JP4433168B2 - Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups - Google Patents
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Description
本発明は、シランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤として有用なトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物に関する。 The present invention is a silane coupling agent, surface treating agent, about the organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a useful triorganosilyl group as a polymer modifier.
官能基を有するアルコキシシラン化合物はシランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤等に広く用いられており、例えば、アミノ基、(メタ)アクリロキシ基、メルカプト基、エポキシ基、ビニル基等の官能基を有するアルコキシシラン化合物等が挙げられる。このような官能基を有するシラン化合物の1つとして、水酸基を有するアルコキシシラン化合物が考えられる。水酸基を有するアルコキシシラン化合物は、高分子に水酸基を導入することができる高分子変性剤や、シランカップリング剤、表面処理剤として有用である。しかしながら、水酸基を有するシラン化合物は、水酸基とケイ素原子との間で分子間反応を起こし、高分子化してしまうため、安定な状態で存在することができない。
なお、本発明に関連する先行文献としては下記のものが挙げられる。
Alkoxysilane compounds having functional groups are widely used in silane coupling agents, surface treatment agents, polymer modifiers, and the like, such as amino groups, (meth) acryloxy groups, mercapto groups, epoxy groups, vinyl groups, etc. Examples include alkoxysilane compounds having a functional group. As one of the silane compounds having such a functional group, an alkoxysilane compound having a hydroxyl group can be considered. The alkoxysilane compound having a hydroxyl group is useful as a polymer modifier capable of introducing a hydroxyl group into a polymer, a silane coupling agent, or a surface treatment agent. However, a silane compound having a hydroxyl group cannot be present in a stable state because it causes an intermolecular reaction between the hydroxyl group and a silicon atom and becomes a polymer.
In addition, the following are mentioned as prior literature relevant to the present invention.
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、安定に存在でき、かつ水酸基を有するオルガノキシシラン化合物と同等の効果を発現させることができるトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a triorganosilyl group that can be stably present and can exhibit the same effect as an organoxysilane compound having a hydroxyl group. The purpose is to provide goods .
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、水酸基をトリオルガノシリル基で保護した下記一般式(1)
で示されるオルガノキシシラン化合物が、化合物として安定に存在でき、また、シランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤として用いた後で、脱保護することにより、容易に水酸基を生成することができ、水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を用いたのと同等の効果が発現すること、特にアニオン重合末端変性剤として用いた場合、アニオン重合末端は保護された水酸基とは反応せず、選択的にオルガノキシシラン部位と反応するため、定量的にアニオン重合末端に保護された水酸基を導入することができ、その後脱保護することにより容易に水酸基変性ポリマーを製造できることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has obtained the following general formula (1) in which a hydroxyl group is protected with a triorganosilyl group.
The organoxysilane compound represented by can be stably present as a compound, and can easily generate a hydroxyl group by deprotection after being used as a silane coupling agent, surface treatment agent, or polymer modifier. It is possible to produce an effect equivalent to that of using an organoxysilane compound having a hydroxyl group. In particular, when used as an anionic polymerization terminal modifier, the anionic polymerization terminal does not react with a protected hydroxyl group and is selectively used. Since it reacts with the organoxysilane moiety, it can be quantitatively introduced into the hydroxyl group protected at the end of the anionic polymerization, and then it can be easily produced by deprotection to complete the present invention. It has come to be.
従って、本発明は、下記オルガノキシシラン化合物を提供する。
[I]下記一般式(1)
で示されることを特徴とする保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。
[II]R5、R6が共に水素原子、Aが−A’−CH2CH2−(A’は炭素数1〜8の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基である。)、aが0又は1であることを特徴とする[I]記載の保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。
Accordingly, the present invention provides the following organoxysilane compound.
[I] The following general formula (1)
An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group, wherein
[II] R 5 and R 6 are both hydrogen atoms, A is —A′—CH 2 CH 2 — (A ′ is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. ), An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group according to [I], wherein a is 0 or 1 .
