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JP4407099B2 - Laminated body - Google Patents

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JP4407099B2
JP4407099B2 JP2002123659A JP2002123659A JP4407099B2 JP 4407099 B2 JP4407099 B2 JP 4407099B2 JP 2002123659 A JP2002123659 A JP 2002123659A JP 2002123659 A JP2002123659 A JP 2002123659A JP 4407099 B2 JP4407099 B2 JP 4407099B2
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JP
Japan
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layer
organic resin
metal
functional layer
hard organic
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潤子 舘野
紀孝 伊橋
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Toppan Inc
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Toppan Inc
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Publication date
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  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は支持基材上に各種の機能を持たせるために機能層を積層するにあたり、この機能層の剥離、擦れ、及び引っ掻き等に対する機械的強度性能を長く持続する積層体に関するものである。特に、無機化合物を蒸着法、スパッタリング法、及びイオンプレーティング法などの物理気相析出法(PVD)または化学気相析出法(CVD)を用いて機能層として積層した積層体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、ディスプレイの表示画面の表面に適用される反射防止フィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)やトリアセチルセルロース(TAC)等のプラスチックフィルム上に硬質有機樹脂層を形成し、その上に高屈折物質である酸化チタン、低屈折物質である酸化珪素等の無機化合物を多層薄膜として形成することで反射率を低減させている。また、導電性を有する酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等をプラスチックに積層させた導電性フィルム、電磁波遮蔽フィルムおよび帯電防止フィルム、反射防止機能と導電性機能を同時に付与させるために上記透明で導電性を有する酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等を用いることで多層薄膜を形成し帯電防止機能を併せ持たせた反射防止フィルム、さらには、酸化珪素、酸化マグネシウムを積層させたガスバリアフィルム等が商品化されている。このように多岐の分野で使用目的に合った機能層を設けた積層体が使用されている。
【0003】
積層体において目的に合った機能層が支持基材から剥がれ落ちないように、如何に機械強度を向上させ、且つ、如何にその機械強度を長く持続させるかが、積層体を使用・商品化する上で重要なポイントとなる。このような積層体には、支持基材に直接無機化合物を積層したり、支持基材がプラスチックを含む有機樹脂の場合にはコロナ処理、放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、プラズマ処理等で表面改質して機能層を積層させている。しかし、このような表面改質処理方法では、機械的な強度を満足していても、その機械強度は長く持続しない場合が多い。これらの原因は、例えば温度および温度変化、並びに紫外線および可視光により基材、有機樹脂または機能層が変質し、機能層が剥がれ落ちると言われている。さらに、機能層の数または機能層の膜厚を増す毎に耐久性も低下することが認められている。
【0004】
このような場合には、グルー層またはプライマー層と呼ばれる中間層を硬質有機樹脂の上に任意の厚さにて成膜し、その上に機能層を成膜することで硬質有機樹脂層に対する機能層の密着性や耐光性を向上させる方法が一般的に取られている。例えば、特開平2000−86932号公報には、有機樹脂層上にプライマー層として水系無機酸化物を成膜する事により、初期及び促進耐候試験後のいずれにおいても良好な密着性と外観を得ることができたことが開示されている。また、特開2001−205729号公報には、フッ素樹脂フィルム上にプライマー層として金属酸化物を含有する膜を成膜する事により、機能層の設計通りの特性を発現させ、かつ長期耐久性、密着性に優れる積層体が得られることが開示されている。しかしながら、このような積層体を作製するにあたり、以下のような問題が生じる。第一に、前記のような中間層を作製することは工程数の増加を伴い、生産効率が悪く結果としてコストが増大する。さらに、機能層の外観及び機能層が持つ性能を損なうことなく中間層を作製する必要があるために、非常に薄く作製しなければならない。このような場合には、生産中に中間層が付着しているかどうかを確認する方法が難しく、しかもこのような薄い膜厚が制御し難い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、生産効率が良好で積層体の機能層の生産直後の機械強度を長く持続させることが可能な積層体を提供することを目的としてなされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、支持基材上に、金属またはそれらの化合物が添加された硬質有機樹脂層を設け、前記硬質有機樹脂層に少なくとも1層以上の機能層が積層された積層体であって、前記支持基材がポリエチレンテレフタレートフィルムであり、前記硬質有機樹脂層が紫外線硬化型アクリル樹脂を硬化させたものであり、前記機能層がTiO /SiO /TiO /SiO の4層からなるもの、酸化インジウムからなるもの、又は、ZnO/SiO /ZnO/SiO の4層からなるものから選択される1の層であり、前記金属が、コバルト、クロム、銅、鉄から選ばれる1種以上であり、前記硬質有機樹脂層に添加する前記添加物の添加割合が、前記紫外線硬化型アクリル樹脂を基準として金属換算で0.05〜1モル%の範囲にあることを特徴とする積層体である。
