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JP4445053B2 - Color filter and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP4445053B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はカラーフィルタおよびその製造方法に係り、特に表示品質に優れた液晶表示装置用のカラーフィルタとその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、フラットディスプレイとして、カラーの液晶表示装置が注目されている。一般に、カラー液晶表示装置は、ブラックマトリックスおよび複数の色(通常、赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色)からなる着色層を備えたカラーフィルタと、薄膜トランジスタ(TFT素子)を備えたTFTアレイ基板とを所定の間隙をもたせて貼り合わせており、この間隙部に液晶材料を注入している。したがって、この間隙部は液晶層の厚みそのものであり、液晶層の厚みにムラがあると、カラー液晶表示装置内で輝度ムラ、色ムラが生じ、表示品質を著しく損なうことになるので、液晶層の厚みはできる限り均一であることが望ましい。
【0003】
一方、液晶層が均一であっても、カラーフィルタの画素の色(R、G、B)によって可視光の透過率が異なるという事実がある。したがって、均一で最適な可視光透過率を得るためには、液晶層の厚みを各色(R、G、B)に最適なものとする必要がある。
【0004】
このため、R、G、Bの色ごとに着色層の厚みに変化をもたせ、色ごとに液晶層を所定の厚みに設定する、いわゆるマルチギャップのカラーフィルタが開発されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、例えば、上述のようなR、G、Bの色ごとに厚みの異なる着色層を従来公知の顔料分散法により形成する場合、最も厚みの小さい着色層の形成において使用する感光性塗料の着色材含有率が高くなり、地汚れ、色ムラ、基板との密着性不良等が発生するという問題があった。
【0006】
また、均一な厚みの着色層を形成し、この着色層上に保護層用の感光性樹脂組成物を用いて塗布膜を形成し、この塗布膜を階調露光することにより所望の厚みの透明保護層を形成してマルチギャップのカラーフィルタとする方法がある。しかし、階調露光用のフォトマスクを使用することにより塗布膜の階調露光を行う場合、フォトマスクの作製が難しいという問題があり、また、塗布膜の階調露光をステップ露光で行う場合は、露光工程に要する時間が長くなるという問題があった。
【0007】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、着色層の色ごとに最適な液晶層の厚みをもち表示品質に優れた液晶表示装置を可能とするカラーフィルタと、このようなカラーフィルタを簡便に製造できる製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明のカラーフィルタは、透明基板と、該透明基板の一方の面に形成された赤色、緑色および青色の3色からなる着色層と、少なくとも該着色層上に形成された透明保護層とを備え、前記着色層の紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)は、青色着色層において最も大きく、赤色着色層において最も小さく、前記透明保護層は前記着色層を覆うように感光性樹脂組成物の塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像、硬化して形成されたものであって、その厚みは前記着色層の紫外線透過率の大きさに依存する紫外線の露光量に応じ、紫外線透過率の大きさが大きい着色層上の透明保護層ほど厚みが大きいような構成とした。
【0009】
また、本発明のカラーフィルタは、透明基板と、該透明基板の一方の面に形成された赤色、緑色および青色の3色からなる着色層と、少なくとも該着色層上に形成された透明保護層とを備え、前記着色層の紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)は、青色着色層において最も小さく、赤色着色層において最も大きく、前記透明保護層は前記着色層を覆うように感光性樹脂組成物の塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像、硬化して形成されたものであって、その厚みは前記着色層の紫外線透過率の大きさに依存する紫外線の露光量に応じ、紫外線透過率の大きさが小さい着色層上の透明保護層ほど厚みが大きいような構成とした。
【0010】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、赤色、緑色および青色の3色からなる着色層を、その紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)が、青色着色層において最も大きく、赤色着色層において最も小さくなるように形成する第1の工程、 透明保護層用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて前記着色層を覆うように塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像し、着色層の紫外線透過率の大きさに応じた紫外線の露光量により、塗布膜の厚みを紫外線透過率の大きさが大きい着色層上ほど大きくなるようにした後、前記塗布膜を硬化させて透明保護層を形成する第2の工程、を有するような構成とした。
【0011】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、赤色、緑色および青色の3色からなる着色層を、その紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)が、青色着色層において最も小さく、赤色着色層において最も大きくなるように形成する第1の工程、透明保護層用のポジ型感光性樹脂組成物を用いて前記着色層を覆うように塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像し、着色層の紫外線透過率の大きさに応じた紫外線の露光量により、塗布膜の厚みを紫外線透過率の大きさが小さい着色層上ほど大きくなるようにした後、前記塗布膜を硬化させて透明保護層を形成する第2の工程、を有するような構成とした。
【0012】
このような本発明では、着色層上に形成された透明保護層用の感光性樹脂組成物の塗布膜を、透明基板の裏面から紫外線を照射して着色層を介することにより露光するので、着色層の360〜380nmの領域での紫外線透過率の平均値の大きさに応じて各色ごとに塗布膜の露光量に差が生じ、現像、硬化によって色ごとに所望の厚みを有する透明保護層が形成される。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の最良の実施形態について図面を参照して説明する。
本発明のカラーフィルタ
図1は、本発明の一実施形態であるカラーフィルタを使用した液晶表示装置の例を示す縦断面図である。図1において、液晶表示装置1は本発明のカラーフィルタ11とTFTアレイ基板21とを液晶層31を介して対向させた構造である。
【0014】
本発明のカラーフィルタ11は、透明基板12、透明基板12の一方の面に所定のパターンで形成されたブラックマトリックス(遮光層)13、複数色からなる着色層14、着色層14上に形成された透明保護層16、透明導電膜17とを備えている。そして、着色層14は、赤色着色層14R、緑色着色層14Gおよび青色着色層14Bからなり、色ごとに、360〜380nmの領域での紫外線透過率の平均値(以下、「紫外線透過率の大きさ」という)が異なるものである。すなわち、着色層14の各色における紫外線透過率の大きさは、▲1▼14R<14G<14B、あるいは、▲2▼14R>14G>14Bとなるように設定されている。
【0015】
このような着色層14上に設けられた透明保護層16は、着色層14の各色の着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさに対応するような厚みを有している。図示例では、透明保護層16の厚みは、青色着色層14B上の透明保護層16Bの厚みが最も大きく、以下、緑色着色層14G上の透明保護層16G、赤色着色層14R上の透明保護層16Rの順に厚みが小さいものとなっている。
【0016】
一方、TFTアレイ基板21は、基板22上に薄膜トランジスタ(図示せず)に接続された表示電極23を備えており、カラーフィルタ11の各着色層14R,14G,14Bと、対応するTFTアレイ基板21の表示電極23とが対向するように位置合わせがなされている。
【0017】
このような液晶表示装置1では、液晶層31の厚みは均一ではなく、各着色層14R,14G,14B上においてそれぞれ最適な厚みとなっている。図示例では、各着色層14R,14G,14B上の透明保護層16R,16G,16Bの厚みに対応して、液晶層31の厚みは、それぞれTR、TG、TBとなっており、液晶層31の厚みの最適化がなされている。したがって、カラーフィルタ11の画素を構成する各色の着色層14R,14G,14Bにおける可視光の透過率が均一で最適なものとなり、表示品質に優れた液晶表示装置1が可能となる。
【0018】
本発明のカラーフィルタ11を構成する透明基板12としては、石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓性のないリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材を用いることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるLCD用のカラー液晶表示装置に適している。
【0019】
また、透明基板12に形成されているブラックマトリックス13は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜4000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール誘導体樹脂、ゼラチン系樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、いずれであってもよい。
【0020】
本発明のカラーフィルタ11を構成する着色層14は、赤色着色層14R、緑色着色層14Gおよび青色着色層14Bがモザイク型、トライアングル型、ストライプ型、4画素配置型等の所望のパターンで配列されたものである。このような着色層14の厚みは0.5〜3.0μm程度の範囲で各色均一に設定することができる。また、液晶層31の厚みTR、TG、TBの設定を考慮して、図2に示されるように、予め着色層14R,14G,14Bの厚みに差を設けるようにしてもよい。この場合、使用する感光性樹脂組成物の着色材含有率が高くなり、地汚れ、色ムラ、基板との密着性不良等が発生しない範囲で着色層の厚みを設定する必要がある。
