)-8 ℃ / min. (Raising rate) -290 ℃ (Holding 10 min.), Inlet temperature: 290 ° C, detector temperature: 290 ° C, carrier gas: helium, detection method: FID method.
[2] [Mass Spectrometry (MASS)]
Model: LX-1000 (JEOL Ltd.), Detection method: FAB method.
[3] [ 1 H NMR]
Model: INOVA500 (VARIAN Corp.), Measuring solvent: DMSO-d 6
[4] [ 13 C NMR]
Model: INOVA500 (VARIAN Corp.), Measuring solvent: DMSO-d 6
[5] [Melting point (mp)]
Measuring instrument: Automatic melting point measuring device, FP62 (METTLER TOLEDO)
[6] [Liquid chromatography (LC)]
Model: Shimadzu LC-10A, Column: YMC-Pack ODS-AM (S-5μm, 120A, AM-303, AM12S05-2546WT) (250 mm x 4.6 mm φ), Column temperature: 40 ℃, Detector wavelength: UV 230 nm, eluent: H 2 O / CH 3 CN = 1/2, flow rate: 0.5 ml / min.

実施例1

Figure 0004553104
Example 1
Figure 0004553104

300mLガラス製四つ口反応フラスコにジエチル3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニルホスホネート(DE3,5−BMPP)16.50g(50.0mmol)、エタノール116g、炭酸カリウム17.3g(125mmol)及び水52gを仕込み、内温75℃(油浴100℃)で7時間還流した。濃縮後酢酸エチルと水を加えてから塩酸水を滴下し酸性にしてから、有機層を分液した。更に水洗後濃縮すると白色結晶12.1g(収率80.1%)が得られた。この結晶はLC分析すると原料DE3,5−BMPPが消失し、新たな単一のピークが出現した。
この生成物は下記の結果からジエチル3,5−ジカルボキシフェニルホスホネート(DE3,5−DCPP)であることを確認した。
In a 300 mL glass four-necked reaction flask, 16.50 g (50.0 mmol) of diethyl 3,5-bis (methoxycarbonyl) phenylphosphonate (DE3,5-BMPP), 116 g of ethanol, 17.3 g (125 mmol) of potassium carbonate and water 52 g was charged and refluxed at an internal temperature of 75 ° C. (oil bath 100 ° C.) for 7 hours. After concentration, ethyl acetate and water were added, hydrochloric acid was added dropwise to make the solution acidic, and the organic layer was separated. After further washing with water and concentration, 12.1 g (yield 80.1%) of white crystals were obtained. When this crystal was analyzed by LC, the raw material DE3,5-BMPP disappeared and a new single peak appeared.
This product was confirmed to be diethyl 3,5-dicarboxyphenylphosphonate (DE3,5-DCPP) from the following results.

MASS(FAB-, m/e(%)) : 301([M-H]-, 100), 257(36), 153(40).
1H NMR(DMSO-d6,δppm) : 1.23(t, J=7.03Hz, 6H), 4.03-4.09(m, 4H), 8.39(dd, J1=1.83Hz, J2=13.19Hz, 2H), 8.62(d, J=0.61Hz, 1H), 13.6(brs, 2H).
13C NMR(DMSO-d6,δppm) : 16.1472, 16.1929, 62.3323, 62.3858, 129.3401(0.5本分), 130.8433(0.5本分), 131.9344, 132.0488, 133.3994, 135.4671, 135.5511, 165.7282(2本分).
mp.(℃):214-215
MASS (FAB -, m / e (%)): 301 ([MH] -, 100), 257 (36), 153 (40).
1 H NMR (DMSO-d 6 , δppm): 1.23 (t, J = 7.03Hz, 6H), 4.03-4.09 (m, 4H), 8.39 (dd, J 1 = 1.83Hz, J 2 = 13.19Hz, 2H ), 8.62 (d, J = 0.61Hz, 1H), 13.6 (brs, 2H).
13 C NMR (DMSO-d 6 , δppm): 16.1472, 16.1929, 62.3323, 62.3858, 129.3401 (0.5), 130.8433 (0.5), 131.9344, 132.0488, 133.3994, 135.4671, 135.5511, 165.7282 (2) .
mp. (℃): 214-215