【0008】
請求項2に記載の発明は、前記金属の化合物が金属酸化物からなることを特徴とする請求項1に記載の積層体である。
【0009】
請求項3に記載の発明は、前記金属またはそれらの化合物がコロイド粒子からなることを特徴とする請求項1または2に記載の積層体である。
【0011】
請求項4に記載の発明は、前記機能層が、反射防止機能を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層体である。
【0012】
請求項5に記載の発明は、前記機能層が、透明導電性機能を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層体である。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態を説明する。
本発明は、図1に示すように、支持基材(1)に硬質有機樹脂層(2)を介して機能層(3)を積層した積層体である。
支持基材(1)としては、何の機能をどの様な用途に用いるかによって使い分けらることができる。例えば、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアミド(PA)、ポリカーボネート(PC)、ポリアクリル(PMMA)、ナイロン(Ny)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリプロピレン(PP)、トリアセチルセルロース(TAC)等のプラスチックフィルム、シート、板を用いることができる。
【0016】
本発明では、支持基材(1)と機能層(3)との間に、機能層の機械強度を十分に発揮させるために硬質有機樹脂層(2)をアンダーコーティング層として設ける。この硬質有機樹脂層には、電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使用でき、特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適である。また、機樹脂層の膜厚は3μm以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度、扱い易さの点から5〜7μmの範囲が好ましい。これらの硬質有機樹脂層は均一に塗布されるものであれば、塗布方法はいかなる方法でも構わない。
【0017】
本発明では、積層体における生産直後の機械強度を長く持続させるために、硬質有機樹脂層(2)内に金属またはそれらの化合物を添加することを特徴とする。
【0018】
前記金属またはそれらの化合物としては、特に制限するものではないが、例えばコバルト、クロム、銅、鉄、錫、亜鉛等の金属、若しくはそれらの金属化合物を用いることができる。
金属の化合物としては酸化物、窒化物、酸窒化物、硫化物、金属アルコキシド等の有機金属化合物などが挙げられる。コバルト、クロム、銅、鉄、錫、亜鉛の酸化物とは、CoOx(X=1〜1.5)、CrOx(X=1〜3)、CuOx(X=0.5〜1)、FeOx(X=1〜1.5)、SnOx(X=2〜4)、ZnO(X=2)で表すことができる化合物等が挙げられる。
また、添加する金属またはそれらの化合物は1種類でも2種類以上であっても良い。
【0019】
また、添加する金属またはそれらの化合物は、コロイド粒子であることが好ましい。
コロイド粒子は、積層体の機械強度を維持させるための平均粒子径として1〜100nmが適当であるが、光学特性機能を重視する場合には10〜50nmであることが望ましい。また、コバルト、クロム、銅、鉄、錫、亜鉛の金属化合物には、機能層の性能を著しく損なうことがなければ前記アルコキシドや塩等を適用してもよい。
【0020】
硬質有機樹脂層(2)への添加物の量は、機能層(3)の機能を阻害しなければよく、金属換算で10モル%以下が適当である。添加量の増加は、機械強度を維持することにはならず、逆に機能層の光学薄膜としての機能低下をもたらす。反射防止等の光学特性機能を付与する場合には、0.05〜1モル%の範囲が望ましい。
【0021】
また、前記硬質有機樹脂層(2)に平均粒子径0.01〜3μmの無機あるいは有機物微粒子を混合分散させる、または表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことができる。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性で好ましい。
【0022】
機能層(3)には、反射防止、導電性、防汚、帯電防止、電子波遮断、ガスバリア等、目的に応じて様々な機能持たせることができる。またこれらの機能層は、複数層からなるものでも良く、1層で複数の機能を持たせても良い。また、異なる機能を有する機能層を2層以上設けても良い
【0023】
機能層(3)が、反射防止を目的とする場合には、透明薄膜を形成する化合物として酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化ニオブ、酸化珪素、及びフッ化マグネシウムの内の少なくとも1種若しくは2種以上から選ばれる混合物等を用い、屈折率、光学膜厚、及び薄膜の積層順序光学理論に基づいて反射率が低下するように組み合わせ設計される。例えば、波長λ=520nmの光の反射率を下げる場合、酸化インジウム・酸化錫(屈折率2.0〜2.3 光学膜厚λ/8)/酸化珪素(屈折率1.45〜1.48 光学膜厚λ/8)/酸化インジウム・酸化錫(屈折率2.0〜2.3 光学膜厚λ/4)/酸化珪素(屈折率1.45〜1.48 光学膜厚λ/4)の様な膜厚構成にすると反射防止機能を得ることができる。
