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JP4470973B2 - Liquid crystal device and electronic device - Google Patents

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JP4470973B2
JP4470973B2 JP2007216766A JP2007216766A JP4470973B2 JP 4470973 B2 JP4470973 B2 JP 4470973B2 JP 2007216766 A JP2007216766 A JP 2007216766A JP 2007216766 A JP2007216766 A JP 2007216766A JP 4470973 B2 JP4470973 B2 JP 4470973B2
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Description

本発明は、液晶層の層厚を規定する層厚調整膜を反射表示領域内に備えた半透過反射型の液晶装置に関する。また、本発明は、その液晶装置を用いた電子機器に関する。   The present invention relates to a transflective liquid crystal device provided with a layer thickness adjusting film for defining a layer thickness of a liquid crystal layer in a reflective display region. The present invention also relates to an electronic apparatus using the liquid crystal device.

現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に液晶装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する情報を表示する表示装置として用いられている。この液晶装置は、一対の基板間に設けられた液晶層に印加する電圧を画素ごとに制御することにより、液晶層内の液晶分子の配向を画素ごとに制御して当該液晶層を透過する偏光を画素ごとに変調し、これにより、いずれか一方の基板の表面に画像を表示する。   Currently, liquid crystal devices are widely used in electronic devices such as mobile phones and portable information terminals. For example, it is used as a display device that displays information about electronic devices. This liquid crystal device controls the voltage applied to a liquid crystal layer provided between a pair of substrates for each pixel, thereby controlling the orientation of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer for each pixel and transmitting the polarized light through the liquid crystal layer. Is modulated for each pixel, whereby an image is displayed on the surface of one of the substrates.

従来、半透過反射型の液晶装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この液晶装置では、反射板として機能する共通配線によって反射表示領域を形成し、共通配線のない領域によって透過表示領域を形成し、それらの各領域内の電極に選択的に駆動電圧を印加することにより、反射型表示と透過型表示を選択的に行っている。   Conventionally, a transflective liquid crystal device is known (see, for example, Patent Document 1). In this liquid crystal device, a reflective display area is formed by a common wiring functioning as a reflector, a transmissive display area is formed by an area without the common wiring, and a driving voltage is selectively applied to electrodes in each of the areas. Thus, the reflective display and the transmissive display are selectively performed.

特開2005−338256号公報(第6頁、図2)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-338256 (Page 6, FIG. 2)

特許文献1に開示された液晶装置では、透過表示領域を通過する光が液晶層を1回通過するのに対し、反射表示領域を通過する光が液晶層を2回通過することに起因して、反射光と透過光とでリタデーション(Δnd:但しΔnは屈折率位相差、dは液晶層層厚)に差が発生し、反射型表示と透過型表示の表示特性が不均一になることが考えられる。このリタデーションの差を補償するため、特許文献1の液晶装置では、液晶層の層厚(d)を調整するための層厚調整膜としての内蔵位相差板が反射表示領域内に設けられている。   In the liquid crystal device disclosed in Patent Document 1, light passing through the transmissive display area passes through the liquid crystal layer once, whereas light passing through the reflective display area passes through the liquid crystal layer twice. The retardation (Δnd: where Δn is the refractive index phase difference and d is the thickness of the liquid crystal layer) is different between the reflected light and the transmitted light, and the display characteristics of the reflective display and the transmissive display may become non-uniform. Conceivable. In order to compensate for this retardation difference, in the liquid crystal device of Patent Document 1, a built-in retardation plate as a layer thickness adjusting film for adjusting the layer thickness (d) of the liquid crystal layer is provided in the reflective display region. .

特許文献1の液晶装置は1つの基板上に画素電極及び共通電極の2つの電極を形成する構成の、いわゆる横電界型の液晶装置であり、層厚調整膜としての内蔵位相差板はそれらの電極が形成された基板に対向する基板上に設けられている。そして、液晶層内の液晶分子は一対の基板の双方に設けた配向膜をラビングすることによりホモジニアス配向に配列されている。   The liquid crystal device of Patent Document 1 is a so-called lateral electric field type liquid crystal device having a configuration in which two electrodes of a pixel electrode and a common electrode are formed on a single substrate. It is provided on a substrate facing the substrate on which the electrodes are formed. The liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are arranged in a homogeneous alignment by rubbing alignment films provided on both of the pair of substrates.

層厚調整膜は反射表示領域と透過表示領域との境界部分に段差面を有しており、この段差面は傾斜面となっている。この傾斜面は、層厚調整膜をフォトリソグラフィ法に基づいて形成する際に必然的に形成されるものである。特許文献1の液晶装置では、層厚調整膜の段差面が信号配線に直角の方向に延在している。特許文献1では、層厚調整膜の段差面の延在方向と液晶分子を配向させるためのラビング方向との成す角度に関していくつかの例が示されており、その中に、段差面の延在方向とラビング方向とが75°又は90°であることが開示されている。しかしながら、ラビング方向と段差面との方位関係、すなわちラビングが段差面に対向した方向から行われるのか、あるいは段差面の山部から谷部へ向けて行われるのか、については何も触れられていない。   The layer thickness adjusting film has a step surface at the boundary between the reflective display region and the transmissive display region, and the step surface is an inclined surface. This inclined surface is inevitably formed when the layer thickness adjusting film is formed based on the photolithography method. In the liquid crystal device of Patent Document 1, the step surface of the layer thickness adjusting film extends in a direction perpendicular to the signal wiring. In Patent Document 1, some examples are shown regarding the angle formed between the extending direction of the stepped surface of the layer thickness adjusting film and the rubbing direction for aligning liquid crystal molecules, and the extension of the stepped surface is included therein. It is disclosed that the direction and the rubbing direction are 75 ° or 90 °. However, nothing is said about the azimuthal relationship between the rubbing direction and the step surface, that is, whether rubbing is performed from the direction facing the step surface or from the peak to the valley of the step surface. .

本発明者は、層厚調整膜の段差面とラビング方向の方位関係について実験を行い、その方位関係が適切に設定されていないと、層厚調整膜の段差面において十分な配向力が得られず、液晶分子の配向に乱れが生じ、その配向の乱れに基づいてコントラストが低下するおそれがあることを知見した。   The inventor conducted an experiment on the orientation relationship between the step surface of the layer thickness adjusting film and the rubbing direction, and if the orientation relationship is not set appropriately, sufficient alignment force can be obtained on the step surface of the layer thickness adjusting film. First, it was found that the alignment of the liquid crystal molecules is disturbed, and the contrast may be lowered based on the disorder of the alignment.

本発明は、上記の知見に基づいて成されたものであって、半透過反射型の液晶装置及びそれを用いた電子機器において、反射表示領域に設けられる層厚調整膜とラビングとの方位関係を適正化することによりコントラストの高い高品質の表示を得ることを目的とする。   The present invention has been made on the basis of the above knowledge, and in a transflective liquid crystal device and an electronic apparatus using the same, an orientation relationship between a layer thickness adjusting film provided in a reflective display region and rubbing It is an object to obtain a high-quality display with high contrast by optimizing.

本発明に係る液晶装置は、互いに対向する第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、前記液晶層を挟持する前記第1基板及び前記第2基板によって駆動表示の制御単位を構成するサブ画素内の一部の領域に設けられており反射光によって表示を行う反射表示領域と、前記サブ画素内の他の領域に設けられており透過光によって表示を行う透過表示領域と、前記反射表示領域に対応して前記第2基板上に設けられており前記液晶層の層厚を前記透過表示領域と異なる層厚に規定する層厚調整膜と、該層厚調整膜を覆って前記第2基板と前記液晶層との間に設けられており前記反射表示領域と前記透過表示領域とで同一方向にラビングが施された配向膜とを有し、前記層厚調整膜は前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界部に段差面を有し、前記ラビングは前記段差面に対向する向きから行われ、該段差面の延在方向と前記ラビング方向との成す角度をαとするとき、70°≦α≦110°であることを特徴とする。
The liquid crystal device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate facing each other, a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and the first substrate sandwiching the liquid crystal layer. The second substrate is provided in a partial area in the sub-pixel that constitutes a control unit for driving display, and is provided in a reflective display area that performs display by reflected light, and in another area in the sub-pixel. A transmissive display area for displaying with a transmissive light; and a layer thickness provided on the second substrate corresponding to the reflective display area and defining a layer thickness of the liquid crystal layer different from that of the transmissive display area An adjustment film, an alignment film that is provided between the second substrate and the liquid crystal layer so as to cover the layer thickness adjustment film and is rubbed in the same direction in the reflective display area and the transmissive display area ; The layer thickness adjusting film includes the reflective display region and When having a step surface at the boundary with the transparent display region, the rubbing is performed from the direction facing the step surface, and the angle formed between the extending direction of the step surface and the rubbing direction is α, 70 ° ≦ α ≦ 110 °.

周知の通り、ラビングは配向膜表面をラビング部材によって擦ることによって行われる。本発明に係る液晶装置によれば、ラビングが層厚調整膜の段差面に対向する向きから、即ち、段差面の谷部(透過表示領域)側から山部(反射表示領域)側へ向けて行われ、且つ70°〜110°(すなわち90°±20°)の角度範囲内で行われるので、その段差面に対して強いラビング強度を付与でき、配向力を強くでき、配向ムラを防止でき、その結果、高いコントラストを確保できる。ラビングが、本発明とは逆に、段差面の山部から谷部へ向かって行われると、当該段差面に付与されるラビング強度が弱くなって表示不良を生じるおそれがある。これに対し本発明によれば、段差面に対して強いラビング強度を付与できるので、ラビング不良に起因する表示不良の発生を防止できる。   As is well known, rubbing is performed by rubbing the alignment film surface with a rubbing member. According to the liquid crystal device of the present invention, the rubbing faces the step surface of the layer thickness adjusting film, that is, from the valley (transmission display region) side to the mountain portion (reflection display region) side of the step surface. Since it is performed within an angle range of 70 ° to 110 ° (that is, 90 ° ± 20 °), a strong rubbing strength can be imparted to the step surface, an alignment force can be increased, and alignment unevenness can be prevented. As a result, high contrast can be secured. Contrary to the present invention, when rubbing is performed from the peak portion to the valley portion of the step surface, the rubbing strength applied to the step surface is weakened, which may cause a display defect. On the other hand, according to the present invention, since a strong rubbing strength can be imparted to the stepped surface, it is possible to prevent the occurrence of a display defect due to a rubbing defect.

また、本発明者の実験によれば、段差面の延在方向に対するラビングの角度が70°よりも小さくなると、ラビング不良に起因すると思われる表示不良が見られた。また、段差面の延在方向に対するラビングの角度が110°よりも大きくなった場合にも、ラビング不良に起因すると思われる表示不良が見られた。従って、ラビング強度の低下に起因する表示不良の低下を防止するためには、段差面の延在方向に対するラビングの角度を70°〜110°の範囲内に規定することが望ましい。   Further, according to the experiment by the present inventor, when the rubbing angle with respect to the extending direction of the step surface is smaller than 70 °, a display failure that is considered to be caused by the rubbing failure is observed. In addition, when the rubbing angle with respect to the extending direction of the stepped surface was larger than 110 °, a display defect considered to be caused by the rubbing defect was observed. Therefore, in order to prevent a display defect from being deteriorated due to a reduction in rubbing strength, it is desirable that the rubbing angle with respect to the extending direction of the step surface is defined within a range of 70 ° to 110 °.

次に、本発明に係る液晶装置において、前記段差面は前記第2基板の基板面に対して90°より小さい角度で傾斜する傾斜面であることが望ましい。層厚調整膜はフォトリソグラフィ法に基づいたパターニング手法によって第2基板上の形成されるのが一般的である。この場合には、層厚調整膜の端部(すなわち段差部)には必然的に傾斜面が形成されることが多い。このような傾斜面に対してラビングを行う際、その傾斜面に対して強いラビング力を付与するためには、そのラビングは傾斜面に対向する向きから行われることが望ましく、さらには、傾斜面の延在方向に対して70°〜110°の角度範囲内で行われることが望ましい。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that the step surface is an inclined surface inclined at an angle smaller than 90 ° with respect to the substrate surface of the second substrate. The layer thickness adjusting film is generally formed on the second substrate by a patterning method based on a photolithography method. In this case, an inclined surface is inevitably formed at the end portion (that is, the step portion) of the layer thickness adjusting film. When rubbing such an inclined surface, in order to give a strong rubbing force to the inclined surface, the rubbing is preferably performed from the direction facing the inclined surface. It is desirable to be carried out within an angle range of 70 ° to 110 ° with respect to the extending direction of.

