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JP4383899B2 - Radiation imaging apparatus and radiation imaging system - Google Patents

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JP4383899B2
JP4383899B2 JP2004007035A JP2004007035A JP4383899B2 JP 4383899 B2 JP4383899 B2 JP 4383899B2 JP 2004007035 A JP2004007035 A JP 2004007035A JP 2004007035 A JP2004007035 A JP 2004007035A JP 4383899 B2 JP4383899 B2 JP 4383899B2
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孝昌 石井
修 辻井
達也 山崎
明 平井
敏和 田村
秀樹 野中
正和 森下
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Description

本発明は、医療用画像診断装置、非破壊検査装置、放射線を用いた分析装置等に好適な放射線撮像装置及び放射線撮像システムに関する。なお、本明細書では、α線、β線、γ線等の他に、可視光線、X線等の電磁波も、放射線に含まれるものとする。   The present invention relates to a radiation imaging apparatus and a radiation imaging system suitable for medical image diagnostic apparatuses, nondestructive inspection apparatuses, analyzers using radiation, and the like. In this specification, in addition to α rays, β rays, γ rays and the like, electromagnetic waves such as visible rays and X rays are included in the radiation.

被写体に放射線を照射し、被写体を透過した放射線の強度分布を検出して被写体の放射線画像を得る方法として最近では、微小な光電変換素子(photoelectric conversion device)、スイッチング素子等からなる画素を格子状に配列した光電変換装置を使用し、デジタル画像を取得する技術が開発されている。これらの放射線撮像装置では、取得した画像データを即時に表示することが可能である。   As a method of obtaining a radiographic image of a subject by irradiating the subject with radiation and detecting the intensity distribution of the radiation that has passed through the subject, pixels consisting of minute photoelectric conversion devices, switching elements, etc. are in a grid pattern. A technique for acquiring a digital image using a photoelectric conversion device arranged in the above has been developed. In these radiation imaging apparatuses, the acquired image data can be displayed immediately.

従来の放射線撮像装置において、放射線撮像装置に到達する放射線量が低領域になると、到達情報量の低下による量子ノイズや、装置が有するシステムノイズの影響が大きくなり、画像のS/N比が悪化する。このため、取得画像の必要最低限の品質を確保するために、最小限の到達放射線量を得る目的で、フォトタイマ等とよばれるX線自動露出制御(Automatic Exposure Control:AEC)回路が使用されている。図8(a)及び(b)に示すように、AEC回路で使用する放射線検出素子のAEC用放射線検出領域5は、例えば胸部撮影及び腹部撮影のいずれでも使用可能なように、2〜3箇所とされている。   In a conventional radiation imaging apparatus, when the amount of radiation reaching the radiation imaging apparatus becomes a low region, the influence of quantum noise due to a decrease in the amount of arrival information and system noise of the apparatus increases, and the S / N ratio of the image deteriorates. To do. For this reason, an X-ray automatic exposure control (AEC) circuit called a phototimer is used for the purpose of obtaining the minimum amount of radiation that can be reached in order to ensure the necessary minimum quality of the acquired image. ing. As shown in FIGS. 8A and 8B, the AEC radiation detection region 5 of the radiation detection element used in the AEC circuit is, for example, two to three so that it can be used for both chest imaging and abdominal imaging. It is said that.

このとき、上記放射線撮像装置の撮像素子として固体光検出素子を用いたフラットパネルディテクタ(FPD)の場合は、特許文献1(米国特許第5585638号明細書)に開示されているように、FPDの前面にFPDとは別体の放射線検出素子を配置して、AEC回路を動作させている。   At this time, in the case of a flat panel detector (FPD) using a solid-state light detecting element as an imaging element of the radiation imaging apparatus, as disclosed in Patent Document 1 (US Pat. No. 5,585,638), the FPD A radiation detection element separate from the FPD is disposed on the front surface to operate the AEC circuit.

しかしながら、別途AEC制御用センサを設け、入射する放射線量を調整(AEC制御)する場合、このセンサの配置が問題となる。つまり、FPDの前面にAEC制御用センサを、画像撮像用センサによる撮像に支障のないように配置するためには、AEC制御用センサによる放射線の減衰を非常に小さなものとする必要となる。このため、装置全体のコスト上昇が引き起こされる。また、全く減衰の無いセンサは存在しないため、その分の撮像画像の画質低下は避けられない。   However, when a separate AEC control sensor is provided and the amount of incident radiation is adjusted (AEC control), the placement of this sensor becomes a problem. That is, in order to dispose the AEC control sensor on the front surface of the FPD so as not to hinder the image pickup by the image pickup sensor, the attenuation of radiation by the AEC control sensor needs to be extremely small. For this reason, the cost rise of the whole apparatus is caused. In addition, since there is no sensor with no attenuation at all, a reduction in image quality of the captured image is unavoidable.

米国特許第5585638号明細書US Pat. No. 5,585,638

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであって、検出前での放射線の減衰を抑制しながら、入射する放射線量を自動調整することができる放射線撮像装置及び放射線撮像システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and provides a radiation imaging apparatus and a radiation imaging system that can automatically adjust the amount of incident radiation while suppressing attenuation of radiation before detection. For the purpose.

本願発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す発明の諸態様に想到した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has come up with various aspects of the invention described below.

本願発明者等は、装置の小型化及び簡素化の要求や、低コスト化の要求、また製造技術の向上からFPD内部にAEC用放射線検出素子を配置することを可能とした。但し、この場合、AEC用放射線検出素子は、画像撮像用放射線検出画素の動作の妨げにならないよう配置することが望まれる。具体的には、FPDを構成する絶縁基板からテープキャリアパッケージ(TCP:Tape Carrier Package)等のプリント配線基板を介して信号が読み出される部分の構成を最適化することが望まれる。ここで、画像撮像用放射線検出画素の動作の妨げとは、FPD内にAEC用放射線検出画素が配置された結果、その付近の画像撮像用放射線検出画素の配線パターンが他の部分と相違するため、配線容量が増加してノイズが増加したり、画像撮像用放射線検出画素の著しい開口率の低下によって画質が低下したりすること等をいう。   The inventors of the present application made it possible to arrange the radiation detecting element for AEC inside the FPD because of the demand for miniaturization and simplification of the apparatus, the demand for cost reduction, and the improvement of the manufacturing technology. However, in this case, it is desirable to dispose the AEC radiation detection elements so as not to hinder the operation of the image capturing radiation detection pixels. Specifically, it is desired to optimize the configuration of a portion from which signals are read out from an insulating substrate constituting the FPD via a printed wiring board such as a tape carrier package (TCP). Here, the hindrance to the operation of the radiation detection pixel for imaging is because the wiring pattern of the radiation detection pixel for imaging in the vicinity of the AEC radiation detection pixel is different from other portions as a result of the arrangement of the AEC radiation detection pixel in the FPD. In other words, the wiring capacity increases, noise increases, and the image quality deteriorates due to a significant decrease in the aperture ratio of the radiation detection pixels for imaging.

