JP4355364B1 - 足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体 - Google Patents

Abstract

【課題】足に体重がかかった状態でも足の横アーチを維持することができるだけでなく、装着者に不快感や苦痛を与えることなく、開張足、外反母趾、後脛骨筋腱機能不全（ＰＴＴＤ）などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効果的に予防または治療することを可能にするサポーターや靴下、ストッキングなどを提供する。
【解決手段】足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体であって、前足部の足背に対応する足背部、前足部の足底に対応する足底部、及び少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段を含み、該足背部と足底部とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成し、該少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段は、それぞれ、該筒状体の内面の、足の両側部に接触する箇所に取り付けられており、該足背部の足幅方向の伸長率が該足底部の足幅方向の伸長率より大きい、ことを特徴とする、サポーター構造体。
【選択図】図２

Description

本発明は、足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体に関する。更に詳細には、本発明は、足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体であって、前足部の足背に対応する足背部、前足部の足底に対応する足底部、及び少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段を含み、該足背部と足底部とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成し、該少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段は、それぞれ、該筒状体の内面の、足の両側部に接触する箇所に取り付けられており、該足背部の足幅方向の伸長率が該足底部の足幅方向の伸長率より大きい、
ことを特徴とする、サポーター構造体に関する。本発明のサポーター構造体を用いると、これを装着した状態で足に体重をかけた際にも足の横アーチを維持することができるだけでなく、足背にかかる衣服圧が比較的低いので浮腫や痺れの発生を防止できるため、装着者に不快感や苦痛を与えることなく、開張足、外反母趾、後脛骨筋腱機能不全（Posterior tibial tendon dysfunction；以下、屡々「ＰＴＴＤ」と称す）による足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効果的に予防または治療することが可能になる。また、本発明のサポータ構造体は、薄い素材を使用し且つ簡単な構造で、上記のような優れた効果を得ることができるため、装着方法や屋内用及び屋外用の履き物との併用が容易であるため、日常的に装着することによって上記のような優れた予防または治療効果をより一層向上させることができる。

人の足には、第１趾（即ち、親指又は母趾）の付け根部分と第５趾（即ち、小指又は小趾）の付け根部分を結ぶ横アーチ、踵部分と親指の付け根部分を結ぶ内側縦アーチ、及び踵部分と小指の付け根部分を結ぶ外側縦アーチの３種類のアーチが存在する。足のアーチは運動時にはバネとして機能し、地面からの衝撃を緩和吸収し、体のバランスを保つために重要である。特に横アーチは、中足骨靭帯や筋肉などによって構成されたバネのようなものであり、歩行の際に足先に係る衝撃を分散したり、体全体のバランスを取ったりするために重要である。しかしながら、近年では、運動不足による筋力低下や体重の増加、ハイヒールの使用などによって中足骨靭帯が緩み、横アーチが崩れて扇状に広がる開張足の人が増えている。開張足は、第１趾と第５趾の付け根が靴に当たって痛みを生じるといった症状を伴う。特に女性では、つま先が細く、ヒールの高い靴を長期間履き続けることで開張足になり、これが原因となって、第１趾がその付け根から第２趾の方向に曲がって密着し、第１趾の付け根の関節が外側に突出した症状、即ち、外反母趾になることが多い。開張足や外反母趾は痛みを伴うだけでなく、不自然な歩行姿勢の原因となるため、腰痛や体全体の疲労を引き起こす。

また、後脛骨筋腱は上記のような足のアーチを維持する作用があるが、この腱が加齢などによって機能不全を起こして、足の変形をきたす場合がある。このような後脛骨筋腱機能不全は、一般に「ＰＴＴＤ」と称され、踵の外反、扁平足など様々な足の変形の原因として注目されている。

足のアーチの重要性に着目し、足のアーチを支えることで運動性能を高めるための様々な靴下やサポーターが開発されている。特許文献１には、土踏まず部を横切る領域と踵骨上方を横切る領域とを結ぶ一連の高弾性領域と、それ以外の部分を低弾性領域で構成した靴下が開示されている。この靴下は、足甲部に過度の締め付け感を与えることなく土踏まずを引き上げることができるので、縦アーチを矯正することで着用者の疲労を軽減して、運動性能を高めることができる。しかし、特許文献１には横アーチの矯正やその重要性に関する記載はない。

特許文献２にも、歩行時の足の運びをスムースに行うための靴下が開示されている。この靴下は、足底部の長さ方向と爪先部の爪先方向とのなす角度が０°より大きく、８０°以下となるように、種々の部位の編み方や材質を変化させており、足甲部は長さ方向の伸長率を縮小させる素材で形成されている。特許文献２には、更に着用者の中足骨及び／又は中足趾節関節に対応する部分を周回する係止領域を設けることが記載されている。この係止領域は中足骨及び／又は中足趾節関節を適度に圧迫して着用者の指先を開くことで外反母趾を予防するためのものであるが、横アーチの再生や開張足の改善に関する記載はない。

また、開張足や外反母趾を矯正するために、中足骨靭帯を締めて横アーチを再生するための種々のサポーターや靴下が提案されている。例えば、特許文献３には、足の親指の付け根関節部と小指の付け根関節部が当たる部分を穿孔し、足底にある湧泉と呼ばれるつぼの部分に山型クッションを装着し、中足骨全体を覆い足底及び足甲を包んで着用される筒状の関節部装着部によって締め付け力と指圧効果を作用させ、更に足の親指と第２指との間及び小指と第４指との間に挿入されるパッドにより締め付け力と逆向きの矯正力を付与して横アーチを修正する、外反母趾矯正用サポーターが開示されている。特許文献３のサポーターは中足骨全体を覆い、中足骨靭帯を締め付ける構造であるため、中足骨靭帯の両基端部から中央に向かう方向への締め付け力によって横アーチの形成を促すものの、それと同時に、足表部から足底部に向かって中足骨靭帯を締め付けて横アーチをつぶす力も働くため、横アーチが崩れやすくなる。特に、足に体重がかかっていない状態の時には、上記パッドによる効果が薄れるため十分なアーチ形成効果は得られない。また、特に足背が強く締め付けられるため浮腫や痺れが発生する恐れがあった。