【0021】
本発明のカラーフィルタ11を構成する透明保護層16は、公知のネガ型感光性樹脂、ポジ型感光性樹脂を用いて形成したものである。すなわち、後述するように、着色層14の各色の紫外線透過率の大きさが▲1▼14R<14G<14Bである場合、公知のネガ型の透明感光性樹脂を用いて形成することができ、また、着色層14の各色の紫外線透過率の大きさが▲2▼14R>14G>14Bである場合、公知のポジ型の透明感光性樹脂を用いて形成することができる。着色層14上における透明保護層16の厚みは、使用する液晶材料等を考慮して設定することができ、例えば、赤色着色層14R上における透明保護層16Rの厚みを0〜2.0μm程度、緑色着色層14G上における透明保護層16Gの厚みを0.2〜2.5μm程度、青色着色層14B上における透明保護層16Bの厚みを1.5〜4.0μm程度とし、透明保護層16Rと16Gの厚みの差を0.2〜1.0μm程度、透明保護層16Gと16Bの厚みの差を0.5〜1.5μm程度に設定することができる。
【0022】
透明導電膜17は、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、およびその合金等により形成されたものである。このような透明導電膜17の厚みは200〜2000Å程度が好ましい。
【0023】
本発明のカラーフィルタの製造方法
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法を上述のカラーフィルタ11を例として説明する。
【0024】
図3は本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態を示す工程図である。本発明のカラーフィルタの製造方法では、まず、第1の工程として、所定のパターン形状でブラックマトリックス13を備えた透明基板12上に、色ごとに紫外線透過率の異なる赤色着色層14R、緑色着色層14Gおよび青色着色層14Bが配列されてなる着色層14を形成する(図3(A))。着色層14の形成は、例えば、公知のネガ型あるいはポジ型の感光性レジストに着色材を含有させた感光性樹脂組成物を用いた顔料分散法等により形成することができ、着色層14の各色の紫外線透過率の設定は、使用する各色の感光性樹脂組成物における紫外線吸収剤の含有量を調整することにより行うことができる。使用する紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレート系の化合物等を挙げることができる。
【0025】
このような着色層14における紫外線透過率の大きさは、▲1▼14R<14G<14B、あるいは、▲2▼14R>14G>14Bとなるように設定する。
【0026】
尚、本発明は液晶層厚の最適化を透明保護層の厚みにより制御するので、着色層14の厚みは0.5〜3.0μm程度の範囲で均一に形成することができるが、予め着色層14R,14G,14Bの厚みに若干の差を設け、さらに、透明保護層の厚みを制御することにより、液晶層厚の最適化の適応範囲をより広げることができる。
【0027】
次に、第2の工程として、まず、着色層14を覆うように透明保護層用の感光性樹脂組成物を用いて塗布膜15を形成する(図3(B))。使用する感光性樹脂は、着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさが▲1▼14R<14G<14Bである場合にはネガ型の感光性樹脂であり、着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさが▲2▼14R>14G>14Bである場合にはポジ型の感光性樹脂である。具体的には、ネガ型の感光性樹脂組成物としては、光重合性、架橋性を有するアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミック酸系樹脂等の光透過性のネガ型感光性樹脂の1種または2種以上を用い、これに酸化防止剤、界面活性剤、消泡剤、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、分散剤、粘度調整剤等を添加したものを使用することができる。また、ポジ型の感光性樹脂組成物としては、ノボラック系樹脂、ポリアミック酸系樹脂、マレイミド−スチレン共重合体、ポリビニルフェノール誘導体等の樹脂と光酸発生剤の混合物、ポリアミック酸誘導体等の光透過性のポジ型感光性樹脂の1種または2種以上を用い、これに酸化防止剤、界面活性剤、消泡剤、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、分散剤、粘度調整剤等を添加したものを使用することができる。
【0028】
この塗布膜15の厚みは均一であり、各色の着色層14R,14G,14Bごとに所望の厚みをもつ透明保護層16の最終形状等を考慮して塗布膜15の厚みを設定することができ、例えば、1.0〜7.0μm程度の範囲で設定することができる。
【0029】
次に、透明基板12の裏面から紫外線を照射して、着色層14を介し塗布膜15を露光する(図3(C))。これにより、塗布膜15は着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさに応じた露光量で露光される。すなわち、着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさが▲1▼14R<14G<14Bである場合、ネガ型感光性の塗布膜15は青色着色層14B上で露光量が最大となり、赤色着色層14R上で露光量が最小となる。また、着色層14R,14G,14Bの紫外線透過率の大きさが▲2▼14R>14G>14Bである場合、ポジ型感光性の塗布膜15は青色着色層14B上で露光量が最小となり、赤色着色層14R上で露光量が最大となる。したがって、露光後の現像、硬化処理により形成される透明保護層16の厚みは、青色着色層14B上の透明保護層16Bの厚みが最も大きく、以下、緑色着色層14G上の透明保護層16G、赤色着色層14R上の透明保護層16Rの順に厚みが小さいものとなる(図3(D))。各色の着色層14R,14G,14B上の透明保護層16R、16G、16Bの厚みは、例えば、透明保護層16Rを0〜1.5μmの範囲、透明保護層16Gを0.5〜2.0μmの範囲、透明保護層16Bを1.0〜2.5μmの範囲で設定することができる。
【0030】
その後、上記の透明保護層16上に、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、およびその合金等を用いて、蒸着法、スパッタリング法、CVD法等の公知の方法により所定のパターンで透明導電膜17を形成する(図3(E))。これにより、カラーフィルタ11が得られる。
【0031】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【0032】
(実施例1) まず、ガラス基板(コーニング(株)製7059ガラス 厚み0.7mm)上に真空蒸着法によりクロム薄膜(厚み1000Å)を成膜し、このクロム薄膜上にスピン塗布方法により感光性レジスト(東京応化工業(株)製OFPR800)を塗布し乾燥した。次いで、ブラックマトリックス用のフォトマスクを介して感光性レジスト層を露光・現像しレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてクロム薄膜をエッチングし、レジストパターンを剥離除去してブラックマトリックスを形成した。エッチング液は硝酸第2セリウムアンモニウムと過塩素酸を混合した水溶液を使用した。
【0033】
一方、下記組成のベース感光性樹脂を用いて、下記組成の各色の着色層用の感光性樹脂組成物R1、G1、B1を調製した。これらの感光性樹脂組成物R1、G1、B1は、紫外線吸収剤の添加量を調整することにより、紫外線透過率の大きさ(360〜380nmの領域での紫外線透過率の平均値)がR1<G1<B1となるように設定した。
【0034】
ベース感光性樹脂の組成
・o−クレゾールノボラックエポキシアクリレート … 9.5重量部
(水酸基の50%を無水フタル酸と反応させたもの)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … 9.5重量部
(日本化薬(株)製DPHA)
・イルガキュアー907(チバガイギー社製) … 1重量部
・イルガキュアー369(チバガイギー社製) … 2重量部
・エチルセロソルブアセテート … 80重量部
・ベンゾフェノン … 1重量部
赤色感光性樹脂組成物R1
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 85重量部
・クロモフタルレッドBRN(チバガイギー社製) … 10重量部
・紫外線吸収剤 … 5重量部
2−エチルヘキシル−2シアノ−3,3´−ジフェニルアクリレート
緑色感光性樹脂組成物G1
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・リオノールグリーン2Y−301 … 8重量部
(東洋インキ製造(株)製)
・紫外線吸収剤 … 2.5重量部
2−エチルヘキシル−2シアノ−3,3´−ジフェニルアクリレート
青色感光性樹脂組成物B1
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・クロモフタルブルーA3R(チバガイギー社製) … 12重量部
【0035】
次に、上記のガラス基板上に感光性樹脂組成物B1をスピンコート法(回転数600r.p.m.)により塗布して乾燥し、青色着色層用のフォトマスクを介して露光し現像して青色着色層(厚み1.5μm)を形成した。同様にして、感光性樹脂組成物G1、感光性樹脂組成物R1を用いて、緑色着色層、赤色着色層を形成した(図3(A)に相当)。尚、上記の各色の感光性樹脂組成物に含有させた開始剤の感光域は405nm付近である。
【0036】
このように形成した青色着色層B、緑色着色層G、赤色着色層Rについて、360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値を紫外可視分光光度計で測定した結果、青色着色層B=5.0〜5.5%、緑色着色層G=2.5〜3.0%、赤色着色層R=1.0%以下であった。
【0037】
次に、下記組成の透明保護層用のネガ型感光性組成物を調製し、着色層を形成したガラス基板上にスピンコート法(回転数500r.p.m.)により塗布し、100℃で5分間乾燥して塗布膜を形成した(図3(B)に相当)。
【0038】
保護層用の感光性組成物
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … 40重量部
(日本化薬(株)製DPHA)
・メチルメタクリレート/メタクリル酸
/ベンジルメタクリレート共重合体 … 40重量部
・イルガキュアー907(チバガイギー社製) … 20重量部
・2,2´−ビス(2−クロロフェニル)−4,4´,5,5´
−テトラフェニルビスイミダゾール … 10重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート …250重量部
【0039】