本発明によれば、トリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物が、化合物として安定に存在でき、また、シランカップリング剤や高分子変性に用いた後で、トリオルガノシリル基を脱保護することにより、水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を用いたのと同等の効果を発現することができる。 According to the present invention, an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected with a triorganosilyl group can exist stably as a compound, and after being used for a silane coupling agent or polymer modification, a triorganosilyl group By deprotecting, effects equivalent to those obtained using an organoxysilane compound having a hydroxyl group can be exhibited.
本発明のオルガノキシシラン化合物は、下記一般式(1)
で示されるトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物である。
The organoxysilane compound of the present invention has the following general formula (1)
And an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a triorganosilyl group.
この場合、上記1価炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられるが、特には直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。また、上記1価炭化水素基の炭素数は1〜6であることが好ましい。上記2価脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、炭素数1〜5であることがより好ましい。 In this case, examples of the monovalent hydrocarbon group include a linear, branched, or cyclic alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and the like, and a linear or branched alkyl group is particularly preferable. The monovalent hydrocarbon group preferably has 1 to 6 carbon atoms. As said bivalent aliphatic hydrocarbon group, an alkylene group is preferable and it is more preferable that it is C1-C5.
上記一般式(1)のオルガノキシシラン化合物としては、具体的には以下に示すアルコキシシラン化合物が例示される:6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルトリメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルトリエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルトリメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルトリエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルジメチルエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルトリメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルメチルジメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルジメチルメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルトリエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルメチルジエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルジメチルエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルトリエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルトリメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルメチルジメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルジメチルメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルトリエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルメチルジエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルジメチルエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルトリメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルメチルジメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルジメチルメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルトリエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルメチルジエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルジメチルエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルトリメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルトリエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルジメチルエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルトリメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルメチルジメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルジメチルメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルトリエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルメチルジエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルジメチルエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン等。 Specific examples of the organoxysilane compound of the general formula (1) include the following alkoxysilane compounds : 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa Hexylmethyldimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane, triethylsiloxymethyltrimethoxysilane, triethylsiloxymethylmethyldimethoxysilane, triethylsiloxymethyldimethylmethoxysilane, triethylsiloxymethyl Rutriethoxysilane, triethylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, triethylsiloxymethyldimethylethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyltrimethoxysilane, 2-triethylsiloxyethylmethyldimethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-triethylsiloxy Ethyltriethoxysilane, 2-triethylsiloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyldimethylethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylmethoxysilane 3-triethylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyl Ethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyltrimethoxysilane, 4-triethylsiloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyltriethoxysilane, 4- triethylsiloxy-butyl methyl diethoxy silane, 4-triethylsiloxy-butyldimethyl silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxahexyl dimethyl silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6-triethylsiloxy - 4 - Kisa hexyl methyl diethoxy silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, t- butyl dimethylsiloxy methyltrimethoxysilane, t- butyl dimethylsiloxy methyl dimethoxysilane, t- butyl butyldimethylsiloxymethyl dimethyl silane, t-butyldimethylsiloxymethyltriethoxysilane, t-butyldimethylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, t-butyldimethylsiloxymethyldimethylethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyltrimethoxysilane, 2- (t- Butyldimethylsiloxy) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyldimethylmethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyltrie Toxisilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethylmethyldiethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyldimethylethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltrimethoxysilane, 3- (t- Butyldimethylsiloxy) propylmethyldimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylmethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxy Silane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyltrimethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butylmethyldimethoxysilane, 4- (t-butyl Rudimethylsiloxy) butyldimethylmethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyltriethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butylmethyldiethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyldimethylethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxahexyl dimethyl silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl diethoxy silane, 6- (t-butyldimethyl siloxy) - 4 -Oxahexyldimethylethoxysilane, triisopropylsiloxymethyltrimethoxysilane, triisopropylsiloxymethylmethyldimethoxysilane, triisopropylsiloxymethyldimethylmethoxysilane, triisopropylsiloxymethyltriethoxysilane, triisopropylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, triisopropyl Siloxymethyldimethylethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyltrimethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethylmethyldimethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyltriethoxysilane, 2-triisopropyl Siloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-triisopropylsiloxy Ethyldimethylethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triisopropylsiloxy Propylmethyldiethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutyltrimethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-triisopropyl Siloxybutyltriethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutylmethyldiethoxysilane, 4 Triisopropylsiloxy-butyldimethyl silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane, and the like.
