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JP4508385B2 - Timing generator and semiconductor test apparatus - Google Patents

Timing generator and semiconductor test apparatus Download PDF

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JP4508385B2
JP4508385B2 JP2000264027A JP2000264027A JP4508385B2 JP 4508385 B2 JP4508385 B2 JP 4508385B2 JP 2000264027 A JP2000264027 A JP 2000264027A JP 2000264027 A JP2000264027 A JP 2000264027A JP 4508385 B2 JP4508385 B2 JP 4508385B2
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Japan
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memory
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units
group
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体試験装置(ICテスタ)における、タイミング発生器のメモリ容量を低減する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路の動作試験を行うための半導体試験装置は、検査対象の半導体集積回路の各外部端子(ピン)から出力された信号どうしを同期して取り出すために、可変遅延回路を備えている。
【0003】
ここで、図2を参照して、従来の可変遅延回路の構成について簡単に説明する。
図2の(A)は、従来例の可変遅延回路の構成を説明するための回路図である。また、図2の(B)は、遅延部の内部構成を説明するための回路図である。図2の(A)に示すように、従来例の可変遅延回路は、n段(nは2以上の整数)の遅延部10を直列に接続して設けている。
【0004】
各段の遅延部10は、図2の(B)に示すように、それぞれ信号を通過させる通過経路4と、信号を遅延させる遅延経路5と、通過経路4又は遅延経路5に信号を選択的に伝搬させるセレクタ3とにより構成されている。
そして、各段の遅延部10の遅延経路5には、遅延素子51が設けられている。
【0005】
また、図2の(B)に示すように、セレクタ3は、通過経路4に信号を出力するAND回路31と、遅延経路4に信号を出力するAND回路32とにより構成されている。また、AND回路31には、被遅延信号が入力されるとともに、反転した遅延設定値が入力される。また、AND回路32には、被遅延信号が入力されるとともに、遅延設定値が入力される。
【0006】
そして、遅延素子51の遅延時間は、少ない段数で多種類の遅延時間を効率的に生成するために、各遅延部10どうしで互いに異なっている。すなわち、各遅延部10の重み付けを異ならせている。
【0007】
例えば、一段目の遅延部10の遅延素子の遅延時間を1秒とし、二段目、三段目及び四段目の遅延時間をそれぞれ2秒、4秒及び8秒とする。この場合、遅延設定値により、二段目及び四段目の遅延素子だけの遅延時間を選択することにより、容易に10秒の遅延時間を得ることができる。
これに対して、仮に、各段の遅延素子の遅延時間をいずれも1秒とすると、10秒の遅延時間を得るのに10段もの遅延素子が必要となってしまう。
なお、段数ごとに遅延時間が増える割合を増加係数と称し、この場合の増加係数は「2」となる。
【0008】
ところで、現実の遅延素子の遅延時間には誤差が含まれる。その結果、各遅延部の遅延時間は、必ずしも設計通りの値とならず、設計値から多少ずれた値となる。このため、遅延時間を示す遅延設定値の各ビットを、単純に各段の遅延部10に一対一に割り当ててしまうと、実際の遅延量が遅延設定値からずれてしまう。
【0009】
そこで、実際のタイミング発生器においては、所望の数の遅延時間を得るためには、遅延部の数を、設計上の必要最低限数よりも多くして、冗長を持たせている。すなわち、遅延部10の増加係数を例えば「1.5」程度に小さくし、増加係数が「2」の場合よりも多数の遅延部10を用意している。そして、誤差を含めた上で遅延部を組み合わせたときの遅延時間をそれぞれ測定し、各遅延部の遅延時間の組み合わせの中から、所望の遅延時間に最も近くなる組合せを選んで使用する。
【0010】
このため、従来例のタイミング発生器は、遅延時間と、各遅延部10のうち遅延経路5に信号を伝搬させる遅延部10の組合せを示す遅延設定値と、遅延時間順に対応づけて格納するリニアライズメモリ2を備えている。
【0011】
したがって、リニアライズメモリ2へ所望の遅延時間を示す遅延設定値を入力することにより、そのリニアライズメモリ2において、その遅延時間に対応した、遅延部10の組み合わせ示す遅延設定値を得ることができる。そして、その遅延設定値により、各遅延部10においてセレクタ3が通過経路4又は遅延経路5をそれぞれ選択し、所望の遅延時間を発生させることができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、遅延時間に対応する遅延設定値がnビットの場合、遅延設定値で表される情報量は、2のn乗(2^n)通りである。このため、遅延設定値と遅延時間との対応づけが格納されたリニアライズメモリの深さは、(2^n)となる。
【0013】
さらに、可変遅延回路1の遅延部10がm段設けられている場合、リニアライズメモリ2に格納される遅延設定値もmビット分必要となる。したがって、この情報量を格納するため、リニアライズメモリ2におけるnビット分の遅延設定値のメモリ容量は、((2のn乗)×m)ビットすなわち(2^n×m)ビットとなる。