次に、ガラス基板の裏面から超高圧水銀ランプを用いて365nmの紫外線を300mJ/cm2 照射し、着色層を介して塗布膜を露光した(図3(C)に相当)。その後、炭酸ナトリウム0.1重量%水溶液に界面活性剤を添加して調製した現像液に1分間浸漬して現像を行い、塗布膜の未硬化部分を除去し、次いで200℃で60分間の熱処理を行って透明保護層を形成した(図3(D)に相当)。この透明保護層の厚みは、青色着色層上で2.0μm、緑色着色層上で1.0μm、赤色着色層上で0.3μmであった。次に、透明保護層上にスパッタリング法によりITOの透明導電膜(厚み1000Å)を形成してカラーフィルタを得た(図3(E)に相当)。
【0040】
このカラーフィルタは、地汚れ、色ムラ、ガラス基板と着色層との密着性不良等がない良好なものであった。
【0041】
さらに、上記のカラーフィルタを用いて、液晶層の厚みを青色着色層上で3.7μm、緑色着色層上で4.7μm、赤色着色層上で5.4μmとして図1に示されるような液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置の表示品質は優れたものであった。
【0042】
(実施例2) 実施例1と同様にして、ガラス基板(コーニング(株)製7059ガラス 厚み0.7mm)上にブラックマトリックスを形成した。
また、実施例1と同様のベース感光性樹脂を用いて、下記組成の各色の着色層用の感光性樹脂組成物R2、G2、B2を調製した。これらの感光性樹脂組成物R2、G2、B2は、紫外線吸収剤の添加量を調整することにより、紫外線透過率の大きさ(360〜380nmの領域での紫外線透過率の平均値)がR2>G2>B2となるように設定した。
【0043】
赤色感光性樹脂組成物R2
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 85重量部
・クロモフタルレッドBRN(チバガイギー社製) … 10重量部
緑色感光性樹脂組成物G2
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・リオノールグリーン2Y−301 … 8重量部
(東洋インキ製造(株)製)
・紫外線吸収剤 … 2.5重量部
2−エチルヘキシル−2シアノ−3,3´−ジフェニルアクリレート
青色感光性樹脂組成物B2
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・クロモフタルブルーA3R(チバガイギー社製) … 15重量部
・紫外線吸収剤 … 10重量部
2−エチルヘキシル−2シアノ−3,3´−ジフェニルアクリレート
【0044】
次に、上記のガラス基板上に感光性樹脂組成物B2をスピンコート法(回転数600r.p.m.)により塗布して乾燥し、青色着色層用のフォトマスクを介して露光し現像して青色着色層(厚み1.5μm)を形成した。同様にして、感光性樹脂組成物G2、感光性樹脂組成物R2を用いて、緑色着色層、赤色着色層を形成した(図3(A)に相当)。
【0045】
このように形成した青色着色層B、緑色着色層G、赤色着色層Rについて、実施例1と同様にして360〜380nmの波長域の紫外線に対する平均透過率を測定した結果、青色着色層B=0.5%以下、緑色着色層G=10〜11%、赤色着色層R=22〜23%であった。
【0046】
次に、下記組成の透明保護層用のポジ型感光性組成物を調製し、着色層を形成したガラス基板上にスピンコート法(回転数500r.p.m.)により塗布し、120℃で4分間乾燥して塗布膜を形成した(図3(B)に相当)。
【0047】
保護層用の感光性塗布液
・t−ブトキシカルボニル基(t−BOC)で保護された
ポリビニルフェノール樹脂 … 10重量部
・ヘキサメトキシメチロール化メラミン … 10重量部
・乳酸エチル … 50重量部
・光酸発生剤(ミドリ化学(株)製TAZ−104) … 10重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート …150重量部
【0048】
次に、ガラス基板の裏面から超高圧水銀ランプを用いて365nmの紫外線を500mJ/cm2 照射し、着色層を介して塗布膜を露光した(図3(C)に相当)。その後、水酸化カリウム水溶液1.0重量%に界面活性剤を加えて調製した現像液に1.5分間浸漬して現像を行い、さらに低高圧水銀ランプを用いて全面に紫外線照射(300mJ/cm2 )を行った後、200℃で60分間の熱処理を行って透明保護層を形成した(図3(D)に相当)。この透明保護層の厚みは、青色着色層上で1.7μm、緑色着色層上で0.7μm、赤色着色層上で0.05μmであった。次いで、透明保護層上にスパッタリング法によりITOの透明導電膜(厚み1000Å)を形成してカラーフィルタを得た(図3(E)に相当)。
【0049】
このカラーフィルタは、地汚れ、色ムラ、ガラス基板と着色層との密着性不良等がない良好なものであった。
【0050】
さらに、上記のカラーフィルタを用いて、液晶層の厚みを青色着色層上で3.7μm、緑色着色層上で4.7μm、赤色着色層上で5.4μmとして図1に示されるような液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置の表示品質は優れたものであった。
【0051】
(比較例)
まず、実施例1と同様のベース感光性樹脂を用いて、下記組成の各色の着色層用の感光性樹脂組成物R´、G´、B´を調製した。
【0052】
赤色感光性樹脂組成物R´
・ベース感光性樹脂 … 50重量部
・エチルセロソルブアセテート … 85重量部
・クロモフタルレッドBRN(チバガイギー社製) … 10重量部
緑色感光性樹脂組成物G´
・ベース感光性樹脂 … 75重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・リオノールグリーン2Y−301 … 8重量部
(東洋インキ製造(株)製)
青色感光性樹脂組成物B´
・ベース感光性樹脂 … 100重量部
・エチルセロソルブアセテート … 50重量部
・ジグライム … 35重量部
・クロモフタルブルーA3R(チバガイギー社製) … 12重量部
【0053】
次に、ガラス基板(コーニング(株)製7059ガラス 厚み0.7mm)上に感光性樹脂組成物B´をスピンコート法(回転数400r.p.m.)により塗布して乾燥し、青色着色用のフォトマスクを介して露光し現像して青色着色層(厚み3.2μm)を形成した。同様にして、感光性樹脂組成物G´、感光性樹脂組成物R´を用いて、緑色着色層(厚み2.2μm)、青色着色層(厚み1.5μm)を形成して各色ごとに厚みの異なる構造を有する着色層を形成した。
【0054】
次いで、下記組成の保護層用塗布液をスピンコート法(回転数700r.p.m.)により塗布して乾燥し、次に、フォトマスクを介して超高圧水銀ランプを用い、着色層の形成領域およびその周辺部にのみ紫外線を100mJ/cm2 照射した。
【0055】
保護層用塗布液
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート … 40重量部
(日本化薬(株)製DPHA)
・メチルメタクリレート/メタクリル酸
/ベンジルメタクリレート共重合体 … 40重量部
・イルガキュアー907(チバガイギー社製) … 20重量部
・2,2´−ビス(2−クロロフェニル)−4,4´,5,5´
−テトラフェニルビスイミダゾール … 10重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート …400重量部
【0056】
その後、炭酸ナトリウム0.1重量%水溶液に界面活性剤を加えて調製した現像液に1.5分間浸漬して現像を行い、さらに200℃で60分間の熱処理を行って透明保護層を形成した。この透明保護層上にスパッタリング法によりITOの透明導電膜(厚み1000Å)を形成して比較としてのカラーフィルタを得た。
【0057】
このカラーフィルタは、特に青色着色層を厚膜化したことにより、膜厚分布の悪化による色ムラ、ガラス基板との密着性不良が発生し、液晶表示装置用のカラーフィルタとして使用に供し得ないものであった。
【0058】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によればカラーフィルタは、透明基板の一方の面に色ごとに異なる紫外線透過率をもつ複数色からなる着色層と、少なくとも着色層上に形成された透明保護層とを備え、この透明保護層の厚みは着色層の紫外線透過率の大きさに対応して着色層の色ごとに異なるものであり、このようなカラーフィルタを用いて製造される液晶表示装置では、着色層の色ごとに最適な液晶層の厚みを設定することができ、表示品質に優れた液晶表示装置が可能となる。そして、本発明のカラーフィルタを、第1の工程で透明基板上に色ごとに紫外線透過率の異なる複数色からなる着色層を形成し、第2の工程で透明保護層用の感光性樹脂組成物を用いて上記着色層を覆うように塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射し着色層を介して塗布膜を露光、現像し、着色層の紫外線透過率の大きさに応じて色ごとに塗布膜を所望の厚みにした後、この塗布膜を硬化させて透明保護層を形成することにより製造するので、着色層の厚膜化による地汚れ、色ムラ、基板との密着性不良等を生じることがなく、かつ、階調露光用のフォトマスクや複雑な露光工程が不要であり、簡便にカラーフィルタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態であるカラーフィルタを使用した液晶表示装置の例を示す縦断面図である。
【図2】本発明のカラーフィルタの他の実施形態を示す縦断面図である。
【図3】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【符号の説明】
1…液晶表示装置
11…カラーフィルタ
12…透明基板
13…ブラックマトリックス
14(14R,14G,14B)…着色層
15…透明保護層用の塗布膜
16…透明保護層
17…透明導電膜
31…液晶層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a color filter and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a color filter for a liquid crystal display device excellent in display quality and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
