JP4497841B2 - Semiconductor device manufacturing process control system, semiconductor device manufacturing process control method, and program - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置の製造プロセス制御システムに関し、特に各製造プロセスにおける製造装置の状態に応じて適正な制御を行い、半導体装置を均一性良く高精度に製造するための半導体装置の製造プロセス制御システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年の半導体装置の製造プロセスにおいては、製造する半導体装置の微細化、高密度化に伴い、半導体装置の精度維持や半導体製造装置の状態維持の管理が一層厳しいものとなってきている。最近では、MES(Manufacturing Execution System)など、生産ラインに流れる製品の製造プロセスで用いられる半導体製造装置、半導体製造装置での処理条件、作業データなどを全てコンピュータ管理するシステムも普及してきている。このような製造管理システムにより、品質向上、歩留り向上、作業ミス低減などを図り、半導体装置の効率的な生産が支援されつつある。
【0003】
ところが実際の製造過程では、半導体の微細化や高密度化が進めば、半導体製造装置における処理が、必ずしもその半導体製造装置が安定して処理できる条件下で行われるとは限らなくなり、製品となる半導体装置の仕上がり精度が低下してしまう場合も起こり得る。また、通常、半導体製造装置は、長時間運転すると、その調整値が変化してしまったり消耗部品が劣化してしまったりするので、処理状態が少しずつ変わっていく傾向がある。そこで、そのような半導体製造装置の状態変化が生じても半導体装置の仕上がり精度を均一性良く安定して維持できるよう、半導体製造装置の状態変化を監視しながら、それに応じた適正な補正を行うための制御システムも用いられるようになってきている(例えば特許文献1参照)。最近では、SEMATECガイドラインで提言されているAPC(Advanced Process Control)システムがその代表である。
【0004】
このようなAPCシステムなどの製造プロセス制御システムをMESなどの製造管理システムに組み合わせた従来の半導体装置製造システムは、プロセス制御に必要な演算を行うAPCシステムが、データを保有しているMESから必要なデータを貰い受ける構成になっている。例えば、APCシステムがMESの管理下に置かれたある半導体製造装置に対して制御を行おうとした場合に、APCシステムにその制御に必要なデータがMESから送信されることになる。そして、APCシステムは、そのデータを受信すると、その内容から最適な制御条件(以下「レシピ」という。)を、あらかじめ設定されているアルゴリズムに従って演算により求める。MESは、所定のタイミングでAPCシステムに対してレシピの問い合わせを行い、その問い合わせを受けてAPCシステムからMESへレシピが送信され、そのレシピに応じて半導体製造装置に対する制御が実行される。
【0005】
【特許文献1】
特開2002−312014号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の製造プロセス制御システムには、以下に示すようないくつかの問題点があった。
【0007】
まず、前述のようにAPCシステムを既存のMESと連携させる場合には、MES側に大規模な改造が必要になる。例えば、APCシステムで演算を行うために、MESで取得されたデータをMESが適当なタイミングでAPCシステムに送信するような機能の組み込みが挙げられる。従って、既存のMESにAPCシステムを導入するには膨大な費用がかかり、さらに、MESを長期間停止させることが必要になる場合もあるため、半導体装置の製造に致命的なダメージを与えかねない。
【0008】
また、従来のAPCシステムでは、演算に用いるデータ量が多い場合やAPCシステムが備える演算のアルゴリズムが複雑な場合には、演算に時間を要してしまい、MESがAPCシステムにデータを送信し最終的に半導体製造装置で制御が行われるまでのタイムラグが、プロセス制御に支障をきたすこともある。
【0009】
さらに、従来のAPCシステムでは、演算に必要なデータがAPCシステムに一括して送信され、データとアルゴリズムとが1対1の関係にない場合には、データ収集方式を工夫する必要が出てくる。例えば、APCシステムとMESとの間に、MESのデータを収集するための別のシステムであって、APCシステムにおけるアルゴリズムを考慮した形でデータを収集してAPCシステムにまとめて送信するシステムが設けられる。このようなデータ収集システムは、複数のシステムで実現される場合もある。しかし、各製造プロセスについてのアルゴリズム開発のほか、それに合わせたデータ収集システムの開発も必要になるので、デバックなどの工数が非常に多くなってしまう。
【0010】
このようなデータ収集システムを用いる場合には、その内部に各製造プロセスについてのアルゴリズムを書き込み、演算を行うようにすることも行われている。しかし、この場合、演算処理機能をデータ収集システムに組み込める一方で、データ収集システムで演算履歴やその他のシステム管理までをも行うことは難しい。そのため、各製造プロセスに合わせ込んだデータ収集・演算機能が必要になり、さらに、このようなデータ収集システムを他の製造ラインへ展開するには、時間とコストがかかってしまうようになる。
【0011】
このように、APCシステムの導入にはMESの大規模な改造が伴い、また、APCシステムの演算速度の問題が解決されるデータ収集・演算機能の開発も望まれていたため、APCシステムとMESとのシステム連携が困難なものとなっていた。また、これまでMESとAPCシステムとの間におけるレシピの問い合わせ電文に通信規約がなかったため、APCシステムの導入に大変な労力が必要になっていたことも、システム連携の実現を困難なものにする要因のひとつであった。
【0012】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、半導体装置の製造プロセスを管理する既存のシステムに大規模な改造を加えることなく低コストで組み込むことのできる高速・多機能な半導体装置の製造プロセス制御システムを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集し、アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出し、前記トリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、前記フィルタ処理後のデータと、前記トリガ信号に基づいて起動される前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成する機能を有する半導体装置の製造プロセス制御システムが提供される。
【0014】
例えば図3に示すように、製造プロセス制御システムであるAPCシステム10が、製造管理システムであるMES/CCシステム20に対して問い合わせを行い、半導体装置の製造に用いられる製造装置50の製造データを収集する。そのため、製造データの収集に関しMES/CCシステム20側にAPCシステム10との同期調整は不要であり、APCシステム10を半導体製造システム1に組み込むに当たり、MES/CCシステム20に大規模な改造を加えることを要しない。さらに、収集された製造データにはフィルタ処理が施され、製造データから特定のアルゴリズムによる演算に必要なデータが選択され、半導体製造装置の処理を制御する最適レシピが高速で生成されるようになる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
図1はAPCシステムの適用例を示す図である。
【0016】
APCシステム10は、各製造プロセスで用いられる半導体製造装置に状態変化が生じても、製品の仕上がり精度を均一性良く安定して維持できるよう、その状態変化に応じてその処理を適正に制御するための製造プロセス制御システムである。
【0017】
このようなAPCシステム10は、例えば、各製造プロセスの製造装置(半導体製造装置のほか、最終製品または製造過程における製品の特性評価のための測定装置を含む)の処理条件や作業データなどをコンピュータ管理するMESに、各製造装置のオンライン自動化システム(Cell Controller,CC)が組み合わされているシステム(以下「MES/CCシステム」という。)20と、LAN(Local Area Network)などの電気通信回線により接続され、各種データの双方向通信ができるように構成されている。これにより、APCシステム10は、MES/CCシステム20に管理された各製造装置で取得されるデータを用いて、所定のアルゴリズムに従って演算を実行して最適レシピを生成し、一方、MES/CCシステム20は、その最適レシピを用いて所定の半導体製造装置の処理を制御するようになっている。なお、各製造装置で取得されるデータとは、主に、半導体製造装置での処理条件や、その半導体製造装置の処理前後に行われる測定装置による前測定および後測定の測定条件および測定データである。
【0018】
また、APCシステム10は、図1に示したように、MES/CCシステム20のほかにも、同様に、ファシリティシステム110、FDC(Fault Detection and Classification)システム120、YMS(Yield Management System)130、EES(Equipment Engineering System)140、TCAD(Technology Computer Aided Design)システム150、ディスパッチシステム160など、その他の製造支援システム(以下「外部システム」という。)とも接続可能である。APCシステム10は、MES/CCシステム20からのデータと共に、外部システムからのデータ(以下「外部データ」という。)を用いて演算を行い、必要に応じてその演算結果をMES/CCシステム20の処理に反映させることができるようになっている。このようにAPCシステム10は、製造管理システムや外部システムなどの種々のシステムと連携して半導体製造システム1を構成している。
【0019】
なお、ファシリティシステム110とは、製造ラインにおける温度、気圧、ガス流出量、供給電圧などの設備環境を管理するシステムであり、設備環境に関するデータを、プロセス制御に反映させるよう、LANなどを介してAPCシステム10に伝達する。
【0020】
FDCシステム120とは、さまざまな測定値やセンサ出力値などから製造プロセスの障害となる欠陥を検知したり分類したりするシステムであり、検知や分類の結果を、プロセス制御に反映させるよう、LANなどを介してAPCシステム10に伝達する。
【0021】
YMS130とは、歩留り管理システムであり、製造ラインの各製造プロセスにおける歩留りに関するデータを、MES/CCシステム20からAPCシステム10経由でLANなどを介して取得する。
【0022】
EES140とは、製造装置の有効稼働率の改善や性能維持・向上を目的とした業務、例えば、製造ライン能力の維持・向上、製造装置状態のモニタおよびトラブルシューティング、製造装置の性能改善、製造装置サプライヤとのコラボレーション(改善、トラブルシューティング)などに利用するシステムであり、これらに利用可能なデータを、MES/CCシステム20からAPCシステム10経由でLANなどを介して取得する。
【0023】
TCADシステム150は、製造される製品である半導体装置の特性をその設計データからシミュレーションにより推定するシステムであり、シミュレーションの結果を、プロセス制御に反映させるよう、LANなどを介してAPCシステム10に伝達する。
【0024】
ディスパッチシステム160とは、生産ラインにある製造装置の修理技術者が、ノートPCや携帯電話などを用いて、自身が行っている作業の状況(どのエリアで作業を行っているか、作業の進捗はどうか、など)や他の修理技術者が行っている作業の状況を把握することを可能にしたシステムである。
【0025】
図2は半導体製造システムの一例の構成概略図である。
半導体製造システム1の一部を構成するAPCシステム10には、例えば、図2に示すように、アプリケーションサーバ11、CORBA(Common Object Request Broker Architecture)ネームサーバ12、演算サーバ13およびデータベースサーバ14が備えられている。
【0026】
アプリケーションサーバ11は、APCシステム10が有すべき処理機能を実現するためのアプリケーションプログラムを恒常的あるいは一時的に格納しており、そのアプリケーションプログラムの処理の実行および管理を行うようになっている。アプリケーションプログラムとしては、例えば、MES/CCシステム20から所定のタイミングで収集する製造データを後述のデータベースサーバ内に所定の分類で系統立てて格納するためのプログラム、そのようにデータを分類する際にそのデータ内の所定の項目だけを選択するフィルタ条件(フィルタ項目)を設定するためのプログラム、いずれの製造装置のデータを用いてレシピ演算を行うかを設定するためのプログラム、レシピ演算に用いるアルゴリズムを特定したり開発中あるいは既存のアルゴリズムについてシミュレーションを行う際の条件を設定したりするためのプログラムなどである。
【0027】
CORBAネームサーバ12は、OMG(Object Management Group)が策定する分散システム環境のインフラを標準化したミドルウェアであるCORBAによる処理の実行および管理を行うようになっている。CORBAは、あらゆるオブジェクトのインタフェースをIDL(Interface Definition Language)と呼ばれる言語で定義し、このIDLにより異機種異言語の相互運用を実現するものである。APCシステム10におけるサーバ間の通信は、このようなCORBAを用いて行われるようになっている。
【0028】
演算サーバ13は、後述のデータベースサーバ内に格納されているアルゴリズムを用いてレシピの演算を行えるようになっている。演算に用いられるアルゴリズムは、フィルタ条件によって特定され、演算サーバ13で起動されるようになっている。さらに、この演算サーバ13は、開発中あるいは既存のアルゴリズムによる演算のシミュレーションも行うことができるようになっている。
【0029】
