JP4461860B2 - Radiation image conversion panel and method for manufacturing radiation image conversion panel - Google Patents
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Description
本発明は放射線画像(以下、単に放射線像ともいう)変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法(以下、単に製造方法ともいう)に関する。 The present invention relates to a radiation image (hereinafter also simply referred to as a radiation image) conversion panel and a method for manufacturing a radiation image conversion panel (hereinafter also simply referred to as a manufacturing method).
従来、放射線画像を得るために、放射線照射によって得られた潜像をレーザー光等を使い光信号を取り出す方法がとられてきた。放射線を吸収してからある時間経過後に光信号を取り出すには、輝尽性蛍光体層(以下、単に蛍光体層ともいう)が必要で、その輝尽性蛍光体層を設けるには、従来塗布による方法があったが、塗布材料はバインダー等の発光に寄与しない成分を含むため、最近では蒸着等の気相堆積法が取られるようになってきた。 Conventionally, in order to obtain a radiographic image, a method of taking out a light signal from a latent image obtained by radiation irradiation using a laser beam or the like has been taken. In order to take out an optical signal after a lapse of time after absorbing radiation, a stimulable phosphor layer (hereinafter also simply referred to as a phosphor layer) is required. Although there has been a method by coating, since the coating material contains a component such as a binder that does not contribute to light emission, a vapor deposition method such as vapor deposition has recently been adopted.
従来、放射線画像を得るために銀塩を使用した、いわゆる放射線写真法が利用されているが、銀塩を使用しないで放射線像を画像化する方法が開発されている。即ち、被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収せしめ、しかる後この蛍光体をある種のエネルギーで励起してこの蛍光体が蓄積している放射線エネルギーを蛍光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方法が開示されている。 Conventionally, so-called radiography using a silver salt has been used to obtain a radiographic image, but a method for imaging a radiographic image without using a silver salt has been developed. That is, the radiation transmitted through the subject is absorbed by the phosphor, and then the phosphor is excited with a certain energy to emit the radiation energy accumulated in the phosphor as fluorescence, and this fluorescence is detected. A method for imaging is disclosed.
具体的な方法としては、支持体上に輝尽性蛍光体層を設けたパネルを用い、励起エネルギーとして可視光線及び赤外線の一方又は両方を用いる放射線像変換方法が知られている(例えば、特許文献1を参照)。 As a specific method, a radiation image conversion method using a panel having a photostimulable phosphor layer on a support and using one or both of visible light and infrared light as excitation energy is known (for example, patents). Reference 1).
より高輝度、高感度の輝尽性蛍光体を用いた放射線像変換方法として、例えば特開昭59−75200号等に記載されているBaFX:Eu2+系(X:Cl、Br、I)蛍光体を用いた放射線像変換方法、同61−72087号等に記載されているようなアルカリハライド蛍光体を用いた放射線像変換方法、同61−73786号、同61−73787号等に記載のように、共賦活剤としてTl+及びCe3+、Sm3+、Eu3+、Y3+、Ag+、Mg2+、Pb2+、In3+の金属を含有するアルカリハライド蛍光体が開発されている。 As a radiation image conversion method using a stimulable phosphor with higher brightness and higher sensitivity, for example, BaFX: Eu 2+ system (X: Cl, Br, I) described in JP-A-59-75200, etc. Radiation image conversion method using phosphor, Radiation image conversion method using alkali halide phosphor as described in JP-A-61-72087, etc., JP-A-61-73786, JP-A-61-73787, etc. As described above, alkali halide phosphors containing Tl + and Ce 3+ , Sm 3+ , Eu 3+ , Y 3+ , Ag + , Mg 2+ , Pb 2+ , and In 3+ metals as coactivators Has been developed.
更に、近年診断画像の解析においてより高鮮鋭性の放射線像変換パネルが要求されている。鮮鋭性改善の為の手段として、例えば形成される輝尽性蛍光体の形状そのものをコントロールし感度及び鮮鋭性の改良を図る試みがされている。 In recent years, there has been a demand for a radiation image conversion panel with higher sharpness in analysis of diagnostic images. As means for improving the sharpness, for example, attempts have been made to improve the sensitivity and sharpness by controlling the shape of the photostimulable phosphor to be formed.
これらの試みの1つの方法として、例えば特開昭61−142497号等に記載されている微細な凹凸パターンを有する支持体上に輝尽性蛍光体を堆積させ形成した微細な擬柱状ブロックからなる輝尽性蛍光体層を用いる方法がある。 As one of these attempts, for example, it is composed of a fine pseudo-columnar block formed by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine concavo-convex pattern described in, for example, JP-A No. 61-142497. There is a method using a stimulable phosphor layer.
また、特開昭61−142500号に記載のように微細なパターンを有する支持体上に、輝尽性蛍光体を堆積させて得た柱状ブロック間のクラックをショック処理を施して更に発達させた輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−39737号に記載されている支持体上に形成された輝尽性蛍光体層にその表面側から亀裂を生じさせ擬柱状とした放射線像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−110200号に記載に記載されているように、支持体上に蒸着により空洞を有する輝尽性蛍光体層を形成した後、加熱処理によって空洞を成長させ亀裂を設ける方法等も提案されている。 Further, as described in JP-A-61-142500, a crack between columnar blocks obtained by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine pattern was further developed by applying a shock treatment. A method of using a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer, and further a crack from the surface side of a photostimulable phosphor layer formed on a support described in JP-A-62-39737. And a stimulable phosphor layer having a cavity formed by vapor deposition on a support, as described in JP-A-62-110200. There has also been proposed a method in which a cavity is grown by heat treatment and a crack is formed after the formation.
更に、気相堆積法によって支持体上に、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルが記載されている。(例えば、特許文献2を参照)
これらの輝尽性蛍光体層の形状をコントロールする方法は、いずれも輝尽性蛍光体層を柱状とすることで、輝尽励起光又は輝尽発光の横方向への拡散を抑える(クラック(柱状結晶)界面において反射を繰り返しながら支持体面まで到達する)ことができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性を著しく増大させることができるという特徴がある。
Furthermore, a radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer in which elongated columnar crystals having a certain inclination with respect to the normal direction of the support are formed on the support by vapor deposition is described. (For example, see Patent Document 2)
In any of the methods for controlling the shape of the photostimulable phosphor layer, the stimulable phosphor layer is formed into a columnar shape, thereby suppressing the lateral diffusion of the photostimulated excitation light or the photostimulated luminescence (crack ( The columnar crystal) can reach the support surface while repeating reflection at the interface), and is therefore characterized in that the sharpness of the image due to stimulated emission can be remarkably increased.
最近、CsBrなどのハロゲン化アルカリを母体にEuを賦活した輝尽性蛍光体を用いた放射線像変換パネルが提案され、特にEuを賦活剤とすることで従来不可能であったX線変換効率の向上が可能になると期待された。 Recently, a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor obtained by activating Eu with an alkali halide such as CsBr as a base has been proposed, and in particular, X-ray conversion efficiency which has been impossible in the past by using Eu as an activator. It was expected that improvement would be possible.
しかし、輝尽性蛍光体層側の基板の表面エネルギー、硬度によっては、蒸着初期での蛍光体結晶の成長がううまくいかないことがあった。 However, depending on the surface energy and hardness of the substrate on the side of the photostimulable phosphor layer, the phosphor crystal growth at the initial stage of vapor deposition may not be successful.
また、一見良好な結晶形成がなされたと見えても、輝度、鮮鋭性等の特性、耐久性が満足いくものではなかった。 Moreover, even though it seemed that good crystal formation was made at first glance, the properties such as luminance and sharpness and durability were not satisfactory.
このため放射線像変換パネルとして市場から要求される輝度、鮮鋭性の改善、耐久性についての改良が求められていた。
本発明の目的は、輝度、鮮鋭性の特性が良好であり、且つ、経時(2〜3年)しても該特性を維持できる耐久性に優れた放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to produce a radiation image conversion panel and a radiation image conversion panel that have excellent luminance and sharpness characteristics and have excellent durability that can maintain the characteristics over time (2 to 3 years). It is to provide a method.