特許文献４には、足の親指と小指をそれぞれの包容部に装着し、外反母趾及び内反小指の個々の症状に合わせて調節可能ベルトで親指と小指を外側へ広げる度合いを調節することができるサポーターが開示されている。このサポーターは、パンプス等のお洒落靴の下にも履けるようなデザイン性を高めるために、サポーターの甲の部分を、指の付け根付近を横に延びる細いラインにしている。特許文献４のサポーターは、足表部から足底部に向かって中足骨靭帯を締め付けて横アーチをつぶすことはないが、横アーチの形成に必要な中足骨靭帯の両基端部から中央に向かう方向への締め付け力を付与する構造ではない。従って、開張足の改善には適していない。

特許文献５には、崩れた横アーチを再生するための矯正機能付き靴下が開示されている。この靴下は、中足骨靭帯に対応する足裏部及びその両側部に当接する部分が高弾性材料で構成されており、中足骨靭帯に対応する足表部に当接する部分は、前記弾性材より弾性の低い材料（低弾性材料）で構成されている。この矯正機能付き靴下を履くと、中足骨靭帯の両基端部は互いに接近する方向に締め付けられるが、足表部から足裏部に向かっての締め付けはないので、中足骨靭帯を所望の横アーチ状に上手く再生することができると特許文献５には記載されている。しかしながら、特許文献５に開示されている矯正機能付き靴下の具体例を見ると、低弾性材料は通常の靴下用の綿で構成されており、高弾性材料はウレタンゴムを織り込んだ綿である。ウレタンゴムを織り込んだ綿では弾性領域の力点を支持するには締め付けが不十分であり、また、低弾性材料として用いた靴下用の綿は弾性領域と共に伸展してしまう。従って、本願発明者が特許文献５の靴下を作製し試験したところ、足に体重がかかっていない時には若干の横アーチ形成効果が見られたものの、足に体重がかかっている時には十分な横アーチ形成効果は得られなかった。

また、上記の「ＰＴＴＤ」の治療用装具としては、ＵＣＢＬ（University of California Biomechanics Laboratory）により開発された足底挿板（所謂「ＵＣＢＬ型足底挿板」）が知られている。ＵＣＢＬ型足底挿板は、内外側縦アーチサポート部と踵骨を適切な高さに保持するための窪みを有する踵部とからなる硬質プラスチック（ポリウレタンなど）製の足底挿板であり、これをベルトなどで足に固定して使用する。ＵＣＢＬ型足底挿板は、硬い材質で形成され且つ足を覆う面積が大いため、装着者に束縛感や不快感を与えてしまう。さらには、ＵＣＢＬ型足底挿板は、通常、個人の足に合わせて採型及び成形することにより製造するため、製造に手間とコストがかかるという問題もあった。

米国Aircast社製の装具（「AirLift」（登録商標）など）のように、足底部のみならず足首全体を覆う装具も知られている。この装具は、足底部に、空気を注入することができるエアポンプ状の中足骨パッドを有している。しかし、このような装具は、足首全体を圧迫してしまい、それにより血行不良を起こしたり、装着者に苦痛や不快感を与えてしまうなどの問題があった。

米国Richie Brace社製「Richie Brace」（登録商標）なども知られている。この装具は、足関節の背屈及び底屈以外の動きを強く制限するような構造を有している。換言すれば、この装具は、背屈及び底屈を許容する以外は、ギプスと同様に強力に足を固定する作用がある。しかし、この装具はサイズが大きく、またオーダーメイドであるため、費用や入手の困難性の問題があった。

また、上記の公知のＰＴＴＤ治療用装具は、いずれも開張足を予防または矯正する効果は殆どない。

上記のことから明らかなように、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤによる足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効率的に予防または治療することができる、日常的に着用可能な靴下やサポーターは未だ開発されていない。

特開２００６−２２５８３３ 特開２００８−３１６１５ 特開２００５−３０５０８５ 特開２００７−３３０７４３ 特開２００５−４２２１３

従って、足に体重がかかった状態でも足の横アーチを維持することができるだけでなく、装着者に不快感や苦痛を与えることなく、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤによる足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効果的に予防または治療することを可能にするサポーターや靴下の開発が望まれていた。

このような状況下、本発明者が上記課題を解決するために鋭意研究を行なった結果、前足部の足背に対応する足背部、前足部の足底に対応する足底部、及び少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段を含み、該足背部と足底部とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成し、該少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段は、それぞれ、該筒状体の内面の、足の両側部に接触する箇所に取り付けられており、該足背部の足幅方向の伸長率が該足底部の足幅方向の伸長率より大きい、ことを特徴とする、サポーター構造体により上記課題を解決できることを見出した。また、本発明者は、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤによる足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの足の変形を伴う疾患は相互に関連していることに着目し、上記のサポーター構造体に、更に、足首の前部及び踵を囲繞するように足首に装着する足首サポート帯を加えることにより、前足部から後足部に及ぶ足全体の立体構造を矯正することによって、より効果的に、足の変形を予防または矯正できることを見出した。上記の足首サポート帯は、足首の前部に対応する足首前部と踵に対応する踵部とを有し、該足首前部と踵部とは、足首の両側部に対応する箇所で連結されており、足の内果に接触する部分及び足の外果と踵との中間部に接触する部分にそれぞれ足首用滑り止め手段が取り付けられている。更には、該サポーター構造体の足底部の内面に、前足部の内側縁に接触する箇所に沿って延び且つ上部から下部へ連続的に厚みが減少する楔形の断面を有する第１趾外反矯正用可撓性プレートを設けると、外反母趾の原因となる母趾列の回旋を効果的に予防または矯正することができることを見いだした。これらの知見に基づき、本発明を完成した。