In recent years, color liquid crystal display devices have attracted attention as flat displays. In general, a color liquid crystal display device includes a color filter including a black matrix and a colored layer composed of a plurality of colors (usually three primary colors of red (R), green (G), and blue (B)), and a thin film transistor (TFT element). And a TFT array substrate having a predetermined gap, and a liquid crystal material is injected into the gap. Therefore, this gap is the thickness of the liquid crystal layer itself. If the thickness of the liquid crystal layer is uneven, uneven brightness and color unevenness occur in the color liquid crystal display device, and the display quality is significantly impaired. It is desirable that the thickness of the is as uniform as possible.
[0003]
On the other hand, even if the liquid crystal layer is uniform, there is a fact that the transmittance of visible light varies depending on the color (R, G, B) of the pixel of the color filter. Therefore, in order to obtain a uniform and optimal visible light transmittance, it is necessary to optimize the thickness of the liquid crystal layer for each color (R, G, B).
[0004]
Therefore, a so-called multi-gap color filter has been developed in which the thickness of the colored layer is changed for each color of R, G, and B, and the liquid crystal layer is set to a predetermined thickness for each color.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, for example, when forming a colored layer having a different thickness for each color of R, G, and B as described above by a conventionally known pigment dispersion method, coloring of the photosensitive paint used in forming the smallest colored layer There was a problem that the material content was increased, and background stains, color unevenness, poor adhesion to the substrate, and the like occurred.
[0006]
Further, a colored layer having a uniform thickness is formed, a coating film is formed on the colored layer using a photosensitive resin composition for a protective layer, and the coating film is subjected to gradation exposure so that a transparent film having a desired thickness is obtained. There is a method of forming a protective layer to form a multi-gap color filter. However, when performing gradation exposure of a coating film by using a photomask for gradation exposure, there is a problem that it is difficult to produce a photomask, and when performing gradation exposure of a coating film by step exposure There is a problem that the time required for the exposure process becomes long.
[0007]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a color filter that enables a liquid crystal display device having an optimum liquid crystal layer thickness for each color of the colored layer and having excellent display quality, and the like. An object of the present invention is to provide a production method capable of easily producing a simple color filter.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve such an object, the color filter of the present invention includes a transparent substrate, a colored layer composed of three colors of red, green and blue formed on one surface of the transparent substrate, and at least the colored layer. A transparent protective layer formed thereon, and the size of the ultraviolet transmittance of the colored layer (average value of transmittance for ultraviolet rays in a wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) is colored blue The largest in the layer, the smallest in the red colored layer, the transparent protective layerWas formed by forming a coating film of a photosensitive resin composition so as to cover the colored layer, irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate, exposing, developing and curing the coated film through the colored layer. The thickness of which depends on the amount of ultraviolet light exposure depending on the size of the ultraviolet transmittance of the colored layer,The more transparent protective layer on the colored layer, the larger the UV transmittance.Thickness isThe configuration is large.
[0009]
  Further, the color filter of the present invention includes a transparent substrate, a colored layer formed of one of the three colors red, green and blue formed on one surface of the transparent substrate, and a transparent protective layer formed on at least the colored layer. The size of the ultraviolet ray transmittance of the colored layer (the average value of the transmittance for ultraviolet rays in the wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) is the smallest in the blue colored layer, and the red colored layer In the largest, the transparent protective layerWas formed by forming a coating film of a photosensitive resin composition so as to cover the colored layer, irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate, exposing, developing and curing the coated film through the colored layer. The thickness of which depends on the amount of ultraviolet light exposure depending on the size of the ultraviolet transmittance of the colored layer,The more transparent protective layer on the colored layer, the smaller the UV transmittance.Thickness isThe configuration is large.