【0024】
また、機能層(3)が、帯電防止、電子波遮断、導電性を目的とする場合には、導電性薄膜を形成する酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、若しくは前記酸化物の混合物を用いて層を形成することができる。
【0025】
また、機能層(3)が、防汚性を目的とする場合には、フルオロカーボン、パーフルオロシランやこれらの高分子層を設けることができる。
【0026】
これらの機能層は、ウェットコーティング法(ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法等)、PVD(Physical Vapor Deposition)法(真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等)、CVD(Chemical Vapor Deposition)法等の公知の方法により形成される。
【0027】
【実施例】
本発明について、実施例をあげて詳細に説明するが、これに限られるものではない
【0028】
<実施例1>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、酢酸コバルト(Co(C2322・4H2O)を金属換算で1%含んだ紫外線硬化型アクリル樹脂をコーティングし、紫外線照射により硬化させて厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能を付与させるために、TiO2/SiO2/TiO2/SiO2の4層からなる機能層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、実施例1の反射防止フィルムを作製した。
【0029】
<実施例2>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、平均粒子径100nmのCrのコロイド粒子を金属換算で1%含んだ紫外線硬化型アクリル樹脂をコーティングし、紫外線照射により硬化させて厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能を付与させるために、TiO2/SiO2/TiO2/SiO2の4層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、実施例2の反射防止フィルムを作製した。
【0030】
<実施例3>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、平均粒子径100nmの酸化第二銅CuOのコロイド粒子を金属換算で1%含んだ紫外線硬化型アクリル樹脂をコーティングし、紫外線照射により硬化させて厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能を付与させるために、TiO2/SiO2/TiO2/SiO2の4層からなる機能層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、実施例3の反射防止フィルムを作製した。
【0031】
<実施例4>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、平均粒子径50nmのFe微粒子を1%含んだ紫外線硬化型アクリル樹脂をコーティングし、紫外線照射により硬化させて厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能を付与させるために、酸化インジウムをプラズマアシスト蒸着法により機能層を積層させ、実施例4の透明導電性フィルムを作製した。
【0032】
<実施例5>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに、Fe(O−i−C373を金属換算で1%含んだ紫外線硬化型アクリル樹脂をコーティングし、紫外線照射により硬化させて厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能及び透明導電性機能を付与させるために、ZnO/SiO2/ZnO/SiO2の4層からなる機能層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、実施例5の反射防止及び透明導電性フィルムを作製した。
【0033】
<比較例1>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに紫外線硬化型樹脂をコーティングし、紫外線を照射して硬化させることで厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能を付与させるために、TiO2/SiO2/TiO2/SiO2の4層からなる機能層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、比較例1の反射防止フィルムを作製した。
【0034】
<比較例2>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに紫外線硬化型樹脂をコーティングし、紫外線を照射して硬化させることで厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に透明導電性機能を付与させるために、酸化インジウムを機能層としてプラズマアシスト蒸着法により積層させ、比較例2の透明導電性フィルムを作製した。
【0035】
<比較例3>
厚さ100μmの透明なポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに紫外線硬化型樹脂をコーティングし、紫外線を照射して硬化させることで厚さ5μmの硬質有機樹脂層を設けた。しかる後、この硬質有機樹脂層に反射防止機能および透明導電性機能を付与させるために、ZnO/SiO2/ZnO/SiO2の4層からなる機能層をプラズマアシスト蒸着法により積層させ、比較例3の反射防止及び透明導電性フィルムを作製した。