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(1)
炭素繊維強化樹脂基板上にフッソ樹脂またはポリ(アミド)イミド樹脂から選ばれる耐熱樹脂層及び気相堆積法により形成された蛍光体層をこの順に有する放射線画像変換パネルにおいて、該耐熱樹脂層中の残留溶剤量が0.05〜10g/m2であることを特徴とする放射線画像変換パネル。
(1)
A radiation image conversion panel having a heat resistant resin layer selected from a fluororesin or a poly (amide) imide resin and a phosphor layer formed by a vapor deposition method in this order on a carbon fiber reinforced resin substrate. A radiation image conversion panel, wherein the residual solvent amount is 0.05 to 10 g / m 2 .
(2)
前記蛍光体層が含有する輝尽性蛍光体が下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする1に記載の放射線画像変換パネル。
( 2 )
2. The radiation image conversion panel according to 1 , wherein the stimulable phosphor contained in the phosphor layer is a compound represented by the following general formula (1).
一般式(1)
M1X・aM2X′・bM3X″:eA
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X′、X″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕
(3)
前記輝尽性蛍光体が下記一般式(2)で表されることを特徴とする2に記載の放射線画像変換パネル。
General formula (1)
M 1 X · aM 2 X ′ · bM 3 X ″: eA
[Wherein, M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu. And at least one divalent metal atom selected from each atom of Ni, and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, At least one trivalent metal atom selected from each atom of Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In, and X, X ′ and X ″ are at least selected from each atom of F, Cl, Br and I 1 type of halogen atom, A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg. At least one metal atom selected from each atom; And, a, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.]
( 3 )
3. The radiation image conversion panel according to 2 , wherein the photostimulable phosphor is represented by the following general formula (2).
一般式(2)
CsX:yA
〔式中、XはCl、BrまたはIを表し、Aは、Eu、Sm、In、Tl、GaまたはCeを表す。yは、1×10−7〜1×10−2までの数値を表す。〕
(4)
1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの耐熱性樹脂層中の残留溶剤量が0.05〜10g/m2になるようにすることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
General formula (2)
CsX: yA
[Wherein, X represents Cl, Br or I, and A represents Eu, Sm, In, Tl, Ga or Ce. y represents a numerical value from 1 × 10 −7 to 1 × 10 −2 . ]
( 4 )
The production of a radiation image conversion panel, wherein the residual solvent amount in the heat-resistant resin layer of the radiation image conversion panel according to any one of 1 to 3 is 0.05 to 10 g / m 2. Method.
本発明による放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法は、輝度、鮮鋭性の特性に優れ、且つ、経時(2〜3年)しても該特性を維持でき、耐久性に優れた効果を有する。 The radiation image conversion panel and the method for producing a radiation image conversion panel according to the present invention are excellent in luminance and sharpness characteristics, and can maintain the characteristics even after a lapse of time (2 to 3 years), and have excellent durability. Have
以下、本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
蒸着法等による輝尽性蛍光体層の形成は、蒸着時の蒸気流またはルツボ輻射熱、基板を加熱する必要性から、基板は耐熱性(80℃〜200℃)有することが重要であり、また、X線等の照射放射線が基板側から入射するシステムにおいては、X線等の吸収量が少ない基板が必要とされ、炭素繊維強化樹脂等は剛性もあり好ましい。 In the formation of the photostimulable phosphor layer by vapor deposition or the like, it is important that the substrate has heat resistance (80 ° C. to 200 ° C.) because of vapor flow or crucible radiant heat at the time of vapor deposition and the necessity of heating the substrate. In a system in which irradiation radiation such as X-rays is incident from the substrate side, a substrate that absorbs a small amount of X-rays or the like is required, and carbon fiber reinforced resin is preferable because of its rigidity.
本発明は、支持体(基板)に耐熱性樹脂層を有し、該耐熱性樹脂層中の残留溶媒量が0.05〜10g/m2であることを特徴としている。 The present invention is characterized in that the support (substrate) has a heat-resistant resin layer, and the amount of residual solvent in the heat-resistant resin layer is 0.05 to 10 g / m 2 .
本発明においては、耐熱性樹脂層中の耐熱性樹脂としては、フッソ樹脂、ポリ(アミド)イミド樹脂等が好ましく用いられる。 In the present invention, as the heat resistant resin in the heat resistant resin layer, a fluorine resin, a poly (amide) imide resin or the like is preferably used.
残留溶媒が10g/m2を超えると、耐熱性樹脂層の科学的、機能的安定性に欠け、該残留溶媒が水と親和性のある溶媒である場合、樹脂層上にある蛍光体層に悪影響を及ぼす。0.05g/m2未満であると、蛍光体層形成に必要な柔軟性がなくなり好ましくない。残留溶媒量の更に好ましい範囲は0.1〜8g/m2である。 When the residual solvent exceeds 10 g / m 2 , the heat-resistant resin layer lacks scientific and functional stability, and when the residual solvent is a solvent having an affinity for water, the phosphor layer on the resin layer has Adversely affect. If it is less than 0.05 g / m 2 , the flexibility necessary for forming the phosphor layer is lost, which is not preferable. A more preferable range of the residual solvent amount is 0.1 to 8 g / m 2 .
支持体(基板)に耐熱樹脂層(以下、単に樹脂層ともいう)を設ける方法は、公知のスプレーコーター、バーコーター、ダイコーター等が使えるが、本発明においては、スプレーコーターが好ましい。 A known spray coater, bar coater, die coater or the like can be used as a method of providing a heat-resistant resin layer (hereinafter also simply referred to as a resin layer) on the support (substrate). In the present invention, a spray coater is preferable.
具体的には、例えば、カーボン基板上等にフッソ樹脂等をスプレーコーターを用い、基板−スプレーガンの距離を20cm、スプレーガンのノズル圧を4kgf/cm2で基板全面に均一に塗布した後、乾燥炉で1次乾燥(80℃、30分)、次いで2次乾燥(150℃、30分)行い、樹脂層を設けることができる。 Specifically, for example, using a spray coater with a fluororesin or the like on a carbon substrate or the like, after uniformly coating the entire surface of the substrate with a substrate-spray gun distance of 20 cm and a spray gun nozzle pressure of 4 kgf / cm 2 , A primary drying (80 ° C., 30 minutes) and then secondary drying (150 ° C., 30 minutes) can be performed in a drying furnace to provide a resin layer.
樹脂層の厚さとしては10μm〜80μmが好ましい。 The thickness of the resin layer is preferably 10 μm to 80 μm.
また、樹脂を溶解せる溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン、N−ブチルピロリドントルエン、キシレン、アセトン等が挙げられる。 Examples of the solvent capable of dissolving the resin include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, N-butyl pyrrolidone toluene, xylene, and acetone.
本発明の放射線像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体(以下、蛍光体ともいう)
次に、本発明に好ましく用いられる下記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体について説明する。
Stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel of the present invention (hereinafter also referred to as phosphor)
Next, the stimulable phosphor represented by the following general formula (1) preferably used in the present invention will be described.
前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体において、M1は、Li、Na、K、Rb及びCs等の各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子を表し、中でもRb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属原子が好ましく、更に好ましくはCs原子である。 In the photostimulable phosphor represented by the general formula (1), M 1 represents at least one alkali metal atom selected from each of atoms such as Li, Na, K, Rb, and Cs, among which Rb and At least one kind of alkaline earth metal atom selected from each atom of Cs is preferable, and Cs atom is more preferable.
M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNi等の各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのは、Be、Mg、Ca、Sr及びBa等の各原子から選ばれる二価の金属原子である。 M 2 represents at least one divalent metal atom selected from atoms such as Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, and Ni, and among them, Be, Mg are preferably used. , A divalent metal atom selected from atoms such as Ca, Sr and Ba.
M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びIn等の各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのはY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びIn等の各原子から選ばれる三価の金属原子である。 M 3 is at least selected from each atom such as Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In. One kind of trivalent metal atom is represented, and among these, trivalent metal atoms selected from each atom such as Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In are preferred. is there.
AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子である。 A is at least one selected from the atoms of Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. Metal atom.
輝尽性蛍光体の輝尽発光輝度向上の観点から、X、X′及びX″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲンで原子を表すが、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が好ましい。 From the viewpoint of improving the photostimulable luminance of the photostimulable phosphor, X, X ′ and X ″ each represents an atom with at least one halogen selected from F, Cl, Br and I atoms. Of these, at least one halogen atom selected from these atoms is preferred.
