JP4444632B2

JP4444632B2 - 光学用フィルム

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Publication number: JP4444632B2
Application number: JP2003381436A
Authority: JP
Inventors: 悟所司; 有記本郷; 秀男妹尾
Original assignee: Lintec Corp
Current assignee: Lintec Corp
Priority date: 2003-11-11
Filing date: 2003-11-11
Publication date: 2010-03-31
Anticipated expiration: 2023-11-11
Also published as: DE602004010990T2; CN1616989A; DE602004010990D1; US20050238879A1; EP1531167A1; TW200524730A; JP2005144699A; KR101051226B1; US7655308B2; TWI303606B; CN100368827C; KR20050045873A; EP1531167B1

Description

本発明は光学用フィルムに関し、さらに詳しくは、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制されると共に、耐擦傷性及び耐クラック性に優れ、かつ基材フィルムのカールを抑制することができ、例えばタッチパネル用や、偏光板、１／４波長板用として、あるいは光ディスクのカバーフィルムや各種ディスプレイの保護フィルムなどとして好適な、ハードコート機能を有する光学用フィルムに関するものである。

近年、市場が増大している携帯用の情報端末への入力装置として、タッチパネルが利用されている。このタッチパネルは、ディスプレイ画面を直接指、ペンなどで触れることによってデータを入力する装置である。
上記タッチパネルは、現在約９割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明プラスチック基材の片面に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜などの透明導電性薄膜を積層したタッチ側プラスチック基板と、ガラスなどの透明基材の片面にＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜を積層したディスプレイ側透明基板とを、絶縁スペーサを介して、各透明導電性薄膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。
そして、入力は、ペンや指でタッチ側プラスチック基板のタッチ入力面（透明導電性薄膜側とは反対側の面をいう。）を押圧し、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜と、ディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜とを接触させて行う。
しかしながら、このような抵抗膜方式タッチパネルにおいては、入力操作を繰り返すことにより、すなわちタッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜との接触を繰り返すことにより、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜が摩耗したり、クラックが発生したり、さらには基材から剥離してしまうなどの問題が生じる。そこで、このような問題を解決するために、一般に透明プラスチック基板と透明導電性薄膜との間に、硬化樹脂からなるハードコート層を設けることが行われている。また、該透明プラスチック基板の透明導電性薄膜とは反対側の表面にもハードコート層を設けることが、よく行われている。
一方、近年、情報記録媒体としての光ディスクの発展はめざましく、すでに、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭのような情報読み出し専用のディスクや、ＭＯＤあるいはＭＤと呼ばれる光磁気ディスク、ＰＤと呼ばれる相変化ディスク、ＣＤ−Ｒと呼ばれる書き込み可能な光ディスクが広く使用されている。これらの光ディスクの記録容量は６５０ＭＢ（メガバイト）程度であるが、さらに記録容量の大きなＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）と呼ばれる一連の光ディスク、具体的にはＤＶＤ−ＲＯＭ（読み出し専用型ＤＶＤ）、ＤＶＤ−Ｒ（追記型ＤＶＤ）、ＤＶＤ−ＲＡＭ（書き込み・読み出し型ＤＶＤ）、ＤＶＤ−ＲＷ（書き換え型ＤＶＤ）などのＤＶＤシリーズが開発されている。これらの光ディスクにおいては、保護フィルムやカバーフィルムとして、ハードコートフィルムを用いることがよく行われている。
また、近年、液晶表示装置を備えた様々な機器、例えばラップトップ型コンピュータ、ビデオカメラ、携帯電話などの民生用機器を始め、自動車や航空機のインパネ用ディスプレイ、液晶プロジェクターなどが普及してきており、これに伴い、カラー表示化、高輝度化、耐久性の向上などが要求されている。
この液晶表示装置は、入射した直線偏光を液晶層のもつ電気光学特性で変調し、出射側の偏光板で透過率の強弱や着色の信号として可視化する装置である。すなわち、偏光をその表示の原理に用いているため、偏光板は必須の部材である。該偏光板は自然光を直線偏光に変える素子であり、現在、特に液晶表示装置用に量産実用化されている偏光板の多くは、ポリビニルアルコールフィルムからなる基材フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性材料を、染色・吸着させ、延伸配向させてなる偏光フィルムの両面あるいは片面に、光学的に透明で、かつ機械的強度を有する保護膜を貼り合わせたものが用いられている。そして、上記保護膜としては、通常トリアセチルセロルースフィルムが使用される。
液晶表示装置においては、前記偏光板は、液晶層の出射側以外に、通常入射側にも設けられている。該偏光板が、液晶表示装置を始め、各種表示装置の表面側に設けられる場合、特に十分な耐擦傷性や硬度が要求され、また耐汚染性を有することが望ましい。
さらに、この液晶表示装置においては、通常光源からの出射光を円偏光部材により円偏光化し、それを１／４波長板を介して直線偏光化して偏光板に供給されている。そして、前記１／４波長板に対してハードコートフィルムを設けることも行われている。
他方、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、ＣＲＴ（ブラウン管）、ＬＣＤ（液晶表示装置）、ＥＬＤ（エレクトロルミネッセンス素子）などの各種ディスプレイにおいては、画面に外部から光が入射し、この光が反射して表示画像を見ずらくすることがあり、特に近年、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、上記問題を解決することが、ますます重要な課題となってきている。
このような問題を解決するために、これまで種々のディスプレイに対して、様々な反射防止処置や防眩処置がとられている。その一つとして反射防止フィルムを各種のディスプレイに使用することが行われている。この反射防止フィルムには、反射防止性能と共に、ハードコート性能、すなわち表面の耐擦傷性が要求されている。
該反射防止フィルムは、蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質（ＭｇＦ₂）を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質（ＩＴＯ、ＴｉＯ₂など）と屈折率の低い物質（ＭｇＦ₂、ＳｉＯ₂など）を交互に積層する方法、あるいはウェットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止性能を有するハードコートフィルムを作製することが行われている。ウェットプロセス法としては、例えば、耐候性に優れるアクリル系樹脂フィルムを基材として用い、これに電離放射線感応型樹脂組成物の硬化層を設けたのち、反射防止処理を施し、携帯電話やＰＤＡ（携帯情報端末）、ビデオカメラ等の液晶表示装置などの保護フィルムとして用いられている。
また、液晶表示装置においては、前記偏光板保護膜面に反射防止層を設ける加工処理を施すことも試みられている。
このようなタッチパネル用や、偏光板、１／４波長板用として、あるいは光ディスクのカバーフィルムや、各種ディスプレイの表面保護フィルム等として用いられる光学用ハードコートフィルムにおいては、表面硬度が高くて耐擦傷性に優れると共に、干渉縞の発生が少なく、かつ低カール性が要求されると共に、良好な視認性や操作性などを確保するために、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥の少ないものが要求される。
従来、光学用ハードコートフィルムを作製する際には、その要求物性を満たすように、ハードコート層の厚み設定が行われるが、実際には基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥を減少させるべく、必要膜厚以上のハードコート層を形成する必要があった。そのため、ハードコート剤の体積収縮により、ハードコートフィルムのカールが増大して、ハンドリング適性が低下したり、あるいはクラックが発生しやすくなるなどの問題が生じていた。そこで、このカールを低減させるために、ベース（基材）フィルム面から紫外線を照射する方法などが提案されているが（例えば、特許文献１参照）、カールを低減させる効果が不十分である上、ハードコート層を十分に硬化させるには、紫外線照射量や照射時間の増大が必要になるなどの問題があった。
特開２００１−２０５１７９号公報