【0036】
これらの積層体の表面剥離、傷付き、摩耗の機械強度を下記の評価方法によって評価した。
【0037】
<表面剥離>
(JIS K 5400を準用したテープ剥離試験)
カッターで碁盤目状に一片が1mmの100ヶの升目を作り、その上にテープを貼って剥がして剥離していない升目の数を数える。例えば60/100は、40ヶの升目が剥離したことを示す。
<傷付き>
(JIS K 5400を準用した鉛筆試験)
硬度3Hの鉛筆で1kg荷重を架けて線を5本引いたとき、傷が付かなかった本数を数える。例えば3/5は、傷が付かない本数が3本あったことを示す。
<摩耗>
(スチールウール試験)
荷重1kg/cm2でスチールウール(#0000)を50mm往復運動させて、何回で傷付いたかを調べる。例えば5回は、5回目に傷が付いたことを示す。
機械強度の持続性を評価する耐久性試験として以下の方法を用いた。
<耐久性試験(1)(耐光)>
(JIS B 7751を準用した耐光性試験)
スガ試験機株式会社製 紫外線ロングライフフェードメータ FAL−5(光源;紫外線カーボンアーク)を用いて、前記フィルムに240時間紫外線を暴露し、その後前記表面剥離テストを行った。
<耐久性試験(2)(耐湿熱)>
前記フィルムを温度65℃及び湿度95%の環境にて1000時間放置し、その後温度25℃及び湿度65%の環境に24時間放置して、上記前記評価を行った。
【0038】
上記の評価結果を表1に示す。
【0039】
【表1】

Figure 0004407099
【0040】
【発明の効果】
上記の評価結果が示すように、積層体において硬質有機樹脂層に対して金属あるいはこれらの化合物を添加することで機能層の耐剥離性、耐摩耗性、耐擦傷性などの機械強度の耐久性を向上させることができ、低コストにて安定した品質の製品を供給することが可能となる。
【0041】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の積層体の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 支持基材
2 硬質有機樹脂層
3 機能層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laminate that lasts for a long time the mechanical strength performance against peeling, rubbing, scratching, and the like of the functional layer when laminating the functional layer to provide various functions on a support substrate. In particular, the present invention relates to a laminate in which an inorganic compound is laminated as a functional layer using physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) such as vapor deposition, sputtering, and ion plating.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, an antireflection film applied to the surface of a display screen of a display has a hard organic resin layer formed on a plastic film such as polyethylene terephthalate (PET) or triacetyl cellulose (TAC), and is made of a highly refractive material. The reflectance is reduced by forming an inorganic compound such as a certain titanium oxide or silicon oxide which is a low refractive material as a multilayer thin film. In addition, conductive films in which conductive zinc oxide, indium oxide, tin oxide, etc. are laminated on plastic, electromagnetic wave shielding films and antistatic films, and the above transparent and conductive materials to provide both antireflection and conductive functions. Products such as anti-reflective films that have antistatic functions by forming multilayer thin films by using zinc oxide, indium oxide, tin oxide, etc., and gas barrier films laminated with silicon oxide and magnesium oxide It has become. Thus, the laminated body which provided the functional layer according to the intended purpose in various fields is used.