これらの中で、生成物の有用性、製造の容易性の点から、上記一般式(1)のR5、R6が共に水素原子、Aが−A’−CH2CH2−(A’は炭素数1〜8、好ましくは1〜5の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキレン基)、aが0又は1である化合物がより好ましく、具体的には6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン等が例示される。 Among these, from the viewpoint of the usefulness of the product and the ease of production, R 5 and R 6 in the general formula (1) are both hydrogen atoms, and A is —A′—CH 2 CH 2 — (A ′). Is a straight-chain or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkylene group, and a compound in which a is 0 or 1, more specifically 6 -Trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4- oxahexyldimethylethoxysila 3-triethylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Triethylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldimethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxa hexyl triethoxysilane, 6-triethylsiloxy 4 - oxahexyl methyl diethoxy silane, 6- triethylsiloxy 4 - Oki Hexyldimethylethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltrimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylmethoxysilane, 3- ( t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylethoxysilane, 6- (t-butyldimethylsiloxy)- 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6- (t- Chill dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl diethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 3-triisopropylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldiethoxysilane , 3-triisopropylsiloxy dimethyl ethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triisopropyl Shi Carboxymethyl - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl di Examples include ethoxysilane and 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane.
また、本発明における上記一般式(1)で示される保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法は、例えば、下記一般式(2)
R1R2R3SiO−(CH2CH2O)a−A’−CH=CH2 (2)
(式中、R1、R2、R3、A’は上記と同様であり、aは0又は1である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(3)
HSi(CH3)n(OR4)3-n (3)
(式中、R4、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物とを白金触媒下で反応させる方法が例示される。
Moreover, the manufacturing method of the organoxysilane compound which has the protected hydroxyl group shown by the said General formula (1) in this invention is the following General formula (2), for example.
R 1 R 2 R 3 SiO— (CH 2 CH 2 O) a —A′—CH═CH 2 (2)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and A ′ are the same as above, and a is 0 or 1.)
And a compound having a double bond represented by the following general formula (3)
HSi (CH 3 ) n (OR 4 ) 3-n (3)
(Wherein R 4 and n are the same as above)
The method of making the hydrogen organoxysilane compound shown by these react with a platinum catalyst is illustrated.
また、上記一般式(2)で示される化合物は、例えば下記一般式(4)
HO−(CH2CH2O)a−A’−CH=CH2 (4)
(式中、aは0又は1である。)
で示される化合物と下記一般式(5)
R1R2R3SiCl (5)
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
で示されるクロロシラン化合物とをアミン化合物等の塩酸捕捉剤存在下に反応させることにより製造できる。
The compound represented by the general formula (2) is, for example, the following general formula (4).
HO— (CH 2 CH 2 O) a —A′—CH═CH 2 (4)
(Wherein, a is 0 or 1)
And a compound represented by the following general formula (5)
R 1 R 2 R 3 SiCl (5)
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as above.)
It can manufacture by making it react with the chlorosilane compound shown by hydrochloric acid scavengers, such as an amine compound.
上記一般式(2)で示される化合物としては、具体的には、6−トリメチルシロキシ−4−オキサ−1−ヘキセン、3−トリエチルシロキシ−1−プロペン、6−トリエチルシロキシ−4−オキサ−1−ヘキセン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)−1−プロペン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−4−オキサ−1−ヘキセン、3−トリイソプロピルシロキシ−1−プロペン、6−トリイソプロピルシロキシ−4−オキサ−1−ヘキセン等が例示される。 Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene, 3-triethylsiloxy-1-propene, and 6-triethylsiloxy- 4 -oxa-1. - hexene, 3- (t-butyl dimethyl siloxy) -1-propene, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa-1-hexene, 3-triisopropylsiloxy-1-propene, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa-1-hexene, and the like.