本発明は、このような事情のもとで、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制されると共に、耐擦傷性及び耐クラック性に優れ、かつ基材フィルムのカールを抑制することができ、例えばタッチパネル用や、偏光板、１／４波長板用として、あるいは光ディスクのカバーフィルムや各種ディスプレイの保護フィルムなどとして好適な、ハードコート機能を有する光学用フィルムを提供することを目的としてなされたものである。

本発明者らは、前記の優れた特性を有する光学用フィルムを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、基材フィルムの一方の面に、硬化収縮の小さい特定の組成の硬化樹脂層を所定の厚さで設け、その上に電離放射線による硬化樹脂を含む所定の厚さのハードコート層を設けることにより、あるいは、該ハードコート層の上に、さらに反射防止層を設けることにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）基材フィルムの一方の表面に、（Ａ）重量平均分子量５,０００〜３５,０００の２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー硬化樹脂７０重量％以上の厚さ５〜２５μｍの硬化樹脂層、及び（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ１〜１５μｍのハードコート層を順次積層することを特徴とする光学用フィルム、
（２）（Ｂ）層上に、さらに（Ｃ）少なくとも１層からなる反射防止層を積層してなる(１)に記載の光学用フィルム、
（３）基材フィルムが、アセチルセルロース系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、環状ポリオレフィン系フィルム、アクリル樹脂系フィルム又はポリエステル系フィルムである(１)又は(２)に記載の光学用フィルム、
（４）（Ｂ）層のハードコート層が、屈折率１.４９〜１.６５である(１)ないし(３)のいずれかに記載の光学用フィルム、
（５）基材フィルムの他方の面に、厚さ１〜４０μｍの粘着剤層を設けてなる(１)ないし(４)のいずれかに記載の光学用フィルム、
（６）基材フィルムの一方の表面に、（Ａ）重量平均分子量５,０００〜３５,０００の２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー硬化樹脂７０重量％以上の厚さ５〜２５μｍの硬化樹脂層、及び（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ１〜１５μｍのハードコート層を順次積層することによって、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥を抑制することを特徴とする光学用フィルムの製造方法、及び
（７）光学用フィルムから１００ｍｍ×１００ｍｍサイズの試験片を切り出し、試験片の下地に黒板を置いて、目視によって反射検査を行い、目視によって検出された表面欠陥部分にマーキングを施し、次にマーキングした目視の表面欠陥を顕微鏡によって観察して、試験片に付着している異物に起因する表面欠陥を検出して、該異物に起因する表面欠陥の数を全ての目視の表面欠陥の数から差し引いた数を表面欠陥数とする試験において、表面欠陥数を１以下に抑制する(６)記載の光学用フィルムの製造方法、
を提供するものである。

本発明によれば、基材フィルムの一方の面に、硬化収縮の極めて小さい２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー由来の硬化樹脂を主体とする硬化樹脂層を設けることにより、その上に設けるハードコート層の厚さを、従来よりも薄くしても、光学用ハードコートフィルムとしての目標物性が得られると共に、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制され、歩留りが向上した光学用ハードコートフィルムを提供することができる。また、この光学用ハードコートフィルムは、ハードコート層の厚さが薄いことから、良好な耐クラック性及び低カール性を有している。

本発明の光学用フィルムは、基材フィルムの一方の面に、（Ａ）硬化収縮の極めて小さい硬化樹脂層及び（Ｂ）ハードコート層を順次設けてなる積層フィルムである。
本発明の光学用フィルムにおける基材フィルムとしては、例えばジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルムなどのアセチルセルロース系フィルム；ポリカーボネート系フィルム；環状ポリオレフィン系フィルム；アクリル樹脂系フィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムなどのポリエステル系フィルム；ポリスルホン系フィルム；ポリエーテルスルホン系フィルム；ポリエーテルエーテルケトン系フィルム；ポリイミド系フィルム；ポリエーテルイミド系フィルムなどの透明プラスチックフィルムが用いられる。これらの基材フィルムの中で、光線透過率などの光学特性、加工性、機械物性、低吸水率、耐熱性、耐候性などの面から、アセチルセルロース系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、環状ポリオレフィン系フィルム、アクリル樹脂系フィルム及びポリエステル系フィルムが好ましく、特にトリアセチルセルロースフィルム、ポリカーボネート系フィルム、環状ポリオレフィン系フィルム、アクリル樹脂系フィルム及びポリエチレンテレフタレートフィルムが好適である。これらの基材フィルムは、光学用フィルムの用途に応じて適宜選択することができる。

これらの基材フィルムは、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。例えば液晶表示装置の保護用として用いる場合には、無色透明のフィルムが好適である。
これらの基材フィルムの厚さは特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常１５〜３００μｍ、好ましくは３０〜２５０μｍの範囲である。また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に各種表面処理を施すことができる。また、プライマー処理を施すこともできる。上記表面処理としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが用いられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
これらの基材フィルムは、通常その製膜時に表面に微小な凹凸が形成されることが多いが、本発明の光学用フィルムにおいては、この基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制されるので、表面の凹凸が多い基材フィルムに対して、本発明の効果が有効に発揮される。

