JP4505568B2 - 被覆型ヘテロ芳香環化合物 - Google Patents
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Description
Y1〜Y6は、それぞれ独立に、酸素原子であるか、または存在せず、
R1〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜18の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、または9−アントリル基であり、
Zは、下記式(i)〜(vii)のいずれかで表される原子または原子団であり、
X1およびX2は、それぞれ独立に、水素原子またはメルカプト基であり、
nは正の整数である。
共役鎖に対して垂直に配置されたtert−ブチルジフェニルシリル基(TBDPS基)により剛直性が保持されるため、有効共役長を損なわない。さらに、TBDPS基は立体的に嵩高いため、共役鎖を効果的に外界から被覆することが可能である。
Y1〜Y6、R1〜R6およびZは、それぞれ前記式(I)と同じであり、Hal1およびHal2は、それぞれ独立に、塩素、臭素またはヨウ素である。
核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、JEOL(日本電子株式会社)製の商品名JMN-270(1H測定時270MHz)を用いて測定した。ケミカルシフトは百万分率(ppm)で表している。内部標準0ppmには、テトラメチルシラン(TMS)を用いた。結合定数(J)は、ヘルツで示しており、略号s、d、t、q、mおよびbrは、それぞれ、一重線(singlet)、二重線(doublet)、三重線(triplet)、四重線(quartet)、多重線(multiplet)および広幅線(broad)を表す。質量分析(MS)は、PerSeptive Biosystems社製Voyager Linear DE-H(商品名)を用い、MALDI−TOF法により測定した。紫外可視吸収スペクトル(UV-VIS)は、株式会社島津製作所製UV-3100PC(商品名)を用い、溶液法により測定した。測定値(波長)はnmで表している。赤外線吸収スペクトル(IR)はKBr法により測定した。測定値(波数)はcm-1で表している。サイクリックボルタンメトリーは、ビー・エー・エス株式会社製CV-50W(商品名)を用いて測定した。融点は、株式会社柳本製作所製の微量融点測定器を用いて測定した。カラムクロマトグラフィー分離におけるシリカゲルは、関東化学株式会社製の商品名Silica gel 60N(40〜50μm)を用いた。全ての化学物質は、試薬級であり、和光純薬工業株式会社、東京化成工業株式会社、関東化学株式会社、ナカライテスク株式会社、またはシグマアルドリッチジャパン株式会社より購入した。
まず、水素化ナトリウム60%含有オイル(9.5g, 0.238 mol)を含むトルエン(293mL)およびDMF(29mL)混合溶媒を調製した。次に、それを60℃に加熱し、マロン酸ジエチル(17.4g, 0.108mol)および2,5−ジブロモ−3,4−ビス(ブロモメチル)チオフェン(45.0g, 0.105mol)の無水トルエン(225mL)溶液を、窒素雰囲気下、30分間かけて滴下した。この混合物を、60℃でさらに30分間攪拌した後、室温まで冷却し、水(20mL)を注意深く加え、そして、不溶固形物をセライトによる濾過で除去した。得られた濾液から有機層を分離し、水層はジクロロメタン(200mL×3)で抽出した。前記有機層および抽出液を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥した。さらに、溶媒を留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ジクロロメタン:ヘキサン=1:1)で精製し、ヘキサンから再結晶し、1,3-ジブロモ−5,5-ビス(エトキシカルボニル)シクロペンタ[c]チオフェンの無色板状結晶を得た(収量25.5g、収率56%)。以下に、この化合物の機器分析データを示す。
融点82〜83℃; 1HNMR(270MHz, CDCl3) δ1.27 (t, 6H, J=7.3Hz, CH3), 3.28 (s, 4H, CH2), 4.22 (q, 4H, J=7.3Hz, CH2); 13CNMR(100MHz, CDCl3) δ13.9, 36.1, 62.0, 64.6, 101.8, 144.5, 170.3; IR(KBr) ν1730, 1252cm-1(COO), MS(DI)m/z 424, 426, 428(M+); 元素分析:C13H14O4Br2Sに基く計算値: C,36.64; H,3.31%. 実測値:C,36.67; H,3.32%