本発明の上記及びその他の諸目的、諸特徴並びに諸利益は、添付の図面を参照しながら述べる以下の詳細な説明及び請求の範囲の記載から明らかになる。

本発明のサポーター構造体を用いると、これを装着した状態で足に体重をかけた際にも足の横アーチを維持することができるだけでなく、足背にかかる衣服圧が比較的低いので浮腫や痺れの発生を防止できるため、装着者に不快感や苦痛を与えることなく、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤによる足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効果的に予防または治療することが可能になる。また、本発明のサポーター構造体は、薄い素材を使用し且つ簡単な構造で、上記のような優れた効果を得ることができるため、装着方法や屋内用及び屋外用の履き物との併用が容易であるため、日常的に装着することによって上記のような優れた予防または矯正効果をより一層向上させることができる。

正常な横アーチ（破線で示す）を有する足の中足骨骨頭部における断面図である。 横アーチ（破線で示す）が崩れた開張足の中足骨骨頭部における断面図である。 開張足に装着した本発明のサポーター構造体の１つの態様の斜視図である。 図２のＩ-Ｉ線に沿った断面図である。 靴下形状を有する本発明のサポーター構造体の１つの態様の、足に装着する前の状態を示す斜視図である。 図４のサポーター構造体の、足に装着した状態を示す斜視図である。 靴下形状を有する本発明のサポーター構造体の他の１つの態様の、内果側を示す斜視図である。 図６のサポーター構造体の、外果側を示す斜視図である。 本発明のサポーター構造体の更に他の１つの態様を示す斜視図である。 図８のサポーター構造体に設けられている外反矯正用可撓性プレートの１例の斜視図である。 外反矯正用可撓性プレートの足への装着方法を示す説明図である。

符号の説明

１ 第１中足骨
２ 第２中足骨
３ 第３中足骨
４ 第４中足骨
５ 第５中足骨
６ サポーター
６’ 靴下の形状を有するサポーター構造体
７ 足背部
８ 足底部
９ 前足側部用滑り止め手段
１０ バニオン開放口
１１ａ つま先部
１１ｂ 踵部
１１ｃ 中足部
１１ｄ 下腿部
１２ 足首サポート帯の足首前部
１３ 足首サポート帯の踵部
１４ 足首用滑り止め手段
１５ 中足骨パッド
１６ 外反矯正用可撓性プレート
１７ 形状記憶合金プレート

次に、本発明の理解を容易にするために、本発明の基本的特徴及び好ましい諸態様を列挙する。

１．足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体であって、
前足部の足背に対応する足背部、
前足部の足底に対応する足底部、及び
少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段
を含み、
該足背部と足底部とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成し、
該少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段は、それぞれ、該筒状体の内面の、足の両側部に接触する箇所に取り付けられており、
該足背部の足幅方向の伸長率が該足底部の足幅方向の伸長率より大きい、
ことを特徴とする、サポーター構造体。

２．足背部の足幅方向の伸長率（A）の足底部の足幅方向の伸長率（B）に対する比（A）／（B）が、１．２以上であることを特徴とする、前項１に記載のサポーター構造体。

３．該前足側部用滑り止め手段が、粘着性材料で形成されていることを特徴とする、前項１又は２に記載のサポーター構造体。

４．足底部の内面であって、中足骨に対応する箇所にパッドが取り付けられてなることを特徴とする、前項１〜３のいずれかに記載のサポーター構造体。

５．靴下の形状であることを特徴とする、前項１〜４のいずれかに記載のサポーター構造体。

６．ストッキングの形状であることを特徴とする、前項１〜４のいずれかに記載のサポーター構造体。

７．足首の前部及び踵を囲繞するように足首に装着する足首サポート帯をさらに含み、該足首サポート帯は、
足首の前部に対応する足首前部、
踵に対応する踵部、及び
少なくとも１対の足首用滑り止め手段
を含み、
該足首前部と踵部とは、足首の両側部に対応する箇所で連結されており、
該少なくとも1対の足首用滑り止め手段足は、それぞれ、該足首サポート帯の内表面の、内果に接触する部分及び足の外果と踵との中間部に接触する部分に取り付けられており、 該足首前部の足幅方向の伸長率が該踵部の足幅方向の伸長率より大きい、
ことを特徴とする、前項１〜６のいずれかに記載のサポーター構造体。

８．足首前部の足幅方向の伸長率（A'）の踵部の足幅方向の伸長率（B'）に対する比（A'）／（B'）が、１．２以上であることを特徴とする、前項７に記載のサポーター構造体。

９．該足首用滑り止め手段が、粘着性材料で形成されていることを特徴とする、前項７又は８に記載のサポーター構造体。

１０．該サポーター構造体の足底部の内表面に、前足部の内側縁に接触する箇所に沿って延びる第１趾外反矯正用可撓性プレートが取り付けられてなり、該第１趾外反矯正用可撓性プレートは、上部から下部へ連続的に厚みが減少する楔形の断面を有することを特徴とする、前項１〜９のいずれかに記載のサポーター構造体。

１１．該第１趾外反矯正用プレートが、その長手方向に延びる形状記憶合金のプレートを有し、該形状記憶合金プレートは、該外反矯正用プレートに内包されているか、該外反矯正用プレートの表面に取り付けられていることを特徴とする、前項１０に記載のサポーター構造体。

以下、本発明について添付の図面に参照して詳細に説明する。

正常な状態の足においては、図１aに示すように、第１趾の付け根部分（第１中足骨１の骨頭部）と第５趾の付け根部分（第５中足骨５の骨頭部）を結ぶ横アーチ（破線で示す）が形成されている。開張足とは、図１bに示すように、上記の横アーチが崩れて扁平化した症状のことである。

本発明のサポーター構造体は、上記の図１bに示すような崩れた横アーチを、図１aに示すような正常な横アーチに戻すことによって、開張足を矯正するために使用される。

本発明において「サポーター構造体」とは、サポーター構造を有する足用の装着物を意味し、サポーターそのもののみならず、本発明で規定した構造を有する限り、靴下やストッキングなどの形状のものも含むものとする。また、本発明において足の「側部」とは、足の内側縁及び外側縁のみならず、足背の両側縁部も含む。