本発明の光学用フィルムにおいては、前記基材フィルムの一方の面に、（Ａ）層として、硬化収縮の極めて小さい硬化樹脂層が設けられる。該硬化樹脂層は、重量平均分子量３,０００以上の２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー由来の硬化樹脂７０重量％以上を含む層であり、その厚さは５〜２５μｍ、好ましくは５〜２０μｍの範囲で選定される。
前記２官能ウレタンアクリレート系オリゴマーの重量平均分子量が３,０００未満では硬化収縮が大きくなるため、得られる光学用フィルムのカールを抑制することができない。また、重量平均分子量が高すぎると形成される硬化樹脂層が軟らかくなり、得られる光学用フィルムのハードコート機能が低下したり、表面欠陥の抑制効果が十分に発揮できなくなるおそれが生じる。したがって、２官能ウレタンアクリレート系オリゴマーの重量平均分子量は３,０００〜５０,０００が好ましく、より好ましくは５,０００〜３５,０００、さらに好ましくは５,０００〜２５,０００の範囲である。なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定したポリスチレン換算の値である。
本発明においては、当該（Ａ）層の硬化樹脂層中に、前記２官能ウレタンアクリレートオリゴマー由来の硬化樹脂が７０重量％以上含まれていれば、本発明の効果が十分に発揮されるが、該硬化樹脂の好ましい含有量は８０重量％以上であり、より好ましくは９０重量％以上である。

前記２官能ウレタンアクリレート系オリゴマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応により得られるポリウレタンオリゴマーを(メタ)アクリル酸でエステル化してなるウレタンアクリレート系オリゴマーの中から、２官能のものを選択することにより、得ることができる。
本発明においては、当該（Ａ）層の硬化樹脂層中には、前記２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー由来の硬化樹脂以外に、３０重量％以下、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１０重量％以下の割合で、他の硬化樹脂を含むことができる。この他の硬化樹脂としては、例えば重合性オリゴマーや重合性モノマー由来の硬化樹脂、あるいは熱硬化性樹脂などを挙げることができる。
重合性オリゴマーとしては、例えば３官能以上のウレタンアクリレート系オリゴマー、さらにはポリエステルアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート系オリゴマー、ポリオールアクリレート系オリゴマーなどが挙げられる。一方、重合性モノマーとしては、例えば単官能(メタ)アクリレート系モノマー、多官能(メタ)アクリレート系モノマーなどが挙げられる。

ここで、ポリエステルアクリレート系オリゴマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系オリゴマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系オリゴマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの重合性オリゴマーは１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

一方、単官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、シフロヘキシル(メタ)アクリレート、２−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレートなどの中から少なくとも１種を適宜選択して用いることができる。
また、多官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば１,４−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの中から、少なくとも１種を適宜選択して用いることができる。

さらに、前記熱硬化性樹脂は、後で示すように、硬化システムが熱硬化である場合に用いられる樹脂であって、例えば炭素−炭素二重結合やグリシジル基を有するアクリレート系重合体、不飽和ポリエステル、イソプレン重合体、ブタジエン重合体、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
当該（Ａ）層の硬化樹脂層は、電離放射線による硬化システム及び熱硬化システムのいずれも用いることができるが、操作性、硬化収縮性、基材フィルムに対する影響などを考慮すると電離放射線による硬化システムが好ましい。なお、ここで電離放射線による硬化システムとは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを照射することによって、架橋、硬化させるシステムを指す。

当該（Ａ）層である硬化樹脂層の形成に、電離放射線硬化システムを採用する場合には、まず、（Ａ）層形成用の電離放射線感応型樹脂組成物を調製する。この電離放射線感応型樹脂組成物においては、硬化樹脂形成成分として、２官能ウレタンアクリレート系オリゴマーと、必要に応じて前記の重合性オリゴマーや重合性モノマー（単官能(メタ)アクリレート系モノマー、多官能(メタ)アクリレート系モノマーなど）等が前記の割合で用いられる。また、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、光重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、レベリング剤、消泡剤などの各種添加成分を含有させることができる。

光重合開始剤としては、ラジカル重合型に対して、従来用いられている公知のもの、例えばアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルアセタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシロキシムエステル類などのアリールケトン系光重合開始剤、スルフィド類、チオキサントン類などの含硫黄系光重合開始剤、アシルジアリールホスフィンオキシドなどのアシルホスフィンオキシド類、アントラキノン類、その他光重合開始剤の中から、任意のものを、１種又は２種以上適宜選択して使用することができる。
なお、電子線硬化型の場合には、この光重合開始剤は用いなくてもよい。
前記光重合開始剤の配合量は、全光硬化成分１００重量部に対して、通常０.２〜１０重量部、好ましくは０.５〜７重量部の範囲で選ばれる。
光増感剤としては、例えば第三級アミン類、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル、チオール系増感剤などを用いることができる。なお、電子線硬化型の場合は、この光増感剤は、用いなくてもよい。
光増感剤の配合量は、全光硬化成分１００重量部に対して、通常１〜２０重量部、好ましくは２〜１０重量部の範囲で選ばれる。
また、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤としては、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、特に分子内に(メタ)アクリロイル基などを有する反応型の酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤を用いるのが有利である。この場合、電離放射線の照射により形成されたポリマー鎖に、それぞれ酸化防止剤成分、紫外線吸収剤成分、光安定剤成分が結合する。したがって、経時による硬化層からの各成分の逸散が抑制されるので、長期間にわたって、それぞれの機能が発揮される。