[0010]
  Color filter of the present inventionManufacturing methodIsA colored layer composed of three colors of red, green, and blue on a transparent substrate, the size of the ultraviolet transmittance (average value of transmittance for ultraviolet rays in a wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) A first step of forming the coating layer so as to cover the colored layer using the negative photosensitive resin composition for the transparent protective layer, the first step of forming the largest in the blue colored layer and the smallest in the red colored layer The thickness of the coating film is formed by exposing and developing the coating film through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate, and by exposing the developed film to ultraviolet rays according to the ultraviolet transmittance of the colored layer. And a second step of forming a transparent protective layer by curing the coating film after the size of the colored layer having a larger ultraviolet transmittance is increased.The configuration is as follows.
[0011]
  The method for producing a color filter of the present invention is provided on a transparent substrate., Red, green and blueA colored layer consisting ofThe ultraviolet transmittance (average value of transmittance for ultraviolet rays in the wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) is the smallest in the blue colored layer and the largest in the red colored layer.First step to form, for transparent protective layerPositive typeA coating film is formed so as to cover the colored layer using a photosensitive resin composition, and the coating film is exposed and developed through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate, and ultraviolet rays of the colored layer are formed. Large transmittanceSoonDepending on the amount of ultraviolet light exposure,The thickness of the coating film is increased on the colored layer where the UV transmittance is small.Then, it was set as the structure which has the 2nd process of hardening the said coating film and forming a transparent protective layer.
[0012]
In the present invention, the coating film of the photosensitive resin composition for the transparent protective layer formed on the colored layer is exposed by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate and passing through the colored layer. A difference occurs in the exposure amount of the coating film for each color according to the average value of the ultraviolet transmittance in the 360 to 380 nm region of the layer, and a transparent protective layer having a desired thickness for each color by development and curing It is formed.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, exemplary embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.
Color filter of the present invention
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of a liquid crystal display device using a color filter according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a liquid crystal display device 1 has a structure in which a color filter 11 of the present invention and a TFT array substrate 21 are opposed to each other through a liquid crystal layer 31.
[0014]
The color filter 11 of the present invention is formed on a transparent substrate 12, a black matrix (light shielding layer) 13 formed in a predetermined pattern on one surface of the transparent substrate 12, a colored layer 14 composed of a plurality of colors, and the colored layer 14. The transparent protective layer 16 and the transparent conductive film 17 are provided. The colored layer 14 is composed of a red colored layer 14R, a green colored layer 14G, and a blue colored layer 14B. Is different). That is, the magnitude of the ultraviolet transmittance of each color of the colored layer 14 is set to satisfy (1) 14R <14G <14B or (2) 14R> 14G> 14B.
[0015]
The transparent protective layer 16 provided on the colored layer 14 has a thickness corresponding to the magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layers 14R, 14G, and 14B of each color of the colored layer 14. In the illustrated example, the transparent protective layer 16 has the largest thickness of the transparent protective layer 16B on the blue colored layer 14B, and hereinafter, the transparent protective layer 16G on the green colored layer 14G and the transparent protective layer on the red colored layer 14R. The thickness becomes smaller in the order of 16R.
[0016]
On the other hand, the TFT array substrate 21 includes a display electrode 23 connected to a thin film transistor (not shown) on the substrate 22, and the colored layers 14 R, 14 G, and 14 B of the color filter 11 and the corresponding TFT array substrate 21. The display electrodes 23 are aligned so as to face each other.
[0017]
In such a liquid crystal display device 1, the thickness of the liquid crystal layer 31 is not uniform, and is an optimum thickness on each of the colored layers 14R, 14G, and 14B. In the illustrated example, the thickness of the liquid crystal layer 31 is TR, TG, TB corresponding to the thickness of the transparent protective layers 16R, 16G, 16B on the colored layers 14R, 14G, 14B, respectively. The thickness has been optimized. Therefore, the visible light transmittance in the colored layers 14R, 14G, and 14B of each color constituting the pixels of the color filter 11 is uniform and optimal, and the liquid crystal display device 1 having excellent display quality is possible.
[0018]
The transparent substrate 12 constituting the color filter 11 of the present invention has inflexible rigid materials such as quartz glass, pyrex glass and synthetic quartz plate, or has flexibility such as a transparent resin film and an optical resin plate. A flexible material can be used. Among them, Corning 7059 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the active matrix. This is suitable for a color liquid crystal display device for LCDs based on this method.
[0019]
Further, the black matrix 13 formed on the transparent substrate 12 is formed by forming a metal thin film such as chromium having a thickness of about 1000 to 4000 mm by sputtering method, vacuum deposition method or the like, and patterning this thin film, carbon fine particles Forming a resin layer such as polyimide resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol derivative resin, gelatin resin, etc. containing light shielding particles such as, and patterning this resin layer, light shielding properties such as carbon fine particles It may be any one formed by forming a photosensitive resin layer containing particles and patterning the photosensitive resin layer.
[0020]
In the colored layer 14 constituting the color filter 11 of the present invention, the red colored layer 14R, the green colored layer 14G, and the blue colored layer 14B are arranged in a desired pattern such as a mosaic type, a triangle type, a stripe type, or a four-pixel arrangement type. It is a thing. The thickness of the colored layer 14 can be set uniformly for each color in the range of about 0.5 to 3.0 μm. Further, considering the settings of the thicknesses TR, TG, and TB of the liquid crystal layer 31, a difference may be provided in advance in the thicknesses of the colored layers 14R, 14G, and 14B as shown in FIG. In this case, it is necessary to set the thickness of the colored layer within a range in which the content of the coloring material of the photosensitive resin composition to be used is high, and background stains, color unevenness, poor adhesion to the substrate, and the like do not occur.
[0021]
The transparent protective layer 16 constituting the color filter 11 of the present invention is formed using a known negative photosensitive resin or positive photosensitive resin. That is, as described later, when the ultraviolet ray transmittance of each color of the colored layer 14 is (1) 14R <14G <14B, it can be formed using a known negative type transparent photosensitive resin, Further, in the case where the ultraviolet ray transmittance of each color of the colored layer 14 is (2) 14R> 14G> 14B, it can be formed using a known positive type transparent photosensitive resin. The thickness of the transparent protective layer 16 on the colored layer 14 can be set in consideration of the liquid crystal material used, for example, the thickness of the transparent protective layer 16R on the red colored layer 14R is about 0 to 2.0 μm, The thickness of the transparent protective layer 16G on the green colored layer 14G is about 0.2 to 2.5 μm, the thickness of the transparent protective layer 16B on the blue colored layer 14B is about 1.5 to 4.0 μm, and the transparent protective layer 16R The difference in thickness of 16G can be set to about 0.2 to 1.0 μm, and the difference in thickness between the transparent protective layers 16G and 16B can be set to about 0.5 to 1.5 μm.
[0022]
The transparent conductive film 17 is formed of indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof. The thickness of the transparent conductive film 17 is preferably about 200 to 2000 mm.
[0023]
Manufacturing method of color filter of the present invention
Next, the color filter manufacturing method of the present invention will be described using the above-described color filter 11 as an example.
[0024]
FIG. 3 is a process diagram showing an embodiment of a method for producing a color filter of the present invention. In the method for producing a color filter of the present invention, first, as a first step, a red colored layer 14R having a different ultraviolet transmittance for each color, green coloring, on a transparent substrate 12 having a black matrix 13 in a predetermined pattern shape. A colored layer 14 in which the layer 14G and the blue colored layer 14B are arranged is formed (FIG. 3A). The colored layer 14 can be formed, for example, by a pigment dispersion method using a photosensitive resin composition containing a coloring material in a known negative or positive photosensitive resist. The ultraviolet transmittance of each color can be set by adjusting the content of the ultraviolet absorber in the photosensitive resin composition of each color to be used. Examples of the ultraviolet absorber used include benzotriazole-based, benzophenone-based, benzoate-based, salicylic acid ester-based compounds, and cyanoacrylate-based compounds.