図２は、開張足に装着した本発明のサポーター構造体の１つの態様の概略斜視図である。また、図３は、図２のＩ-Ｉ線に沿った断面図である。

図２に示す本発明のサポーター構造体は、サポーターそのものの形態を有している。図２のサポーター６は、前足部の足背（即ち、足の甲）に対応する足背部７、及び前足部の足底（即ち、足の裏）に対応する足底部８を有し、該足背部７と足底部８とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成している。また、上記足背部７の足幅方向の伸長率が上記足底部８の足幅方向の伸長率より大きい。更に、１対の前足側部用滑り止め手段９、９（破線で示す）が、それぞれ、該筒状体の内面であって、足の両側部に接触する箇所に取り付けられている。前足側部用滑り止め手段９、９は、該サポーター６を足に装着した際に、該足底部７が足をその幅方向に締め付けた状態（図３参照）で、サポーター６を足の両側部に固定する機能を有する。本発明のサポーター構造体においては、上記のように足背部７の足幅方向の伸縮率を足底部８の足幅方向の伸長率より大きくすることにより、足背にかかる衣服圧を軽減すると共に、足の横アーチを形成するための足幅方向の締め付け力を効果的に得ることができる。更に、該前足側部用滑り止め手段９、９によって、上記の締め付け力をより効果的に得ることが可能になるのみならず、足に体重をかけた際にもその締め付け力を維持することができる。これに対して、上記した特許文献５のように前足側部用滑り止め手段がない場合には、足背部７の足幅方向の伸縮率を足底部８の足幅方向の伸長率より大きくしても、足の両側部でサポーター構造体がすべりを起こしてしまい、結局、足背部と足底部の引き締め力が均等化されてしまう。そのため、所望の横アーチ矯正効果は得られない。

足背部７及び足底部８の素材に関しては、上記のような伸長率の関係が得られれば特に制限はなく、サポーター、ストッキング及び靴下に通常使用される素材から適宜選択して使用することができる。本発明のサポーター構造体装着時の快適性向上の観点から、通気性、吸湿性及び速乾性などの性質を有する素材を使用することが好ましい。足背部７及び足底部８の素材の具体例としては、上記特許文献１及び２に記載の材料を使用することができる。またこれらの文献には、靴下などにおいて伸長率の異なる領域を形成する方法も開示されおり、これらの公報に記載の方法を応用して、伸長率の調節を行うことができる。代表的な素材の例としては、ポリウレタンとナイロンの混合生地などが挙げられる。また、足底部８に関しては、実質的に全く伸縮性を有していなくても良いので、ポリプロピレンの不織布などを用いることもできる。

前足側部用滑り止め手段９の素材に関しては、本発明のサポーター構造体を足に装着した際に、これを足の両側部に固定できるものであれば特に制限はない。前足側部用滑り止め手段９の素材に関しては、高摩擦係数の材料や粘着性の材料を使用することができる。上記の高摩擦係数の材料の例としては、エチレンプロピレンジエンゴム(ＥＰＤＭ)、クロロプレンゴム(ＣＲ)、シリコンゴムなどの合成ゴム、及び天然ゴム(ＮＲ)を挙げることができる。また、米国特許第５，９４８，７０７号に記載されている足や腕に使用する矯正器具（サポーター）のズレを防止するための材料（例えば、ポリテトラフルオロエチレンフィルムの上にエラストマーからなる不連続層を設けた、耐水性且つ水蒸気透過性の材料）なども使用することができる。粘着性の材料に関しては、足の皮膚に対する粘着力を有し且つサポーター構造体を足から外す際に容易に剥がせるものであれば特に制限はなく、公知の様々な粘着性材料を使用することができる。例えば、公知の両面テープを前足側部用滑り止め手段として使用して、サポーター構造体の脱着毎に新しい両面テープと交換してもよいが、洗浄により粘着力が復活する粘着性材料を使用することがより好ましい。洗浄により粘着力が復活する材料とは、使用によりゴミや油が付着して粘着力が低下した場合に、水や中性洗剤などで洗浄することで粘着力が復活する材料のことであり、その例としては、日本国特開平１１−３２３６１６号公報に記載されているシリコーンゲル粘着層、日本国特開２０００−２４７０６１号公報に記載されているウレタン系粘着剤層などが挙げられる。また、公知の粘着性伸縮包帯を使用することもできる。

本発明のサポーター構造体において、足背部７及び足底部８の最適な寸法については、足のサイズによりことなるので、十分な足幅方向の締め付け力が得られ、且つ足背にかかる衣服圧を十分に低減することができるような寸法を適宜選択することが望ましい。例えば、サポーター構造体の幅に関しては、足底部は足幅の１．０〜１．５倍程度とすればよく、足背部の幅は、足背部は比較的伸縮性の大きい素材で形成されるため、足幅の０．２〜１．０倍程度とすればよい。

本発明においては、足の側部(特に内側部)の中足骨と趾骨との境界に対応する箇所に穴が形成されていることが好ましい。その理由は以下の通りである。開張足においては、第１趾と第５趾の付け根の関節が外側に突出してしまうので、サポーターや靴下の僅かな厚みでも摩擦を増大させて痛みを生じることがある。また、外反母趾になると、第１趾の付け根の関節付近に滑液包腫脹（バニオン）又は腱膜瘤といわれるものが生じている場合がある。そのような場合には、図２に示すように、特に上記の関節に対応する箇所にバニオン開放口１０、１０を形成して、この関節部分の摩擦を軽減できるようにしておくことが好ましい。バニオン開放口１０、１０のサイズや形状に特に制限はなく、例えば、直径又は長径が約１．５〜約４ｃｍの円形又は楕円形の穴を形成すればよい。

