JP4438896B1 - 搬送キャリアの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、高温下環境でも柔軟性および粘着性が損なわれない基板の搬送キャリアについて課題とする。
【解決手段】シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を熱硬化してシートを成形した後、前記シートを２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱し、ベースに固定する基板の搬送用キャリアの製造方法を提供する。かかる構成により、高温下環境でも柔軟性および粘着性が損なわれない基板の搬送キャリアを提供できる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、半導体装置およびプリント配線基板等の被搬送体を搬送するために用いられる搬送キャリアに関するものである。

従来より、電子部品が実装されたプリント配線基板は、あらゆる電子機器に使用されている。近年、電子機器の小型化、軽量化に対応すべく、さまざまなプリント配線基板が提供されている。このプリント配線基板の中には、フィルム状の絶縁基板の表面に導体パターンを備え、基板自体の曲げを可能にしたフレキシブルプリント配線基板（以下、「ＦＰＣ」と略す。）が存在する。

このＦＰＣは、薄いフィルム状の基板であるため、単体では、ねじれや反りが生じ易い。そこで、このＦＰＣに電子部品の実装、薬品洗浄、プラズマ処理等する場合、一般に搬送用キャリアという治具を用いる（特許文献１、２参照）。

この搬送用キャリアの一般的な構成は、図２に示すように、硬い剛体でできた平板状のベース２０と、このベース２０の表面に固定された滑らかな表面を有した樹脂層４０とからなる。この樹脂層４０は、弱粘着性を有しているので、ＦＰＣ３０を密着して位置を保持することができ、ＦＰＣ３０の反りやねじれを防止することができる。また、容易に、ＦＰＣ３０をはがすこともできる。

樹脂層４０に用いられる一般的な材料として、シリコン系を主成分としたシリコーンゴムが主に用いられる。このシリコーンゴムは、耐熱性を有し、低価格で安全性も高く、弾性材料として一般的によく知られている。

特開２００１−１４４４３０号公報 特開２００７−２６６５５８号公報

しかし、特許文献１および２に記載された従来の搬送用キャリアは、リフロー炉等の高温の環境で繰り返し使用すると、樹脂層の粘着力が低下する傾向がある。このため、繰り返し使用し、樹脂層の粘着力が低下すると、樹脂層に貼付けたＦＰＣが、リフロー炉等の高温の環境で浮き、ねじれ、反り等の不具合が発生するという問題があった。

かかる問題は、従来の基板の搬送用キャリアの耐熱性が低く、高温環境下で粘着性および柔軟性が除々に損なわれることに起因しているため、従来の搬送用キャリアは、寿命を延ばすために、あらかじめ粘着力を非常に強くすることが一般的に行われていた。

しかし、樹脂層の粘着力が強い時期（使用開始初期）にＦＰＣを取り外す際、応力、曲げ、ひねり等によってＦＰＣが破損するという問題があった。さらに、予め粘着力を高くしておいても繰り返し使用すると柔軟性および粘着性が損なわれるという性質には変わりがないため、若干寿命が延びても、交換等のメンテナンス作業を頻繁に行わなければならなかった。

本発明は、前記した問題に鑑みてなされたものであり、高温環境下でも粘着性等が損なわれない搬送キャリアを提供することを目的とする。

〔第１発明〕
第１発明は、シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を熱硬化してシートを成形した後、シートを２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱し、ベースに固定する搬送キャリアに関するものである。

（シート）
シートは、シリケート化合物と、末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンとを、加水分解反応および縮合反応することによって得られる組成物を主成分とする材料から成る。以下、ポリジメチルシロキサンを「ＰＤＭＳ」と略し、末端をシリケート変性されたポリジメチルシロキサンを「変性ＰＤＭＳ」と略す。