まず、水素化リチウムアルミニウム(2.85g, 75.1mmol)の無水THF(120mL)溶液を調製した。次に、これを氷浴で冷却し、窒素雰囲気下、1,3-ジブロモ−5,5-ビス(エトキシカルボニル)シクロペンタ[c]チオフェン(8.0g, 18.8mmol)の無水THF(30mL)溶液を緩やかに滴下した。この混合溶液を20時間還流させた後、氷浴で冷却しながら、酢酸エチル(30mL)、水(6mL)および1N(1mol/L)塩酸(6mL)を、この順番で連続的に加えた。そして、不溶固形物を濾過により除去し、さらにアセトン(100mL×3)で洗浄した。前記濾液および洗浄液を合わせ、減圧下で濃縮した。得られた固形物をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル)で精製し、酢酸エチルとクロロホルムの1:4混合溶媒から再結晶し、5,5−ビス(ヒドロキシメチル)シクロペンタ[c]チオフェンの無色針状結晶を得た(収量3.07g, 収率89%)。以下に、この化合物の機器分析データを示す。
分解点139〜141℃;1HNMR(270MHz, CDCl3) δ2.23 (t, 2H, J=4.8Hz, OH), 2.62 (s, 4H, CH2), 3.77 (d, 4H, J=4.8Hz, CH2), 6,79 (s, 2H, ArH); 13CNMR(100MHz, CDCl3) δ32.8, 55.9, 69.5, 115.4, 145.9; IR(KBr) ν3000-3600cm-1(OH), MS(DI)m/z 184(M+); 元素分析:C9H12O2Sに基く計算値: C,58.67; H,6.56%. 実測値:C,58.55; H,6.74%
以下のようにして、出発原料5,5-ビス(ヒドロキシメチル)シクロペンタ[c] チオフェンから5,5-ビス(tert-ブチルジフェニルシリルオキシ)シクロペンタ[c] チオフェン(1T)を合成した。すなわち、まず、 5,5-ビス(ヒドロキシメチル)シクロペンタ[c] チオフェン(1.35g, 7.3mmol)とイミダゾール (2.01g, 29.6mmol)のジメチルホルムアミド溶液(25mL)を調製した。次に、これにtert-ブチルジフェニルシリルクロライド(5mL, 19.5mmol)を室温で滴下し、4時間撹拌した。このようにして得られた反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。そして、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過して不溶物を除いた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ(ヘキサン/クロロホルム (3:1))で単離精製し、化合物 (1T)を無色固体として得た(収量4.69g, 収率97%)。以下に、この化合物(1T)の機器分析データを示す。
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 1.03 (s, 18H), 2.60 (s, 4H), 3.74 (s, 4H), 6.69 (s, 4H), 7.26-7.42 (m, 12H), 7.60-7.64 (m, 8H). 13CNMR(CDCl3): δ19.48, 26.94, 32.74, 57.95, 66.25, 114.67, 127.53, 129.44, 133.45, 135.50, 146.58.
まず、化合物(1T) (823 mg, 1.24mmol)のテトラヒドロフラン溶液(14mL)を調製した。次に、この溶液を0℃に冷却し、その温度でn−ブチルリチウム (1.9mL, 1.6Mヘキサン溶液)を滴下し、1時間撹拌した。さらに、鉄アセチルアセトナート(888 mg, 2.51mmol)を加え、80℃まで昇温させた後、一晩還流させた。反応終了後、得られた反応液を室温まで冷却し、水にあけ、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これを濾過して不溶物を除いた後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラム(ヘキサン/クロロホルム (2:1))で単離精製を行い、化合物(2T)を黄色固体として得た(収量700mg, 収率86%)。以下に、この化合物(2T)の機器分析データを示す。
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 1.03 (s, 36H), 2.60 (s, 4H), 2.73 (s, 4H), 3.76 (s, 8H), 6.59 (s, 2H), 7.21-7.36 (m, 24H), 7.60-7.65 (m, 16H). 13CNMR(CDCl3): δ19.48, 26.99, 33.06, 34.05, 57.98, 66.35, 113.13, 127,53, 127.56, 133.30, 133.43, 135.49, 135.51, 141.88, 146.85. MS (m/z) : 1326.1 (M+).