中でも、本発明においては前記一般式(2)で表される輝尽性蛍光体が更に好ましい。 Among these, in the present invention, the photostimulable phosphor represented by the general formula (2) is more preferable.
前記一般式(2)において、XはCl、BrまたはIを表し、Aは、Eu、Sm、In、Tl、GaまたはCeを表す。yは、1×10-7〜1×10-2までの数値を表す。 In the general formula (2), X represents Cl, Br, or I, and A represents Eu, Sm, In, Tl, Ga, or Ce. y represents a numerical value from 1 × 10 −7 to 1 × 10 −2 .
前記輝尽性蛍光体は、例えば以下に述べる製造方法により製造される。 The photostimulable phosphor is manufactured, for example, by the manufacturing method described below.
まず蛍光体原料として、以下の組成となるように炭酸塩に酸(HI、HBr、HCl、HF)を加え混合攪拌した後、中和点にて濾過を行い得られた後、ろ液の水分を蒸発気化させて以下の結晶を作製する。 First, as a phosphor material, an acid (HI, HBr, HCl, HF) is added to a carbonate so as to have the following composition, mixed and stirred, and then filtered at a neutralization point. Is evaporated to produce the following crystals.
前記蛍光体原料としては、
(a)NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIから選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。
As the phosphor material,
(A) At least one compound selected from NaF, NaCl, NaBr, NaI, KF, KCl, KBr, KI, RbF, RbCl, RbBr, RbI, CsF, CsCl, CsBr and CsI is used.
(b)MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCI2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaBr2・2H2O、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2の化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。 (B) MgF 2, MgCl 2 , MgBr 2, MgI 2, CaF 2, CaCl 2, CaBr 2, CaI 2, SrF 2, SrCI 2, SrBr 2, SrI 2, BaF 2, BaCl 2, BaBr 2, BaBr 2 2H 2 O, BaI 2 , ZnF 2 , ZnCl 2 , ZnBr 2 , ZnI 2 , CdF 2 , CdCl 2 , CdBr 2 , CdI 2 , CuF 2 , CuCl 2 , CuBr 2 , CuI, NiF 2 , NiCl 2 , NiBr At least one compound selected from 2 and NiI 2 compounds is used.
(c)前記一般式(1)において、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMg等の各原子から選ばれる金属原子を有する化合物が用いられる。 (C) In the general formula (1), Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu And a compound having a metal atom selected from each atom such as Mg.
(d)賦活剤Aは、例えばEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子が用いられる。 (D) The activator A includes, for example, Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. At least one metal atom selected from atoms is used.
一般式(1)で表される化合物において、aは0≦a<0.5、好ましくは0≦a<0.01、bは0≦b<0.5、好ましくは0≦b≦0.01、eは0<e≦0.2、好ましくは0<e≦0.1である。 In the compound represented by the general formula (1), a is 0 ≦ a <0.5, preferably 0 ≦ a <0.01, b is 0 ≦ b <0.5, preferably 0 ≦ b ≦ 0. 01 and e are 0 <e ≦ 0.2, preferably 0 <e ≦ 0.1.
上記の数値範囲の混合組成になるように前記(a)〜(d)の蛍光体原料を秤量し、純水にて溶解する。 The phosphor materials (a) to (d) are weighed so as to have a mixed composition in the above numerical range, and dissolved in pure water.
この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合しても良い。 At this time, the mixture may be sufficiently mixed using a mortar, ball mill, mixer mill or the like.
次に、得られた水溶液のpH値Cを0<C<7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。 Next, a predetermined acid is added so that the pH value C of the obtained aqueous solution is adjusted to 0 <C <7, and then water is evaporated.
次に、得られた原料混合物を石英ルツボ或いはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉中で焼成を行う。焼成温度は500〜1000℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、0.5〜6時間が好ましい。 Next, the obtained raw material mixture is filled in a heat-resistant container such as a quartz crucible or an alumina crucible and fired in an electric furnace. The firing temperature is preferably 500 to 1000 ° C. The firing time varies depending on the filling amount of the raw material mixture, the firing temperature and the like, but is preferably 0.5 to 6 hours.
焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気或いは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。 The firing atmosphere includes a nitrogen gas atmosphere containing a small amount of hydrogen gas, a weak reducing atmosphere such as a carbon dioxide gas atmosphere containing a small amount of carbon monoxide, a neutral atmosphere such as a nitrogen gas atmosphere and an argon gas atmosphere, or a small amount of oxygen gas. A weak oxidizing atmosphere is preferred.
尚、前記の焼成条件で一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば蛍光体の発光輝度を更に高めることができ、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気もしくは中性雰囲気のままで冷却してもよい。また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気もしくは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。 After firing once under the above firing conditions, the fired product is taken out from the electric furnace and pulverized, and then the fired product powder is again filled in a heat-resistant container and placed in the electric furnace, and again under the same firing conditions as described above. If the calcination is performed, the emission luminance of the phosphor can be further increased. When the baked product is cooled to the room temperature from the calcination temperature, the desired fluorescence can also be obtained by removing the baked product from the electric furnace and allowing it to cool in the air. The body can be obtained, but it may be cooled in the same weakly reducing atmosphere or neutral atmosphere as at the time of firing. In addition, by moving the fired product from the heating unit to the cooling unit in an electric furnace and quenching in a weak reducing atmosphere, neutral atmosphere or weak oxidizing atmosphere, the emission luminance due to the phosphor phosphors obtained can be increased. It can be further increased.
また、本発明の輝尽性蛍光体層は気相成長法によって形成される。 Further, the photostimulable phosphor layer of the present invention is formed by a vapor phase growth method.
輝尽性蛍光体の気相成長法としては蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他を用いることができる。 Vapor deposition methods, sputtering methods, CVD methods, ion plating methods, and others can be used as the vapor phase growth method of the photostimulable phosphor.
本発明においては、例えば、以下の方法が挙げられる。 In the present invention, for example, the following methods can be mentioned.
第1の方法の蒸着法は、まず、支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とする。 In the vapor deposition method of the first method, first, after the support is installed in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a degree of vacuum of about 1.333 × 10 −4 Pa.
次いで、前記輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。 Next, at least one of the photostimulable phosphor is heated and evaporated by a resistance heating method, an electron beam method, or the like to grow the photostimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness.
この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。 As a result, a photostimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is also possible to form the photostimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step.
また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。 In the vapor deposition step, it is possible to co-evaporate using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize the desired photostimulable phosphor on the support and simultaneously form the photostimulable phosphor layer. is there.
蒸着終了後、必要に応じて前記輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対の側に保護層を設けることにより本発明の放射線像変換パネルが製造される。尚、保護層上に輝尽性蛍光体層を形成した後、支持体を設ける手順をとってもよい。 After the vapor deposition is completed, the radiation image conversion panel of the present invention is manufactured by providing a protective layer on the side opposite to the support side of the photostimulable phosphor layer as necessary. In addition, after forming a photostimulable phosphor layer on a protective layer, a procedure for providing a support may be taken.
さらに、前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被蒸着体(支持体、保護層又は中間層)を冷却あるいは加熱してもよい。 Furthermore, in the vapor deposition method, the vapor deposition target (support, protective layer or intermediate layer) may be cooled or heated as necessary during vapor deposition.
また、蒸着終了後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。また、前記蒸着法においては必要に応じてO2、H2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行ってもよい。 Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after the vapor deposition. In the vapor deposition method, reactive vapor deposition may be performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 as necessary.
第2の方法としてのスパッタリング法は、蒸着法と同様、保護層又は中間層を有する支持体をスパッタリング装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタリング用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスをスパッタリング装置内に導入して1.333×10-1Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、前記支持体上に輝尽性蛍光体層を所望の厚さに成長させる。 In the sputtering method as the second method, like the vapor deposition method, after a support having a protective layer or an intermediate layer is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to about 1.333 × 10 −4 Pa. The degree of vacuum is set, and then an inert gas such as Ar or Ne is introduced into the sputtering apparatus as a sputtering gas to obtain a gas pressure of about 1.333 × 10 −1 Pa. Next, a stimulable phosphor layer is grown on the support to a desired thickness by sputtering using the stimulable phosphor as a target.