（シリケート化合物）
シリケート化合物とは、シリコン（Ｓｉ）でできた金属アルコキシドのオリゴマーであり、主鎖にシロキサン（−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）骨格を持ち、外鎖にアルコキシ基（ＲＯ）を導入した化合物のことである。ここで、アルコキシ基（ＲＯ）のアルキル部分である（Ｒ）は、メチル基、エチル基、プロピル基等が例示される。このシリケート化合物は、水と容易に反応する特性を持っている。

シリケート化合物は、金属アルコキシドのオリゴマーであるので、金属アルコキシドよりも分子量が大きいので、揮発しにくい。このため、シリケート化合物が加水分解した時に、変性ＰＤＭＳに含まれる揮発性の高い低分子のシロキサンの揮発を、より一層、抑制することができる。また、シリケート化合物は、高い化学反応性を有しており、縮合反応を円滑に進めることができる。

シリケート化合物の種類として、例えば、ＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシリケート等が挙げられる。品質の安定性および安全性の点からエチルシリケートが好ましい。反応性を上げることを目的にメチルシリケートの使用の場合、揮発されるメタノールの処理を確実に実施する必要がある。

（変性ＰＤＭＳ）
変性ＰＤＭＳとは、シリケート化合物にてＰＤＭＳの末端を変性処理したものであり、両末端にシラノール基を有するＰＤＭＳと、主鎖の片側または両側に加水分解可能な官能基であるアルコキシ基を有するアルコキシシラン部分縮合物とを反応させて得られるものをいう。

この変性ＰＤＭＳは、通常のＰＤＭＳと比べると、格段に高い官能基濃度を有している。また、変性ＰＤＭＳは、シリケート化合物との縮合反応性が高いため、変性ＰＤＭＳに含まれるアルコキシシラン部分縮合物は、円滑に縮合反応が行われ、硬化してポリマー化することができる。変性ＰＤＭＳは、質量平均分子量が５０００以上で１０００００以下の範囲にあるものが使用される。

（組成物）
組成物は、前記したシリケート化合物と、前記した変性ＰＤＭＳとを有する混合物を加水分解および縮合反応させることにより得られる。シリケート化合物は、水の存在下にて容易に加水分解するため、シリケート化合物の分子内のアルコキシ基が、反応性の高いシラノール基（−ＯＨ基）となる。一方、変性ＰＤＭＳも同様に、加水分解をすることにより、水の存在によってシラノール基（「シラノール変性」とも呼ぶ。）となる。

これら双方のシラノール基は、高い反応性を有していると同時に、似通った反応性を有しているため、シリケート化合物と変性ＰＤＭＳとを有する混成物を加水分解することによって、シラノールの凝集が加速されることなく、変性ＰＤＭＳとの縮合反応が順調に進行する。これにより、変性ＰＤＭＳに含まれる低分子のシロキサンも、反応生成物（組成物）中に取り込まれる。

つまり、加水分解反応および縮合反応により、低分子のシロキサンは、組成物を構成する物質の一部となり、単体として存在しなくなる、または単体として存在する量が極めて微量（シロキサンの価数が１５まで）となる。このため、組成物から低分子のシロキサンが揮発することがないか、揮発量が極めて微量となる。

（シートの成形）
組成物は液状（ゾル）であるので、組成物からシートを成形するには、組成物を金型等のトレイに塗布し、乾燥焼成処理によって、硬化（固体または半固体（ゲル）させて成形する。シートの形状は、ＦＰＣ等の被搬送体を表面に置いて搬送できるものであれば任意でよいが、一般的にはシート状、平板状にする。

そして、加熱処理（乾燥焼成処理）を終えた成形後のシートを一旦常温まで冷却し、その後、２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱する。次いで、硬い剛体でできた平板状のベースの表面に、密着または接着させて固定（保持）する。シート（樹脂層）を前記の時間、前記の温度で加熱することにより、シートの表面に残存する未反応の組成物が反応するため、柔軟性および粘着性が繰り返して使用しても変化することがほとんどなく、安定する。