次に、本発明に係る液晶装置は、電界を形成する第1電極及び第2電極を第1基板上に設けることができる。そして、前記第2電極は間隙をおいて平行に並ぶ複数の電極線状部を有することができる。そして、前記間隙の延在方向と前記ラビング方向との成す角度をβとするとき、5°≦β≦20°であることが望ましい。

Next, in the liquid crystal device according to the present invention, the first electrode and the second electrode for forming an electric field can be provided on the first substrate. The second electrode may have a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap. When the angle formed between the extending direction of the gap and the rubbing direction is β, it is preferable that 5 ° ≦ β ≦ 20 °.

このように1つの基板上に第1電極及び第2電極の2つの電極を設け、さらに、第2電極は間隙をおいて平行に並ぶ複数の電極線状部を有する構成とすることにより、基板と平行な面内に電界(いわゆる横電界)を形成することができる。このような動作モードは、FFS(Fringe Field Switching)モードや、IPS(In-Plane Switching)モード等として知られている。この動作モードにおいて、第2電極に設けた間隙の延在方向(従って電極線状部の延在方向)とラビング方向との成す角度を5°〜20°の範囲内に規制することにより、オン電圧印加時の配向変化を安定化すると共に配向変化が生じるしきい値電圧を低減できる。なお、電界方向は間隙及び電極線状部の延在方向に直交する方向であり、ラビング方向を間隙の延在方向に対して5°〜20°にするということは、電界方向に対して85°〜70°の角度でラビングを行うということである。   Thus, by providing two electrodes of the first electrode and the second electrode on one substrate, and the second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap, the substrate can be obtained. An electric field (so-called lateral electric field) can be formed in a plane parallel to the. Such an operation mode is known as an FFS (Fringe Field Switching) mode, an IPS (In-Plane Switching) mode, or the like. In this operation mode, the angle between the extending direction of the gap provided in the second electrode (and hence the extending direction of the electrode linear portion) and the rubbing direction is restricted within a range of 5 ° to 20 °, thereby turning on. It is possible to stabilize the change in orientation during voltage application and reduce the threshold voltage at which the change in orientation occurs. The electric field direction is a direction orthogonal to the extending direction of the gap and the electrode linear portion, and the rubbing direction is set to 5 ° to 20 ° with respect to the extending direction of the gap. That is, the rubbing is performed at an angle of ° to 70 °.

間隙及び電極線状部は第2電極だけに設けても良いし、第1電極と第2電極の両方に設けても良い。間隙及び電極線状部を第2電極だけに設け、第1電極は面状電極(いわゆるベタ状電極)とする場合には、電極線状部は他方の面状電極と平面視で重なり合うことになる。また、第1電極と第2電極の両方に間隙及び電極線状部を設ける場合でも、双方の電極線状部を互いに平面視で重なり合う状態にすることができる。これらのように、一方の電極に設けた電極線状部が他方の電極に平面視で重なり合う状態の電極構造によって実現される動作モードがFFSモードである。一方、第1電極及び第2電極の双方に間隙及び電極線状部を設け、双方の電極線状部が平面視で重なり合うことなくそれらの電極線状部の間に間隔が形成される電極構造によって実現される動作モードがIPSモードである。   The gap and the electrode linear portion may be provided only on the second electrode, or may be provided on both the first electrode and the second electrode. When the gap and the electrode linear portion are provided only on the second electrode and the first electrode is a planar electrode (so-called solid electrode), the electrode linear portion overlaps the other planar electrode in plan view. Become. Even when the gap and the electrode linear portion are provided in both the first electrode and the second electrode, both the electrode linear portions can be overlapped with each other in plan view. As described above, the operation mode realized by the electrode structure in which the electrode linear portion provided on one electrode overlaps the other electrode in plan view is the FFS mode. On the other hand, an electrode structure in which a gap and an electrode linear portion are provided in both the first electrode and the second electrode, and an interval is formed between the electrode linear portions without overlapping both electrodes in a plan view. Is an IPS mode.

次に、第2電極に間隙及び電極線状部を設けた構成の本発明に係る液晶装置において、前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、前記層厚調整膜の段差面はサブ画素の短手方向と平行に延在することが望ましい。この構成によれば、層厚調整膜の段差面がサブ画素の短手方向と平行に延在するので、基板上のパターン形状が簡単で形成し易くなるという効果が得られる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the second electrode is provided with a gap and an electrode linear portion, the gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel with the longitudinal direction of the sub-pixel, and the rubbing direction. Is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the subpixel, and the step surface of the layer thickness adjusting film preferably extends in parallel with the lateral direction of the subpixel. According to this configuration, since the step surface of the layer thickness adjusting film extends in parallel with the short direction of the sub-pixel, an effect is obtained that the pattern shape on the substrate is simple and easy to form.

次に、第2電極に間隙及び電極線状部を設けた構成の本発明に係る液晶装置において、前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、前記層厚調整膜の段差面は前記ラビング方向に対して直角方向になる状態で前記サブ画素の短手方向に対して傾いて延在することが望ましい。この構成によれば、層厚調整膜の段差面がラビング方向に対して正確に90°となるので、当該段差面に強いラビング力を付与でき、液晶分子の配向不良の発生を確実に防止できる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the second electrode is provided with a gap and an electrode linear portion, the gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel with the longitudinal direction of the sub-pixel, and the rubbing direction. Is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel, and the step surface of the layer thickness adjusting film is inclined with respect to the lateral direction of the sub-pixel in a state perpendicular to the rubbing direction. It is desirable to extend. According to this configuration, since the step surface of the layer thickness adjusting film is exactly 90 ° with respect to the rubbing direction, a strong rubbing force can be applied to the step surface, and the occurrence of poor alignment of liquid crystal molecules can be reliably prevented. .

次に、第2電極に間隙及び電極線状部を設けた構成の本発明に係る液晶装置において、前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向における当該第2電極の中間位置で折れ曲がる形状であり、前記第2電極のうち前記中間位置から一方の領域にある間隙は平面視でサブ画素の長手方向に対して反時計方向に5°〜20°傾き、前記第2電極のうち前記中間位置から他方の領域にある間隙は平面視でサブ画素の長手方向に対して正時計方向に5°〜20°傾き、前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して平行方向であり、前記層厚調整膜の段差面はサブ画素の短手方向と平行に延在することが望ましい。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the second electrode is provided with a gap and an electrode linear portion, the gap of the second electrode is bent at an intermediate position of the second electrode in the longitudinal direction of the sub-pixel. A gap in one region from the intermediate position of the second electrode is inclined 5 ° to 20 ° counterclockwise with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel in plan view, and the intermediate position of the second electrode The gap in the other region is inclined 5 ° to 20 ° in a clockwise direction with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel in plan view, the rubbing direction is parallel to the longitudinal direction of the sub-pixel, and the layer thickness It is desirable that the step surface of the adjustment film extends in parallel with the short direction of the sub-pixel.

この構成によれば、1つのサブ画素内に間隙の傾きが線対称である2つのドメインが設けられるので、高視角領域における表示の視認性を高めることができ、視角特性がさらに向上する。また、層厚調整膜の段差面がラビング方向に対して正確に90°となるので、当該段差面に強いラビング力を付与でき、液晶分子の配向不良の発生を確実に防止できる。   According to this configuration, since two domains having a symmetrical gap inclination are provided in one subpixel, the visibility of display in a high viewing angle region can be improved, and viewing angle characteristics are further improved. Further, since the step surface of the layer thickness adjusting film is accurately 90 ° with respect to the rubbing direction, a strong rubbing force can be applied to the step surface, and the occurrence of alignment failure of liquid crystal molecules can be reliably prevented.

次に、第2電極に間隙及び電極線状部を設けた構成の本発明に係る液晶装置において、前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、前記層厚調整膜の段差面は前記ラビング方向に対して直角方向になる状態で前記サブ画素の短手方向に対して傾いて延在し、且つ複数のサブ画素間で直線状に延在することが望ましい。この構成によれば、層厚調整膜の段差面の傾斜がサブ画素ごとに繰り返されるパターンではなく、複数のサブ画素ごとに繰り返されるパターンになる。このため、個々のサブ画素間の境界部分においてラビング強度にムラが生じることを防止できる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the second electrode is provided with a gap and an electrode linear portion, the gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel with the longitudinal direction of the sub-pixel, and the rubbing direction. Is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel, and the step surface of the layer thickness adjusting film is inclined with respect to the lateral direction of the sub-pixel in a state perpendicular to the rubbing direction. It is desirable to extend in a straight line between a plurality of subpixels. According to this configuration, the slope of the step surface of the layer thickness adjusting film is not a pattern that is repeated for each sub-pixel, but a pattern that is repeated for each of the plurality of sub-pixels. For this reason, it is possible to prevent the rubbing intensity from being uneven at the boundary portion between the individual sub-pixels.

なお、本発明に係る液晶装置が複数色、例えばR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3色の着色膜を含むカラーフィルタを有する場合には、層厚調整膜の段差面を複数のサブ画素間で直線状に延在させる際のその複数のサブ画素は、上記複数色の着色膜に対応したサブ画素をセットとする1つの画素とすることが望ましい。例えば、R、G、B、青緑の4色で1つの画素が構成される場合には、その4色に対応した1画素内では層厚調整膜の段差面の傾斜が直線状に連続することが望ましい。   In the case where the liquid crystal device according to the present invention has a color filter including colored films of a plurality of colors, for example, R (red), G (green), and B (blue), the step surface of the layer thickness adjusting film It is desirable that the plurality of sub-pixels when the pixel is extended linearly between the plurality of sub-pixels is a single pixel having a set of sub-pixels corresponding to the colored films of the plurality of colors. For example, when one pixel is composed of four colors of R, G, B, and blue-green, the slope of the step surface of the layer thickness adjusting film continues linearly within one pixel corresponding to the four colors. It is desirable.

次に、本発明に係る液晶装置においては、前記第1基板上にスイッチング素子を設けることができ、該スイッチング素子のオン/オフによってサブ画素内の液晶層にオン電圧及びオフ電圧を印加することができる。スイッチング素子としては、TFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)素子等といった3端子型のスイッチング素子や、TFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)等といった2端子型のスイッチング素子を用いることができる。スイッチング素子は、一般に、走査線又は信号線に接続されており、前記サブ画素の長手方向は前記走査線又は前記信号線の延在方向と平行の方向であることが望ましい。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, a switching element can be provided on the first substrate, and an on voltage and an off voltage are applied to the liquid crystal layer in the sub-pixel by turning on / off the switching element. Can do. As the switching element, a three-terminal switching element such as a TFT (Thin Film Transistor) element or a two-terminal switching element such as a TFD (Thin Film Diode) can be used. In general, the switching element is connected to a scanning line or a signal line, and the longitudinal direction of the sub-pixel is preferably parallel to the extending direction of the scanning line or the signal line.

次に、1つの基板である第1基板上に第1電極及び第2電極の2つの電極を設けた構成の本発明に係る液晶装置において、前記層厚調整膜は位相差膜を含み、該位相差膜のリタデーション(Δnd)は2分の1波長であることが望ましい。反射表示領域の最適なリタデーション(Δnd)は広帯域の4分の1波長である。本発明において、層厚調整膜は反射表示領域に対応して第2基板上に設けられる。層厚調整膜の位相差膜と液晶層により反射表示領域のリタデーションを反射表示に最適な広帯域の4分の1波長とするものである。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which two electrodes of the first electrode and the second electrode are provided on the first substrate which is one substrate, the layer thickness adjusting film includes a retardation film, The retardation (Δnd) of the retardation film is preferably a half wavelength. The optimum retardation (Δnd) of the reflective display area is a broadband quarter wavelength. In the present invention, the layer thickness adjusting film is provided on the second substrate corresponding to the reflective display region. The retardation film of the layer thickness adjusting film and the liquid crystal layer are used to set the retardation of the reflective display region to a quarter wavelength of a broadband that is optimal for reflective display.

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した本発明に係る液晶装置を有することを特徴とする。この電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機等が挙げられる。本発明に係る液晶装置によれば、ラビング不良に起因する表示不良を解消できるので、その液晶装置を用いて形成される電子機器においても高品質の表示を得ることができる。   Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device according to the present invention described above. Examples of the electronic device include a mobile phone and a portable information terminal. According to the liquid crystal device of the present invention, since display defects due to rubbing defects can be eliminated, high-quality display can be obtained even in an electronic device formed using the liquid crystal device.