データベースサーバ14は、演算サーバ13での演算の結果生成されるレシピが格納される演算結果データベース、アルゴリズムのシミュレーション結果が格納されるシミュレーション結果データベース、演算の実行に用いたデータやその演算の中間結果を示す演算実行情報を格納してログとして管理するためのログ管理データベースを有している。さらに、データベースサーバ14は、APCシステム10によってMES/CCシステム20から収集された製造データが格納される製造履歴データベース、演算に用いるアルゴリズムが格納されるアルゴリズムデータベース、およびフィルタ条件がAPCフィルタデータとして格納されるAPCフィルタデータベースを有している。
【0030】
このように、APCシステム10は、その処理の目的に応じたサーバが物理的に分散して設けられており、それぞれの処理を独立してあるいは平行して迅速に行えるように構成されている。
【0031】
このような構成を有するAPCシステム10は、基幹LAN30aを介してAPC操作端末40に接続されている。このAPC操作端末40からAPCシステム10の上記各サーバに対して、各種設定・変更、データ入力および処理実行命令などの操作が行えるようになっている。直接的には、APC操作端末40からアプリケーションサーバ11のアプリケーションプログラムを用いて各種設定などが行われる。また、APC操作端末40を用いて、APCシステム10内のデータを参照して解析を行ったり、開発中または既存のアルゴリズムについてのシミュレーションなどを行ったりすることができるようになっている。
【0032】
さらに、基幹LAN30aにはMES/CCシステム20が接続され、APCシステム10とMES/CCシステム20との間でデータ通信が行えるようになっている。MES/CCシステム20は、LAN30bを介して、製造ラインの製造装置50に接続され、製造装置50での処理条件、測定条件、測定データなどをコンピュータ管理する。製造装置50での処理終了後に得られる製造データは、製造装置50からMES/CCシステム20へ送信された後、さらにAPCシステム10へ送信されて処理され、その処理に応じて処理後のデータが所定のデータベースに格納されるようになっている。さらに、基幹LAN30aには、図1に例示したようなその他の外部システム100も接続され、APCシステム10との間でそれぞれデータ通信が行われるようになっている。
【0033】
なお、この図2には3台のAPC操作端末40を図示したが、その台数はこれに限定されるものではない。また、図2には1台の製造装置50のみ図示したが、これと同様に、通常は製造ライン内の複数の半導体製造装置や測定装置がLAN30bを介してMES/CCシステム20に接続されている。
【0034】
また、この図2に示したAPCシステム10は、CORBAネームサーバ12にさらにWEBサーバとしての機能が付加され、WAN(Wide Area Network)30cを介して外部端末60に接続され、異なる製造拠点とデータ通信ができるようになっている。半導体製造システム1では、このような外部端末60からデータ参照用の汎用ツールなどを用いて、APCシステム10が保有しているデータを参照して解析を行ったり、APCシステム10が保有している開発中または既存のアルゴリズムについてのシミュレーションを行ったりすることもできるようになっている。
【0035】
図3は半導体製造システムにおける処理の概略説明図である。この図3では、MES/CCシステム20とAPCシステム10との間で行われる処理を例にして説明する。
【0036】
半導体製造システム1において、APCシステム10の処理は、大きく分けて、他システムデータ連携機能実行プロセス200、APCデータベース連携機能実行プロセス210、APCシステム実行ログ管理実行プロセス220、APCフィルタ管理実行プロセス230、APC演算処理機能実行プロセス240、アルゴリズムシミュレーション機能実行プロセス250、WWW(World Wide Web)実行プロセス260の7つの実行プロセスにより行われる。各実行プロセス間のデータ通信は、主にCORBAを用いて行われる。
【0037】
まず、製造装置50はその処理を終了した後、その処理によって取得された製造データを、MES/CCシステム20に送信する。この製造データには、処理条件、測定条件、測定データのほか、主に、この製造データの管理番号(システムIDなど)、どの製品に関する製造データであるかを示す品種名、どの半導体製造装置に関する製造データであるかを示す装置名、どの段階の製造プロセスにおける製造データであるかを示す大工程名称や小工程名称、処理が行われた日時などを示すイベント情報、この測定データが取得されたMES/CCシステム20に関する情報などの項目が含まれている。さらに、この製造データとは別に後述のアルゴリズム起動のためのトリガ信号の情報もデータベースに格納される。
【0038】
製造装置50からMES/CCシステム20に送信された製造データは、MES/CCシステム20内に設けられたデータベース(図示せず)に格納される。このデータベースは、MES/CCシステム20で管理された生産ラインの品質管理上、通常設けられているものであり、APCシステム10との連携に際して、そのデータ構造などに関し、特に改造は要しない。
【0039】
APCシステム10は、MES/CCシステム20に対して、製造データを問い合わせる。この問い合わせは、APCシステム10が主導で行い、MES/CCシステム20には同期調整は不要である。このAPCシステム10からMES/CCシステム20への問い合わせのタイミングは、APCシステム10の起動前に設定される。例えば、製造装置50による処理が終了してその製造データがMES/CCシステム20に送信されてから、製造装置50による次の処理が終了してその製造データがMES/CCシステム20に送信されるまでのインターバル、すなわち製造装置50での処理が完了するタイミングを、問い合わせのタイミングとして設定する。製造装置50が複数ある場合には、各製造装置50の処理時間に応じて問い合わせのタイミングを設定する。このようなデータ収集に関する設定は、図1のAPC操作端末40からアプリケーションサーバ11のアプリケーションプログラムを用いて行うことができる。
【0040】
APCシステム10からの問い合わせに対し、MES/CCシステム20はそのデータベースに格納している製造データをAPCシステム10に送信し、APCシステム10は、製造データを受信し、APCシステム10内に格納する。その際、APCシステム10に受信された製造データは、収集データ一時格納領域に格納される。この収集データ一時格納領域は、例えば図1のデータベースサーバ14のデータベース(いずれのデータベースであっても構わない)内に別に用意した記憶領域やAPCシステム10に接続された外部記憶装置、外部記憶媒体などである。なお、収集データ一時格納領域へ製造データを格納する際には、APCシステム10が前に格納した製造データと異なる製造データを受信したときにのみ、その製造データを収集データ一時退避領域に格納するようにしてもよい。
【0041】
APCシステム10では、MES/CCシステム20から製造データを受信すると、受信プロセスから他システムデータ連携機能実行プロセス200に移行する。この他システムデータ連携機能実行プロセス200では、収集した製造データに対してフィルタ処理が施され、その製造データに含まれる全項目のうち、あらかじめAPCシステム10の製造履歴データベース14dに格納するよう設定された項目の製造データのみが選択される。そして、この他システムデータ連携機能実行プロセス200では、選択された項目の製造データにさらにキー項目などその他の付帯情報が付与される。
【0042】
その後、APCシステム10では、APCデータベース連携機能実行プロセス210に移行する。APCデータベース連携機能実行プロセス210では、他システムデータ連携機能実行プロセス200でフィルタ処理されて付帯情報が付与された製造データを、製造履歴データベース14dに格納する。なお、ここでは他システムデータ連携機能実行プロセス200において、収集した製造データから選択した項目のみを製造履歴データベース14dに格納するようにしたが、収集した製造データの全項目をキー項目を付与して製造履歴データベース14dに格納するようにしても構わない。
【0043】
また、APCシステム10では、製造データにトリガ信号が含まれている場合には、他システムデータ連携機能実行プロセス200で処理された製造データは、レシピ演算のため、APCフィルタ管理実行プロセス230においても処理される。APCフィルタ管理実行プロセス230で用いる製造データは、他システムデータ連携機能実行プロセス200からそのまま引き継いでも、APCデータベース連携機能実行プロセス210によって一旦製造履歴データベース14dに格納されたデータを抽出してきても、いずれであっても構わない。
【0044】
APCフィルタ管理実行プロセス230では、あらかじめフィルタ条件が設定されているAPCフィルタデータ230aを用いてフィルタ処理が施され、このフィルタ処理によってレシピ演算に必要な項目が選択され、その演算に用いるアルゴリズムが特定される。ここで用いられるアルゴリズムは、あらかじめ作成されてアルゴリズムデータベース14eに格納されている必要があり、フィルタ処理の際には、そのフィルタ条件に応じて、例えばそれぞれのアルゴリズムに付与されているID番号などの識別情報で識別されて特定されるようになっている。APCシステム10は、このAPCフィルタ管理実行プロセス230でデータを選択し、アルゴリズムを特定して、APC演算処理機能実行プロセス240に移行する。なお、APCフィルタデータの詳細については後述する。
【0045】
APC演算処理機能実行プロセス240では、先のAPCフィルタ管理実行プロセス230でのフィルタ処理で特定されたアルゴリズムが起動され、APCフィルタ管理実行プロセス230で選択された項目のデータを用いた演算エンジン240aによるレシピ演算が行われる。
【0046】
演算後のレシピは、再びAPCデータベース連携機能実行プロセス210で、APCシステム10の演算結果データベース14aに格納される。その際は、レシピ演算に関する演算実行情報をログとして、これをAPCシステム実行ログ管理実行プロセス220でAPCシステム10のログ管理データベース14cに格納する。
【0047】
MES/CCシステム20は、ロット処理を行う際、その処理のための最適レシピをAPCシステム10に問い合わせる。APCシステム10は、演算結果データベース14a内を検索し、その問い合わせに対して該当する最適レシピが存在する場合には、それを演算結果データベース14aから抽出し、MES/CCシステム20に送信する。MES/CCシステム20は、受信した最適レシピを該当する製造装置50に送信し、製造装置50での処理がその最適レシピで制御されるようになる。
【0048】
半導体製造システム1では、このような処理が繰り返し実行され、半導体装置の製造が行われる。なお、APCシステム10とMES/CCシステム20との間の通信方法に関しては後述する。
【0049】
また、APCシステム10によるアルゴリズムシミュレーションでは、収集された製造データから特定の項目のデータを抽出してデータ解析が行われ、必要に応じてそのデータ解析結果を利用して、開発中または登録済みのアルゴリズムを起動して演算を行い、その動作確認や演算結果の検証が行われる。
【0050】
アルゴリズムシミュレーションの際は、アルゴリズムシミュレーション機能実行プロセス250で、開発中または登録済みのアルゴリズムを特定し、必要に応じて新たにフィルタ条件を設定し、APCフィルタ管理実行プロセス230で演算に必要な項目のデータを選択して、特定されたアルゴリズムを起動して演算を行う。このAPCフィルタ管理実行プロセス230で用いるデータは、他システムデータ連携機能実行プロセス200から引き継いでも、APCデータベース連携機能実行プロセス210によって一旦製造履歴データベース14dに格納されたデータを抽出しても、いずれであっても構わない。このようなアルゴリズムシミュレーションにより、そのアルゴリズムで演算されるレシピが適当であるか、あるいはアルゴリズムに用いられるパラメタが適当であるかなどを調べることができる。
【0051】
なお、このアルゴリズムシミュレーションにより得られる演算結果は、APCシステム10のシミュレーション結果データベース14bに格納され、製品製造時に演算結果データベース14aに格納される演算結果と別個に管理される。そのため、シミュレーション結果が製品の仕上がり履歴に影響を及ぼすことはない。
【0052】
また、WWW実行プロセス260では、演算結果データベース14aに格納されている演算結果や製造履歴データベース14dに格納されている過去の製造データのトレンドを、ブラウザを用いて参照することができる。さらに、シミュレーション結果データベース14bに格納されているシミュレーション結果を参照することも可能である。
【0053】
また、このAPCシステム10は、製造データを収集する際にその製造データを収集データ一時格納領域に格納するので、図2のデータベースサーバ14にトラブルが発生しても、製造データを欠落させることなく製造履歴データベース14dを復元させることができるようになっている。
【0054】
図4は半導体製造システムの処理のフロー図である。
上記概略説明で述べたように、半導体製造システム1を運用するためには、まず、第1の事前作業として、相関が予測される項目のデータについてそのトレンドを調査し、それを基にアルゴリズムを作成しておく必要がある。さらに、第2の事前作業として、APCシステム10がMES/CCシステム20に対して製造データを問い合わせるタイミングを、例えばタイマーなどで設定しておく必要がある。さらに、第3の事前作業として、収集した製造データをフィルタ処理するためのフィルタ条件(フィルタの名称やバージョンに関する情報を含む)や、フィルタ条件によって選択されるデータを演算に用いるアルゴリズムをID番号と共に設定しておく必要がある。
【0055】
半導体製造システム1において、APCシステム10は、まず、製造データをMES/CCシステム20から所定のタイミングで収集する(ステップS1)。APCシステム10は、収集した製造データをフィルタ処理して製造履歴データベース14dに格納する(ステップS2)。同時に、APCシステム10は、トリガ信号を検出して、収集した製造データが所定のフィルタ条件に合致しているか否かを判定する(ステップS3)。ここで、APCシステム10は、収集した製造データがフィルタ条件に合致していると判断した場合には、そのフィルタ条件で設定されているアルゴリズムを特定し、そのアルゴリズムを用いて演算を開始する(ステップS4)。APCシステム10は、演算実行情報をログ管理データベース14cに格納し(ステップS5)、最終的な演算結果(レシピ)は演算結果データベース14aに格納して(ステップS6)、演算を終了する(ステップS7)。
【0056】