本発明における（Ａ）層形成用の電離放射線感応型樹脂組成物は、必要に応じ、適当な溶剤中に、前述の硬化樹脂形成成分及び所望により用いられる各種添加成分を、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが用いられる。
このようにして調製された樹脂組成物の濃度、粘度としては、コーティング可能なものであればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
次に、前記基材フィルムの一方の面に、上記樹脂組成物を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに電離放射線を照射して該塗膜を硬化させることにより、（Ａ）層が形成される。
電離放射線としては、例えば紫外線や電子線などが用いられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンＨランプ、キセノンランプなどで得られ、照射量は、通常１００〜５００ｍＪ／ｃｍ²であり、一方電子線は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常１５０〜３５０ｋＶである。この電離放射線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
なお、この電離放射線による硬化システムにおいては完全硬化により、（Ａ）層を形成してもよいし、半硬化（ハーフキュア）状態にしておき、その上に後述の（Ｂ）層を形成する際に、該（Ｂ）層と共に、（Ａ）層を完全硬化させてもよい。

一方、当該（Ａ）層である硬化樹脂層の形成に、熱硬化システムを採用する場合には、まず、（Ａ）層形成用の熱硬化型樹脂組成物を調製する。この熱硬化型樹脂組成物においては、硬化樹脂形成成分として、２官能ウレタンアクリレート系オリゴマーと、必要に応じて前記の重合性オリゴマーや重合性モノマー（単官能(メタ)アクリレート系モノマー、多官能(メタ)アクリレート系モノマーなど）、熱硬化性樹脂等が前記の割合で用いられる。また、本発明の目的が損なわれない範囲で、所望により、硬化剤、重合禁止剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定剤、レベリング剤、消泡剤などの各種添加成分を含有させることができる。

硬化剤としては、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルぺルオキシベンゾエート、ジ−２−エチルヘキシルペルオキシジカーボネートなどの有機過酸化物、２,２'−アゾビスイソブチロニトリル、２,２'−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、２,２'−アゾビスジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物、フェニレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン、イソホロンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのポリアミン類、ドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類やジシアンジアミド、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのルイス酸、ホルムアルデヒドなどが挙げられる。これらの硬化剤は、使用する硬化樹脂形成成分の種類に応じて、１種又は２種以上が適宜選択される。

また、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、溶剤、塗工方法などについては、前述の電離放射線による硬化システムにおいて、説明したとおりである。
この熱硬化システムにおいては、基材フィルムの一方の面に、前記（Ａ）層形成用の熱硬化型樹脂組成物を塗工し、乾燥、加熱処理して硬化させることにより（Ａ）層が形成される。
このようにして、電離放射線による硬化システム又は熱硬化システムにより形成された（Ａ）層の硬化樹脂層の厚さは、５〜２５μｍの範囲で選定される。この厚さが５μｍ未満では基材フィルム表面の凹凸を隠蔽する効果が十分に発揮されず、本発明の目的が達せられないし、２５μｍを超えると硬化収縮が大きくなったり、硬化樹脂層にクラックが生じたりする原因となる。当該（Ａ）層の好ましい厚さは、５〜２０μｍの範囲である。

本発明の光学用フィルムにおいては、前記（Ａ）層の硬化樹脂層上に、（Ｂ）層として電離放射線による硬化樹脂を含むハードコート層が積層される。
この（Ｂ）層のハードコート層は、光学用フィルムの用途によっては、アンチグレア性を有していてもよい。この場合、該ハードコート層中には、前記電離放射線による硬化樹脂と共に、アンチグレア性を付与する各種充填剤を含有させることができる。
このようなハードコート層は、例えば電離放射線硬化性化合物と、所望により、アンチグレア性を付与する充填剤や光重合開始剤などを含むハードコート層形成用塗工液を、（Ａ）層上にコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。
前記の電離放射線硬化性化合物としては、例えば光重合性オリゴマー及び／又は光重合性モノマーを挙げることができる。上記光重合性オリゴマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の光重合性オリゴマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。これらの光重合性オリゴマーについては、前述の電離放射線による硬化システムにより（Ａ）層を形成する方法において、重合性オリゴマーについて説明したとおりである。

一方、カチオン重合型の光重合性オリゴマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
また、光重合性モノマーとしては、多官能(メタ)アクリレートを用いることができる。この多官能(メタ)アクリレートとしては、前述の電離放射線による硬化システムにより（Ａ）層を形成する方法において、多官能(メタ)アクリレートモノマーとして例示したものと同じものを挙げることができる。これらの光重合性モノマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前述光重合性オリゴマーと併用してもよい。

一方、所望により用いられる光重合開始剤としては、ラジカル重合型の光重合性オリゴマーや光重合性モノマーに対しては、前述の電離放射線による硬化システムにより（Ａ）層を形成する方法において、光重合開始剤として例示したものと同じものを挙げることができる。また、カチオン重合型の光重合性オリゴマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、前記光重合性オリゴマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常０.２〜１０重量部の範囲で選ばれる。なお、電子線硬化型の場合には、この光重合開始剤は用いなくてもよい。

一方、所望により用いられるアンチグレア性を付与する充填剤としては、従来アンチグレア性を付与するための充填剤として知られているものの中から任意のものを適宜選択して用いることができる。このような充填剤としては、例えば平均粒径１.５〜７μｍ程度のシリカ粒子、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒径が０.５〜１０μｍ程度のもの、あるいは平均粒径０.５〜５μｍ程度のシリカ粒子と平均粒径１〜６０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子との混合物などを挙げることができる。これらの充填剤のハードコート層における含有量は、得られる光学用フィルムの防眩性能や耐擦傷性などを考慮して、適宜選定するのがよい。
本発明において用いられるハードコート層形成用塗工液は、必要に応じ、適当な溶剤中に、前記の電離放射線硬化性化合物及び所望により用いられる前記の充填剤や光重合開始剤、さらには各種添加剤、例えば反応性シリコーン化合物、単官能モノマー、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。

前記の所望により用いられる反応性シリコーン化合物としては、分子内にラジカル重合性不飽和基を有するシリコーン化合物を用いることができる。このシリコーン化合物は、光硬化成分であり、電離放射線の照射により架橋、硬化し、ハードコート層に耐汚染性や低摩擦性などを付与する作用を有している。
分子内にラジカル重合性不飽和基を有するシリコーン化合物としては、例えばポリオルガノシロキサン骨格に、エチレン基やプロピレン基等のアルキレン基などからなるスペーサを介して、(メタ)アクリロイルオキシ基が導入された化合物などを用いることができる。ここで、ポリオルガノシロキサンの好ましいものとしては、例えばポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなどがある。
この分子内にラジカル重合性不飽和基を有するシリコーン化合物の具体例としては、一般式［１］