本発明においては、十分な足幅方向の締め付け力を得、且つ足背にかかる衣服圧を十分に低減するために、該足背部７の足幅方向の伸長率（A）が該足底部８の足幅方向の伸長率（B）より大きい（即ち、（A）＞（B）である）必要がある。該足背部７の伸長率（A）の該足底部８の伸長率（B）に対する比（A）／（B）が１．２以上であることが好ましく、２〜２００であることがより好ましく、２．５〜１００であることが特に好ましい。該足底部８の伸長率（B）は、０％であっても良いが、この場合、伸長率（A）が後述する範囲にることが好ましい。

本発明において、該足背部７の足幅方向の伸長率（A）は、４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重で測定した値が、通常５〜２００％であり、好ましくは３５〜１８０％であり、より好ましくは７５〜１５５％である。また、１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重で測定した伸長率（A）は、通常１０〜３００％であり、好ましくは１１５〜２５０％であり、特に好ましくは１６０〜２１０％である。該足背部７の伸長率（A）が上記の範囲より低いと、足背に対する締め付けが強くなり（即ち、衣服圧が上昇し）、足背にむくみ、痺れ、痛み、発赤などが発生する恐れがある。一方、該足底部８の足幅方向の伸長率（B）は、４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重で測定した値が、通常０〜１５０％であり、好ましくは１〜１００％であり、より好ましくは５〜７５％である。また、１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重で測定した伸長率（B）は、通常０〜１８０％であり、好ましくは５〜１５０％であり、特に好ましくは１０〜１２０％である。該足底部８の伸長率（B）が上記の範囲より高いと、十分な足幅方向の締め付け力が得られない恐れがある。尚、上記の伸長率の測定は、長さ３ｃｍ、幅２ｃｍの領域に対して行う。

また、本発明のサポーター構造体の足背部７及び足底部８は、十分な足幅方向の締め付け力が得られ、且つ足背にかかる衣服圧を十分に低減することができる限り、伸長率が異なる素材を組み合わせて使用しても良い。特に、足底部８については、装着者の足に対する負担を軽減する目的で、それ程強い締め付け力が必要ない箇所（例えば、中足骨と趾骨との境界から遠い箇所）においては伸長率を大きくしてもよい。そのような場合にも、足背部７全体における伸長率の平均値を上記の伸長率（A）として考え、そして足底部８全体における伸長率の平均値を上記の伸長率（B）として考えて、伸長率（A）及び（B）の値、並びに比（A）／（B）が上記の範囲にあることが望ましい。少なくとも、中足骨と趾骨との境界付近に置いては、伸長率（A）及び（B）の値、並びに比（A）／（B）が上記の範囲にあることが望ましい。ここで「中足骨と趾骨との境界付近」とは、中足骨と趾骨との境界線から前後それぞれ１ｃｍ、好ましくはそれぞれ２ｃｍ、特に好ましくはそれぞれ３ｃｍまでの領域を意味する。

尚、上記の比（A）／（B）は、４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重測定値の比又は１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重測定値の比のどちらかが上記の範囲にあればよいが、両方が上記の範囲にあることがより好ましい。

また、本発明のサポーター構造体は、装着時に足背における衣服圧が０〜２５．０ｋＰａになるようにすることが望ましい。

前足側部用滑り止め手段９、９の形状及び寸法については、本発明のサポーター構造体を足の両側部で固定できれば特に制限はない。例えば、長さ３〜１０ｃｍ、幅０．５〜３ｃｍ程度の長方形のものやそれに近似の形状を挙げられる。また、図２のように、バニオン開放口１０、１０を設ける場合には、それに応じて切り欠き部分を設けてもよい。また、足の両側部に接触する箇所のそれぞれに複数の前足側部用滑り止め手段９を取り付けてもよい。例えば、足の内側部及び外側部のそれぞれ又はどちらか一方に接触する箇所に足の長手方向に延びる２本の短冊状の前足側部用滑り止め手段９、９を取り付けたり、正方形、円形又は楕円形の前足側部用滑り止め手段９を複数足の長手方向に沿って並べて配置したりしても良い。

また、本発明のサポーター構造体において、前足側部用滑り止め手段９、９は、それぞれ足の側縁部及び／又は足背の縁部に対応する箇所に固定されるが、足底の縁部に対応する箇所まで延びていてもよい。

本発明においては、足背部７、足底部８及び前足側部用滑り止め手段９、９は、足に装着する前に予め縫合などの手段によって組み合わせて、図２に示すようなサポーター構造体を形成しても良いが、足に装着する際に上記各部材を組み合わせても良い。例えば、足背部７及び足底部８は面ファスナーでお互いに結合するものを使用し、前足側部用滑り止め手段９、９は両面テープを使用して、以下のような方法で本発明のサポーター構造体を形成することができる。
（１） 足の両側部に前足側部用滑り止め手段としての両面テープを貼り付け、
（２） 外表面の両側縁部に鉤状面ファスナーを取り付けた足底部を、これが足をその幅方向に締め付けた状態になるよう足の両側部に貼り付けた両面テープに固定し、
（３） 内表面の両側縁部にパイル状面ファスナーを取り付けた足背部を、上記足底部に面ファスナーを組み合わせることによって取り付ける
ことを包含する方法。（尚、面ファスナーについては、勿論、足低部にパイル状のものを用い、足背部に鉤状のものを用いてもよい。）

また、上記特許文献５に記載の如く、先端側に足指を入れるための袋部を２つ以上形成しておくことも本発明の好ましい態様の１つである。そのような袋部を形成しておくと、本発明のサポーター構造体を装着する際に、足指を袋部に挿入した時点で、第１趾と第５趾が足底の中心軸方向に引き寄せられるため、横アーチが形成された状態で足側部の所望の位置に前足側部用滑り止め手段９、９を固定することが容易になる。

更に、本発明においては、足底部８の内面であって、中足骨に対応する箇所にパッドが取り付けられていてもよい。このパッドによって、特に足に体重をかけた場合に、横アーチ矯正効果を向上させることができる場合がある。中足骨パッドの材質や製造方法に関しては、例えば、上記の特許文献３を参照することができる。