[0025]
The magnitude of the ultraviolet transmittance in the colored layer 14 is set so that (1) 14R <14G <14B or (2) 14R> 14G> 14B.
[0026]
In the present invention, since the optimization of the liquid crystal layer thickness is controlled by the thickness of the transparent protective layer, the thickness of the colored layer 14 can be uniformly formed in the range of about 0.5 to 3.0 μm. By providing a slight difference in the thicknesses of the layers 14R, 14G, and 14B, and further controlling the thickness of the transparent protective layer, it is possible to further expand the adaptive range of the liquid crystal layer thickness optimization.
[0027]
Next, as a second step, first, a coating film 15 is formed using a photosensitive resin composition for a transparent protective layer so as to cover the colored layer 14 (FIG. 3B). The photosensitive resin to be used is a negative photosensitive resin when the magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layers 14R, 14G, and 14B is (1) 14R <14G <14B, and the colored layers 14R, 14G, When the ultraviolet transmittance of 14B is (2) 14R> 14G> 14B, it is a positive photosensitive resin. Specifically, the negative photosensitive resin composition includes photopolymerizable and crosslinkable acrylic resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, polyester resins, polyamic acid resins, and the like. One or more light transmissive negative photosensitive resins are used, and antioxidants, surfactants, antifoaming agents, fluorescent whitening agents, ultraviolet absorbers, dispersants, viscosity modifiers and the like are added thereto. The added one can be used. In addition, the positive photosensitive resin composition includes a novolac resin, a polyamic acid resin, a maleimide-styrene copolymer, a mixture of a polyvinylphenol derivative and a photoacid generator, a light transmission of a polyamic acid derivative, etc. 1 type or 2 types or more of a positive active photosensitive resin was added, and an antioxidant, a surfactant, an antifoaming agent, a fluorescent brightening agent, an ultraviolet absorber, a dispersant, a viscosity modifier, etc. were added thereto. Things can be used.
[0028]
The thickness of the coating film 15 is uniform, and the thickness of the coating film 15 can be set in consideration of the final shape of the transparent protective layer 16 having a desired thickness for each of the colored layers 14R, 14G, and 14B of each color. For example, it can set in the range of about 1.0-7.0 micrometers.
[0029]
Next, ultraviolet rays are irradiated from the back surface of the transparent substrate 12, and the coating film 15 is exposed through the colored layer 14 (FIG. 3C). Thereby, the coating film 15 is exposed with the exposure amount according to the magnitude | size of the ultraviolet-ray transmittance of colored layer 14R, 14G, 14B. That is, when the ultraviolet ray transmittance of the colored layers 14R, 14G, and 14B is {circle around (1)} 14R <14G <14B, the negative photosensitive coating film 15 has the maximum exposure on the blue colored layer 14B. The exposure amount is minimized on the red colored layer 14R. Further, when the ultraviolet ray transmittance of the colored layers 14R, 14G, 14B is (2) 14R> 14G> 14B, the exposure amount of the positive photosensitive coating film 15 is minimized on the blue colored layer 14B, The exposure amount is maximized on the red colored layer 14R. Therefore, the thickness of the transparent protective layer 16 formed by the development and curing treatment after exposure is the largest in the thickness of the transparent protective layer 16B on the blue colored layer 14B, and hereinafter, the transparent protective layer 16G on the green colored layer 14G. The thickness becomes smaller in the order of the transparent protective layer 16R on the red colored layer 14R (FIG. 3D). The thicknesses of the transparent protective layers 16R, 16G, and 16B on the colored layers 14R, 14G, and 14B of the respective colors are, for example, in the range of 0 to 1.5 μm for the transparent protective layer 16R and 0.5 to 2.0 μm for the transparent protective layer 16G. The transparent protective layer 16B can be set in the range of 1.0 to 2.5 μm.
[0030]
Then, using the indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), etc., and their alloys on the transparent protective layer 16, well-known methods such as vapor deposition, sputtering, CVD, etc. The transparent conductive film 17 is formed in a predetermined pattern by the method (FIG. 3E). Thereby, the color filter 11 is obtained.
[0031]
【Example】
Next, an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail.
[0032]
(Example 1) First, a chromium thin film (thickness 1000 mm) was formed on a glass substrate (Corning Corp. 7059 glass 0.7 mm thick) by a vacuum deposition method, and photosensitive by a spin coating method on this chromium thin film. A resist (OFPR800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied and dried. Next, the photosensitive resist layer was exposed and developed through a black matrix photomask to form a resist pattern. Using this resist pattern as a mask, the chromium thin film was etched, and the resist pattern was peeled and removed to form a black matrix. . The etching solution used was an aqueous solution in which ceric ammonium nitrate and perchloric acid were mixed.
[0033]
On the other hand, photosensitive resin compositions R1, G1, and B1 for colored layers having the following compositions were prepared using a base photosensitive resin having the following composition. These photosensitive resin compositions R1, G1, and B1 have an ultraviolet transmittance magnitude (average value of ultraviolet transmittance in a region of 360 to 380 nm) of R1 <by adjusting the addition amount of the ultraviolet absorber. G1 <B1 was set.
[0034]
Composition of base photosensitive resin
・ O-cresol novolac epoxy acrylate ... 9.5 parts by weight
(50% of hydroxyl groups reacted with phthalic anhydride)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate: 9.5 parts by weight
(DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ Irgacure 907 (Ciba Geigy) 1 part by weight
・ Irgacure 369 (Ciba Geigy)… 2 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 80 parts by weight
・ Benzophenone: 1 part by weight
Red photosensitive resin composition R1
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 85 parts by weight
・ Chromophthaled BRN (Ciba Geigy)… 10 parts by weight
・ UV absorber: 5 parts by weight
2-Ethylhexyl-2cyano-3,3'-diphenyl acrylate
Green photosensitive resin composition G1
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Lionol Green 2Y-301: 8 parts by weight
(Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
・ UV absorber: 2.5 parts by weight
2-Ethylhexyl-2cyano-3,3'-diphenyl acrylate
Blue photosensitive resin composition B1
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Chromophthal blue A3R (Ciba Geigy)… 12 parts by weight
[0035]
Next, the photosensitive resin composition B1 is applied onto the glass substrate by a spin coating method (rotation speed: 600 rpm), dried, exposed through a photomask for a blue colored layer, developed, and colored blue. A layer (thickness 1.5 μm) was formed. Similarly, a green colored layer and a red colored layer were formed using the photosensitive resin composition G1 and the photosensitive resin composition R1 (corresponding to FIG. 3A). In addition, the photosensitive area | region of the initiator contained in the photosensitive resin composition of each said color is about 405 nm.
[0036]
The blue colored layer B, the green colored layer G, and the red colored layer R thus formed were measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer for the average transmittance of ultraviolet light in the wavelength range of 360 to 380 nm. = 5.0 to 5.5%, green colored layer G = 2.5 to 3.0%, red colored layer R = 1.0% or less.
[0037]
Next, a negative photosensitive composition for a transparent protective layer having the following composition was prepared, applied on a glass substrate on which a colored layer had been formed by spin coating (rotation speed: 500 rpm), and dried at 100 ° C. for 5 minutes. Thus, a coating film was formed (corresponding to FIG. 3B).