[0003]
Use and commercialize laminates to improve the mechanical strength and how to maintain the mechanical strength for a long time so that the functional layer meeting the purpose in the laminate does not peel off from the support substrate. It is an important point above. In such a laminate, an inorganic compound is laminated directly on the support substrate, or when the support substrate is an organic resin containing plastic, corona treatment, discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, plasma treatment, etc. The functional layer is laminated by surface modification. However, in such a surface modification treatment method, even if the mechanical strength is satisfied, the mechanical strength often does not last long. These causes are said to be caused by, for example, the base material, the organic resin, or the functional layer being denatured due to temperature and temperature change, and ultraviolet rays and visible light, and the functional layer is peeled off. Furthermore, it is recognized that the durability decreases as the number of functional layers or the thickness of the functional layers increases.
[0004]
In such a case, an intermediate layer called a glue layer or a primer layer is formed on the hard organic resin at an arbitrary thickness, and a functional layer is formed thereon to function as a hard organic resin layer. A method for improving the adhesion and light resistance of the layer is generally taken. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-86932 discloses that, by forming a water-based inorganic oxide as a primer layer on an organic resin layer, good adhesion and appearance can be obtained both in the initial stage and after the accelerated weathering test. Is disclosed. JP-A-2001-205729 discloses that a film containing a metal oxide as a primer layer is formed on a fluororesin film to develop the characteristics as designed in the functional layer, and long-term durability. It is disclosed that a laminate having excellent adhesion can be obtained. However, the following problems arise in producing such a laminate. First, producing the intermediate layer as described above is accompanied by an increase in the number of steps, resulting in poor production efficiency and consequently cost. Furthermore, since it is necessary to produce an intermediate layer without impairing the appearance of the functional layer and the performance of the functional layer, it must be made very thin. In such a case, it is difficult to confirm whether or not the intermediate layer is adhered during production, and such a thin film thickness is difficult to control.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made for the purpose of providing a laminate having good production efficiency and capable of maintaining the mechanical strength immediately after production of the functional layer of the laminate for a long time.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The invention of claim 1 comprises a support substrate, a metal or a hard organic resin layer compound is added thereof is provided a laminate at least one layer of the functional layer to the hard organic resin layer are laminated The support base material is a polyethylene terephthalate film, the hard organic resin layer is a cured UV curable acrylic resin, and the functional layer is made of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 . One layer selected from four layers, one composed of indium oxide, or one composed of four layers of ZnO / SiO 2 / ZnO / SiO 2 , wherein the metal is cobalt, chromium, copper, iron The additive ratio of the additive added to the hard organic resin layer is 0.05 to 1 mol in terms of metal based on the ultraviolet curable acrylic resin. % Of the laminate.
[0008]
The invention according to claim 2 is the laminate according to claim 1 , wherein the metal compound is made of a metal oxide.
[0009]
The invention according to claim 3, wherein the metal or compound thereof is a laminate according to claim 1 or 2, characterized in that it consists of colloidal particles.
[0011]
The invention described in claim 4 is the laminate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the functional layer has an antireflection function.
[0012]
The invention according to claim 5 is the laminate according to any one of claims 1 to 3 , wherein the functional layer has a transparent conductive function.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, the present invention is a laminate in which a functional layer (3) is laminated on a support substrate (1) through a hard organic resin layer (2).
The supporting substrate (1) can be selected depending on what function is used for what purpose. For example, glass substrate, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyamide (PA), polycarbonate (PC), polyacryl (PMMA), nylon (Ny), polyethersulfone (PES), polyvinyl chloride Plastic films, sheets, and plates such as (PVC), polypropylene (PP), and triacetyl cellulose (TAC) can be used.
[0016]
In the present invention, the hard organic resin layer (2) is provided as an undercoating layer between the supporting substrate (1) and the functional layer (3) in order to sufficiently exhibit the mechanical strength of the functional layer. This hard organic resin layer can be made of a cured resin or thermosetting resin by ionizing radiation or ultraviolet irradiation, and particularly UV curable acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylamides, etc. Acrylic and organic silicon resins and thermosetting polysiloxane resins are preferred. Further, the film thickness of the machine resin layer is sufficient if it is 3 μm or more, but is preferably in the range of 5 to 7 μm from the viewpoint of transparency, coating accuracy, and ease of handling. As long as these hard organic resin layers are uniformly coated, any coating method may be used.