また、従来の搬送用キャリアの樹脂層として用いられるシリコーンゴムには、低分子のシロキサンが微量ではあるが残留しており、リフロー炉等により高温に加熱されるとシロキサンが揮発し、シリコーンゴムの柔軟性および粘着性が損なわれていた。しかし、本第１発明のシートは、低分子のシロキサンが含まれていない、またはシロキサン単体として存在する量が極めて微量（シロキサンの価数が１５まで）であるので、被搬送体等に低分子シロキサンが付着し、被搬送体等が腐食されないことが特徴である。

また、従来の基板の搬送用キャリアは、樹脂層の主成分がフッ素系の樹脂の場合は、樹脂層が茶褐色および黒褐色であったので、樹脂層に付着した異物等の発見が困難であった。しかし、本第１発明に係る搬送キャリアのシート（樹脂層）は、無色透明であるので、異物の発見が容易にできる。

以上により、本第１発明は、高温環境下で繰り返し使用しても粘着性の変化が非常に少なく安定した搬送キャリアを提供することができる。つまり、本第１発明の搬送キャリアに貼り付けたＦＰＣが高温環境下でシートから浮いたり剥がれたりすることがない。また、ＦＰＣをシートから剥がす際、常に一定の力で剥がすことができる。さらに、寿命が長いので、頻繁にシートの交換等のメンテナンス作業をする必要がない。

〔第２発明〕
また、第２発明は、シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を熱硬化してシートを成形した後、前記シートをベースに固定し、２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱する搬送キャリアに関する。かかる構成においても、前記した第１発明と同一の効果を奏する。

〔第３発明〕
また、前記シリケート化合物は、〔化学式１〕ＳｉｎＯ（ｎ−１）(ＲＯ)２（ｎ＋１） （Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６）で表されるものであり、また、変性ＰＤＭＳは、〔化学式２〕ＳｉｎＯ（ｎ−１）（ＲＯ）２（ｎ＋１） （ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｍ（ＲＯ）２（ｎ＋１）ＳｉｎＯ（ｎ−１）（Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６、ｍ＞５０）で表されるものであっても良い。

〔第４発明〕
また、前記シリケート化合物（Ａ）と、前記変性ＰＤＭＳ（Ｂ）の配合の割合が、Ａ／Ｂのモル比にて、０．１以上１０以下の範囲であることが好ましい。最適な配合の割合は、Ａ／Ｂのモル比にて１前後である。本第４発明に係る基板の搬送用キャリアの樹脂層の主成分である組成物は、この最適な配合の割合を基準にし、柔軟性（低硬度）が要求される場合は変性ＰＤＭＳ（Ｂ）を増加し、高硬度が要求される場合はシリケート化合物（Ａ）を増加させるのがよい。

ただし、シリケート化合物（Ａ）を増加させる場合、モル比１０を越えると、低分子のシロキサンの揮発成分が増加する。つまり、低分子のシロキサンが単体として存在する量が増加するため、硬化時の収縮や薄膜化、場合によってはクラックの発生する。モル比０．１より小さい場合は、シリケート化合物（Ａ）と変性ＰＤＭＳ（Ｂ）との加水分解反応および縮合反応が円滑に行われず、結果として未硬化の状態となり、低分子のシロキサンが残留する。

また、前記シリケート化合物は、３量体〜１２量体（３量体以上１２量体以下）であることが望ましい。これは、３量体未満ではシリケートが持つ特性の効果が少なく、また１２量体よりも大きいとシリケート化合物の粘度が高くなることから合成時に扱いにくいからである。

本発明は、高温環境下で繰り返し使用しても粘着性がほぼ一定である搬送キャリアを提供することができる。

本発明に係る組成物を主成分とした樹脂層を備えた搬送用キャリアの斜視図である。（実施例１） 従来の樹脂層を備えた搬送用キャリアの斜視図である。 ９０度剥離試験の評価１のグラフである。

