JP4540140B2

JP4540140B2 - Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法

Info

Publication number: JP4540140B2
Application number: JP34171698A
Authority: JP
Inventors: 守立川; 香須美武井
Original assignee: Dow Corning Corp
Current assignee: Dow Silicones Corp
Priority date: 1998-12-01
Filing date: 1998-12-01
Publication date: 2010-09-08
Anticipated expiration: 2018-12-01
Also published as: EP1006118A3; US6111126A; DE69907610D1; DE69907610T2; EP1006118A2; EP1006118B1; JP2000159781A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は物性の改良および反応性の付与を目的として不飽和化合物とシラン化合物とを反応させる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
シラン化合物により有機化合物を化学修飾する方法としては、一般にヒドロシリル化反応が有効に用いられる。この場合、Ｓｉ−Ｈ官能性シランと不飽和結合を有する有機化合物とのヒドロシリル化反応による方法が用いられる。この方法はかなり広範なＳｉ−Ｈ化合物及び不飽和結合を有する有機化合物に適用可能である。工業的に用いられるヒドロシリル化反応には一般に白金あるいはロジウム触媒が用いられるが、これらの金属は非常に高価であり、従って、ヒドロシリル化反応は、その触媒効率が非常に高いことが重要である。また、ヒドロシリル化反応にはしばしば、競争的な副反応があり、また、ヒドロシリル化反応自体に複数の異性体を生成する反応経路があり、そのため、ヒドロシリル化反応に於いては常に、生成物の収率、選択性、単一異性体の生成等の触媒に関する問題がある。これらを改良、改善する目的で、触媒に種々の配位子を化学結合させたり、添加したり、または、各種異なった担体上に触媒を固定する等の触媒の修飾が行われている。しかし、一般に、このような化学的または物理的な修飾は（１）暫時その効果が失われていく、（２）一般的に選択性の良い触媒ほど活性が低い、という問題点を有しており、これら以外にも、白金触媒が無酸素条件で徐々に失活するため、副反応の惹起、火炎の危険性にも拘わらず、ヒドロシリル化反応を酸素存在下でおこなわざるを得ないという問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、白金触媒を用いる不飽和基を有する有機化合物とＨ−Ｓｉ官能性ケイ素化合物とのヒドロシリル化反応において、高い触媒活性および安定性を発現し、かつ、ヒドロシリル化反応生成物の位置選択性を高める反応方法を提供することである。また、酸素を添加することなくこれらの効果を達成し、ヒドロシリル化反応における火災、爆発等の危険を低減することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記式（１）で示されるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物の存在下に、白金触媒の作用により、不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物と、下記式（２）で示されるヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物とをヒドロシリル化反応させる、Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法である。
ＨＳｉＲ_n （Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹ ）_3-n （１）
（但し、ここで、ｎは０，１又は２であり、Ｒはそれぞれ独立に炭素数１以上６以下の炭化水素基及び炭素数１以上６以下のアルコキシ基から選ばれる置換基であり、Ｒ¹ はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１以上２０以下の飽和若しくは不飽和の炭化水素基である。）
ＨＲ² _m Ｓｉ（ＯＲ³ ）_3-m （２）
（但し、ここで、ｍは０，１又は２であり、Ｒ² はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の炭化水素基、Ｒ³ はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の炭化水素基である。）
【０００５】
本発明においては、前記（１）ヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物ＨＳｉＲ_n（Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹）_3-nと、前記（２）ヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物ＨＲ² _mＳｉ（ＯＲ³）_3-mの組合せは特に限定されない。例えば、ＨＳｉ（Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹）₃の存在下で反応に供するＨＲ² _mＳｉ（ＯＲ³）_3-mは、ＨＳｉ（ＯＲ³）₃（ｍ＝０のとき）、ＨＲ²Ｓｉ（ＯＲ³）₂（ｍ＝１のとき）、及びＨＲ² ₂Ｓｉ（ＯＲ³）（ｍ＝２のとき）のいずれであってもかまわない。ＨＳｉＲ（Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹）₂及びＨＳｉＲ₂（Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹）についても同様である。