演算終了後は、APCシステム10は、ステップS1に戻ってそれ以降の処理を実行し、さらに、その演算途中に別の製造データの収集タイミングがきたときにはその製造データに関する演算を平行して実行する。換言すれば、APCシステム10は、レシピを生成するための演算処理を、製造データの収集処理と独立して実行するようになっている。また、APCシステム10は、ステップS3において、収集した製造データがフィルタ条件に合致していないと判断した場合には、ステップS1に戻り、それ以降の処理を実行する。
【0057】
MES/CCシステム20を用いた半導体装置製造段階では、製造装置50でのトラッキング処理が開始されると(ステップS10)、MES/CCシステム20は、まず、APCシステム10に最適レシピを問い合わせる(ステップS11)。APCシステム10は、演算結果データベース14aからその問い合わせに該当する最適レシピを抽出し、MES/CCシステム20に最適レシピを応答する(ステップS12)。MES/CCシステム20は、受信した最適レシピを該当する製造装置50に送信し、製造装置50はその最適レシピで製造を開始する(ステップS13)。
【0058】
また、データ解析を行うとき、アルゴリズムを作成するとき、あるいはアルゴリズムシミュレーションを行うときは、まず、製造履歴データベース14d内の製造データのトレンドを調査する(ステップS20)。例えば、同一ロットについてのエッチング装置でのエッチング時間と寸法測定装置での出来上がり線幅との間のトレンドなどである。そして、そのトレンドに関係する演算結果や演算実行情報を、APCシステム10の演算結果データベース14aやログ管理データベース14cから参照する(ステップS21)。製造履歴データベース14d内の製造データ、演算結果データベース14a内の演算結果、ログ管理データベース14c内の演算実行情報、シミュレーション結果の参照には、図2のAPC操作端末40や外部端末60からアプリケーションサーバ11のデータ参照ツールを起動して行うことができる。
【0059】
以下、上記APCシステム10についてより詳細に説明する。
まず、APCシステム10の各種演算処理について説明する。
図5はAPCシステムにおけるレシピ演算の説明図、図6はAPCシステムにおけるアルゴリズムシミュレーションの説明図である。
【0060】
APCシステム10は、前述のように、演算結果データベース14a、シミュレーション結果データベース14bおよび製造履歴データベース14dを有している。この製造履歴データベース14dには、製造装置50から取得される製造データのほか、上記MES/CCシステム20以外の外部システムからの外部データも格納されるようになっている。
【0061】
さらに、このAPCシステム10は、フィルタ条件によって特定されるアルゴリズムを演算の際に起動するためのトリガ信号を製造データの中から検出するプロセス制御フィルタ部15を有する。このプロセス制御フィルタ部15は、図2のアプリケーションサーバ11内に備えられている。トリガ信号は、例えば最適レシピを適用すべき半導体製造装置の制御に必要となる製造データを生成する製造装置50での処理が完了した時点を示す信号である。APCシステム10では、プロセス制御フィルタ部15でトリガ信号が検出されると、レシピ演算のため、製造データにフィルタ処理が施されてフィルタ条件に合致する項目のデータが選択されるとともに、そのフィルタ条件でアルゴリズムが特定されるようになっている。
【0062】
また、APCシステム10は、製造履歴データベース14dから演算に必要な製造データや外部データを抽出するデータ抽出部16と、製造データや外部データを用いてアルゴリズムによる演算を行うアルゴリズム演算部17と、アルゴリズム演算部17で得られる演算結果を演算結果データベース14aまたはシミュレーション結果データベース14bに格納するデータ格納部18とを有している。データ抽出部16は図2のアプリケーションサーバ11内に、アルゴリズム演算部17は図2の演算サーバ13内に、データ格納部18は図2のデータベースサーバ14内に、それぞれ備えられている。
【0063】
図5に示したレシピ演算は、プロセス制御フィルタ部15でトリガ信号が検出されることによって開始される。レシピ演算が開始すると、製造装置50側から収集された製造データや外部データ、あるいは製造履歴データベース14dからデータ抽出部16によって抽出された製造データや外部データにフィルタ処理が施されて、選択された項目のデータがアルゴリズム演算部17に伝達され、そのフィルタ処理によって特定されるアルゴリズムが起動する。アルゴリズム演算部17は、伝達されたそのデータと起動されたアルゴリズムを用いて最適レシピの演算を行う。最適レシピは、コンピュータ上で識別可能なステータス情報などが付与されて、データ格納部18によって演算結果データベース14aに格納される。
【0064】
APCシステム10では、データを演算結果データベース14a、シミュレーション結果データベース14bまたは製造履歴データベース14dからデータを抽出するためのデータ参照機能として、アプリケーションサーバ11にデータ参照ツール19aが備えられている。図2のAPC操作端末40からデータ参照ツール19aを用いてデータを抽出することにより、製造装置50の製造履歴を表示し、解析し、解析結果を保存することが可能である。これにより、製造履歴やトレンドを容易に評価でき、また、これらの情報はアルゴリズムシミュレーションにも利用することができる。さらに、データ参照用外部汎用ツール19bを用いて特定項目のデータファイルを図2の外部端末60に取り込めるようにすれば、製造データの解析や整理にかかる工数を大幅に削減することも可能になる。製造履歴の調査は、問題の発生原因や発生時点を特定する際にも有効である。
【0065】
図6に示したアルゴリズムシミュレーションでは、シミュレーションを行うべきアルゴリズムがあらかじめ作成されている必要がある。開発中のアルゴリズムあるいは既存のアルゴリズムのシミュレーションは、APCシステム10に与えられる仮想的なトリガ信号により開始される。アルゴリズムシミュレーションの開始後は、製造装置50側から収集された製造データや外部データ、あるいは製造履歴データベース14dからデータ抽出部16によって抽出された製造データや外部データにフィルタ処理が施される。または、必要に応じて新たなフィルタ条件を設定し、そのフィルタ条件でのフィルタ処理が施される。フィルタ処理によって選択された項目のデータはアルゴリズム演算部17に伝達され、シミュレーションを行うべきアルゴリズムによる演算がアルゴリズム演算部17で実行される。シミュレーションの結果得られる最適レシピは、ステータス情報などが付与されて、データ格納部18によってシミュレーション結果データベース14bに格納される。これにより、開発中のアルゴリズムの動作確認や既存のアルゴリズムの動作や結果の検証などを行うことができ、アルゴリズムの品質や開発効率を向上させることができるようになる。
【0066】
このアルゴリズムシミュレーションは、APCシステム10を停止させることなく行うことができ、開発中や既存のアルゴリズムのほか、現在運用中のアルゴリズムに対してもシミュレーションを行うことが可能であり、さらには、運用中のアルゴリズムを途中で新たなアルゴリズムにバージョンアップすることも可能になる。
【0067】
シミュレーションが行われるアルゴリズムは、あらかじめ製造データや外部データを解析して、そのトレンドに基づくデータ間の相関関係を調査することにより作成される。
【0068】
図7はアルゴリズムシミュレーションのフロー図である。
アルゴリズムシミュレーションは、まず、エッチング時間と出来上がり線幅など、相関が予測される項目の製造データのトレンドを調査する(ステップS30)。このトレンド調査は、図2のAPC操作端末40からアプリケーションサーバ11により実行されるデータ参照ツール19aや、外部端末60からデータ参照用外部汎用ツール19bを用いて行うことができる。
【0069】
次いで、アルゴリズムの起動条件を設定する(ステップS31)。設定項目としては、例えば、そのアルゴリズムの演算に用いるデータ項目、演算に用いる製造データを生成する製造装置50と最適レシピを適用すべき半導体製造装置、データ収集のタイミングと収集期間、フィルタ条件ごとに個別に付与されるフィルタ名称およびフィルタバージョン、その他APCフィルタデータの内容として必要になる項目である。この設定は、図2のAPC操作端末40や外部端末60などからアプリケーションサーバ11により起動されるシミュレーション専用画面で設定することができる。
【0070】
次いで、アルゴリズムを起動し(ステップS32)、製造装置50側から収集される製造データから、あるいは製造履歴データベース14dに格納している製造データ中の収集期間内の製造データから、あらかじめ付与されているキー項目でフィルタ条件に基づきデータが選択される(ステップS33)。さらに、そのキー項目に該当する直近ロットのデータも併せて選択される(ステップS34)。
【0071】
選択されたデータは、APCシステム10のアルゴリズム演算部17に伝達され(ステップS35)、レシピの演算処理が実行される(ステップS36)。演算の中間結果である演算実行情報は、ログ管理データベース14cに格納され(ステップS37)、演算処理が終了する(ステップS38)。最終的な演算結果は、シミュレーション結果データベース14bに格納される(ステップS39)。
【0072】
その後、APCシステム10では、再びデータ参照ツール19aなどを用いて演算結果が参照され(ステップS40)、演算されたレシピが最適なものであるか否かが技術者によって判定される(ステップS41)。ここで、レシピが最適であると判断された場合には、アルゴリズムシミュレーションが終了し(ステップS42)、最適でないと判断された場合には、技術者によってアルゴリズムの修正作業が行われて(ステップS43)、修正後のアルゴリズムを用いてステップS2以降の処理が実行される。
【0073】
なお、上記図5および図6に示したレシピ演算およびアルゴリズムシミュレーションでの演算処理においては、データ抽出部16とアルゴリズム演算部17との間のデータの伝達、およびアルゴリズム演算部17とデータ格納部18との間のデータの伝達は、伝達するデータを所定のファイル形式の構成情報リストに変換して行われる。
【0074】
図8は構成情報リストを用いたデータ伝達の流れを示す図である。
例えば製造履歴データベース14dからデータ抽出部16が抽出した製造データは、フィルタ処理を経て、あらかじめ設定された送信リストに従ってパックされる。これにより、構成情報リストが作成される。この構成情報リストは、CORBAを用いた通信によりアルゴリズム演算部17側に伝達され、アルゴリズム演算部17での演算前に、あらかじめ定められた受信リストに従ってアンパックされる。アルゴリズム演算部17は、アンパックされたデータファイルを用いて、アルゴリズムに従い、最適レシピの演算を行う。外部データの場合も同様に、その外部データが所定の送信リストに従ってパックされ、アルゴリズム演算部17での演算前に所定の受信リストに従ってアンパックされて、演算に用いられる。これにより、APCシステム10は、種々のシステムから得られるデータを用いて、アルゴリズム演算部17で最適レシピの演算を行うことができるようになっている。
【0075】
演算後の最適レシピは、ステータス情報が付与されて、再び送信リストに従ってパックされて、構成情報リストが作成される。構成情報リストは、CORBAを用いた通信によりデータ格納部18側に伝達され、データ格納部18での格納処理前に、再び受信リストに従ってアンパックされる。データ格納部18は、アンパックされた最適レシピやステータス情報を演算結果データベース14aまたはシミュレーション結果データベース14bに格納する。
【0076】
このような構成情報リストによってデータ伝達を行うことにより、使用するデータの項目、測定データ、データの収集個数、アルゴリズムに使用するパラメタを容易に確認できるようになる。さらに、入出力インタフェースを満たしていれば、外部端末60との間でプログラミング言語によらないアルゴリズムの開発環境を提供することができる。
【0077】
また、この構成情報リストにより、アルゴリズム演算部17およびデータ格納部18へのデータ入力形式が規定されるだけでなく、演算結果についてそのステータス情報も規定される。
【0078】
図9は演算結果のステータス情報利用法の一例である。
この図9に示す例では、ステータス情報を利用することにより、例えばアルゴリズムIの演算結果をアルゴリズムIIで利用するといったような、2つのアルゴリズムの連携処理が可能になる。
【0079】
この場合、まず、プロセス制御フィルタ部15でトリガ信号が検出されると、例えば製造履歴データベース14dから製造データが抽出され、フィルタ処理によりデータが選択され、アルゴリズムIが特定される。アルゴリズム演算部17では、アルゴリズムIに従って演算が実行され、その演算結果が演算結果データベース14aに格納される。演算結果は、演算が行われるたびに演算結果データベース14aに格納され、演算履歴データ(N−3,N−2,N−1,N)として蓄積される。その際、各演算履歴データには、データを特定の規則(系列)に従って分類した、コンピュータ上で識別可能なステータス情報(ST)を付与する。
【0080】
その後、プロセス制御フィルタ部15で別のトリガ信号が検出され、アルゴリズムIと連携すべきアルゴリズムIIが特定されたときには、アルゴリズムIを用いた演算結果が演算結果データベース14aから抽出される。その抽出の際には、図9に示したように、演算履歴データのうち、ステータス情報ST=ABCの系列(N−3,N−2,N)だけを抽出するといった条件を付加することができる。そして、これらの共通のステータス情報を有する演算履歴データを用いてアルゴリズムIIによる演算を実行する。このようにステータス情報の条件を付加することで、複数のアルゴリズムを連携させて最適レシピの演算処理が可能になる。また、このようにステータス情報をキーにして、特定系列のトレンド評価など、より詳細なデータ解析を行うことも可能である。
【0081】
次に、APCシステム10からの最適レシピの抽出方法について説明する。
APCシステム10は、演算後の最適レシピを、演算のたびに演算結果データベース14aに格納し保存する。APCシステム10に対して、この最適レシピの問い合わせが行われる場合としては、例えばMES/CCシステム20が最適レシピを該当する製造装置50に適用するために問い合わせてくる場合や、データ解析時に要求する場合がある。APCシステム10は、そのような問い合わせに対し、問い合わせに該当する最適レシピを演算結果データベース14aから抽出し、その最適レシピを問い合わせ元に送信して応答する。APCシステム10における最適レシピの抽出は、処理時間による直近最適レシピの抽出、ロットIDによる直近最適レシピの抽出、フィルタ条件設定時に用いられるキー項目(品種名、装置名、大工程名称、小工程名称、レシピ名称、レシピバージョン、イベント情報など)による抽出などにより行われる。
【0082】