原料として、化合物(1T)に代えて(2T)を用いること、および、反応温度を0℃に代えて−78℃とすること以外は、化合物(2T)の合成と同様の方法で反応および精製を行ない、化合物(4T)を合成した。(収量737mg, 収率60%)。以下に、この化合物(4T)の機器分析データを示す。
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 0.89 (s, 36H), 0.90 (s, 36H), 2.47 (s, 4H), 2.59 (s, 4H), 2.64 (s, 8H), 3.67 (s, 8H), 3.73 (s, 8H), 6.48 (s, 2H), 7.03-7.25 (m, 24H), 7.46-7.57 (m, 16H). 13CNMR(CDCl3): δ19.41, 26.93, 26.97, 33.64, 34.09, 34.78, 57.88, 57.97, 66.16, 113.23, 125.99, 126.07, 127.49, 127.53, 127.56, 129,42, 133.04, 133.07, 133.38, 133.49, 135.46, 135.50, 141.36, 141.83, 142.56, 147.21. MS (m/z) : 2643.5 (M+).
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 0.89 (s, 36H), 0.93 (s, 36H), 1.00 (s, 36H), 2.53 (s, 4H), 2.63 (s, 12H), 2.66 (s, 4H), 2.68 (s, 4H), 3.72 (s, 8H), 3.78 (s, 16H), 6.55(s, 2H), 7.04-7.32 (m, 72H), 7.49-7.62 (m, 48H). MS (m/z) : 3963.3 (M+).
原料として、化合物(1T)に代えて(4T)を用いること、および、反応温度を0℃に代えて−78℃とすること以外は、化合物(2T)の合成と同様の方法で反応および精製を行ない、化合物(8T)を合成した。(収量176mg, 収率30%)。以下に、この化合物(8T)の機器分析データを示す。
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 0.87 (s, 72H), 0.93 (s, 36H), 0.95 (s, 36H), 2.54-2.66 (m, 32H), 3.63 (m, 32H), 6.56 (s, 2H), 7.03-7.25 (m), 7.46-7.57 (m). MS (m/z) : 5270.7 (M+).
1HNMR(CDCl3-TMS) : δ 0.84-0.94 (m), 2.59 (m), 3.76 (m), 6.56 (s), 7.06-7.33 (m), 7.51-7.59 (m). MS (m/z) : 7758.1 (M+).
上記の通り合成した本実施例の化合物について、分子構造および電気的性質を測定した。
Claims (15)
- 下記式(I)で表される化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
Y1〜Y6は、それぞれ独立に、酸素原子であるか、または存在せず、
R1〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜18の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜18の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、または9−アントリル基であり、
Zは、下記式(i)〜(vii)のいずれかで表される原子または原子団であり、
X1およびX2は、それぞれ独立に、水素原子またはメルカプト基であり、
nは正の整数である。 - R1〜R6が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分枝アルキル基、炭素数2〜6の直鎖もしくは分枝不飽和炭化水素基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、または9−アントリル基である請求項1に記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- R1〜R6が、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントリル基、2−アントリル基、または9−アントリル基であり、
R7が、水素原子またはメチル基である、
請求項1または2に記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。 - nが1〜96である請求項1〜4のいずれかに記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- nが2の倍数である請求項5に記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- nが1、2、4、6、8、12または16である、請求項5に記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩。
- X1およびX2が水素原子であり、n=1である請求項1に記載の式(I)で表される化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を製造する方法であり、X1およびX2が水素原子であり、n=1である請求項1に記載の式(I)で表される化合物が下記式(VI)で表される化合物であり、下記式(III)〜(V)で表される化合物のカップリング反応により下記式(VI)で表される化合物を製造する工程を含む製造方法。
Y1〜Y6、R1〜R6およびZは、それぞれ請求項1に記載の前記式(I)におけるY 1 〜Y 6 、R 1 〜R 6 およびZと同じであり、Hal1およびHal2は、それぞれ独立に、塩素、臭素またはヨウ素である。 - 請求項8に記載の前記式(VI)で表される化合物を重合させる工程を含む、請求項1に記載の式(I)で表される化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩を製造する方法。
- 前記重合工程により得られた生成物をさらに重合させる工程を含む、請求項9に記載の製造方法。
- 前記重合が、有機リチオ化剤を用いた酸化的重合である、請求項9または10に記載の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩からなる分子集合体であり、前記分子集合体中における前記化合物分子の重合度nが均一である分子集合体。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩、または請求項13に記載の分子集合体を含む、電子材料。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の化合物、その互変異性体もしくは立体異性体、またはそれらの塩、または請求項13に記載の分子集合体を含む、半導体。
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