実施例を用いて、本発明を更に具体的に説明する。尚、実施例における「部」、「％」は特記のない限りいずれも質量基準（質量部、質量％）である。

〔搬送キャリア〕
図１に示すように、本発明に係る搬送キャリア１は、ＦＰＣ等の被搬送体３の下面を密着させるシート（樹脂層）４と、このシート４を固定したベース２とからなる。シート４は、滑らかな表面を有し、弱粘着性を有しているので、被搬送体３を密着して位置を保持することができ、搬送中の被搬送体３の反りやねじれを防止することができる。また、基板３を容易に剥がすこともできる。また、ベース２は、リフロー炉等の高温環境下においても変形等しない（耐熱性の高い）金属板等の剛板であれば良い。

本実施例１の搬送キャリア１は、アルミ製金属平板（Ｌ：１５０×Ｗ：１５０×Ｈ：１．５ｍｍ）のベース２の表面に、後述する組成物を主成分として成形したシート４（Ｌ：１４５×Ｗ：１４５×Ｈ：２０μｍ）を固定した。

（組成物）
本発明に係る搬送キャリア１のシート４は、シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする。この組成物の製造について以下に具体的に説明する。

攪拌装置、温度計、滴下ラインを取り付けた反応容器に、エチルシリケート（多摩化学工業株式会社製、シリケート４０〔化学式１〕のｎ＝４〜６ またはシリケート４５〔化学式１〕のｎ＝６〜８ １．０ｇと、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサン〔化学式２〕（質量平均分子量；３２，０００相当）（荒川化学株式会社製ＨＢＳＩＬ０３９）３２．０ｇとを入れ、大気中（室温）にて約３０分間、攪拌混合し、混成物である原料液Ａを得た。ここで、エチルシリケートと、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサンで用いられたシリケートは、同じ種類および同じ特性を持つシリケートを使用した。

そして、原料液Ａを加水分解工程および縮合工程にて、必要量の水０．９３ｇを約１時間かけて滴下して加え、攪拌混合した。その後、攪拌しながら約３０分かけて室温（２５℃）まで自然冷却し、組成物を得た。

（シートの成形）
前記した組成物は液状（ゾル）なので、組成物を用いてシート（樹脂層）４を成形するには、組成物を金型等のトレイに塗布し、加熱して硬化〔固体または半固体（ゲル）〕する必要がある。そこで、前記した組成物を、仕上がりで２０μｍの厚みになるように均一に金型等のトレイに塗布した後、高温炉（アドバンテック東洋株式会社製のＤＲＣ４３３ＦＡ）に２００℃で１時間、加熱（乾燥焼成処理）を行い、組成物を加熱硬化させ、シート４を得た。そして、このシート４が常温（２５℃）になった後、さらに、高温炉（アドバンテック東洋株式会社製のＤＲＣ４３３ＦＡ）を用いて２８０℃で４時間、加熱（乾燥焼成処理）を行った。

その後、アルミ製金属平板（Ｌ：１５０×Ｗ：１５０×Ｈ：１．５ｍｍ）のベース２の表面に、前記したシート４を密着させて搬送キャリア１を製造した。尚、本実施例１においては、ベース２へのシート４の固定は、シート４の粘着性を利用した（単に密着させただけである）が、耐熱性接着剤等を用いてシート４をベース２に固定しても良い。

〔評価１〕
次に、前記したシート４の９０度剥離試験の評価について説明する。
尚、比較例で用いた試料（市販品）と同一の条件にするため、シート４の大きさは（縦５０mm×横５０mm、厚さ２０μｍ）、ベースはガラスエポキシ製の平板（縦５０mm×横５０mm×１．８mm）とした。

（評価用搬送キャリア）
前記した組成物をシャーレ（縦５０mm×横５０mm）に仕上がりで２０μｍの厚みになるように入れ、高温炉（アドバンテック東洋株式会社製のＤＲＣ４３３ＦＡ）を用いて２００℃で１時間、加熱（乾燥焼成処理）した。その後、シャーレ中の成形物（シート）が常温に低下した後、成形物をシャーレから脱型し、シート（縦５０mm×横５０mm、厚さ２０μｍ）を得た。その後、シートを前記した高温炉に入れ、さらに２８０℃で４時間、加熱処理（乾燥焼成処理）を行った。そして、ガラスエポキシ製の平板（縦５０mm×横５０mm×１．８mm）の上面にシート密着させて搬送キャリアを製造した。