(液晶装置の第1実施形態)
以下、液晶装置の一例として、半透過反射型でカラー表示が可能なアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した場合を例に挙げて本発明の実施形態を説明する。また、本実施形態では、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のポリシリコンTFT素子をスイッチング素子として用いた液晶装置に本発明を適用する。また、本実施形態における液晶装置では、横電界型動作モードの1つであるFFS(Fringe Field Switching)モードを採用するものとする。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の説明で用いる図面では、特徴部分を分かり易く示すために、複数の構成要素の寸法を実際とは異なった比率で示す場合がある。
(First Embodiment of Liquid Crystal Device)
Hereinafter, as an example of a liquid crystal device, an embodiment of the present invention will be described by taking as an example a case where the present invention is applied to an active matrix liquid crystal device capable of transflective color display. In the present embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal device using a channel-etched type single-gate polysilicon TFT element as a switching element. In the liquid crystal device according to the present embodiment, an FFS (Fringe Field Switching) mode, which is one of the transverse electric field type operation modes, is employed. Of course, the present invention is not limited to this embodiment. In the drawings used in the following description, the dimensions of a plurality of constituent elements may be shown in different ratios from actual ones in order to easily show the characteristic portions.

図1は本発明に係る液晶装置の一実施形態を示している。図1において、液晶装置1は、液晶パネル2と照明装置3とを有する。この液晶装置1に関しては、矢印Aが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置3は液晶パネル2に関して観察側と反対側に配置されてバックライトとして機能する。照明装置3は、光源としてのLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)4と、透光性の樹脂によって形成された導光体5とを有する。LED4から出射した光は導光体5の光入射面5aから導光体5の内部へ取り込まれ、光出射面5bから面状の光となって液晶パネル2へ供給される。照明装置3は、LED4のような点状光源を用いたものでなく、冷陰極管のような線状光源を用いたものでも良い。   FIG. 1 shows an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. In FIG. 1, the liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel 2 and a lighting device 3. Regarding the liquid crystal device 1, the side on which the arrow A is drawn is the observation side, and the illumination device 3 is disposed on the opposite side to the observation side with respect to the liquid crystal panel 2 and functions as a backlight. The illuminating device 3 includes an LED (Light Emitting Diode) 4 as a light source and a light guide 5 formed of a translucent resin. The light emitted from the LED 4 is taken into the light guide 5 from the light incident surface 5a of the light guide 5, and is supplied to the liquid crystal panel 2 as planar light from the light output surface 5b. The lighting device 3 may not be a point light source such as the LED 4 but may be a line light source such as a cold cathode tube.

液晶パネル2は、矢印A方向から見て長方形又は正方形で環状(すなわち枠状)のシール材7によって互いに貼り合わされた第1基板としての素子基板8及び第2基板としてのカラーフィルタ基板9を有する。第1基板としての素子基板8はスイッチング素子が形成される素子基板8である。第2基板としてのカラーフィルタ基板9はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板9である。本実施形態では、観察側にカラーフィルタ基板9が配置され、観察側から見て背面に素子基板8が配置される。シール材7は、例えば熱硬化性又は紫外線硬化性の樹脂、例えばエポキシ系樹脂によって形成されており、例えばスクリーン印刷によって所望の環状に形成されている。   The liquid crystal panel 2 includes an element substrate 8 as a first substrate and a color filter substrate 9 as a second substrate, which are bonded to each other by a rectangular or square-shaped (that is, frame-shaped) sealing material 7 when viewed from the direction of arrow A. . The element substrate 8 as the first substrate is an element substrate 8 on which a switching element is formed. The color filter substrate 9 as the second substrate is a color filter substrate 9 on which a color filter is formed. In this embodiment, the color filter substrate 9 is disposed on the observation side, and the element substrate 8 is disposed on the back as viewed from the observation side. The sealing material 7 is formed of, for example, a thermosetting or ultraviolet curable resin, such as an epoxy resin, and is formed in a desired annular shape by, for example, screen printing.

液晶パネル2の内部であってシール材7に囲まれた領域内において、複数の互いに平行な走査線11が行方向Xへ延びて設けられている。また、複数の互いに平行な信号線12が列方向Yへ延びて設けられている。複数の走査線11と複数の信号線12とによって囲まれる複数のドット状(すなわち島状)の領域が矢印A方向から見て行列状(いわゆるマトリクス状)に並んでいる。そして、これらの各領域内にサブ画素Pが設けられる。これらのサブ画素Pが行列状に並ぶことによって表示領域Vが形成されている。なお、図1ではサブ画素Pを実際のものよりも拡大して模式的に示している。行方向X及び列方向Yは、それぞれ、観察者が液晶パネル2の画像表示を見たときに横方向及び縦方向となる方向である。   A plurality of parallel scanning lines 11 are provided extending in the row direction X in a region surrounded by the sealing material 7 inside the liquid crystal panel 2. A plurality of parallel signal lines 12 are provided extending in the column direction Y. A plurality of dot-shaped (that is, island-shaped) regions surrounded by the plurality of scanning lines 11 and the plurality of signal lines 12 are arranged in a matrix (so-called matrix) as viewed from the direction of the arrow A. A subpixel P is provided in each of these regions. A display region V is formed by arranging these sub-pixels P in a matrix. In FIG. 1, the sub-pixel P is schematically shown in an enlarged manner than the actual one. The row direction X and the column direction Y are directions that become the horizontal direction and the vertical direction, respectively, when the observer views the image display on the liquid crystal panel 2.

サブ画素Pは明表示(白表示)及び暗表示(黒表示)のスイッチングの単位となる領域であり、このサブ画素Pが複数集まって表示の単位となる1画素が形成される。例えば、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の各1色に対応してサブ画素Pが形成され、R、G、B3色の個々に対応する3つのサブ画素Pが集まって1画素が形成される。また、R、G、Bの3色に他の1色(例えば、青緑)を加えた4色のサブ画素Pが集まって1画素が形成されることもある。本実施形態では、R、G、Bの3色のサブ画素によって1画素が形成されるものとする。   The sub-pixel P is a region serving as a switching unit for bright display (white display) and dark display (black display), and a plurality of sub-pixels P are gathered to form one pixel serving as a display unit. For example, subpixels P are formed corresponding to each of R (red), G (green), and B (blue), and three subpixels P corresponding to R, G, and B3 colors are gathered. One pixel is formed. In addition, subpixels P of four colors obtained by adding one color (for example, blue green) to the three colors R, G, and B may be collected to form one pixel. In the present embodiment, it is assumed that one pixel is formed by R, G, and B subpixels.

素子基板8はカラーフィルタ基板9の外側に張り出した張出し部を有しており、その張出し部上に駆動用IC10がACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって実装されている。駆動用IC10は外部の制御回路から制御信号を入力し、走査線11へ走査信号を供給し、信号線12へデータ信号を供給する。駆動用IC10はCOG技術によって液晶パネル2に接続されることに限られず、FPC(Flexible Printed Circuit:可撓性配線)基板を介して液晶パネル2へ接続することもできる。   The element substrate 8 has a projecting portion that projects to the outside of the color filter substrate 9, and the driving IC 10 uses COF (Chip On Glass) using an ACF (Anisotropic Conductive Film) on the projecting portion. ) Implemented by technology. The driving IC 10 receives a control signal from an external control circuit, supplies a scanning signal to the scanning line 11, and supplies a data signal to the signal line 12. The driving IC 10 is not limited to being connected to the liquid crystal panel 2 by the COG technique, but can be connected to the liquid crystal panel 2 via an FPC (Flexible Printed Circuit) substrate.

図2は、図1の素子基板8上の1画素(3つのサブ画素)近傍の平面構造を液晶層側の基板法線方向から見た状態を示している。図3は、図1に示すカラーフィルタ基板9の1つの画素(3つのサブ画素)近傍の平面構造を観察側(すなわち液晶層と反対側)の基板法線方向から見た状態を示している。つまり、図3は図2と同じ側からカラーフィルタ基板9を見た状態を示している。図4は、図2及び図3におけるZ4−Z4線に従った1つのサブ画素Pの列方向Yに沿った断面構造を示している。図5は、図2及び図3におけるZ5−Z5線に従った1つのサブ画素Pの行方向Xに沿った断面構造を示している。   FIG. 2 shows a state in which the planar structure in the vicinity of one pixel (three subpixels) on the element substrate 8 of FIG. 1 is viewed from the substrate normal direction on the liquid crystal layer side. FIG. 3 shows a state in which the planar structure in the vicinity of one pixel (three subpixels) of the color filter substrate 9 shown in FIG. 1 is viewed from the normal direction of the substrate on the observation side (that is, the side opposite to the liquid crystal layer). . That is, FIG. 3 shows a state in which the color filter substrate 9 is viewed from the same side as FIG. FIG. 4 shows a cross-sectional structure along the column direction Y of one subpixel P according to the Z4-Z4 line in FIGS. FIG. 5 shows a cross-sectional structure along the row direction X of one subpixel P according to the Z5-Z5 line in FIGS.

図1において、素子基板8とカラーフィルタ基板9との間には所定厚さの間隙、いわゆるセルギャップが形成されている。このセルギャップの厚さは、シール材7の中に含まれているギャップ材と、素子基板8又はカラーフィルタ基板9の表面に置かれたスペーサ(図示せず)とによって維持される。スペーサは球状部材を素子基板8又はカラーフィルタ基板9上に分散して形成しても良いし、フォトリソグラフィ処理によって素子基板8又はカラーフィルタ基板9上にフォトスペーサとして形成しても良い。フォトスペーサ6は図2に示すように、表示の邪魔にならない位置に設けられる。   In FIG. 1, a gap having a predetermined thickness, that is, a so-called cell gap is formed between the element substrate 8 and the color filter substrate 9. The thickness of the cell gap is maintained by a gap material included in the sealing material 7 and a spacer (not shown) placed on the surface of the element substrate 8 or the color filter substrate 9. The spacer may be formed by dispersing spherical members on the element substrate 8 or the color filter substrate 9, or may be formed as a photo spacer on the element substrate 8 or the color filter substrate 9 by photolithography. As shown in FIG. 2, the photo spacer 6 is provided at a position that does not interfere with the display.

以上のようにして形成されるセルギャップGが図4において符号Gで示されている。このセルギャップGの中に液晶が注入されて液晶層14が形成されている。本実施形態では、液晶として正の誘電率異方性(Δε>0)を持つネマチック液晶を用いるものとする。液晶層厚は5μmとする。符号14aは液晶内に含まれる液晶分子14aを模式的に示している。液晶層14はラビング処理によりホモジニアス配向に配向処理されている。   The cell gap G formed as described above is indicated by the symbol G in FIG. Liquid crystal is injected into the cell gap G to form a liquid crystal layer 14. In this embodiment, a nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy (Δε> 0) is used as the liquid crystal. The liquid crystal layer thickness is 5 μm. Reference numeral 14a schematically shows liquid crystal molecules 14a included in the liquid crystal. The liquid crystal layer 14 is aligned in a homogeneous alignment by rubbing.

素子基板8は基板法線方向から見て長方形又は正方形の第1透光性基板15を有する。この第1透光性基板15は、例えば透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成されている。第1透光性基板15の外側表面には第1偏光板16が貼り付けられている。一方、カラーフィルタ基板9は基板法線方向から見て長方形又は正方形の第2透光性基板17を有する。この第2透光性基板17は、例えば透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成されている。第2透光性基板17の外側表面には第2偏光板18が貼り付けられている。   The element substrate 8 includes a first light-transmitting substrate 15 that is rectangular or square when viewed from the normal direction of the substrate. The first translucent substrate 15 is made of translucent glass, translucent plastic, or the like, for example. A first polarizing plate 16 is attached to the outer surface of the first light transmissive substrate 15. On the other hand, the color filter substrate 9 includes a second light-transmitting substrate 17 that is rectangular or square when viewed from the substrate normal direction. The second translucent substrate 17 is formed of, for example, translucent glass, translucent plastic, or the like. A second polarizing plate 18 is attached to the outer surface of the second light transmissive substrate 17.

第1透光性基板15の内側表面(すなわち液晶側表面)に、ゲート線20及び共通線21が設けられている。ゲート線20は、図2に示すように、複数本が互いに平行に行方向Xに延びて形成されている。共通線21は、複数本がゲート線20と平行に行方向Xに延びて形成されている。ゲート線20は、図1の走査線11として機能する。   A gate line 20 and a common line 21 are provided on the inner surface (that is, the liquid crystal side surface) of the first translucent substrate 15. As shown in FIG. 2, a plurality of gate lines 20 are formed extending in the row direction X in parallel with each other. A plurality of common lines 21 are formed extending in the row direction X in parallel with the gate lines 20. The gate line 20 functions as the scanning line 11 in FIG.