[0038]
Photosensitive composition for protective layer
・ Dipentaerythritol hexaacrylate: 40 parts by weight
(DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ Methyl methacrylate / methacrylic acid
/ Benzyl methacrylate copolymer: 40 parts by weight
・ Irgacure 907 (Ciba Geigy) ... 20 parts by weight
・ 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'
-Tetraphenylbisimidazole ... 10 parts by weight
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate: 250 parts by weight
[0039]
Next, using a super high pressure mercury lamp from the back surface of the glass substrate, ultraviolet light of 365 nm is 300 mJ / cm.2 Irradiated, and the coating film was exposed through the colored layer (corresponding to FIG. 3C). Thereafter, development is carried out by immersing in a developer prepared by adding a surfactant to a 0.1 wt% aqueous solution of sodium carbonate for 1 minute to remove the uncured portion of the coating film, and then heat treatment at 200 ° C. for 60 minutes To form a transparent protective layer (corresponding to FIG. 3D). The thickness of the transparent protective layer was 2.0 μm on the blue colored layer, 1.0 μm on the green colored layer, and 0.3 μm on the red colored layer. Next, a transparent conductive layer made of ITO (thickness 1000 mm) was formed on the transparent protective layer by a sputtering method to obtain a color filter (corresponding to FIG. 3E).
[0040]
This color filter was a good one without background stains, color unevenness, poor adhesion between the glass substrate and the colored layer, and the like.
[0041]
Further, using the above color filter, the liquid crystal layer has a thickness of 3.7 μm on the blue colored layer, 4.7 μm on the green colored layer, and 5.4 μm on the red colored layer, as shown in FIG. A display device was produced. The display quality of this liquid crystal display device was excellent.
[0042]
(Example 2) In the same manner as in Example 1, a black matrix was formed on a glass substrate (Corning Corporation 7059 glass thickness 0.7 mm).
In addition, using the same base photosensitive resin as in Example 1, photosensitive resin compositions R2, G2, and B2 for the colored layers having the following compositions were prepared. These photosensitive resin compositions R2, G2, and B2 have an ultraviolet transmittance magnitude (average value of ultraviolet transmittance in a region of 360 to 380 nm) of R2> by adjusting the addition amount of the ultraviolet absorber. G2> B2 was set.
[0043]
Red photosensitive resin composition R2
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 85 parts by weight
・ Chromophthaled BRN (Ciba Geigy)… 10 parts by weight
Green photosensitive resin composition G2
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Lionol Green 2Y-301: 8 parts by weight
(Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
・ UV absorber: 2.5 parts by weight
2-Ethylhexyl-2cyano-3,3'-diphenyl acrylate
Blue photosensitive resin composition B2
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Chromophthal blue A3R (Ciba Geigy) 15 parts by weight
・ UV absorber: 10 parts by weight
2-Ethylhexyl-2cyano-3,3'-diphenyl acrylate
[0044]
Next, the photosensitive resin composition B2 is applied onto the glass substrate by a spin coating method (rotation speed: 600 rpm), dried, exposed through a photomask for a blue colored layer, developed, and colored blue. A layer (thickness 1.5 μm) was formed. Similarly, a green colored layer and a red colored layer were formed using the photosensitive resin composition G2 and the photosensitive resin composition R2 (corresponding to FIG. 3A).
[0045]
About the blue colored layer B, the green colored layer G, and the red colored layer R thus formed, the average transmittance for ultraviolet rays in the wavelength range of 360 to 380 nm was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the blue colored layer B = It was 0.5% or less, the green colored layer G = 10 to 11%, and the red colored layer R = 22 to 23%.
[0046]
Next, a positive photosensitive composition for a transparent protective layer having the following composition was prepared, applied on a glass substrate on which a colored layer had been formed by spin coating (rotation speed: 500 rpm), and dried at 120 ° C. for 4 minutes. Thus, a coating film was formed (corresponding to FIG. 3B).
[0047]
Photosensitive coating liquid for protective layer
・ Protected with t-butoxycarbonyl group (t-BOC)
Polyvinylphenol resin: 10 parts by weight
・ Hexamethoxymethylolated melamine: 10 parts by weight
・ Ethyl lactate: 50 parts by weight
Photoacid generator (TAZ-104 manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate: 150 parts by weight
[0048]
Next, ultraviolet rays of 365 nm are applied from the back surface of the glass substrate to 500 mJ / cm using an ultrahigh pressure mercury lamp.2 Irradiated, and the coating film was exposed through the colored layer (corresponding to FIG. 3C). Thereafter, development is carried out by immersing in a developer prepared by adding a surfactant to 1.0% by weight of a potassium hydroxide aqueous solution for 1.5 minutes, and further, ultraviolet irradiation (300 mJ / cm2) is performed on the entire surface using a low-pressure mercury lamp.2 After that, a transparent protective layer was formed by performing a heat treatment at 200 ° C. for 60 minutes (corresponding to FIG. 3D). The thickness of the transparent protective layer was 1.7 μm on the blue colored layer, 0.7 μm on the green colored layer, and 0.05 μm on the red colored layer. Next, an ITO transparent conductive film (thickness 1000 mm) was formed on the transparent protective layer by a sputtering method to obtain a color filter (corresponding to FIG. 3E).
[0049]
This color filter was a good one without background stains, color unevenness, poor adhesion between the glass substrate and the colored layer, and the like.
[0050]
Further, using the above color filter, the liquid crystal layer has a thickness of 3.7 μm on the blue colored layer, 4.7 μm on the green colored layer, and 5.4 μm on the red colored layer, as shown in FIG. A display device was produced. The display quality of this liquid crystal display device was excellent.
[0051]
(Comparative example)
First, using the same base photosensitive resin as in Example 1, photosensitive resin compositions R ′, G ′, and B ′ for colored layers having the following compositions were prepared.
[0052]
Red photosensitive resin composition R ′
・ Base photosensitive resin: 50 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 85 parts by weight
・ Chromophthaled BRN (Ciba Geigy)… 10 parts by weight
Green photosensitive resin composition G ′
・ Base photosensitive resin: 75 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Lionol Green 2Y-301: 8 parts by weight
(Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
Blue photosensitive resin composition B ′
・ Base photosensitive resin: 100 parts by weight
・ Ethyl cellosolve acetate: 50 parts by weight
・ Giglime: 35 parts by weight
・ Chromophthal blue A3R (Ciba Geigy)… 12 parts by weight
[0053]
Next, the photosensitive resin composition B ′ is applied on a glass substrate (Corning Co., Ltd. 7059 glass, thickness 0.7 mm) by spin coating (rotation speed: 400 rpm) and dried to give a photo for blue coloring. It was exposed through a mask and developed to form a blue colored layer (thickness 3.2 μm). Similarly, a green colored layer (thickness: 2.2 μm) and a blue colored layer (thickness: 1.5 μm) are formed using the photosensitive resin composition G ′ and the photosensitive resin composition R ′, and the thickness is determined for each color. A colored layer having a different structure was formed.
[0054]
Next, a protective layer coating solution having the following composition is applied by a spin coating method (rotation speed: 700 rpm) and dried. Next, using an ultrahigh pressure mercury lamp through a photomask, a colored layer forming region and its 100mJ / cm of ultraviolet rays only at the periphery2 Irradiated.