（比較例）
比較対象の試料として、市販されている以下の２つの搬送キャリアを用いた。いずれも、サイズは、シート（縦５０mm×横５０mm×厚さ２mm）、ガラスエポキシ製の平板のベース（縦５０mm×横５０mm×１．８mm）である。
（１）試料１
株式会社大昌電子社製のマジックレジン（登録商標）（Ｔｙｐｅ−Ｋ）
（２）試料２
信越ポリマー株式会社製のアシストキャリア（型式 ＦＢ−Ａ）

（評価方法）
搬送キャリアを繰り返して使用した場合の剥離強度の変化を評価するために、以下の評価方法を用いた。すなわち、搬送キャリアの上に、ＦＰＣ（縦５０mm、横５０mm、厚さ７５μｍ ）を置いて、手で軽く加圧して貼り付けし、リフロー炉搬入前に、後述する方法を用いて剥離強度を測定した。また、前記したＦＰＣが貼り付いた搬送キャリアをリフロー炉（２５０℃〜２７０℃）で６分間加熱した後、リフロー炉から取り出して常温（２５℃）まで冷却した後、後述する方法を用いて剥離強度を測定した。さらに、ＦＰＣが貼り付いた搬送キャリアを再度リフロー炉（２５０℃〜２７０℃）で６分間加熱した後、リフロー炉から取り出し、常温（２５℃）まで冷却後に剥離強度の測定を行うことを２００回（２００サイクル）繰り返した。

剥離強度の測定は、搬送キャリアのシートの表面に貼り付けたＦＰＣの中央部を、剥離試験機のピックによって真上につまみ上げ（９０度方向）、ＦＰＣが完全に剥離した時の強度（最大値：Ｐｅａｋ Ｈｏｌｄ）を測定した。剥離試験機は、島津製作所社製 小型卓上型材料強度試験機 ＥＺ
Ｔｅｓｔ（型式 ＥＺ−Ｓ）を用いた。尚、剥離強度の測定は、ＪＩＳ Ｋ ６２５６（２００４年ＪＩＳハンドブック ゴムＩ 配合剤・原材料の試験・測定方法 加硫ゴム及び熱可塑性ゴムの接着試験方法 ４５１頁）に準じて実施した。

（評価結果）
評価結果を図３に示す。図３は、それぞれの搬送キャリアの剥離強度を測定したものをグラフ化したものである。図３より、試料１は、剥離試験開始から１２０サイクルまで除々に剥離強度（粘着力）が低下し、その後は剥離強度が略ゼロになることが分かる。また、試料２は、１３０サイクルまで除々に剥離強度（粘着力）が低下し、その後は剥離強度が略ゼロになることが分かる。これに対し、本発明に係る搬送キャリア（前記評価用搬送キャリア）は、評価開始から２００サイクル終了まで剥離強度がほぼ一定であることが分かる。

本発明に係る搬送キャリア（前記評価用搬送キャリア）の剥離強度は、２５０〜３００（ｍＮ／５０ｍｍ）であり、薄いフィルム状のＦＰＣに負担がかからず、取り外す剥離強度としては、好ましい強度である。つまり、本発明の搬送キャリア（評価用搬送キャリア）は、試料１および試料２と比較して粘着性および耐久性（寿命）が優れていることがわかる。ちなみに、測定試験片シートの剥離強度〔２５０〜３００（ｍＮ／５０ｍｍ）〕は、剥離試験１０００回実施しても、強度を維持できることが確認できている。