【０００６】
前記不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物（以下、「不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機化合物」を「不飽和化合物」と呼ぶ。）の好ましい具体例としては下記▲１▼〜▲８▼を挙げることができる：
▲１▼スチレンまたはスチレンの誘導体、
▲２▼ビニルシラン化合物、
▲３▼ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物、
▲４▼エポキシ官能性オレフィン、
▲５▼ジエン化合物、
▲６▼ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｘで示されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基またはアシルオキシ基を表す。）、
▲７▼末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物、及び
▲８▼アセチレン系化合物；
【０００７】
前記不飽和化合物は、前記ヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物との反応性を著しく低下させるもので無い限り、その構造中に炭素原子及び水素原子の他にＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，ＳｉまたはＳから選ばれる原子を含んでいても構わない。但し、▲６▼については上記の記載に従う。
【０００８】
前記スチレンまたはスチレン誘導体の例としては、スチレン系炭化水素化合物、例えばスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ジビニルベンゼン等；ハロゲン含有スチレン、例えばｐ−フルオロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｐ−ヨードスチレン、ｐ−およびｍ−（クロロメチル）スチレン等；含酸素又は含ケイ素スチレン誘導体、例えばｐ−メトキシスチレン、ｐ−トリメチルシリルスチレン等；含窒素スチレン誘導体、例えばｐ−（ジフェニルアミノ）スチレン、ｐ−（ジトリルアミノ）スチレン、ｐ−（ジキシリルアミノ）スチレン、ビス（４−ビニルフェニル）（４−メチルフェニル）アミン等を例示できる。
【０００９】
前記ビニルシラン化合物、およびケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物としては、ビニルトリアルキルシラン、例えばビニルトリメチルシラン、ビニルトリエチルシラン、ビニルトリプロピルシラン、ビニルジメチルエチルシラン等；ビニルアルコキシシラン、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルジメチルメトキシシラン等；ビニル官能性シロキサン、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン等；及びビニル官能性シラザン（これは一種のビニルシランと見ることができる）、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラジシラザン等を例示できる。
【００１０】
前記エポキシ官能性オレフィンの例としては、アリルグリシジルエーテル及びビニルシクロヘキセンオキシドを挙げることできる。前記ジエン化合物としては１，３−ブタジエン、イソプレン、１，５−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、及び１，３−シクロヘキサジエンを挙げることができる。前記ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｘで示されるアリル化合物としては、塩化アリル、アリルアセテート、アリルメタクリレートを挙げることができる。
【００１１】
前記末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物は、直鎖状または分岐状のいずれでも構わない。また、これらは置換基に芳香族炭化水素基を有していても構わない。直鎖の末端不飽和オレフィン化合物の例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ヘキセン−１、オクテン−１及びオクタデセン−１を挙げることができる。末端不飽和基を有する分岐オレフィン化合物の例としては、イソブチレン、３−メチルブテン−１、３，５−ジメチルヘキセン−１及び４−エチルオクテン−１を挙げることができる。
【００１２】
上記オレフィン化合物がＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｓｉ，Ｓから選ばれる原子を含んでいる場合の例として、含酸素アリル化合物、例えばアリルメタクリレート；ビニル基を有するアミン化合物、例えばＮ−ビニルカルバゾール；オレフィンのハロゲン化物、例えば４−クロロブテン−１及び６−ブロモヘキセン−１；ケイ素官能性オレフィン化合物、例えばアリロキシトリメチルシラン；イオウ含有オレフィン化合物、例えばアリルメルカプタン及びアリルスルフィドが挙げられる。上記オレフィン化合物が芳香族炭化水素基を有する場合の例としては、アリルベンゼン及び４−フェニルブテン−１を挙げることができる。
【００１３】
前記アセチレン系化合物は、末端にエチニル基（ＣＨ≡Ｃ−）を有するものか、または分子内にエチニレン基（−Ｃ≡Ｃ−）を有するものであり、これらは置換基に芳香族炭化水素基を有していても構わない。