ゲート線20及び共通線21を覆って第1透光性基板15上にゲート絶縁膜22が形成されている。そして、ゲート絶縁膜22の上にスイッチング素子としてのTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)素子23が形成され、さらにゲート絶縁膜22の上にゲート線20に直交してソース線24(図2参照)が形成されている。ソース線24は、図1の信号線12として機能する。   A gate insulating film 22 is formed on the first translucent substrate 15 so as to cover the gate line 20 and the common line 21. Then, a TFT (Thin Film Transistor) element 23 as a switching element is formed on the gate insulating film 22, and a source line 24 (see FIG. 2) orthogonal to the gate line 20 on the gate insulating film 22. Is formed. The source line 24 functions as the signal line 12 in FIG.

図4において、TFT素子23は、ボトムゲート構造及びシングルゲート構造のチャネルエッチ型のポリシリコンTFTとして形成されている。このTFT素子23は、ゲート線20の一部分であるゲート電極20aと、ゲート絶縁膜22と、ポリシリコンを用いて形成された半導体膜26と、ソース電極27と、そしてドレイン電極28とを有する。ソース電極27及びドレイン電極28は、スイッチング素子であるTFT素子23の電極端子である。ソース電極27は、図2に示すように、ソース線24から分岐して形成されている。本実施形態のTFT素子23はボトムゲート構造であるが、これをトップゲート構造とすることもできる。   In FIG. 4, the TFT element 23 is formed as a channel etch type polysilicon TFT having a bottom gate structure and a single gate structure. The TFT element 23 includes a gate electrode 20 a that is a part of the gate line 20, a gate insulating film 22, a semiconductor film 26 formed using polysilicon, a source electrode 27, and a drain electrode 28. The source electrode 27 and the drain electrode 28 are electrode terminals of the TFT element 23 which is a switching element. The source electrode 27 is branched from the source line 24 as shown in FIG. Although the TFT element 23 of this embodiment has a bottom gate structure, it can also be a top gate structure.

図4において、TFT素子23及びソース線24を被覆するための面状の樹脂膜である保護膜としてのパシベーション膜29がゲート絶縁膜22の上に設けられ、さらにその上に樹脂膜30が設けられている。そして、樹脂膜30の上に反射膜31が設けられている。反射膜31は複数のサブ画素間にわたって図4の紙面垂直方向に帯状に設けられている。反射膜31の上に重ねて第1電極としての共通電極32が設けられている。この共通電極32は、基板法線方向から見て列方向Yに長い長方形状の面状(いわゆるベタ状)に形成されている。また、共通電極32は、樹脂膜30、パシベーション膜29及びゲート絶縁膜22内に設けられたスルーホール33を介して共通線21に接続している。   In FIG. 4, a passivation film 29 as a protective film, which is a planar resin film for covering the TFT element 23 and the source line 24, is provided on the gate insulating film 22, and further a resin film 30 is provided thereon. It has been. A reflective film 31 is provided on the resin film 30. The reflective film 31 is provided in a strip shape in the direction perpendicular to the plane of FIG. 4 across the plurality of sub-pixels. A common electrode 32 as a first electrode is provided on the reflective film 31. The common electrode 32 is formed in a rectangular surface shape (so-called solid shape) that is long in the column direction Y when viewed from the substrate normal direction. The common electrode 32 is connected to the common line 21 through a through hole 33 provided in the resin film 30, the passivation film 29, and the gate insulating film 22.

共通電極32の上には容量絶縁膜35が設けられ、容量絶縁膜35の上に第2電極としての画素電極36が設けられ、その上に配向膜37が設けられている。画素電極36は、容量絶縁膜35、樹脂膜30及びパシベーション膜29内に設けられたスルーホール38を介してTFT素子23のドレイン電極28に接続されている。画素電極36の基板法線方向から見た外縁形状は、概ね、列方向Yに長い長方形状となっている。この画素電極36は図2に示すように直線状の間隙であるスリット40をおいて平行に並んだ複数の電極線状部41を有している。スリット40及び電極線状部41はサブ画素Pの長手方向(すなわち列方向Y)に直線状に延びている。   A capacitive insulating film 35 is provided on the common electrode 32, a pixel electrode 36 as a second electrode is provided on the capacitive insulating film 35, and an alignment film 37 is provided thereon. The pixel electrode 36 is connected to the drain electrode 28 of the TFT element 23 through a through hole 38 provided in the capacitor insulating film 35, the resin film 30, and the passivation film 29. The outer edge shape of the pixel electrode 36 viewed from the substrate normal direction is generally a rectangular shape that is long in the column direction Y. As shown in FIG. 2, the pixel electrode 36 has a plurality of electrode linear portions 41 arranged in parallel with slits 40 that are linear gaps. The slit 40 and the electrode linear portion 41 extend linearly in the longitudinal direction of the sub-pixel P (that is, the column direction Y).

なお、本実施形態では、図2において信号線であるソース線24がTFT素子23のソース電極27につながり、TFT素子23のドレイン電極28が画素電極36に接続される構成となっている。これに代えて、信号線にドレイン電極がつながり、画素電極36にソース電極がつながる構成であっても良い。   In the present embodiment, the source line 24 which is a signal line in FIG. 2 is connected to the source electrode 27 of the TFT element 23, and the drain electrode 28 of the TFT element 23 is connected to the pixel electrode 36. Alternatively, the drain electrode may be connected to the signal line, and the source electrode may be connected to the pixel electrode 36.

共通電極32は面状であるので、画素電極36の電極線状部41は基板法線方向からの平面視で共通電極32に重なっている。本実施形態では、スリット40が閉じた開口として形成されているが、スリット40は片側の端辺が開放された形状でも良い。この場合には、画素電極36は櫛歯形状となる。また、スリット40は両側の端辺が開放された形状でも良い。   Since the common electrode 32 has a planar shape, the electrode linear portion 41 of the pixel electrode 36 overlaps the common electrode 32 in plan view from the substrate normal direction. In the present embodiment, the slit 40 is formed as a closed opening, but the slit 40 may have a shape in which one end is opened. In this case, the pixel electrode 36 has a comb shape. Further, the slit 40 may have a shape in which both side edges are open.

図4において、反射膜31は、例えばCr(クロム)、Al(アルミニウム)等をフォトエッチング処理することによって形成されている。望ましくは、光を散乱させるための凹凸形状パターンが反射膜31の表面に形成される。この凹凸形状パターンは、例えば、樹脂膜30の表面にフォトリソグラフィ処理によって凹凸形状パターンを形成し、その凹凸形状パターン上に反射膜31を形成することによって作ることができる。共通電極32及び画素電極36は、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム・スズ酸化物)等といった透光性の金属酸化物をフォトエッチング処理することによって形成されている。ゲート絶縁膜22、パシベーション膜29、樹脂膜30、容量絶縁膜35は、例えば、アクリル系樹脂、SiN(窒化シリコン)、又はSiO2(酸化シリコン)等によって形成されている。配向膜37は、例えばポリイミドによって形成されている。 In FIG. 4, the reflective film 31 is formed by, for example, photoetching Cr (chromium), Al (aluminum), or the like. Desirably, a concavo-convex pattern for scattering light is formed on the surface of the reflective film 31. This concavo-convex pattern can be made, for example, by forming a concavo-convex pattern on the surface of the resin film 30 by photolithography and forming a reflective film 31 on the concavo-convex pattern. The common electrode 32 and the pixel electrode 36 are formed by subjecting a light-transmitting metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide) to a photo-etching process. The gate insulating film 22, the passivation film 29, the resin film 30, and the capacitor insulating film 35 are made of, for example, acrylic resin, SiN (silicon nitride), SiO 2 (silicon oxide), or the like. The alignment film 37 is made of, for example, polyimide.

以上のように本実施形態では、1つの基板である素子基板8上に一対の電極である共通電極32及び画素電極36の両電極が設けられており、両電極間に所定の電圧を印加することにより素子基板8の表面に平行な電界、いわゆる横電界が形成され、この横電界によって液晶層14内の液晶分子14aの配向が基板平行面内で制御される。本実施形態において、反射膜31に対応する領域が反射表示領域Rであり、反射表示領域R以外で共通電極32と画素電極36とが平面視で重なり合う領域が透過表示領域Tである。   As described above, in the present embodiment, the common electrode 32 and the pixel electrode 36 that are a pair of electrodes are provided on the element substrate 8 that is a single substrate, and a predetermined voltage is applied between the electrodes. Thus, an electric field parallel to the surface of the element substrate 8, a so-called lateral electric field, is formed, and the orientation of the liquid crystal molecules 14 a in the liquid crystal layer 14 is controlled in the substrate parallel plane by the lateral electric field. In the present embodiment, a region corresponding to the reflective film 31 is the reflective display region R, and a region where the common electrode 32 and the pixel electrode 36 overlap in a plan view other than the reflective display region R is the transmissive display region T.

次に、図4において第2透光性基板17の内側表面(すなわち液晶側表面)には、カラーフィルタを構成する着色膜43が形成され、その周囲に遮光膜44が形成されている。個々の着色膜43は基板法線方向から見て図3に示すように、サブ画素Pに対応する長方形又は正方形のドット状(すなわち島状)に形成されている。また、着色膜43は複数個が行方向X及び列方向Yにマトリクス状に配列されている。遮光膜44はそれらの着色膜43を囲む格子状に形成されている。遮光膜44は、通常、反射表示領域R及び透過表示領域T以外の領域を遮光している。   Next, in FIG. 4, a colored film 43 constituting a color filter is formed on the inner surface (that is, the liquid crystal side surface) of the second light transmitting substrate 17, and a light shielding film 44 is formed around the colored film 43. Each colored film 43 is formed in a rectangular or square dot shape (that is, an island shape) corresponding to the sub-pixel P as shown in FIG. A plurality of the colored films 43 are arranged in a matrix in the row direction X and the column direction Y. The light shielding film 44 is formed in a lattice shape surrounding the colored films 43. The light shielding film 44 usually shields light from areas other than the reflective display area R and the transmissive display area T.

着色膜43の個々はR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の1つを通過させる光学的特性に設定され、それらR、G、Bの着色膜43がストライプ配列で並べられている。本明細書において着色膜43に添えられた(R)、(G)、(B)の符号は、それぞれ、着色膜の色が赤色、緑色、青色であることを示している。ストライプ配列は、列方向YにR、G、Bの同色が並び、行方向XにR、G、Bが1色ずつ順々に交互に並ぶ配列である。ストライプ配列に代えてその他の配列、例えばモザイク配列、デルタ配列で各色の着色膜43を並べることもできる。なお、着色膜43の光学的特性は、R、G、Bの3色に限られず、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3色とすることもでき、あるいは、その他の4色以上とすることもできる。遮光膜44は異なる色の着色膜43を2色又は3色重ねることによって樹脂膜として形成されている。しかし、遮光膜44はCr等といった金属膜によって形成することもできる。   Each of the colored films 43 is set to an optical characteristic that allows one of R (red), G (green), and B (blue) to pass through, and the colored films 43 of R, G, and B are arranged in a stripe arrangement. Yes. In this specification, the reference numerals (R), (G), and (B) attached to the colored film 43 indicate that the color of the colored film is red, green, and blue, respectively. The stripe arrangement is an arrangement in which the same colors R, G, and B are arranged in the column direction Y, and R, G, and B are alternately arranged one by one in the row direction X one by one. Instead of the stripe arrangement, the colored films 43 of the respective colors can be arranged in other arrangements, for example, a mosaic arrangement or a delta arrangement. The optical characteristics of the colored film 43 are not limited to the three colors of R, G, and B, but may be three colors of C (cyan), M (magenta), and Y (yellow), or other It can also be four or more colors. The light shielding film 44 is formed as a resin film by overlapping two or three colors of colored films 43 of different colors. However, the light shielding film 44 can also be formed of a metal film such as Cr.