また、図２に示す態様はサポーターそのものだが、本発明のサポーター構造体は上記のような構造を有する靴下やストッキングの形状であっても良い。本発明のサポーター構造体が靴下やストッキングの形状である場合、上記足背部７、足底部８及び前足側部用滑り止め手段９、９以外の部分は、公知の靴下やストッキングに通常使用される素材を用いて公知の方法で形成することができる。

図４は、靴下形状を有する本発明のサポーター構造体の１つの態様の、足に装着する前の状態を示す斜視図であり、図５は、図４のサポーター構造体の、足に装着した状態を示す斜視図である。この靴下形状を有する本発明のサポーター構造体６’においては、上記足背部７、足底部８及び前足側部用滑り止め手段９、９以外に関しては上記した通りであり、その他の部分１１a及び１１bは、公知の靴下やストッキングに通常使用される素材を用いて公知の方法で形成すればよい。

図６は、靴下形状を有する本発明のサポーター構造体の他の１つの態様の、内果側を示す斜視図であり、図７は、図６のサポーター構造体の、外果側を示す斜視図である。図６及び７に示す態様のサポーター構造体６’は、さらに、足首の前部及び踵を囲繞するように足首に装着する足首サポート帯を含んでいる。該足首サポート帯は、足首の前部に対応する足首前部１２と踵に対応する踵部１３とを有している。該足首前部１２と踵部１３とは、足首の両側部に対応する箇所で連結されており、足の内果に接触する部分及び足の外果と踵との中間部に接触する部分にそれぞれ足首用滑り止め手段１４、１４（破線で示す）が取り付けられている。また、該足首前部１２の足幅方向の伸長率が該踵部１３の足幅方向の伸長率より大きい。このような構造を有することにより、足首における血管や神経を不必要に圧迫することを防止し、さらに足首の筋肉や靱帯の動きを過剰に妨げることなく、ＰＴＴＤの予防や矯正を行うことができる。また、上記したように、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤなどの足の変形を伴う疾患は相互に関連しているため、本発明のサポーター構造体がさらに上記の足首サポート帯を有することによって、より包括的且つ効果的に足の変形を予防または矯正することが可能となる。また、図７に示すように、足底部８の内面であって、中足骨に対応する箇所に中足骨パッド１５が取り付けられていてもよい。中足骨パッド１５を取り付けることで、上記したような本発明の予防または矯正効果がより一層顕著になる。中足骨パッド１５の材質や製造方法に関しては、上記したとおりである。

上記の足首サポート帯に関して、以下に具体的に説明する。足首サポート帯は、靴下状のサポーター構造体に一体化して形成しても良いし、別途製造した足首サポート帯をサポーター構造体の本体に取り付けても良い。足首サポート帯の形状やサイズについては、足首の前部及び踵を囲繞して、サポーター構造体装着時に所定の位置からずれなければ特に制限はない。例えば、該足首前部１２は、幅（足の長手方向に沿った長さ）１〜８ｃｍ、好ましくは２〜５ｃｍの帯状のものを使用することができる。踵部１３に関しては、踵に確実に固定されるような幅（足の長手方向に沿った長さ）を有することが好ましい。例えば、踵部１３の幅は、５〜１２ｃｍであることが好ましく、６〜１０ｃｍであることがより好ましい。また、図６及び７に示すように、踵部１３は、踵の中心部付近に対応する箇所に円形や楕円形の穴を有していることが好ましい。

該足首前部１２及び踵部１３は、それぞれ上記の足背部及び足底部と同様の素材や方法で形成することができる。また、上記の足背部と足底部の場合と同様に、該足首前部１２の足幅方向の伸長率（A'）が該踵部１３の足幅方向の伸長率（B'）より大きい（即ち、（A'）＞（B'）である）必要があり、足首前部１２の足幅方向の伸長率（A'）の踵部１３の足幅方向の伸長率（B'）に対する比（A'）／（B'）が、１．２以上であることが好ましく、２〜２００であることがより好ましく、２．５〜１００であることが特に好ましい。また、伸長率（A'）及び伸長率（B'）は、それぞれ伸長率（A）及び（B）に関して上記したのと同様の範囲であることが好ましい。該踵部１３の伸長率（B'）は０％であっても良いが、その場合、伸長率（A'）が上記の範囲にあることが好ましい。

また、該足首用滑り止め手段１４、１４についても、上記の前足側部用滑り止め手段と同様の素材や方法で形成することができる。上記したように、内果側の足首用滑り止め手段１４は、内果に接触する位置に配置する。内果側の足首用滑り止め手段１４は、本発明のサポーター構造体を足に装着した際に、内果を完全に覆う位置並びにサイズであることが好ましい。一方、外果側の足首用滑り止め手段１４は、足の外果と踵との中間部に接触する部分に配置する。このように足首用滑り止め手段１４、１４を配置することによって、ＰＴＴＤの予防及び治療において重要である、足の外反 (足の裏が外側を向く動き)の抑制が容易になる一方で、内反 (足の裏が内側を向く動き)はそれ程強く抑制されない。従って、足の動きを過剰に制限することなく、効果的にＰＴＴＤの予防及び治療が可能になる。また、足首用滑り止め手段１４は、その全体を外果の底部（図７において点線で示されている）より下に配置することが好ましいが、足首用滑り止め手段１４の一部が、外果の下部に接触するようにしてもよい。この場合、足首用滑り止め手段１４の、外果の下部に接触する面積は、足首用滑り止め手段１４の面積の５０％以下であることが好ましく、３０％以下であることがより好ましく、２０％以下であることが特に好ましい。

該足首用滑り止め手段１４、１４の具体的な形状やサイズについては、本発明の効果が得られる限り、特に制限はない。例えば、正方形、長方形、円形、楕円形などのうちから適宜選択すればよい。サイズに関しては、正方形の一辺、長方形の長辺、円形の直径もしくは楕円の長径が、２〜１０ｃｍであることが好ましく、２．５〜７ｃｍであることがより好ましく、３〜５ｃｍであることが特に好ましい。