末端にエチニル基（ＣＨ≡Ｃ−）を有するアセチレン系化合物の例としては、アセチレン、プロピン、ブチン−１、ヘキシン−１及びオクチン−１を挙げることができる。分子内にエチニレン基（−Ｃ≡Ｃ−）を有するアセチレン系化合物の例としては、ブチン−２、ヘキシン−２、ヘキシン−３及びオクチン−４を挙げることができる。芳香族炭化水素基を有するアセチレン系化合物の例としては、フェニルアセチレン、３−フェニルプロピン及び４−フェニルブチン−１を挙げることができる。上記アセチレン系化合物がＯ，Ｎ，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｓｉ，Ｓから選ばれる原子を含んでいる場合の例としては、含酸素アセチレン系化合物、例えば３−メチル−１−ブチン−３−オール及び３−フェニル−１−ブチン−３−オール；含ケイ素アセチレン系化合物、例えば３−メチル−１−ブチン−３−オールのＯ−トリメチルシリル化物（ＨＣ≡Ｃ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃）及び３−フェニル−１−ブチン−３−オールのＯ−トリメチルシリル化物（ＨＣ≡Ｃ−Ｃ（ＣＨ₃）（Ｃ₆Ｈ₅）−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ₃)₃）；並びに含ハロゲンアセチレン系化合物、例えば塩化プロパルギル及び臭化プロパルギルを挙げることができる。
【００１４】
本発明で用いるヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物は前記一般式（２）
ＨＳｉＲ² _m （ＯＲ³ ）_3-m （２）
で示されるものであり、ケイ素原子に直接結合した水素原子とこのケイ素原子に結合するＯＲ³ で表わされる少なくとも１個のハイドロカーボンオキシ基を有するケイ素化合物である。同一のケイ素原子に互いに異なるハイドロカーボンオキシ基が結合していても構わない。式（２）においてＲ³ は、炭素原子数１以上１０以下の炭化水素基であり；Ｒ² はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の炭化水素基であり、好ましくは、次の（ア）である。
（ア）炭素原子および水素原子以外の異原子が結合している炭化水素基であって炭素原子の合計が１以上１０以下のもの。この様な異原子の例としては、Ｏ，Ｎ，Ｓ，Ｆ，Ｃ１，Ｂｒ，ＩまたはＳｉから選ばれる原子が挙げられる。該原子の該炭化水素基における結合位置は末端基、側鎖、主鎖骨格のいずれであっても構わない。Ｒ² についても、ｍ＝２のときは、同一のケイ素原子上に互に異なる炭化水素基が結合していても構わない。Ｒ² は上記炭化水素基の内アルキル基であることが好ましい。
【００１５】
Ｒ³としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基、２−プロペニル基、ヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基などを例示することが出来る。
【００１６】
Ｒ²の例として、上記Ｒ³の例及びクロロメチル基、４−クロロフェニル基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチル基等を挙げることができる。
【００１７】
ヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物の具体例を以下に挙げるがこれらに限定されるものではない。トリハイドロカーボンオキシシランとしては、トリアルコキシシラン、トリアルケノキシシラン、およびトリアリーロキシシラン等があり、具体的にはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリｎ−プロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリイソプロペノキシシラン、トリフェノキシシラン等を例示できる。ジハイドロカーボンオキシシランとしては、ジアルコキシシラン、ジアルケノキシシラン、およびジアリーロキシシラン等があり、具体的にはメチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジｎ−プロポキシシラン、メチルジイソプロペノキシシラン、メチルジフェノキシシラン、エチルジメトキシシラン、エチルジエトキシシラン、ｎ−プルピルジメトキシシラン、ｎ−プルピルジエトキシシラン、メチルジオクチルオキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピルジメトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピルジエトキシシラン、ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ｎ−オクチルジメトキシシラン、ｎ−オクチルジエトキシシラン、ベンジルジメトキシシラン、ベンジルジエトキシシラン、フェネチルジメトキシシラン、フェネチルジエトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン等を例示できる。モノハイドロカーボンオキシシランの例としては、モノアルコキシシラン、モノアルケノキシシラン、およびモノアリーロキシシラン等があり、具体的にはジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルｎ−プロポキシシラン、ジメチルイソプロペノキシシラン、ジメチルフェノキシシラン、ジエチルメトキシシラン、メチルエチルエトキシシラン、ｎ−プルピル（メチル）メトキシシラン、ｎ−プルピル（メチル）エトキシシラン、３，３，３−トリフルオルプロピル（メチル）メトキシシラン、ビス（３，３，３−トリフルオルプロピル）エトキシシラン、ｎ−ヘキシル（メチル）メトキシシラン、ジ（ｎ−ヘキシル）エトキシシラン、ｎ−オクチル（メチル）メトキシシラン、ジ（ｎ−オクチル）エトキシシラン、ベンジル（メチル）メトキシシラン、フェネチル（メチル）メトキシシラン、メチルフェニルメトキシシラン等を例示できる。アルコキシ基、アルケノキシ基、アラルキロキシ基、アリーロキシ基等の２種以上の異なる構造のハイドロカーボンオキシ基を有するハイドロカーボンオキシシランとしてはメトキシジエトキシシラン、ジエトキシプロペノキシシラン、ジメトキシフェノキシシラン、ジメトキシベンジロキシシラン、ジフェノキシプロペノキシシラン、メチルメトキシフェネトキシシラン、等が例示できる。また、これらのシラン化合物のＲがクロロメチル基、４−クロロフェニル基、トリメチルシリルメチル基、２−メトキシエチル基等によって置き換えられたものもあげることができる。
これらのヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物は、その反応性あるいは製造しようとするハイドロカーボンオキシシリル官能性ポリマーの用途によって選択されるものであるが、通常は反応性を考慮してアルコキシシランが好適に使用される。
【００１８】
反応に用いるヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物の量は上記不飽和化合物の有する不飽和基と等量用いてもよいが、反応をより迅速に行い、かつ、完結させる目的で、過剰量（前記不飽和化合物の不飽和基１モル当たり１．１グラム当量ないし１００グラム当量）加え、反応後除去してもよい。
【００１９】
本発明で用いられるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物は、前記式（１）で示されるが、ＨＳｉＲ_n （Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹ ）_3-n （１）
この式において、Ｒは、炭素数１以上６以下の炭化水素基及び炭素数１以上６以下のアルコキシ基から選ばれ、Ｒ¹ は、水素原子、炭素数１以上２０以下の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、少なくとも１個の酸素、ハロゲン、硫黄、ケイ素から選ばれる原子を含んでもよいものである。
【００２０】
前記Ｒの例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基を挙げることができる。Ｒ¹の例としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基を挙げることができる。
【００２１】
本発明で用いられるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物の例としては、ヒドロホルミルオキシシラン、ヒドロアセトキシシラン、ヒドロプロピオニルオキシシラン、ヒドロブチリルオキシシラン、ヒドロラウロイロキシシラン、ヒドロステアロイロキシシラン、ヒドロベンゾイロキシシラン、ヒドロクロロアセトキシシラン、ヒドロジクロロアセトキシシラン、ヒドロトリフルオロアセトキシシラン、ヒドロベンゾイルオキシシランを挙げることができる。
【００２２】
更に具体的には、ヒドロホルミルオキシシランとしてはジメチルホルミルオキシシラン、ジエチルホルミルオキシシラン、メチルフェニルホルミルオキシシラン、メチルメトキシホルミルオキシシラン、メチルエトキシホルミルオキシシラン、メチルイソプロポキシホルミルオキシシラン、ジフェニルホルミルオキシシランを例示でき；ヒドロアセトキシシランとしてはジメチルアセトキシシラン、ジエチルアセトキシシラン、メチルフェニルアセトキシシラン、メチルメトキシアセトキシシラン、メチルエトキシアセトキシシラン、メチルイソプロポキシアセトキシシラン、ジフェニルアセトキシシランを例示でき；ヒドロプロピオニルオキシシランとしてはジメチルプロピオニルオキシシラン、ジエチルプロピオニルオキシシラン、メチルフェニルプロピオニルオキシシラン、メチルメトキシプロピオニルオキシシラン、メチルエトキシプロピオニルオキシシラン、メチルイソプロポキシプロピオニルオキシシラン、ジフェニルプロピオニルオキシシランを例示でき；ヒドロブチリルオキシシランとしてはジメチルブチリルオキシシラン、ジエチルブチリルオキシシラン、メチルフェニルブチリルオキシシラン、メチルメトキシブチリルオキシシラン、メチルエトキシブチリルオキシシラン、メチルイソプロポキシブチリルオキシシラン、ジフェニルブチリルオキシシランを例示できる。ヒドロラウロイロキシシランとしてはジメチルラウロイロキシシラン、メチルフェニルラウロイロキシシラン、ジフェニルラウロイロキシシラン、メチルメトキシラウロイロキシシラン、メチルエトキシラウロイロキシシランを例示でき；ヒドロステアロイロキシシランとしてはジメチルステアロイロキシシラン、メチルフェニルステアロイロキシシラン、ジフェニルステアロイロキシシラン、メチルメトキシステアロイロキシシラン、メチルエトキシステアロイロキシシランを例示でき；ヒドロベンゾイルオキシシランとしてはジメチルベンゾイルオキシシラン、メチルフェニルベンゾイルオキシシラン、ジフェニルベンゾイルオキシシラン、メチルメトキシベンゾイルオキシシラン、メチルエトキシベンゾイルオキシシランを例示でき；ヒドロクロロアセトキシシランとしてはジメチルクロロアセトキシシラン、メチルフェニルクロロアセトキシシラン、ジフェニルクロロアセトキシシラン、メチルメトキシクロロアセトキシシラン、メチルエトキシクロロアセトキシシランを例示でき；ヒドロジクロロアセトキシシランとしてはジメチルジクロロアセトキシシラン、メチルフェニルジクロロアセトキシシラン、ジフェニルジクロロアセトキシシラン、メチルメトキシジクロロアセトキシシラン、メチルエトキシジクロロアセトキシシラン、メチルフェニルトリクロロアセトキシシラン、ジフェニルトリクロロアセトキシシラン、メチルメトキシトリクロロアセトキシシラン、メチルエトキシトリクロロアセトキシシランを例示でき；ヒドロトリフルオロアセトキシシランとしてはジメチルトリフルオロアセトキシシラン、メチルフェニルトリフルオロアセトキシシラン、ジフェニルトリフルオロアセトキシシラン、メチルメトキシトリフルオロアセトキシシラン、メチルエトキシトリフルオロアセトキシシランを例示でき；ヒドロベンゾイルオキシシランとしてはジメチルベンゾイルオキシシラン、メチルフェニルベンゾイルオキシシラン、ジフェニルベンゾイルオキシシラン、メチルメトキシベンゾイルオキシシラン、メチルエトキシベンゾイルオキシシランを例示できる。