前記スパッタリング工程では蒸着法と同様に各種の応用処理を用いることができる。 Various applied treatments can be used in the sputtering step as in the vapor deposition method.
第3の方法としてCVD法があり、又、第4の方法としてイオンプレーティング法がある。 The third method is a CVD method, and the fourth method is an ion plating method.
また、前記気相成長における輝尽性蛍光体層の成長速度は0.05μm/分〜300μm/分であることが好ましい。成長速度が0.05μm/分未満の場合には本発明の放射線像変換パネルの生産性が悪く好ましくない。また成長速度が300μm/分を越える場合には成長速度のコントロールがむずかしく好ましくない。 The growth rate of the stimulable phosphor layer in the vapor phase growth is preferably 0.05 μm / min to 300 μm / min. When the growth rate is less than 0.05 μm / min, the productivity of the radiation image conversion panel of the present invention is unfavorable. If the growth rate exceeds 300 μm / min, it is difficult to control the growth rate.
放射線像変換パネルを、前記の真空蒸着法、スパッタリング法などにより得る場合には、結着剤が存在しないので輝尽性蛍光体の充填密度を増大でき、感度、解像力の上で好ましい放射線像変換パネルが得られ好ましい。 When the radiation image conversion panel is obtained by the above-described vacuum deposition method, sputtering method, etc., since there is no binder, the packing density of the photostimulable phosphor can be increased, and preferable radiation image conversion in terms of sensitivity and resolution. A panel is obtained and preferred.
前記輝尽性蛍光体層の膜厚は、放射線像変換パネルの使用目的によって、また輝尽性蛍光体の種類により異なるが、本発明の効果を得る観点から50μm〜1mmであり、好ましくは50〜300μmであり、更に好ましくは100〜300μmであり、特に好ましくは、150〜300μmである。 The film thickness of the photostimulable phosphor layer varies depending on the intended use of the radiation image conversion panel and the type of stimulable phosphor, but is 50 μm to 1 mm, preferably 50 from the viewpoint of obtaining the effects of the present invention. It is -300 micrometers, More preferably, it is 100-300 micrometers, Most preferably, it is 150-300 micrometers.
上記の気相成長法による輝尽性蛍光体層の作製にあたり、輝尽性蛍光体層が形成される支持体の温度は、50℃以上に設定することが好ましく、更に好ましくは、80℃以上であり、特に好ましくは100〜400℃である。 In the production of the photostimulable phosphor layer by the vapor phase growth method, the temperature of the support on which the photostimulable phosphor layer is formed is preferably set to 50 ° C. or more, more preferably 80 ° C. or more. Especially preferably, it is 100-400 degreeC.
この様にして支持体上に形成した輝尽性蛍光体層は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルより層厚を厚くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。 Since the photostimulable phosphor layer formed on the support in this manner does not contain a binder, it has excellent directivity, high directivity of stimulated excitation light and stimulated emission, and high brightness. The layer thickness can be made thicker than that of a radiation image conversion panel having a dispersive stimulable phosphor layer in which a stimulable phosphor is dispersed in a binder. Furthermore, the sharpness of the image is improved by reducing the scattering of the stimulating light in the stimulable phosphor layer.
又、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい、これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。 In addition, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, and in addition to reinforcing the stimulable phosphor layer, it may be filled with a high light absorption substance, a high light reflectance substance, or the like. Thus, in addition to providing the above-mentioned reinforcing effect, it is effective for reducing the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer.
高反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高い物質のことをいい、例えば、アルミニウム、マグネシウム、銀、インジウム、その他の金属等、白色顔料及び緑色〜赤色領域の色材を用いることができる。白色顔料は輝尽発光も反射することができる。 A highly reflective substance refers to a substance having a high reflectivity with respect to stimulated excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm). For example, white pigments such as aluminum, magnesium, silver, indium, and other metals In addition, a color material in the green to red region can be used. White pigments can also reflect stimulated emission.
白色顔料としては、例えば、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al2O3、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの各原子から選ばれるの少なくとも一種の原子であり、XはCl原子又はBr原子である。)、CaCO3、ZnO、Sb2O3、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸塩、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。 Examples of the white pigment include TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 · Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba). , Sr, and Ca, and X is a Cl atom or a Br atom.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 ZnS), magnesium silicate, basic silicate, basic lead phosphate, aluminum silicate and the like.
これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線像変換パネルの感度を顕著に向上させることができる。 Since these white pigments have a strong hiding power and a high refractive index, they can easily scatter photostimulated luminescence by reflecting or refracting light, thereby significantly improving the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel. it can.
また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボンブラック、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンブラックは輝尽発光も吸収する。 In addition, as a material having a high light absorption rate, for example, carbon black, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide, and the like and a blue color material are used. Among these, carbon black absorbs stimulated light emission.
また、色材は、有機又は無機系色材のいずれでもよい。 The color material may be either an organic or inorganic color material.
有機系色材としては、例えば、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。 Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used.
また、カラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材もあげられる。 In addition, the color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. There are also materials.
無機系色材としては群青、例えば、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系等の無機顔料があげられる。 Examples of the inorganic color material include inorganic pigments such as ultramarine, for example, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO.
また、本発明の輝尽性蛍光体層は保護層を有していても良い。 Moreover, the photostimulable phosphor layer of the present invention may have a protective layer.
保護層は保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、あらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に接着してもよい。あるいは別途形成した保護層上に輝尽性蛍光体層を形成する手段を取ってもよい。 The protective layer may be formed by directly applying a protective layer coating solution on the photostimulable phosphor layer, or a protective layer separately formed in advance may be adhered on the photostimulable phosphor layer. Alternatively, a means for forming a stimulable phosphor layer on a separately formed protective layer may be taken.
保護層の材料としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等の通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層としてもちいることもできる。 Materials for the protective layer include cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, polytrifluoride-chloride. Usual protective layer materials such as ethylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer are used. In addition, a transparent glass substrate can be used as a protective layer.
また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、SiC、SiO2、SiN、Al2O3等の無機物質を積層して形成してもよい。 Further, this protective layer may be formed by laminating inorganic substances such as SiC, SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 by vapor deposition, sputtering, or the like.
これらの保護層の層厚は0.1〜2000μmが好ましい。 The thickness of these protective layers is preferably 0.1 to 2000 μm.
図1は本発明の放射線画像変換パネルの基本的な構成の一例を示す概略図である。所定の大きさに断裁された、支持体上に輝尽性蛍光体層が設けられている蛍光体への水分の進入をより確実に低減するためには、基板上に蒸着された輝尽性蛍光体層の上から。保護フィルムを貼り付けることで、蛍光体の外周部からの水分進入も阻止できる。 FIG. 1 is a schematic view showing an example of a basic configuration of a radiation image conversion panel of the present invention. In order to more reliably reduce the ingress of moisture into a phosphor that is cut to a predetermined size and has a photostimulable phosphor layer on the support, the photostimulability deposited on the substrate is reduced. From the top of the phosphor layer. By adhering the protective film, moisture can be prevented from entering from the outer peripheral portion of the phosphor.
図1において、11は輝尽性蛍光体層(気相堆積型)を表し、12は基板(支持体)、13は耐熱性樹脂層、14は防湿性保護フィルムである。基板(支持体)は例えば、結晶化ガラス等が挙げられる。 In FIG. 1, 11 represents a stimulable phosphor layer (vapor deposition type), 12 is a substrate (support), 13 is a heat-resistant resin layer, and 14 is a moisture-proof protective film. Examples of the substrate (support) include crystallized glass.
本発明の封止構造は後述する実施例記載の積層保護フィルムA(熱融着なし)を2枚用いて袋状にして、輝尽性蛍光体板を減圧しながら包み、蛍光体層面側の蛍光体周縁より外側にある領域で基板と保護フィルムを熱融着性シートを用いて融着し、その後裏面の保護フィルムを除去して封止する構造である。 The sealing structure of the present invention is formed into a bag shape using two laminated protective films A (no heat fusion) described in the examples described later, and the stimulable phosphor plate is wrapped under reduced pressure, and on the phosphor layer surface side. In this structure, the substrate and the protective film are fused using a heat-fusible sheet in a region outside the peripheral edge of the phosphor, and then the protective film on the back surface is removed and sealed.