また、該足首用滑り止め手段１４、１４は、該前足用滑り止め手段の場合と同様に、粘着性材料で形成されていることが好ましい。その具体例としては、該前足用滑り止め手段に関連して上記した通りである。

本発明のサポーター構造体においては、上記の足底部と踵部とが、これらを形成するのと同様の低伸長率の素材で連結されていることも好ましい態様の１つである（足底部と踵部とを連結する部分を、以下、「中足部足底連結帯」と称す）。この中足部足底連結帯により、母趾や踵を外反を防止又は矯正する効果が一層向上するため好ましい。上記中足部足底連結帯の材料や伸長率などに関しては、足底部及び踵部に関連して上記しものと同様であればよい。

図８は、本発明のサポーター構造体の更に他の１つの態様を示す斜視図である。このサポーター構造体は、先端部の開口部が、第１趾用の開口部とその他の趾用の開口部に分かれている。また、この図の態様においては、該サポーター構造体の足底部の内面に、前足部の内側縁に接触する箇所に沿って延びる第１趾外反矯正用可撓性プレート１６が取り付けられている。該外反矯正用可撓性プレート１６は、図９に示すように、上部から下部へ連続的に厚みが減少する楔形の断面を有している。

外反母趾は、第１中足骨及び第１趾（母趾）の回旋を伴うことが多い。例えば、右足の場合、足の先から見て、母趾が時計回りの方向に回旋していることが多い。該外反矯正用可撓性プレート１６は、母趾に対して楔作用を発揮することにより、そのような母趾の回旋を予防または矯正することができる。この点について、より具体的に説明する。本発明においては、上記したようなサポーター構造体の構成によって、母趾の中足趾節間（ＭＴＰ）関節を中間位（正常な位置）に維持または矯正することにより、開張足を予防または矯正することができるが、この際に母趾内転筋が緩んだ状態になる。この状態で上記の外反矯正用可撓性プレート１６を、図８及び１０に示すように設置することにより、外反矯正用可撓性プレート１６の楔作用によって母趾に対する内反力が効果的に働き、それにより母趾列の内旋（爪が内側の方向に向くように母趾列がねじれること）を防止また矯正することが可能になる。

外反矯正用可撓性プレート１６の寸法は、図１０に示すように、基節骨頭部から中足骨の中間部まで延びるような長さを有し且つ十分な楔作用が得られるような幅を有することが好ましい。具体的には、足のサイズなどにより異なるが、例えば、長さ３〜１５ｃｍ、幅１．５〜５ｃｍの範囲から適宜選択することができる。また、頂部における厚みが、１〜８ｍｍであることが好ましく、２〜６ｍｍであることがより好ましい。

また、外反矯正用可撓性プレート１６には、図９及び１０に示すように、第１趾のＭＴＰ関節部分を圧迫しないように、この関節の形状に合わせた切り欠きを設けることが望ましい。切り欠きの形状に関しては、第１趾のＭＴＰ関節部分の圧迫を回避できるような形状であれば特に制限はない。例えば、図１０に示すように、ＭＴＰ関節に当接する部分の幅を狭くして、この部分において外反矯正用可撓性プレート１６が、足底部と足側部との境界の狭い領域のみに当接するようにすることが好ましい。この場合、この切り欠き部における外反矯正用可撓性プレート１６の幅（図９及び１０に示すような曲線的な切り欠きの場合には、幅の最小値）については特に制限はないが、０．２〜１．５ｃｍであることが好ましく、０．３〜１．３ｃｍであることがより好ましい。

また、図９に示すように、外反矯正用可撓性プレート１６が、その長手方向に延びる形状記憶合金のプレート１７を有することが好ましい。この形状記憶合金のプレート１７により、足に体重がかかっていない状態における、足の変形の予防または矯正効果を補強することができる。該形状記憶合金プレート１７は、該外反矯正用プレートに内包されていても、該外反矯正用プレートの表面に取り付けられていても良い。

外反矯正用可撓性プレート１６を使用する際には、図１０に示すように、該プレート１６が、足の足底部と足側部との境界に沿って、基節骨頭部から中足骨の中間部にわたって当接するように該サポーター構造体の足底部の内面に取り付けることが望ましい。

外反矯正用可撓性プレート１６は、公知の可撓性樹脂により製造することができる。公知の可撓性樹脂としては、例えば、塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、フルオロカーボン樹脂、アクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、及びウレタン系樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂を用いることができる。

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、これは本発明の範囲を限定するものではない。

図２に示すサポーター６を使用して、開張足の矯正を行った。患者は５３歳の女性であり、縦アーチ及び横アーチの低下、足底の第２及び第３ＭＴＰ関節部分に朕胝形成、並びに母趾ＭＴＰ関節の腫張（バニオン形成）、発赤及び疼痛などの症状が見られた。また、この患者のＨＶ角（外反母趾角）（母趾基節骨骨軸と第１中足骨骨軸のなす角度で、母趾の外反変形の程度の指標）は２５°であり、Ｍ１Ｍ２角（第１中足骨軸と第２中足骨骨軸のなす角度で、第１中足骨内反の指標）は、１５°であった。

以下にサポーター６に関して具体的に説明する。足背部７としては、等脚台形の伸縮性合成繊維布（ポリウレタン７３％、ナイロン２７％）（上底２ｃｍ、下底４ｃｍ、他の２辺がそれぞれ８ｃｍ）を使用し、足底部８としては、長方形のポリプロピレン不織布（幅１６ｃｍ、長さ８ｃｍ）を使用した。足背部７としての伸縮性合成繊維布の足幅方向の伸長率（A）は、４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重で測定した値が７５％であり、１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重で測定した値が１６０％であった。また、足底部８としての長方形のポリプロピレン不織布の足幅方向の伸長率（B）は４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重で測定した値が５％であり、１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重で測定した値が１０％であった。従って、足背部７の足幅方向の伸長率（A）の足底部８の足幅方向の伸長率（B）に対する比（A）/（B）は、４．９Ｎ（５００ｇｆ）加重時が１５であり、１７．７Ｎ（１８００ｇｆ）加重時が１６であった。