尚、図３において縦軸は剥離強度を表し、剥離強度の単位は、「ｍＮ／５０ｍｍ」とした。かかる単位を用いた理由は、剥離強度を測定するフレキシブル基板の大きさが５０ｍｍであるからであり、５０ｍｍ当たりに加わる力（ｍＮ）を表現したものである。また、「ｍＮ」は、ミリニュートン「０．００１×Ｎ」の意味である。

〔評価２ 搬送キャリアの９０度剥離試験〕
（測定試験片シート）
前記した組成物をシャーレ（縦５０mm×横５０mm）に仕上がりで２０μｍの厚みになるように注入し、２００℃で１時間、加熱（乾燥焼成処理）し、常温（２５℃）まで冷却した後、シャーレから脱型し、測定試験片シート（縦５０mm×横５０mm、厚さ２０μｍ）を３０枚作成した。

そして、後述するように、加熱条件（加熱温度および加熱時間）をそれぞれ変更して前記した高温炉（アドバンテック東洋株式会社製のＤＲＣ４３３ＦＡ）を用いて加熱（乾燥焼成処理）し、測定試験片シート１〜３０を得た。その後、ガラスエポキシ製の平板（縦５０mm×横５０mm×１．８mm）の上面に測定試験片シート１〜３０をそれぞれ密着させて試験用搬送キャリア１〜３０を製造した。

（評価方法）
評価方法は、試験用搬送キャリア１〜３０の上に、それぞれＦＰＣ（縦５０mm×横５０mm×厚さ７５μｍ）を置いて、手で軽く加圧して貼り付けし、リフロー炉搬入前に、それぞれの剥離強度を前記した方法で測定した。また、前記したＦＰＣが貼り付いた試験用搬送キャリア１〜３０をリフロー炉（２５０℃〜２７０℃）で６分間加熱した後、リフロー炉から取り出して常温（２５℃）まで冷却した後、前記した方法を用いて剥離強度を測定した。さらに、ＦＰＣが貼り付いた試験用搬送キャリア１〜３０を再度リフロー炉（２５０℃〜２７０℃）で６分間加熱した後、リフロー炉から取り出し、常温（２５℃）まで冷却後に剥離強度の測定を行うことを５０回（５０サイクル）繰り返した。

（評価結果）
表１は、試験用搬送キャリア１〜３０の剥離強度を測定したものであり、剥離試験は、それぞれ５０回実施し、剥離強度の最大値から最小値のＰ−Ｐ値（peak to peak value）を算出して表にまとめたものである。

（判定基準）
−剥離強度のばらつき−
○：Ｐ−Ｐ値が０以上４０(ｍＮ／５０ｍｍ)以下の範囲内
×：Ｐ−Ｐ値が４０(ｍＮ／５０ｍｍ)より大きい
尚、剥離強度のばらつきは小さいほど良いが、前記したスペック（Ｐ−Ｐ値が０以上４０(ｍＮ／５０ｍｍ)以下の範囲内）は、ＦＰＣの生産に支障が出ないばらつきの範囲で設定した。

表１により、試験片シートを成形後の加熱の条件を、加熱温度２６０℃以上３００℃以下、加熱時間２時間以上８時間以下であれば、判定基準の範囲内の測定試験片シートを作成することができる。
つまり、前記加熱処理の条件で作成したシートを用いることにより、粘着力が安定した搬送キャリアを提供できる。

尚、表１において剥離強度の単位は、「ｍＮ／５０ｍｍ」とした。かかる単位を用いた理由は、剥離強度を測定するＦＰＣの大きさが５０ｍｍであるからであり、５０ｍｍ当たりに加わる力（ｍＮ）を表現したものである。また、「ｍＮ」は、ミリニュートン「０．００１×Ｎ」の意味である。

前記した実施例は、説明のために例示したものであって、本発明としてはそれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲、明細書および図面の記載から当業者が認識することができる本発明の技術的思想に反しない限り、変更、削除および付加が可能である。