［式中、ｍ及びｎは１以上の整数を示し、Ｒは、式

（Ｒ¹は水素原子又はメチル基である。）
で表される基を示す。］
で表される(メタ)アクリレート変性ポリジメチルシロキサン、あるいは、一般式［２］

［式中、Ａはメチル基又は式

（Ｒ'は水素原子又はメチル基である）
で示される基、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、ｋは１以上の整数を示す。］

で表される片末端又は両末端に(メタ)アクリロイルオキシ基を有するポリジメチルシロキサンなどを例示することができる。
本発明においては、この反応性シリコーン化合物を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、その配合量は、ハードコート層中に０.０５〜５重量％の範囲で含まれるように選定するのが好ましい。ハードコート層中の含有量が０.０５重量％未満では耐汚染性や低摩擦性の付与効果が十分に発揮されないおそれがあるし、５重量％を超えると量の割には効果の向上がみられず、むしろハードコート層の硬度が低下する場合がある。ハードコート層中の該反応性シリコーン化合物のより好ましい含有量は、０.２〜２重量％の範囲である。

前記の所望により用いられる単官能モノマーとしては、前述の（Ａ）層の説明において、単官能(メタ)アクリレート系モノマーとして例示したものと同じものを挙げることができる。また、光増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、溶剤については、前述の電離放射線による硬化システムにより（Ａ）層を形成する方法において説明したとおりである。
次に、（Ａ）層上に前記塗工液を塗工して塗膜を形成させ、乾燥後、これに電離放射線を照射して硬化させることにより、（Ｂ）層のハードコート層が形成される。なお、塗工方法及び照射する電離放射線については、前述の電離放射線による硬化システムにより（Ａ）層を形成する方法において説明したとおりである。
このようにして形成されたハードコート層の厚さは１〜１５μｍの範囲である。この厚さが１μｍ未満では得られる光学用フィルムの耐擦傷性が十分に発揮されないおそれがあるし、また１５μｍを超えるとハードコート層にクラックが発生することがある。このハードコート層の好ましい厚さは２〜１０μｍの範囲である。
本発明の光学用フィルムにおいては、この（Ｂ）ハードコート層の屈折率は、良好な視認性が得られることから、１.４９〜１.６５の範囲が好ましい。

このようにして作製された本発明の光学用フィルムにおいては、基材フィルム上に（Ａ）層として特定の性状の硬化樹脂層を設けることにより、その上に設けるハードコート層の厚さを、上記のように従来よりも薄くしても、光学用ハードコートフィルムとしての目標物性が得られると共に、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制され、歩留りも向上する。また、この光学用フィルムは、ハードコート層の厚さが薄いことから、良好な耐クラック性及び低カール性を有している。

本発明の光学用フィルムにおいては、（Ｂ）層であるハードコート層上に、所望の機能を付与するために、各種の薄膜層を形成させることができる。この薄膜層としては、例えば錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどからなる導電性薄膜、あるいは反射防止層などを挙げることができる。
前記導電性薄膜は、通常真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理的気相蒸着法（ＰＶＤ法）、あるいは化学的気相蒸着法（ＣＶＤ法）により、設けることができる。
一方、反射防止層は、ドライプロセス、ウェットプロセスのいずれのプロセスによっても、（Ｂ）層のハードコート層上に設けることができる。
次に、前記（Ｂ）層上に、所望によりさらに（Ｃ）少なくとも１層からなる反射防止層を積層してなる本発明の光学用フィルムについて説明する。

本発明の光学用フィルムにおいて、（Ｂ）層上に設けられる（Ｃ）層の反射防止層は、１層からなる単層構造を有していてもよいし、２層以上からなる多層構造を有していてもよく、また、ドライプロセスによって形成されてもよいし、ウェットプロセスによって形成されてもよい。
まず、ドライプロセスにより、反射防止層を形成する方法について説明する。
このドライプロセス法においては、（Ｂ）層のハードコート層よりも低屈折率の物質、例えばＭｇＦ₂、ＣａＦ₂、ＳｉＯ₂などを、（Ｂ）層上に蒸着し、単層反射防止層を形成する方法、あるいはＩＴＯ、酸化チタン、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化アルミニウムなどの高屈折率物質と、ＭｇＦ₂、ＣａＦ₂、ＳｉＯ₂などの低屈折率物質を交互に蒸着し、多層反射防止層を形成する方法などが用いられる。上記蒸着法としては、主として真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどのＰＶＤ法が採用される。
このようにして形成された反射防止層の厚さは特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常０.０１〜１.０μｍ、好ましくは０.０２〜０.５μｍの範囲で選定される。

一方、ウェットプロセス法は、塗工液を塗布して単層反射防止層あるいは多層反射防止層を形成させる方法である。例えば、（Ｂ）層のハードコート層の表面に、シロキサン系被膜、フッ素系被膜などの反射防止層を０.０５〜１μｍ程度の厚さで設けることにより、光学用フィルムに反射防止機能を付与することができる。なお、この場合、反射防止層の種類によっては、帯電防止性の向上を図ることができる。
また、（Ｂ）層のハードコート層上に、（Ｃ−ａ）電離放射線による硬化樹脂と、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含む少なくとも２種の金属酸化物を含み、屈折率が１.６５〜１.８０の範囲にある厚さ６０〜１６０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ−ｂ）シロキサン系ポリマーを含み、屈折率が１.３７〜１.４７の範囲にある厚さ８０〜１８０ｎｍの低屈折率層を順次積層して反射防止層として、光学用フィルムに反射防止機能を付与することができる。
前記（Ｃ−ａ）高屈折率層において、屈折率が１.６５未満では反射防止性能に優れる光学用フィルムが得られにくく、また、屈折率が１.８０を超える層は、ＡＴＯを必須成分として含むことから、形成することが困難である。好ましい屈折率は１.７０〜１.７５の範囲である。