[0017]
In the present invention, a metal or a compound thereof is added to the hard organic resin layer (2) in order to maintain the mechanical strength immediately after production in the laminate for a long time.
[0018]
Although it does not restrict | limit especially as said metal or those compounds, For example, metals, such as cobalt, chromium, copper, iron, tin, zinc, or those metal compounds can be used.
Examples of the metal compound include oxides, nitrides, oxynitrides, sulfides, and organometallic compounds such as metal alkoxides. The oxides of cobalt, chromium, copper, iron, tin, and zinc are CoO x (X = 1 to 1.5), CrO x (X = 1 to 3), CuO x (X = 0.5 to 1). , FeO x (X = 1 to 1.5), SnO x (X = 2 to 4), compounds that can be represented by ZnO (X = 2), and the like.
In addition, one kind or two or more kinds of metals or compounds thereof may be added.
[0019]
Moreover, it is preferable that the metal to add or those compounds are colloidal particles.
The average particle diameter of the colloidal particles for maintaining the mechanical strength of the laminate is suitably 1 to 100 nm, but is preferably 10 to 50 nm when importance is placed on the optical property function. Moreover, the said alkoxide, salt, etc. may be applied to the metal compound of cobalt, chromium, copper, iron, tin, and zinc as long as the performance of the functional layer is not significantly impaired.
[0020]
The amount of the additive to the hard organic resin layer (2) may be as long as it does not hinder the function of the functional layer (3), and is suitably 10 mol% or less in terms of metal. The increase in the amount added does not maintain the mechanical strength, but conversely causes a functional deterioration of the functional layer as an optical thin film. In the case of providing an optical characteristic function such as antireflection, the range of 0.05 to 1 mol% is desirable.
[0021]
Further, the hard organic resin layer (2) is subjected to a light diffusive treatment generally called anti-glare by mixing and dispersing inorganic or organic fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm or making the surface shape uneven. Can do. These fine particles are not particularly limited as long as they are transparent, but low refractive materials are preferable, and silicon oxide and magnesium fluoride are preferable in terms of stability and heat resistance.
[0022]
The functional layer (3) can have various functions depending on purposes such as antireflection, conductivity, antifouling, antistatic, electron wave blocking, gas barrier, and the like. These functional layers may be composed of a plurality of layers, and one layer may have a plurality of functions. In addition, two or more functional layers having different functions may be provided.
When the functional layer (3) is intended for antireflection, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, zinc oxide, indium oxide, hafnium oxide, cerium oxide, tin oxide, niobium oxide are used as the compounds forming the transparent thin film. And using a mixture selected from at least one or more of silicon oxide and magnesium fluoride so that the reflectivity is reduced based on the refractive index, the optical film thickness, and the stacking order optical theory of thin films Designed in combination. For example, when reducing the reflectance of light having a wavelength λ = 520 nm, indium oxide / tin oxide (refractive index 2.0 to 2.3, optical film thickness λ / 8) / silicon oxide (refractive index 1.45 to 1.48). Optical film thickness λ / 8) / indium oxide / tin oxide (refractive index 2.0 to 2.3 optical film thickness λ / 4) / silicon oxide (refractive index 1.45 to 1.48 optical film thickness λ / 4) With such a film thickness configuration, an antireflection function can be obtained.
[0024]
When the functional layer (3) is intended for antistatic, electron wave blocking, and conductivity, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, or a mixture of the oxides forming the conductive thin film is used. A layer can be formed.
[0025]
Moreover, when a functional layer (3) aims at antifouling property, fluorocarbon, perfluorosilane, and these polymer layers can be provided.
[0026]
These functional layers are prepared by wet coating method (dip coating method, spin coating method, flow coating method, spray coating method, roll coating method, gravure coating method, etc.), PVD (Physical Vapor Deposition) method (vacuum deposition method, reactivity). It is formed by a known method such as a vapor deposition method, an ion beam assisted vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like, or a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.