なお、R、G、Bの着色領域は、波長に応じて色相が変化する可視光量域(380〜780nm)のうち、赤系の色相の着色領域、緑系の色相の着色領域、青系の色相の着色領域から成る領域である。例えば、「B」は波長のピークが415nm〜500nm、「G」は波長のピークが485nm〜535nm、「R」は波長のピークが600nm以上、のそれぞれの領域にある着色領域である。もちろん、本発明は着色領域を限定するものではないので、必要に応じて、その他の任意の波長領域を選定できる。   The R, G, and B colored regions are a red-based hue colored region, a green-based hue colored region, and a blue-based colored region in a visible light amount region (380 to 780 nm) in which the hue changes according to the wavelength. This is an area composed of hue colored areas. For example, “B” is a colored region having a wavelength peak of 415 nm to 500 nm, “G” is a colored region having a wavelength peak of 485 nm to 535 nm, and “R” is a colored region having a wavelength peak of 600 nm or more. Of course, since the present invention does not limit the colored region, any other wavelength region can be selected as necessary.

図4及び図5において、着色膜43及び遮光膜44の上にオーバーコート層45が形成されている。素子基板8上の反射膜31に対向する領域(すなわち反射表示領域R)内のオーバーコート層45上に層厚調整膜としての位相差膜46が設けられている。そして、位相差膜46を覆ってオーバーコート層45の上に配向膜47が設けられている。   4 and 5, an overcoat layer 45 is formed on the coloring film 43 and the light shielding film 44. A retardation film 46 as a layer thickness adjusting film is provided on the overcoat layer 45 in the region facing the reflective film 31 on the element substrate 8 (that is, the reflective display region R). An alignment film 47 is provided on the overcoat layer 45 so as to cover the retardation film 46.

着色膜43は、例えば、感光性樹脂材料に顔料や染料を混合した材料をフォトリソグラフィ法に基づいてパターニングすることによって形成されている。オーバーコート層45は、例えばアクリル系樹脂によって形成されている。配向膜47はポリイミドによって形成されている。オーバーコート層45は、カラーフィルタの構成材料が液晶に混入することを防止する保護膜及びカラーフィルタの表面を平坦化する平坦化膜として機能する。   The colored film 43 is formed, for example, by patterning a material obtained by mixing a photosensitive resin material with a pigment or a dye based on a photolithography method. The overcoat layer 45 is made of, for example, an acrylic resin. The alignment film 47 is made of polyimide. The overcoat layer 45 functions as a protective film that prevents the constituent material of the color filter from being mixed into the liquid crystal and a flattening film that flattens the surface of the color filter.

位相差膜46は、例えば、液晶高分子を厚さ2μm〜3μmで一様に形成した後にフォトリソグラフィ法に基づいたパターニング手法によって反射表示領域Rに対応した部分が残るように形成する。位相差膜46の両端は段差面46aであり、この段差面46aはフォトリソグラフィ法に基づいたパターニング処理の際に傾斜面となって形成される。段差面46aはオーバーコート層45の面から90°以下の角度で行方向X(紙面垂直方向)に帯状に延びている。   The retardation film 46 is formed so that, for example, a liquid crystal polymer is uniformly formed with a thickness of 2 μm to 3 μm, and then a portion corresponding to the reflective display region R remains by a patterning method based on a photolithography method. Both ends of the retardation film 46 are stepped surfaces 46a, and the stepped surfaces 46a are formed as inclined surfaces in the patterning process based on the photolithography method. The step surface 46a extends from the surface of the overcoat layer 45 in a strip shape in the row direction X (perpendicular to the paper surface) at an angle of 90 ° or less.

段差面46aは図3では破線によって示されており、図2では仮想線によって示されている。図2では段差面46aと反射膜31の端辺とがわずかにずれて描かれているが、実際は、段差面46aは平面視で反射膜31の端辺と略重なっている。反射表示領域Rにおいて位相差膜46と液晶層により反射表示領域Rのリタデーション(Δnd)を反射表示に最適な広帯域の4分の1波長とするために、位相差膜46のリタデーション(Δnd)は2分の1波長に、反射表示領域Rの液晶層のリタデーション(Δnd)は4分の1波長に設定されている。   The step surface 46a is indicated by a broken line in FIG. 3, and is indicated by a virtual line in FIG. In FIG. 2, the step surface 46 a and the edge of the reflective film 31 are drawn slightly shifted from each other, but actually, the step surface 46 a substantially overlaps the edge of the reflective film 31 in plan view. In order to set the retardation (Δnd) of the reflective display region R in the reflective display region R to a quarter wavelength of the wideband optimum for reflective display by the retardation film 46 and the liquid crystal layer, the retardation (Δnd) of the retardation film 46 is The retardation (Δnd) of the liquid crystal layer in the reflective display region R is set to a quarter wavelength at a half wavelength.

なお、位相差膜46は反射表示領域Rの液晶のリタデーション(Δnd)が4分の1波長となるように膜厚が設定されている。層厚調整膜としての位相差膜46自体の膜厚によって反射表示領域Rにおける適正な液晶層厚が得られない場合には、位相差膜46をフォトリソグラフィ法に基づいて形成する際にマスクとして用いたレジストを全部除去するのではなく適宜の膜厚分だけ残せば良い。   The phase difference film 46 is set to have a film thickness such that the retardation (Δnd) of the liquid crystal in the reflective display region R is a quarter wavelength. When an appropriate liquid crystal layer thickness in the reflective display region R cannot be obtained due to the film thickness of the retardation film 46 itself as the layer thickness adjusting film, it is used as a mask when forming the retardation film 46 based on the photolithography method. Instead of removing all the resist used, it is sufficient to leave an appropriate film thickness.

また、図示してないが、位相差膜46を層厚調整膜とは、兼用ではなく、別々に設けることもできる。例えば、カラーフィルタ基板9の液晶側の表面に位相差膜46を設け、カラーフィルタ基板9の外側表面に別の位相差膜46を設けることができる。この場合、カラーフィルタ基板9に施されるラビング方向は位相差膜46の段差面46aに対向する向きから行われる。カラーフィルタ基板9の外側に設ける位相差膜46は、フォトリソグラフィ法に従ったパターニングによって形成するのではなく、フィルム状の位相差膜を貼着することによって形成しても良い。   Although not shown, the retardation film 46 can be provided separately from the layer thickness adjusting film instead of being shared. For example, the retardation film 46 can be provided on the surface of the color filter substrate 9 on the liquid crystal side, and another retardation film 46 can be provided on the outer surface of the color filter substrate 9. In this case, the rubbing direction applied to the color filter substrate 9 is performed from the direction facing the step surface 46 a of the retardation film 46. The retardation film 46 provided on the outer side of the color filter substrate 9 may be formed by adhering a film-like retardation film, not by patterning according to a photolithography method.

図6は軸配置の関係を示している。符号140は、図2の画素電極36の間隙としてのスリット40の延在方向(従って電極線状部41の延在方向)を示している。符号R1は、図2の素子基板8側のラビング方向を示している。符号R2は、図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向を示している。符号146aは図3の層厚調整膜としての位相差膜46の段差面46aの延在方向を示している。符号116は図4のバックライト側の第1偏光板16の透過軸の方向を示している。符号118は図4の観察側の第2偏光板18の透過軸の方向を示している。   FIG. 6 shows the relationship of the shaft arrangement. Reference numeral 140 indicates the extending direction of the slit 40 as the gap between the pixel electrodes 36 in FIG. 2 (and hence the extending direction of the electrode linear portion 41). Reference numeral R1 indicates the rubbing direction on the element substrate 8 side in FIG. Reference numeral R2 indicates the rubbing direction on the color filter substrate 9 side in FIG. Reference numeral 146a indicates the extending direction of the step surface 46a of the retardation film 46 as the layer thickness adjusting film in FIG. Reference numeral 116 indicates the direction of the transmission axis of the first polarizing plate 16 on the backlight side in FIG. Reference numeral 118 indicates the direction of the transmission axis of the second polarizing plate 18 on the observation side in FIG.

図6を参照して軸配置の関係を説明すれば、図2の画素電極36のスリット40はサブ画素Pの長手方向(図2の上下方向)に延びている(図6の方向140)。スリット40に対する素子基板8側のラビング方向R1の角度βはβ=5°に規定されている(図6の方向R1)。図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は、素子基板8側のラビング方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)であり(図6の方向R2)、層厚調整膜としての位相差膜46の段差面46aに対向する向きから行われている(図6の146a方向参照)。段差面46aは行方向Xに延びており、図2の画素電極36のスリット40(すなわち電極線状部41)の延在方向と直角方向に延在している。従って、図3のカラーフィルタ基板側のラビング方向R2と位相差膜46の段差面46aとの成す角度αはα=85°を成している。   The axial arrangement relationship will be described with reference to FIG. 6. The slit 40 of the pixel electrode 36 in FIG. 2 extends in the longitudinal direction of the sub-pixel P (vertical direction in FIG. 2) (direction 140 in FIG. 6). An angle β in the rubbing direction R1 on the element substrate 8 side with respect to the slit 40 is defined as β = 5 ° (direction R1 in FIG. 6). The rubbing direction R2 on the color filter substrate 9 side in FIG. 3 is antiparallel to the rubbing direction R1 on the element substrate 8 side (direction R2 in FIG. 6), and a retardation film as a layer thickness adjusting film 46 from the direction facing the stepped surface 46a (see the direction 146a in FIG. 6). The step surface 46a extends in the row direction X, and extends in a direction perpendicular to the extending direction of the slit 40 (that is, the electrode linear portion 41) of the pixel electrode 36 in FIG. Therefore, the angle α formed by the rubbing direction R2 on the color filter substrate side in FIG. 3 and the step surface 46a of the retardation film 46 is α = 85 °.

図4において、素子基板8側(バックライト側)の第1偏光板16及びカラーフィルタ基板9側(観察側)の第2偏光板18の各透過軸は互いに直角であり(図6の方向116及び方向118)、観察側の第2偏光板18の透過軸118は、ラビング方向R1,R2と直角であり、バックライト側の第1偏光板16の透過軸116はラビング方向R1,R2と平行である。   In FIG. 4, the transmission axes of the first polarizing plate 16 on the element substrate 8 side (backlight side) and the second polarizing plate 18 on the color filter substrate 9 side (observation side) are perpendicular to each other (direction 116 in FIG. 6). And the direction 118), the transmission axis 118 of the second polarizing plate 18 on the observation side is perpendicular to the rubbing directions R1 and R2, and the transmission axis 116 of the first polarizing plate 16 on the backlight side is parallel to the rubbing directions R1 and R2. It is.

本実施形態の液晶装置1において透過表示が行われる場合、図1の照明装置3の導光体5の光出射面5bから出射された面状の光が図4の透過表示領域T内へ供給される。供給された光は第1偏光板16によって直線偏光とされて液晶層14へ入射する。オフ電圧印加時、当該偏光の振動方向は液晶配向方向に平行なため(図6の符号116、R1、R2参照)、液晶層14によって位相差を与えられない。この直線偏光は第2偏光板18によって吸収されて外部へは出射しない。これにより、低透過率の暗表示を実現できる。オン電圧印加時、液晶層14へ入射した偏光は液晶層14によってその位相が変調され、第2偏光板18を透過して外部へ出射して明表示となる。本実施形態では液晶分子がオン電圧印加時に基板平行面内で配向制御されるので、縦方向に配向制御される縦電界制御の場合に比べて広視角の明表示が実現される。また、透過表示領域Tには位相差膜46が存在しないので、視角方向に余分な位相差が発生せず、広視角の暗表示を実現できる。   When transmissive display is performed in the liquid crystal device 1 of the present embodiment, planar light emitted from the light emitting surface 5b of the light guide 5 of the illumination device 3 in FIG. 1 is supplied into the transmissive display region T in FIG. Is done. The supplied light is converted into linearly polarized light by the first polarizing plate 16 and enters the liquid crystal layer 14. When the off-voltage is applied, the polarization oscillation direction is parallel to the liquid crystal alignment direction (see reference numerals 116, R 1, and R 2 in FIG. 6), so that no phase difference is given by the liquid crystal layer 14. This linearly polarized light is absorbed by the second polarizing plate 18 and is not emitted to the outside. Thereby, dark display with low transmittance can be realized. When an on-voltage is applied, the phase of the polarized light incident on the liquid crystal layer 14 is modulated by the liquid crystal layer 14, passes through the second polarizing plate 18, and is emitted to the outside for a bright display. In this embodiment, since the orientation of liquid crystal molecules is controlled in the plane parallel to the substrate when an on-voltage is applied, bright display with a wide viewing angle is realized as compared with the case of vertical electric field control in which the orientation is controlled in the vertical direction. In addition, since the retardation film 46 does not exist in the transmissive display region T, an excessive phase difference does not occur in the viewing angle direction, and a dark display with a wide viewing angle can be realized.