足背部７としての上記伸縮性合成繊維布の８ｃｍの２辺をそれぞれ足底部８としてのポリプロピレン不織布の８ｃｍの２辺と縫合することにより、筒状のサポーター構造を形成した。尚、足底部８としての長方形のポリプロピレン不織布の足両側部の中足骨と趾骨との境界に対応する箇所には、長径３ｃｍの楕円形の穴（バニオン開放口１０、１０）が形成されている。

前足側部用滑り止め手段９、９としては、市販の両面テープを図２に示すような形状に切り出して使用した。

足に体重をかけた状態で、中足骨と趾骨との境界周辺で測定した患者の足の幅は、サポーター装着前は１０．５ｃｍであったが、サポーター装着後は９．５ｃｍであった。また、ＨＶ角は、サポーター装着前の２５°から１８°に減少し、Ｍ１Ｍ２角は、サポーター装着前の１５°から９°に減少した（ＨＶ角及びＭ１Ｍ２角共に足に体重をかけた状態で測定したもの）。また、サポーター装着から８時間後に再度観察したところ、足の幅、ＨＶ角及びＭ１Ｍ２角は、上記のまま維持されており、さらに、サポーターを装着した足にむくみ、痺れ、痛み、発赤などの異常はみられなかった。

比較例１

前足側部用滑り止め手段９を有さない以外は、実施例１と同様のサポーターを作成し、実施例１と同様の方法で開張足の矯正を行った。非加重時（足を宙に浮かせた状態）においては、足幅は１０．０ｃｍに減少したが、加重時には１０．５ｃｍに戻ってしまった。
また、加重時のＨＶ角及びＭ１Ｍ２角は、サポーター装着前と装着後で殆ど変化がなかった（サポーター装着後のＨＶ角及びＭ１Ｍ２角は、それぞれ約２４°及び約１４°であった）。

本発明のサポーター構造体を用いると、これを装着した状態で足に体重をかけた際にも足の横アーチを維持することができるだけでなく、足背にかかる衣服圧が比較的低いので浮腫や痺れの発生を防止できるため、装着者に不快感や苦痛を与えることなく、開張足、外反母趾、ＰＴＴＤによる足のアーチの低下（足裏の扁平化）、踵の外反などの様々な足部変形を伴う疾患を包括的且つ効果的に予防または治療することが可能になる。また、本発明のサポータ構造体は、薄い素材を使用し且つ簡単な構造で、上記のような優れた効果を得ることができるため、装着方法や屋内用及び屋外用の履き物との併用が容易であるため、日常的に装着することによって上記のような優れた予防または矯正効果をより一層向上させることができる。

Claims (10)

1. 足の変形を伴う疾患を予防または治療するためのサポーター構造体であって、
   前足部の足背に対応する足背部、
   前足部の足底に対応する足底部、及び
   粘着性材料で形成されてなる、少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段
   を含み、
   該足背部と足底部とは、足の両側部に対応する箇所で連結されており、それにより筒状体を形成し、
   該少なくとも１対の前足側部用滑り止め手段は、それぞれ、該筒状体の内面の、足の両側部に接触する箇所に取り付けられており、足の長手方向に沿って延び、且つ長さが３〜１０ｃｍであり、
   該足の両側部は、足の内側縁、外側縁及び足背の両側縁部を含み且つ中足趾節間（ＭＴＰ）関節に対応する箇所を含む領域であり、
   該足背部の足幅方向の伸長率が該足底部の足幅方向の伸長率より大きい、
   ことを特徴とする、サポーター構造体。
2. 足背部の足幅方向の伸長率（A）の足底部の足幅方向の伸長率（B）に対する比（A）／（B）が、１．２以上であることを特徴とする、前項１に記載のサポーター構造体。
3. 足底部の内面であって、中足骨に対応する箇所にパッドが取り付けられてなることを特徴とする、前項１又は２に記載のサポーター構造体。
4. 靴下の形状であることを特徴とする、前項１〜３のいずれかに記載のサポーター構造体。
5. ストッキングの形状であることを特徴とする、前項１〜３のいずれかに記載のサポーター構造体。
6. 足首の前部及び踵を囲繞するように足首に装着する足首サポート帯をさらに含み、該足首サポート帯は、
   足首の前部に対応する足首前部、
   踵に対応する踵部、及び
   少なくとも１対の足首用滑り止め手段
   を含み、
   該足首前部と踵部とは、足首の両側部に対応する箇所で連結されており、
   該少なくとも1対の足首用滑り止め手段足は、それぞれ、該足首サポート帯の内表面の、内果に接触する部分及び足の外果と踵との中間部に接触する部分に取り付けられており、 該足首前部の足幅方向の伸長率が該踵部の足幅方向の伸長率より大きい、
   ことを特徴とする、前項１〜５のいずれかに記載のサポーター構造体。
7. 足首前部の足幅方向の伸長率（A'）の踵部の足幅方向の伸長率（B'）に対する比（A'）／（B'）が、１．２以上であることを特徴とする、前項７に記載のサポーター構造体。
8. 該足首用滑り止め手段が、粘着性材料で形成されていることを特徴とする、前項６又は７に記載のサポーター構造体。
9. 該サポーター構造体の足底部の内表面に、前足部の内側縁に接触する箇所に沿って延びる第１趾外反矯正用可撓性プレートが取り付けられてなり、該第１趾外反矯正用可撓性プレートは、上部から下部へ連続的に厚みが減少する楔形の断面を有することを特徴とする、前項１〜８のいずれかに記載のサポーター構造体。
10. 該第１趾外反矯正用プレートが、その長手方向に延びる形状記憶合金のプレートを有し、該形状記憶合金プレートは、該外反矯正用プレートに内包されているか、該外反矯正用プレートの表面に取り付けられていることを特徴とする、前項９に記載のサポーター構造体。

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