【0014】
そして、上述した冗長を持たせるためや、タイミング発生器の高性能化のためなどにより、可変遅延回路を構成する遅延部の段数mが多くなったり、設定分解能が高く、即ち、nが多くなったりすると、リニアライズメモリの深さが指数関数的に増大する。その結果、リニアライズメモリに膨大なメモリ容量を確保する必要が生じる。
さらに、リニアライズメモリの寸法が大きくなり、その結果装置の小型化が困難となる。
【0015】
本発明は、上記の問題を解決すべくなされたものであり、メモリ容量の低減を図るとともに、装置の小型化を図ることができるタイミング発生器及びそれを備えた半導体検査装置の提供を目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
この目的の達成を図るため、本発明係るタイミング発生器によれば、信号を通過する経路と信号を遅延させる経路とをそれぞれ有し、互いに異なる遅延時間を生じさせる複数段の遅延部を直列に接続した可変遅延回路と、各遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組合せを示す遅延設定値と、遅延時間とを対応づけて格納するメモリとを備えたタイミング発生器であって、可変遅延回路の遅延部を複数の遅延群に分け、メモリとして、前記遅延群ごとに分割した個別の分割メモリを設け、各分割メモリには、それぞれ当該分割メモリに対応する遅延群を構成する遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組み合わせと、当該遅延群の遅延時間を示す分割遅延設定値とを対応づけて格納した構成としてある。
【0017】
このように、本発明のタイミング発生器によれば、可変遅延回路を複数(k個、kは2以上の整数とする。)の遅延群に分けている。そして、各遅延群は、遅延設定値を分割した分割遅延設定値をそれぞれ担当している。この場合、各遅延群が担当する分割遅延設定値のビット数(n1、n2、…、nk)の合計は、下記の(1)式に示すように、可変遅延回路に対する全遅延ビット数(N)と一致する。
【0018】
N=n1+n2+…+nk …(1)
ただし、N、n1、n2、…、nkは、2以上の整数を表す。
【0019】
一方、各遅延群にそれぞれ対応する個々のメモリの深さ(2^n1、2^n2、…、2^nk)の合計は、下記の(2)式に示すように、全遅延部に対応するメモリの深さ(2^N)よりも浅くなる。
【0020】
(2^N)>(2^n1)+(2^n2)+…+(2^nk) …(2)
【0021】
なお、上記の(2)式は、下記の(3)式及び(4)式より導かれる。
(2^N)=(2^n1)(2^n2)…(2^nk) …(3)
(2^n1)(2^n2)…(2^nk)>(2^n1)+(2^n2)+…+(2^nk) …(4)
【0022】
したがって、本発明によれば、分割された全メモリの合計の深さを、未分割のメモリの深さよりも浅くすることができる。すなわち、全メモリの合計のメモリ容量の低減を図ることができる。さらに、メモリ容量の低減を図ることができるので、メモリの寸法を小型化を図ることができる。その結果、タイミング発生器の小型化を図ることができる。
【0023】
また、本発明半導体試験装置によれば、検査対象の半導体集積回路の各外部端子から出力された信号どうしを同期して取り出すためのタイミング発生器を備えた、この半導体集積回路の動作試験を行うための半導体試験装置であって、
タイミング発生器は、信号を通過する経路と信号を遅延させる経路とをそれぞれ有し、互いに異なる遅延時間を生じさせる複数段の遅延部を直列に接続した可変遅延回路と、各遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組合せを示す遅延設定値と、遅延時間とを対応づけて格納するメモリとを備え、可変遅延回路の遅延部を複数の遅延群に分け、メモリとして、遅延群ごとに分割した複数の個別の分割メモリを設け、各分割メモリには、それぞれ当該分割メモリに対応する遅延群を構成する遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組み合わせと、当該遅延群の遅延時間を示す分割遅延設定値とを対応づけて格納した構成としてある。
【0024】
このように、本発明の半導体試験装置によれば、分割された全メモリの合計の深さを、未分割のメモリの深さよりも浅くすることができる。すなわち、全メモリの合計のメモリ容量の低減を図ることができる。さらに、メモリ容量の低減を図ることができるので、メモリの寸法の小型化を図ることができる。その結果、タイミング発生器の小型化を図ることができる。さらに、そのタイミング発生器を備えた半導体試験装置の小型化を図ることができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
先ず、図1を参照して、本実施形態の可変遅延回路の構成について説明する。この可変遅延回路は、検査対象の半導体集積回路の各外部端子から出力された信号どうしを同期して取り出すために、半導体検査装置(ICテスタ)に設けられている。
図1は、本実施形態のタイミング発生器の構成を説明するための回路図である。
本実施形態のタイミング発生器においても可変遅延回路1を、従来例と同様、入力端子inと出力端子outとの間にm段(mは2以上の整数)の遅延部10を直列に接続して設けている。また、遅延時間設定値(可変量設定値)はnビット(nは2以上の整数)とする。
【0026】
本実施形態では、可変遅延回路1の各遅延部10を、第一遅延群11、第二遅延群12及び第三遅延群13の三つの遅延群に分けている。第一、第二及び第三遅延群11、12及び13には、それぞれmw1個、mw2個およびmw3個の遅延部10が含まれる。
【0027】