また、上記反応で用いられる上記一般式(3)で示されるハイドロジェンシラン化合物としては、具体的にはトリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン等が例示される。 Specific examples of the hydrogensilane compound represented by the general formula (3) used in the above reaction include trimethoxysilane, methyldimethoxysilane, dimethylmethoxysilane, triethoxysilane, methyldiethoxysilane, and dimethylethoxy. Examples include silane and the like.
上記一般式(2)で示される二重結合を有する化合物と、上記一般式(3)で示されるハイドロジェンシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、二重結合を有する化合物1モルに対しハイドロジェンシラン化合物0.5モル〜2モル、特に0.8モル〜1.2モルの範囲が好ましい。 The compounding ratio of the compound having a double bond represented by the general formula (2) and the hydrogensilane compound represented by the general formula (3) is not particularly limited. The range of 0.5 to 2 moles, particularly 0.8 to 1.2 moles of the hydrogen silane compound is preferred with respect to 1 mole of the compound having a bond.
また、上記反応で用いられる白金触媒としては、具体的には塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。 Specific examples of the platinum catalyst used in the above reaction include chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, and toluene of platinum-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex. Alternatively, xylene solution, tetrakistriphenylphosphine platinum, dichlorobistriphenylphosphine platinum, dichlorobisacetonitrile platinum, dichlorobisbenzonitrile platinum, dichlorocyclooctadiene platinum and the like are exemplified.
白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、二重結合を有する化合物1モルに対し、0.000001モル〜0.01モル、特に0.00001モル〜0.001モルの範囲が好ましい。 Although the usage-amount of a platinum catalyst is not specifically limited, From the point of reactivity and productivity, it is 0.000001 mol-0.01 mol with respect to 1 mol of compounds which have a double bond, Especially 0.00001 mol-0.001. A molar range is preferred.
上記反応の反応温度は特に限定されないが、0℃〜120℃、特に20℃〜100℃が好ましい。 Although the reaction temperature of the said reaction is not specifically limited, 0 to 120 degreeC, Especially 20 to 100 degreeC is preferable.
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。 In addition, although the said reaction advances even without a solvent, a solvent can also be used. Solvents used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate. And aprotic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide, and chlorinated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
また、本発明の上記一般式(1)で示される化合物は、下記一般式(6)
で示されるハロシラン化合物を、アルコールでアルコキシ化することにより製造することもできる。
In addition, the compound represented by the general formula (1) of the present invention is represented by the following general formula (6).
It can also be produced by alkoxylating a halosilane compound represented by
更に、本発明の上記一般式(1)で示される化合物は、下記一般式(7)
で示されるグリニア試薬と、下記一般式(8)
Si(CH3)n(OR4)4-n (8)
(式中、R4、nは上記と同様である。)
で示されるシラン化合物との反応により製造することもできる。
Furthermore, the compound represented by the general formula (1) of the present invention is represented by the following general formula (7).
And the following general formula (8)
Si (CH 3 ) n (OR 4 ) 4-n (8)
(Wherein R 4 and n are the same as above)
It can also manufacture by reaction with the silane compound shown by these.
得られたシラン化合物は、シランカップリング剤、ガラス、シリコンウエハ等に対する表面処理剤、高分子化合物の変性剤として有用である。この場合、かかる用途に使用した後において、トリオルガノシリル基(R1R2R3Si−基)を加水分解又は加アルコール分解等の常法によって脱離させ、それまで該トリオルガノシリル基によって保護していた水酸基を脱保護して水酸基を顕出させることができる。 The obtained silane compound is useful as a silane coupling agent, a surface treatment agent for glass, a silicon wafer, and the like, and a polymer compound modifier. In this case, after being used for such applications, the triorganosilyl group (R 1 R 2 R 3 Si— group) is eliminated by a conventional method such as hydrolysis or alcoholysis, and until then, the triorganosilyl group The protected hydroxyl group can be deprotected to reveal the hydroxyl group.
以下、参考例及び実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 Hereinafter, although a reference example and an example are shown and the present invention is explained concretely, the present invention is not restricted to the following example.