まず、処理時間によりその直近の最適レシピを抽出する場合について述べる。半導体製造装置は、長時間運転することで、経年変化や消耗部品の劣化などから、その処理状態が少しずつ変化してくる傾向があり、特にこのような場合に、処理時間によって最適レシピの抽出を行う。例えば、APCシステム10は、演算結果データベース14aからイベント情報に含まれる処理時間をキーにして、問い合わせ元に対してその処理時間に直近の最適レシピを抽出して送信する。これにより、半導体製造装置の状態が変化しても、製造結果を安定的に維持することが可能になる。
【0083】
また、ロットIDによりその直近の最適レシピを抽出する場合は、ロットごとに最適レシピの抽出を行うことで、製品のばらつきを抑制する。例えば、1ロットを本体ロットとこれに先行して処理を行う先行ロットとに分割し、本体ロットから分割した先行ロットの最適レシピを、分割後の本体ロットに適用する場合などに利用することができる。このようなロット分割を行う場合、通常は、分割した先行ロットに本体ロットの一部を継承したロットIDが付与される。そこで、分割前後のロットIDの共通部分(文字列)をワイルドカードとして、その部分に対してフィルタ処理を行うことで、分割前後のロットごとに最適レシピを抽出する。
【0084】
また、フィルタ条件のキー項目により最適レシピを抽出する場合は、例えば、キー項目として設定されている品種名、装置名、大工程名称、小工程名称、レシピ名称、レシピバージョン、イベント情報などを基に、該当する最適レシピを抽出すればよい。
【0085】
次に、フィルタ条件を構成するAPCフィルタデータについて説明する。
APCシステム10は、あらかじめ設定されたフィルタ条件に基づき、収集された製造データにフィルタ処理を施し、最適レシピ演算に用いる項目のデータを選択する。このフィルタ条件は、APCフィルタデータ230aとしてAPCシステム10のデータベースサーバ14内にある図3のAPCフィルタデータベース14fに格納されている。また、このフィルタ条件には、例えば、フィルタ処理後のデータを用いてフィードバック制御を行うか、フィードフォワード制御を行うかなどの設定を行うこともできる。
【0086】
図10はAPCフィルタデータの構成例を示す図である。
APCフィルタデータは、フィルタ条件管理テーブル300、フィルタ条件データテーブル310、収集データ項目管理テーブル320の3テーブルにより管理される。フィルタ条件データテーブル310および収集データ項目管理テーブル320は、フィルタ条件管理テーブル300によって管理されている。
【0087】
フィルタ条件管理テーブル300は、フィルタ条件を、例えば管理番号(システムID)、フィルタ名称、フィルタバージョン、代表品種名、代表装置名、代表大工程名称、代表小工程名称、代表レシピ名称、代表レシピバージョンなどの項目で分類して設定される。
【0088】
さらに、そのような項目で分類されたデータが、管理番号(システムID)、フィルタバージョン、装置名、大工程名称、小工程名称、レシピ名称、レシピバージョンなどの各項目で分類されるよう、その分類条件がフィルタ条件データテーブル310に登録される。このフィルタ条件データテーブル310には、アルゴリズムを起動するためのキー項目の条件が登録され、そのキー項目のデータがトリガ信号になって、処理ロットがこのフィルタ条件データテーブル310に示す条件に合致しているか否かが判別され、合致している場合には、その条件に該当するアルゴリズムが特定されるようになる。
【0089】
さらに、データが、管理番号(システムID)、フィルタバージョン、装置名、収集イベントID、収集イベント名、演算処理に使用する変数名、コメント領域、収集先システム情報の各項目で分類されるよう、その分類条件が収集データ項目管理テーブル320に登録される。この収集データ項目管理テーブル320には、最適レシピ演算に用いるデータの項目が登録され、この収集データ項目管理テーブル320に示す条件に合致する場合に、アルゴリズムに与える引数として該当項目のデータが抽出されて最適レシピ演算に用いられる。
【0090】
APCシステム10は、フィルタ条件データテーブル310に基づいて該当するアルゴリズムを特定し、収集データ項目管理テーブル320に基づいて最適レシピ演算に用いる該当項目のデータを抽出し、特定されたアルゴリズムを起動して演算を実行する。その際、APCシステム10は、フィルタ条件データテーブル310および収集データ項目管理テーブル320に設定されたフィルタ条件によって抽出したデータを、必要に応じて変数変換処理を行って演算に用いる。
【0091】
なお、フィルタ条件管理テーブル300、フィルタ条件データテーブル310および収集データ項目管理テーブル320の項目の設定は、APCシステム10運用開始前のシステム初期設定時に、ユーザが製造現場に応じて、APC操作端末40などから自由に設定することができ、製造現場ごとに最適な項目で条件設定を行うことが可能になっている。
【0092】
次に、システム間データ連携機能について述べる。
量産プロセスでは、製造装置の経年変化や部品の消耗によって装置状態が変化すると、最適レシピを算出しても、その処理状態が変化してしまう場合が起こり得る。APCシステム10では、装置状態の変化をアルゴリズムにデータとして取り込むことにより、最適レシピの演算結果に補正量を見込んで最適化を行う。装置状態の変化をデータとして取り込むために、従来では、MES/CCシステム20が保有している製造装置のサマリデータ(最大、最小、平均値)を利用することはできたが、装置状態の変化を的確に捉えるためには、FDCシステム120によって収集する製造装置のリアルタイムなデータを利用することが望ましい。
【0093】
そこで、このAPCシステム10では、FDCシステム120のリアルタイムデータをウェーハ単位、レシピ単位で登録する。このFDCシステム120との連携では、FDCシステム120にて収集したリアルタイムデータを、ウェーハ単位あるいはレシピ単位に集計した後に、APCシステム10のデータベースへと格納する。その際には、ロットID、ウェーハナンバー、ステップナンバーなどのキー項目に、MES/CCシステム20から収集するデータのキー項目を加えて、APCシステム10の製造履歴データベース14dに格納する。これにより、APCシステム10は、レシピ演算に必要なデータとして、MES/CCシステム20からのデータと同じようにFDCシステム120からのデータを用いることが可能になる。その際には、必要に応じてデータを構成情報リストに変換して演算に用いる。また、外部端末60などから製造履歴データベース14d内の製造データや外部データを参照できるようにすることで、プロセス処理状態や特性向上のためのデータ解析を行うことが可能になる。
【0094】
また、一般に、半導体装置を製造する上で、製品の歩留りや特性などのデータから、各製造プロセスにおいて最適レシピが効果的に作用しているか否かについての解析は必要不可欠である。製品の歩留まりデータからその製造状態を解析するためには、製造装置50の処理状態をデータとして収集して統計的手法により歩留り解析を行うYMS130が用いられる。
【0095】
YMS130とAPCシステム10との連携では、APCシステム10に収集された製造装置50の処理条件、前測定結果、後測定結果などの様々なデータを、YMS130にウェーハ単位で与えることができる。APCシステム10は、製造データを収集する際、レシピ演算を目的としたデータ収集を行うとともに、ロット、ウェーハ、プロセスステップをキー項目に追加してデータ収集を行う。さらに、APCシステム10内に、YMS130での処理結果をシステム間で利用できる形で保存しデータ管理するようにすれば、その処理結果を他のシステムでの処理にも反映させることが可能になり、より適正なレシピ演算も可能になる。勿論、そのように管理されたデータを、APC操作端末40や外部端末60を用いてデータ解析に利用することもできる。
【0096】
また、EES140とAPCシステム10との連携では、装置の状態管理を行うことで、メンテナンス時期の予測や製造装置50の異常の検出、また、装置サプライヤの技術者による装置ベンダーからの遠隔監視が可能になる。
【0097】
このようにAPCシステム10は、様々な外部システム100との間でデータ連携を行うことができるようになっており、取得したデータを組み合わせてレシピ演算を行うことができるようになっている。
【0098】
次に、APCシステム10におけるアルゴリズム適用方法について述べる。
APCシステム10では、フィルタ条件で設定されたトリガ信号によりアルゴリズムが起動されると、そのアルゴリズムが毎回システム上に展開されて、フィルタ条件に基づいて抽出されたデータを入力として最適レシピの演算が行われる。アルゴリズム適用の流れは、図4に示したステップS1〜S6に従う。フィルタ条件やそれに基づくアルゴリズムなど演算モジュール一式をシステムに設定した後は、APC操作端末40や外部端末60を用いて、演算モジュールを容易かつ迅速に適用、あるいは切り替えることが可能である。
【0099】
また、アルゴリズムを適用して演算を行った後、データベースサーバ14の格納領域が一杯になったときや、過去のフィルタ条件などを破棄するときなど、データの削除が必要になった場合には、その演算に使用した作業ファイル一式を削除するようにする。
【0100】
図11はAPCシステムにおけるデータ削除フローを示す図である。
APCシステム10におけるデータの削除処理では、まず、削除する演算結果の特定に必要なキー項目をあらかじめ選択しておき、削除するタイミングを設定する(ステップS50)。この削除するタイミングの設定は、ここで述べる削除処理が起動する時点をタイマーにより設定して行う。
【0101】
そして、APCシステム10は、設定した時点に達しているか否かを判定し(ステップS51)、設定した時点であると判断した場合には、次に、演算結果の演算に用いられたデータ項目があらかじめ選択されていたキー項目に合致するか否かを判定していく(ステップS52)。キー項目が合致していると判断した場合には、その演算結果の演算に関連した情報(以下「演算関連情報」という。)を、データベースから抽出する(ステップS53)。ここで抽出される演算関連情報としては、フィルタ条件、演算の際にフィルタ条件で選択されるデータ、ログとして管理している演算実行情報、演算に用いたアルゴリズムの識別情報などである。
【0102】
演算関連情報の抽出後は、この演算関連情報をまとめて、別に設けた退避領域に移動する(ステップS54)。ここで、退避領域とは、データベース内の別の記憶領域やAPCシステム10に接続された外部記憶装置、外部記憶媒体などである。演算関連情報をまとめるときには、一般的な圧縮コマンドを用いてファイルを生成すればよい。演算関連情報を退避領域へ移動した後は、これを一括して削除する(ステップS55)。
【0103】
APCシステム10は、ステップS51で、設定した時点に達していないと判断した場合には、その時点になるまでステップS52以降の処理は行わない。また、ステップS52で、キー項目が合致していないと判断した場合には、ステップS53以降の処理は行わない。
【0104】
APCシステム10からデータを削除する場合には、アルゴリズムは製造ノウハウであるため、このように演算関連情報をまとめて削除するようにすることが好ましい。
【0105】
次に、最適レシピの通信方法について説明する。
例えばMES/CCシステム20がAPCシステム10に最適レシピを問い合わせる場合には、まず、MES/CCシステム20が、所定のメッセージフォーマットに従ってデータ項目を生成する。
【0106】
図12はメッセージフォーマットの一例である。
MES/CCシステム20からAPCシステム10へのメッセージ送信は、まず、この図12に示すようなボディ部を有するメッセージフォーマットの最適レシピ問い合わせ(電文種別コード1)のパケット構成に従って生成されるメッセージにより行われる。ボディ部は、各データ項目およびその略称に分けられ、それぞれのデータ項目には適当なサイズ(バイト)が割り当てられている。この図12に示すように、最適レシピ問い合わせのパケットには、プロセス制御に用いるキー項目が組み込まれている。MES/CCシステム20は、トラッキングしているロットの情報を上記パケット構成に従ってメッセージとして生成した後、このメッセージを自身が備える送信部から、ヘッダ部の情報を基に、APCシステム10へと送信する。
【0107】
APCシステム10は、メッセージの受信後、MES/CCシステム20に応答電文を返信し、二次メッセージ処理を行う。この二次メッセージ処理では、図12に示す最適レシピ応答(電文種別コード2)のパケット構成に従ってデータ項目が生成され、キー項目のデータのほかに、対象となるパラメタ項目および最適レシピ値(図12ではそれぞれ可変パラメタ項目名およびAPC最適レシピ値と表記している)が含まれる。APCシステム10は、この二次メッセージを、自身が備える送信部からMES/CCシステム20に送信し、MES/CCシステム20から応答電文を受信して通信を終了する。
【0108】
このように、APCシステム10とMES/CCシステム20などの外部システムとの間で通信を行う場合に、外部システムに送信部および受信部を設け、送受信に上記のようなパケット構成のメッセージを用いることにより、既存のシステムを大きく変更することなく、システム間の通信が実現できる。
【0109】
以上述べたように、本発明に係るAPCシステム10を用いることにより、制御対象となる半導体製造装置を管理するシステム側に大きな改造を加えることなく、最適レシピを生成して制御を行うことが可能になる。これにより、半導体製造装置の状態に応じた制御が行え、高精度、高信頼性の半導体装置を安定して製造することができ、製造に伴う歩留りも向上させることができるようになる。
【0110】
なお、上記の処理機能は、コンピュータによって実現することができる。その場合、APCシステム10が有すべき機能の処理内容を記述したプログラムが提供される。そのプログラムをコンピュータで実行することにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現される。処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、磁気記録装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリなどがある。磁気記録装置には、ハードディスク装置(HDD)、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープなどがある。光ディスクには、DVD(Digital Versatile Disc)、DVD−RAM(Random Access Memory)、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD−R(Recordable)/RW(ReWritable)などがある。光磁気記録媒体には、MO(Magneto-Optical disk)などがある。