なお、mW1<m、mw2<m、かつ、mw3<mとする。ただし、mは、分割前の全遅延部の数とする。したがって、分割後の各遅延群に含まれる遅延部の合計数は、下記の(5)式を満足する。
【0028】
m<(mw1+mw2+mw3)<3m …(5)
【0029】
また、遅延設定値のビット数nに対し、第一遅延群11はw1ビット分、第二遅延群12はw2ビット分、第三遅延群13はw3ビット分の分割遅延設定値をそれぞれ担当する。
なお、各遅延群11、12及び13にそれぞれ対応する分割遅延設定値のビット数の合計値(w1+w2+w3)は、下記の(6)式に示すように、遅延設定値の全ビット数(n)となる。
【0030】
n=(w1)+(w2)+(w3) …(6)
【0031】
そして、本実施形態では、これら三つの遅延群11、12及び13ごとに、第一リニアライズメモリ21、第二リニアライズメモリ22及び第三リニアライズメモリ23を個別に設けている。
【0032】
そして、各分割メモリには、それぞれ当該分割メモリに対応する遅延群を構成する遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組み合わせと、当該遅延群の遅延時間を示す分割遅延設定値とが対応づけて格納されている。
【0033】
すなわち、この第一リニアライズメモリ21には、第一遅延部11に含まれるmw1個の各遅延部10に対し、遅延時間を示すw1ビットの遅延設定値と、mw1個の遅延部10のそれぞれの設定との対応が格納されている。
このため、第一リニアライズメモリ21のメモリの深さは、(2^w1)となる。また、第一リニアライズメモリ21のメモリ容量は、(2^w1×mw1)となる。
【0034】
また、第二リニアライズメモリ22には、第二遅延部12に含まれるmw2個の各遅延部10に対し、遅延時間を示すw2ビットの遅延設定値と、mw2個の遅延部10のそれぞれの設定との対応が格納されている。
このため、第二リニアライズメモリ22のメモリの深さは、(2^w2)となる。また、第二リニアライズメモリ22のメモリ容量は、(2^w2×mw2)となる。
【0035】
さらに、第三リニアライズメモリ23には、第三遅延部13に含まれるmw3個の各遅延部10に対し、遅延時間を示すw3ビットの遅延設定値と、mw3個の遅延部10のそれぞれの設定との対応が格納されている。
このため、第三リニアライズメモリ23のメモリの深さは、(2^w3)となる。また、第三リニアライズメモリ23のメモリ容量は、(2^w3×mw3)となる。
【0036】
そして、各リニアライズメモリ21〜23のメモリ深さの合計は、下記の(7)式に示すように、当初のm段の全遅延部に対応する一つのリニアライズメモリを設けた場合のそのメモリの深さよりも浅くなる。
【0037】
(2^n)>(2^w1)+(2^w2)+(2^w3) …(7)
【0038】
さらに、本実施形態では、mw1<m、mw2<m、かつ、mw3<mであるので、各リニアライズメモリ21〜23のメモリの容量の合計は、下記の(8)式に示すように、m段の遅延部に対応する当初の一つのリニアライズメモリを設けた場合のメモリ容量よりも小さくなる。
【0039】
(2^n×m)>(2^w1×mw1)+(2^w2×mw2)+(2^w3×mw3) …(8)
【0040】
したがって、本実施形態によれば、全メモリの合計のメモリ容量の低減を図ることができる。さらに、メモリ容量の低減を図ることができるので、メモリの寸法を小型化を図ることができる。
【0041】
例えば、遅延設置値のビット数(n)を12個とした場合、非分割のリニアライズメモリの深さは、(2^12)=4096となる。
【0042】
これに対して、12ビットの設定分解能を、例えば、5ビット、4ビット及び3ビットの分割遅延設定値に分割した場合、三分割されたリニアライズメモリの深さは、それぞれ、(2^5)=32、(2^4)=16及び(2^3)=8となる。
【0043】
したがって、三分割されたリニアライズメモリの深さの合計は、(32+16+8=)56となる。すなわち、非分割の場合のメモリ深さ4096よりも遥かに小さな値となることが分かる。
【0044】
さらに、各遅延群11〜13に含まれる遅延部10の数を均一にすれば、すなわち、w1=w2=w3とすれば、各遅延群の遅延部数を不均一とした場合に比べて、メモリの深さを一層浅くすることができる。
【0045】
例えば、12個の遅延部を4個ずつ等分割した場合、等分割された各リニアライズメモリの深さは、いずれも(2^4)=16となる。したがって、等分割されたリニアライズメモリの深さの合計は、(16+16+16=)48となる。すなわち、各遅延群の遅延部数を不均一とした場合に比べて、メモリの深さを一層浅くすることができることが分かる。
【0046】
上述した実施の形態においては、本発明を特定の条件で構成した例について説明したが、本発明は、種々の変更を行うことができる。例えば、上述した実施の形態においては、三つのリニアライズメモリを設けた例について説明したが、メモリの分割数はこれに限定されない。
【0047】
また、上述した実施形態では、各分割群の遅延部を、互いに隣接した遅延部どうしで構成したが、この発明では、遅延部の分割方法はこれに限定されない。例えば、順次に接続された遅延部が、交互に、個別の分割群に含まれていても良い。
また、一つの分割群に含まれる遅延部の数は特に限定されず、例えば、一つの分割群に含まれる遅延部の数は一つでも良い。
【0048】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、分割された全メモリの合計の深さを、未分割のメモリの深さよりも浅くすることができる。すなわち、全メモリの合計のメモリ容量の低減を図ることができる。さらに、メモリ容量の低減を図ることができるので、メモリの寸法を小型化を図ることができる。その結果、タイミング発生器の小型化を図ることができる。さらに、そのタイミング発生器を備えた半導体試験装置の小型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態のタイミング発生器の構成を説明するための回路図である。