実施例2〜13

Figure 0004553104
Examples 2-13
Figure 0004553104

50mLガラス製四つ口反応フラスコにDE3,5−BMPP0.99g(3.0mmol)、エタノール10g、塩基及び水5gを仕込み、内温75℃(油浴100℃)で7時間還流した。濃縮後酢酸エチルと水を加えてから塩酸水を滴下し酸性にしてから、有機層を分液した。更に水洗後濃縮すると白色結晶が得られた。この結晶をLC分析により純度を測定し、DE3,5−DCPPの収率を算出した。以下に、それらの結果を示す。   A 50 mL glass four-necked reaction flask was charged with 0.99 g (3.0 mmol) of DE3,5-BMPP, 10 g of ethanol, 5 g of base and water, and refluxed at an internal temperature of 75 ° C. (oil bath 100 ° C.) for 7 hours. After concentration, ethyl acetate and water were added, hydrochloric acid was added dropwise to make the solution acidic, and the organic layer was separated. After further washing with water and concentration, white crystals were obtained. The purity of this crystal was measured by LC analysis, and the yield of DE3,5-DCPP was calculated. The results are shown below.

表1 DE3,5−DCPP生成への塩基の効果

Figure 0004553104
Table 1 Effect of base on DE3,5-DCPP production
Figure 0004553104

実施例14

Figure 0004553104
Example 14
Figure 0004553104

300mLガラス製四つ口反応フラスコにジエチルDE3,5−BMPP16.5g(50mmol)、エタノール83g、水酸化ナトリウム9.0g(225mmol)及び水27gを仕込み、内温75℃(油浴100℃)で18時間還流した。濃縮後酢酸エチルと水を加えてから塩酸水を滴下し酸性にしてから、析出した結晶をろ過により分離し、酢酸エチルと水で洗浄した後乾燥すると白色結晶13.3g(収率97.1%)が得られた。この結晶はLC分析すると原料DE3,5−BMPPが消失し、新たな単一のピークが出現した。
この生成物は下記の結果からエチル3,5−ジカルボキシフェニルホスホネート(E3,5−DCPP)であることを確認した。
A 300 mL glass four-necked reaction flask was charged with 16.5 g (50 mmol) of diethyl DE3,5-BMPP, 83 g of ethanol, 9.0 g (225 mmol) of sodium hydroxide and 27 g of water, and an internal temperature of 75 ° C. (oil bath 100 ° C.). Refluxed for 18 hours. After concentration, ethyl acetate and water were added, and hydrochloric acid was added dropwise to make the solution acidic. The precipitated crystals were separated by filtration, washed with ethyl acetate and water, and dried to give 13.3 g of white crystals (yield 97.1). %)was gotten. When this crystal was analyzed by LC, the raw material DE3,5-BMPP disappeared and a new single peak appeared.
This product was confirmed to be ethyl 3,5-dicarboxyphenylphosphonate (E3,5-DCPP) from the following results.