ここでいう熱融着性フィルムとは、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルムのことで、例えばエチレン酢酸ビニルコポリマー(EVA)やポリプロピレン(PP)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム等が挙げられるが、本発明はこれに限られるものではない。 The heat-fusible film here refers to a resin film that can be fused with a commonly used impulse sealer, such as ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), polypropylene (PP) film, polyethylene (PE) film, and the like. The present invention is not limited to this.
本発明の保護層に好ましく用いられるフィルムとして、前記融着フィルムを使用する場合は、必要とされる防湿性にあわせて融着フィルムを複数枚積層することにより最適な防湿性とすることができる。この場合の積層方法としては、一般に知られているどのような方法でもかまわないが、望ましくは、ドライラミネート方式が作業性の面で優れている。 As the film preferably used for the protective layer of the present invention, when the fusion film is used, the optimum moisture resistance can be achieved by laminating a plurality of fusion films in accordance with the required moisture resistance. . As a laminating method in this case, any generally known method may be used, but preferably a dry laminating method is excellent in terms of workability.
これら前記保護層を有する蛍光体層とは反対側になる外側の表面はマット化されており、該保護層の表面粗さの平均傾斜角Δaが0.01〜0.1であることが放射線画像変換パネルにおいては、更に好ましい。 The outer surface on the opposite side of the phosphor layer having the protective layer is matted, and the average inclination angle Δa of the surface roughness of the protective layer is 0.01 to 0.1. In the image conversion panel, it is more preferable.
ここでいう表面粗さの平均傾斜角Δaとは、JIS−B−0601(1998)による算術平均傾斜角Δaのことである。 Here, the average inclination angle Δa of the surface roughness is an arithmetic average inclination angle Δa according to JIS-B-0601 (1998).
また保護層のフィルムの表面の表面粗さの平均傾斜角Δaを大きくするためには、保護層のフィルム表面にシリカ等の無機物を分散したフッ素系樹脂含有樹脂組成物層液を塗設する方法や、前記フィルムを複数枚積層する方法において、最表面の樹脂フィルム種を選択する方法等があるが、本発明はこれに限られるものではない。 Further, in order to increase the average inclination angle Δa of the surface roughness of the protective layer film, a method of coating a fluororesin-containing resin composition layer liquid in which an inorganic substance such as silica is dispersed on the protective layer film surface In the method of laminating a plurality of the films, there is a method of selecting the outermost resin film type, but the present invention is not limited to this.
各種表面形状の樹脂フィルムは広く市場に出回っており、必要とされる平均傾斜角Δaを有するフィルムを選択することは容易である。 Resin films with various surface shapes are widely available on the market, and it is easy to select a film having the required average inclination angle Δa.
ポリプロピレンフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム等のフィルムは、強さの面で保護フィルムとして優れた物性を有するにも関わらず、屈折率が大であるために、保護フィルム内部に入射した励起光の一部がフィルムの上下の界面で繰り返し反射して、走査された場所から離れた場所まで伝搬し、輝尽発光を放出させ鮮鋭性が低下する。また、保護フィルムの上下の界面で蛍光体層表面と反対方向に反射された励起光も光検出装置間や周辺部材で再反射して、走査された場所からさらに遠く離れた場所の輝尽性蛍光体層を励起させ輝尽発光を放出させるため、これによりさらに鮮鋭性が低下する。励起光は赤から赤外の長波長のコヒーレントな光であるために、積極的に散乱光や反射光を吸収しない限り、保護フィルム内部や読み取り装置内部の空間で吸収される量は少なく、離れた場所まで伝搬し鮮鋭性を悪化する。 Films such as polypropylene film, polyethylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate film have excellent physical properties as a protective film in terms of strength. A part of the light is repeatedly reflected at the upper and lower interfaces of the film and propagates to a place away from the scanned place, emitting a stimulated emission and reducing sharpness. In addition, the excitation light reflected in the opposite direction to the phosphor layer surface at the upper and lower interfaces of the protective film is re-reflected between the photodetection devices and the peripheral members, so that the photostimulability of the place further away from the scanned place is achieved. Since the phosphor layer is excited to emit stimulated light emission, this further reduces sharpness. Since the excitation light is coherent light with a long wavelength from red to infrared, unless it actively absorbs scattered light or reflected light, the amount absorbed in the space inside the protective film or inside the reader is small and far away. It propagates to a new place and sharpness deteriorates.
このため、この散乱光や反射光を抑制する効果があると推測される励起光吸収層を設けることが好ましい。 For this reason, it is preferable to provide an excitation light absorption layer presumed to have an effect of suppressing the scattered light and reflected light.
励起光吸収層とは、励起光を選択的に吸収する着色剤を含有する層のことであって、後述する様に、これらの層が、前記保護フィルムの一方の面に塗設されてあってもよいし、両面に塗設されてあってもよいし、或いは保護フィルム自体が着色され励起光吸収層となっていてもよい。 The excitation light absorbing layer is a layer containing a colorant that selectively absorbs excitation light. As described later, these layers are coated on one surface of the protective film. Alternatively, it may be coated on both surfaces, or the protective film itself may be colored to form an excitation light absorbing layer.
また本発明によりポリプロピレンフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム等のフィルムを保護層の構成要素として使用した場合も、被写体の放射線画像以外の濃淡すなわち画像ムラや、保護フィルムの製造工程中に起因すると思われる線状のノイズ等が減少する。 In addition, when a film such as a polypropylene film, a polyethylene terephthalate film, or a polyethylene naphthalate film is used as a component of the protective layer according to the present invention, the density other than the radiographic image of the subject, that is, the image unevenness, or the manufacturing process of the protective film Then, the linear noise that seems to be reduced.
この効果は平均傾斜角Δaが0.01以上であることによって顕著となる。 This effect becomes remarkable when the average inclination angle Δa is 0.01 or more.
この値付近の傾斜角Δaで、保護層(保護フィルム)界面での励起光の全反射が防止されると推測されるが、励起光吸収層が保護フィルムに備わっていない場合はこの効果は小さいことから、上記効果は励起光吸収層の散乱防止効果と、表面粗さの平均傾斜角Δaの全反射防止の相乗効果であると推測される。 It is presumed that the total reflection of excitation light at the protective layer (protective film) interface is prevented at an inclination angle Δa near this value, but this effect is small when the protective film is not provided with an excitation light absorbing layer. From the above, it is presumed that the above effect is a synergistic effect of the anti-scattering effect of the excitation light absorbing layer and the total reflection prevention of the average inclination angle Δa of the surface roughness.
本発明により、保護層材料として求められる耐水性や防湿性、耐溶剤性を損なうことなく、耐熱性の高い保護フィルムを、画質を劣化させることなく必要な厚みで使用できるようになるため、長期にわたる耐熱性に優れた放射線画像変換パネルの実現が可能となった。 According to the present invention, a protective film having high heat resistance can be used at a necessary thickness without deteriorating the image quality without impairing water resistance, moisture resistance and solvent resistance required as a protective layer material. The radiation image conversion panel with excellent heat resistance can be realized.
保護フィルムに樹脂フィルムを使用する場合、必要とされる耐傷性や防湿性にあわせて、樹脂フィルムや樹脂フィルムに金属酸化物などを蒸着した蒸着フィルムを複数枚積層した構成とすることができる。 When using a resin film for a protective film, it can be set as the structure which laminated | stacked the vapor deposition film which vapor-deposited the metal oxide etc. on the resin film or the resin film according to the flaw resistance and moisture resistance required.
また、上記のようにフィルムを複数枚積層する場合、さらに積層された樹脂フィルム間に励起光吸収層を設けることによって、励起光吸収層が物理的な衝撃や化学的な変質から保護され、安定したプレート性能が長期間維持できより好ましい。励起光吸収層は複数箇所に設けてもよいし、樹脂フィルムを積層するための接着層に着色剤を含有させ励起光吸収層としてもよい。 In addition, when a plurality of films are laminated as described above, an excitation light absorption layer is further provided between the laminated resin films, so that the excitation light absorption layer is protected from physical impact and chemical alteration and stable. The plate performance is more preferable because it can be maintained for a long time. The excitation light absorption layer may be provided at a plurality of locations, or a colorant may be included in the adhesive layer for laminating the resin film to form the excitation light absorption layer.