【図2】(A)は、従来例のタイミング発生器の構成を説明するための回路図であり、(B)は、遅延部の内部構成を説明するための回路図である。
【符号の説明】
1 可変遅延回路
2 リニアライズメモリ
3 セレクタ
4 通過経路
5 遅延回路
6 ORゲート
10 遅延部
11 第一遅延群
12 第二遅延群
13 第三遅延群
21 第一リニアライズメモリ
22 第二リニアライズメモリ
23 第三リニアライズメモリ
31、32 ANDゲート
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a technique for reducing the memory capacity of a timing generator in a semiconductor test apparatus (IC tester).
[0002]
[Prior art]
A semiconductor test apparatus for performing an operation test of a semiconductor integrated circuit includes a variable delay circuit for synchronously extracting signals output from external terminals (pins) of the semiconductor integrated circuit to be inspected.
[0003]
Here, the configuration of a conventional variable delay circuit will be briefly described with reference to FIG.
FIG. 2A is a circuit diagram for explaining the configuration of a conventional variable delay circuit. FIG. 2B is a circuit diagram for explaining the internal configuration of the delay unit. As shown in FIG. 2A, the conventional variable delay circuit includes n stages (n is an integer of 2 or more) of delay units 10 connected in series.
[0004]
As shown in FIG. 2B, the delay unit 10 at each stage selectively transmits a signal to the passing path 4 for passing the signal, the delay path 5 for delaying the signal, and the passing path 4 or the delay path 5. And a selector 3 that propagates to
A delay element 51 is provided in the delay path 5 of the delay unit 10 in each stage.
[0005]
As shown in FIG. 2B, the selector 3 includes an AND circuit 31 that outputs a signal to the passage path 4 and an AND circuit 32 that outputs a signal to the delay path 4. The AND circuit 31 receives a delayed signal and an inverted delay setting value. The AND circuit 32 receives a delayed signal and a delay setting value.
[0006]
The delay times of the delay elements 51 are different between the delay units 10 in order to efficiently generate a variety of delay times with a small number of stages. That is, the weighting of each delay unit 10 is varied.
[0007]
For example, the delay time of the delay element of the first-stage delay unit 10 is 1 second, and the delay times of the second, third, and fourth stages are 2 seconds, 4 seconds, and 8 seconds, respectively. In this case, a delay time of 10 seconds can be easily obtained by selecting a delay time of only the second-stage and fourth-stage delay elements according to the delay setting value.
On the other hand, if the delay time of each stage delay element is 1 second, 10 stages of delay elements are required to obtain a delay time of 10 seconds.