MASS(FAB-, m/e(%)) : 273([M-H]-, 100), 229(54).
1H NMR(DMSO-d6,δppm) : 1.03 (t, J=7.03Hz, 3H), 3.61-3.67(m, 2H), 8.43(s, 1H), 8.49 (dd, J1=1.53Hz, J2=11.61Hz, 2H), 13.60(brs, 3H).
13C NMR(DMSO-d6,δppm) : 16.5820(0.5本分), 16.6354(0.5本分), 59.0894, 130.5227(1.5本分), 131.0110(1本分), 131.1102(1.5本分), 135.8180, 135.8943, 166.8192(2本分).
mp.(℃):234-235
MASS (FAB -, m / e (%)): 273 ([MH] -, 100), 229 (54).
1 H NMR (DMSO-d 6 , δppm): 1.03 (t, J = 7.03Hz, 3H), 3.61-3.67 (m, 2H), 8.43 (s, 1H), 8.49 (dd, J 1 = 1.53Hz, J 2 = 11.61Hz, 2H), 13.60 (brs, 3H).
13 C NMR (DMSO-d 6 , δppm): 16.5820 (for 0.5), 16.6354 (for 0.5), 59.0894, 130.5227 (for 1.5), 131.0110 (for 1), 131.1102 (for 1.5), 135.8180 , 135.8943, 166.8192 (for 2 bottles).
mp. (℃): 234-235

実施例15〜17

Figure 0004553104
Examples 15-17
Figure 0004553104

50mLガラス製四つ口反応フラスコにDE3,5−BMPP0.99g(3.0mmol)、エタノール10g、塩基及び水5gを仕込み、内温75℃(油浴100℃)で7時間還流した。濃縮後酢酸エチルと水を加えてから塩酸水を滴下し酸性にしてから、有機層を分液した。更に水洗後濃縮すると白色結晶が得られた。この結晶をLC分析により純度を測定し、E3,5−DCPPの収率を算出した。以下に、それらの結果を示す。   A 50 mL glass four-necked reaction flask was charged with 0.99 g (3.0 mmol) of DE3,5-BMPP, 10 g of ethanol, 5 g of base and water, and refluxed at an internal temperature of 75 ° C. (oil bath 100 ° C.) for 7 hours. After concentration, ethyl acetate and water were added, hydrochloric acid was added dropwise to make the solution acidic, and the organic layer was separated. After further washing with water and concentration, white crystals were obtained. The purity of this crystal was measured by LC analysis, and the yield of E3,5-DCPP was calculated. The results are shown below.

表2 E3,5−DCPP生成への塩基の効果

Figure 0004553104
Table 2 Effect of base on E3,5-DCPP formation
Figure 0004553104

実施例18

Figure 0004553104
Example 18
Figure 0004553104

300mLガラス製四つ口反応フラスコにE3,5−DCPP11.4g(41.5mmol)、エタノール93g及び98%濃硫酸2.0gを仕込み、内温75℃(油浴100℃)で30時間還流した。室温で一夜静置後、不溶結晶を濾別し、得られた濾液を濃縮乾燥すると白色結晶が得られた。この残渣に酢酸エチルと水を加えて溶解してから、有機層を分液し、更に水洗を4回繰り返した後濃縮するとLCで単一ピークの白色結晶12.2g(収率89.1%)が得られた。更に、酢酸エチル/水=1/1に加温溶解後、濃縮して行くと結晶が析出し始め、これを氷冷してから濾取・乾燥すると白色結晶11.5g(収率83.9%)が得られた。この結晶は下記の結果からエチル3,5−ビス(エトキシカルボニル)フェニルホスホネート(E3,5−BEPP)であることを確認した。 A 300 mL glass four-necked reaction flask was charged with 11.4 g (41.5 mmol) of E3,5-DCPP, 93 g of ethanol and 2.0 g of 98% concentrated sulfuric acid, and refluxed at an internal temperature of 75 ° C. (oil bath 100 ° C.) for 30 hours. . After standing overnight at room temperature, insoluble crystals were filtered off, and the obtained filtrate was concentrated and dried to obtain white crystals. The residue was dissolved by adding ethyl acetate and water, and the organic layer was separated, further washed with water 4 times, and concentrated to give 12.2 g of white crystals having a single peak by LC (yield 89.1%). )was gotten. Further, after heating and dissolving in ethyl acetate / water = 1/1, when the solution is concentrated, crystals start to precipitate. After cooling with ice, the crystals are filtered and dried to yield 11.5 g of white crystals (yield 83.9 %)was gotten. This crystal was confirmed to be ethyl 3,5-bis (ethoxycarbonyl) phenylphosphonate (E3,5-BEPP) from the following results.