一方、反射表示が行われる場合、外部からカラーフィルタ基板9へ光が供給される。この光は、第2偏光板18によって直線偏光に変換され、液晶層14を通過して反射膜31で反射された後、再び第2偏光板18を通過して観察者側へ向かう。   On the other hand, when reflective display is performed, light is supplied from the outside to the color filter substrate 9. This light is converted into linearly polarized light by the second polarizing plate 18, passes through the liquid crystal layer 14, is reflected by the reflective film 31, and then passes through the second polarizing plate 18 again toward the viewer.

反射表示領域Rにおいて、オフ電圧印加時、第2偏光板18、位相差膜46、液晶層14を通過した光は円偏光になって反射膜31に入射する。反射後に再び第2偏光板18に入射した偏光はその第2偏光板18によって吸収されて外部へは出射しない。これにより、低透過率の暗表示を実現できる。オン電圧印加時、液晶層14へ入射した偏光は液晶層14によってその位相が変調され、第2偏光板18を透過して外部へ出射して明表示となる。   In the reflective display region R, when an off voltage is applied, the light that has passed through the second polarizing plate 18, the retardation film 46, and the liquid crystal layer 14 becomes circularly polarized light and enters the reflective film 31. The polarized light that has entered the second polarizing plate 18 again after being reflected is absorbed by the second polarizing plate 18 and is not emitted to the outside. Thereby, dark display with low transmittance can be realized. When an on-voltage is applied, the phase of the polarized light incident on the liquid crystal layer 14 is modulated by the liquid crystal layer 14, passes through the second polarizing plate 18, and is emitted to the outside for a bright display.

以上に説明したように本実施形態によれば、図3において、ラビングR2が位相差膜46の段差面46aに対向する向きから角度α=85°で行われるので、その段差面46aに対して強いラビング強度を付与でき、配向力を強くでき、配向ムラを防止でき、その結果、段差面46aの所で高いコントラストを確保できる。ラビングが、本実施形態とは逆に、段差面46aの山部から谷部へ向かって行われると、この段差面46aに付与されるラビング強度が弱くなって表示不良を生じるおそれがある。これに対し本実施形態によれば、段差面46aに対して強いラビング強度を付与できるので、ラビング不良に起因する表示不良の発生を防止できる。   As described above, according to the present embodiment, since the rubbing R2 is performed at an angle α = 85 ° from the direction facing the step surface 46a of the retardation film 46 in FIG. A strong rubbing strength can be imparted, an alignment force can be increased, and alignment unevenness can be prevented. As a result, a high contrast can be secured at the level difference surface 46a. Contrary to the present embodiment, when rubbing is performed from the peak portion to the valley portion of the step surface 46a, the rubbing strength applied to the step surface 46a is weakened, which may cause display defects. On the other hand, according to the present embodiment, since a strong rubbing strength can be imparted to the step surface 46a, it is possible to prevent a display defect due to a rubbing defect.

なお、本実施形態では、段差面46aに対するラビングの角度αをα=85°としたが、これはスリット40に対するラビング方向R1,R2の角度βに応じて変化させても良い。FFSモードの場合、スリット40に対するラビング方向R1,R2の角度βは5°〜20°の範囲内にあることが望ましい。段差面46aはこのようなラビング方向R1,R2に対して適切な角度に設定される。本発明者の実験によれば、段差面46aの延在方向に対するラビングの角度αが70°(=90°−20°)よりも大きく、110°(=90°+20°)よりも小さい範囲内であれば、ラビング不良に起因すると思われる表示不良は発生しないことが分かった。   In the present embodiment, the rubbing angle α with respect to the step surface 46a is α = 85 °, but this may be changed according to the angle β of the rubbing directions R1 and R2 with respect to the slit 40. In the case of the FFS mode, the angle β of the rubbing directions R1 and R2 with respect to the slit 40 is preferably in the range of 5 ° to 20 °. The step surface 46a is set to an appropriate angle with respect to the rubbing directions R1 and R2. According to the experiments by the present inventors, the rubbing angle α with respect to the extending direction of the stepped surface 46a is larger than 70 ° (= 90 ° -20 °) and smaller than 110 ° (= 90 ° + 20 °). Then, it was found that no display defect that might be caused by a rubbing defect occurred.

次に、図4において、層厚調整膜としての位相差膜46の段差面46aはカラーフィルタ基板9の基板面に対して90°より小さい角度で傾斜する傾斜面である。本実施形態のように、その段差面46aに対向する向きからラビングを行うことにより、段差面46aに対して良好なラビング強度を付与することができた。   Next, in FIG. 4, the step surface 46 a of the retardation film 46 as a layer thickness adjusting film is an inclined surface that is inclined at an angle smaller than 90 ° with respect to the substrate surface of the color filter substrate 9. By performing rubbing from the direction facing the step surface 46a as in the present embodiment, it was possible to impart a good rubbing strength to the step surface 46a.

次に、図2において、素子基板8側のラビング方向R1は画素電極36のスリット40の延在方向に対してβ=5°の角度とした。そして、図3のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は逆平行(アンチパラレル)とした。この角度関係により、オン電圧印加時の配向変化を安定化すると共に配向変化が生じるしきい値電圧を低減できる効果が得られた。なお、画素電極のスリットとラビング方向との成す角度αが5°〜20°の範囲内であれば同様の効果が得られた。   Next, in FIG. 2, the rubbing direction R1 on the element substrate 8 side is set to an angle of β = 5 ° with respect to the extending direction of the slit 40 of the pixel electrode 36. The rubbing direction R2 on the color filter substrate 9 side in FIG. 3 is antiparallel (anti-parallel). With this angular relationship, the effect of stabilizing the orientation change when the on-voltage is applied and reducing the threshold voltage at which the orientation change occurs can be obtained. The same effect was obtained when the angle α formed between the slit of the pixel electrode and the rubbing direction was in the range of 5 ° to 20 °.

図1から図5に示した上記の実施形態は、画素電極36の電極線状部41が平面視で共通電極32に重なり合う電極構造を有するモードであるFFSモードの液晶装置であった。本発明は、このFFSモードに限られず、IPSモードの液晶装置にも適用できる。IPSモードは、共通電極32にもスリット及び電極線状部が設けられ、画素電極36の電極線状部41と共通電極32の電極線状部とが平面視で互いに重なり合うことがなく、それらの間に所定の間隔、例えば液晶層14の層厚よりも大きい間隔が設けられるモードである。   The above-described embodiment shown in FIGS. 1 to 5 is an FFS mode liquid crystal device that is a mode having an electrode structure in which the electrode linear portion 41 of the pixel electrode 36 overlaps the common electrode 32 in plan view. The present invention is not limited to this FFS mode, but can be applied to an IPS mode liquid crystal device. In the IPS mode, the common electrode 32 is also provided with slits and electrode linear portions, and the electrode linear portion 41 of the pixel electrode 36 and the electrode linear portion of the common electrode 32 do not overlap each other in plan view. In this mode, a predetermined interval, for example, an interval larger than the layer thickness of the liquid crystal layer 14 is provided.

次に、本実施形態では、図2において画素電極36のスリット40はサブ画素Pの長手方向(図2の上下方向)に平行に延びる直線形状であり、ラビング方向R1はサブ画素Pの長手方向に対してβ=5°傾いており、図3の位相差膜46の段差面46aはサブ画素Pの短手方向と平行に延在している。この構成は、カラーフィルタ基板9上の位相差膜46の形状を簡単にすることに関して有効である。   Next, in this embodiment, the slit 40 of the pixel electrode 36 in FIG. 2 has a linear shape extending parallel to the longitudinal direction of the subpixel P (vertical direction in FIG. 2), and the rubbing direction R1 is the longitudinal direction of the subpixel P. The step surface 46a of the retardation film 46 in FIG. 3 extends in parallel with the short direction of the sub-pixel P. This configuration is effective for simplifying the shape of the retardation film 46 on the color filter substrate 9.

(液晶装置の第2実施形態)
図7及び図8は本発明に係る液晶装置の第2実施形態を示している。この実施形態が図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、カラーフィルタ基板9上に形成する層厚調整膜としての位相差膜46の基板法線方向から見た形状に改変を加えたことである。本実施形態において図2及び図3と同じ部材は同じ符号を付すことにしてその説明は省略することにする。
(Second Embodiment of Liquid Crystal Device)
7 and 8 show a second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The difference between this embodiment and the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 is that the retardation film 46 as a layer thickness adjusting film formed on the color filter substrate 9 is modified to have a shape seen from the normal direction of the substrate. Is added. In this embodiment, the same members as those in FIGS. 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図7において、画素電極36内に設けられた間隙としてのスリット40はサブ画素Pの長手方向(列方向Y)に直線状に延在している。このスリット40に対向して図8のカラーフィルタ基板9上に層厚調整膜としての位相差膜46が設けられている。既述の第1実施形態においては、図3に示したように、位相差膜46の段差面46aがサブ画素Pの短手方向(行方向X)に平行に延在し、さらに、段差面46aが複数のサブ画素Pにわたって一直線につながっていた。これに対し、本実施形態では、図8に示すように、位相差膜46の段差面46aが個々のサブ画素P内においてサブ画素Pの短手方向(行方向X)に対して平行ではなく傾いて延在している。そして、各段差面46aが互いに隣接するサブ画素P間の境界部分で段差状につながっている。全体的に見れば、段差面46aは鋸歯状に形成されている。   In FIG. 7, the slit 40 as a gap provided in the pixel electrode 36 extends linearly in the longitudinal direction (column direction Y) of the sub-pixel P. A retardation film 46 as a layer thickness adjusting film is provided on the color filter substrate 9 of FIG. In the first embodiment described above, as shown in FIG. 3, the step surface 46a of the retardation film 46 extends in parallel to the short direction (row direction X) of the sub-pixel P, and further, the step surface 46a was connected in a straight line across the plurality of sub-pixels P. On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 8, the step surface 46a of the retardation film 46 is not parallel to the short direction (row direction X) of the sub-pixel P in each sub-pixel P. Inclined and extended. Each step surface 46a is connected in a step shape at a boundary portion between adjacent sub-pixels P. As a whole, the step surface 46a is formed in a sawtooth shape.

図7において、スリット40の延在方向(列方向Y)に対する素子基板8側のラビング方向R1の角度βはβ=5°に設定されている。図8のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2の、層厚調整膜としての位相差膜46の段差面46aに対する角度αは、α=90°に設定されている。図7の素子基板8側のラビング方向R1はカラーフィルタ基板9側のラビング方向に対して逆平行(アンチパラレル)の関係にある。   In FIG. 7, the angle β of the rubbing direction R1 on the element substrate 8 side with respect to the extending direction of the slits 40 (column direction Y) is set to β = 5 °. In the rubbing direction R2 on the color filter substrate 9 side in FIG. 8, the angle α with respect to the step surface 46a of the retardation film 46 as the layer thickness adjusting film is set to α = 90 °. The rubbing direction R1 on the element substrate 8 side in FIG. 7 is in an antiparallel relationship with the rubbing direction on the color filter substrate 9 side.

本実施形態によれば、位相差膜46の段差面46aがラビング方向R2に対して正確にα=90°となるので、段差面46aに強いラビング力を付与でき、液晶分子の配向不良の発生を確実に防止できる。なお、スリット40の延在方向に対するラビング方向R1,R2の角度βは、FFSモードのための液晶分子配向を得るためには、β=5°〜20°の範囲内の値をとることができる。β角度がこの角度範囲内で変化する場合でも、ラビング方向R1,R2と段差面46aとの成す角度βは90°であることが望ましい。   According to the present embodiment, since the step surface 46a of the retardation film 46 is accurately α = 90 ° with respect to the rubbing direction R2, a strong rubbing force can be applied to the step surface 46a, and alignment defects of liquid crystal molecules occur. Can be reliably prevented. Note that the angle β of the rubbing directions R1 and R2 with respect to the extending direction of the slit 40 can take a value in the range of β = 5 ° to 20 ° in order to obtain liquid crystal molecule alignment for the FFS mode. . Even when the β angle changes within this angle range, the angle β formed by the rubbing directions R1, R2 and the step surface 46a is preferably 90 °.

本実施形態では、図7に示すように、位相差膜46の傾斜する段差面46aが平面視で反射膜31の端辺の外部へ張り出すように、素子基板8とカラーフィルタ基板9とが貼り合わされている。しかしながら、反射膜31の端辺を平面視で段差面46aと一致させても良い。   In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the element substrate 8 and the color filter substrate 9 are arranged so that the stepped surface 46 a inclined of the retardation film 46 projects to the outside of the end side of the reflective film 31 in plan view. It is pasted together. However, the end side of the reflective film 31 may coincide with the step surface 46a in plan view.