【0111】
プログラムを流通させる場合には、たとえば、そのプログラムが記録されたDVD、CD−ROMなどの可搬型記録媒体が販売される。また、プログラムをサーバコンピュータの記憶装置に格納しておき、ネットワークを介して、サーバコンピュータから他のコンピュータにそのプログラムを転送することもできる。
【0112】
プログラムを実行するコンピュータは、たとえば、可搬型記録媒体に記録されたプログラムもしくはサーバコンピュータから転送されたプログラムを、自己の記憶装置に格納する。そして、コンピュータは、自己の記憶装置からプログラムを読み取り、プログラムに従った処理を実行する。なお、コンピュータは、可搬型記録媒体から直接プログラムを読み取り、そのプログラムに従った処理を実行することもできる。また、コンピュータは、サーバコンピュータからプログラムが転送される毎に、逐次、受け取ったプログラムに従った処理を実行することもできる。
【0113】
(付記1) 半導体装置の製造プロセス制御システムにおいて、
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集し、収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、前記フィルタ処理後のデータと特定のアルゴリズムとを用いて演算を行って前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成する機能を有することを特徴とする半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0114】
(付記2) 前記アルゴリズムは、前記フィルタ処理の条件であるフィルタ条件により特定されることを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0115】
(付記3) 収集された前記製造データに前記フィルタ処理を施して前記フィルタ処理後のデータと特定の前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記レシピを生成する処理が、前記製造データを収集する処理と独立して実行されるようにしたことを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0116】
(付記4) 収集された前記製造データが格納される製造履歴データベースと、前記製造履歴データベースに格納された前記製造データを検索するためのデータ参照機能と、を有することを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0117】
(付記5) 前記アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出するプロセス制御フィルタ部を有し、前記プロセス制御フィルタ部によって前記トリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、前記フィルタ処理後のデータと前記アルゴリズムとを用いて演算を行い、前記レシピを生成することを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0118】
(付記6) 前記トリガ信号は、前記半導体装置の製造プロセスにおける任意の時点にあらかじめ設定されまたは前記半導体装置の製造プロセスとは別に任意の時点に仮想的に設定されることを特徴とする付記5記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0119】
(付記7) 前記トリガ信号を発生する半導体製造装置と、前記トリガ信号に基づいて生成される前記レシピにより制御される半導体製造装置とを、あらかじめそれぞれ設定できるようにしたことを特徴とする付記5記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0120】
(付記8) 前記アルゴリズムを用いた演算によって生成された前記レシピが格納される演算結果データベースと、開発中または既存のアルゴリズムと前記製造データとを用いた演算のシミュレーション結果が格納されるシミュレーション結果データベースと、を有することを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0121】
(付記9) 前記レシピは、前記レシピをコンピュータによって識別可能なステータス情報が付与されて、前記演算結果データベースに格納されることを特徴とする付記8記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0122】
(付記10) 前記演算結果データベースからの前記レシピの抽出が要求されたときには、前記演算結果データベースに格納された前記レシピを、時間若しくはロットID若しくは前記フィルタ処理の条件であるフィルタ条件を基に抽出することを特徴とする付記8記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0123】
(付記11) 収集された前記製造データを抽出するデータ抽出部と、抽出された前記製造データと前記アルゴリズムとを用いて演算を行うアルゴリズム演算部と、を有し、
抽出された前記製造データは、前記フィルタ処理後にファイル形式を変換された後、前記アルゴリズム演算部に伝達されるようにしたことを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0124】
(付記12) 前記レシピは、前記製造データと共に、製造支援システムにおいて取得されるデータを用いて生成されることを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0125】
(付記13) 前記フィルタ条件を削除するときには、前記フィルタ条件と共に、前記フィルタ条件によって特定される前記アルゴリズムの識別情報および前記フィルタ条件に基づいて行われた演算の中間結果である演算実行情報を削除するようにしたことを特徴とする付記2記載の半導体装置の製造プロセス制御システム。
【0126】
(付記14) 半導体装置の製造プロセス制御方法において、
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集し、
収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、
前記フィルタ処理後のデータと特定のアルゴリズムとを用いて演算を行って前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成することを特徴とする半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0127】
(付記15) 前記アルゴリズムを、前記フィルタ処理の条件であるフィルタ条件により特定することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0128】
(付記16) 収集された前記製造データに前記フィルタ処理を施して前記フィルタ処理後のデータと特定の前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記レシピを生成する処理を、前記製造データを収集する処理と独立して実行することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0129】
(付記17) 前記アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出したときに、収集された前記製造データに前記フィルタ処理を施して前記フィルタ処理後のデータと前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記レシピを生成することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0130】
(付記18) 前記トリガ信号は、前記半導体装置の製造プロセスにおける任意の時点にあらかじめ設定しまたは前記半導体装置の製造プロセスとは別に任意の時点に仮想的に設定することを特徴とする付記17記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0131】
(付記19) 前記トリガ信号を発生する半導体製造装置と、前記トリガ信号に基づいて生成される前記レシピにより制御される半導体製造装置とを、あらかじめそれぞれ設定することを特徴とする付記17記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0132】
(付記20) 前記アルゴリズムを用いた演算によって生成された前記レシピに、前記レシピをコンピュータによって識別可能なステータス情報を付与してデータベースに格納することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0133】
(付記21) 前記データベースからの前記レシピの抽出が要求されたときに、前記データベースに格納された前記レシピを、時間若しくはロットID若しくは前記フィルタ処理の条件であるフィルタ条件を基に抽出することを特徴とする付記20記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0134】
(付記22) 収集された前記製造データを抽出するデータ抽出部によって抽出された前記製造データを、前記フィルタ処理後にファイル形式を変換した後、前記レシピを生成するための演算を行うアルゴリズム演算部に伝達することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0135】
(付記23) 前記レシピは、前記製造データと共に、製造支援システムにおいて取得されるデータを用いて生成されることを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0136】
(付記24) 前記フィルタ条件を削除するときに、前記フィルタ条件と共に、前記フィルタ条件によって特定される前記アルゴリズムの識別情報および前記フィルタ条件に基づいて行われた演算の中間結果である演算実行情報を削除することを特徴とする付記15記載の半導体装置の製造プロセス制御方法。
【0137】
(付記25) コンピュータを用いて半導体装置の製造プロセス制御を行うためのプログラムにおいて、
コンピュータに、
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集させ、
収集された前記製造データにフィルタ処理を行わせ、
前記フィルタ処理後のデータと特定のアルゴリズムとを用いた演算により前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成させる処理を実行させることを特徴とするプログラム。
【0138】
(付記26) 前記アルゴリズムは、フィルタ処理の条件であるフィルタ条件により特定されることを特徴とする付記25記載のプログラム。
(付記27) 前記コンピュータに、
収集された前記製造データにフィルタ処理を行わせて前記フィルタ処理後のデータと特定の前記アルゴリズムとを用いた演算により前記レシピを生成させる処理と、前記製造データを収集させる処理とを、独立して実行させることを特徴とする付記25記載のプログラム。
【0139】
(付記28) 前記コンピュータに、
前記アルゴリズムを起動するためのトリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を行わせ、前記フィルタ処理後のデータと前記アルゴリズムとを用いた演算により前記レシピを生成させる処理を実行させることを特徴とする付記25記載のプログラム。
【0140】
(付記29) 前記トリガ信号は、前記半導体装置の製造プロセスにおける任意の時点にあらかじめ設定されまたは前記半導体装置の製造プロセスとは別に任意の時点に仮想的に設定されることを特徴とする付記28記載のプログラム。
【0141】
(付記30) 前記トリガ信号を発生する半導体製造装置と、前記トリガ信号に基づいて生成される前記レシピにより制御される半導体製造装置とが、あらかじめそれぞれ設定されることを特徴とする付記28記載のプログラム。
【0142】
(付記31) 前記コンピュータに、
前記アルゴリズムを用いた演算によって生成された前記レシピに、前記レシピを前記コンピュータによって識別可能なステータス情報を付与してデータベースに格納させる処理を実行させることを特徴とする付記25記載のプログラム。
【0143】
(付記32) 前記コンピュータに、
前記データベースからの前記レシピの抽出が要求されたときに、前記データベースに格納された前記レシピを、時間若しくはロットID若しくはフィルタ処理の条件であるフィルタ条件を基に抽出させる処理を実行させることを特徴とする付記31記載のプログラム。
【0144】
(付記33) 前記コンピュータに、
収集された前記製造データを抽出するデータ抽出部によって抽出された前記製造データを、前記フィルタ処理後にファイル形式を変換した後、前記レシピを生成するための演算を行うアルゴリズム演算部に伝達させる処理を実行させることを特徴とする付記25記載のプログラム。
【0145】
(付記34) 前記コンピュータに、
前記レシピを、前記製造データと共に、製造支援システムにおいて取得されるデータを用いて生成させる処理を実行させることを特徴とする付記25記載のプログラム。
【0146】
(付記35) 前記コンピュータに、
前記フィルタ条件を削除するときに、前記フィルタ条件と共に、前記フィルタ条件によって特定される前記アルゴリズムの識別情報および前記フィルタ条件に基づいて行われた演算の中間結果である演算実行情報を削除させる処理を実行させることを特徴とする付記26記載のプログラム。
【0147】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、製造プロセス制御システムが、製造管理システムに対して問い合わせを行って半導体装置の製造データを収集し、その収集した製造データにフィルタ処理を施し、フィルタ処理後のデータと特定のアルゴリズムとを用いて半導体製造装置の処理を制御するレシピを生成する構成にした。これにより、製造プロセス制御システムを半導体製造システムに組み込むに当たり、製造管理システムに大規模な改造が不要になるとともに、半導体製造装置の状態に応じた制御が高速で行え、高精度、高信頼性の半導体装置を安定して製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】APCシステムの適用例を示す図である。