[0027]
【Example】
The present invention will be described in detail with reference to examples, but is not limited thereto.
<Example 1>
A 100 μm thick transparent polyethylene terephthalate (PET) film is coated with an ultraviolet curable acrylic resin containing 1% of cobalt acetate (Co (C 2 H 3 O 2 ) 2 .4H 2 O) in terms of metal. A hard organic resin layer having a thickness of 5 μm was provided by being cured by irradiation. Thereafter, in order to impart an antireflection function to the hard organic resin layer, a functional layer composed of four layers of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 is laminated by a plasma assisted vapor deposition method. A prevention film was prepared.
[0029]
<Example 2>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm is coated with an ultraviolet curable acrylic resin containing 1% of colloidal particles of Cr having an average particle diameter of 100 nm in terms of metal, and cured by ultraviolet irradiation to have a thickness of 5 μm. A hard organic resin layer was provided. Thereafter, in order to impart an antireflection function to the hard organic resin layer, four layers of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 are laminated by a plasma assisted vapor deposition method to produce an antireflection film of Example 2. did.
[0030]
<Example 3>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm is coated with an ultraviolet curable acrylic resin containing 1% colloidal particles of cupric oxide CuO having an average particle diameter of 100 nm in terms of metal, and cured by ultraviolet irradiation. A hard organic resin layer having a thickness of 5 μm was provided. Thereafter, in order to impart an antireflection function to the hard organic resin layer, a functional layer composed of four layers of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 was laminated by the plasma assist vapor deposition method, and the reflection of Example 3 was performed. A prevention film was prepared.
[0031]
<Example 4>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 100 μm is coated with an ultraviolet curable acrylic resin containing 1% of Fe fine particles with an average particle diameter of 50 nm, and cured by ultraviolet irradiation to form a hard organic resin layer with a thickness of 5 μm. Provided. Thereafter, in order to impart an antireflection function to the hard organic resin layer, a functional layer was laminated with indium oxide by a plasma-assisted vapor deposition method to produce a transparent conductive film of Example 4.
[0032]
<Example 5>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm is coated with an ultraviolet curable acrylic resin containing 1% of Fe (Oi-C 3 H 7 ) 3 in terms of metal, and cured by irradiation with ultraviolet rays. A hard organic resin layer having a thickness of 5 μm was provided. Thereafter, in order to impart an antireflection function and a transparent conductive function to the hard organic resin layer, a functional layer composed of four layers of ZnO / SiO 2 / ZnO / SiO 2 was laminated by a plasma assisted deposition method. An antireflection and transparent conductive film 5 was prepared.
[0033]
<Comparative Example 1>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was coated with an ultraviolet curable resin and cured by irradiating with ultraviolet rays to provide a hard organic resin layer having a thickness of 5 μm. Thereafter, in order to impart an antireflection function to the hard organic resin layer, a functional layer composed of four layers of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2 was laminated by the plasma assist deposition method, and the reflection of Comparative Example 1 was performed. A prevention film was prepared.
[0034]
<Comparative example 2>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was coated with an ultraviolet curable resin and cured by irradiating with ultraviolet rays to provide a hard organic resin layer having a thickness of 5 μm. Thereafter, in order to impart a transparent conductive function to the hard organic resin layer, indium oxide was laminated as a functional layer by a plasma assisted vapor deposition method to produce a transparent conductive film of Comparative Example 2.
[0035]
<Comparative Example 3>
A transparent polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm was coated with an ultraviolet curable resin and cured by irradiating with ultraviolet rays to provide a hard organic resin layer having a thickness of 5 μm. Thereafter, in order to impart an antireflection function and a transparent conductive function to the hard organic resin layer, a functional layer composed of four layers of ZnO / SiO 2 / ZnO / SiO 2 was laminated by a plasma assisted deposition method, and a comparative example 3 antireflection and transparent conductive film was produced.
[0036]
The mechanical strength of surface peeling, scratching, and abrasion of these laminates was evaluated by the following evaluation methods.