The rate at which the delay time increases for each stage number is referred to as an increase coefficient. In this case, the increase coefficient is “2”.
[0008]
Incidentally, an error is included in the delay time of the actual delay element. As a result, the delay time of each delay unit is not necessarily a value as designed, but is slightly deviated from the design value. For this reason, if each bit of the delay setting value indicating the delay time is simply assigned one-to-one to each delay unit 10, the actual delay amount deviates from the delay setting value.
[0009]
Therefore, in an actual timing generator, in order to obtain a desired number of delay times, the number of delay units is made larger than the minimum number necessary for design to provide redundancy. That is, the increase coefficient of the delay unit 10 is reduced to, for example, about “1.5”, and a larger number of delay units 10 are prepared than when the increase coefficient is “2”. Then, after including the error, the delay time when the delay units are combined is measured, and the combination closest to the desired delay time is selected and used from among the delay time combinations of the respective delay units.
[0010]
For this reason, the timing generator of the conventional example stores a delay time, a delay setting value indicating a combination of the delay units 10 for propagating a signal to the delay path 5 among the delay units 10, and a linearly stored in association with the delay time. A rise memory 2 is provided.
[0011]
Therefore, by inputting a delay setting value indicating a desired delay time to the linearized memory 2, in the linearized memory 2, a delay setting value indicating a combination of the delay units 10 corresponding to the delay time can be obtained. . Then, according to the delay setting value, the selector 3 can select the passing path 4 or the delay path 5 in each delay unit 10 to generate a desired delay time.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, when the delay setting value corresponding to the delay time is n bits, the amount of information represented by the delay setting value is 2 n (2 ^ n). For this reason, the depth of the linearized memory in which the correspondence between the delay setting value and the delay time is stored is (2 ^ n).
[0013]
Furthermore, when the delay unit 10 of the variable delay circuit 1 is provided in m stages, the delay setting value stored in the linearized memory 2 also requires m bits. Therefore, in order to store this amount of information, the memory capacity of the delay setting value for n bits in the linearized memory 2 is ((2 n) × m) bits, that is, (2 ^ n × m) bits.
[0014]
In order to provide the above-described redundancy or to improve the performance of the timing generator, the number m of delay units constituting the variable delay circuit is increased, the setting resolution is high, that is, n is increased. As a result, the depth of the linearized memory increases exponentially. As a result, it is necessary to secure a huge memory capacity in the linearized memory.
Furthermore, the size of the linearized memory is increased, and as a result, it is difficult to reduce the size of the device.
[0015]
The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a timing generator capable of reducing the memory capacity and reducing the size of the apparatus, and a semiconductor inspection apparatus including the timing generator. To do.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve this object, according to the timing generator of the present invention , a plurality of stages of delay units each having a path for passing a signal and a path for delaying the signal and generating different delay times are connected in series. A timing generator comprising: a variable delay circuit connected to each other; a delay setting value indicating a combination of delay units that generate a delay time among the delay units; and a memory that stores the delay times in association with each other, The delay part of the variable delay circuit is divided into a plurality of delay groups, and as the memory, individual divided memories divided for each delay group are provided, and each divided memory has a delay constituting a delay group corresponding to the divided memory. In this configuration, a combination of delay units that generate a delay time and a division delay setting value indicating the delay time of the delay group are stored in association with each other.
[0017]
Thus, according to the timing generator of the present invention, the variable delay circuit is divided into a plurality of delay groups (k, k is an integer of 2 or more). Each delay group is responsible for a divided delay setting value obtained by dividing the delay setting value. In this case, the total number of bits (n1, n2,..., Nk) of the divided delay setting values assigned to each delay group is the total number of delay bits (N) for the variable delay circuit as shown in the following equation (1). ).
[0018]
N = n1 + n2 + ... + nk (1)
However, N, n1, n2, ..., nk represents an integer of 2 or more.
[0019]
On the other hand, the sum of the depths of individual memories (2 ^ n1, 2 ^ n2,..., 2 ^ nk) corresponding to each delay group corresponds to all delay sections as shown in the following equation (2). It becomes shallower than the depth of memory (2 ^ N).
[0020]
(2 ^ N)> (2 ^ n1) + (2 ^ n2) + ... + (2 ^ nk) (2)
[0021]
The above equation (2) is derived from the following equations (3) and (4).
(2 ^ N) = (2 ^ n1) (2 ^ n2) (2 ^ nk) (3)
(2 ^ n1) (2 ^ n2) ... (2 ^ nk)> (2 ^ n1) + (2 ^ n2) + ... + (2 ^ nk) (4)
[0022]
Therefore, according to the present invention, the total depth of all the divided memories can be made smaller than the depth of the undivided memories. That is, the total memory capacity of all memories can be reduced. Further, since the memory capacity can be reduced, the size of the memory can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size of the timing generator.