【図2】半導体製造システムの一例の構成概略図である。
【図3】半導体製造システムにおける処理の概略説明図である。
【図4】半導体製造システムの処理のフロー図である。
【図5】APCシステムにおけるレシピ演算の説明図である。
【図6】APCシステムにおけるアルゴリズムシミュレーションの説明図である。
【図7】アルゴリズムシミュレーションのフロー図である。
【図8】構成情報リストを用いたデータ伝達の流れを示す図である。
【図9】演算結果のステータス情報利用法の一例である。
【図10】APCフィルタデータの構成例を示す図である。
【図11】APCシステムにおけるデータ削除フローを示す図である。
【図12】メッセージフォーマットの一例である。
【符号の説明】
1 半導体製造システム
10 APCシステム
11 アプリケーションサーバ
12 CORBAネームサーバ
13 演算サーバ
14 データベースサーバ
14a 演算結果データベース
14b シミュレーション結果データベース
14c ログ管理データベース
14d 製造履歴データベース
14e アルゴリズムデータベース
14f フィルタデータベース
15 プロセス制御フィルタ部
16 データ抽出部
17 アルゴリズム演算部
18 データ格納部
19a データ参照ツール
19b データ参照用外部汎用ツール
20 MES/CCシステム
30a 基幹LAN
30b LAN
30c WAN
40 操作端末
50 製造装置
60 外部端末
100 外部システム
110 ファシリティシステム
120 FDCシステム
130 YMS
140 EES
150 TCADシステム
160 ディスパッチシステム
200 他システムデータ連携機能実行プロセス
210 APCデータベース連携機能実行プロセス
220 APCシステム実行ログ管理実行プロセス
230 APCフィルタ管理実行プロセス
230a APCフィルタデータ
240 APC演算処理機能実行プロセス
240a 演算エンジン
250 アルゴリズムシミュレーション機能実行プロセス
260 WWW実行プロセス
300 フィルタ条件管理テーブル
310 フィルタ条件データテーブル
320 収集データ項目管理テーブル[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
BACKGROUND OF THE
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent semiconductor device manufacturing processes, with the miniaturization and high density of semiconductor devices to be manufactured, the management of maintaining the accuracy of semiconductor devices and maintaining the state of semiconductor manufacturing devices has become more severe. Recently, a semiconductor manufacturing apparatus such as MES (Manufacturing Execution System) used in a manufacturing process for products flowing on a production line, a system for managing all processing conditions and work data in the semiconductor manufacturing apparatus, and the like have become widespread. With such a manufacturing management system, improvement of quality, yield, reduction of work errors, and the like are being promoted, and efficient production of semiconductor devices is being supported.
[0003]
However, in the actual manufacturing process, if the semiconductor is miniaturized or densified, the processing in the semiconductor manufacturing apparatus is not always performed under conditions that allow the semiconductor manufacturing apparatus to stably process, resulting in a product. There may be a case where the finishing accuracy of the semiconductor device is lowered. In general, when a semiconductor manufacturing apparatus is operated for a long time, the adjustment value changes or the consumable parts deteriorate, so that the processing state tends to change little by little. In view of this, even if such a change in the state of the semiconductor manufacturing apparatus occurs, an appropriate correction is made while monitoring the change in the state of the semiconductor manufacturing apparatus so that the finish accuracy of the semiconductor device can be stably maintained with good uniformity. Therefore, a control system for this purpose is also being used (for example, see Patent Document 1). Recently, the APC (Advanced Process Control) system proposed in the SEMATEC guidelines is a representative example.
[0004]
In a conventional semiconductor device manufacturing system in which a manufacturing process control system such as an APC system is combined with a manufacturing management system such as an MES, an APC system that performs operations necessary for process control is required from the MES that holds the data. It is configured to receive ugly data. For example, when the APC system tries to control a certain semiconductor manufacturing apparatus placed under the management of the MES, data necessary for the control is transmitted from the MES to the APC system. When the APC system receives the data, the APC system obtains an optimal control condition (hereinafter referred to as “recipe”) from the contents by calculation according to a preset algorithm. The MES makes an inquiry about the recipe to the APC system at a predetermined timing, receives the inquiry, transmits the recipe from the APC system to the MES, and controls the semiconductor manufacturing apparatus according to the recipe.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 2002-312014 A
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional manufacturing process control system has some problems as described below.
[0007]
First, when the APC system is linked with an existing MES as described above, a large-scale modification is required on the MES side. For example, in order to perform an operation in the APC system, there is a built-in function that allows the MES to transmit data acquired by the MES to the APC system at an appropriate timing. Therefore, introducing an APC system into an existing MES is very expensive, and it may be necessary to stop the MES for a long time, which may cause fatal damage to semiconductor device manufacturing. .
[0008]
Further, in the conventional APC system, when the amount of data used for the calculation is large or the calculation algorithm provided in the APC system is complicated, it takes time for the calculation, and the MES transmits the data to the APC system, and finally In particular, the time lag until the control is performed in the semiconductor manufacturing apparatus may interfere with the process control.
[0009]
Further, in the conventional APC system, data necessary for calculation is transmitted to the APC system at once, and when the data and the algorithm are not in a one-to-one relationship, it is necessary to devise a data collection method. . For example, another system for collecting MES data is provided between the APC system and the MES, and a system that collects data in consideration of the algorithm in the APC system and transmits the collected data to the APC system is provided. It is done. Such a data collection system may be realized by a plurality of systems. However, in addition to algorithm development for each manufacturing process, it is also necessary to develop a data collection system that matches the algorithm development.
[0010]
When such a data collection system is used, an algorithm for each manufacturing process is written therein to perform computation. However, in this case, it is difficult to perform calculation history and other system management by the data collection system while the calculation processing function can be incorporated into the data collection system. Therefore, it is necessary to have a data collection / calculation function tailored to each manufacturing process, and it takes time and cost to deploy such a data collection system to other production lines.