保護フィルムの表面形状は、使用する樹脂フィルムを選択することや、樹脂フィルム表面に無機物等を含んだ塗膜を塗設することで容易に調整できる。また、この塗膜を着色し、励起光吸収層とすることも可能である。さらに近年では任意の表面形状の樹脂フィルムは容易に入手可能である。 The surface shape of the protective film can be easily adjusted by selecting a resin film to be used or by applying a coating film containing an inorganic substance on the resin film surface. It is also possible to color this coating film to form an excitation light absorbing layer. Furthermore, in recent years, resin films having an arbitrary surface shape are easily available.
前述のように、励起光吸収層放射線画像変換パネルの保護フィルムを着色し、散乱光や反射光を抑制し、鮮鋭性を向上させる方法については、特公昭59−23400号に、放射線画像変換パネルを構成する支持体、下引層、蛍光体層、中間層、保護層の各層が着色された場合の種々の実施形態の一例として記載されている。 As described above, Japanese Patent Publication No. 59-23400 discloses a radiation image conversion panel for coloring the protective film of the excitation light absorbing layer radiation image conversion panel, suppressing scattered light and reflected light, and improving sharpness. Are described as an example of various embodiments in which each of the support, the undercoat layer, the phosphor layer, the intermediate layer, and the protective layer constituting the substrate is colored.
本発明において放射線画像変換パネルの保護層に好ましく使用される着色剤としては、該放射線画像変換パネルの励起光を吸収する特性を有する色剤が好ましく用いられる。 As the colorant preferably used in the protective layer of the radiation image conversion panel in the present invention, a colorant having a property of absorbing excitation light of the radiation image conversion panel is preferably used.
好ましくは、保護フィルムの励起光波長における光透過率が、該励起光吸収層を有しないことだけが異なる該保護フィルムの光透過率の98%〜50%(例えば、He−Neレーザー光(633nm))となるように励起光吸収層を設けることである。光透過率が98%を超えると本発明の効果は小さく、50%未満では放射線画像変換パネルの輝度が急激に低下してくる。 Preferably, the light transmittance of the protective film at the excitation light wavelength is 98% to 50% of the light transmittance of the protective film which is different only in that the excitation light absorption layer is not provided (for example, He—Ne laser light (633 nm). )) To provide an excitation light absorption layer. When the light transmittance exceeds 98%, the effect of the present invention is small. When the light transmittance is less than 50%, the luminance of the radiation image conversion panel rapidly decreases.
いかなる着色剤を用いるかは放射線画像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体の種類によって決まるが、放射線画像変換パネル用の輝尽性蛍光体としては、通常、波長が400〜900nmの範囲にある励起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が用いられる。このため、着色剤としては通常、青色〜緑色の有機系もしくは無機系の着色剤が用いられる。 Which colorant is used depends on the type of stimulable phosphor used in the radiation image conversion panel, but as a stimulable phosphor for the radiation image conversion panel, the excitation is usually in the range of 400 to 900 nm. A phosphor exhibiting stimulated emission in the wavelength range of 300 to 500 nm by light is used. For this reason, a blue to green organic or inorganic colorant is usually used as the colorant.
青色〜緑色の有機系着色剤の例としては、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト社製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学社製)、スミアクリルブルーF−GSL(住友化学社製)、D&CブルーNo.1(ナショナル・アニリン社製)、スピリットブルー(保土谷化学社製)、オイルブルーNo.603(オリエント社製)、キトンブルーA(チバ・ガイギー社製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土谷化学社製)、レイクブルーA、F、H(協和産業社製)、ローダリンブルー6GX(協和産業社製)、ブリモシアニン6GX(稲畑産業社製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学社製)、シアニンブルーBNRS(東洋インキ社製)、ライオノルブルーSL(東洋インキ社製)が挙げられる。青色〜緑色の無機系着色剤の例としては、群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−CoO−NiO系顔料が挙げられるがこれらに限られるものではない。 Examples of blue to green organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), Sumiacryl Blue F-GSL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (National Aniline), Spirit Blue (Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (manufactured by Orient), Kitten Blue A (manufactured by Ciba-Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Lake Blue A, F, H (manufactured by Kyowa Sangyo Co., Ltd.), rhodarin blue 6GX ( Kyowa Sangyo Co., Ltd.), Brimocyanin 6GX (Inabata Sangyo Co., Ltd.), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Cyanine Blue BNRS (Toyo Ink Co., Ltd.), Lionol Blue SL (Toyo Ink Co., Ltd.) . Examples of blue to green inorganic colorants include, but are not limited to, ultramarine blue, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—CoO—NiO pigments.
(蛍光体層)
次いで、前記保護フィルムにより被覆することにより放射線画像変換パネルを構成する前記蛍光体について説明する。
(Phosphor layer)
Next, the phosphor constituting the radiation image conversion panel by covering with the protective film will be described.
本発明において好ましい、これらの輝尽性蛍光体を用いて得られる柱状結晶、即ち各々の結晶がある間隙をおいて柱状に成長している結晶は、前記、特開平2−58000号に記載された方法により得ることができる。 The columnar crystals obtained by using these photostimulable phosphors that are preferable in the present invention, that is, the crystals growing in columnar form with a certain gap are described in JP-A-2-58000. Can be obtained by different methods.
即ち、基板上に輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し、蒸着等の気相成長(堆積)させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を得ることができる。 That is, a photostimulable phosphor layer composed of independent elongated columnar crystals can be obtained by supplying vapor of the stimulable phosphor or the raw material onto a substrate and performing vapor phase growth (deposition) such as vapor deposition.
例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させることにより、基板面に対してほぼ垂直柱状の結晶を得ることが出来る。 For example, by making the vapor flow of the photostimulable phosphor at the time of vapor deposition enter in the range of 0 to 5 degrees with respect to the direction perpendicular to the substrate, it is possible to obtain crystals that are substantially perpendicular to the substrate surface.
これらの場合において、基板と坩堝との最短部の間隔は輝尽性蛍光体の平均飛程に合わせて通常10cm〜60cmに設置するのが適当である。 In these cases, it is appropriate that the distance between the shortest part of the substrate and the crucible is usually set to 10 cm to 60 cm in accordance with the average range of the stimulable phosphor.
蒸発源となる輝尽性蛍光体は、均一に溶解させるか、プレス、ホットプレスによって成形して坩堝に仕込まれる。この際、脱ガス処理を行うことが好ましい。蒸発源から輝尽性蛍光体を蒸発させる方法は通常電子銃により発した電子ビームの走査により行われるが、これ以外の方法にて蒸発させることもできる。 The stimulable phosphor as an evaporation source is uniformly dissolved or formed by pressing or hot pressing and charged in a crucible. At this time, it is preferable to perform a degassing treatment. The method of evaporating the photostimulable phosphor from the evaporation source is usually performed by scanning an electron beam emitted from an electron gun, but it can be evaporated by other methods.
また、蒸発源は必ずしも輝尽性蛍光体である必要はなく、輝尽性蛍光体原料を混和したものであってもよい。 The evaporation source is not necessarily a stimulable phosphor, and may be a mixture of a stimulable phosphor material.
また、賦活剤は母体(basic substance)に対して賦活剤(actibator)を混合したものを蒸着してもよいし、母体のみを蒸着した後、あとから賦活剤をドープしてもよい。例えば、母体をCsBrとした場合、CsBrのみを蒸着した後、例えば賦活剤であるInをドープしてもよい。即ち、結晶が独立しているため、膜が厚くとも充分にドープ可能であるし、結晶成長が起こりにくいので、変調伝達関数(MTF)は低下しないからである。 Moreover, what activator mixed the activator with respect to a base substance (basic substance) may be vapor-deposited, and after depositing only a base material, you may dope an activator afterwards. For example, when the base is CsBr, after depositing only CsBr, for example, In that is an activator may be doped. That is, since the crystals are independent, the film can be sufficiently doped even if the film is thick, and the crystal transfer hardly occurs, so that the modulation transfer function (MTF) does not decrease.