[0023]
In addition, according to the semiconductor test apparatus of the present invention , an operation test of this semiconductor integrated circuit including a timing generator for synchronously extracting signals output from the respective external terminals of the semiconductor integrated circuit to be inspected is performed. A semiconductor test apparatus for performing,
The timing generator has a path through which a signal passes and a path through which the signal is delayed, and includes a variable delay circuit in which multiple stages of delay units that generate different delay times are connected in series, and a delay among the delay units. A delay setting value indicating a combination of delay units that generate time and a memory that stores the delay time in association with each other, and the delay unit of the variable delay circuit is divided into a plurality of delay groups. A plurality of individual divided memories are provided, and each divided memory includes a combination of delay units that generate a delay time among delay units constituting the delay group corresponding to the divided memory, and the delay time of the delay group. Are stored in association with the division delay setting value indicating.
[0024]
Thus, according to the semiconductor test apparatus of the present invention, the total depth of all the divided memories can be made smaller than the depth of the undivided memories. That is, the total memory capacity of all memories can be reduced. Further, since the memory capacity can be reduced, the size of the memory can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size of the timing generator. Furthermore, it is possible to reduce the size of the semiconductor test apparatus including the timing generator.
[0025]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
First, the configuration of the variable delay circuit of the present embodiment will be described with reference to FIG. This variable delay circuit is provided in a semiconductor inspection apparatus (IC tester) in order to synchronously extract signals output from external terminals of the semiconductor integrated circuit to be inspected.
FIG. 1 is a circuit diagram for explaining the configuration of the timing generator of the present embodiment.
Also in the timing generator of this embodiment, the variable delay circuit 1 is connected in series with m stages (m is an integer of 2 or more) of delay units 10 between the input terminal in and the output terminal out, as in the conventional example. Provided. The delay time setting value (variable amount setting value) is n bits (n is an integer of 2 or more).
[0026]
In the present embodiment, each delay unit 10 of the variable delay circuit 1 is divided into three delay groups, a first delay group 11, a second delay group 12, and a third delay group 13. The first, second, and third delay groups 11, 12, and 13 include mw1, mw2, and mw3 delay units 10, respectively.
[0027]
Note that mW1 <m, mw2 <m, and mw3 <m. Here, m is the number of all delay parts before division. Therefore, the total number of delay units included in each divided delay group satisfies the following expression (5).
[0028]
m <(mw1 + mw2 + mw3) <3m (5)
[0029]
In addition, the first delay group 11 is responsible for w1 bits, the second delay group 12 is for w2 bits, and the third delay group 13 is for w3 bits for the delay setting value bit number n. .
The total number of bits (w1 + w2 + w3) of the divided delay setting values corresponding to each of the delay groups 11, 12 and 13 is the total number of bits (n) of the delay setting values as shown in the following equation (6). It becomes.
[0030]
n = (w1) + (w2) + (w3) (6)
[0031]
In this embodiment, the first linearized memory 21, the second linearized memory 22, and the third linearized memory 23 are individually provided for each of these three delay groups 11, 12, and 13.
[0032]
Each divided memory corresponds to a combination of delay units that generate a delay time among delay units constituting the delay group corresponding to the divided memory, and a divided delay setting value indicating the delay time of the delay group. And stored.
[0033]
That is, the first linearized memory 21 includes, for each mw1 delay unit 10 included in the first delay unit 11, a w1 bit delay setting value indicating a delay time and each of the mw1 delay units 10. Correspondence with the setting of is stored.
For this reason, the depth of the memory of the first linearized memory 21 is (2 ^ w1). The memory capacity of the first linearized memory 21 is (2 ^ w1 × mw1).
[0034]
Further, in the second linearized memory 22, for each of the mw2 delay units 10 included in the second delay unit 12, a w2 bit delay setting value indicating a delay time and each of the mw2 delay units 10 are provided. Stores correspondence with settings.
For this reason, the depth of the memory of the second linearized memory 22 is (2 ^ w2). The memory capacity of the second linearized memory 22 is (2 ^ w2 × mw2).
[0035]
Further, in the third linearized memory 23, for each of the mw3 delay units 10 included in the third delay unit 13, a w3 bit delay setting value indicating a delay time and each of the mw3 delay units 10 are provided. Stores correspondence with settings.
For this reason, the depth of the memory of the third linearized memory 23 is (2 ^ w3). The memory capacity of the third linearized memory 23 is (2 ^ w3 × mw3).