本発明に係る放射線撮像装置は、基板上に行方向及び列方向に配置された複数の画素領域と、前記複数の画素領域に接続された複数のプリント配線基板と、前記複数の画素領域から前記複数のプリント配線基板を介して電気信号を読み出す読み出し部と、前記複数の画素領域の露出を制御する露出制御部と、を有し、前記複数の画素領域は、撮像するための複数の第1の画素領域と、撮像するとともに露出制御用の出力値を取得するための複数の第2の画素領域と、を有し、前記第1の画素領域は、撮像するための複数の第1の画素を有し、複数の前記第1の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第1の半導体変換素子と、前記第1の半導体変換素子により変換された電気信号を出力するスイッチ素子と、を有し、前記第2の画素領域は、撮像するための複数の第2の画素と、複数の前記第2の画素の間に集合して配置された露出制御用の出力値を取得するための複数の第3の画素と、を有し、複数の前記第2の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第2の半導体変換素子と、前記第2の半導体変換素子により変換された電気信号を出力するスイッチ素子と、を有し、複数の前記第3の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第3の半導体変換素子と、有し、前記複数のプリント配線基板は、それぞれ予備配線を備えた複数の第1のプリント配線基板と複数の第2のプリント配線基板とを有し、前記第1のプリント配線の予備配線は前記第3の画素と前記露出制御部とを接続せず、前記第2のプリント配線の予備配線は前記第3の画素と前記露出制御部とを接続することを特徴とする。 The radiation imaging apparatus according to the present invention includes a plurality of pixel areas arranged in row and column directions on a base plate, a plurality of printed circuit board connected to the plurality of pixel regions, from the plurality of pixel areas A reading unit that reads an electrical signal through the plurality of printed wiring boards; and an exposure control unit that controls exposure of the plurality of pixel regions. The plurality of pixel regions include a plurality of second pixels for imaging. One pixel region and a plurality of second pixel regions for imaging and acquiring an output value for exposure control, wherein the first pixel region includes a plurality of first pixels for imaging Each of the plurality of first pixels includes a first semiconductor conversion element that converts radiation into an electric signal; and a switch element that outputs an electric signal converted by the first semiconductor conversion element; And the second pixel area A plurality of second pixels for imaging, and a plurality of third pixels for acquiring an output value for exposure control arranged in a group between the plurality of second pixels. Each of the plurality of second pixels has a second semiconductor conversion element that converts radiation into an electric signal and a switch element that outputs the electric signal converted by the second semiconductor conversion element. Each of the plurality of third pixels includes a third semiconductor conversion element that converts radiation into an electrical signal, and each of the plurality of printed wiring boards includes a plurality of first prints each provided with a spare wiring. A wiring board and a plurality of second printed wiring boards; the preliminary wiring of the first printed wiring does not connect the third pixel and the exposure control unit; The wiring connects the third pixel and the exposure control unit. Characterized in that it continue.

本発明においては、第の半導体変換素子を介して検出された放射線量に基づいてAEC制御を行うことが可能である。このとき、第の半導体変換素子が第の半導体変換素子と同一の第2の画素領域に配置されているので、第の半導体変換素子による放射線の減衰は生じない。また、第の半導体変換素子は一部の画素領域内に設けられ、プリント配線基板単位で配置されているので、第の半導体変換素子は第1及び第2の半導体変換素子の動作の妨げにならない。 In the present invention, AEC control can be performed based on the radiation dose detected via the third semiconductor conversion element. At this time, the third semiconductor conversion element because it is disposed in a second pixel region identical to the second semiconductor conversion element, there is no attenuation of the radiation by the third semiconductor conversion element. Further, since the third semiconductor conversion element is provided in a part of the pixel region and is arranged in a printed wiring board unit, the third semiconductor conversion element hinders the operation of the first and second semiconductor conversion elements. do not become.

本発明によれば、画素領域内に第の半導体変換素子が配置されているため、第の半導体素子による放射線の減衰を抑制することができ、また、第の半導体変換素子は第1及び第2の半導体変換素子の動作の妨げにならない。 According to the present invention, since the third semiconductor conversion element is arranged in the pixel region, the attenuation of radiation by the third semiconductor element can be suppressed, and the third semiconductor conversion element is the first semiconductor conversion element. And it does not hinder the operation of the second semiconductor conversion element.

以下、本発明の好適な実施形態に係る放射線撮像装置について、添付の図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, a radiation imaging apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
先ず、本発明の好適な第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の好適な第1の実施形態に係る放射線撮像装置のレイアウトを示す模式図である。
(First embodiment)
First, a preferred first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic diagram showing a layout of a radiation imaging apparatus according to a preferred first embodiment of the present invention.

本実施形態においては、絶縁基板1上に、m列n行の撮像用放射線検出画素がマトリクス状に配置されている。1つの撮像用放射線検出画素には、放射線を電気信号に変換するための変換部が設けられている。この変換部は、MIS型光電変換素子(第1の半導体変換素子)と読出用の薄膜トランジスタ(TFT)(スイッチ素子)とから構成されている。m列の撮像用放射線検出画素は、例えば9個の群に区分けされており、この群ごとに、読出用TCPa1乃至a9のいずれかに接続されている。また、n行の撮像用放射線検出画素は、例えば8個の群に区分けされており、この群ごとに、駆動用TCPd1乃至d8のいずれかに接続されている。なお、読出用TCPa1乃至a9及び駆動用TCPd1乃至d9は、配線が形成されたテープ上に半導体チップがTAB(Tape Automated Bonding)により実装されて構成されている。そして、読出用TCPa1乃至a9は読み出し装置2に接続され、駆動用TCPd1乃至d8はゲート駆動装置3に接続されている。   In the present embodiment, imaging radiation detection pixels for m columns and n rows are arranged in a matrix on the insulating substrate 1. One imaging radiation detection pixel is provided with a conversion unit for converting radiation into an electrical signal. This conversion unit is composed of a MIS photoelectric conversion element (first semiconductor conversion element) and a thin film transistor (TFT) (switch element) for reading. The m rows of radiation detection pixels for imaging are divided into, for example, nine groups, and each group is connected to one of the readout TCPs a1 to a9. Further, the n rows of imaging radiation detection pixels are divided into, for example, eight groups, and each group is connected to one of the driving TCPs d1 to d8. The read TCPs a1 to a9 and the drive TCPs d1 to d9 are configured by mounting a semiconductor chip on a tape on which wiring is formed by TAB (Tape Automated Bonding). The read TCPs a 1 to a 9 are connected to the read device 2, and the drive TCPs d 1 to d 8 are connected to the gate drive device 3.

上述のように、m列の撮像用放射線検出画素が9個の群に区分けされ、n行の撮像用放射線検出画素が8個の群に区分けされている場合、これらの区分に応じて、m行n列の撮像用放射線検出画素は72個の画素領域4に区分けされ、1つの画素領域4に属する撮像用放射線検出画素は、互いに同一の読出用TCP及び駆動用TCPに接続されている。   As described above, when m rows of imaging radiation detection pixels are divided into nine groups and n rows of imaging radiation detection pixels are divided into eight groups, m is determined in accordance with these divisions. The imaging radiation detection pixels in the row n column are divided into 72 pixel regions 4, and the imaging radiation detection pixels belonging to one pixel region 4 are connected to the same readout TCP and drive TCP.

更に、本実施形態においては、上記の72個の画素領域4のうちの3個に、複数のAEC用放射線検出画素が配置されており、読出用TCPa3、a5及びa7が特定プリント配線基板となっている。AEC用放射線検出画素には、TFT型センサ(第2の半導体変換素子)が設けられている。本願明細書では、画素領域4のうちで、このようなAEC用放射線検出画素が設けられたものをAEC用放射線検出領域5という。   Further, in the present embodiment, a plurality of AEC radiation detection pixels are arranged in three of the 72 pixel regions 4 described above, and the read TCPs a3, a5, and a7 serve as specific printed wiring boards. ing. The AEC radiation detection pixel is provided with a TFT type sensor (second semiconductor conversion element). In the specification of the present application, the pixel area 4 provided with such AEC radiation detection pixels is referred to as an AEC radiation detection area 5.

次に、AEC用放射線検出領域5の構成について説明する。図2は、第1の実施形態に係る放射線撮像装置におけるAEC用放射線検出領域5の回路構成を示す等価回路図であり、図3は、AEC用放射線検出領域5のレイアウトを示す模式図である。   Next, the configuration of the AEC radiation detection region 5 will be described. FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing a circuit configuration of the AEC radiation detection region 5 in the radiation imaging apparatus according to the first embodiment, and FIG. 3 is a schematic diagram showing a layout of the AEC radiation detection region 5. .

1個のAEC用放射線検出領域5に、例えば4行4列(16個)の撮像用放射線検出画素が配置されている。図2及び図3中の上から第a行、第b列の撮像用放射線検出画素には、光電変換素子Mba及び薄膜トランジスタTbaが設けられている(a、b=1、2、3、4)。また、第3列目の撮像用放射線検出画素と第4列目の撮像用放射線検出画素との間には、1列4行(4個)のAEC用放射線検出画素が列をなして配置されている。図2及び図3中の上から第a行目のAEC用放射線検出画素には、TFT型センサMA3aが設けられている。   In one AEC radiation detection region 5, for example, 4 rows and 4 columns (16) of imaging radiation detection pixels are arranged. The imaging radiation detection pixels in the a-th row and the b-th column from the top in FIGS. 2 and 3 are provided with photoelectric conversion elements Mba and thin-film transistors Tba (a, b = 1, 2, 3, 4). . Further, between the third column imaging radiation detection pixels and the fourth column imaging radiation detection pixels, one column and four rows (four) AEC radiation detection pixels are arranged in a column. ing. A TFT type sensor MA3a is provided in the AEC radiation detection pixel in the a-th row from the top in FIGS.

また、第b列に配置された4個のMIS型光電変換素子は共通のバイアス線Vsbに接続されており、読み出し装置2から一定バイアスが印加されている。第a行に配置された4個の読出用TFTのゲート電極は、共通のゲート線Vgaに接続されており、ゲート駆動装置3によりゲートのON/OFFが制御される。更に、第b列に配置された4個の読出用TFTのソース電極又はドレイン電極は、共通の信号線Sigbに接続されている。信号線Sig1〜Sig4は、読み出し装置2に接続されている。   Further, the four MIS type photoelectric conversion elements arranged in the b-th column are connected to a common bias line Vsb, and a constant bias is applied from the reading device 2. The gate electrodes of the four readout TFTs arranged in the a-th row are connected to a common gate line Vga, and the gate driving device 3 controls the gate ON / OFF. Furthermore, the source electrodes or drain electrodes of the four readout TFTs arranged in the b-th column are connected to the common signal line Sigb. The signal lines Sig1 to Sig4 are connected to the reading device 2.

次に、読出用TCP及び駆動用TCPと画素内の電極との接続関係について説明する。図4は、読出用TCPaとAEC用放射線検出領域5との接続関係を示す模式図である。なお、図2及び図3には、撮像用放射線検出画素が4列配置され、AEC用放射線検出画素が1列のみ配置されたAEC用放射線検出領域を示しているが、図4には、撮像用放射線検出画素がk列配置され、AEC用放射線検出画素が複数列配列されたAEC用放射線検出領域を示す。   Next, the connection relationship between the readout TCP and drive TCP and the electrodes in the pixel will be described. FIG. 4 is a schematic diagram showing a connection relationship between the read TCPa and the AEC radiation detection region 5. 2 and 3 show an AEC radiation detection area in which four rows of imaging radiation detection pixels are arranged and only one row of AEC radiation detection pixels is arranged. In FIG. 1 shows an AEC radiation detection region in which k rows of radiation detection pixels are arranged and a plurality of rows of AEC radiation detection pixels are arranged.

図4に示すように、読出用TCPaには、増幅器の半導体チップ(Amp IC)6が実装されている。半導体チップ6には、撮像用放射線検出画素の信号線Siga1〜Sigakからの出力信号が入力される信号入力線Sigc1〜Sigck、及びこれらの信号入力線から入力された信号を増幅して読み出し装置2に出力する信号出力線が接続されている。また、読出用TCPaには、撮像用放射線検出画素のバイアス線Vsa1〜Vsakが接続されて読み出し装置2に連絡するバイアス連絡線Vsc、並びに夫々列を構成するAEC用放射線検出画素のTFT型センサのゲート線GL、ソース線SL、ドレイン線DLが接続されて読み出し装置2に連絡する予備配線G、予備配線S及び予備配線Dが設けられている。読出用TCPaには、更に、予備配線GNDが設けられている。信号線Siga1等は、図2及び図3中の信号線Sig1等に相当し、バイアス線Vas1等は、図2及び図3中のバイアス線Vs1等に相当する。   As shown in FIG. 4, an amplifier semiconductor chip (Amp IC) 6 is mounted on the read TCPa. The semiconductor chip 6 amplifies the signal input lines Sigc1 to Sigck to which the output signals from the signal lines Siga1 to Sigak of the imaging radiation detection pixels are input, and the signals input from these signal input lines to amplify the readout device 2. Is connected to the signal output line. The readout TCPa is connected to the bias lines Vsa1 to Vsak of the imaging radiation detection pixels and connected to the readout device 2, and the TFT type sensor of the AEC radiation detection pixels constituting each column. A spare line G, a spare line S, and a spare line D, which are connected to the reading device 2 by connecting the gate line GL, the source line SL, and the drain line DL, are provided. The read-out TCPa is further provided with a spare wiring GND. The signal line Siga1 and the like correspond to the signal line Sig1 and the like in FIGS. 2 and 3, and the bias line Vas1 and the like correspond to the bias line Vs1 and the like in FIGS.

また、駆動用TCPには、半導体チップ(ドライバIC)(図示せず)が実装され、この半導体チップには、撮像用放射線検出画素のゲート線にゲート駆動パルスを印加するゲートパルス出力線が接続されている。   Further, a semiconductor chip (driver IC) (not shown) is mounted on the driving TCP, and a gate pulse output line for applying a gate driving pulse to the gate line of the imaging radiation detection pixel is connected to the semiconductor chip. Has been.

そして、AEC用放射線検出領域5内では、撮像用放射線検出画素の全列の間で、バイアス線Vsa1〜Vsakが共通化され、読出用TCPaのバイアス連絡配線Vscに接続されている。信号線Siga1〜Sigakは、夫々読出用TCPaの信号入力線Sigc1〜Sigckに接続されている。また、AEC用放射線検出画素のTFT型センサについては、AEC用放射線検出領域5内の全列の間で、ソース線SL、ドレイン線DL及びゲート線GLが、夫々共通化され、読出用TCPaの予備配線S、予備配線D、予備配線Gに接続されている。   In the AEC radiation detection region 5, the bias lines Vsa1 to Vsak are shared among all the columns of the imaging radiation detection pixels, and are connected to the bias connection wiring Vsc of the read TCPa. The signal lines Siga1 to Sigak are connected to the signal input lines Sigc1 to Sigck of the read TCPa, respectively. In addition, regarding the TFT type sensor of the AEC radiation detection pixel, the source line SL, the drain line DL, and the gate line GL are shared among all the columns in the AEC radiation detection region 5, and the read TCPa The spare wiring S, the spare wiring D, and the spare wiring G are connected.

また、読み出し装置2には、半導体チップ6から出力された信号を読み出す読み出し回路7、予備配線Gに定電圧VGを供給する直流電源8、予備配線Dに定電圧VDを供給する直流電源9、予備配線Sが接続される増幅器10、ゲインの切り替え回路11及びAD変換回路12が設けられている。ここでは、図示しないが、直流電源8、直流電源9、増幅器10に接続される配線は、読み出し装置2内で共通化され、全ての読み出し用TCPの各予備配線と夫々接続されるようように配置されている。また、読み出し回路7には、図4に示すように、信号入力線Sigc1から半導体チップ6に入力され、半導体チップ6によって増幅された信号用のサンプルホールド容量CL1が設けられている。また、この信号用に、サンプルホールド容量CL1と読み出し回路7の出力との間にスイッチSr1が設けられている。同様にして、図示しないが、信号入力線Sigc2、Sigc3、Sigc4、・・・、Sigck用に、夫々サンプルホールド容量CL2、CL3、CL4、・・・、CLk、及びスイッチSr2、Sr3、Sr4、・・・、Srkが設けられている。更に、スイッチSr1、Sr2、Sr3、Sr4、・・・、Srkのオン/オフを切り替えるパルスを順次発生させるシフトレジスタSRが設けられている。   Further, the reading device 2 includes a reading circuit 7 that reads a signal output from the semiconductor chip 6, a DC power supply 8 that supplies a constant voltage VG to the spare wiring G, a DC power supply 9 that supplies a constant voltage VD to the spare wiring D, An amplifier 10, a gain switching circuit 11, and an AD conversion circuit 12 to which the spare wiring S is connected are provided. Although not shown here, the wirings connected to the DC power supply 8, the DC power supply 9, and the amplifier 10 are made common in the reading device 2 so as to be connected to each spare wiring of all the read TCPs. Has been placed. Further, as shown in FIG. 4, the read circuit 7 is provided with a sample-and-hold capacitor CL <b> 1 for a signal input to the semiconductor chip 6 from the signal input line Sigc <b> 1 and amplified by the semiconductor chip 6. For this signal, a switch Sr1 is provided between the sample hold capacitor CL1 and the output of the readout circuit 7. Similarly, although not shown in the figure, for the signal input lines Sigc2, Sigc3, Sigc4,..., Sigck, sample hold capacitors CL2, CL3, CL4,. ..Srk is provided. Further, a shift register SR that sequentially generates pulses for switching on / off of the switches Sr1, Sr2, Sr3, Sr4,..., Srk is provided.

次に、上述のように構成された第1の実施形態に係る放射線撮像装置の動作について、図2、図3及び図4を参照して説明する。   Next, the operation of the radiation imaging apparatus according to the first embodiment configured as described above will be described with reference to FIGS.

このように構成された放射線撮像装置上で、人体等の被検体に向けてX線が曝射されると、このX線は被検体により減衰を受けながら、被検体を透過し、蛍光体層(図示せず)で可視光線に変換される。そして、この可視光線がMIS型光電変換素子M11等に入射し、電荷に変換される。この電荷は、ゲート駆動装置3により印加されるゲート駆動パルスに応じて読出用TFTT11等を介して信号線Sig1等に転送され、読み出し装置2を介して外部に出力される。その後、MIS型光電変換素子M11等で発生し転送されなかった電荷が共通のバイアス線Vs1等から除去される。   When X-rays are exposed to a subject such as a human body on the radiation imaging apparatus configured as described above, the X-rays pass through the subject while being attenuated by the subject, and the phosphor layer (Not shown) is converted into visible light. Then, the visible light is incident on the MIS photoelectric conversion element M11 and the like, and is converted into electric charges. This electric charge is transferred to the signal line Sig1 or the like via the readout TFT T11 or the like according to the gate drive pulse applied by the gate drive device 3, and is output to the outside via the readout device 2. Thereafter, the charges generated in the MIS photoelectric conversion element M11 and the like and not transferred are removed from the common bias line Vs1 and the like.

この一方で、TFT型センサMA31〜MA34に対しては、例えばTFTの半導体層を空乏化させる一定バイアスを、直流電源8及び9から予備配線G及びDを介してゲート及びドレイン電極間に印加しておく。このように、一定バイアスを印加しておくことにより、入射光に応じた電荷が常に出力される。従って、この出力値を増幅器(AMP)10で増幅させ、加算することにより、X線の総照射量を読み出し装置により検出することができる。そして、X線の総照射量に基づいてX線の曝射を制御する。   On the other hand, for the TFT type sensors MA31 to MA34, for example, a constant bias for depleting the TFT semiconductor layer is applied between the gate and drain electrodes from the DC power supplies 8 and 9 via the spare wirings G and D. Keep it. Thus, by applying a constant bias, a charge corresponding to incident light is always output. Therefore, the output value can be amplified by the amplifier (AMP) 10 and added to detect the total X-ray dose by the readout device. Then, X-ray exposure is controlled based on the total X-ray dose.

ここで、AEC用放射線検出画素であるTFT型センサとAEC用回路の概念図を図11に、本実施形態における駆動タイミングチャートを図12に示し、図2、図4、図11及び図12を用いて駆動タイミングを説明する。   Here, FIG. 11 shows a conceptual diagram of a TFT type sensor that is a radiation detection pixel for AEC and an AEC circuit, FIG. 12 shows a drive timing chart in this embodiment, and FIG. 2, FIG. 4, FIG. The drive timing will be described with reference to FIG.

先ず、ON/OFF回路1101にX線STARTの信号を入力することにより、X線源1102からX線が曝射される。このX線は被検体(図示せず)により減衰を受け、被検体を透過し、蛍光体層1103により、MIS型光電変換素子(図2の光電変換素子Mab)及びTFT型センサMAで感知可能な光(可視光)に波長変換される。この波長変換された光は、MIS型光電変換素子及びTFT型センサMAに入射し、各素子で電荷が発生する。   First, by inputting an X-ray START signal to the ON / OFF circuit 1101, X-rays are exposed from the X-ray source 1102. This X-ray is attenuated by the subject (not shown), passes through the subject, and can be detected by the phosphor layer 1103 by the MIS type photoelectric conversion element (photoelectric conversion element Mab in FIG. 2) and the TFT type sensor MA. Wavelength conversion to a simple light (visible light). The wavelength-converted light is incident on the MIS type photoelectric conversion element and the TFT type sensor MA, and charges are generated in each element.

TFT型センサMAで発生した電荷は、予備配線Sを介して積分回路1105で電圧値Vaecとして積分される。電圧値Vaecが比較回路1106の設定値(例えば、2V)に達すると、比較回路1106からX線OFFの信号S1がON/OFF回路1101に入力される。これによりX線は遮断される(図12を参照)。   The electric charge generated in the TFT type sensor MA is integrated as a voltage value Vaec by the integration circuit 1105 through the spare wiring S. When the voltage value Vaec reaches a set value (for example, 2 V) of the comparison circuit 1106, the X-ray OFF signal S1 is input from the comparison circuit 1106 to the ON / OFF circuit 1101. As a result, X-rays are blocked (see FIG. 12).

上記説明及び図11では、アナログの積分回路1105を使用する例を挙げたが、図4のようにTFT型センサMAの出力をA/D変換し、メモリ(図示せず)に書き込み、演算回路で設定値と比較しても良い。   In the above description and FIG. 11, an example in which the analog integration circuit 1105 is used has been described. However, the output of the TFT type sensor MA is A / D converted as shown in FIG. Compare with the set value.

次に、上記のMIS型光電変換素子で発生した電荷を読み出す。図2を参照すると、読み出し動作は、1行目の光電変換素子M11〜M41、次に2行目の光電変換素子M12〜M42、次に3行目の光電変換素子M13〜M43の順で行われる。まず、1行目の光電変換素子M11〜M41を読み出しするためにスイッチ素子(TFT)T11〜T41のゲート配線Vg1にゲートパルスを与える(図12を参照)。これにより、スイッチ素子T11〜T41がオン状態になり、光電変換素子M11〜M41に蓄積されていた電荷が、信号線Sig1〜Sig4に転送される。信号線Sig1〜Sig4には、読み出し容量(図示せず)が付加されており、光電変換素子M11〜M41に蓄積された電荷はTFTを介して、読み出し容量に転送されることになる。例えば、信号線Sig1に付加されている読み出し容量は、信号線Sig1に接続されているスイッチ素子T11〜T14の各TFTのゲート/ソース間の電極間容量(Cgs)の総和(4個分)である。信号線Sig1〜Sig4に転送された電荷は、信号入力線Sigc1〜Sigc4を介して半導体チップ(Amp IC)6に入力され、半導体チップ(Amp IC)6により増幅される。次いで、読み出し回路7内のサンプルホールド容量CL1〜CL4に夫々転送されてホールドされる。次に、読み出し回路7内のシフトレジスタSRから読み出し回路7内のスイッチSr1、Sr2、Sr3、Sr4の順番でパルスを印加することにより(図12を参照)、サンプルホールド容量CL1〜CL4にホールドされていた信号が、サンプルホールド容量CL1、CL2、CL3、CL4の順で読み出し回路7の外部に出力される。結果として、図12に示すように、光電変換素子M11〜M41の1行分の光電変換信号が読み出し回路7からVoutとして順次出力される。2行目の光電変換素子M12〜M42の読み出し動作、3行目の光電変換素子M13〜M43及びそれ以降の読み出し動作も同様に行われる。   Next, the charge generated in the MIS photoelectric conversion element is read out. Referring to FIG. 2, the read operation is performed in the order of photoelectric conversion elements M11 to M41 in the first row, then photoelectric conversion elements M12 to M42 in the second row, and then photoelectric conversion elements M13 to M43 in the third row. Is called. First, in order to read out the photoelectric conversion elements M11 to M41 in the first row, a gate pulse is applied to the gate wiring Vg1 of the switch elements (TFTs) T11 to T41 (see FIG. 12). Thereby, the switch elements T11 to T41 are turned on, and the charges accumulated in the photoelectric conversion elements M11 to M41 are transferred to the signal lines Sig1 to Sig4. Read capacitances (not shown) are added to the signal lines Sig1 to Sig4, and the charges accumulated in the photoelectric conversion elements M11 to M41 are transferred to the read capacitances via the TFTs. For example, the readout capacitance added to the signal line Sig1 is the total (four pieces) of the interelectrode capacitance (Cgs) between the gates / sources of the TFTs of the switch elements T11 to T14 connected to the signal line Sig1. is there. The charges transferred to the signal lines Sig1 to Sig4 are input to the semiconductor chip (Amp IC) 6 through the signal input lines Sigc1 to Sigc4, and are amplified by the semiconductor chip (Amp IC) 6. Next, the data are transferred to and held by the sample hold capacitors CL1 to CL4 in the readout circuit 7, respectively. Next, by applying pulses in the order of the switches Sr1, Sr2, Sr3, and Sr4 in the read circuit 7 from the shift register SR in the read circuit 7 (see FIG. 12), the sample hold capacitors CL1 to CL4 hold the pulses. The received signals are output to the outside of the readout circuit 7 in the order of the sample and hold capacitors CL1, CL2, CL3, and CL4. As a result, as shown in FIG. 12, photoelectric conversion signals for one row of the photoelectric conversion elements M11 to M41 are sequentially output from the readout circuit 7 as Vout. The read operation of the photoelectric conversion elements M12 to M42 in the second row is performed in the same manner as the photoelectric conversion elements M13 to M43 in the third row and the subsequent read operations.

このような第1の実施形態によれば、絶縁基板1上にAEC用のTFT型センサをMIS型光電変換素子とは別に設けているため、MIS型光電変換素子にX線が入射するまでの間に、AEC用放射線検出画素によりX線が減衰を受けることはない。従って、良好な画質を得ることができる。   According to the first embodiment as described above, since the TFT type sensor for AEC is provided on the insulating substrate 1 separately from the MIS type photoelectric conversion element, X-rays are incident on the MIS type photoelectric conversion element. In the meantime, X-rays are not attenuated by the AEC radiation detection pixels. Therefore, good image quality can be obtained.

なお、AEC用放射線検出領域5内であれば、TFT型センサは必要な場所に選択的に配置することができる。AEC用放射線検出画素に隣接する撮像用放射線検出画素においては、MIS型光電変換素子の開口率が減少してしまうが、この面積の減少分は読み出した後の画像補正により容易に補うことが可能である。   In addition, if it is in the radiation detection area 5 for AEC, a TFT type sensor can be selectively arrange | positioned in a required place. In the radiation detection pixel for imaging adjacent to the radiation detection pixel for AEC, the aperture ratio of the MIS type photoelectric conversion element decreases, but this decrease in area can be easily compensated by image correction after reading. It is.

また、同一のTCPに接続される画素が集合して構成された画素領域4のいくつかがAEC用放射線検出領域5と設定され、このAEC用放射線検出領域5内にAEC用放射線検出画素が配置されている。このため、AEC用放射線検出画素に接続された配線(ゲート線GL、ソース線SL及びドレイン線DL)を容易に読出用TCPまで引き出すことが可能である。   In addition, some of the pixel areas 4 formed by aggregating pixels connected to the same TCP are set as the AEC radiation detection areas 5, and the AEC radiation detection pixels are arranged in the AEC radiation detection areas 5. Has been. For this reason, it is possible to easily pull out the wiring (gate line GL, source line SL, and drain line DL) connected to the AEC radiation detection pixel to the readout TCP.

そして、各読出用TCPには、その両側端部に予備配線G、S及びDを設け、各予備配線G、S及びDを読み出し装置2内の所定の回路(直流電源8及び9並びに増幅器10)に接続しておくことにより、AEC用放射線検出画素を所定の回路に接続することが可能となる。従って、安価に放射線撮像装置を製造することが可能となる。   Each read TCP is provided with spare wirings G, S, and D at both end portions thereof, and each spare wiring G, S, and D is connected to a predetermined circuit (DC power supplies 8 and 9 and amplifier 10 in the reading device 2). ), The AEC radiation detection pixels can be connected to a predetermined circuit. Therefore, the radiation imaging apparatus can be manufactured at a low cost.

本発明の好適な実施の形態に係る読出用TCPは、複数の予備配線を具備していること、また、必要なAEC領域に接続する場合は、先述の予備配線を介して所定の回路に接続することに特徴がある。即ち、読出用TCPは予備配線を使用する場合と使用しない場合がある。   The read TCP according to the preferred embodiment of the present invention includes a plurality of spare wirings, and when connected to a necessary AEC area, the read TCP is connected to a predetermined circuit via the above-described spare wirings. There is a feature in doing. That is, the read TCP may or may not use spare wiring.

また、使用されない予備配線は、全てグランドに直結することにより、外来ノイズ及び静電気に対してより安定な状態を保つことが可能となる。   In addition, all spare wirings that are not used can be directly connected to the ground, thereby maintaining a more stable state against external noise and static electricity.

言い換えれば、予備配線を具備したTCPを用いることにより、AECセンサ駆動、及び、出力を読み出すことは勿論のこと、環境安定性をも同時に達成し、且つ、複数の種類のTCPを準備する必要が無くなり高品質、低価格を可能とするものである。   In other words, by using TCP with spare wiring, it is necessary to not only drive the AEC sensor and read the output, but also achieve environmental stability at the same time, and prepare multiple types of TCP. It is possible to eliminate high quality and low price.

なお、第1の実施形態では、AEC用放射線検出画素の配線が読出用TCPに接続される構成となっているが、図9に示すように、駆動用TCPに接続される構成となっていてもよい。この場合、例えば、各画素のレイアウトは図3と同様のものとし、配線のレイアウトについては、AEC用放射線検出画素のソース線SL及びドレイン線DLは、夫々コンタクトホールCNT1、CNT2を介して、ゲート配線層(ゲート配線GLと同じ配線層)に配置された配線に夫々接続される。また、直流電源8及び9並びに増幅器10等はゲート駆動装置に設けられる。   In the first embodiment, the AEC radiation detection pixel wiring is connected to the readout TCP. However, as shown in FIG. 9, the AEC radiation detection pixel wiring is connected to the drive TCP. Also good. In this case, for example, the layout of each pixel is the same as in FIG. 3, and the wiring layout is such that the source line SL and drain line DL of the AEC radiation detection pixel are gated via contact holes CNT1 and CNT2, respectively. Each is connected to a wiring arranged in the wiring layer (the same wiring layer as the gate wiring GL). Further, the DC power supplies 8 and 9 and the amplifier 10 are provided in the gate driving device.

また、絶縁基板1上のバイアス線は、AEC用放射線検出領域内で共通化されているだけでなく、例えば全ての画素領域4内で共通化されていてもよい。   In addition, the bias line on the insulating substrate 1 may be shared not only in the AEC radiation detection region but also in all the pixel regions 4, for example.

更に、図2及び図3には、1個のAEC用放射線検出領域に4行4列(16個)の画素が設けられている例を示しているが、その数はこれに限定されるものではない。また、絶縁基板1上には、例えば総計で2000×2000画素が設けられていてもよい。   Further, FIG. 2 and FIG. 3 show an example in which one AEC radiation detection region is provided with 4 rows and 4 columns (16 pixels), but the number is limited to this. is not. In addition, for example, a total of 2000 × 2000 pixels may be provided on the insulating substrate 1.

ここで、本実施の形態において、第1の半導体変換素子としてMIS型光電変換素子を示したが、PIN型光電変換素子を用いても構わない。また、撮像用放射線検出画素の構造に関しては、第1の半導体変換素子とスイッチ素子が同一層で構成されている平面型でも、スイッチ素子が形成されている層上に第1の半導体変換素子が形成されている積層型でも構わない。また更に、第1の半導体変換素子が、放射線を直接電気信号に変換する、例えば、アモルファスセレン(a−Se)や多結晶CdS等の直接変換膜を用いた変換素子であり、シンチレータを用いず放射線を直接電気信号に変換する放射線撮像装置を用いても構わない。   Here, although the MIS type photoelectric conversion element is shown as the first semiconductor conversion element in the present embodiment, a PIN type photoelectric conversion element may be used. In addition, regarding the structure of the imaging radiation detection pixel, even if the first semiconductor conversion element and the switch element are configured in the same layer, the first semiconductor conversion element is formed on the layer where the switch element is formed. The formed laminated type may be used. Still further, the first semiconductor conversion element is a conversion element using a direct conversion film such as amorphous selenium (a-Se) or polycrystalline CdS, which directly converts radiation into an electrical signal, without using a scintillator. A radiation imaging apparatus that directly converts radiation into an electrical signal may be used.

(第2の実施形態)
次に、本発明の好適な第2の実施形態について説明する。図5は、本発明の好適な第2の実施形態に係る放射線撮像装置のレイアウトを示す模式図である。
(Second Embodiment)
Next, a preferred second embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a schematic diagram showing a layout of a radiation imaging apparatus according to the preferred second embodiment of the present invention.

本実施形態においても、第1の実施形態と同様に、絶縁基板1上に、m列n行の撮像用放射線検出画素がマトリクス状に配置されている。m列の撮像用放射線検出画素は、例えば9個の群に区分けされている。また、n行の撮像用放射線検出画素は、例えば8個の群に区分けされており、この群ごとに、駆動用TCPd1乃至d8のいずれかに接続されている。9個の群に区分けされたm列の撮像用放射線検出画素のうちで駆動用TCPd1乃至d4のいずれかに接続されているものは、読出用TCPa1乃至a9のいずれかに接続され、駆動用TCPd5乃至d8のいずれかに接続されているものは、読出用TCPb1乃至b9のいずれかに接続されている。   Also in the present embodiment, as in the first embodiment, imaging radiation detection pixels of m columns and n rows are arranged in a matrix on the insulating substrate 1. The m rows of imaging radiation detection pixels are divided into, for example, nine groups. Further, the n rows of imaging radiation detection pixels are divided into, for example, eight groups, and each group is connected to one of the driving TCPs d1 to d8. Among the m rows of imaging radiation detection pixels divided into nine groups, one connected to any one of the driving TCPs d1 to d4 is connected to any one of the reading TCPs a1 to a9, and the driving TCP d5. Those connected to any of d8 to d8 are connected to any of the read TCPs b1 to b9.

そして、これらの区分に応じて、m行n列の撮像用放射線検出画素は72個の画素領域4に区分けされ、1つの画素領域4に属する撮像用放射線検出画素は、互いに同一の読出用TCP及び駆動用TCPに接続されている。読出用TCPa1乃至a9は読み出し装置2に接続され、読出用TCPb1乃至b9は読み出し装置2bに接続され、駆動用TCPd1乃至d8はゲート駆動装置3に接続されている。読出用TCPb1乃至b9は、読出用TCPa1乃至a9と同様に構成され、読み出し装置2bは、読み出し装置2と同様に構成されている。好適には、読出用TCPa1〜a9及び読出用TCPb1〜b9は、放射線を電気信号に変換する変換部を挟むように絶縁基板1の互いに対向する2辺に同数ずつ配置されうる。   Then, according to these divisions, the imaging radiation detection pixels of m rows and n columns are divided into 72 pixel regions 4, and the imaging radiation detection pixels belonging to one pixel region 4 are the same readout TCP. And connected to the driving TCP. The read TCPs a1 to a9 are connected to the read device 2, the read TCPs b1 to b9 are connected to the read device 2b, and the drive TCPs d1 to d8 are connected to the gate drive device 3. The read TCPs b1 to b9 are configured in the same manner as the read TCPa1 to a9, and the read device 2b is configured in the same manner as the read device 2. Preferably, the read TCPs a1 to a9 and the read TCPs b1 to b9 can be arranged in the same number on two opposite sides of the insulating substrate 1 so as to sandwich a conversion unit that converts radiation into an electrical signal.

本実施形態においては、上記の72個の画素領域4のうちの6個に、複数のAEC用放射線検出画素が配置されており、読出用TCPa3、a5、a7、b3、b5及びb7が特定プリント配線基板となっている。   In the present embodiment, a plurality of AEC radiation detection pixels are arranged in six of the 72 pixel regions 4, and the read TCPs a3, a5, a7, b3, b5, and b7 are specified prints. It is a wiring board.

このように構成された第2の実施形態においては、同時に2行分の撮像用放射線検出画素からの読み出しを行うことができる。従って、第1の実施形態と比較すると、1/2の時間で撮像用放射線検出画素からデータの読み出しを完了させることができる。   In the second embodiment configured as described above, readout from the radiation detection pixels for imaging for two rows can be simultaneously performed. Therefore, compared with the first embodiment, reading of data from the imaging radiation detection pixel can be completed in half the time.

また、例えば、絶縁基板1の互いに対向する2辺に平行な境界線によってn行の撮像用放射線検出画素を上下にn/2行ずつに区分けして、この境界線を基準として、AEC用放射線検出領域5を線対称に配置してもよい。   In addition, for example, n rows of imaging radiation detection pixels are vertically divided into n / 2 rows by a boundary line parallel to two opposite sides of the insulating substrate 1, and the AEC radiation is based on the boundary line. The detection areas 5 may be arranged line-symmetrically.

また、図6に示すように、m列の撮像用放射線検出画素を、例えば8個の群に区分けし、n行の撮像用放射線検出画素を、例えば9個の群に区分けすると共に、ゲート駆動装置3の他に、ゲート駆動装置3eを設けてもよい。このとき、m列の撮像用放射線検出画素を左右にm/2列ずつに区分けして、これらの境界を基準として、AEC用放射線検出領域5を線対称に配置してもよい。   Further, as shown in FIG. 6, m rows of imaging radiation detection pixels are divided into, for example, 8 groups, and n rows of imaging radiation detection pixels are divided into, for example, 9 groups, and gate driving is performed. In addition to the device 3, a gate driving device 3e may be provided. At this time, m rows of imaging radiation detection pixels may be divided into left and right m / 2 columns, and the AEC radiation detection regions 5 may be arranged in line symmetry with reference to these boundaries.

この場合、ゲート駆動装置3側に、駆動用TCPd1乃至d8に駆動用TCPd9を追加すると共に、ゲート駆動装置3e側に駆動用TCPe1乃至e9を設ければよい。駆動用TCPd9及びe1乃至e9は、駆動用TCPd1乃至d8と同様に構成され、ゲート駆動装置3eは、ゲート駆動装置3と同様に構成されている。そして、駆動用TCPd3、d5、d7、e3、e5及びe7が特定プリント配線基板となる。   In this case, the driving TCP d9 is added to the driving TCPs d1 to d8 on the gate driving device 3 side, and the driving TCPs e1 to e9 are provided on the gate driving device 3e side. The drive TCPd9 and e1 to e9 are configured in the same manner as the drive TCPd1 to d8, and the gate drive device 3e is configured in the same manner as the gate drive device 3. The driving TCPs d3, d5, d7, e3, e5, and e7 are specific printed wiring boards.

ところで、FPDの平面形状を従来の銀塩フィルムと同様に長方形、例えば半切フィルムサイズの長方形とした場合、撮影を行う対象者(被検体)の体格に合わせてFPDの長手方向を縦又は横のいずれかの方向に配置して撮影を行うことになる。しかし、このようにFPDを回転させて使用する場合には、FPDに組み込まれたAEC用放射線検出領域は、図8(a)及び(b)に示すような従来の2〜3箇所では十分とはいえない。即ち、図8(a)に示すように、FPDの長手方向を縦置きにした場合では、2〜3箇所のAEC用放射線検出領域5が肺野部21の位置に配置されるように最適化されているが、図8(b)に示すように、FPD長手方向を横置きにした場合には、AEC用放射線検出領域5のうち肺野部21の位置に配置されていない領域が生じ、最適な配置がなされていない。   By the way, when the planar shape of the FPD is a rectangle like the conventional silver salt film, for example, a rectangle of a half-cut film size, the longitudinal direction of the FPD is set to be vertical or horizontal according to the physique of the subject (subject) to be photographed. Shooting is performed in either direction. However, when the FPD is rotated and used in this way, the conventional AEC radiation detection region incorporated in the FPD is sufficient in the conventional two to three locations as shown in FIGS. 8A and 8B. I can't say that. That is, as shown in FIG. 8A, when the longitudinal direction of the FPD is set vertically, optimization is performed so that two to three AEC radiation detection regions 5 are arranged at the position of the lung field portion 21. However, as shown in FIG. 8 (b), when the FPD longitudinal direction is set horizontally, a region that is not arranged at the position of the lung field portion 21 in the AEC radiation detection region 5 is generated. The optimal placement is not made.

これに対し、本発明の好適な実施の形態では、図5又は図6に示すように、FPDの6箇所にAEC用放射線検出領域5を設けた場合には、図7(a)及び(b)に示すように、縦置き、横置きのいずれであっても、AEC用放射線検出領域5が最適な位置に配置される。即ち、図7(a)に示すように、FPD22を縦置きにしても、図7(b)に示すように、FPD22を横置きにしても、肺野部21に対するAEC用放射線検出領域5の配置が適切なものとなる。   On the other hand, in the preferred embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5 or FIG. 6, when the AEC radiation detection regions 5 are provided at six locations of the FPD, FIGS. As shown in (2), the AEC radiation detection region 5 is arranged at an optimum position regardless of whether it is placed vertically or horizontally. That is, as shown in FIG. 7 (a), even if the FPD 22 is placed vertically or as shown in FIG. 7 (b), the AEC radiation detection region 5 with respect to the lung field portion 21 is placed. Arrangement is appropriate.

このように、各TCPの両側端部に予備配線を設け、TCP単位でAEC用放射線検出領域を配置可能にすることにより、必要な場所に容易にその配置ができるため、縦置き、横置きに拘わらず、最適な位置にAEC用放射線検出領域5を配置でき、かつ安価に放射線撮像装置を製造することができる。   In this way, by providing spare wiring at both end portions of each TCP and making it possible to arrange the radiation detection area for AEC in units of TCP, the arrangement can be easily made at a required place. Regardless, the AEC radiation detection region 5 can be arranged at an optimal position, and the radiation imaging apparatus can be manufactured at low cost.

ここで、本実施の形態において、第1の半導体変換素子としてMIS型光電変換素子を示したが、PIN型光電変換素子を用いても構わない。また、撮像用放射線検出画素の構造に関しては、第1の半導体変換素子とスイッチ素子が同一層で構成されている平面型でも、スイッチ素子が形成されている層上に第1の半導体変換素子が形成されている積層型でも構わない。また更に、第1の半導体変換素子が、放射線を直接電気信号に変換する、例えば、アモルファスセレン(a−Se)や多結晶CdS等の直接変換膜を用いた変換素子であり、シンチレータを用いず放射線を直接電気信号に変換する放射線撮像装置を用いても構わない。   Here, although the MIS type photoelectric conversion element is shown as the first semiconductor conversion element in the present embodiment, a PIN type photoelectric conversion element may be used. In addition, regarding the structure of the imaging radiation detection pixel, even if the first semiconductor conversion element and the switch element are configured in the same layer, the first semiconductor conversion element is formed on the layer where the switch element is formed. A laminated type formed may be used. Still further, the first semiconductor conversion element is a conversion element that directly converts radiation into an electric signal, for example, using a direct conversion film such as amorphous selenium (a-Se) or polycrystalline CdS, without using a scintillator. A radiation imaging apparatus that directly converts radiation into an electrical signal may be used.

(応用例)
以下に、本発明の好適な実施の形態に係る放射線撮像装置を用いた放射線撮像システムについて説明する。図10は、本発明の好適な実施の形態に係る放射線撮像装置の放射線撮像システムへの応用例を示した模式図である。
(Application examples)
The radiation imaging system using the radiation imaging apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described below. FIG. 10 is a schematic diagram showing an application example of the radiation imaging apparatus according to the preferred embodiment of the present invention to a radiation imaging system.

X線チューブ6050で発生したX線6060は患者又は被験者6061の胸部6062を透過し、図1に示したような放射線検出装置(放射線撮像装置)6040に入射する。この入射したX線には患者6061の体の内部の情報が含まれている。X線の入射に対応してシンチレータ(蛍光体)は発光し、これをセンサーパネルの光電変換素子が光電変換して、電気的情報を得る。放射線検出装置(放射線撮像装置)6040は、この情報を電気信号としてイメージプロセッサ6070に出力する。画像処理手段としてのイメージプロセッサ6070は、放射線検出装置(放射線撮像装置)6040から出力された電気信号をデジタル信号に変換した後に、このデジタル信号を画像処理して、制御室の表示手段であるディスプレイ6080に出力する。ユーザは、ディスプレイ6080に表示された画像を観察して、患者6061の体の内部の情報を得ることができる。   X-rays 6060 generated by the X-ray tube 6050 pass through the chest 6062 of the patient or subject 6061 and enter a radiation detection apparatus (radiation imaging apparatus) 6040 as shown in FIG. The incident X-ray includes information inside the body of the patient 6061. The scintillator (phosphor) emits light in response to the incidence of X-rays, and this is photoelectrically converted by the photoelectric conversion element of the sensor panel to obtain electrical information. The radiation detection device (radiation imaging device) 6040 outputs this information to the image processor 6070 as an electrical signal. An image processor 6070 serving as an image processing unit converts an electrical signal output from the radiation detection apparatus (radiation imaging apparatus) 6040 into a digital signal, and then performs image processing on the digital signal to display a display unit serving as a display unit in the control room. Output to 6080. The user can observe the image displayed on the display 6080 and obtain information on the inside of the patient 6061 body.

また、イメージプロセッサ6070は、放射線検出装置(放射線撮像装置)6040から出力された電気信号を電話回線6090等の伝送処理手段を介して遠隔地へ転送し、ドクタールーム等の別の場所にある表示手段(ディスプレイ)6081に表示することもできる。また、放射線検出装置(放射線撮像装置)6040から出力された電気信号を光ディスク等の記録手段に保存し、この記録手段を用いて遠隔地の医師が診断することも可能である。また、記録手段となるフィルムプロセッサ6100によりフィルム6110に記録することもできる。   In addition, the image processor 6070 transfers the electrical signal output from the radiation detection apparatus (radiation imaging apparatus) 6040 to a remote place via a transmission processing unit such as a telephone line 6090, and displays it in another place such as a doctor room. It can also be displayed on means (display) 6081. It is also possible to store an electrical signal output from the radiation detection apparatus (radiation imaging apparatus) 6040 in a recording means such as an optical disk and make a diagnosis by a remote doctor using this recording means. Moreover, it can also record on the film 6110 by the film processor 6100 used as a recording means.

ここで、本応用例において、放射線撮像装置は、放射線を直接電気信号に変換する、例えば、アモルファスセレン(a−Se)や多結晶CdS等の直接変換膜を用いた変換素子であり、シンチレータを用いず放射線を直接電気信号に変換する放射線撮像装置を用いても構わない。   Here, in this application example, the radiation imaging apparatus is a conversion element that directly converts radiation into an electrical signal, for example, a direct conversion film such as amorphous selenium (a-Se) or polycrystalline CdS, and a scintillator is used. You may use the radiation imaging device which converts a radiation directly into an electric signal without using it.

本発明の好適な第1の実施形態に係る放射線検出装置のレイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the layout of the radiation detection apparatus which concerns on suitable 1st Embodiment of this invention. 第1の実施形態に係る放射線撮像装置におけるAEC用放射線検出領域の回路構成を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the circuit structure of the radiation detection area for AEC in the radiation imaging device which concerns on 1st Embodiment. AEC用放射線検出領域5のレイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the layout of the radiation detection area | region 5 for AEC. 読み出し用TCPaとAEC用放射線検出領域5との接続関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the connection relation of read-out TCPa and the radiation detection area 5 for AEC. 本発明の好適な第2の実施形態に係る放射線検出装置のレイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the layout of the radiation detection apparatus which concerns on suitable 2nd Embodiment of this invention. 本発明の好適な第2の実施形態の変形例に係る放射線検出装置のレイアウトを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the layout of the radiation detection apparatus which concerns on the modification of suitable 2nd Embodiment of this invention. AEC用放射線検出領域と肺野部との位置関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the positional relationship of the radiation detection area for AEC and a lung field part. 従来の放射線撮像装置におけるAEC用放射線検出領域と肺野部との位置関係を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the positional relationship of the radiation detection area for AEC and the lung field part in the conventional radiation imaging device. 第1の実施形態の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of 1st Embodiment. 本発明の好適な実施の形態に係る放射線撮像装置の放射線撮像システムへの応用例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of application to the radiation imaging system of the radiation imaging device which concerns on suitable embodiment of this invention. 本発明の好適な実施の形態に係るTFT型センサとAEC用回路とを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the TFT type sensor and AEC circuit which concern on suitable embodiment of this invention. 図11における駆動タイミングチャートを示す図である。It is a figure which shows the drive timing chart in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1:絶縁基板
2、2b:読み出し装置
3、3e:ゲート駆動装置
4:画素領域
5:AEC用放射線検出領域
6040:放射線検出装置(放射線撮像装置)
6050:X線チューブ
6060:X線
6061:被験者(患者)
6062:胸部
6070:イメージプロセッサ
6080、6081:ディスプレイ
6090:電話回線
6100:フィルムプロセッサ
6110:フィルム
a、a1〜a9、b1〜b9:読出用TCP
d1〜d9、e1〜e9:駆動用TCP
1: Insulating substrate 2, 2b: Reading device 3, 3e: Gate drive device 4: Pixel region 5: Radiation detection region for AEC 6040: Radiation detection device (radiation imaging device)
6050: X-ray tube 6060: X-ray 6061: Subject (patient)
6062: Chest 6070: Image processor 6080, 6081: Display 6090: Telephone line 6100: Film processor 6110: Film a, a1 to a9, b1 to b9: Read TCP
d1-d9, e1-e9: TCP for driving

Claims (8)

板上に行方向及び列方向に配置された複数の画素領域と、
前記複数の画素領域に接続された複数のプリント配線基板と、
前記複数の画素領域から前記複数のプリント配線基板を介して電気信号を読み出す読み出し部と、
前記複数の画素領域の露出を制御する露出制御部と、を有し、
前記複数の画素領域は、撮像するための複数の第1の画素領域と、撮像するとともに露出制御用の出力値を取得するための複数の第2の画素領域と、を有し、
前記第1の画素領域は、撮像するための複数の第1の画素を有し、複数の前記第1の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第1の半導体変換素子と、前記第1の半導体変換素子により変換された電気信号を出力するスイッチ素子と、を有し、
前記第2の画素領域は、撮像するための複数の第2の画素と、複数の前記第2の画素の間に集合して配置された露出制御用の出力値を取得するための複数の第3の画素と、を有し、複数の前記第2の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第2の半導体変換素子と、前記第2の半導体変換素子により変換された電気信号を出力するスイッチ素子と、を有し、複数の前記第3の画素はそれぞれ、放射線を電気信号に変換する第3の半導体変換素子と、有し、
前記複数のプリント配線基板は、それぞれ予備配線を備えた複数の第1のプリント配線基板と複数の第2のプリント配線基板とを有し、前記第1のプリント配線の予備配線は前記第3の画素と前記露出制御部とを接続せず、前記第2のプリント配線の予備配線は前記第3の画素と前記露出制御部とを接続することを特徴とする放射線撮像装置。
A plurality of pixel areas arranged in row and column directions on a base plate,
A plurality of printed wiring boards connected to the plurality of pixel regions ;
A readout unit that reads out an electrical signal from the plurality of pixel regions via the plurality of printed wiring boards;
An exposure control unit that controls exposure of the plurality of pixel regions ,
The plurality of pixel areas include a plurality of first pixel areas for imaging, and a plurality of second pixel areas for imaging and obtaining an output value for exposure control,
The first pixel region has a plurality of first pixels for imaging, and each of the plurality of first pixels converts a first semiconductor conversion element that converts radiation into an electrical signal, and the first A switch element that outputs an electrical signal converted by the semiconductor conversion element of
The second pixel region includes a plurality of second pixels for capturing an image and a plurality of second pixels for acquiring an output value for exposure control arranged in a group between the plurality of second pixels. 3, and each of the plurality of second pixels outputs a second semiconductor conversion element that converts radiation into an electric signal, and an electric signal converted by the second semiconductor conversion element A plurality of third pixels each having a third semiconductor conversion element that converts radiation into an electrical signal;
The plurality of printed wiring boards have a plurality of first printed wiring boards and a plurality of second printed wiring boards each having a spare wiring, and the spare wiring of the first printed wiring is the third wiring. A radiation imaging apparatus , wherein a pixel and the exposure control unit are not connected, and a spare wiring of the second printed wiring connects the third pixel and the exposure control unit .
前記第の半導体変換素子は、第1の面積の半導体変換素子と、前記第1の面積よりも小さい第2の面積の半導体変換素子と、を含み、
前記第2の面積の半導体変換素子は、前記第の半導体変換素子に隣接して配置されていることを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
The second semiconductor conversion element includes a semiconductor conversion element having a first area and a semiconductor conversion element having a second area smaller than the first area,
The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein the semiconductor conversion element having the second area is disposed adjacent to the third semiconductor conversion element.
前記第1のプリント配線基板は前記第1の画素からの電気信号を前記読み出し部に転送する第1の半導体チップを有し
前記第2のプリント配線基板は、前記第2の画素からの電気信号を前記読み出し部に転送する第2の半導体チップを有し、
前記第の半導体変換素子は、前記第2の半導体チップに接続されていないことを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線撮像装置。
Said first printed circuit board has a first semiconductor chip which transfers an electrical signal from the first pixel to the readout unit,
The second printed wiring board includes a second semiconductor chip that transfers an electrical signal from the second pixel to the readout unit,
The third semiconductor conversion element, a radiation imaging apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that it is not connected to the second semiconductor chip.
前記第1の半導体変換素子及び前記第2の半導体変換素子は、それぞれ、MIS型光電変換素子を含み、The first semiconductor conversion element and the second semiconductor conversion element each include a MIS photoelectric conversion element,
前記第3の半導体変換素子は、TFT型センサを含み、The third semiconductor conversion element includes a TFT type sensor,
複数の前記プリント配線基板はそれぞれ、前記TFT型センサのゲート・ドレイン間にバイアス電圧を印加するためのゲート用及びドレイン用予備配線と、TFT型センサのソースから出力された電気信号を前記露出制御部AEC用回路へ伝達するためのソース用予備配線と、を有する有ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。Each of the plurality of printed wiring boards controls the exposure of the gate and drain auxiliary wirings for applying a bias voltage between the gate and drain of the TFT type sensor and the electrical signal output from the source of the TFT type sensor. 4. The radiation imaging apparatus according to claim 1, further comprising: a source spare wiring for transmitting to the unit AEC circuit. 5.
前記ソース用予備配線は、グランド電位に接続されていることを特徴とする請求項4に記載の放射線撮像装置。The radiation imaging apparatus according to claim 4, wherein the source spare wiring is connected to a ground potential. 前記複数の予備配線は、前記プリント配線基板の両側端部に配されることを特徴とする請求項4又は5に記載の放射線撮像装置。The radiation imaging apparatus according to claim 4, wherein the plurality of spare wirings are arranged at both end portions of the printed wiring board. 前記放射線を発生させる放射線源と、
前記放射線源から入射された放射線を電気信号に変換する請求項1乃至6のいずれか1項に記載の放射線撮像装置と、
前記放射線撮像装置から出力された電気信号を画像処理する画像処理手段と、
前記画像処理手段により画像処理された電気信号を表示する表示手段と、
を有することを特徴とする放射線撮像システム。
A radiation source for generating the radiation;
The radiation imaging apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the radiation incident from the radiation source is converted into an electrical signal.
Image processing means for image processing the electrical signal output from the radiation imaging apparatus;
Display means for displaying an electrical signal image-processed by the image processing means;
A radiation imaging system comprising:
前記画像処理手段から出力された電気信号を伝送する伝送処理手段を更に備え、前記画像処理手段は、前記伝送処理手段を介して前記表示手段に前記電気信号を出力することを特徴とする請求項に記載の放射線撮像システム。 The transmission processing means for transmitting the electrical signal output from the image processing means, the image processing means outputs the electrical signal to the display means via the transmission processing means. 8. The radiation imaging system according to 7 .
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