[0037]
<Surface peeling>
(Tape peeling test applying JIS K 5400)
Make 100 squares of 1 mm in a grid pattern with a cutter, count the number of squares that are not peeled off by sticking tape on it. For example, 60/100 indicates that 40 squares were peeled off.
<Scratched>
(Pencil test applying JIS K 5400)
When 5 lines are drawn with a 1 kg load with a pencil of hardness 3H, the number of scratches is counted. For example, 3/5 indicates that there were three lines that were not damaged.
<Wear>
(Steel wool test)
The steel wool (# 0000) is reciprocated by 50 mm at a load of 1 kg / cm 2 to examine how many times it was damaged. For example, 5 times indicates that the 5th time it was damaged.
The following method was used as a durability test for evaluating the durability of the mechanical strength.
<Durability test (1) (light resistance)>
(Light resistance test applying JIS B 7751)
The film was exposed to ultraviolet rays for 240 hours using an ultraviolet long life fade meter FAL-5 (light source; ultraviolet carbon arc) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and then the surface peeling test was performed.
<Durability test (2) (moisture and heat resistance)>
The film was allowed to stand for 1000 hours in an environment with a temperature of 65 ° C. and a humidity of 95%, and then allowed to stand for 24 hours in an environment with a temperature of 25 ° C. and a humidity of 65%.
[0038]
The evaluation results are shown in Table 1.
[0039]
[Table 1]
Figure 0004407099
[0040]
【The invention's effect】
As the above evaluation results show, durability of mechanical strength such as peeling resistance, abrasion resistance, and scratch resistance of the functional layer can be obtained by adding metal or these compounds to the hard organic resin layer in the laminate. This makes it possible to supply products of stable quality at low cost.
[0041]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a laminate according to the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support base material 2 Hard organic resin layer 3 Functional layer

Claims (5)

支持基材上に、金属またはそれらの化合物が添加された硬質有機樹脂層を設け、前記硬質有機樹脂層に少なくとも1層以上の機能層が積層された積層体であって、
前記支持基材がポリエチレンテレフタレートフィルムであり、
前記硬質有機樹脂層が紫外線硬化型アクリル樹脂を硬化させたものであり、
前記機能層がTiO /SiO /TiO /SiO の4層からなるもの、酸化インジウムからなるもの、又は、ZnO/SiO /ZnO/SiO の4層からなるものから選択される1の層であり、
前記金属が、コバルト、クロム、銅、鉄から選ばれる1種以上であり、
前記硬質有機樹脂層に添加する前記添加物の添加割合が、前記紫外線硬化型アクリル樹脂を基準として金属換算で0.05〜1モル%の範囲にあることを特徴とする積層体。
On a supporting substrate, a metal or a hard organic resin layer compound is added thereof is provided, at least one layer of the functional layer is a laminate that is laminated on the hard organic resin layer,
The support substrate is a polyethylene terephthalate film;
The hard organic resin layer is obtained by curing an ultraviolet curable acrylic resin,
That the functional layer consists of four layers of TiO 2 / SiO 2 / TiO 2 / SiO 2, made of indium oxide, or is selected from those consisting of four layers of ZnO / SiO 2 / ZnO / SiO 2 1 Layer of
The metal is one or more selected from cobalt, chromium, copper, and iron;
The laminate according to claim 1, wherein an additive ratio of the additive added to the hard organic resin layer is in a range of 0.05 to 1 mol% in terms of metal based on the ultraviolet curable acrylic resin .
前記金属の化合物が金属酸化物からなることを特徴とする請求項1に記載の積層体。  The laminate according to claim 1, wherein the metal compound is made of a metal oxide. 前記金属またはそれらの化合物がコロイド粒子からなることを特徴とする請求項1または2に記載の積層体。  The laminate according to claim 1 or 2, wherein the metal or a compound thereof comprises colloidal particles. 前記機能層が、反射防止機能を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層体。  The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the functional layer has an antireflection function. 前記機能層が、透明導電性機能を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層体。  The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the functional layer has a transparent conductive function.
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