例えば、前記した実施例において、搬送キャリアに備えたシートは、前記組成物をシャーレに入れ、高温炉を用いて２００℃で１時間、加熱し、その後、シャーレ中の成形物（シート）が常温に低下した後、成形物をシャーレから脱型し、そして再度、シートを高温炉に入れ、さらに２８０℃で４時間、加熱処理を行って成形をしたが、前記常温に低下した後に、ガラスエポキシ製等の平板に密着させ、その後、加熱処理を行って成形したものを使用しても良い。

また、前記した実施例において、前記シリケート化合物として、
〔化学式１〕 ＳｉｎＯ（ｎ−１）(ＲＯ)２（ｎ＋１） （Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６）で、
前記末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとして、
〔化学式２〕 ＳｉｎＯ（ｎ−１）（ＲＯ）２（ｎ＋１） （ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｍ（ＲＯ）２（ｎ＋１）ＳｉｎＯ（ｎ−１）（Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６、ｍ＞５０）
で表される材料を用いても良く、また、前記シリケート化合物（Ａ）と、前記末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサン（Ｂ）の配合の割合が、Ａ／Ｂのモル比にて、０．１以上１０以下の範囲である材料を用いても良い。

また、前記した実施例において、エチルシリケートと、エチルシリケートを両末端にアルコキシ変性したポリジメチルシロキサンで用いられたシリケートは、同じ種類および同じ特性を持つシリケートを使用した。この場合、似通った反応性を有しているため、反応速度が同じぐらいとなり、好ましい。

しかし、本発明は、これに限定されるものではなく、異なった種類・特性同士（例えば、エチルシリケートとメチルシリケートを用いる場合、純度が異なるエチルシリケートを用いる場合）のシリケートを使用しても良い。この場合は、互いの反応速度に差が発生するため、反応速度を同じにするための合成時間の調整や、製造の条件を変更する必要がある。

本発明の搬送用キャリアに用いられるベースとしては、金属平板、ガラエポ平板、プラスチック平板、セラミック平板、ガラス平板等を用いてもよい。金属平板として例えば、ＳＵＳ（ステンレススチールの略）、アルミニウム、鉄、銅などの公知の金属製平板を用いることができ、プラスチック平板としては例えばポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド等の耐熱性の優れたものが使用でき、セラミック平板としては例えばアルミナ、サイアロン、ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、窒化チタン等が使用できる。

また、前記樹脂層を成形するには、原料となる組成物を公知のスクリーン印刷法、ディップ法、ドクターブレード法、ナイフコート法、バーコート法、スピンコート法などで、ガラス板表面に塗布し、硬化させてもよい。

また、前記ベース上に密着する樹脂層は、実施例１に記載するように、あらかじめ樹脂層を前もって成形してからベース上に、前記組成物を塗布した後、オーブンで乾燥焼成処理を行う成形方法を用いてもよい。

また、前記組成物をベースに塗布する時、ベース部周辺にマスキングテープやポリイミドテープ（カプトンテープとも呼ぶ。）等で、周囲に貼り付けをしてもよい。

また、本発明は、請求項１に係る発明を第１発明、請求項２に係る発明を第２発明、請求項３に係る発明を第３発明、請求項４に係る発明を第４発明、とすると、以下のように把握できる。

〔第５発明〕
第５発明に係る搬送キャリアの製造方法は、前記樹脂層は、２６０℃以下でガスクロマトグラフ（ＧＣ−ＭＳ）により測定した場合に、価数が１５以下のシロキサンを含まないことを特徴とする第１発明乃至４のいずれか１発明に記載のものである。かかる構成により、前記した第１発明と同じの効果を得ることができる。

前記ガスクロマトグラフとは、前記樹脂層に含まれる材料に、低分子のシロキサンの揮発成分である環状シロキサンの残量を測定するための評価機器である。評価機器として、例えば、加熱脱着器〔Ｔｗｉｓｔｅｒ Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ Ｕｎｉｔ（以下、「ＴＤＵ」と略す。）〕（Ｇｅｒｓｔｅｌ社）のＣｏｏｌｅｄ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ（以下、「ＣＩＳ」と略す。）付ガスクロマトグラフ質量分析計〔Ｇａｓ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ（以下、「ＧＣ−ＭＳ」と略す。）アジレントテクノロジー社製５９７５Ｂシステム等〕を使用できる。