【００２３】
これらヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物は反応系中に０．００１重量％から２０重量％の範囲で添加して有効に使用することができるが、十分な効果を上げ、かつ効率的に使用する目的では０．０１重量％から５重量％の間で添加することが好ましい。ここで反応系とは、本発明製造方法に用いられるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物、不飽和化合物、ヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物及び白金触媒からなる混合物をいう。
【００２４】
本発明において、白金触媒の例としては白金又は白金化合物を挙げることができる。更に具体的には、マイナスの電荷を帯びた錯体、０価、２価又は４価の白金化合物及び白金コロイドから選ぶことができる。更に具体的にはマイナスの電荷を帯びた錯体としては、白金カルボニルクラスターアニオン化合物、例えば［Ｐｔ₃（ＣＯ）₆］^2-、［Ｐｔ₃（ＣＯ）₆］₂ ^{2 -}、［Ｐｔ₃（ＣＯ）₆］₄ ^{2 -}を、０価の白金化合物としては、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金（０）テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン錯体、白金（０）エチレン錯体、白金（０）スチレン錯体を、２価の白金化合物としてはＰｔ（II）Ｃｌ₂，Ｐｔ（II）Ｂｒ₂、ビス（エチレン）Ｐｔ（II）Ｃｌ₂、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｔ（II）Ｃｌ₂、白金（II）アセチルアセトナート、ビス（ベンゾニトリル）Ｐｔ（II）Ｃｌ₂等を、４価の白金化合物としてはＰｔ（IV）Ｃｌ₄，Ｈ₂Ｐｔ（IV）Ｃｌ₆，Ｎａ₂Ｐｔ（IV）Ｃｌ₆，Ｋ₂Ｐｔ（IV）Ｃｌ₆、等の化合物を例示できる。これらのうち、有機溶媒への溶解性、触媒溶液の安定性等の使用上の観点から、特に好ましいものとしては、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体と塩化白金酸のアルコール溶液を挙げることができる。一定量の基質のヒドロシリル化反応に要する白金の量は基質の種類、反応温度、反応時間等の要素とも関連し、一律に決めることはできないが、一般に、基質（ヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物）１モルに対して白金１０^-3モルから１０^-8モルの範囲で使用でき、触媒の経済性および反応時間の観点からは１０^-4モルから１０^-7モルの範囲で使用するのが適当である。
【００２５】
反応温度は１０℃以上２５０℃以下でよいが、適当な反応速度を達成出来ること、および反応に関与する基質および生成物が安定に存在しうるという点からは２０℃から２００℃が最適である。
【００２６】
本発明方法においては本質的には溶媒を用いる必要はないが、基質を溶解させる目的で、また反応系の温度の制御及び触媒成分の添加を容易にするため炭化水素系化合物を反応溶媒あるいは触媒成分の溶媒として用いることができる。この目的のために最適な溶媒としては、飽和あるいは不飽和の炭化水素化合物、例えばヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ドデカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ドデシルベンゼン；ハロゲン化炭化水素化合物、例えばクロロホルム、塩化メチレン、クロロベンゼン、オルト−ジクロロベンゼンを挙げることが出来る。
【００２７】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下に示す例中の生成物の特性化の記述においてＧＣはガスクロマトグラフを表す。また、Ｅｔはエチル基を、ＯＡｃはアセトキシ基を、Ｐｈはフェニル基を表わす。
本実施例で用いたアシルオキシシラン化合物、アルキルシラン化合物及びシロキサン化合物は市販のものあるいは公知の方法によって合成したものである。不飽和化合物は市販のものをそのまま用いた。
【００２８】
（参考例）
（メチルエトキシアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）（ＯＡｃ））の調製）
窒素雰囲気下でメチルジエトキシシラン（２．７ｇ）とメチルジアセトキシシラン（３．２ｇ）を混ぜ、数時間室温で放置した。混合物をＧＣおよびプロトンＮＭＲで分析すると、メチルジエトキシシラン（約５％）、メチルジアセトキシシラン（約５％）とともにメチルエトキシアセトキシシランが主成分（約９０％）として生成していることがわかった。
【００２９】
（実施例１）
（白金触媒によるジメチルアセトキシシラン存在下でのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に８００mgのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約９）と２０８mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、２ミリモル）をとり、これにジメチルアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＡｃ）、２８mg）を加えた後、ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンのビニル基は全てヒドロシリル化されており、ビニル基へのジメチルエトキシシリル基のα−付加体とβ−付加体の比は１：１０１であった。