ドーピングは形成された蛍光体の母体層中にドーピング剤(賦活剤)を熱拡散、イオン注入法によって行うことが出来る。 Doping can be performed by thermal diffusion and ion implantation of a doping agent (activator) in the base layer of the formed phosphor.
図2は本発明に用いられる気相堆積(蒸着)装置の一例及び該気相堆積装置を用いて基板(支持体)12上に輝尽性蛍光体層が蒸着により形成される様子を示す図である。11は形成される輝尽性蛍光体柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層を模式的に表している。輝尽性蛍光体の蒸気流Vの基板面の方線方向(P)に対する入射角度をθ2とすると、形成される柱状結晶の基板面の法線方向(P)に対する角度はθ1で表される。入射角度θ2に依存して一定の角度θ1で柱状結晶が形成される。形成された柱状結晶の角度は、輝尽性蛍光体材料によってそれぞれ異なり、例えば、アルカリハライド系蛍光体のうち、本発明において特に好ましいCsBr系蛍光体の場合には、例えば、蒸着時の輝尽性蛍光体の蒸気流を基板に垂直な方向に対し0〜5度の範囲で入射させる(即ちθ2が0〜5度)ことにより、基板面に対してほぼ垂直柱状(θ1がほぼ0度)の結晶を得ることが出来る。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a vapor deposition (evaporation) apparatus used in the present invention and a state in which a photostimulable phosphor layer is formed on the substrate (support) 12 by vapor deposition using the vapor deposition apparatus. It is.
この様にして基板上に形成した輝尽性蛍光体層11は、結着剤を含有していないので、指向性に優れており、輝尽励起光及び輝尽発光の指向性が高く、輝尽性蛍光体を結着剤中に分散した分散型の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルより層厚を厚くすることができる。更に輝尽励起光の輝尽性蛍光体層中での散乱が減少することで像の鮮鋭性が向上する。
Since the
本発明の封止構造は後述する実施例記載の積層保護フィルムA(熱融着なし)を2枚用いて袋状にして、輝尽性蛍光体板を減圧しながら包み、蛍光体層面側の蛍光体周縁より外側にある領域で基板と保護フィルムを熱融着性シートを用いて融着し、その後裏面の保護フィルムを除去して封止する構造であり、本発明の放射線画像変換パネルを作製する。 The sealing structure of the present invention is formed into a bag shape using two laminated protective films A (no heat fusion) described in the examples described later, and the stimulable phosphor plate is wrapped under reduced pressure, and on the phosphor layer surface side. It is a structure in which a substrate and a protective film are fused using a heat-fusible sheet in a region outside the peripheral edge of the phosphor, and then the protective film on the back surface is removed and sealed. Make it.
支持体=基板としては、炭素繊維強化樹脂板である。 The support = substrate, a carbon-containing fiber-reinforced resin plate.
これら支持体の厚みは用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には80μm〜5000μmであり、取り扱い上の観点から、更に好ましいのは250μm〜4500μmである。 The thickness of these supports varies depending on the material of the support used, but is generally 80 μm to 5000 μm, and more preferably 250 μm to 4500 μm from the viewpoint of handling.
以下、本発明を実施例を挙げて具体的説明するが、本発明の実施態様これらに限定されものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited to these examples.
実施例1
《放射線画像変換パネル1の作製》
以下に記載の方法に従って、蒸着型蛍光体層を有する放射線画像変換パネル1を作製した。
Example 1
<< Preparation of Radiation Image Conversion Panel 1 >>
A radiation image conversion panel 1 having a vapor deposition type phosphor layer was produced according to the method described below.
(輝尽性蛍光体板の作製)
厚さ2mm厚、500mm角サイズの炭素繊維強化樹脂板(東邦テナックス製CFRP#167A,含侵樹脂硬化エポキシ樹脂)にフッソ樹脂液(ダイキン(株)製TC−7105GN)をスプレーコーターにて塗布し、80℃,30分、170℃,90分と2段階に乾燥後、20μm厚のフッソ樹脂膜を形成した。これを公知の蒸着装置の真空チャンバー中に入れ、真空チャンバー中にアルゴンガスを導入し、真空度を0.1Paとした後、CsBr:0.001Euを有するアルカリハライド蛍光体をルツボに入れ、基板と蒸着源の距離を60cmで、アルミニウム製のスリットを用い、基板と平行な方向に基板を搬送しながら、基板のフッソ樹脂層側に、蒸着を行って、300μm厚の柱状構造を有する蛍光体板を形成した。
(Preparation of photostimulable phosphor plate)
A 2 mm thick, 500 mm square carbon fiber reinforced resin plate (CFRP # 167A manufactured by Toho Tenax Co., Ltd., impregnated resin cured epoxy resin) is coated with a fluorine resin solution (TC-7105GN manufactured by Daikin Co., Ltd.) using a spray coater. , 80 ° C., 30 minutes, 170 ° C., 90 minutes, and then dried in two stages to form a 20 μm-thick fluorine resin film. This was put in a vacuum chamber of a known vapor deposition apparatus, argon gas was introduced into the vacuum chamber, the degree of vacuum was set to 0.1 Pa, and then an alkali halide phosphor having CsBr: 0.001Eu was placed in a crucible, A phosphor having a columnar structure with a thickness of 300 μm by carrying out vapor deposition on the fluororesin layer side of the substrate while transporting the substrate in a direction parallel to the substrate using an aluminum slit at a distance of 60 cm from the vapor deposition source A plate was formed.
(防湿性封止フィルムの作製)
下記構成で表されるアルミナ蒸着ポリエチレンテレフタレート樹脂層を含む積層保護フィルムAを作製した。
(Preparation of moisture-proof sealing film)
A laminated protective film A including an alumina-deposited polyethylene terephthalate resin layer represented by the following configuration was produced.
積層保護フィルムA:VMPET12///VMPET12///PET
積層保護フィルムAにおいて、VMPETは、アルミナ蒸着したポリエチレンテレフタレート(市販品:東洋メタライジング社製)を表し、PETはポリエチレンテレフタ
レートを表す。又、上記「///」は、ドライラミネーション接着層における2液反応型のウレタン系接着剤層の厚みが3.0μmであることを表し、各樹脂フィルムの後に表示した数字は、各フィルムの膜厚(μm)を表す。
Laminated protective film A: VMPET12 /// VMPET12 /// PET
In the laminated protective film A, VMPET represents polyethylene terephthalate deposited on alumina (commercial product: manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.), and PET represents polyethylene terephthalate. In addition, the above “///” indicates that the thickness of the two-component reaction type urethane adhesive layer in the dry lamination adhesive layer is 3.0 μm, and the number displayed after each resin film is the number of each film. Represents film thickness (μm).
前記積層保護フィルムA(熱融着なし)を2枚用いて袋状にして、輝尽性蛍光体板を減圧しながら包み、蛍光体層面側の蛍光体周縁より外側にある領域で基板と保護フィルムを熱融着性シートを用いて融着し、その後裏面の保護フィルムを除去して封止し、放射線画像変換パネル(試料)1を作製した。 Two sheets of the above laminated protective film A (without heat fusion) are used to form a bag, and the stimulable phosphor plate is wrapped under reduced pressure to protect the substrate in a region outside the phosphor periphery on the phosphor layer surface side. The film was fused using a heat-fusible sheet, and then the protective film on the back surface was removed and sealed to prepare a radiation image conversion panel (sample) 1.
耐熱性樹脂層を設けた基板の残留溶剤量測定と得られたパネルの特性評価、耐久性評価を行った結果を表1に示す。 Table 1 shows the results of the measurement of the residual solvent amount of the substrate provided with the heat-resistant resin layer and the evaluation of the characteristics and durability of the obtained panel.
実施例2
フッソ樹脂液((ダイキン(株)製TC−7105GN))をスプレ−コーターにて塗布し、80℃,30分、170℃,80分と2段階に乾燥してフッソ樹脂膜を得た以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)2を作製した。
Example 2
A fluororesin solution ((TC-7105GN manufactured by Daikin Co., Ltd.)) was applied with a spray coater and dried in two stages of 80 ° C., 30 minutes, 170 ° C. and 80 minutes, to obtain a fluorine resin film. The same operation as in Example 1 was performed to prepare a radiation image conversion panel (sample) 2.