MASS(FAB+, m/e(%)) : 331([M+H]+, 100), 303(33).
1H NMR(DMSO-d6,δppm) : 1.35 (t, J=7.03Hz, 3H), 1.44(t, J=7.18Hz, 6H), 4.14-4.20(m, 2H), 4.44(dd, J1=7.18Hz, J2=14.21Hz, 4H), 8.64(dd, J1=1.53Hz, J2=13.75Hz, 2H), 8.82(dd, J1=1.68Hz, J2=2.60Hz, 1H), 12.27(brs, 1H).
13C NMR(DMSO-d6,δppm) : 14.1099(2本分), 16.0022(0.5本分), 16.0556(0.5本分), 61.5999(2本分), 62.5307(0.5本分), 62.5765(0.5本分),130.8204, 131.1256, 131.2477, 133.9106, 136.0776, 136.5354, 164.6753, 168.6430.
mp.(℃):111-112
MASS (FAB + , m / e (%)): 331 ([M + H] + , 100), 303 (33).
1 H NMR (DMSO-d 6 , δppm): 1.35 (t, J = 7.03Hz, 3H), 1.44 (t, J = 7.18Hz, 6H), 4.14-4.20 (m, 2H), 4.44 (dd, J 1 = 7.18Hz, J 2 = 14.21Hz, 4H), 8.64 (dd, J 1 = 1.53Hz, J 2 = 13.75Hz, 2H), 8.82 (dd, J 1 = 1.68Hz, J 2 = 2.60Hz, 1H ), 12.27 (brs, 1H).
13 C NMR (DMSO-d 6 , δppm): 14.1099 (for 2), 16.0022 (for 0.5), 16.0556 (for 0.5), 61.5999 (for 2), 62.5307 (for 0.5), 62.5765 (0.5) 130.8204, 131.1256, 131.2477, 133.9106, 136.0776, 136.5354, 164.6753, 168.6430.
mp. (℃): 111-112

Claims (2)

式[7]
Figure 0004553104

(式中、R1及びR2は炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物を、50〜150℃にてアルカリ金属水酸化物で加水分解することを特徴とする式[2]
Figure 0004553104

(式中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物の製造法。
Formula [7]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
A dialkyl ester compound represented by formula (2) is hydrolyzed with an alkali metal hydroxide at 50 to 150 ° C. [2]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
The manufacturing method of the carboxyphenylphosphonic acid monoalkylester compound represented by these.
式[7]
Figure 0004553104

(式中、R1及びR2は炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸ジアルキルエステル化合物を、50〜150℃にてアルカリ金属水酸化物で加水分解し、式[2]
Figure 0004553104

(式中、R1は炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるカルボキシフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物を得、得られた式[2]で表される化合物を、式[8]
Figure 0004553104

(式中、R3は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)
で表されるアルキルアルコールと酸触媒下反応させることを特徴とする、式[3]
Figure 0004553104

(式中、R1及びR3は炭素数1〜20のアルキル基を表し、nは1〜2の整数を表す。)
で表されるアルコキシカルボニルフェニルホスホン酸モノアルキルエステル化合物の製造法。
Formula [7]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
The alkoxycarbonylphenylphosphonic acid dialkyl ester compound represented by formula (2) is hydrolyzed with an alkali metal hydroxide at 50 to 150 ° C. , and the formula [2]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2).
A carboxyphenylphosphonic acid monoalkyl ester compound represented by the formula [2] was obtained, and the resulting compound represented by the formula [2]
Figure 0004553104

(In the formula, R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.)
The reaction is carried out in the presence of an acid catalyst with an alkyl alcohol represented by the formula [3]
Figure 0004553104