【００３０】
（比較例１）
（白金触媒によるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物非存在下でのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に７２５mgのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約９）と２０８mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、２ミリモル）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンのビニル基は全てヒドロシリル化されており、ビニル基へのジメチルエトキシシリル基のα−付加体とβ−付加体の比は１：７．８であった。
【００３１】
（実施例２）
（白金触媒によるジメチルアセトキシシラン存在下でのスチレンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２３３mgのスチレン（２．２ミリモル）と２０８mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、２ミリモル）をとり、これにジメチルアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＡｃ）、２８mg）を加えた後、ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣ（ＦＩＤ）を用いて分析するとスチレンのビニル基の転化率は３３％であり、ＰｈＣ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）が２８％、ＰｈＣ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＡｃ）が３．４％の収率で生成していた。ＰｈＣ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ＯＥｔのうち、α−付加体とβ−付加体の比は１：１５３であった。
【００３２】
（比較例２）
（白金触媒によるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物非存在下でのスチレンとジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２０８mgのスチレン（２ミリモル）と２０８mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、２ミリモル）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００２ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣ（ＦＩＤ）を用いて分析するとスチレンのビニル基の転化率は３１％であり、ＰｈＣ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ＯＥｔが２９％の収率で生成していた。ＰｈＣ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＣＨ₃)₂ＯＥｔのうち、α−付加体とβ−付加体の比は１：４．０であった。
【００３３】
（実施例３）
（白金触媒によるジメチルアセトキシシラン存在下でのオクテン−１とジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に５９０mgのオクテン−１と４１５mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、４ミリモル）をとり、これにジメチルアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＡｃ）、５６mg、０．４ミリモル）を加えた後、ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣ（ＦＩＤ）を用いて分析するとオクテン−１の転化率は７７％であり、ｎ−オクチルジメチルエトキシシランが７０％、ｎ−オクチルジメチルアセトキシシランが５．５％の収率で生成していた。
【００３４】
（比較例３）
（白金触媒によるヒドロ（アシルオキシ）シラン非存在下でのオクテン−１とジメチルエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に４５０mgのオクテン−１と２１５mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃)₂（ＯＥｔ）、４ミリモル）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．０４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを５０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣ（ＦＩＤ）を用いて分析するとオクテン−１の転化率は２１％であり、ｎ−オクチルジメチルエトキシシランが２０％の収率で生成していた。
【００３５】
（実施例４）
（白金触媒によるメチル（エトキシ）アセトキシシラン存在下でのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンとメチルジエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）₂）の反応）