[0011]
As described above, the introduction of the APC system is accompanied by a large-scale modification of the MES, and the development of a data collection / calculation function that solves the problem of the computation speed of the APC system is also desired. System integration was difficult. Moreover, since there was no communication protocol in the recipe inquiry message between the MES and the APC system so far, it took a lot of effort to introduce the APC system. It was one of the factors.
[0012]
The present invention has been made in view of the above points, and is a high-speed and multi-functional semiconductor device that can be incorporated at low cost without adding a large-scale modification to an existing system for managing the manufacturing process of a semiconductor device. An object of the present invention is to provide a manufacturing process control system.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
Book Invention According to one aspect Collecting manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device by making an inquiry to a manufacturing management system that performs manufacturing management of the semiconductor device; Detecting a trigger signal for activating the algorithm, and when the trigger signal is detected, Filtering the collected manufacturing data, the filtered data and Activated based on the trigger signal A function of generating a recipe indicating a control condition for controlling the processing of the semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by performing an operation using an algorithm Semiconductor device manufacturing process control system is provided .
[0014]
For example, as shown in FIG. The
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram illustrating an application example of an APC system.
[0016]
The
[0017]
Such an
[0018]
As shown in FIG. 1, in addition to the MES /
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
The
[0022]
EES140 is a task aimed at improving the effective operating rate of production equipment and maintaining and improving performance, such as maintenance and improvement of production line capability, monitoring and troubleshooting of production equipment status, improvement of production equipment performance, and production equipment. The system is used for collaboration (improvement and troubleshooting) with a supplier, and data available for the system is acquired from the MES /
[0023]
The
[0024]
The
[0025]
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of a semiconductor manufacturing system.
For example, as shown in FIG. 2, the
[0026]
The
[0027]
The
[0028]
The
[0029]
The
[0030]
As described above, the
[0031]
The
[0032]
Further, the MES /
[0033]
Although FIG. 2 shows three
[0034]
In addition, the
[0035]
FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of processing in the semiconductor manufacturing system. In FIG. 3, processing performed between the MES /
[0036]
In the
[0037]
First, after finishing the process, the
[0038]
Manufacturing data transmitted from the
[0039]
The
[0040]
In response to the inquiry from the
[0041]
In the
[0042]
Thereafter, the
[0043]
Further, in the
[0044]
In the APC filter management execution process 230, filter processing is performed using
[0045]
In the APC calculation processing function execution process 240, the algorithm specified by the filter processing in the previous APC filter management execution process 230 is activated, and the calculation engine 240 a uses the data of the item selected in the APC filter management execution process 230. Recipe calculation is performed.
[0046]
The calculated recipe is again stored in the
[0047]
When performing the lot processing, the MES /
[0048]
In the
[0049]
In the algorithm simulation by the
[0050]
In the algorithm simulation, the algorithm simulation
[0051]
The calculation result obtained by this algorithm simulation is stored in the
[0052]
Further, in the
[0053]
Further, since the
[0054]
FIG. 4 is a flowchart of the process of the semiconductor manufacturing system.
As described in the outline description above, in order to operate the
[0055]
In the
[0056]
After the calculation is completed, the
[0057]
In the semiconductor device manufacturing stage using the MES /
[0058]
When performing data analysis, creating an algorithm, or performing algorithm simulation, first, the trend of manufacturing data in the
[0059]
Hereinafter, the
First, various arithmetic processes of the
FIG. 5 is an explanatory diagram of recipe calculation in the APC system, and FIG. 6 is an explanatory diagram of algorithm simulation in the APC system.
[0060]
As described above, the
[0061]
Further, the
[0062]
The
[0063]
The recipe calculation shown in FIG. 5 is started when a trigger signal is detected by the process
[0064]
In the
[0065]
In the algorithm simulation shown in FIG. 6, an algorithm to be simulated needs to be created in advance. The simulation of the algorithm under development or the existing algorithm is started by a virtual trigger signal given to the
[0066]
This algorithm simulation can be performed without stopping the
[0067]
The algorithm to be simulated is created by analyzing manufacturing data and external data in advance and investigating the correlation between data based on the trend.
[0068]
FIG. 7 is a flowchart of algorithm simulation.
In the algorithm simulation, first, a trend of manufacturing data of an item whose correlation is predicted, such as an etching time and a finished line width, is investigated (step S30). This trend survey can be performed using the data reference tool 19a executed by the
[0069]
Next, algorithm activation conditions are set (step S31). The setting items include, for example, data items used for the calculation of the algorithm, the
[0070]
Next, the algorithm is activated (step S32), and is given in advance from the manufacturing data collected from the
[0071]
The selected data is transmitted to the
[0072]
Thereafter, in the
[0073]
In the arithmetic processing in the recipe calculation and algorithm simulation shown in FIG. 5 and FIG. 6, the data transmission between the
[0074]
FIG. 8 is a diagram showing a flow of data transmission using the configuration information list.
For example, the manufacturing data extracted by the
[0075]
The optimal recipe after the calculation is given status information, and is packed again according to the transmission list to create a configuration information list. The configuration information list is transmitted to the
[0076]
By transmitting data using such a configuration information list, it becomes possible to easily confirm the items of data to be used, the measurement data, the number of collected data, and the parameters to be used for the algorithm. Furthermore, if the input / output interface is satisfied, an algorithm development environment independent of the programming language can be provided with the
[0077]
The configuration information list not only defines the data input format to the
[0078]
FIG. 9 shows an example of how to use the status information of the calculation result.
In the example shown in FIG. 9, by using the status information, for example, it is possible to perform cooperation processing of two algorithms such as using the calculation result of algorithm I in algorithm II.
[0079]
In this case, first, when a trigger signal is detected by the process
[0080]
Thereafter, when another trigger signal is detected by the process
[0081]
Next, an optimum recipe extraction method from the
The
[0082]
First, the case where the most recent optimum recipe is extracted according to the processing time will be described. Semiconductor manufacturing equipment tends to gradually change its processing status due to aging and deterioration of consumable parts after long-time operation. Especially in such cases, extraction of optimum recipes depends on the processing time. I do. For example, the
[0083]
In addition, when the most recent optimum recipe is extracted based on the lot ID, variation of products is suppressed by extracting the optimum recipe for each lot. For example, one lot can be divided into a main lot and a preceding lot to be processed prior to this, and this can be used when the optimal recipe of the preceding lot divided from the main lot is applied to the divided main lot. it can. When such lot division is performed, usually, a lot ID that inherits a part of the main body lot is assigned to the divided preceding lot. Therefore, by using a common part (character string) of lot IDs before and after division as a wild card and performing filtering processing on that part, an optimum recipe is extracted for each lot before and after division.
[0084]
In addition, when extracting the optimum recipe by the key item of the filter condition, for example, based on the type name, device name, large process name, small process name, recipe name, recipe version, event information, etc. set as the key item. Then, the corresponding optimum recipe may be extracted.
[0085]
Next, APC filter data constituting the filter condition will be described.
The
[0086]
FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of APC filter data.
The APC filter data is managed by three tables: a filter condition management table 300, a filter condition data table 310, and a collected data item management table 320. The filter condition data table 310 and the collected data item management table 320 are managed by the filter condition management table 300.
[0087]
The filter condition management table 300 includes filter conditions such as a management number (system ID), a filter name, a filter version, a representative product name, a representative device name, a representative large process name, a representative small process name, a representative recipe name, and a representative recipe version. It is set by classifying items such as.
[0088]
Furthermore, in order for the data classified by such items to be classified by each item such as management number (system ID), filter version, device name, large process name, small process name, recipe name, recipe version, etc. The classification conditions are registered in the filter condition data table 310. In this filter condition data table 310, key item conditions for starting the algorithm are registered, and the data of the key item becomes a trigger signal, and the processing lot matches the conditions shown in the filter condition data table 310. And if they match, the algorithm corresponding to the condition is specified.
[0089]
Furthermore, the data is classified into the following items: management number (system ID), filter version, device name, collection event ID, collection event name, variable name used for calculation processing, comment area, and collection destination system information. The classification condition is registered in the collected data item management table 320. In the collected data item management table 320, data items used for the optimum recipe calculation are registered, and when the conditions shown in the collected data item management table 320 are met, the data of the corresponding item is extracted as an argument given to the algorithm. Used for optimal recipe calculation.
[0090]
The
[0091]
Note that the items in the filter condition management table 300, the filter condition data table 310, and the collected data item management table 320 are set according to the manufacturing site by the user at the time of system initialization before starting the operation of the
[0092]
Next, the intersystem data linkage function will be described.
In the mass production process, if the apparatus state changes due to aging of the manufacturing apparatus or parts consumption, the processing state may change even if the optimum recipe is calculated. In the
[0093]
Therefore, in the
[0094]
In general, when manufacturing a semiconductor device, it is indispensable to analyze whether or not the optimum recipe works effectively in each manufacturing process from data such as product yield and characteristics. In order to analyze the manufacturing state from the product yield data, a
[0095]
In cooperation between the
[0096]
In addition, by linking the
[0097]
As described above, the
[0098]
Next, an algorithm application method in the
In the
[0099]
In addition, when it is necessary to delete data, such as when the storage area of the
[0100]
FIG. 11 is a diagram showing a data deletion flow in the APC system.
In the data deletion process in the
[0101]
Then, the
[0102]
After the calculation related information is extracted, the calculation related information is collected and moved to a separate saving area (step S54). Here, the save area is another storage area in the database, an external storage device connected to the
[0103]
If the
[0104]
When deleting data from the
[0105]
Next, an optimal recipe communication method will be described.
For example, when the MES /
[0106]
FIG. 12 shows an example of a message format.
The message transmission from the MES /
[0107]
After receiving the message, the
[0108]
As described above, when communication is performed between the
[0109]
As described above, by using the
[0110]
The above processing functions can be realized by a computer. In that case, a program describing the processing contents of the functions that the
[0111]
When distributing the program, for example, portable recording media such as a DVD and a CD-ROM in which the program is recorded are sold. It is also possible to store the program in a storage device of a server computer and transfer the program from the server computer to another computer via a network.
[0112]
The computer that executes the program stores, for example, the program recorded on the portable recording medium or the program transferred from the server computer in its own storage device. Then, the computer reads the program from its own storage device and executes processing according to the program. The computer can also read the program directly from the portable recording medium and execute processing according to the program. In addition, each time the program is transferred from the server computer, the computer can sequentially execute processing according to the received program.
[0113]
(Supplementary Note 1) In a semiconductor device manufacturing process control system,
An inquiry is made to a manufacturing management system that performs manufacturing management of a semiconductor device, manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device is collected, filtering processing is performed on the collected manufacturing data, and after the filtering processing A semiconductor device manufacturing process having a function of generating a recipe indicating a control condition for controlling processing of a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by performing an operation using data and a specific algorithm Control system.
[0114]
(Supplementary note 2) The semiconductor device manufacturing process control system according to
[0115]
(Additional remark 3) The process which produces | generates the said recipe by performing the said filter process on the collected said manufacturing data, using the data after the said filter process, and the said specific algorithm, collects the said manufacturing data The manufacturing process control system for a semiconductor device according to
[0116]
(Additional remark 4) It has the manufacturing history database in which the collected said manufacturing data are stored, and the data reference function for searching the said manufacturing data stored in the said manufacturing historical database, The
[0117]
(Additional remark 5) It has the process control filter part which detects the trigger signal for starting the said algorithm, and when the said trigger signal is detected by the said process control filter part, it filters the said manufacturing data collected The semiconductor device manufacturing process control system according to
[0118]
(Additional remark 6) The said trigger signal is preset at the arbitrary time in the manufacturing process of the said semiconductor device, or is set virtually at arbitrary time separately from the manufacturing process of the said semiconductor device, The additional characteristic 5 characterized by the above-mentioned. The manufacturing process control system of the semiconductor device as described.