前記ＡＴＯは、この（Ｃ−ａ）高屈折率層上に設けられる（Ｃ−ｂ）低屈折率層のシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層と当該（Ｃ−ａ）層との密着性を向上させるために用いられるものであり、この（Ｃ−ａ）層における全金属酸化物中の該ＡＴＯの含有量は、通常２５〜９０重量％の範囲で選定され、好ましくは４０〜８０重量％である。この含有量が２５重量％未満では（Ｃ−ａ）層と（Ｃ−ｂ）層との密着性が不十分となるおそれがあり、また所望の屈折率が得られないことがある。９０重量％を超えると（Ｃ−ａ）層の強度が低下するおそれがある。
前記ＡＴＯと併用される他の金属酸化物としては、膜厚６０〜１６０ｎｍにて屈折率が１.６５〜１.８０の範囲にある層が得られるものであればよく、特に制限されず、例えば酸化チタン、ＩＴＯ、酸化タンタル、酸化錫などが挙げられる。これらの金属酸化物は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、屈折率がＡＴＯの屈折率よりも高い金属酸化物が好ましく、特に酸化チタン及び／又はＩＴＯが好適である。
この（Ｃ−ａ）層における前記ＡＴＯを含む金属酸化物の含有量としては特に制限はなく、該（Ｃ−ａ）層の所望の膜厚及び屈折率などに応じて、適宜選定されるが、通常、硬化樹脂１００重量部に対し、２００〜６００重量部程度である。

この（Ｃ−ａ）層は、以下のようにして形成することができる。まず、必要に応じ、適当な溶剤中に、電離放射線硬化性化合物、前記ＡＴＯを含む金属酸化物及び所望により用いられる光重合開始剤や各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させて塗工液を調製する。次に、この塗工液を、（Ｂ）ハードコート層上にコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、（Ｃ−ａ）高屈折率層を形成することができる。
ここで、電離放射線硬化性化合物、光重合開始剤、塗工液の調製に用いられる溶剤、塗工液のコーティング方法及び電離放射線などは、前述の（Ｂ）ハードコート層についての説明で示したとおりである。

本発明においては、前記（Ｂ）ハードコート層及び（Ｃ−ａ）高屈折率層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利である。
まず、基材フィルムの一方の面に形成された硬化樹脂層上に、ハードコート層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ²程度である。次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、（Ｃ−ａ）層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を十分に照射し、前記（Ｂ）層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常４００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²程度である。
このようにして、（Ａ）層上に、（Ｂ）層と（Ｃ−ａ）層間の密着性に優れる（Ｂ）ハードコート層及び（Ｃ−ａ）高屈折率層が順次形成される。
本発明の光学用フィルムにおいては、このようにして形成された（Ｃ−ａ）高屈折率層上に、（Ｃ−ｂ）低屈折率層が形成される。この低屈折率層は、シロキサン系ポリマーを含むものであって、屈折率が１.３７〜１.４７の範囲にあり、かつ厚さが８０〜１８０ｎｍの範囲である。該屈折率や厚さが上記範囲を逸脱すると反射防止性能及び耐擦傷性に優れる光学用フィルムが得られにくい。
このシロキサン系ポリマーを含む層としては、例えば無機シリカ系化合物（ポリケイ酸も含む）、ポリオルガノシロキサン系化合物、あるいはこれらの混合系を含む層を挙げることができる。この層を形成する無機シリカ系化合物やポリオルガノシロキサン系化合物は従来公知の方法によって製造することができる。

例えば、一般式［３］
Ｒ² _aＳｉ(ＯＲ³)_4-a …［３］
［式中のＲ²は非加水分解性基であって、アルキル基、置換アルキル基（置換基：ハロゲン原子、水酸基、チオール基、エポキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基など）、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基、Ｒ³は低級アルキル基であり、ａは０又は１〜３の整数である。Ｒ²及びＯＲ³がそれぞれ複数ある場合、複数のＲ²は同一でも異なっていてもよく、また複数のＯＲ³は同一でも異なっていてもよい。］
で表されるアルコキシシラン化合物を、塩酸や硫酸などの無機酸、シュウ酸や酢酸などの有機酸を用いて部分又は完全加水分解し、重縮合させる方法が好ましく用いられる。
この場合、ａが０の化合物、すなわちテトラアルコキシシランを完全加水分解すれば無機シリカ系の化合物が得られるし、部分加水分解すれば、ポリオルガノシロキサン系化合物又は無機シリカ系化合物とポリオルガノシロキサン系化合物との混合系が得られる。一方、ａが１〜３の化合物では、非加水分解性基を有するので、部分又は完全加水分解により、ポリオルガノシロキサン系化合物が得られる。この際、加水分解を均一に行うために、適当な有機溶媒を用いてもよい。

前記一般式［３］で表されるアルコキシシラン化合物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシランなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、この際、必要ならば、アルミニウム化合物、例えば塩化アルミニウムやトリアルコキシアルミニウムなどを適当量添加することができる。
さらに、別の方法として、原料のケイ素化合物にメタケイ酸ナトリウム、オルソケイ酸ナトリウム又は水ガラス（ケイ酸ナトリウム混合物）を用い、塩酸、硫酸、硝酸などの酸又は塩化マグネシウム、硫酸カルシウムなどの金属化合物を作用させ、加水分解処理する方法を用いることができる。この加水分解処理により、遊離のケイ酸が生成するが、このものは重合しやすく、原料の種類によって異なるが、鎖状、環状、網目状のものの混合物である。水ガラスから得られたポリケイ酸は、一般式［４］

（式中のｂは重合度を示し、Ｒ⁴は水素原子、ケイ素又はマグネシウムやアルミニウムなどの金属である。）
で表される鎖状構造のものが主体となる。
このようにして、完全な無機シリカ系化合物が得られる。なお、無機シリカ系化合物として、シリカゲル（ＳｉＯ_X・ｎＨ₂Ｏ）も使用することができる。
この（Ｃ−ｂ）低屈折率層は、前記のシロキサン系ポリマー又はその前駆体を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、（Ｃ−ａ）高屈折率層上にコーティングし、塗膜を形成させ、加熱処理することにより、形成することができる。
このようにして形成されたシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層において、該シロキサン系ポリマーが、シラノール基やその他親水性基を有する場合には、帯電防止性能が付与され、得られる光学用フィルムにほこりなどが付着しにくくなり、好ましい。