[0055]
Coating liquid for protective layer
・ Dipentaerythritol hexaacrylate: 40 parts by weight
(DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ Methyl methacrylate / methacrylic acid
/ Benzyl methacrylate copolymer: 40 parts by weight
・ Irgacure 907 (Ciba Geigy) ... 20 parts by weight
・ 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'
-Tetraphenylbisimidazole ... 10 parts by weight
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate: 400 parts by weight
[0056]
Thereafter, development was performed by immersing in a developer prepared by adding a surfactant to a 0.1% by weight aqueous solution of sodium carbonate for 1.5 minutes, followed by heat treatment at 200 ° C. for 60 minutes to form a transparent protective layer. . An ITO transparent conductive film (thickness 1000 mm) was formed on the transparent protective layer by sputtering to obtain a color filter for comparison.
[0057]
This color filter is not suitable for use as a color filter for a liquid crystal display device, particularly due to the thickening of the blue colored layer, resulting in color unevenness due to deterioration of the film thickness distribution and poor adhesion to the glass substrate. It was a thing.
[0058]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, the color filter comprises a colored layer having a plurality of colors having different ultraviolet transmittances for each color on one surface of the transparent substrate, and at least a transparent protection formed on the colored layer. And the thickness of the transparent protective layer differs depending on the color of the colored layer corresponding to the magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layer, and a liquid crystal display device manufactured using such a color filter Then, the optimal thickness of the liquid crystal layer can be set for each color of the colored layer, and a liquid crystal display device having excellent display quality is possible. In the color filter of the present invention, a colored layer composed of a plurality of colors having different ultraviolet transmittances for each color is formed on the transparent substrate in the first step, and a photosensitive resin composition for the transparent protective layer in the second step. A coating film is formed so as to cover the colored layer using an object, ultraviolet rays are irradiated from the back surface of the transparent substrate, the coating film is exposed and developed through the colored layer, and according to the magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layer The coating film is made to have a desired thickness for each color, and then the coating film is cured to form a transparent protective layer. In addition, a photomask for gradation exposure and a complicated exposure process are unnecessary, and a color filter can be easily manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of a liquid crystal display device using a color filter according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing another embodiment of the color filter of the present invention.
FIG. 3 is a process diagram showing an embodiment of a method for producing a color filter of the present invention.
[Explanation of symbols]
1. Liquid crystal display device
11. Color filter
12 ... Transparent substrate
13. Black matrix
14 (14R, 14G, 14B) ... colored layer
15 ... Coating film for transparent protective layer
16 ... Transparent protective layer
17 ... Transparent conductive film
31 ... Liquid crystal layer

Claims (4)

透明基板と、該透明基板の一方の面に形成された赤色、緑色および青色の3色からなる着色層と、少なくとも該着色層上に形成された透明保護層とを備え、
前記着色層の紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)は、青色着色層において最も大きく、赤色着色層において最も小さく、
前記透明保護層は前記着色層を覆うように感光性樹脂組成物の塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像、硬化して形成されたものであって、その厚みは前記着色層の紫外線透過率の大きさに依存する紫外線の露光量に応じ、紫外線透過率の大きさが大きい着色層上の透明保護層ほど厚みが大きいことを特徴とするカラーフィルタ。
A transparent substrate, a colored layer composed of three colors of red, green and blue formed on one surface of the transparent substrate, and at least a transparent protective layer formed on the colored layer,
The magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layer (the average value of the transmittance with respect to ultraviolet rays in a wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) is the largest in the blue colored layer and the smallest in the red colored layer,
The transparent protective layer forms a coating film of a photosensitive resin composition so as to cover the colored layer, and the coating film is exposed, developed, and cured through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate. be those formed Te, the thickness and the thickness thereof depending on the exposure of ultraviolet light depends on the size of the ultraviolet transmittance of the colored layer, the more transparent protective layer is large colored layer size of UV transmittance Color filter characterized by being large.
透明基板と、該透明基板の一方の面に形成された赤色、緑色および青色の3色からなる着色層と、少なくとも該着色層上に形成された透明保護層とを備え、
前記着色層の紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)は、青色着色層において最も小さく、赤色着色層において最も大きく、
前記透明保護層は前記着色層を覆うように感光性樹脂組成物の塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像、硬化して形成されたものであって、その厚みは前記着色層の紫外線透過率の大きさに依存する紫外線の露光量に応じ、紫外線透過率の大きさが小さい着色層上の透明保護層ほど厚みが大きいことを特徴とするカラーフィルタ。
A transparent substrate, a colored layer composed of three colors of red, green and blue formed on one surface of the transparent substrate, and at least a transparent protective layer formed on the colored layer,
The magnitude of the ultraviolet transmittance of the colored layer (the average value of the transmittance for ultraviolet rays in the wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) is the smallest in the blue colored layer and the largest in the red colored layer,
The transparent protective layer forms a coating film of a photosensitive resin composition so as to cover the colored layer, and the coating film is exposed, developed, and cured through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate. be those formed Te, the thickness and the thickness thereof depending on the exposure of ultraviolet light depends on the size of the ultraviolet transmittance of the colored layer, the more transparent protective layer on the colored layer small size of the UV transmittance Color filter characterized by being large.
透明基板上に、赤色、緑色および青色の3色からなる着色層を、その紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)が、青色着色層において最も大きく、赤色着色層において最も小さくなるように形成する第1の工程、
透明保護層用のネガ型感光性樹脂組成物を用いて前記着色層を覆うように塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像し、着色層の紫外線透過率の大きさに応じた紫外線の露光量により、塗布膜の厚みを紫外線透過率の大きさが大きい着色層上ほど大きくなるようにした後、前記塗布膜を硬化させて透明保護層を形成する第2の工程、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
A colored layer composed of three colors of red, green, and blue on a transparent substrate, the size of the ultraviolet transmittance (average value of transmittance for ultraviolet rays in a wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) A first step of forming the largest in the blue colored layer and the smallest in the red colored layer,
A coating film is formed so as to cover the colored layer using a negative photosensitive resin composition for a transparent protective layer, and the coating film is exposed through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate. Develop and cure the coating film after increasing the thickness of the coating film on the colored layer having a large ultraviolet transmittance by the exposure amount of the ultraviolet light according to the ultraviolet transmittance of the colored layer. And a second step of forming a transparent protective layer. A method for producing a color filter, comprising:
透明基板上に、赤色、緑色および青色の3色からなる着色層を、その紫外線透過率の大きさ(紫外可視分光光度計で測定した360〜380nmの波長域の紫外線に対する透過率の平均値)が、青色着色層において最も小さく、赤色着色層において最も大きくなるように形成する第1の工程、
透明保護層用のポジ型感光性樹脂組成物を用いて前記着色層を覆うように塗布膜を形成し、透明基板の裏面から紫外線を照射して前記着色層を介して前記塗布膜を露光、現像し、着色層の紫外線透過率の大きさに応じた紫外線の露光量により、塗布膜の厚みを紫外線透過率の大きさが小さい着色層上ほど大きくなるようにした後、前記塗布膜を硬化させて透明保護層を形成する第2の工程、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
A colored layer composed of three colors of red, green, and blue on a transparent substrate, the size of the ultraviolet transmittance (average value of transmittance for ultraviolet rays in a wavelength range of 360 to 380 nm measured with an ultraviolet-visible spectrophotometer) A first step of forming the smallest in the blue colored layer and the largest in the red colored layer,
Forming a coating film so as to cover the colored layer using a positive photosensitive resin composition for a transparent protective layer, exposing the coating film through the colored layer by irradiating ultraviolet rays from the back surface of the transparent substrate, Develop and cure the coating film after increasing the thickness of the coating film on the colored layer having a smaller ultraviolet transmittance by the amount of ultraviolet light exposure corresponding to the ultraviolet transmittance of the colored layer. And a second step of forming a transparent protective layer. A method for producing a color filter, comprising:
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