[0119]
(Additional remark 7) The semiconductor manufacturing apparatus which generate | occur | produces the said trigger signal, and the semiconductor manufacturing apparatus controlled by the said recipe produced | generated based on the said trigger signal can each be set previously, The additional remark 5 characterized by the above-mentioned. The manufacturing process control system of the semiconductor device as described.
[0120]
(Additional remark 8) The calculation result database in which the said recipe produced | generated by the calculation using the said algorithm is stored, and the simulation result database in which the simulation result of the calculation using the algorithm under development or the existing algorithm and the said manufacturing data is stored And a manufacturing process control system for a semiconductor device according to
[0121]
(Supplementary note 9) The semiconductor device manufacturing process control system according to supplementary note 8, wherein the recipe is provided with status information capable of identifying the recipe by a computer and stored in the calculation result database.
[0122]
(Additional remark 10) When extraction of the said recipe from the said calculation result database is requested | required, the said recipe stored in the said calculation result database is extracted based on filter conditions which are conditions of time, lot ID, or the said filter process. The manufacturing process control system for a semiconductor device according to appendix 8, wherein:
[0123]
(Additional remark 11) It has a data extraction part which extracts the collected said manufacturing data, and an algorithm operation part which performs operation using the extracted said manufacturing data and said algorithm,
2. The semiconductor device manufacturing process control system according to
[0124]
(Additional remark 12) The said recipe is produced | generated using the data acquired in a manufacturing support system with the said manufacturing data, The manufacturing process control system of the semiconductor device of
[0125]
(Supplementary note 13) When deleting the filter condition, together with the filter condition, the identification information of the algorithm specified by the filter condition and the operation execution information which is an intermediate result of the operation performed based on the filter condition are deleted The manufacturing process control system for a semiconductor device according to
[0126]
(Additional remark 14) In the manufacturing process control method of a semiconductor device,
Collecting manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device by making an inquiry to a manufacturing management system that performs manufacturing management of the semiconductor device,
Filter the collected manufacturing data,
A recipe for generating a recipe indicating a control condition for controlling a process of a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by performing an operation using the data after filtering and a specific algorithm. Manufacturing process control method.
[0127]
(Supplementary note 15) The semiconductor device manufacturing process control method according to
[0128]
(Supplementary Note 16) Collecting the manufacturing data is a process of performing the filtering process on the collected manufacturing data and performing the calculation using the filtered data and the specific algorithm to generate the recipe. 15. The method for controlling a manufacturing process of a semiconductor device according to
[0129]
(Supplementary Note 17) When a trigger signal for activating the algorithm is detected, the collected manufacturing data is subjected to the filtering process, and the filter-processed data and the algorithm are used to perform the calculation. 15. A method for controlling a manufacturing process of a semiconductor device according to
[0130]
(Supplementary note 18) The
[0131]
(Supplementary note 19) The semiconductor according to
[0132]
(Supplementary note 20) The semiconductor device manufacturing process according to
[0133]
(Supplementary note 21) When extraction of the recipe from the database is requested, the recipe stored in the database is extracted based on a filter condition which is a condition of time or lot ID or the filtering process.
[0134]
(Additional remark 22) After converting the file format after the said filter process into the said manufacturing data extracted by the data extraction part which extracts the collected said manufacturing data, it is the algorithm calculating part which performs the calculation for producing | generating the said
[0135]
(Additional remark 23) The said recipe is produced | generated using the data acquired in a manufacturing support system with the said manufacturing data, The manufacturing process control method of the semiconductor device of
[0136]
(Supplementary Note 24) When deleting the filter condition, together with the filter condition, the identification information of the algorithm specified by the filter condition and the operation execution information that is an intermediate result of the operation performed based on the
[0137]
(Supplementary Note 25) In a program for controlling a manufacturing process of a semiconductor device using a computer,
On the computer,
Inquiry to a manufacturing management system that performs manufacturing management of semiconductor devices to collect manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device,
Filtering the collected manufacturing data,
A program for executing a process of generating a recipe indicating a control condition for controlling a process of a semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by an operation using the data after the filtering process and a specific algorithm .
[0138]
(Supplementary note 26) The program according to supplementary note 25, wherein the algorithm is specified by a filter condition which is a condition of a filter process.
(Supplementary note 27)
A process of causing the collected manufacturing data to be filtered and generating the recipe by an operation using the filtered data and the specific algorithm, and a process of collecting the manufacturing data are independently performed. The program according to appendix 25, wherein the program is executed.
[0139]
(Supplementary note 28)
Processing for causing the collected manufacturing data to be filtered when a trigger signal for starting the algorithm is detected, and generating the recipe by calculation using the data after filtering and the algorithm The program according to appendix 25, wherein the program is executed.
[0140]
(Supplementary note 29) The supplementary note 28, wherein the trigger signal is set in advance at an arbitrary time point in the manufacturing process of the semiconductor device or virtually set at an arbitrary time point different from the manufacturing process of the semiconductor device. The listed program.
[0141]
(Additional remark 30) The semiconductor manufacturing apparatus which generates the said trigger signal, and the semiconductor manufacturing apparatus controlled by the said recipe produced | generated based on the said trigger signal are each preset, The additional remark 28 characterized by the above-mentioned. program.
[0142]
(Supplementary Note 31) In the computer,
26. The program according to claim 25, wherein the recipe generated by the calculation using the algorithm is subjected to a process of adding status information that can be identified by the computer and storing the recipe in a database.
[0143]
(Supplementary Note 32) In the computer,
When extraction of the recipe from the database is requested, a process is executed for extracting the recipe stored in the database based on a filter condition that is a condition of time, lot ID, or filter processing. The program according to supplementary note 31.
[0144]
(Supplementary Note 33) In the computer,
A process of transmitting the manufacturing data extracted by the data extraction unit that extracts the collected manufacturing data to an algorithm calculation unit that performs calculation for generating the recipe after converting the file format after the filtering process. The program according to appendix 25, wherein the program is executed.
[0145]
(Supplementary Note 34)
26. The program according to claim 25, wherein a process for generating the recipe together with the manufacturing data using data acquired in a manufacturing support system is executed.
[0146]
(Supplementary Note 35)
When deleting the filter condition, together with the filter condition, processing for deleting the identification information of the algorithm specified by the filter condition and operation execution information that is an intermediate result of an operation performed based on the filter condition The program according to appendix 26, which is executed.
[0147]
【The invention's effect】
As described above, in the present invention, the manufacturing process control system makes an inquiry to the manufacturing management system, collects the manufacturing data of the semiconductor device, filters the collected manufacturing data, and outputs the data after the filtering process. And a specific algorithm are used to generate a recipe for controlling the processing of the semiconductor manufacturing apparatus. This eliminates the need for large-scale modifications to the manufacturing management system when incorporating the manufacturing process control system into the semiconductor manufacturing system, and enables high-speed, high-accuracy and high-reliability control according to the state of the semiconductor manufacturing equipment. A semiconductor device can be manufactured stably.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating an application example of an APC system.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of a semiconductor manufacturing system.
FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of processing in a semiconductor manufacturing system.
FIG. 4 is a flowchart of processing of a semiconductor manufacturing system.
FIG. 5 is an explanatory diagram of recipe calculation in the APC system.
FIG. 6 is an explanatory diagram of algorithm simulation in the APC system.
FIG. 7 is a flowchart of algorithm simulation.
FIG. 8 is a diagram showing a flow of data transmission using a configuration information list.
FIG. 9 is an example of a method for using status information of a calculation result.
FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration example of APC filter data.
FIG. 11 is a diagram showing a data deletion flow in the APC system.
FIG. 12 is an example of a message format.
[Explanation of symbols]
1 Semiconductor manufacturing system
10 APC system
11 Application server
12 CORBA name server
13 Arithmetic server
14 Database server
14a Operation result database
14b Simulation result database
14c Log management database
14d Manufacturing history database
14e algorithm database
14f filter database
15 Process control filter section
16 Data extraction unit
17 Algorithm operation part
18 Data storage
19a Data reference tool
19b External general-purpose tool for data reference
20 MES / CC system
30a Core LAN
30b LAN
30c WAN
40 Operation terminal
50 Production equipment
60 External terminal
100 External system
110 Facility System
120 FDC system
130 YMS
140 EES
150 TCAD system
160 dispatch system
200 Other system data linkage function execution process
210 APC database linkage function execution process
220 APC system execution log management execution process
230 APC filter management execution process
230a APC filter data
240 APC processing function execution process
240a calculation engine
250 Algorithm simulation function execution process
260 WWW execution process
300 Filter condition management table
310 Filter condition data table
320 Collected data item management table
Claims (4)
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集し、アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出し、前記トリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、前記フィルタ処理後のデータと、前記トリガ信号に基づいて起動される前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成する機能を有することを特徴とする半導体装置の製造プロセス制御システム。In a semiconductor device manufacturing process control system,
Inquires a manufacturing management system that performs semiconductor device manufacturing management, collects manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device , detects a trigger signal for starting an algorithm, and detects the trigger signal When this is done, the collected manufacturing data is filtered, and the semiconductor device is manufactured by performing calculations using the filtered data and the algorithm activated based on the trigger signal. A semiconductor device manufacturing process control system having a function of generating a recipe indicating a control condition for controlling processing of a semiconductor manufacturing apparatus for the purpose.
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集し、 Collecting manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device by making an inquiry to a manufacturing management system that performs manufacturing management of the semiconductor device,
アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出し、 Detect the trigger signal to start the algorithm,
前記トリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を施し、 When the trigger signal is detected, the collected manufacturing data is filtered,
前記フィルタ処理後のデータと、前記トリガ信号に基づいて起動される前記アルゴリズムとを用いて演算を行って前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成することを特徴とする半導体装置の製造プロセス制御方法。 Generates a recipe indicating a control condition for controlling the processing of the semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by performing an operation using the data after the filtering process and the algorithm activated based on the trigger signal A method of controlling a manufacturing process of a semiconductor device.
コンピュータに、 On the computer,
半導体装置の製造管理を行う製造管理システムに対して問い合わせを行って前記半導体装置の製造プロセスにおいて取得される製造データを収集させ、 Inquiry to a manufacturing management system that performs manufacturing management of semiconductor devices to collect manufacturing data acquired in the manufacturing process of the semiconductor device,
アルゴリズムを起動するためのトリガ信号を検出させ、 Trigger signal to start the algorithm,
前記トリガ信号が検出されたときに、収集された前記製造データにフィルタ処理を行わせ、 When the trigger signal is detected, the collected manufacturing data is filtered.
前記フィルタ処理後のデータと、前記トリガ信号に基づいて起動される前記アルゴリズムとを用いた演算により前記半導体装置を製造するための半導体製造装置の処理を制御する制御条件を示すレシピを生成させる処理を実行させることを特徴とするプログラム。 Processing for generating a recipe indicating a control condition for controlling processing of the semiconductor manufacturing apparatus for manufacturing the semiconductor device by an operation using the data after the filtering process and the algorithm activated based on the trigger signal A program characterized by having executed.
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