[参考例1]
3−トリメチルシロキシプロピルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−トリメチルシロキシ−1−プロペン39.1g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点89−90℃/0.4kPaの留分を62.5g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 279, 248, 193, 163, 135
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図1にチャートで示す。
IRスペクトル
図2にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−トリメチルシロキシプロピルトリエトキシシランであることが確認された。
[ Reference Example 1]
Synthesis of 3-trimethylsiloxypropyltriethoxysilane In a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 39.1 g (0.3 mol) of 3-trimethylsiloxy-1-propene, platinum-divinyltetramethyl 0.20 g of a toluene solution of a disiloxane complex (platinum content: 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 49.3 g (0.3 mol) of triethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 62.5 g of a fraction having a boiling point of 89-90 ° C./0.4 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 279, 248, 193, 163, 135
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
A chart is shown in FIG.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3-trimethylsiloxypropyltriethoxysilane.
[参考例2]
3−トリメチルシロキシプロピルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−トリメチルシロキシ−1−プロペン39.1g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点79−81℃/0.4kPaの留分を61.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 249, 207, 177, 163, 133
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図3にチャートで示す。
IRスペクトル
図4にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−トリメチルシロキシプロピルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[ Reference Example 2]
Synthesis of 3-trimethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane In a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 39.1 g (0.3 mol) of 3-trimethylsiloxy-1-propene, platinum-divinyltetra A toluene solution of a methyldisiloxane complex (
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 249, 207, 177, 163, 133
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 3 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3-trimethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane.
[実施例1]
3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン226.1g(1.5モル)、トリエチルアミン167.0g(1.65モル)、ヘキサン500mlを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、アリルアルコール95.9g(1.65モル)を2時間かけて滴下した。滴下後昇温し、還流下で8時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、水300gを加え、生じた塩を溶解した。有機層を硫酸ナトリウム20gで乾燥した後蒸留した。3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペンを沸点74−75℃/6.7kPaの留分として230.2g得た(収率89%)。
3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペン51.7g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点81−82℃/0.1kPaの留分を75.6g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 321, 279, 237, 193, 165, 135
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図5にチャートで示す。
IRスペクトル
図6にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシランであることが確認された。
[Example 1 ]
Synthesis of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 226.1 g (1.5 mol) of t-butyldimethylchlorosilane, 167.0 g of triethylamine ( 1.65 mol) and 500 ml of hexane were charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 95.9 g (1.65 mol) of allyl alcohol was added dropwise over 2 hours. After dropping, the temperature was raised and the mixture was stirred for 8 hours under reflux. After cooling the reaction solution to room temperature, 300 g of water was added to dissolve the resulting salt. The organic layer was dried over 20 g of sodium sulfate and distilled. 230.2 g of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene was obtained as a fraction having a boiling point of 74-75 ° C./6.7 kPa (yield 89%).
Synthesis of 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 51.7 g (0.3% of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene) was added. Mol), 0.20 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 321, 279, 237, 193, 165, 135
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 5 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane.
[実施例2]
3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペン51.7g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点85−86℃/0.15kPaの留分を71.9g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 291, 249, 207, 163, 133
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図7にチャートで示す。
IRスペクトル
図8にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[Example 2 ]
Synthesis of 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 51.7 g (0. 3 mol), 0.20 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 291, 249, 207, 163, 133
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 7 shows a chart.
IR spectrum is shown as a chart in FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane.
[実施例3]
6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、6−トリメチルシロキシ−4−オキサ−1−ヘキセン34.9g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン32.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点84−90℃/0.010kPaの留分を48.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 205, 175, 163, 119, 73
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図9にチャートで示す。
IRスペクトル
図10にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシランであることが確認された。
[Example 3 ]
Synthesis of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 34.9 g of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene (0.2% Mol), 0.13 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m /
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 9 is a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane.
[実施例4]
6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、6−トリメチルシロキシ−4−オキサ−1−ヘキセン34.9g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン26.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点74−78℃/0.013kPaの留分を45.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 221, 175, 145, 133, 73
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図11にチャートで示す。
IRスペクトル
図12にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[Example 4 ]
Synthesis of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 34.9 g of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene (0. 2 mol), 0.13 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m /
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 11 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane.
Claims (2)
で示されることを特徴とする保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。 The following general formula (1)
An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group, wherein
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