(液晶装置の第3実施形態)
図9及び図10は本発明に係る液晶装置の第3実施形態を示している。この実施形態が図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、画素電極に設けた間隙としてのスリット及び電極線状部の形状を改変し、それに応じてラビング方向を変更したものである。本実施形態において図2及び図3と同じ部材は同じ符号を付すことにしてその説明は省略することにする。
(Third embodiment of liquid crystal device)
9 and 10 show a third embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. This embodiment is different from the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 in that the slits as the gaps provided in the pixel electrodes and the shape of the electrode linear portions are modified and the rubbing direction is changed accordingly. It is. In this embodiment, the same members as those in FIGS. 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図9において、画素電極36は、複数の間隙としてのスリット40及びそれらのスリット40を介在させて並んだ複数の電極線状部41を有している。画素電極36のスリット40はサブ画素Pの長手方向における画素電極36の中間位置で折れ曲がる形状であり、画素電極36のその中間位置から一方(図9の上方)の領域にあるスリット40は平面視でサブ画素Pの長手方向に対して反時計方向に5°傾いている。また、画素電極36のその中間位置から他方(下方)の領域にあるスリット40は平面視でサブ画素Pの長手方向に対して正時計方向に5°傾いている。   In FIG. 9, the pixel electrode 36 includes a plurality of slits 40 as a plurality of gaps and a plurality of electrode linear portions 41 arranged with the slits 40 interposed therebetween. The slit 40 of the pixel electrode 36 has a shape that is bent at an intermediate position of the pixel electrode 36 in the longitudinal direction of the sub-pixel P, and the slit 40 in one region (upward in FIG. 9) from the intermediate position of the pixel electrode 36 is a plan view. Thus, it is inclined 5 ° counterclockwise with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel P. Further, the slit 40 in the other (lower) region from the intermediate position of the pixel electrode 36 is inclined by 5 ° in the clockwise direction with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel P in plan view.

素子基板8側のラビング方向R1はサブ画素Pの長手方向(列方向Y)に対して平行方向である。図10のカラーフィルタ基板9側のラビング方向R2は素子基板側のラビング方向R1に対して逆平行(アンチパラレル)である。スリット40とラビング方向R1,R2との成す角度βはβ=5°である。   The rubbing direction R1 on the element substrate 8 side is parallel to the longitudinal direction (column direction Y) of the sub-pixels P. The rubbing direction R2 on the color filter substrate 9 side in FIG. 10 is antiparallel to the rubbing direction R1 on the element substrate side. The angle β formed by the slit 40 and the rubbing directions R1 and R2 is β = 5 °.

カラーフィルタ基板9上に設けられた層厚調整膜としての位相差膜46の段差面46aはサブ画素Pの短手方向(行方向X)と平行に延在している。この方向は、素子基板8上のソース線24に直角の方向であり、ゲート線20に平行の方向である。位相差膜46の段差面46aに対するラビング方向R1,R2の角度αはα=90°である。カラーフィルタ基板9側のラビングR2は位相差膜46の段差面46aに対向する向きから行われる。スリット40は位相差膜46の段差面46aに対して85°の角度をもって設けられている。   A step surface 46 a of a retardation film 46 as a layer thickness adjusting film provided on the color filter substrate 9 extends in parallel with the short direction (row direction X) of the sub-pixel P. This direction is a direction perpendicular to the source line 24 on the element substrate 8 and parallel to the gate line 20. The angle α of the rubbing directions R1 and R2 with respect to the step surface 46a of the retardation film 46 is α = 90 °. The rubbing R2 on the color filter substrate 9 side is performed from the direction facing the step surface 46a of the retardation film 46. The slit 40 is provided with an angle of 85 ° with respect to the step surface 46 a of the retardation film 46.

本実施形態によれば、1つのサブ画素P内にスリット40の傾きが線対称である2つのドメインが設けられるので、高視角領域における表示の視認性を高めることができ、視角特性がさらに向上する。また、位相差膜46の段差面46aがラビング方向R1,R2に対して正確に90°となるので、当該段差面46aに強いラビング力を付与でき、液晶分子の配向不良の発生を確実に防止できる。   According to the present embodiment, since two domains in which the inclination of the slit 40 is axisymmetric are provided in one sub-pixel P, the visibility of display in a high viewing angle region can be improved, and the viewing angle characteristics are further improved. To do. Further, since the step surface 46a of the retardation film 46 is accurately 90 ° with respect to the rubbing directions R1 and R2, a strong rubbing force can be applied to the step surface 46a, and the occurrence of alignment failure of liquid crystal molecules can be reliably prevented. it can.

(液晶装置の第4実施形態)
図11及び図12は本発明に係る液晶装置の第4実施形態を示している。この実施形態が図2及び図3に示した第1実施形態と異なる点は、カラーフィルタ基板9上に形成する層厚調整膜としての位相差膜46の基板法線方向から見た形状に改変を加えたことである。本実施形態において図2及び図3と同じ部材は同じ符号を付すことにしてその説明は省略することにする。
(Fourth Embodiment of Liquid Crystal Device)
11 and 12 show a fourth embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The difference between this embodiment and the first embodiment shown in FIGS. 2 and 3 is that the retardation film 46 as a layer thickness adjusting film formed on the color filter substrate 9 is modified to have a shape seen from the normal direction of the substrate. Is added. In this embodiment, the same members as those in FIGS. 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

図11において、画素電極36は、複数の間隙としてのスリット40及びそれらのスリット40を介在させて並んだ複数の電極線状部41を有している。スリット40はサブ画素Pの長手方向(列方向Y)に平行に延びる直線形状である。ラビング方向R1,R2はサブ画素Pの長手方向に対して5°〜20°傾いている。つまり、スリット40とラビング方向R1,R2との成す角度βは5°≦β≦20°である。   In FIG. 11, the pixel electrode 36 includes a plurality of slits 40 as a plurality of gaps and a plurality of electrode linear portions 41 arranged with the slits 40 interposed therebetween. The slit 40 has a linear shape extending parallel to the longitudinal direction (column direction Y) of the sub-pixel P. The rubbing directions R1 and R2 are inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel P. That is, the angle β formed by the slit 40 and the rubbing directions R1 and R2 is 5 ° ≦ β ≦ 20 °.

位相差膜46の段差面46aは、当該段差面46aとラビング方向R2との成す角度αが、α=90°になる状態でサブ画素Pの短手方向(行方向X)に対して傾いて延在している。さらに、段差面46aは、個々のサブ画素P内で独立して傾いているのではなく、3つのサブ画素43(R),43(G),43(B)を1つのセットとしてそのセット内で直線状に延在している。つまり、段差面46aは複数のサブ画素P間で直線状につながって延在している。この構成によれば、位相差膜46の段差面46aの傾斜がサブ画素Pごとに繰り返されるパターンではなく、複数のサブ画素Pごとに繰り返されるパターンになる。このため、1つ1つのサブ画素Pの境界部分においてラビング強度にムラが生じることを防止できる。   The step surface 46a of the retardation film 46 is inclined with respect to the short direction (row direction X) of the sub-pixel P in a state where an angle α formed by the step surface 46a and the rubbing direction R2 is α = 90 °. It is extended. Further, the step surface 46a is not inclined independently in each sub-pixel P, but the three sub-pixels 43 (R), 43 (G), and 43 (B) are set as one set in the set. It extends in a straight line. That is, the step surface 46a extends in a straight line between the plurality of sub-pixels P. According to this configuration, the slope of the step surface 46a of the retardation film 46 is not a pattern that repeats for each sub-pixel P, but a pattern that repeats for each of the plurality of sub-pixels P. For this reason, it is possible to prevent the rubbing intensity from being uneven at the boundary portion of each sub-pixel P.

なお、本実施形態ではR、G、Bを1つのセットとして段差面46aを繰り返して傾斜させる構成としたが、1画素を構成するサブ画素がR、G、B3色以外の組み合わせである場合には、その組み合わせに応じて段差面46aの形状を適宜に変更する。例えば、R、G、B、青緑の4色で1つの画素が構成される場合には、その4色に対応した1画素ごとに段差面46aの直線状の傾斜を繰り返して連続させる。   In the present embodiment, R, G, and B are set as one set, and the step surface 46a is repeatedly inclined. However, when the sub-pixels constituting one pixel are a combination other than R, G, and B3 colors. Changes the shape of the stepped surface 46a as appropriate according to the combination. For example, when one pixel is composed of four colors of R, G, B, and blue-green, the linear inclination of the step surface 46a is continuously repeated for each pixel corresponding to the four colors.

本実施形態では、図11に示すように、位相差膜46の段差面46aが傾斜状態で設けられ、反射膜31の端辺が行方向Xと平行に設けられている。つまり、段差面46aと反射膜31の端辺とが平面視で不一致の状態となっている。しかしながら、反射膜31の端辺を平面視で段差面46aと一致するように傾斜させても良い。   In the present embodiment, as shown in FIG. 11, the step surface 46 a of the retardation film 46 is provided in an inclined state, and the end side of the reflective film 31 is provided in parallel with the row direction X. That is, the stepped surface 46a and the end side of the reflective film 31 are in a mismatched state in plan view. However, the edge of the reflective film 31 may be inclined so as to coincide with the step surface 46a in plan view.

(その他の実施形態)
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明の液晶装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、以上の実施形態ではスイッチング素子としてTFT素子を用いたが、TFT素子以外の3端子型スイッチング素子を用いることもできる。また、TFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)等といった2端子型のスイッチング素子を用いることもできる。
上記実施形態では、画素電極の電極線状部と共通電極とが平面視で互いに重なり合う電極構造を有するFFSモードを例示した。しなしながら、本発明はIPSモード、すなわち画素電極の電極線状部と共通電極の電極線状部とが平面視で重なり合うことなく、基板平行方向においてそれらの電極線状部間に間隔が設けられる電極構造を有する表示モードにも適用できる。
(Other embodiments)
The liquid crystal device according to the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
For example, although the TFT element is used as the switching element in the above embodiment, a three-terminal switching element other than the TFT element can also be used. Further, a two-terminal switching element such as TFD (Thin Film Diode) may be used.
In the above embodiment, the FFS mode having an electrode structure in which the electrode linear portion of the pixel electrode and the common electrode overlap each other in plan view is illustrated. However, in the present invention, the IPS mode, that is, the electrode linear portions of the pixel electrode and the electrode linear portions of the common electrode do not overlap in plan view, and a space is provided between the electrode linear portions in the substrate parallel direction. The present invention can also be applied to a display mode having an electrode structure.

(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器の一実施形態を説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。図13は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、電気光学装置としての液晶装置101と、これを制御する制御回路102とを有する。液晶装置101は液晶パネル103及び駆動回路104を有する。また、制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成される。
(First Embodiment of Electronic Device)
Hereinafter, an embodiment of an electronic apparatus according to the invention will be described. In addition, this embodiment shows an example of this invention and this invention is not limited to this embodiment. FIG. 13 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. The electronic apparatus shown here includes a liquid crystal device 101 as an electro-optical device and a control circuit 102 that controls the liquid crystal device 101. The liquid crystal device 101 includes a liquid crystal panel 103 and a drive circuit 104. The control circuit 102 includes a display information output source 105, a display information processing circuit 106, a power supply circuit 107, and a timing generator 108.

表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路106に供給する。   The display information output source 105 includes a memory such as a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and various clock signals generated by the timing generator 108. The display information processing circuit 106 is supplied with display information such as a predetermined format image signal.

表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。   The display information processing circuit 106 includes a number of well-known circuits such as an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, and converts an image signal into a clock signal CLK. At the same time, it is supplied to the drive circuit 104. Here, the drive circuit 104 is a generic term for an inspection circuit and the like together with a scanning line drive circuit and a data line drive circuit. The power supply circuit 107 supplies a predetermined power supply voltage to each of the above components.

液晶装置101は、例えば、図1〜図6に示した液晶装置1を用いて構成する。液晶装置1によれば、層厚調整膜の段差面に対するラビング方向を適切に設定することによりコントラストの高い高品質の表示を実現できるので、その液晶装置1を用いた本電子機器においても高品質の表示を実現できる。   The liquid crystal device 101 is configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIGS. According to the liquid crystal device 1, since a high-quality display with high contrast can be realized by appropriately setting the rubbing direction with respect to the step surface of the layer thickness adjusting film, the electronic device using the liquid crystal device 1 also has high quality. Can be realized.