ガラス製反応管に８１６mgのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度９）と２７７mgのメチルジエトキシシラン（２ミリモル）をとり、これにメチル（エトキシ）アセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）（ＯＡｃ）、２６mg、０．２ミリモル）を加えた後、ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンのビニル基は全てヒドロシリル化されており、ビニル基へのメチルジエトキシシリル基のα−付加体とβ−付加体の比は１：６３であった。
【００３６】
（比較例４）
（白金触媒によるヒドロ（アシルオキシ）シラン非存在下でのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンとメチルジエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に７２７mgのα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度９）と２８８mgのジメチルエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）₂、２ミリモル）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をプロトンＮＭＲを用いて分析するとα，ω−ジビニルポリジメチルシロキサンのビニル基の約９５％がヒドロシリル化されており、ビニル基へのメチルジエトキシシリル基のα−付加体とβ−付加体の比は１：４．７であった。
【００３７】
（実施例５）
（白金触媒によるメチルジアセトキシシラン存在下でのスチレンとメチルジエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２３２mgのスチレン（２．２ミリモル）と２８２mgのメチルジエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）₂、２．１ミリモル）をとり、これにメチルジアセトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＡｃ）₂、１６mg、０．１ミリモル）を加えた後、ジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をＧＣを用いて分析するとスチレンのビニル基の転化率は約９３％であり、ヒドロシリル化物の収率はフェネチルメチルジエトキシシランが８３％、フェネチルメチルエトキシアセトキシシランが６．５％であった。反応液に３０mgのエタノールを加え、３０分間放置した後この反応液をＧＣを用いて分析するとフェネチルメチルエトキシアセトキシシランは消失しており、フェネチルメチルジエトキシシランが約９０％に増加していた。このように、ケイ素に結合したアシルオキシ基はアルコールとの反応により容易にアルコキシ基に転換が可能であり、アシルオキシシラン化合物の低減及びアルコキシシラン化合物の収量の改善が可能である。α−フェネチル付加体とβ−フェネチル付加体の比は１：３７であった。
【００３８】
（比較例５）
（白金触媒によるヒドロ（アシルオキシ）シラン非存在下でのスチレンとメチルジエトキシシランの反応）
ガラス製反応管に２１２mgのスチレン（２ミリモル）と２７９mgのメチルジエトキシシラン（ＨＳｉ（ＣＨ₃）（ＯＥｔ）₂、２．１ミリモル）をとり、これにジビニルシロキサンの０価白金錯体のトルエン溶液（白金含量０．４wt％）を０．００１ml加えた。反応管をテフロンテープでシールし、これを８０℃のオイルバスにいれ１時間加熱した。冷却後、内容物をガスクロマトグラフを用いて分析するとスチレンのビニル基の転化率は約６５％であり、ヒドロシリル化物の収率はフェネチルメチルジエトキシシランが６３％であった。α−フェネチル付加体とβ−フェネチル付加体の比は１：１．６５であった。

Claims

下記式（１）で示されるヒドロ（アシルオキシ）シラン化合物の存在下に、白金触媒の作用により、不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物と、下記式（２）で示されるヒドロ（ハイドロカーボンオキシ）シラン化合物とをヒドロシリル化反応させる、Ｓｉ−Ｃ結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法。
ＨＳｉＲ_n （Ｏ（Ｃ＝Ｏ）Ｒ¹ ）_3-n（１）
（但し、ここで、ｎは０，１又は２であり、Ｒはそれぞれ独立に炭素数１以上６以下の炭化水素基及び炭素数１以上６以下のアルコキシ基から選ばれる置換基であり、Ｒ¹はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１以上２０以下の飽和若しくは不飽和の炭化水素基である。）
ＨＲ² _m Ｓｉ（ＯＲ³ ）_3-m（２）
（但し、ここで、ｍは０，１又は２であり、Ｒ² はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の炭化水素基であり、Ｒ³ はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の炭化水素基である。）
前記不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物が次の（ア）から（ク）の群から選ばれる請求項１に記載の製造方法：
（ア）スチレン又はスチレンの誘導体
（イ）ビニルシラン化合物
（ウ）ケイ素原子に直接結合したビニル基を有するシロキサン化合物
（エ）エポキシ官能性オレフィン
（オ）ジエン化合物
（カ）ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ Ｘで示されるアリル化合物（ここに、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基又はアシルオキシ基を表す。）
（キ）末端にビニル基を有してなるオレフィン化合物
（ク）アセチレン化合物