(In the formula, R 1 and R 3 represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 2)
The manufacturing method of the alkoxycarbonylphenylphosphonic acid monoalkylester compound represented by these.
JP2004028961A 2004-02-05 2004-02-05 Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound Expired - Fee Related JP4553104B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004028961A JP4553104B2 (en) 2004-02-05 2004-02-05 Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004028961A JP4553104B2 (en) 2004-02-05 2004-02-05 Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005220064A JP2005220064A (en) 2005-08-18
JP4553104B2 true JP4553104B2 (en) 2010-09-29

Family

ID=34995975

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004028961A Expired - Fee Related JP4553104B2 (en) 2004-02-05 2004-02-05 Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4553104B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100812182B1 (en) * 2006-10-27 2008-03-12 한국기계연구원 Vapor Deposition of Self-assembled Monolayers for Improving Surface Functionality in Nanoimprints

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001288616A (en) * 2000-03-31 2001-10-19 Toray Ind Inc Method for producing modified polyester fiber
WO2003000705A1 (en) * 2001-06-21 2003-01-03 Ariad Pharmaceuticals, Inc. Novel quinolines and uses thereof

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4092516B2 (en) * 1998-04-01 2008-05-28 日産化学工業株式会社 Heat-resistant phosphorus-containing polyamide copolymer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001288616A (en) * 2000-03-31 2001-10-19 Toray Ind Inc Method for producing modified polyester fiber
WO2003000705A1 (en) * 2001-06-21 2003-01-03 Ariad Pharmaceuticals, Inc. Novel quinolines and uses thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005220064A (en) 2005-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0855400B1 (en) Phenylphosphonic acid derivative and production process therefor
US6274745B1 (en) Binaphthol monophosphoric acid derivative and its use
JP4553104B2 (en) Process for producing carboxyphenylphosphonic acid monoester compound
US20150166584A1 (en) Method for the synthesis of n-phosphonomethyliminodiacetic acid
JPH02101087A (en) Continuous production method of 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid and its alkali metal salts
JP4196133B2 (en) Phenylphosphonic acid derivative and method for producing the same
KR101864260B1 (en) Phosphoric acid ester production method
JP5408821B2 (en) Naphthalocyanine compound and method for producing the same
JP5674823B2 (en) Method for producing aromatic amide carboxylic acid derivative
JP4132327B2 (en) Phenylenebis (phosphonic acid) compound and method for producing the same
SU1353779A1 (en) Method of obtaining c-alkyl ethers of phosphon-acetic acids
TWI501973B (en) Method for producing n-substituted-2-amino-4-(hydroxymethylphosphinyl)-2- butenoic acid
KR101134021B1 (en) Manufacturing method of pitavastatin hemicalcium using novel intermediates
WO2012111265A1 (en) Method of producing alkyl phosphonic acid, aralkyl phosphonic acid and salts of these
US20010031887A1 (en) Optically active phosphate derivative and its use
US5235085A (en) Process for forming bis(pentaerythritol phosphate) carbonate
US4451410A (en) Process for preparing condensed polyalkoxyphosphazene
JPH03279390A (en) Preparation of n-alkyl substituted aminomethylphosphonic acid derivative
EP1871757B1 (en) Process for the manufacture of hydroxylated isoflavones
JP2000095788A (en) Production of phenylphosphonic acid
KR20100125770A (en) Flame retardant phosphapphenanthrene compound and preparation method thereof
PL208807B1 (en) Method for the manufacture of alkylamine methylene bisfphosphonic acid tetraalkyl esters
JPWO2004069780A1 (en) Process for producing branched adipic acid
JP2013180965A (en) 2-disubstituted phosphoryl-1,4-dihydroxynaphthalene compound and manufacturing method for the same
SU1293187A1 (en) Method of producing beta-nitroalkylphosphorylic compounds

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061212

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091111

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100405

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100623

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723

Year of fee payment: 3

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100706

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees