JP4370650B2 - 積層体およびその製造方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チタン酸化物層を有する積層体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス等の透明基体上に、金属層を積層した積層体（以下、「含金属積層体」という）は、熱線の放射を抑制して冷暖房の負荷を軽減する等の目的のため、建築物や自動車等の窓ガラスなどに広く利用されている。また、含金属積層体は、プラズマディスプレイ等の各種装置から放射される電磁波の漏洩を抑制するシールド材としても利用されている。
【０００３】
含金属積層体が窓ガラス等に適用される場合、熱線の放射を少なくするとともに、高い可視光透過率が要求され、同時に、低い可視光反射率と好ましい反射色調が要求される。
また、含金属積層体を電磁波シールド材として利用する場合、高い導電性とともに、可能な限り高い可視光透過率と低い可視光反射率、さらに好ましい反射色調が要求される。
含金属積層体において、低い可視光反射率と好ましい反射色調を得るためには、可視光領域において、低反射率を示す波長帯域が広いことが要求される。
【０００４】
また、低放射性と導電性を有するとともに、高い可視光透過率を得るためには、誘電体層と金属層を交互に積層した膜構成の積層体が好適であることが公知である。
低い熱線放射率（すなわち高い導電性）だけならば、金属層を厚くすることにより得ることができる。しかし、可視光透過率の減少、可視光反射率の増加を招く。また、可視光領域において低反射率が得られる波長帯域が狭くなるため、好ましい反射色調を損なうことになる。
【０００５】
誘電体層として、チタン酸化物等の屈折率の高い材料を用いた場合、チタン酸化物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて、金属層を厚くすることにより生じる現象（上記の反射色調を損なうという好ましくない現象）を改善できることが一般に知られている。
さらに、積層数を増加させた場合も同様に、金属層を厚くすることにより生じる現象を改善できることが一般に知られている。
実際に誘電体層としてチタン酸化物層を用いて積層体を構成すると、チタン酸化物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて可視光領域において低反射率が得られる波長幅を拡げることができ、より好ましい反射色調を得ることができる。しかしながら、可視光透過率が減少し、さらに積層数の増加とともに、可視光透過率の減少率が大きくなるという問題があった。
また、誘電体層として、チタン酸化物層を用いて構成した積層体は、耐擦傷性が低いという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、チタン酸化物を用いた積層体について、可視領域における透過率を改善することを目的とする。
また、本発明は、チタン酸化物を用いた積層体について、耐擦傷性を改善することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とが、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層された積層体であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層が介設されている積層体を提供する。
また、本発明は、基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とを、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層した積層体の製造方法であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層を介設する工程を有する積層体の製造方法を提供する。
【０００８】
チタン酸化物層と金属層を交互に積層する構成において、積層数を増やすと、可視光領域において低反射率が得られる波長幅が拡大する。しかし、積層数の増加に伴い、光学干渉効果から期待される以上に、透過率が低下する傾向が顕著になることが確認された。本発明者らは、この現象を鋭意研究した結果、透過率の減少が、チタン酸化物層と金属層との界面において生じていることを見出した。この現象は、金属層の内部、特にチタン酸化物層との界面近傍において、光照射により励起される表面プラズモンによる光吸収であると推定され、チタン酸化物より屈折率が低い層を中間層として介設することで、表面プラズモンの生成を抑制し、透過率の減少を低減できると考えられる。
【０００９】
本発明の積層体において、基体側の第１層のチタン酸化物層上に、金属層およびチタン酸化物層は、交互に一対で積層される。金属層とチタン酸化物層は、１対のみが積層されていてもよいし、複数対が積層されていてもよい。例えば、本発明の積層体は、第１層の上に、金属層と、チタン酸化物層とが、それぞれ１層のみ積層された層構成を有するものでもよいし、第１層の上に、金属層とチタン酸化物層の順で交互に複数層が積層された層構成を有するものでもよい。
【００１０】
本発明の積層体において、基体は、特に制限されず、例えば、１）ソーダライムガラス、網入りガラス、フロストガラス等からなる窓用ガラス、２）自動車等の車両用窓ガラス、３）ＰＥＴ等のプラスチックフィルム、４）アクリル樹脂等からなるプラスチック板、５）ディスプレイ用に用いられるガラス、プラスチックフィルムおよびプラスチック板などが挙げられる。特に透明基体が好ましい。
【００１１】
本発明の積層体における各チタン酸化物層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４以上の層であることが好ましく、チタンの酸化物（チタニア）のみからなるものでもよいし、チタン以外の他の元素成分を少量含んでいてもよい。他の元素成分としては、例えば、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｚｒ等が挙げられる。
【００１２】
基体側の第１層、および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層の厚さ（幾何学的膜厚、以下も同様）は、２０〜６０ｎｍが好ましく、特に２５〜４５ｎｍが好ましい。第１層、および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層以外のチタン酸化物層の厚さは４０〜１２０ｎｍが好ましく、特に５０〜９０ｎｍが好ましい。また、可視光反射率を低減し、また低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、第１層および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層は、他のチタン酸化物層より薄い膜厚である（特に１／２程度の厚さ）であることが好ましい。
【００１３】
本発明の積層体において、複数あるチタン酸化物層は、互いに同じ組成を有するものでもよいし、異なる組成を有するものでもよい。
【００１４】
本発明の積層体において、金属層は、銀、銅および金から選ばれる少なくとも１種の金属を含有する層であることが好ましい。銀、銅、金またはこれらを主成分とする合金でもよい。
銀、銅または金を主成分とする合金の具体例として、１）Ｐｄを５．０原子％以下（好ましくは０．１〜３原子％の範囲）で含む銀−Ｐｄ合金、２）Ａｕを５．０原子％以下（好ましくは０．１〜３原子％の範囲）で含む銀−金合金、または、３）Ｐｄ及びＣｕを各々０．５〜３原子％の範囲で含む銀―Ｐｄ―Ｃｕ合金などが挙げられる。なお、前記した含有割合は銀との総量に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
本発明の積層体が複数の金属層を有する場合、各金属層は、同じ組成からなる層であってもよいし、異なる組成からなる層であってもよい。
【００１５】
金属層の厚さは、８〜３０ｎｍが好ましい。可視光反射率を低減し、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、基体に最も近い金属層および基体から最も遠い金属層の厚さは、それ以外の金属層の厚さの０．５〜１．０倍であることが好ましい。
また、本発明の積層体が金属層を複数層有する場合には、その厚さ（複数の金属層の厚さ）の合計は１２０ｎｍ以下であることが好ましい。
可視光反射率を低減し、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点からは、金属層の層数は、得られる積層体の抵抗値の目標を２．５Ω／□とした場合、２層であることが好ましく、抵抗値の目標が１．５Ω／□である場合は３層であることが好ましく、抵抗値の目標が０．５Ω／□である場合は４層であることが好ましい。
【００１６】
本発明の積層体において、中間層は、複数層介設されていてもよく、金属層を挟んで該金属層の上下に配設されていてもよい。特に、全ての金属層が２つの中間層で挟持された構成が、最も高い可視光透過率を有することから好ましい。
【００１７】
さらに、本発明の積層体において、金属層の上部に中間層が介設された構成は耐擦傷性に優れる点で、好ましい。複数層の金属層を有する積層体において、基体から最も遠い金属層の上部に中間層を介設した場合、基体に最も近い金属層の上部に中間層を積層した場合に比べ耐擦傷性を向上する効果が大きい。また、耐擦傷性の観点からは、ホウ素、アルミニウムおよびケイ素からなる群から選ばれる１種以上の窒化物からなる中間層が好ましい。ホウ素、アルミニウム、ケイ素の窒化物、特に窒化ケイ素（特にＳｉＮx 、ｘ＝１．３０〜１．３６）からなる中間層が好ましい。
【００１８】
中間層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満のものであればいずれの素材からなるものでもよい。特に、屈折率が１．６〜２．３９の素材からなるものが好ましい。中間層としては、酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種からなる層が好ましい。中間層を構成する素材の具体例として、窒化ケイ素（屈折率：２．０）、酸化ニオブ（屈折率：２．３５）、酸化亜鉛（屈折率：２．０）、酸化スズ（屈折率：２．０）等が挙げられる。
【００１９】
本発明の積層体において、中間層は、光学干渉作用によって可視光透過率の向上を図るものではなく、その厚さは、光学干渉作用を生じる厚さより小でも効果がある。中間層は、金属層とチタン酸化物層の界面に生じる表面プラズモンの生成を抑制することにより、表面プラズモンによる光吸収によって生じる積層体内での可視光の損失を抑制するものである。
また、同時に、可視光反射率を低くし、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、中間層の厚さの上限（幾何学的膜厚）は、３０ｎｍ、特に１０ｎｍ、さらには５ｎｍが好ましい。
耐擦傷性の観点からは、中間層の厚さの上限は２０ｎｍ、特に１５ｎｍが好ましい。
中間層の厚さの下限は０．１ｎｍ、特に０．５ｎｍが好ましい。
中間層を複数層有する場合、その厚さ（複数の中間層の厚さ）の合計は４０ｎｍ以下が好ましい。
【００２０】
中間層の層数に対する可視光透過率の向上効果は、ほぼ加算則が成立する。
【００２１】
本発明の積層体は、高い導電性を有することから、電磁波遮蔽性能を有する。また、近赤外領域において高い反射率を有することから、近赤外遮蔽性能をも有する。例えば、波長９００ｎｍでの透過率は１５％以下が好ましい。
【００２２】
本発明の積層体は、シート抵抗値が０．５〜３．５Ω／□、可視光透過率が４０％以上、かつ可視光反射率が１０％以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体は、放射率が０．０８以下であることが好ましい。
【００２３】
本発明の積層体をプラズマディスプレイ等の電磁波発生源から放射される電磁波の漏洩を抑制する目的で使用することも好ましい。
本発明の積層体は、３０ＭＨｚにおける電磁波遮蔽率が１０ｄｂ以上、特に１５ｄｂ以上、さらには１７ｄｂ以上であることが好ましい。シート抵抗値が同じであれば電磁遮蔽率はほぼ同じとなる。
また、本発明の積層体を低反射性能を重視する用途に用いるときは、積層体にさらに低反射性能を有する樹脂フィルムを積層することが好ましく、可視光反射率を３％以下とすることができる。
また、本発明の積層体を近赤外遮蔽性能を重視する用途に用いるときは、さらに近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムを積層することが好ましく、波長９００ｎｍでの透過率を５％以下とすることができる。
樹脂フィルムは、１）本発明の積層体の多層膜の上に、および／または２）本発明の積層体が形成されている基体面とは反対側の基体面に貼り合わせる。
【００２４】
低反射性能を有する樹脂フィルムとしては、ウレタン、ＰＥＴ等からなる樹脂フィルムに反射防止層を形成したものが挙げられる。該樹脂フィルムは、低反射性能を有するとともに、飛散防止性能も備えている。反射防止層としては、１）非結晶性の含フッ素重合体（例えば、旭硝子社製のサイトトップ）からなる低屈折率層、２）ＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 等からなる低屈折率層、３）低屈折率層と高屈折率層とを交互に重ねた多層膜、４）ポーラスシリカ膜などが挙げられる。
【００２５】
近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムとしては、ウレタン、ＰＥＴ等からなる樹脂フィルム内に近赤外吸収剤を混入させたものが挙げられる。また、貼り合わせ時に用いる接着層に近赤外吸収剤を混入させてもよい。
【００２６】
本発明の積層体の製造において、チタン酸化物層の形成は例えば、チタン酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタリング法により形成する方法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法、ＣＶＤ法等にしたがって形成することができる。これらの中でも、チタン酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタリング法により形成する方法は、チタン酸化物層を金属層上に形成する際の金属層の酸化を防止でき、高速かつ大面積に均一に形成できる点で有利である。金属層の酸化を防止できる結果、得られる積層体の可視光透過率は向上し、放射率は低減する。
【００２７】
チタン酸化物の還元性のターゲットは、チタン酸化物の化学量論組成に対し酸素が欠乏しているターゲットである。具体的には、ＴｉＯx （１＜ｘ＜２）の式で表される組成を有するものを用いるのが好ましい。チタン酸化物の還元性のターゲットは、例えば、国際公開ＷＯ９７／０８３５９号公報に記載された、チタニア粉末またはチタニア粉末とチタン粉末の混合物を原材料とし、高圧圧縮法、焼結法もしくは溶射法により製造できる。
【００２８】
還元性ターゲットを用いる場合には、スパッタガスとして、０．１〜１０体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。この範囲の濃度の酸化性ガスを含む不活性ガスをスパッタガスとして用いることにより、チタン酸化物層を形成する際の金属層の酸化の抑制に有効であり、低い放射率と高い導電性を有する積層体を製造できる点で有効である。特に０．１〜５体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。
酸化性ガスとしては、酸素ガスが一般的に用いることができるが、一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、オゾン等を用いることもできる。
【００２９】
金属層の形成は、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法等の各種の方法にしたがって行うことができる。特に、成膜速度が速く、かつ大面積に均一な厚さで均一な質の層を形成することができる点から、直流スパッタリング法によって形成するのが好ましい。
【００３０】
中間層の形成は、形成する層の組成に応じて適宜選択した方法にしたがって行うことができる。例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法等の方法によって行うことができる。特に直流スパッタリング法が好ましい。
本発明の積層体は、遮熱性物品（例えば遮熱性窓ガラス）、光学フィルタ（例えばＰＤＰ前面に設置する近赤外遮蔽フィルタ）、電磁波遮蔽物品（例えばＰＤＰ前面に設置する電磁波遮蔽板）、低反射性物品（例えば低反射性窓ガラス、低反射性ディスプレイ）、熱線反射板、透明電極に用い得る。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の実施例および比較例を挙げ、本発明についてより具体的に説明する。また、以下の実施例および比較例において、可視光透過率および放射率の測定、ならびに耐擦傷性の評価は、下記の方法にしたがって行った。
【００３２】
可視光透過率および可視光反射率の測定
波長３４０〜７８０ｎｍにおける分光透過率および分光反射率を測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、ＪＩＳ Ｚ８７２０に規定されるＣＩＥ標準の光Ｄ65に対する、ＣＩＥ明順応の比視感度による可視光透過率および可視光反射率を求めた。
【００３３】
放射率の測定
ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、予め半球放射率が求められている標準サンプルについてDevices & Services社製のSCALING DEGITAL VOLTMETER （通称エミソミタ）を用いてエミソミタ値を測定し、半球放射率とエミソミタ値との間の補正係数を予め求めた。
実施例および比較例で得られた試料についてエミソミタ値を測定し、このエミソミタ値に前記補正係数を掛けることにより、半球放射率を求めた。
【００３４】
耐擦傷性の評価
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して、荷重１ｋｇで鉛筆引っかき値を測定し、耐擦傷性の指標とした。
【００３５】
（実施例１）
ＴｉＯx （ｘ＝１．９４）からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、投入電力を４ｋｗとし、２体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラスの表面上に、厚さ３３ｎｍのチタニア層（屈折率：２．４５）を形成した。なお、前記の酸素の含有割合はスパッタガス全体に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
このチタニア層上に、１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、０．３ｋｗの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含む銀からなる金属層（以下、単に「Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層」という）（厚さ１４ｎｍ）を形成した。なお、ターゲット中のパラジウムの含有割合は銀との総量に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
【００３６】
さらに、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、Ｓｉ（面積：４３２mm×１２７mm）をターゲットとし、３０体積％の窒素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、窒化ケイ素（ＳｉＮx 、ｘ＝１．３４）からなる中間層（以下、「ＳｉＮx 中間層」という）（屈折率：１．９５、厚さ０．５ｎｍ）を形成した。次に、この中間層の上に、前記と同様にして、厚さ３３ｎｍのチタニア層を形成して、積層体Ａ−１を得た。なお、以下、実施例Ｘで得られた積層体を「積層体Ａ−Ｘ」と呼ぶこととする。
【００３７】
得られた積層体Ａ−１は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
積層体Ａ−１の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表１に示す。
【００３８】
（比較例１）
ＳｉＮx 中間層４12を形成しない以外は、実施例１と同様にして、図２に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、厚さ３３ｎｍのチタニア層２1 、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、および厚さ３３ｎｍのチタニア層５1 を有する構成の積層体Ｂ−１を得た。なお、以下、比較例Ｙで得られた積層体を「積層体Ｂ−Ｙ」と呼ぶこととする。
得られた積層体Ｂ−１の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表１に示す。
【００３９】
（実施例２〜１７、比較例２〜５）
表１および２に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さを０．５〜５ｎｍの範囲で変え、また、中間層を形成する位置を変えて、実施例１と同様にして、積層体Ａ−２〜Ａ−１７、および積層体Ｂ−２〜Ｂ−５を製造した。
積層体Ａ−２〜Ａ−５（実施例２〜５）は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４1 およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
【００４０】
積層体Ａ−６〜Ａ−１２（実施例６〜１２）は、図３に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、ＳｉＮx 中間層４11、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
積層体Ａ−１３〜Ａ−１７（実施例１３〜１７）は、図４に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、ＳｉＮx 中間層４11、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
【００４１】
積層体Ｂ−２およびＢ−３（比較例２および３）は、図５に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、チタニア層５1 、およびＳｉＮx からなるトップコート層６が積層された構成を有する。
積層体Ｂ−４およびＢ−５（比較例４および５）は、図６に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、ＳｉＮx からなるボトムコート層７、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
なお、ＳｉＮx からなるトップコート層、ＳｉＮx からなるボトムコート層のいずれも、ＳｉＮx 中間層と同様の形成方法で形成した。
【００４２】
得られた積層体Ａ−２〜Ａ−１７、および積層体Ｂ−２〜Ｂ−５について、それぞれ可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率の測定を行った。結果を表１および２に示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】
【表２】
【００４５】
また、積層体Ａ−１〜Ａ−１７におけるＳｉＮx 中間層の厚さと可視光透過率の関係を図７に示す。図７において、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の上にＳｉＮx 中間層４12を有する積層体Ａ−１〜Ａ−５については●、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の下にＳｉＮx 中間層４11を有する積層体Ａ−６〜Ａ−１２については■、ならびにＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の上下にＳｉＮx 中間層４11および４12を有する積層体Ａ−１３〜Ａ−１７については▲で示す。
【００４６】
さらに、積層体Ａ−１およびＡ−２の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図８に示す。
さらにまた、積層体Ａ−６およびＡ−８の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図９に示す。
また、積層体Ａ−１３、Ａ−１４およびＡ−１５の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図１０に示す。
【００４７】
表１および図７に示す結果から明らかなように、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を有する構成の積層体は、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上または下のみに中間層を有する構成の積層体よりも、高い可視光透過率を示し、比較例１の中間層を有しない構成の積層体Ｂ−１に比べて３％程度高い可視光透過率を示す。ＳｉＮx 中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果があり、その効果は膜厚に依存しない。１層目のチタニア層を成膜する前のＳｉＮx のボトムコート、および最上層のＳｉＮx のトップコートは、透過率を向上させる効果が殆どない。
【００４８】
（実施例１８〜２１）
表３に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さまたは位置を変えた以外は実施例１と同様にして積層体Ａ−１８〜Ａ−２１を製造した。
得られた積層体Ａ−１８〜２１について、耐擦傷性を評価した。また、実施例１、２、４、５、８、１１および１２、ならびに比較例１で得られた積層体も同様に測定した。結果を表３に示す。
【００４９】
【表３】
【００５０】
表３に示す結果から、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、０．５ｎｍ以上の厚さのＳｉＮx 中間層を形成した層構成の積層体において、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下に、１ｎｍ以上の厚さのＳｉＮx 中間層を形成した層構成の積層体においても、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。さらに、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に中間層を形成した層構成の積層体の方が、鉛筆引っかき値を向上させる効果が大きく、中間層の厚さを増すことにより鉛筆引っかき値がさらに向上することがわかる。
【００５１】
（実施例２２）
実施例１と同様にして、ソーダライムガラス１上に、順次、厚さ３３ｎｍのチタニア層２1 、厚さ１ｎｍのＳｉＮx 中間層４11、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、および厚さ６６ｎｍのチタニア層５1 を積層した後、さらに、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３2 、および厚さ３３ｎｍのチタニア層５2 を積層して、図１１に示す構成の積層体Ａ−２２を製造した。
得られた積層体Ａ−２２の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表４（その１）に示す。
【００５２】
（比較例６）
中間層４11を形成しない以外は、実施例２２と同様にして、図１２に示す構成の積層体Ｂ−６を製造した。
得られた積層体Ｂ−６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表４に示す。
【００５３】
（実施例２３〜４０）
表４（その１および２）に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さまたは位置を変更した以外は実施例２２と同様にして積層体Ａ−２３〜Ａ−４０を製造した。
【００５４】
積層体Ａ−２３（実施例２３）は図１１に、積層体Ａ−２４およびＡ−２５（実施例２４および２５）は図１３に、積層体Ａ−２６およびＡ−２７は図１４に、積層体Ａ−２８およびＡ−２９は図１５に、積層体Ａ−３０およびＡ−３１は図１６に、積層体Ａ−３２およびＡ−３３は図１７に、積層体Ａ−３４およびＡ−３５は図１８に、積層体Ａ−３６およびＡ−３７は図１９に、積層体Ａ−３８〜Ａ−４０は図２０に、それぞれ示す構成を有する。
【００５５】
積層体Ａ−２３〜Ａ−４０について、それぞれ可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率の測定を行った。積層体Ｂ−６の結果とともに、表４（その１および２）に示す。
【００５６】
【表４】
【００５７】
【表５】
【００５８】
また、積層体Ａ−３８、Ａ−３９およびＡ−４０の可視分光特性を、積層体Ｂ−６の可視分光特性とともに、図２１に示す。なお、シート抵抗値は低反射性樹脂フィルムを貼合する前に測定した。以下も同様である。
【００５９】
２つのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層のそれぞれの上下にＳｉＮx 中間層を介設した積層体が最も高い可視光透過率を示し、比較例６のＳｉＮx 中間層を介設しない積層体に比べて６％程度高い可視光透過率を示す。ＳｉＮx 中間層の膜厚は１ｎｍで効果があり、その効果は膜厚に依存しない。
【００６０】
２．５Ω／□のシート抵抗値を有し、かつ７４％以上の可視光透過率を有する積層体を得るためには、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が５層の積層体とすることが好ましい。
【００６１】
また、積層体Ａ−３８について、波長９００ｎｍの光の透過率、および周波数３０ＭＨｚの電磁波遮蔽率を測定したところ、それぞれ１４．５％、１５ｄＢであった。この結果から、積層体Ａ−３８は、良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性能を有することがわかる。
【００６２】
（実施例３８ａ、３９ａ、４０ａ）
１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用いて形成するＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を、１原子％のパラジウムと１原子％の銅を含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして０．３ｋｗの電力を投入して、ＰｄとＣｕを各々１原子％含む銀からなる金属層（以下単に「Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ−１ａｔ％Ｃｕ層」という）に変更した以外は、実施例３８、３９、４０とそれぞれ同様にして、積層体Ａ−３８ａ、Ａ−３９ａ、Ａ−４０ａを製造した。得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その３）に示す。
【００６３】
（比較例６ａ）
中間層を形成しない以外は、実施例３８ａの積層体Ａ−３８ａと同様にして製造し、得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その３）に示す。
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ−１ａｔ％Ｃｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体と同様の良好な結果が得られる。
また、２種の金属（ＰｄとＣｕ）を銀に含有させることにより、相乗効果により１種の金属を含有させた場合に比べ耐湿性が向上することが確認された。
【００６４】
（実施例３８ｂ、３９ｂ、４０ｂ）
１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用いて形成するＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を、１原子％の金を含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして０．３ｋｗの電力を投入して、Ａｕを１原子％含む銀からなる金属層（以下単に「Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層」という）に変更した以外は、実施例３８、３９、４０とそれぞれ同様にして、積層体Ａ−３８ｂ、Ａ−３９ｂ、Ａ−４０ｂを製造した。得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その４）に示す。
【００６５】
（比較例６ｂ）
中間層を形成しない以外は、実施例３８ｂの積層体Ａ−３８ｂと同様にして製造し、得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その４）に示す。
【００６６】
【表６】
【００６７】
【表７】
【００６８】
Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体と同様の良好な結果が得られる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体に比べ、Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体は２％程度高い可視光透過率を得ることができると同時に、金属層の膜厚が同程度である場合に１０％程度低いシート抵抗値を得ることができる。
【００６９】
（実施例４１）
ポリウレタン系軟質樹脂フィルム (厚さ：２００μｍ）の片面に非結晶性の含フッ素重合体（旭硝子社製、サイトップ）からなる低屈折率の反射防止層を形成し、もう一方の片面にアクリル系粘着層を形成した、低反射性能を有する樹脂フィルム（以下、「低反射性樹脂フィルム」）を用意した。
次に、図２２に示すように、実施例３８で得られた積層体Ａ−３８のチタニア層５2 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて、積層体Ａ−４１を製造した。
得られた積層体Ａ−４１について、実施例３８と同様に、可視光透過率、可視光反射率、波長９００ｎｍの光の透過率およびシート抵抗値を測定した。結果を表５に示す。
【００７０】
（実施例４２）
実施例４１で用いた低反射性樹脂フィルムのアクリル系粘着層内に近赤外線吸収剤（三井化学社製、ＳＩＲ１５９）をアクリル系粘着剤に対して５重量％添加し、低反射性能と同時に近赤外遮蔽性能を付与した樹脂フィルム（以下、「低反射近赤外遮蔽樹脂フィルム」という）を用意した。
次に、実施例４１と同様に、実施例３８で得られた積層体Ａ−３８のチタニア層５2 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて、積層体Ａ−４２を製造した。得られた積層体Ａ−４２について、実施例３８と同様に測定した。結果を表５に示す。
【００７１】
【表８】
【００７２】
表５に示す結果から、低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、７４％以上の可視光透過率を得ながら、可視光反射率を２％未満に抑えることができ、積層体Ａ−３８より、さらに良好な低反射性能が得られることがわかる。また、低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合することにより、可視光領域における良好な光学特性をほとんど損なわずに、波長９００ｎｍの光の透過率を５％以下の抑えることができ、積層体Ａ−３８よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られることがわかる。
【００７３】
また、積層体Ａ−２４、２５、２８、２９、３２および３３と、積層体Ｂ−６について耐擦傷性の評価を行った結果を表６に示す。
【００７４】
【表９】
【００７５】
表６に示す結果から、複数層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を有する積層体において、最上層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上部に中間層を介設した場合、下層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上部に中間層を積層した場合に比べて耐擦傷性を向上する効果が大きいことがわかる。また、複数のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の各層の上部に中間層を介設することが好ましい。
【００７６】
（実施例４３）
図２３に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ａ−４３を製造した。
得られた積層体Ａ−４３の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表７に示す。
【００７７】
（比較例７）
中間層を介設しない以外は実施例４３と同様にして、図２４に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ｂ−７を製造した。
得られた積層体Ｂ−７の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表７に示す。
【００７８】
（実施例４４、４５）
実施例４３と同様にして、図２５（実施例４４）および図２６（実施例４５）に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ａ−４４および４５を製造した。
得られた積層体Ａ−４４および４５の可視光透過率、可視光反射率、およびシート抵抗値の測定結果を、実施例４３の結果とともに表７に示す。
【００７９】
【表１０】
【００８０】
表７に示す結果から、１．５Ω／□のシート抵抗値を有するとともに、６７％以上の可視光透過率を有する積層体を得るためには、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が 7層の積層体とすることが好ましいことがわかる。
【００８１】
また、積層体Ａ−４５について、波長９００ｎｍの光の透過率および周波数３０ＭＨｚにおける電磁波遮蔽率を測定したところ、２．４％および１７ｄＢであり、良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性能を有することがわかった。
【００８２】
（実施例４６）
図２７に示すように、実施例４５で得られた積層体Ａ−４５のチタニア層５3 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−４６を製造した。
得られた積層体Ａ−４６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値、および波長９００ｎｍの光の透過率を表８に示す。
【００８３】
（実施例４７）
実施例４６と同様にして、実施例４５で得られた積層体Ａ−４５のチタニア層５3 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて積層体Ａ−４７を製造した。得られた積層体Ａ−４７について実施例４６と同様に測定した。結果を表８に示す。
【００８４】
【表１１】
【００８５】
表８に示すとおり、低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、６７％以上の可視光透過率を得ながら可視光反射率を２％未満に抑えることができ、積層体Ａ−４５よりさらに良好な低反射性能が得られることがわかる。また、低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合することにより、可視光領域における良好な光学特性をほとんど損なわずに、積層体Ａ−４５よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られることがわかる。
【００８６】
（実施例４８）
図２８に示す層構成を有し、各層が表９に示す構成を有する積層体Ａ−４８を製造した。
得られた積層体Ａ−４８の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表９に示す。
【００８７】
（比較例９）
中間層を介設しない以外は、実施例４８と同様にして、図２９に示す層構成を有し、各層が表９に示す構成を有する積層体Ｂ−９を製造した。
得られた積層体Ｂ−９の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表９に示す。
【００８８】
（実施例４９〜５４、比較例１０〜１１）
表９に示すとおり、チタニア層、ＳｉＮx 中間層またはＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の厚さを変更した以外は、実施例４８と同様にして、積層体Ａ−４９〜Ａ−５４を製造した。また、表９に示すとおり、チタニア層またはＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の厚さを変更した以外は、比較例９と同様にして、積層体Ｂ−１０〜Ｂ−１１を製造した。
得られた積層体Ａ−４９〜Ａ−５４および積層体Ｂ−１０〜Ｂ−１１の可視光透過率、可視光反射率およびシート抵抗値を表９に示す。
【００８９】
【表１２】
【００９０】
ＳｉＮx 中間層をＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下に介設した構成の積層体は高い可視光透過率を示し、比較例９〜１１の中間層を有しない積層体に比べて１５％程度高い透過率を示す。またＳｉＮx 中間層の膜厚は１ｎｍで効果があり、その効果はＳｉＮx 中間層の膜厚に依存しない。
【００９１】
実施例４８〜５０および比較例９〜１１について、可視光透過率とシート抵抗値の関係を図３０に、可視光反射率とシート抵抗値の関係を図３１に示す。
図３０および３１に示す結果から、０．５〜０．９Ω／□の低いシート抵抗値を有するとともに、４０％以上の可視光透過率と１０％以下の可視光反射率を有する積層体を得るためには、実施例４８〜５０のように、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が９層の積層体とすることが好ましいことがわかる。なお、電磁波遮蔽率は、いずれも１７ｄｂを超える値（約２０ｄｂまたはそれ以上）であった。
【００９２】
（実施例５５）
図３２に示すように、実施例４８で得られた積層体Ａ−４８のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−５５を製造した。
得られた積層体Ａ−５５の可視光透過率、可視光反射率を表１０に示す。
【００９３】
（実施例５６、５７）
実施例５５と同様にして、実施例４９または５０で得られた積層体Ａ−４９、５０のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−５６および５７を製造した。
【００９４】
（比較例１２〜１４）
実施例５５と同様にして、比較例９〜１１の積層体Ｂ−９〜１１のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルムを貼合わせて積層体Ｂ−１２〜１４を製造した。
【００９５】
得られた積層体Ａ−５５〜Ａ−５７および積層体Ｂ−１２〜Ｂ−１４の可視光透過率、可視光反射率およびシート抵抗値を表１０に示す。なお、シート抵抗値は低反射性樹脂フィルムを貼合する前に測定した。
【００９６】
【表１３】
【００９７】
実施例５５〜５７および比較例１２〜１4 について可視光透過率とシート抵抗値の関係を図３３に、可視光反射率とシート抵抗値の関係を図３４に示す。図３３および図３４に示す結果から、０．５〜０．９Ω／□の低いシート抵抗値を有するとともに、４０％以上の可視光透過率と３％以下の可視光反射率を有する積層体を得るためには、実施例５５〜５７のように、ＳｉＮx 中間層を介設し、かつＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層とチタン酸化物層とを、交互にそれぞれ４層ずつ積層した後、チタニア層５4 上とソーダライムガラス基体上に低反射性樹脂フィルムを貼合した層構成が好ましいことがわかる。
【００９８】
（実施例５８〜６２）
各チタニア層の形成を、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を４ｋＷとし、５０体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして用いて行い、ＳｉＮx 中間層の厚さを１．0 〜３．0 ｎｍとした以外は実施例１３〜１７と同様にして積層体Ａ−５８〜Ａ−６２を製造した。
【００９９】
（比較例１５）
チタニア層の形成を、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を４ｋＷとし、５０体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして用いて行った以外は比較例１と同様にして積層体Ｂ−１５を製造した。
【０１００】
（比較例１６）
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を形成した後、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を１ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして用いて、１．５ｎｍのＴｉ層を形成した以外は比較例１５と同様にして積層体Ｂ−１６を製造した。
【０１０１】
実施例５８〜６２および比較例１５〜１６で得られた積層体Ａ−５８〜６２および積層体Ｂ−１５〜１６について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。実施例５８〜６２の結果を表１１に、ならびに比較例１５および比較例１６の結果を表１２に示す。
【０１０２】
【表１４】
【０１０３】
【表１５】
【０１０４】
Ｔｉターゲットを用い、通常の反応性スパッタリングでチタニア層を形成する場合、酸化性ガスを多く含んだスパッタガスを用いて成膜する必要がある。この場合、酸化性ガスと電子との衝突により酸素負イオンが多く形成されるが、その生成確率は、数十ｅＶの運動エネルギーを持つ電子と衝突した場合、２０から３０％にも達する。このようにして多く生成された酸素負イオンは、負に印可されたターゲット付近の電界により基板方向に加速される。加速された酸素負イオンは基板付近で１００から２００ｅＶ程度の運動エネルギーを持ち、チタニア層の下層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層内に、平均で１．５ｎｍ程度の深さまで打ち込まれ、金属を酸化させる。この酸化により、シート抵抗値と放射率は増加し、導電性積層体（低放射性積層体）が得にくくなる。
【０１０５】
比較例１５で得られた積層体Ｂ−１５は、チタニア層を形成する過程でＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の金属が酸化されたため、抵抗値と放射率が増加し、導電性と低放射性を得られなかった。
【０１０６】
比較例１６で得られた積層体Ｂ−１６は、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上にＴｉ層を介してチタニア層を積層した構成のものである。チタニア層を形成する過程で、酸素負イオンが打ち込まれることにより生じる、チタニア層の下のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の酸化を、Ｔｉ層を設けることにより防止したものである。
Ｔｉ層の厚さが１．５ｎｍ程度である場合、チタニア層の形成後のＴｉ層はほぼ全て酸化されチタニア層となる。したがって、最終的に得られた積層体Ｂ−１６は比較例１で得られた中間層がない積層体Ｂ−１とほぼ同じ層構成を有する。
【０１０７】
表１１および１２に示す結果から、Ｔｉターゲットを用いた通常の反応性スパッタリング法で形成されたチタニア層を有する積層体においても、適当な厚さ（２ｎｍ以上）のＳｉＮx 中間層をＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層とチタニア層の間に介設することにより、比較例１６で得られた中間層がほぼ存在しない積層体Ｂ−１６と比べて高い可視光透過率が得られることがわかる。
【０１０８】
（実施例６３）
中間層の形成を下記のように変更した以外は実施例１と同様にして積層体Ａ−６３を得た。
すなわち、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、Ｇａ2 Ｏ3 をＧａ2 Ｏ3 ／（Ｇａ2 Ｏ3 ＋ＺｎＯ）で５．７重量％含むＺｎＯからなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、Ｇａ2 Ｏ3 を５．７重量％含むＺｎＯからなる中間層（以下、単に「ＧＺＯ中間層」という）（屈折率：２．０、厚さ０．５ｎｍ）を形成した。
【０１０９】
得られた積層体Ａ−６３は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＧＺＯ中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。各層の厚さは表１３に示すとおりである。
【０１１０】
（実施例６４〜８０）
表１３に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さまたは位置を変更した以外は実施例６３と同様にして積層体Ａ−６４〜Ａ−８０を製造した。
【０１１１】
これらの積層体について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１３に示す。
【０１１２】
【表１６】
【０１１３】
【表１７】
【０１１４】
ＧＺＯ中間層を有する積層体においては、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下に中間層を配置したものが最も高い可視光透過率を示し、比較例１の中間層を挿入しない場合に比べて３％程度高い可視光透過率を示す。ＧＺＯ中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１１５】
（実施例８１〜１００）
表１４に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さと位置を変更した以外は実施例６３と同様にして積層体Ａ−８１〜Ａ−１００を製造し、耐擦傷性を評価した。比較例１の結果とともに結果を表１４に示す。
【０１１６】
【表１８】
【０１１７】
【表１９】
【０１１８】
表１４に示す結果から、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上または下に、１ｎｍ以上の厚さのＧＺＯ中間層を形成した層構成の積層体において、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に中間層を形成した層構成の積層体の方が、鉛筆引っかき値を向上させる効果が大きく、中間層の厚さを増すことにより鉛筆引っかき値がさらに向上することがわかる。
【０１１９】
（実施例１０１）
中間層をＧＺＯ中間層に変更した以外は実施例２２と同様にして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのチタニア層、１ｎｍのＧＺＯ中間層、１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、６６ｎｍのチタニア層、１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、３３ｎｍのチタニア層を順に成膜し、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を２層有する構成の積層体Ａ−１０１を製造した。
【０１２０】
（実施例１０２〜１２１）
表１５に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さまたは中間層を形成する位置を変更した以外は実施例１０１と同様にして積層体Ａ−１０２〜Ａ−１２１を製造した。
得られた積層体Ａ−１０１〜Ａ−１２１について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１５に示す。
【０１２１】
【表２０】
【０１２２】
【表２１】
【０１２３】
ＧＺＯ中間層を有し、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を２層有する積層体においては、１層目および２層目の両方のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＧＺＯ中間層を配置した構成が最も高い可視光透過率を示し、比較例６の中間層を挿入しない場合に比べ７％程度高い可視光透過率を示す。ＧＺＯ中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果があり、膜厚に依存しない。
【０１２４】
（実施例１２２）
中間層を下記のＮｂＯx からなる層に変更した以外は実施例６と同様にして積層体Ａ−１２２を得た。
すなわち、ＮｂＯx （ｘ＝２．４９）からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、１０体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、ＮｂＯx （ｘ＝２．５）からなる中間層（屈折率：２．３５、厚さ：０．５ｎｍ）を形成した。
【０１２５】
得られた積層体Ａ−１２２は、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層、ＮｂＯx からなる中間層（以下、「ＮｂＯx 中間層」という）、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、およびチタニア層が積層された構成を有する。
【０１２６】
（実施例１２３〜１２６）
表１６に示すとおり、ＮｂＯx 中間層の厚さを１〜４ｎｍの範囲で変更した以外は実施例１２２と同様にして積層体Ａ−１２３〜Ａ−１２６を製造した。
得られた積層体Ａ−１２２〜Ａ−１２６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１６に示す。
【０１２７】
【表２２】
【０１２８】
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下にＮｂＯx 中間層を有する積層体は、中間層を有しない比較例１に比べて１．５％程度高い可視光透過率を示す。また、ＮｂＯx 中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１２９】
（実施例１２７）
中間層を下記のインジウムを含むＳｎＯ2 からなる層に変更した以外は実施例６と同様にして積層体Ａ−１２７を得た。
【０１３０】
インジウムを１０重量％含むＳｎＯ2 からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、インジウムを１０重量％含むＳｎＯ2 からなる中間層（以下、「ＩＴＯ中間層」という）（屈折率：２．０、厚さ１ｎｍ）を形成した。
【０１３１】
（実施例１２８〜１３１）
表１７に示すとおり、ＩＴＯ中間層の厚さを１．５〜４ｎｍの範囲で変更した以外は実施例１２７と同様にして積層体Ａ−１２８〜Ａ−１３１を製造した。
積層体Ａ−１２７〜Ａ−１３１について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１７に示す。
【０１３２】
【表２３】
【０１３３】
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下にＩＴＯ中間層を有する積層体においては、比較例１の中間層を介設しない積層体に比べて１．５％程度高い可視光透過率を示す。ＩＴＯ中間層の膜厚は１ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１３４】
【発明の効果】
本発明によれば、可視光領域における透過率が改善された、チタン酸化物を用いた積層体が得られる。
また、本発明によれば、耐擦傷性が改善された、チタン酸化物を用いた積層体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例１〜５、１８〜１９、６３〜６８および８１〜８９で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２】 比較例１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３】 実施例６〜１２、２０〜２１、６９〜７２、９０〜１００、１２２〜１２６、および１２７〜１３１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図４】 実施例１３〜１７および７３〜８０で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図５】 比較例２〜３で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図６】 比較例４〜５で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図７】 実施例１〜１７で製造した積層体の中間層の厚さと可視光透過率の関係を示す図である。
【図８】 実施例１〜２および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図９】 実施例６、８および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図１０】 実施例１３〜１５、および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図１１】 本発明の実施例２２〜２３、１０１〜１０２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１２】 比較例６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１３】 実施例２４〜２５、および１０３〜１０４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１４】 実施例２６〜２７および１０５〜１０６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１５】 実施例２８〜２９および１０７〜１０８で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１６】 実施例３０〜３１および１０９〜１１０で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１７】 実施例３２〜３３および１１１〜１１２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１８】 実施例３４〜３５および１１３〜１１４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１９】 実施例３６〜３７および１１５〜１１６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２０】 実施例３８〜４０および１１７〜１２１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２１】 実施例３８〜４０および比較例６で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図２２】 実施例４１〜４２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２３】 実施例４３で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２４】 比較例７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２５】 実施例４４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２６】 実施例４５で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２７】 実施例４６〜４７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２８】 実施例４８〜５４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２９】 比較例９で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３０】 実施例４８〜５０および比較例９〜１１で製造した積層体の可視光透過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３１】 実施例４８〜５０および比較例９〜１１で製造した積層体の可視光反射率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３２】 実施例５５〜５７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３３】 実施例５５〜５７および比較例１２〜１４で製造した積層体における可視光透過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３４】 実施例５５〜５７および比較例１２〜１４で製造した積層体における可視光反射率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【符号の説明】
１ ソーダライムガラス
２1 チタニア層
３1 ，３2 ，３3 ，３4 Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層
４11，４12，４21，４22，４31，４32，４41，４42 中間層
５1 ，５2 ，５3 ，５4 チタニア層
６ トップコート層
７ ボトムコート層
８ 樹脂フィルム
【発明の属する技術分野】
本発明は、チタン酸化物層を有する積層体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス等の透明基体上に、金属層を積層した積層体（以下、「含金属積層体」という）は、熱線の放射を抑制して冷暖房の負荷を軽減する等の目的のため、建築物や自動車等の窓ガラスなどに広く利用されている。また、含金属積層体は、プラズマディスプレイ等の各種装置から放射される電磁波の漏洩を抑制するシールド材としても利用されている。
【０００３】
含金属積層体が窓ガラス等に適用される場合、熱線の放射を少なくするとともに、高い可視光透過率が要求され、同時に、低い可視光反射率と好ましい反射色調が要求される。
また、含金属積層体を電磁波シールド材として利用する場合、高い導電性とともに、可能な限り高い可視光透過率と低い可視光反射率、さらに好ましい反射色調が要求される。
含金属積層体において、低い可視光反射率と好ましい反射色調を得るためには、可視光領域において、低反射率を示す波長帯域が広いことが要求される。
【０００４】
また、低放射性と導電性を有するとともに、高い可視光透過率を得るためには、誘電体層と金属層を交互に積層した膜構成の積層体が好適であることが公知である。
低い熱線放射率（すなわち高い導電性）だけならば、金属層を厚くすることにより得ることができる。しかし、可視光透過率の減少、可視光反射率の増加を招く。また、可視光領域において低反射率が得られる波長帯域が狭くなるため、好ましい反射色調を損なうことになる。
【０００５】
誘電体層として、チタン酸化物等の屈折率の高い材料を用いた場合、チタン酸化物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて、金属層を厚くすることにより生じる現象（上記の反射色調を損なうという好ましくない現象）を改善できることが一般に知られている。
さらに、積層数を増加させた場合も同様に、金属層を厚くすることにより生じる現象を改善できることが一般に知られている。
実際に誘電体層としてチタン酸化物層を用いて積層体を構成すると、チタン酸化物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて可視光領域において低反射率が得られる波長幅を拡げることができ、より好ましい反射色調を得ることができる。しかしながら、可視光透過率が減少し、さらに積層数の増加とともに、可視光透過率の減少率が大きくなるという問題があった。
また、誘電体層として、チタン酸化物層を用いて構成した積層体は、耐擦傷性が低いという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、チタン酸化物を用いた積層体について、可視領域における透過率を改善することを目的とする。
また、本発明は、チタン酸化物を用いた積層体について、耐擦傷性を改善することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とが、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層された積層体であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層が介設されている積層体を提供する。
また、本発明は、基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とを、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層した積層体の製造方法であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層を介設する工程を有する積層体の製造方法を提供する。
【０００８】
チタン酸化物層と金属層を交互に積層する構成において、積層数を増やすと、可視光領域において低反射率が得られる波長幅が拡大する。しかし、積層数の増加に伴い、光学干渉効果から期待される以上に、透過率が低下する傾向が顕著になることが確認された。本発明者らは、この現象を鋭意研究した結果、透過率の減少が、チタン酸化物層と金属層との界面において生じていることを見出した。この現象は、金属層の内部、特にチタン酸化物層との界面近傍において、光照射により励起される表面プラズモンによる光吸収であると推定され、チタン酸化物より屈折率が低い層を中間層として介設することで、表面プラズモンの生成を抑制し、透過率の減少を低減できると考えられる。
【０００９】
本発明の積層体において、基体側の第１層のチタン酸化物層上に、金属層およびチタン酸化物層は、交互に一対で積層される。金属層とチタン酸化物層は、１対のみが積層されていてもよいし、複数対が積層されていてもよい。例えば、本発明の積層体は、第１層の上に、金属層と、チタン酸化物層とが、それぞれ１層のみ積層された層構成を有するものでもよいし、第１層の上に、金属層とチタン酸化物層の順で交互に複数層が積層された層構成を有するものでもよい。
【００１０】
本発明の積層体において、基体は、特に制限されず、例えば、１）ソーダライムガラス、網入りガラス、フロストガラス等からなる窓用ガラス、２）自動車等の車両用窓ガラス、３）ＰＥＴ等のプラスチックフィルム、４）アクリル樹脂等からなるプラスチック板、５）ディスプレイ用に用いられるガラス、プラスチックフィルムおよびプラスチック板などが挙げられる。特に透明基体が好ましい。
【００１１】
本発明の積層体における各チタン酸化物層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４以上の層であることが好ましく、チタンの酸化物（チタニア）のみからなるものでもよいし、チタン以外の他の元素成分を少量含んでいてもよい。他の元素成分としては、例えば、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｚｒ等が挙げられる。
【００１２】
基体側の第１層、および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層の厚さ（幾何学的膜厚、以下も同様）は、２０〜６０ｎｍが好ましく、特に２５〜４５ｎｍが好ましい。第１層、および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層以外のチタン酸化物層の厚さは４０〜１２０ｎｍが好ましく、特に５０〜９０ｎｍが好ましい。また、可視光反射率を低減し、また低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、第１層および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層は、他のチタン酸化物層より薄い膜厚である（特に１／２程度の厚さ）であることが好ましい。
【００１３】
本発明の積層体において、複数あるチタン酸化物層は、互いに同じ組成を有するものでもよいし、異なる組成を有するものでもよい。
【００１４】
本発明の積層体において、金属層は、銀、銅および金から選ばれる少なくとも１種の金属を含有する層であることが好ましい。銀、銅、金またはこれらを主成分とする合金でもよい。
銀、銅または金を主成分とする合金の具体例として、１）Ｐｄを５．０原子％以下（好ましくは０．１〜３原子％の範囲）で含む銀−Ｐｄ合金、２）Ａｕを５．０原子％以下（好ましくは０．１〜３原子％の範囲）で含む銀−金合金、または、３）Ｐｄ及びＣｕを各々０．５〜３原子％の範囲で含む銀―Ｐｄ―Ｃｕ合金などが挙げられる。なお、前記した含有割合は銀との総量に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
本発明の積層体が複数の金属層を有する場合、各金属層は、同じ組成からなる層であってもよいし、異なる組成からなる層であってもよい。
【００１５】
金属層の厚さは、８〜３０ｎｍが好ましい。可視光反射率を低減し、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、基体に最も近い金属層および基体から最も遠い金属層の厚さは、それ以外の金属層の厚さの０．５〜１．０倍であることが好ましい。
また、本発明の積層体が金属層を複数層有する場合には、その厚さ（複数の金属層の厚さ）の合計は１２０ｎｍ以下であることが好ましい。
可視光反射率を低減し、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点からは、金属層の層数は、得られる積層体の抵抗値の目標を２．５Ω／□とした場合、２層であることが好ましく、抵抗値の目標が１．５Ω／□である場合は３層であることが好ましく、抵抗値の目標が０．５Ω／□である場合は４層であることが好ましい。
【００１６】
本発明の積層体において、中間層は、複数層介設されていてもよく、金属層を挟んで該金属層の上下に配設されていてもよい。特に、全ての金属層が２つの中間層で挟持された構成が、最も高い可視光透過率を有することから好ましい。
【００１７】
さらに、本発明の積層体において、金属層の上部に中間層が介設された構成は耐擦傷性に優れる点で、好ましい。複数層の金属層を有する積層体において、基体から最も遠い金属層の上部に中間層を介設した場合、基体に最も近い金属層の上部に中間層を積層した場合に比べ耐擦傷性を向上する効果が大きい。また、耐擦傷性の観点からは、ホウ素、アルミニウムおよびケイ素からなる群から選ばれる１種以上の窒化物からなる中間層が好ましい。ホウ素、アルミニウム、ケイ素の窒化物、特に窒化ケイ素（特にＳｉＮx 、ｘ＝１．３０〜１．３６）からなる中間層が好ましい。
【００１８】
中間層は、波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満のものであればいずれの素材からなるものでもよい。特に、屈折率が１．６〜２．３９の素材からなるものが好ましい。中間層としては、酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種からなる層が好ましい。中間層を構成する素材の具体例として、窒化ケイ素（屈折率：２．０）、酸化ニオブ（屈折率：２．３５）、酸化亜鉛（屈折率：２．０）、酸化スズ（屈折率：２．０）等が挙げられる。
【００１９】
本発明の積層体において、中間層は、光学干渉作用によって可視光透過率の向上を図るものではなく、その厚さは、光学干渉作用を生じる厚さより小でも効果がある。中間層は、金属層とチタン酸化物層の界面に生じる表面プラズモンの生成を抑制することにより、表面プラズモンによる光吸収によって生じる積層体内での可視光の損失を抑制するものである。
また、同時に、可視光反射率を低くし、かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から、中間層の厚さの上限（幾何学的膜厚）は、３０ｎｍ、特に１０ｎｍ、さらには５ｎｍが好ましい。
耐擦傷性の観点からは、中間層の厚さの上限は２０ｎｍ、特に１５ｎｍが好ましい。
中間層の厚さの下限は０．１ｎｍ、特に０．５ｎｍが好ましい。
中間層を複数層有する場合、その厚さ（複数の中間層の厚さ）の合計は４０ｎｍ以下が好ましい。
【００２０】
中間層の層数に対する可視光透過率の向上効果は、ほぼ加算則が成立する。
【００２１】
本発明の積層体は、高い導電性を有することから、電磁波遮蔽性能を有する。また、近赤外領域において高い反射率を有することから、近赤外遮蔽性能をも有する。例えば、波長９００ｎｍでの透過率は１５％以下が好ましい。
【００２２】
本発明の積層体は、シート抵抗値が０．５〜３．５Ω／□、可視光透過率が４０％以上、かつ可視光反射率が１０％以下であることが好ましい。
また、本発明の積層体は、放射率が０．０８以下であることが好ましい。
【００２３】
本発明の積層体をプラズマディスプレイ等の電磁波発生源から放射される電磁波の漏洩を抑制する目的で使用することも好ましい。
本発明の積層体は、３０ＭＨｚにおける電磁波遮蔽率が１０ｄｂ以上、特に１５ｄｂ以上、さらには１７ｄｂ以上であることが好ましい。シート抵抗値が同じであれば電磁遮蔽率はほぼ同じとなる。
また、本発明の積層体を低反射性能を重視する用途に用いるときは、積層体にさらに低反射性能を有する樹脂フィルムを積層することが好ましく、可視光反射率を３％以下とすることができる。
また、本発明の積層体を近赤外遮蔽性能を重視する用途に用いるときは、さらに近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムを積層することが好ましく、波長９００ｎｍでの透過率を５％以下とすることができる。
樹脂フィルムは、１）本発明の積層体の多層膜の上に、および／または２）本発明の積層体が形成されている基体面とは反対側の基体面に貼り合わせる。
【００２４】
低反射性能を有する樹脂フィルムとしては、ウレタン、ＰＥＴ等からなる樹脂フィルムに反射防止層を形成したものが挙げられる。該樹脂フィルムは、低反射性能を有するとともに、飛散防止性能も備えている。反射防止層としては、１）非結晶性の含フッ素重合体（例えば、旭硝子社製のサイトトップ）からなる低屈折率層、２）ＳｉＯ2 、ＭｇＦ2 等からなる低屈折率層、３）低屈折率層と高屈折率層とを交互に重ねた多層膜、４）ポーラスシリカ膜などが挙げられる。
【００２５】
近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムとしては、ウレタン、ＰＥＴ等からなる樹脂フィルム内に近赤外吸収剤を混入させたものが挙げられる。また、貼り合わせ時に用いる接着層に近赤外吸収剤を混入させてもよい。
【００２６】
本発明の積層体の製造において、チタン酸化物層の形成は例えば、チタン酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタリング法により形成する方法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法、ＣＶＤ法等にしたがって形成することができる。これらの中でも、チタン酸化物の還元性のターゲットを用いて直流スパッタリング法により形成する方法は、チタン酸化物層を金属層上に形成する際の金属層の酸化を防止でき、高速かつ大面積に均一に形成できる点で有利である。金属層の酸化を防止できる結果、得られる積層体の可視光透過率は向上し、放射率は低減する。
【００２７】
チタン酸化物の還元性のターゲットは、チタン酸化物の化学量論組成に対し酸素が欠乏しているターゲットである。具体的には、ＴｉＯx （１＜ｘ＜２）の式で表される組成を有するものを用いるのが好ましい。チタン酸化物の還元性のターゲットは、例えば、国際公開ＷＯ９７／０８３５９号公報に記載された、チタニア粉末またはチタニア粉末とチタン粉末の混合物を原材料とし、高圧圧縮法、焼結法もしくは溶射法により製造できる。
【００２８】
還元性ターゲットを用いる場合には、スパッタガスとして、０．１〜１０体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。この範囲の濃度の酸化性ガスを含む不活性ガスをスパッタガスとして用いることにより、チタン酸化物層を形成する際の金属層の酸化の抑制に有効であり、低い放射率と高い導電性を有する積層体を製造できる点で有効である。特に０．１〜５体積％の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。
酸化性ガスとしては、酸素ガスが一般的に用いることができるが、一酸化窒素、二酸化窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、オゾン等を用いることもできる。
【００２９】
金属層の形成は、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法等の各種の方法にしたがって行うことができる。特に、成膜速度が速く、かつ大面積に均一な厚さで均一な質の層を形成することができる点から、直流スパッタリング法によって形成するのが好ましい。
【００３０】
中間層の形成は、形成する層の組成に応じて適宜選択した方法にしたがって行うことができる。例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、蒸着法等の方法によって行うことができる。特に直流スパッタリング法が好ましい。
本発明の積層体は、遮熱性物品（例えば遮熱性窓ガラス）、光学フィルタ（例えばＰＤＰ前面に設置する近赤外遮蔽フィルタ）、電磁波遮蔽物品（例えばＰＤＰ前面に設置する電磁波遮蔽板）、低反射性物品（例えば低反射性窓ガラス、低反射性ディスプレイ）、熱線反射板、透明電極に用い得る。
【００３１】
【実施例】
以下、本発明の実施例および比較例を挙げ、本発明についてより具体的に説明する。また、以下の実施例および比較例において、可視光透過率および放射率の測定、ならびに耐擦傷性の評価は、下記の方法にしたがって行った。
【００３２】
可視光透過率および可視光反射率の測定
波長３４０〜７８０ｎｍにおける分光透過率および分光反射率を測定し、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、ＪＩＳ Ｚ８７２０に規定されるＣＩＥ標準の光Ｄ65に対する、ＣＩＥ明順応の比視感度による可視光透過率および可視光反射率を求めた。
【００３３】
放射率の測定
ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、予め半球放射率が求められている標準サンプルについてDevices & Services社製のSCALING DEGITAL VOLTMETER （通称エミソミタ）を用いてエミソミタ値を測定し、半球放射率とエミソミタ値との間の補正係数を予め求めた。
実施例および比較例で得られた試料についてエミソミタ値を測定し、このエミソミタ値に前記補正係数を掛けることにより、半球放射率を求めた。
【００３４】
耐擦傷性の評価
ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して、荷重１ｋｇで鉛筆引っかき値を測定し、耐擦傷性の指標とした。
【００３５】
（実施例１）
ＴｉＯx （ｘ＝１．９４）からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、投入電力を４ｋｗとし、２体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、ソーダライムガラスの表面上に、厚さ３３ｎｍのチタニア層（屈折率：２．４５）を形成した。なお、前記の酸素の含有割合はスパッタガス全体に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
このチタニア層上に、１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、０．３ｋｗの電力を投入して、Ｐｄを１原子％含む銀からなる金属層（以下、単に「Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層」という）（厚さ１４ｎｍ）を形成した。なお、ターゲット中のパラジウムの含有割合は銀との総量に対する割合であり、以降も同様の意で用いる。
【００３６】
さらに、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、Ｓｉ（面積：４３２mm×１２７mm）をターゲットとし、３０体積％の窒素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、窒化ケイ素（ＳｉＮx 、ｘ＝１．３４）からなる中間層（以下、「ＳｉＮx 中間層」という）（屈折率：１．９５、厚さ０．５ｎｍ）を形成した。次に、この中間層の上に、前記と同様にして、厚さ３３ｎｍのチタニア層を形成して、積層体Ａ−１を得た。なお、以下、実施例Ｘで得られた積層体を「積層体Ａ−Ｘ」と呼ぶこととする。
【００３７】
得られた積層体Ａ−１は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
積層体Ａ−１の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表１に示す。
【００３８】
（比較例１）
ＳｉＮx 中間層４12を形成しない以外は、実施例１と同様にして、図２に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、厚さ３３ｎｍのチタニア層２1 、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、および厚さ３３ｎｍのチタニア層５1 を有する構成の積層体Ｂ−１を得た。なお、以下、比較例Ｙで得られた積層体を「積層体Ｂ−Ｙ」と呼ぶこととする。
得られた積層体Ｂ−１の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表１に示す。
【００３９】
（実施例２〜１７、比較例２〜５）
表１および２に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さを０．５〜５ｎｍの範囲で変え、また、中間層を形成する位置を変えて、実施例１と同様にして、積層体Ａ−２〜Ａ−１７、および積層体Ｂ−２〜Ｂ−５を製造した。
積層体Ａ−２〜Ａ−５（実施例２〜５）は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４1 およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
【００４０】
積層体Ａ−６〜Ａ−１２（実施例６〜１２）は、図３に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、ＳｉＮx 中間層４11、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
積層体Ａ−１３〜Ａ−１７（実施例１３〜１７）は、図４に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、ＳｉＮx 中間層４11、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＳｉＮx 中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
【００４１】
積層体Ｂ−２およびＢ−３（比較例２および３）は、図５に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、チタニア層５1 、およびＳｉＮx からなるトップコート層６が積層された構成を有する。
積層体Ｂ−４およびＢ−５（比較例４および５）は、図６に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、ＳｉＮx からなるボトムコート層７、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。
なお、ＳｉＮx からなるトップコート層、ＳｉＮx からなるボトムコート層のいずれも、ＳｉＮx 中間層と同様の形成方法で形成した。
【００４２】
得られた積層体Ａ−２〜Ａ−１７、および積層体Ｂ−２〜Ｂ−５について、それぞれ可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率の測定を行った。結果を表１および２に示す。
【００４３】
【表１】
【表２】
また、積層体Ａ−１〜Ａ−１７におけるＳｉＮx 中間層の厚さと可視光透過率の関係を図７に示す。図７において、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の上にＳｉＮx 中間層４12を有する積層体Ａ−１〜Ａ−５については●、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の下にＳｉＮx 中間層４11を有する積層体Ａ−６〜Ａ−１２については■、ならびにＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 の上下にＳｉＮx 中間層４11および４12を有する積層体Ａ−１３〜Ａ−１７については▲で示す。
【００４６】
さらに、積層体Ａ−１およびＡ−２の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図８に示す。
さらにまた、積層体Ａ−６およびＡ−８の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図９に示す。
また、積層体Ａ−１３、Ａ−１４およびＡ−１５の可視分光特性を、積層体Ｂ−１の可視分光特性とともに、図１０に示す。
【００４７】
表１および図７に示す結果から明らかなように、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を有する構成の積層体は、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上または下のみに中間層を有する構成の積層体よりも、高い可視光透過率を示し、比較例１の中間層を有しない構成の積層体Ｂ−１に比べて３％程度高い可視光透過率を示す。ＳｉＮx 中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果があり、その効果は膜厚に依存しない。１層目のチタニア層を成膜する前のＳｉＮx のボトムコート、および最上層のＳｉＮx のトップコートは、透過率を向上させる効果が殆どない。
【００４８】
（実施例１８〜２１）
表３に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さまたは位置を変えた以外は実施例１と同様にして積層体Ａ−１８〜Ａ−２１を製造した。
得られた積層体Ａ−１８〜２１について、耐擦傷性を評価した。また、実施例１、２、４、５、８、１１および１２、ならびに比較例１で得られた積層体も同様に測定した。結果を表３に示す。
【００４９】
【表３】
表３に示す結果から、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、０．５ｎｍ以上の厚さのＳｉＮx 中間層を形成した層構成の積層体において、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下に、１ｎｍ以上の厚さのＳｉＮx 中間層を形成した層構成の積層体においても、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。さらに、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に中間層を形成した層構成の積層体の方が、鉛筆引っかき値を向上させる効果が大きく、中間層の厚さを増すことにより鉛筆引っかき値がさらに向上することがわかる。
【００５１】
（実施例２２）
実施例１と同様にして、ソーダライムガラス１上に、順次、厚さ３３ｎｍのチタニア層２1 、厚さ１ｎｍのＳｉＮx 中間層４11、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、および厚さ６６ｎｍのチタニア層５1 を積層した後、さらに、厚さ１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３2 、および厚さ３３ｎｍのチタニア層５2 を積層して、図１１に示す構成の積層体Ａ−２２を製造した。
得られた積層体Ａ−２２の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表４（その１）に示す。
【００５２】
（比較例６）
中間層４11を形成しない以外は、実施例２２と同様にして、図１２に示す構成の積層体Ｂ−６を製造した。
得られた積層体Ｂ−６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を表４に示す。
【００５３】
（実施例２３〜４０）
表４（その１および２）に示すとおり、ＳｉＮx 中間層の厚さまたは位置を変更した以外は実施例２２と同様にして積層体Ａ−２３〜Ａ−４０を製造した。
【００５４】
積層体Ａ−２３（実施例２３）は図１１に、積層体Ａ−２４およびＡ−２５（実施例２４および２５）は図１３に、積層体Ａ−２６およびＡ−２７は図１４に、積層体Ａ−２８およびＡ−２９は図１５に、積層体Ａ−３０およびＡ−３１は図１６に、積層体Ａ−３２およびＡ−３３は図１７に、積層体Ａ−３４およびＡ−３５は図１８に、積層体Ａ−３６およびＡ−３７は図１９に、積層体Ａ−３８〜Ａ−４０は図２０に、それぞれ示す構成を有する。
【００５５】
積層体Ａ−２３〜Ａ−４０について、それぞれ可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率の測定を行った。積層体Ｂ−６の結果とともに、表４（その１および２）に示す。
【００５６】
【表４】
【表５】
また、積層体Ａ−３８、Ａ−３９およびＡ−４０の可視分光特性を、積層体Ｂ−６の可視分光特性とともに、図２１に示す。なお、シート抵抗値は低反射性樹脂フィルムを貼合する前に測定した。以下も同様である。
【００５９】
２つのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層のそれぞれの上下にＳｉＮx 中間層を介設した積層体が最も高い可視光透過率を示し、比較例６のＳｉＮx 中間層を介設しない積層体に比べて６％程度高い可視光透過率を示す。ＳｉＮx 中間層の膜厚は１ｎｍで効果があり、その効果は膜厚に依存しない。
【００６０】
２．５Ω／□のシート抵抗値を有し、かつ７４％以上の可視光透過率を有する積層体を得るためには、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が５層の積層体とすることが好ましい。
【００６１】
また、積層体Ａ−３８について、波長９００ｎｍの光の透過率、および周波数３０ＭＨｚの電磁波遮蔽率を測定したところ、それぞれ１４．５％、１５ｄＢであった。この結果から、積層体Ａ−３８は、良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性能を有することがわかる。
【００６２】
（実施例３８ａ、３９ａ、４０ａ）
１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用いて形成するＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を、１原子％のパラジウムと１原子％の銅を含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして０．３ｋｗの電力を投入して、ＰｄとＣｕを各々１原子％含む銀からなる金属層（以下単に「Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ−１ａｔ％Ｃｕ層」という）に変更した以外は、実施例３８、３９、４０とそれぞれ同様にして、積層体Ａ−３８ａ、Ａ−３９ａ、Ａ−４０ａを製造した。得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その３）に示す。
【００６３】
（比較例６ａ）
中間層を形成しない以外は、実施例３８ａの積層体Ａ−３８ａと同様にして製造し、得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その３）に示す。
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ−１ａｔ％Ｃｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体と同様の良好な結果が得られる。
また、２種の金属（ＰｄとＣｕ）を銀に含有させることにより、相乗効果により１種の金属を含有させた場合に比べ耐湿性が向上することが確認された。
【００６４】
（実施例３８ｂ、３９ｂ、４０ｂ）
１原子％のパラジウムを含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用いて形成するＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を、１原子％の金を含む銀からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして０．３ｋｗの電力を投入して、Ａｕを１原子％含む銀からなる金属層（以下単に「Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層」という）に変更した以外は、実施例３８、３９、４０とそれぞれ同様にして、積層体Ａ−３８ｂ、Ａ−３９ｂ、Ａ−４０ｂを製造した。得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その４）に示す。
【００６５】
（比較例６ｂ）
中間層を形成しない以外は、実施例３８ｂの積層体Ａ−３８ｂと同様にして製造し、得られた積層体について積層体Ａ−３８と同様に評価した。結果を表４（その４）に示す。
【００６６】
【表６】
【表７】
Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体と同様の良好な結果が得られる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体では、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を用いた積層体に比べ、Ａｇ−１ａｔ％Ａｕ層を用いた積層体は２％程度高い可視光透過率を得ることができると同時に、金属層の膜厚が同程度である場合に１０％程度低いシート抵抗値を得ることができる。
【００６９】
（実施例４１）
ポリウレタン系軟質樹脂フィルム (厚さ：２００μｍ）の片面に非結晶性の含フッ素重合体（旭硝子社製、サイトップ）からなる低屈折率の反射防止層を形成し、もう一方の片面にアクリル系粘着層を形成した、低反射性能を有する樹脂フィルム（以下、「低反射性樹脂フィルム」）を用意した。
次に、図２２に示すように、実施例３８で得られた積層体Ａ−３８のチタニア層５2 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて、積層体Ａ−４１を製造した。
得られた積層体Ａ−４１について、実施例３８と同様に、可視光透過率、可視光反射率、波長９００ｎｍの光の透過率およびシート抵抗値を測定した。結果を表５に示す。
【００７０】
（実施例４２）
実施例４１で用いた低反射性樹脂フィルムのアクリル系粘着層内に近赤外線吸収剤（三井化学社製、ＳＩＲ１５９）をアクリル系粘着剤に対して５重量％添加し、低反射性能と同時に近赤外遮蔽性能を付与した樹脂フィルム（以下、「低反射近赤外遮蔽樹脂フィルム」という）を用意した。
次に、実施例４１と同様に、実施例３８で得られた積層体Ａ−３８のチタニア層５2 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて、積層体Ａ−４２を製造した。得られた積層体Ａ−４２について、実施例３８と同様に測定した。結果を表５に示す。
【００７１】
【表８】
表５に示す結果から、低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、７４％以上の可視光透過率を得ながら、可視光反射率を２％未満に抑えることができ、積層体Ａ−３８より、さらに良好な低反射性能が得られることがわかる。また、低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合することにより、可視光領域における良好な光学特性をほとんど損なわずに、波長９００ｎｍの光の透過率を５％以下の抑えることができ、積層体Ａ−３８よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られることがわかる。
【００７３】
また、積層体Ａ−２４、２５、２８、２９、３２および３３と、積層体Ｂ−６について耐擦傷性の評価を行った結果を表６に示す。
【００７４】
【表９】
表６に示す結果から、複数層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を有する積層体において、最上層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上部に中間層を介設した場合、下層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上部に中間層を積層した場合に比べて耐擦傷性を向上する効果が大きいことがわかる。また、複数のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の各層の上部に中間層を介設することが好ましい。
【００７６】
（実施例４３）
図２３に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ａ−４３を製造した。
得られた積層体Ａ−４３の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表７に示す。
【００７７】
（比較例７）
中間層を介設しない以外は実施例４３と同様にして、図２４に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ｂ−７を製造した。
得られた積層体Ｂ−７の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表７に示す。
【００７８】
（実施例４４、４５）
実施例４３と同様にして、図２５（実施例４４）および図２６（実施例４５）に示す層構成を有し、各層が表７に示す構成の積層体Ａ−４４および４５を製造した。
得られた積層体Ａ−４４および４５の可視光透過率、可視光反射率、およびシート抵抗値の測定結果を、実施例４３の結果とともに表７に示す。
【００７９】
【表１０】
表７に示す結果から、１．５Ω／□のシート抵抗値を有するとともに、６７％以上の可視光透過率を有する積層体を得るためには、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が 7層の積層体とすることが好ましいことがわかる。
【００８１】
また、積層体Ａ−４５について、波長９００ｎｍの光の透過率および周波数３０ＭＨｚにおける電磁波遮蔽率を測定したところ、２．４％および１７ｄＢであり、良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性能を有することがわかった。
【００８２】
（実施例４６）
図２７に示すように、実施例４５で得られた積層体Ａ−４５のチタニア層５3 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−４６を製造した。
得られた積層体Ａ−４６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値、および波長９００ｎｍの光の透過率を表８に示す。
【００８３】
（実施例４７）
実施例４６と同様にして、実施例４５で得られた積層体Ａ−４５のチタニア層５3 の上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて積層体Ａ−４７を製造した。得られた積層体Ａ−４７について実施例４６と同様に測定した。結果を表８に示す。
【００８４】
【表１１】
表８に示すとおり、低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、６７％以上の可視光透過率を得ながら可視光反射率を２％未満に抑えることができ、積層体Ａ−４５よりさらに良好な低反射性能が得られることがわかる。また、低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合することにより、可視光領域における良好な光学特性をほとんど損なわずに、積層体Ａ−４５よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られることがわかる。
【００８６】
（実施例４８）
図２８に示す層構成を有し、各層が表９に示す構成を有する積層体Ａ−４８を製造した。
得られた積層体Ａ−４８の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表９に示す。
【００８７】
（比較例９）
中間層を介設しない以外は、実施例４８と同様にして、図２９に示す層構成を有し、各層が表９に示す構成を有する積層体Ｂ−９を製造した。
得られた積層体Ｂ−９の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値を表９に示す。
【００８８】
（実施例４９〜５４、比較例１０〜１１）
表９に示すとおり、チタニア層、ＳｉＮx 中間層またはＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の厚さを変更した以外は、実施例４８と同様にして、積層体Ａ−４９〜Ａ−５４を製造した。また、表９に示すとおり、チタニア層またはＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の厚さを変更した以外は、比較例９と同様にして、積層体Ｂ−１０〜Ｂ−１１を製造した。
得られた積層体Ａ−４９〜Ａ−５４および積層体Ｂ−１０〜Ｂ−１１の可視光透過率、可視光反射率およびシート抵抗値を表９に示す。
【００８９】
【表１２】
ＳｉＮx 中間層をＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下に介設した構成の積層体は高い可視光透過率を示し、比較例９〜１１の中間層を有しない積層体に比べて１５％程度高い透過率を示す。またＳｉＮx 中間層の膜厚は１ｎｍで効果があり、その効果はＳｉＮx 中間層の膜厚に依存しない。
【００９１】
実施例４８〜５０および比較例９〜１１について、可視光透過率とシート抵抗値の関係を図３０に、可視光反射率とシート抵抗値の関係を図３１に示す。
図３０および３１に示す結果から、０．５〜０．９Ω／□の低いシート抵抗値を有するとともに、４０％以上の可視光透過率と１０％以下の可視光反射率を有する積層体を得るためには、実施例４８〜５０のように、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＳｉＮx 中間層を介設し、かつ（２ｎ＋１）層が９層の積層体とすることが好ましいことがわかる。なお、電磁波遮蔽率は、いずれも１７ｄｂを超える値（約２０ｄｂまたはそれ以上）であった。
【００９２】
（実施例５５）
図３２に示すように、実施例４８で得られた積層体Ａ−４８のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−５５を製造した。
得られた積層体Ａ−５５の可視光透過率、可視光反射率を表１０に示す。
【００９３】
（実施例５６、５７）
実施例５５と同様にして、実施例４９または５０で得られた積層体Ａ−４９、５０のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルム８を貼合わせて積層体Ａ−５６および５７を製造した。
【００９４】
（比較例１２〜１４）
実施例５５と同様にして、比較例９〜１１の積層体Ｂ−９〜１１のチタニア層５4 上と、積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、それぞれ低反射性樹脂フィルムを貼合わせて積層体Ｂ−１２〜１４を製造した。
【００９５】
得られた積層体Ａ−５５〜Ａ−５７および積層体Ｂ−１２〜Ｂ−１４の可視光透過率、可視光反射率およびシート抵抗値を表１０に示す。なお、シート抵抗値は低反射性樹脂フィルムを貼合する前に測定した。
【００９６】
【表１３】
実施例５５〜５７および比較例１２〜１4 について可視光透過率とシート抵抗値の関係を図３３に、可視光反射率とシート抵抗値の関係を図３４に示す。図３３および図３４に示す結果から、０．５〜０．９Ω／□の低いシート抵抗値を有するとともに、４０％以上の可視光透過率と３％以下の可視光反射率を有する積層体を得るためには、実施例５５〜５７のように、ＳｉＮx 中間層を介設し、かつＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層とチタン酸化物層とを、交互にそれぞれ４層ずつ積層した後、チタニア層５4 上とソーダライムガラス基体上に低反射性樹脂フィルムを貼合した層構成が好ましいことがわかる。
【００９８】
（実施例５８〜６２）
各チタニア層の形成を、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を４ｋＷとし、５０体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして用いて行い、ＳｉＮx 中間層の厚さを１．0 〜３．0 ｎｍとした以外は実施例１３〜１７と同様にして積層体Ａ−５８〜Ａ−６２を製造した。
【００９９】
（比較例１５）
チタニア層の形成を、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を４ｋＷとし、５０体積％の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガスとして用いて行った以外は比較例１と同様にして積層体Ｂ−１５を製造した。
【０１００】
（比較例１６）
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を形成した後、Ｔｉターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、投入電力を１ｋＷとし、アルゴンガスをスパッタガスとして用いて、１．５ｎｍのＴｉ層を形成した以外は比較例１５と同様にして積層体Ｂ−１６を製造した。
【０１０１】
実施例５８〜６２および比較例１５〜１６で得られた積層体Ａ−５８〜６２および積層体Ｂ−１５〜１６について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。実施例５８〜６２の結果を表１１に、ならびに比較例１５および比較例１６の結果を表１２に示す。
【０１０２】
【表１４】
【表１５】
Ｔｉターゲットを用い、通常の反応性スパッタリングでチタニア層を形成する場合、酸化性ガスを多く含んだスパッタガスを用いて成膜する必要がある。この場合、酸化性ガスと電子との衝突により酸素負イオンが多く形成されるが、その生成確率は、数十ｅＶの運動エネルギーを持つ電子と衝突した場合、２０から３０％にも達する。このようにして多く生成された酸素負イオンは、負に印可されたターゲット付近の電界により基板方向に加速される。加速された酸素負イオンは基板付近で１００から２００ｅＶ程度の運動エネルギーを持ち、チタニア層の下層のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層内に、平均で１．５ｎｍ程度の深さまで打ち込まれ、金属を酸化させる。この酸化により、シート抵抗値と放射率は増加し、導電性積層体（低放射性積層体）が得にくくなる。
【０１０５】
比較例１５で得られた積層体Ｂ−１５は、チタニア層を形成する過程でＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の金属が酸化されたため、抵抗値と放射率が増加し、導電性と低放射性を得られなかった。
【０１０６】
比較例１６で得られた積層体Ｂ−１６は、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上にＴｉ層を介してチタニア層を積層した構成のものである。チタニア層を形成する過程で、酸素負イオンが打ち込まれることにより生じる、チタニア層の下のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の酸化を、Ｔｉ層を設けることにより防止したものである。
Ｔｉ層の厚さが１．５ｎｍ程度である場合、チタニア層の形成後のＴｉ層はほぼ全て酸化されチタニア層となる。したがって、最終的に得られた積層体Ｂ−１６は比較例１で得られた中間層がない積層体Ｂ−１とほぼ同じ層構成を有する。
【０１０７】
表１１および１２に示す結果から、Ｔｉターゲットを用いた通常の反応性スパッタリング法で形成されたチタニア層を有する積層体においても、適当な厚さ（２ｎｍ以上）のＳｉＮx 中間層をＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層とチタニア層の間に介設することにより、比較例１６で得られた中間層がほぼ存在しない積層体Ｂ−１６と比べて高い可視光透過率が得られることがわかる。
【０１０８】
（実施例６３）
中間層の形成を下記のように変更した以外は実施例１と同様にして積層体Ａ−６３を得た。
すなわち、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に、Ｇａ2 Ｏ3 をＧａ2 Ｏ3 ／（Ｇａ2 Ｏ3 ＋ＺｎＯ）で５．７重量％含むＺｎＯからなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、Ｇａ2 Ｏ3 を５．７重量％含むＺｎＯからなる中間層（以下、単に「ＧＺＯ中間層」という）（屈折率：２．０、厚さ０．５ｎｍ）を形成した。
【０１０９】
得られた積層体Ａ−６３は、図１に示すとおり、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層２1 、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層３1 、ＧＺＯ中間層４12およびチタニア層５1 が積層された構成を有する。各層の厚さは表１３に示すとおりである。
【０１１０】
（実施例６４〜８０）
表１３に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さまたは位置を変更した以外は実施例６３と同様にして積層体Ａ−６４〜Ａ−８０を製造した。
【０１１１】
これらの積層体について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１３に示す。
【０１１２】
【表１６】
【表１７】
ＧＺＯ中間層を有する積層体においては、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下に中間層を配置したものが最も高い可視光透過率を示し、比較例１の中間層を挿入しない場合に比べて３％程度高い可視光透過率を示す。ＧＺＯ中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１１５】
（実施例８１〜１００）
表１４に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さと位置を変更した以外は実施例６３と同様にして積層体Ａ−８１〜Ａ−１００を製造し、耐擦傷性を評価した。比較例１の結果とともに結果を表１４に示す。
【０１１６】
【表１８】
【表１９】
表１４に示す結果から、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上または下に、１ｎｍ以上の厚さのＧＺＯ中間層を形成した層構成の積層体において、耐擦傷性の指標である鉛筆引っかき値が向上することがわかる。また、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上に中間層を形成した層構成の積層体の方が、鉛筆引っかき値を向上させる効果が大きく、中間層の厚さを増すことにより鉛筆引っかき値がさらに向上することがわかる。
【０１１９】
（実施例１０１）
中間層をＧＺＯ中間層に変更した以外は実施例２２と同様にして、ソーダライムガラス上に、３３ｎｍのチタニア層、１ｎｍのＧＺＯ中間層、１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、６６ｎｍのチタニア層、１４ｎｍのＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、３３ｎｍのチタニア層を順に成膜し、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を２層有する構成の積層体Ａ−１０１を製造した。
【０１２０】
（実施例１０２〜１２１）
表１５に示すとおり、ＧＺＯ中間層の厚さまたは中間層を形成する位置を変更した以外は実施例１０１と同様にして積層体Ａ−１０２〜Ａ−１２１を製造した。
得られた積層体Ａ−１０１〜Ａ−１２１について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１５に示す。
【０１２１】
【表２０】
【表２１】
ＧＺＯ中間層を有し、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層を２層有する積層体においては、１層目および２層目の両方のＡｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の上下にＧＺＯ中間層を配置した構成が最も高い可視光透過率を示し、比較例６の中間層を挿入しない場合に比べ７％程度高い可視光透過率を示す。ＧＺＯ中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果があり、膜厚に依存しない。
【０１２４】
（実施例１２２）
中間層を下記のＮｂＯx からなる層に変更した以外は実施例６と同様にして積層体Ａ−１２２を得た。
すなわち、ＮｂＯx （ｘ＝２．４９）からなるターゲット（面積：４３２ｍｍ×１２７ｍｍ）を用い、１０体積％の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、ＮｂＯx （ｘ＝２．５）からなる中間層（屈折率：２．３５、厚さ：０．５ｎｍ）を形成した。
【０１２５】
得られた積層体Ａ−１２２は、ソーダライムガラス１上に、順次、チタニア層、ＮｂＯx からなる中間層（以下、「ＮｂＯx 中間層」という）、Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層、およびチタニア層が積層された構成を有する。
【０１２６】
（実施例１２３〜１２６）
表１６に示すとおり、ＮｂＯx 中間層の厚さを１〜４ｎｍの範囲で変更した以外は実施例１２２と同様にして積層体Ａ−１２３〜Ａ−１２６を製造した。
得られた積層体Ａ−１２２〜Ａ−１２６の可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１６に示す。
【０１２７】
【表２２】
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下にＮｂＯx 中間層を有する積層体は、中間層を有しない比較例１に比べて１．５％程度高い可視光透過率を示す。また、ＮｂＯx 中間層の膜厚は０．５ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１２９】
（実施例１２７）
中間層を下記のインジウムを含むＳｎＯ2 からなる層に変更した以外は実施例６と同様にして積層体Ａ−１２７を得た。
【０１３０】
インジウムを１０重量％含むＳｎＯ2 からなるターゲット（面積：４３２mm×１２７mm）を用い、アルゴンガスをスパッタガスとして、投入電力を１ｋＷとし、インジウムを１０重量％含むＳｎＯ2 からなる中間層（以下、「ＩＴＯ中間層」という）（屈折率：２．０、厚さ１ｎｍ）を形成した。
【０１３１】
（実施例１２８〜１３１）
表１７に示すとおり、ＩＴＯ中間層の厚さを１．５〜４ｎｍの範囲で変更した以外は実施例１２７と同様にして積層体Ａ−１２８〜Ａ−１３１を製造した。
積層体Ａ−１２７〜Ａ−１３１について、可視光透過率、可視光反射率、シート抵抗値および放射率を測定した。結果を表１７に示す。
【０１３２】
【表２３】
Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層の下にＩＴＯ中間層を有する積層体においては、比較例１の中間層を介設しない積層体に比べて１．５％程度高い可視光透過率を示す。ＩＴＯ中間層の膜厚は１ｎｍで効果が見られ、その効果は膜厚に依存しない。
【０１３４】
【発明の効果】
本発明によれば、可視光領域における透過率が改善された、チタン酸化物を用いた積層体が得られる。
また、本発明によれば、耐擦傷性が改善された、チタン酸化物を用いた積層体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例１〜５、１８〜１９、６３〜６８および８１〜８９で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２】 比較例１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３】 実施例６〜１２、２０〜２１、６９〜７２、９０〜１００、１２２〜１２６、および１２７〜１３１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図４】 実施例１３〜１７および７３〜８０で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図５】 比較例２〜３で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図６】 比較例４〜５で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図７】 実施例１〜１７で製造した積層体の中間層の厚さと可視光透過率の関係を示す図である。
【図８】 実施例１〜２および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図９】 実施例６、８および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図１０】 実施例１３〜１５、および比較例１で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図１１】 本発明の実施例２２〜２３、１０１〜１０２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１２】 比較例６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１３】 実施例２４〜２５、および１０３〜１０４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１４】 実施例２６〜２７および１０５〜１０６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１５】 実施例２８〜２９および１０７〜１０８で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１６】 実施例３０〜３１および１０９〜１１０で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１７】 実施例３２〜３３および１１１〜１１２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１８】 実施例３４〜３５および１１３〜１１４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図１９】 実施例３６〜３７および１１５〜１１６で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２０】 実施例３８〜４０および１１７〜１２１で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２１】 実施例３８〜４０および比較例６で製造した積層体の可視分光特性を示す図である。
【図２２】 実施例４１〜４２で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２３】 実施例４３で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２４】 比較例７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２５】 実施例４４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２６】 実施例４５で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２７】 実施例４６〜４７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２８】 実施例４８〜５４で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図２９】 比較例９で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３０】 実施例４８〜５０および比較例９〜１１で製造した積層体の可視光透過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３１】 実施例４８〜５０および比較例９〜１１で製造した積層体の可視光反射率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３２】 実施例５５〜５７で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
【図３３】 実施例５５〜５７および比較例１２〜１４で製造した積層体における可視光透過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【図３４】 実施例５５〜５７および比較例１２〜１４で製造した積層体における可視光反射率とシート抵抗値の関係を示す図である。
【符号の説明】
１ ソーダライムガラス
２1 チタニア層
３1 ，３2 ，３3 ，３4 Ａｇ−１ａｔ％Ｐｄ層
４11，４12，４21，４22，４31，４32，４41，４42 中間層
５1 ，５2 ，５3 ，５4 チタニア層
６ トップコート層
７ ボトムコート層
８ 樹脂フィルム
Claims (10)
- 基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とが、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層された積層体であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層が介設されている積層体。
- 各チタン酸化物層の波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４以上である請求項１に記載の積層体。
- 中間層が、酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物およびホウ化物から選ばれる少なくとも１種からなる層である請求項１または２に記載の積層体。
- 中間層の厚さが、０．１〜３０ｎｍである請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
- 金属層が、銀、銅および金から選ばれる少なくとも１種の金属を含有する層である請求項１〜４のいずれかに記載の積層体。
- シート抵抗値が０．５〜３．５Ω／□、可視光透過率が４０％以上、かつ可視光反射率が１０％以下である請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
- 前記積層体に低反射性能を有する樹脂フィルムをさらに積層してなる請求項１〜６に記載の積層体。
- 前記積層体に近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムをさらに積層してなる請求項１〜７に記載の積層体。
- 可視光反射率が３％以下である請求項５〜８のいずれかに記載の積層体。
- 基体上に、チタン酸化物層と、金属層と、チタン酸化物層とを、この順に交互に２ｎ＋１（ｎは正の整数）層積層した積層体の製造方法であって、チタン酸化物層と金属層との層間の少なくとも１つに波長５５０ｎｍでの屈折率が２．４未満の中間層を介設する工程を有する積層体の製造方法。
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1999
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9376853B2 (en) | 2005-10-11 | 2016-06-28 | Cardinal Cg Company | High quality reflectance coatings |
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| US10590035B2 (en) | 2005-10-11 | 2020-03-17 | Cardinal Cg Company | High quality reflectance coatings |
| US10773996B2 (en) | 2005-10-11 | 2020-09-15 | Cardinal Cg Company | Deposition methods for high quality reflectance coatings |
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