[0036]
The total memory depth of each of the linearized memories 21 to 23 is the same as that obtained when one linearized memory corresponding to the initial m stages of delay units is provided, as shown in the following equation (7). It becomes shallower than the depth of memory.
[0037]
(2 ^ n)> (2 ^ w1) + (2 ^ w2) + (2 ^ w3) (7)
[0038]
Furthermore, in this embodiment, since mw1 <m, mw2 <m, and mw3 <m, the total memory capacity of each of the linearized memories 21 to 23 is expressed by the following equation (8): This is smaller than the memory capacity when the first linearized memory corresponding to the m-stage delay unit is provided.
[0039]
(2 ^ n * m)> (2 ^ w1 * mw1) + (2 ^ w2 * mw2) + (2 ^ w3 * mw3) (8)
[0040]
Therefore, according to the present embodiment, the total memory capacity of all memories can be reduced. Further, since the memory capacity can be reduced, the size of the memory can be reduced.
[0041]
For example, when the number of bits (n) of the delay setting value is 12, the depth of the non-divided linearized memory is (2 ^ 12) = 4096.
[0042]
On the other hand, when the 12-bit setting resolution is divided into, for example, 5-bit, 4-bit, and 3-bit division delay setting values, the depth of the linearized memory divided into three is (2 ^ 5), respectively. ) = 32, (2 ^ 4) = 16 and (2 ^ 3) = 8.
[0043]
Therefore, the total depth of the linearized memory divided into three is (32 + 16 + 8 =) 56. That is, it can be seen that the value is much smaller than the memory depth 4096 in the case of non-division.
[0044]
Furthermore, if the number of delay units 10 included in each delay group 11 to 13 is made uniform, that is, if w1 = w2 = w3, then the memory of the delay groups in each delay group is made nonuniform. The depth of can be further reduced.
[0045]
For example, when twelve delay units are equally divided by four, each of the equally divided linearized memories has a depth of (2 ^ 4) = 16. Accordingly, the total depth of the equally divided linearized memory is (16 + 16 + 16 =) 48. That is, it can be seen that the depth of the memory can be further reduced as compared with the case where the number of delay parts of each delay group is not uniform.
[0046]
In the above-described embodiment, the example in which the present invention is configured under specific conditions has been described. However, the present invention can be variously modified. For example, in the above-described embodiment, an example in which three linearized memories are provided has been described, but the number of memory divisions is not limited to this.
[0047]
In the above-described embodiment, the delay units of each divided group are configured by mutually adjacent delay units. However, in the present invention, the method of dividing the delay units is not limited to this. For example, sequentially connected delay units may be included in separate divided groups.
The number of delay units included in one divided group is not particularly limited. For example, the number of delay units included in one divided group may be one.
[0048]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, the total depth of all divided memories can be made smaller than the depth of undivided memories. That is, the total memory capacity of all memories can be reduced. Further, since the memory capacity can be reduced, the size of the memory can be reduced. As a result, it is possible to reduce the size of the timing generator. Furthermore, it is possible to reduce the size of the semiconductor test apparatus including the timing generator.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram for explaining a configuration of a timing generator according to an embodiment.
FIG. 2A is a circuit diagram for explaining a configuration of a conventional timing generator, and FIG. 2B is a circuit diagram for explaining an internal configuration of a delay unit;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Variable delay circuit 2 Linearization memory 3 Selector 4 Passing path 5 Delay circuit 6 OR gate 10 Delay part 11 1st delay group 12 2nd delay group 13 3rd delay group 21 1st linearize memory 22 2nd linearize memory 23 Third linearized memory 31, 32 AND gate

Claims (2)

信号を通過する経路と信号を遅延させる経路とをそれぞれ有し、互いに異なる遅延時間を生じさせる複数段の遅延部を直列に接続した可変遅延回路と、
各前記遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組合せを示す遅延設定値と、遅延時間とを対応づけて格納するメモリとを備えたタイミング発生器であって、
前記可変遅延回路のm段(mは2以上の整数)の前記遅延部を複数の遅延群に分け、各遅延群がmw1個,mw2個,・・・mwN個の遅延部を有し、
遅延設定値のビット数nの前記メモリとして、前記遅延群ごとに分割した遅延設定値がw1ビット,w2ビット,・・・wNビット(n=(w1)+(w2)+・・・(wN))の複数の個別の分割メモリを設け、
各分割メモリには、それぞれ当該分割メモリに対応する遅延群を構成するmw1個,mw2個,・・・mwN個の遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組み合わせと、当該遅延群の遅延時間を示すw1ビット,w2ビット,・・・wNビットの分割遅延設定値とを対応づけて格納し
前記メモリ及び各分割メモリの深さ及びメモリ容量が以下の2式の関係を満たす
ことを特徴とするタイミング発生器。
(2^n)>(2^w1)+(2^w2)+・・・(2^wN)
(2^n×m)>(2^w1×mw1)+(2^w2×mw2)+・・・(2^wN×mwN)
A variable delay circuit having a plurality of delay units connected in series, each having a path through which a signal passes and a path through which the signal is delayed, and causing different delay times;
A timing generator comprising a delay setting value indicating a combination of delay units that generate a delay time among the delay units, and a memory that stores the delay time in association with each other,
The delay units of m stages (m is an integer of 2 or more) of the variable delay circuit are divided into a plurality of delay groups, and each delay group has mw1, mw2,... MwN delay units,
As the memory having the number n of delay setting values, the delay setting values divided for each delay group are w1 bits, w2 bits,... WN bits (n = (w1) + (w2) +. )) A plurality of individual divided memories,
Each divided memory includes a combination of delay units that generate a delay time among mw1, mw2,... MwN delay units that constitute a delay group corresponding to the divided memory, and a delay of the delay group. Store the w1 bit, w2 bit,... WN bit division delay setting values indicating time in association with each other ,
A timing generator characterized in that the depth and the memory capacity of the memory and each divided memory satisfy the following two relationships .