(電子機器の第2実施形態)
図14は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す電子機器としての携帯電話機110は、本体部111と、この本体部111に対して開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。表示体部112には表示装置113及び受話部114が設けられる。電話通信に関する各種表示は、表示装置113の表示画面115に表示される。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部に格納される。本体部111には操作ボタン119及び送話部117が設けられる。
(Second Embodiment of Electronic Device)
FIG. 14 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the invention. A cellular phone 110 as an electronic device shown here includes a main body 111 and a display body 112 that can be opened and closed with respect to the main body 111. The display unit 112 is provided with a display device 113 and a receiver 114. Various displays relating to telephone communication are displayed on the display screen 115 of the display device 113. A control unit for controlling the operation of the display device 113 is stored inside the main body unit 111 or the display body unit 112 as a part of the control unit that controls the entire mobile phone or separately from the control unit. The The main body unit 111 is provided with an operation button 119 and a transmission unit 117.

表示装置113は、例えば、図1〜図6に示した液晶装置1を用いて構成する。液晶装置1によれば、層厚調整膜の段差面に対するラビング方向を適切に設定することによりコントラストの高い高品質の表示を実現できるので、その液晶装置1を用いた本携帯電話機110においても高品質の表示を実現できる。   The display device 113 is configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIGS. According to the liquid crystal device 1, a high-quality display with high contrast can be realized by appropriately setting the rubbing direction with respect to the step surface of the layer thickness adjusting film. Quality display can be realized.

以上、好ましい実施形態を挙げて本発明の電子機器を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、本発明は、携帯電話機に限られず、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話装置、POS端末、デジタルスチルカメラ、電子ブック、等といった各種の電子機器に適用できる。
The electronic device of the present invention has been described with reference to the preferred embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
For example, the present invention is not limited to a mobile phone, but a personal computer, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone device, The present invention can be applied to various electronic devices such as a POS terminal, a digital still camera, and an electronic book.

本発明に係る液晶装置の一実施形態を示す斜視図。1 is a perspective view showing an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. 図1の液晶装置の一方の基板の要部を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a main part of one substrate of the liquid crystal device of FIG. 1. 図1の液晶装置の他方の基板の要部を示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a main part of the other substrate of the liquid crystal device of FIG. 1. 図2及び図3のZ4−Z4線に従った断面図。Sectional drawing according to the Z4-Z4 line | wire of FIG.2 and FIG.3. 図2及び図3のZ5−Z5線に従った断面図。Sectional drawing according to Z5-Z5 line of FIG.2 and FIG.3. 図1の液晶装置における光学軸の軸配置関係を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an axial arrangement relationship of optical axes in the liquid crystal device of FIG. 1. 本発明に係る液晶装置の他の実施形態で用いる基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate used by other embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention. 図7の基板に対向する基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate facing the board | substrate of FIG. 本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態で用いる基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate used with further another embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention. 図9の基板に対向する基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate facing the board | substrate of FIG. 本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態で用いる基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate used with further another embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention. 図11の基板に対向する基板の要部を示す平面図。The top view which shows the principal part of the board | substrate facing the board | substrate of FIG. 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図。1 is a block diagram showing an embodiment of an electronic device according to the present invention. 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図。The perspective view which shows the mobile telephone which is other Embodiment of the electronic device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…液晶装置、2…液晶パネル、3…照明装置、4…LED、5…導光体、6…フォトスペーサ、7…シール材、8…素子基板、9…カラーフィルタ基板、10…駆動用IC、11…走査線、12…信号線、14…液晶層、15…第1透光性基板、16…第1偏光板、17…第2透光性基板、18…第2偏光板、20…ゲート線、20a…ゲート電極、21…共通線、22…ゲート絶縁膜、23…スイッチング素子としてのTFT素子、24…ソース線、26…半導体膜、27…ソース電極、28…ドレイン電極、29…保護膜としてのパシベーション膜、30…樹脂膜、31…反射膜、32…第1電極としての共通電極、33…スルーホール、35…容量絶縁膜、36…第2電極としての画素電極、37…配向膜、38…スルーホール、40…間隙としてのスリット、41…電極線状部、43…着色膜、44…遮光膜、45…オーバーコート層、46…層厚調整膜としての位相差膜、46a…段差面、47…配向膜、101…液晶装置、102…制御回路、103…液晶パネル、110…電子機器としての携帯電話機、G…セルギャップ、P…サブ画素、R…反射表示領域、R1,R2…ラビング方向、T…透過表示領域、V…表示領域。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal device, 2 ... Liquid crystal panel, 3 ... Illumination device, 4 ... LED, 5 ... Light guide, 6 ... Photo spacer, 7 ... Sealing material, 8 ... Element substrate, 9 ... Color filter substrate, 10 ... For drive IC, 11 ... scanning line, 12 ... signal line, 14 ... liquid crystal layer, 15 ... first translucent substrate, 16 ... first polarizing plate, 17 ... second translucent substrate, 18 ... second polarizing plate, 20 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Gate line, 20a ... Gate electrode, 21 ... Common line, 22 ... Gate insulating film, 23 ... TFT element as switching element, 24 ... Source line, 26 ... Semiconductor film, 27 ... Source electrode, 28 ... Drain electrode, 29 ... passivation film as protective film, 30 ... resin film, 31 ... reflective film, 32 ... common electrode as first electrode, 33 ... through hole, 35 ... capacitive insulating film, 36 ... pixel electrode as second electrode, 37 ... Alignment film, 38 ... Through hole, 4 ... Slits as gaps, 41 ... Linear electrode portions, 43 ... Colored films, 44 ... Light-shielding films, 45 ... Overcoat layers, 46 ... Phase difference films as layer thickness adjusting films, 46a ... Step surfaces, 47 ... Alignment films DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Liquid crystal device 102 ... Control circuit 103 ... Liquid crystal panel 110 ... Cell-phone as an electronic device, G ... Cell gap, P ... Sub pixel, R ... Reflection display area, R1, R2 ... Rubbing direction, T ... Transparent display area, V... Display area.

Claims (11)

互いに対向する第1基板及び第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた液晶層と、
前記液晶層を挟持する前記第1基板及び前記第2基板によって駆動表示の制御単位を構成するサブ画素内の一部の領域に設けられており反射光によって表示を行う反射表示領域と、
前記サブ画素内の他の領域に設けられており透過光によって表示を行う透過表示領域と、
前記反射表示領域に対応して前記第2基板上に設けられており前記液晶層の層厚を前記透過表示領域と異なる層厚に規定する層厚調整膜と、
該層厚調整膜を覆って前記第2基板と前記液晶層との間に設けられており前記反射表示領域と前記透過表示領域とで同一方向にラビングが施された配向膜とを有し、
前記層厚調整膜は前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界部に段差面を有し、
前記ラビングは前記段差面に対向する向きから行われ、該段差面の延在方向と前記ラビング方向との成す角度をαとするとき、
70°≦α≦110°
であることを特徴とする液晶装置。
A first substrate and a second substrate facing each other;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A reflective display region that is provided in a partial region in a sub-pixel that constitutes a control unit of drive display by the first substrate and the second substrate sandwiching the liquid crystal layer and performs display by reflected light;
A transmissive display region that is provided in another region within the sub-pixel and performs display by transmitted light;
A layer thickness adjusting film provided on the second substrate corresponding to the reflective display region and defining a layer thickness of the liquid crystal layer different from that of the transmissive display region;
An alignment film which is provided between the second substrate and the liquid crystal layer so as to cover the layer thickness adjusting film and is rubbed in the same direction in the reflective display region and the transmissive display region ;
The layer thickness adjusting film has a stepped surface at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area,
The rubbing is performed from the direction facing the step surface, and when the angle formed by the extending direction of the step surface and the rubbing direction is α,
70 ° ≦ α ≦ 110 °
A liquid crystal device characterized by the above.
請求項1に記載の液晶装置において、前記段差面は前記第2基板の基板面に対して90°より小さい角度で傾斜する傾斜面であることを特徴とする液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the step surface is an inclined surface that is inclined at an angle smaller than 90 [deg.] With respect to the substrate surface of the second substrate. 請求項1又は請求項2に記載の液晶装置において、
前記第1基板上に設けられており電界を形成する第1電極及び第2電極をさらに有し、
前記第2電極は間隙をおいて平行に並ぶ複数の電極線状部を有し、
前記間隙の延在方向と前記ラビング方向との成す角度をβとするとき、
5°≦β≦20°
であることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 1 or 2,
A first electrode and a second electrode provided on the first substrate and forming an electric field;
The second electrode has a plurality of electrode linear portions arranged in parallel with a gap,
When the angle between the extending direction of the gap and the rubbing direction is β,
5 ° ≦ β ≦ 20 °
A liquid crystal device characterized by the above.
請求項3に記載の液晶装置において、
前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、
前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、
前記層厚調整膜の段差面はサブ画素の短手方向と平行に延在することを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 3.
The gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel to the longitudinal direction of the sub-pixel,
The rubbing direction is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel,
A stepped surface of the layer thickness adjusting film extends in parallel with the lateral direction of the sub-pixel.
請求項3に記載の液晶装置において、
前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、
前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、
前記層厚調整膜の段差面は前記ラビング方向に対して直角方向になる状態で前記サブ画素の短手方向に対して傾いて延在することを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 3.
The gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel to the longitudinal direction of the sub-pixel,
The rubbing direction is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the stepped surface of the layer thickness adjusting film extends in a direction perpendicular to the rubbing direction so as to be inclined with respect to the short direction of the sub-pixel.
請求項3に記載の液晶装置において、
前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向における当該第2電極の中間位置で折れ曲がる形状であり、前記第2電極の前記中間位置から一方の領域にある間隙は平面視でサブ画素の長手方向に対して反時計方向に5°〜20°傾き、前記第2電極の前記中間位置から他方の領域にある間隙は平面視でサブ画素の長手方向に対して正時計方向に5°〜20°傾き、
前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して平行方向であり、
前記層厚調整膜の段差面はサブ画素の短手方向と平行に延在することを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 3.
The gap between the second electrodes is bent at an intermediate position of the second electrode in the longitudinal direction of the sub-pixel, and the gap in one region from the intermediate position of the second electrode is the longitudinal direction of the sub-pixel in plan view. The gap in the other region from the intermediate position of the second electrode is 5 ° to 20 ° counterclockwise with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel in plan view. Tilt,
The rubbing direction is a direction parallel to the longitudinal direction of the sub-pixels.
A stepped surface of the layer thickness adjusting film extends in parallel with the lateral direction of the sub-pixel.
請求項3に記載の液晶装置において、
前記第2電極の間隙はサブ画素の長手方向に平行に延びる直線形状であり、
前記ラビング方向はサブ画素の長手方向に対して5°〜20°傾いており、
前記層厚調整膜の段差面は前記ラビング方向に対して直角方向になる状態で前記サブ画素の短手方向に対して傾いて延在し、且つ複数のサブ画素間で直線状に延在することを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to claim 3.
The gap between the second electrodes has a linear shape extending in parallel to the longitudinal direction of the sub-pixel,
The rubbing direction is inclined by 5 ° to 20 ° with respect to the longitudinal direction of the sub-pixel,
The step surface of the layer thickness adjusting film extends obliquely with respect to the short direction of the sub-pixel in a state perpendicular to the rubbing direction, and extends linearly between the plurality of sub-pixels. A liquid crystal device characterized by that.
請求項4から請求項7のいずれか一項に記載の液晶装置において、前記第1基板上に設けられたスイッチング素子をさらに有し、該スイッチング素子は走査線又は信号線に接続されており、前記サブ画素の長手方向は前記走査線又は前記信号線の延在方向と平行の方向であることを特徴とする液晶装置。   The liquid crystal device according to any one of claims 4 to 7, further comprising a switching element provided on the first substrate, the switching element being connected to a scanning line or a signal line, The liquid crystal device according to claim 1, wherein a longitudinal direction of the sub-pixel is a direction parallel to an extending direction of the scanning line or the signal line. 請求項3から請求項8のいずれか一項に記載の液晶装置において、前記層厚調整膜は位相差膜を含み、該位相差膜のリタデーションは2分の1波長であることを特徴とする液晶装置。   9. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the layer thickness adjusting film includes a retardation film, and the retardation of the retardation film is a half wavelength. Liquid crystal device. 請求項3から請求項9のいずれか一項に記載の液晶装置において、前記第2電極の電極線状部は前記第1電極に平面視で重なることを特徴とする液晶装置。   10. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the electrode linear portion of the second electrode overlaps the first electrode in plan view. 11. 請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の液晶装置を有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 10.
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