実施例3
実施例1の乾燥条件を80℃,30分、140℃,30分と2段階に乾燥して20μm厚のフッソ樹脂膜を得た以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)3を作製した。
Example 3
The radiation image conversion panel was operated in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of Example 1 were dried in two stages: 80 ° C., 30 minutes, 140 ° C., 30 minutes to obtain a 20 μm-thick fluororesin film. (Sample) 3 was produced.
実施例4
実施例1の乾燥条件を、80℃,30分、120℃,20分と2段階に乾燥した以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)4を作製した。
Example 4
A radiation image conversion panel (sample) 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of Example 1 were dried in two stages of 80 ° C., 30 minutes, 120 ° C., and 20 minutes.
実施例5
実施例1の乾燥条件を、80℃,30分、110℃,15分と2段階に乾乾燥した以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)5を作製した。
Example 5
A radiation image conversion panel (sample) 5 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of Example 1 were dry-dried in two stages of 80 ° C., 30 minutes, 110 ° C., and 15 minutes.
実施例6
実施例1のフッソ樹脂をポリアミドイミド(東洋紡社製バイロマックスHR13NX)に変え、80℃,30分、160℃,30分と2段階に乾燥した以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)6を作製した。
Example 6
The same operation as in Example 1 was performed except that the fluororesin of Example 1 was changed to polyamideimide (Vilomax HR13NX manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and dried in two stages of 80 ° C., 30 minutes, 160 ° C., and 30 minutes. An image conversion panel (sample) 6 was produced.
実施例7
実施例6の乾燥条件を80℃,30分、140℃,30分と2段階に乾燥した以外は実施例6と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)7を作製した。
Example 7
A radiation image conversion panel (sample) 7 was prepared in the same manner as in Example 6 except that the drying conditions of Example 6 were dried in two stages: 80 ° C., 30 minutes, 140 ° C., 30 minutes.
比較例1
実施例1の乾燥条件を、80℃,30分、170℃,120分と2段階に乾乾燥した以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)8を作製した。
Comparative Example 1
A radiation image conversion panel (sample) 8 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the drying conditions of Example 1 were dry-dried in two stages of 80 ° C., 30 minutes, 170 ° C., and 120 minutes.
比較例2
実施例1の乾燥を80℃,30分と1回だけ乾燥させた以外は実施例1と同様の操作を行い、放射線画像変換パネル(試料)9を作製した。
Comparative Example 2
A radiation image conversion panel (sample) 9 was prepared in the same manner as in Example 1 except that drying in Example 1 was performed only once at 80 ° C. for 30 minutes.
得られた放射線画像変換パネル(試料)1〜9について、以下のよう評価を行った。 The obtained radiation image conversion panels (samples) 1 to 9 were evaluated as follows.
(放射線画像変換パネルの特性評価)
感度と鮮鋭度は、両方とも値が大きい程、良好である。
(Characteristic evaluation of radiation image conversion panel)
The sensitivity and sharpness are both better as the value is larger.
感度(輝度)の評価
感度の測定は放射線画像変換パネルに管電圧80kVpのX線を10mAsで爆射線源とプレート間距離2mで照射した後、Regius350にパネルを設置して読みとった。得られたフォトマルからの電気信号を元に評価を行った。
Evaluation of Sensitivity (Luminance) Sensitivity was measured by irradiating the radiation image conversion panel with X-rays having a tube voltage of 80 kVp at 10 mAs at a distance of 2 m between the bombardment source and the plate, and then setting the panel on the Regius 350 to read. Evaluation was performed based on the electrical signal from the obtained photomultiplier.
表中の感度は蛍光体面全体の平均値であり、試料1の感度を1.00とした場合の相対感度である。 The sensitivity in the table is an average value of the entire phosphor surface, and is a relative sensitivity when the sensitivity of the sample 1 is 1.00.
鮮鋭性の評価
鮮鋭性は、変調伝達関数を求めて評価した。
Evaluation of sharpness Sharpness was evaluated by obtaining a modulation transfer function.
放射線像変換放射線像変換パネル試料にCTFチャートを貼付した後、放射線像変換パネル試料に80kVpのX線を10mAs(被写体までの距離:1.5m)照射した後、100μmφの直径の半導体レーザ(680nm:パネル上でのパワー40mW)を用いてCTFチャート像を走査読み取りして求めた。表の値は、2.0lp/mmのMTF値を示した。値が大きいほど鮮鋭度がよい。 After attaching a CTF chart to the radiation image conversion radiation image conversion panel sample, the radiation image conversion panel sample was irradiated with 80 kVp X-rays at 10 mAs (distance to the subject: 1.5 m), and then a semiconductor laser having a diameter of 100 μmφ (680 nm) : The CTF chart image was scanned and read using a power of 40 mW on the panel). The values in the table showed an MTF value of 2.0 lp / mm. The higher the value, the better the sharpness.
(放射線画像変換パネルの耐久性評価)
○:方射線画像変換パネルを封止フィルムで封止したものを0℃、40%と80℃、40%の恒温恒室器に3hr放置することをそれぞれ120回繰り返した後に前記の鮮鋭性価を行い、投入前に比べて、85%以上の値を示す。
(Durability evaluation of radiation image conversion panel)
○: The above-mentioned sharpness value after repeating a 120-hour constant temperature chamber at 0 ° C., 40%, 80 ° C., and 40% after the rectangular image conversion panel is sealed with a sealing film is repeated 120 times. And a value of 85% or more is shown compared to before the introduction.
○△:放射線画像変換パネルを封止フィルムで封止したものを0℃,40%と80℃、40%の恒温恒室器に3hr放置することをそれぞれ120回繰り返した後に前記の鮮鋭性の評価を行い、投入前に比べて、80%を超え85%未満の値を示す
×:放射線画像変換パネルを封止フィルムで封止したものを0℃,40%と80℃,40%の恒温恒室器に3hr放置することをそれぞれ120回繰り返した後に前記の鮮鋭度評価を行い、投入前に比べて、80%以下の値を示す。
○ △: The above-mentioned sharpness of the image obtained by sealing the radiation image conversion panel with a sealing film after leaving it in a thermostatic chamber at 0 ° C., 40%, 80 ° C. and 40% for 3 hours was repeated 120 times. Evaluate and show a value of more than 80% and less than 85% compared to before introduction. ×: Constant temperature of 0 ° C., 40% and 80 ° C., 40% when the radiation image conversion panel is sealed with a sealing film The sharpness evaluation is performed after 120 hours of standing in a thermostatic chamber for 120 hours, and the value is 80% or less compared with that before the charging.
(残留溶剤量の測定)
各放射線画像変換パネルの耐熱性樹脂層を設けた基板(100cm2)を50mlのメタノールにて抽出後、GC/MSにより残留溶剤の定量を行った。
(Measurement of residual solvent amount)
The substrate (100 cm 2 ) provided with the heat-resistant resin layer of each radiation image conversion panel was extracted with 50 ml of methanol, and the residual solvent was quantified by GC / MS.
以上の結果を以下に示す。 The above results are shown below.
11 輝尽性蛍光体層
12 耐熱性樹脂層
13 基板(支持体)
14 防湿性保護フィルム
11
14 Moisture-proof protective film
Claims (4)
一般式(1) General formula (1)
M M 11 X・aMX ・ aM 22 X′・bMX '· bM 33 X″:eAX ″: eA
〔式中、M [Where M 11 はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、MIs at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 22 はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、MIs at least one divalent metal atom selected from the atoms of Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni, and M 33 はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X′、X″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕Is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, and In atoms. A trivalent metal atom, wherein X, X ′, and X ″ are at least one halogen atom selected from F, Cl, Br, and I atoms, and A is Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy , Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg, and at least one metal atom, and a, b, e Are numerical values in the range of 0 ≦ a <0.5, 0 ≦ b <0.5, and 0 <e ≦ 0.2, respectively.]
一般式(2) General formula (2)
CsX:yA CsX: yA
〔式中、XはCl、BrまたはIを表し、Aは、Eu、Sm、In、Tl、GaまたはCeを表す。yは、1×10[Wherein, X represents Cl, Br or I, and A represents Eu, Sm, In, Tl, Ga or Ce. y is 1 × 10 −7-7 〜1×10~ 1x10 −2-2 までの数値を表す。〕Represents numerical values up to. ]
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