本発明の光学用フィルムにおいては、所望により、前記（Ｃ−ｂ）低屈折率層上に防汚コート層を設けることができる。この防汚コート層は、一般にフッ素系樹脂を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、（Ｃ−ｂ）低屈折率層上にコーティングし、塗膜を形成させ、乾燥処理することにより、形成することができる。
この防汚コート層の厚さは、通常１〜１０ｎｍ、好ましくは３〜８ｎｍの範囲である。該防汚コート層を設けることにより、得られる光学用フィルムは、表面の滑り性が良くなると共に、汚れにくくなる。

本発明の光学用フィルムにおいては、基材フィルムのハードコート層とは反対側の面に、被着体に貼着させるための粘着剤層を形成させることができる。この粘着剤層を構成する粘着剤としては、光学用途用のもの、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられる。この粘着剤層の厚さは、通常１〜４０μｍ、好ましくは５〜３５μｍの範囲である。
さらに、この粘着剤層の上に、剥離フィルムを設けることができる。この剥離フィルムとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。この剥離フィルムの厚さについては特に制限はないが、通常２０〜１５０μｍ程度である。

図１及び図２は、それぞれ本発明の光学用フィルムの異なる構成の例を示す断面図である。図１において、光学用フィルム１０は、基材フィルム１の一方の面に、硬化樹脂層２及びハードコート層３が順次積層されていると共に、基材フィルム１の他方の面に、粘着剤層４が設けられ、その上に剥離フィルム５が貼付された構造を有している。
一方、図２において、光学用フィルム２０は、上記図１の構成において、ハードコート層３上に、反射防止層（単層又は多層構造）６が積層された構造を有している。

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、得られた光学用フィルムの性能は、以下に示す方法に従って測定した。
（１）耐擦傷性
スチールウール＃００００を用い、荷重９.８×１０^-3Ｎ／ｍｍ²で５往復擦った後に目視観察し、下記の判定基準で評価した。
○：傷が付かない
×：傷が付く
（２）耐クラック性
ＪＩＳＫ５６００−５−１に準拠し、円筒形マンドレル法により評価した。数値が小さいほど、ハードコート層のクラック発生が少なく、耐クラック性が良好であることを示す。
（３）表面欠陥数
光学用フィルムから１００ｍｍ×１００ｍｍサイズの試験片を切り出し、試験片の下地に黒板を置いて、目視によって反射検査を行い、目視によって検出された表面欠陥部分にマーキングを施し、次にマーキングした目視の表面欠陥を顕微鏡によって観察して、試験片に付着している異物に起因する表面欠陥を検出して、該異物に起因する表面欠陥の数を全ての目視の表面欠陥の数から差し引いた数を表面欠陥数とした。
（４）カール
１００ｍｍ×１００ｍｍサイズの試料を、平滑なガラス板上にハードコート層面を上にして置き、４角のガラス板からの高さ（浮き）の合計値をｍｍ単位で表した。なお、１角の浮きが３０ｍｍを限度とした。
また、各コート層の厚さは、［松下インターテクノ(株)製「フィルメトリクスＦ−２０」］により測定し、屈折率は(株)アタゴ製アッベ屈折計により測定した。

実施例１
基材フィルムとしてポリカーボネートフィルム（厚さ１００μｍ）の片面に、２官能ウレタンアクリレートオリゴマー［日本合成化学(株)製、商品名「紫光ＵＶ−３５２０ＴＬ」、重量平均分子量１４,０００、固形分濃度７０重量％］１００重量部とアセトフェノン類である光重合開始剤としての１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア１８４」］３.５重量部とトルエン／エチルセロソルブ重量比１／１の混合溶剤とを混合してなる固形分濃度５０重量％の樹脂組成物からなる塗工液を、硬化後の厚さが１２.５μｍになるようにマイヤーバーＮｏ.２０で塗布した。
次いで、１００℃で１分間乾燥後、紫外線（照度１２０ｍＷ／ｃｍ²、光量３５０ｍＪ／ｃｍ²）を照射してウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成した。さらに、この硬化樹脂層上に、光重合開始剤を含む紫外線硬化型ハードコート剤［荒川化学工業(株)製、商品名「ビームセット５７５ＣＢ」、多官能ウレタンアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物、固形分濃度１００重量％］にトルエンを加え固形分濃度５０重量％に調整したハードコート層形成用塗工液を、硬化後の厚みが３.７μｍとなるように、マイヤーバーＮｏ.６で塗布した。次に、１００℃で１分間乾燥後、紫外線（照度１２０ｍＷ／ｃｍ²、光量２５０ｍＪ／ｃｍ²）を照射してハードコート層を形成した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。

実施例２
基材フィルムとして環状ポリオレフィンフィルム［ジェイエスアール(株)製、商品名「アートンフィルム１００」、厚さ１００μｍ］の片面に、２官能ウレタンアクリレートオリゴマー「紫光ＵＶ−３５２０ＴＬ」（前出）１００重量部と光重合開始剤としての１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン「イルガキュア１８４」（前出）３.５重量部とトルエン／エチルセロソルブ重量比１／１の混合溶剤とを混合してなる固形分濃度５０重量％の樹脂組成物からなる塗工液を、硬化後の厚さが２０μｍになるようにアプリケーターで塗布した。
次いで、１００℃で１分間乾燥後、紫外線（照度１２０ｍＷ／ｃｍ²、光量３５０ｍＪ／ｃｍ²）を照射してウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成した。さらに、この硬化樹脂層上に、光重合開始剤を含む紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ」、固形分濃度１００重量％］にトルエンを加え固形分濃度５０重量％に調整したハードコート層形成用塗工液を、硬化後の厚みが５.０μｍとなるように、マイヤーバーＮｏ.８で塗布した。次に、１００℃で１分間乾燥後、紫外線（照度１２０ｍＷ／ｃｍ²、光量２５０ｍＪ／ｃｍ²）を照射してハードコート層を形成した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。

実施例３
実施例１において、ハードコート層形成用塗工液の塗布にマイヤーバーＮｏ.２０を用いてハードコート層の厚さを１２.５μｍにした以外は、実施例１と同様にして、光学用ハードコートフィルムを作製した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。
なお、この光学用ハードコートフィルムのカールの値は１１０ｍｍであったが、ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成しない場合（比較例２）に比べて、カールを抑制できた。