(2 ^ n)> (2 ^ w1) + (2 ^ w2) + (2 ^ wN)
(2 ^ n * m)> (2 ^ w1 * mw1) + (2 ^ w2 * mw2) + (2 ^ wN * mwN)
検査対象の半導体集積回路の各外部端子から出力された信号どうしを同期して取り出すためのタイミング発生器を備えた、この半導体集積回路の動作試験を行うための半導体試験装置であって、
前記タイミング発生器は、
信号を通過する経路と信号を遅延させる経路とをそれぞれ有し、互いに異なる遅延時間を生じさせる複数段の遅延部を直列に接続した可変遅延回路と、
各前記遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組合せを示す遅延設定値と、遅延時間とを対応づけて格納するメモリとを備え、
前記可変遅延回路のm段(mは2以上の整数)の前記遅延部を複数の遅延群に分け、各遅延群がmw1個,mw2個,・・・mwN個の遅延部を有し、
遅延設定値のビット数nの前記メモリとして、前記遅延群ごとに分割した遅延設定値がw1ビット,w2ビット,・・・wNビット(n=(w1)+(w2)+・・・(wN))の複数の個別の分割メモリを設け、
各分割メモリには、それぞれ当該分割メモリに対応する遅延群を構成するmw1個,mw2個,・・・mwN個の遅延部のうち遅延時間を生じさせる遅延部の組み合わせと、当該遅延群の遅延時間を示すw1ビット,w2ビット,・・・wNビットの分割遅延設定値とを対応づけて格納し
前記メモリ及び各分割メモリの深さ及びメモリ容量が以下の2式の関係を満たす
ことを特徴とする半導体試験装置。
(2^n)>(2^w1)+(2^w2)+・・・(2^wN)
(2^n×m)>(2^w1×mw1)+(2^w2×mw2)+・・・(2^wN×mwN)
A semiconductor test apparatus for performing an operation test of this semiconductor integrated circuit, comprising a timing generator for synchronously extracting signals output from each external terminal of a semiconductor integrated circuit to be inspected,
The timing generator is
A variable delay circuit having a plurality of delay units connected in series, each having a path through which a signal passes and a path through which the signal is delayed, and causing different delay times;
A delay setting value indicating a combination of delay units that cause a delay time among the delay units, and a memory that stores the delay time in association with each other, and
The delay units of m stages (m is an integer of 2 or more) of the variable delay circuit are divided into a plurality of delay groups, and each delay group has mw1, mw2,... MwN delay units,
As the memory having the number n of delay setting values, the delay setting values divided for each delay group are w1 bits, w2 bits,... WN bits (n = (w1) + (w2) +. )) A plurality of individual divided memories,
Each divided memory includes a combination of delay units that generate a delay time among mw1, mw2,... MwN delay units that constitute a delay group corresponding to the divided memory, and a delay of the delay group. Store the w1 bit, w2 bit,... WN bit division delay setting values indicating time in association with each other ,
A semiconductor test apparatus characterized in that the depth and memory capacity of the memory and each divided memory satisfy the following two relationships .
(2 ^ n)> (2 ^ w1) + (2 ^ w2) + (2 ^ wN)
(2 ^ n * m)> (2 ^ w1 * mw1) + (2 ^ w2 * mw2) + (2 ^ wN * mwN)
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