評価方法としては、試料中の揮発性成分を気化させるため、ＴＤＵによってサンプルホルダーの試料にヘリウムガスを流しながら加熱した。そして、ヘリウム中に気化したアウトガスをＣＩＳユニット中の吸着管に吸着させた後、吸着管に捕集されたアウトガスをＧＣ−ＭＳ装置に流して、揮発性成分の種類と量とを測定した。ＧＣ−ＭＳ装置のカラムは、キャピラリーカラム（液層：フェニルメチルシロキサン）である。

測定条件の詳細として、加熱部は、ＴＤＵにて、１６０℃／ｍｉｎで４０℃〜２００℃（ホールド時間５分）まで昇温加熱し、不活性キャピラリ管（温度：３５０℃）を通して、質量分析を実施する。

ＧＣ−ＭＳ装置は、注入口温度：−１５０℃〜１２℃／秒〜３２５℃、カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ １９０９１Ｓ−４３３（カラム長さ６０ｍ カラム内径０．２５ｍｍ カラム膜厚０．２５μｍ）、オーブン：４０℃〜２５℃／ｍｉｎ〜３００℃（ホールド時間１０分）、ヘリウム流量：１．２ｍＬ／ｍｉｎ、ＭＳイオン源温度２３０℃：、ＭＳ四重極温度：１５０℃、ＭＳイオン化電圧：６９．９ｅＶ）、スキャン範囲：ｍ／ｚ １００〜１０００
である。ここで、ＭＳは、Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙの略である。

例えば、材料の揮発成分のうち１５０℃以上２６０℃以下での高温下で揮発が懸念されるＤ３〜Ｄ１５のシロキサンの価数の領域に分類し、それぞれの揮発成分量をまとめることができる。今回の場合、材料の揮発成分の価数が３〜１５にて環状シロキサンの揮発が全く見られないことがわかった。つまり、本発明に係る樹脂層には、低分子のシロキサンが残留していない（価数が１５までのシロキサンを含まない）ことがわかった。

本発明に係る基板の搬送用キャリアは、フレキシブル基板等のシート状の薄い基板を貼り付けて、リフローに搬送できる基板の搬送用キャリアである。

１，１０…搬送キャリア
２，２０…ベース
３，３０…基板
４，４０…樹脂層

Claims (4)

1. シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を加熱してシートを成形した後、
   該シートを２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱し、ベースに固定する搬送キャリアの製造方法。
2. シリケート化合物と、末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンとを有する混合物を、加水分解反応および縮合反応することによって得られた組成物を主成分とする材料を加熱してシートを成形した後、
   該シートをベースに固定し、２６０℃以上３００℃以下の温度で、２時間以上８時間以下の時間、加熱する搬送キャリアの製造方法。
3. 前記シリケート化合物は、
   〔化学式１〕 ＳｉｎＯ（ｎ−１）(ＲＯ)２（ｎ＋１） （Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６）
   であり、
   前記末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサンは、
   〔化学式２〕 ＳｉｎＯ（ｎ−１）（ＲＯ）２（ｎ＋１） （ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｍ（ＲＯ）２（ｎ＋１）ＳｉｎＯ（ｎ−１）（Ｒ＝アルキル基、ｎ＝４〜１６、ｍ＞５０）
   で表される請求項１または請求項２に記載の搬送キャリアの製造方法。
4. 前記シリケート化合物（Ａ）と、
   前記末端をシリケート変性したポリジメチルシロキサン（Ｂ）の配合の割合が、Ａ／Ｂのモル比にて、０．１以上１０以下の範囲である請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の搬送キャリアの製造方法。