実施例４
実施例１において、２官能ウレタンアクリレートオリゴマーとして、重量平均分子量１４,０００の「紫光ＵＶ−３５２０ＴＬ」の代わりに、［共栄社化学社製、商品名「ＵＬ−５０３ＬＮ」］（重量平均分子量８,０００、固形分濃度７０重量％）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。

実施例５
基材フィルムを厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム［コニカミノルタホールディングス社製、商品名「ＫＣ８ＵＮ」］に変えた以外は実施例１と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。この光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。

実施例６
基材フィルムを厚さ１００μｍのアクリルフィルムに変えた以外は実施例１と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。この光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。

実施例７
（１）ポリエステル系の基材フィルムとして厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４１００」］の易接着コート面に、実施例１と同様にして、厚さ１２.５μｍの２官能ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成した。次いで、この上に、紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤［ジェイエスアール(株)製、商品名「デソライトＫＺ７２２４」、固形分濃度４６重量％］を、完全硬化後の厚さが６.０μｍになるようにマイヤーバーＮｏ.１２にて塗布し、８０℃で１分間乾燥したのち、これに紫外線を光量８０ｍＪ／ｃｍ²で照射して、ハーフキュア状態に硬化させ、ハードコート層を形成した。
（２）金属酸化物として酸化チタンの分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＦ−１４Ｄ」、固形分濃度１０重量％］１００重量部と、アンチモンドープ酸化錫の分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＡ−０１Ｄ」、固形分濃度１０重量％］１００重量部を用い（アンチモンドープ酸化錫含有量５０重量％）、これに紫外線硬化型アクリル系樹脂［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］６.７重量部を加え、さらに全体の固形分濃度が３重量％になるように、イソブチルアルコールで希釈して、塗工液を調製した。次いで、この塗工液を、マイヤーバーＮｏ.４にて、上記（１）の工程で形成されたハーフキュア状態のハードコート層上に、完全硬化後の厚さが９０ｎｍになるように塗布し、８０℃で１分間乾燥したのち、これに紫外線を光量６８０ｍＪ／ｃｍ²で照射して、硬化させ、高屈折率層を形成し、２官能ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層上に、屈折率１.５１のハードコート層及び屈折率１.７１の高屈折率層を順次形成させた。

（３）シロキサン系帯電防止剤［コルコート(株)製、商品名「コルコートＰ」、固形分濃度２重量％］を、上記（２）の工程で形成された高屈折率層上に、マイヤーバーＮｏ.６で加熱処理後の厚さが１２０ｎｍになるように塗布し、１３０℃で２分間加熱処理して、屈折率１.４５の低屈折率層を形成した。
このようにして得られたハードコート層上に反射防止層が積層された光学用ハードコートフィルムの性能を第１表に示す。
なお、ボトム反射率は、５８０ｎｍの波長にて１.０５％であった。このボトム反射率については、分光光度計［(株)島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」］により測定し、最も反射率が低い波長における反射率をボトム反射率とした。

比較例１
実施例１において、２官能ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第２表に示す。

比較例２
実施例１において、２官能ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層を形成せず、かつマイヤーバーＮｏ.２０を用いてハードコート層の厚さを１２.５μｍに変えた以外は、実施例１と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第２表に示す。

比較例３
実施例２において、アプリケーターの代わりにマイヤーバーＮｏ.４を用いて、２官能ウレタンアクリレートオリゴマーの硬化樹脂層の厚さを２.５μｍにした以外は、実施例２と同様にして光学用ハードコートフィルムを作製した。
このようにして得られた光学用ハードコートフィルムの性能を第２表に示す。

以上の結果から分かるように、本発明の光学用フィルムは、表面欠陥がない上、耐擦傷性に優れ、かつカールも良好である。

本発明の光学用フィルムは、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥が抑制されると共に、耐擦傷性及び耐クラック性に優れ、かつ基材フィルムのカールを抑制することができ、例えばタッチパネル用や偏光板、１／４波長板用として、あるいは光ディスクのカバーフィルムや各種ディスプレイの保護フィルムなどとして好適に用いられる。

本発明の光学用フィルムの構成の１例を示す断面図である。本発明の光学用フィルムの構成の別の例を示す断面図である。

符号の説明

１基材フィルム
２硬化樹脂層
３ハードコート層
４粘着剤層
５剥離フィルム
６反射防止層
１０、２０光学用フィルム

Claims

基材フィルムの一方の表面に、（Ａ）重量平均分子量５,０００〜３５,０００の２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー硬化樹脂７０重量％以上の厚さ５〜２５μｍの硬化樹脂層、及び（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ１〜１５μｍのハードコート層を順次積層することを特徴とする光学用フィルム。
（Ｂ）層上に、さらに（Ｃ）少なくとも１層からなる反射防止層を積層してなる請求項１に記載の光学用フィルム。
基材フィルムが、アセチルセルロース系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、環状ポリオレフィン系フィルム、アクリル樹脂系フィルム又はポリエステル系フィルムである請求項１又は２に記載の光学用フィルム。
（Ｂ）層のハードコート層が、屈折率１.４９〜１.６５である請求項１ないし３のいずれかに記載の光学用フィルム。
基材フィルムの他方の面に、厚さ１〜４０μｍの粘着剤層を設けてなる請求項１ないし４のいずれかに記載の光学用フィルム。
基材フィルムの一方の表面に、（Ａ）重量平均分子量５,０００〜３５,０００の２官能ウレタンアクリレート系オリゴマー硬化樹脂７０重量％以上の厚さ５〜２５μｍの硬化樹脂層、及び（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ１〜１５μｍのハードコート層を順次積層することによって、基材フィルム表面の凹凸に由来する表面欠陥を抑制することを特徴とする光学用フィルムの製造方法。
光学用フィルムから１００ｍｍ×１００ｍｍサイズの試験片を切り出し、試験片の下地に黒板を置いて、目視によって反射検査を行い、目視によって検出された表面欠陥部分にマーキングを施し、次にマーキングした目視の表面欠陥を顕微鏡によって観察して、試験片に付着している異物に起因する表面欠陥を検出して、該異物に起因する表面欠陥の数を全ての目視の表面欠陥の数から差し引いた数を表面欠陥数とする試験において、表面欠陥数を１以下に抑制する請求項６記載の光学用フィルムの製造方法。