JP4329275B2 - Mechanical quantity sensor - Google Patents
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- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 19
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 13
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 claims description 11
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 33
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 16
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 13
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P2015/0805—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration
- G01P2015/0808—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate
- G01P2015/0811—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate for one single degree of freedom of movement of the mass
- G01P2015/0814—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values being provided with a particular type of spring-mass-system for defining the displacement of a seismic mass due to an external acceleration for defining in-plane movement of the mass, i.e. movement of the mass in the plane of the substrate for one single degree of freedom of movement of the mass for translational movement of the mass, e.g. shuttle type
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、櫛歯状の可動電極と櫛歯状の固定電極とを有し、これら可動及び固定電極の間の容量変化に基づいて、加速度等の力学量を検出するようにした力学量センサに関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の一般的な力学量センサの構成を図6、図7に示す。ここで、図6は平面構成図、図7は図6中のB−B線に沿った模式的な断面図である。このものは、SOI(シリコンオンインシュレータ)基板等の、第1の半導体層11と第2の半導体層12とが絶縁膜13を介して積層された積層基板10に対して、周知の半導体製造技術を施すことにより製造されたものである。
【0003】
第2の半導体層12には溝14を形成し、第1の半導体層11及び絶縁膜13には開口部13aを形成することにより、第1の半導体層11は矩形枠状の基部として構成され、第2の半導体層12には図に示すような梁構造体が形成されている。
【0004】
第2の半導体層12に形成された梁構造体は、基部11に対して力学量(加速度等)の印加に応じて所定方向(図6中の矢印で示すY軸方向)に変位可能なように梁部22を介して支持された錘部210と、この錘部210から突出する櫛歯状の可動電極240と、この可動電極240における個々の櫛歯の側面と離間して対向するように基部11から突出する櫛歯状の固定電極310、320とを備えている。
【0005】
そして、力学量が印加されたとき、梁部22の弾性力によって錘部210が、Y軸方向へ変位し、この変位に伴う可動電極240と固定電極310、320との間の検出間隔40の容量変化に基づいて、印加力学量を検出するようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の力学量センサにおいては、可動電極240及び固定電極310、320が櫛歯形状であるため、過大な力学量の印加によって両電極がY軸方向へたわみ、可動電極240と固定電極310、320との両電極が必要以上に接近すると、これら両電極の間の静電気力により両電極が付着する、つまり、スティッキングが発生するという問題が生じる。
【0007】
そこで、本発明は上記問題に鑑み、櫛歯状の可動及び固定電極を有し、これら可動及び固定電極の間の容量変化に基づいて力学量を検出するようにした力学量センサにおいて、電極のたわみによるスティッキングを防止することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、従来の平面形状が長方形である櫛歯状の可動及び固定電極では、上記Y軸方向(錘部の変位方向)への剛性が不十分であるため、電極の平面形状に工夫を施し当該電極の剛性を向上させることにより、電極のたわみを抑制し、スティッキングを防止することに着目して、なされたものである。
【0009】
すなわち、請求項1に記載の発明では、基部(11)と、この基部に対して力学量の印加に応じて所定方向に変位可能なように支持された錘部(20)と、この錘部から突出する櫛歯状の可動電極(24)と、この可動電極における個々の櫛歯の側面と離間して対向するように基部から突出する櫛歯状の固定電極(31、32)とを備え、力学量が印加されたときの錘部の変位に伴う可動電極と固定電極との間の容量変化に基づいて印加力学量を検出するようにした力学量センサにおいて、可動電極及び固定電極の両方における個々の櫛歯の平面形状が、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった形状となっていることを特徴としている。
【0010】
それによれば、可動電極及び固定電極の両方における個々の櫛歯の平面形状が、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった形状(以下、テーパ先細形状という)となっているため、従来の平面長方形状に比べて、可動及び固定電極の両方の剛性を向上させることができる。
【0011】
そのため、過大な力学量が印加されても、可動電極及び固定電極の両方の電極のたわみが抑制される。よって、本発明によれば、電極のたわみによるスティッキングを防止することができる。
【0013】
また、可動電極(24)における個々の櫛歯の平面形状を、上記テーパ先細形状としたことにより、上述の効果に加え、従来の平面長方形状の可動電極に比べて可動電極の剛性向上及び軽量化が図れ、結果的に、錘部と可動電極とを含めた可動部の軽量化を図ることができる。このことにより、次のような利点がある。
【0014】
可動部に対して強制的に信号(自己診断信号)を印加し、可動部を初期位置から擬似的に所定量変位させた後、可動部を初期位置へ戻すことにより、その間の容量変化をモニタし、検出性能を自己診断することが行われる。
【0015】
このとき、可動電極がたわみやすいと、可動電極自身の振動によって、駆動力が、錘部を変位させる梁部にまで十分に伝達されず減衰してしまう。また、可動部が重いと、上記自己診断信号によって可動部が変位しにくい。そのため、錘部の変位量が正規の変位量よりも少なくなり、可動部の初期位置への戻りによる容量変化も小さくなるので、結果、自己診断における出力が低下してしまう。
【0016】
その点、請求項1の発明によれば、可動電極の剛性向上が図れるとともに、可動部の軽量化を図ることができるため、上記自己診断の際に、錘部の変位量を容易に正規の変位量に確保することができ、自己診断における出力低下を防止することができる。
【0018】
また、本発明によれば、入力ダイナミックレンジを拡大することができるという利点がある。これは、可動及び固定電極の両方をテーパ先細形状とすることで、これら両電極のたわみを抑制することができるためである。
【0019】
もし、可動及び固定電極のどちらか一方でも、従来の平面長方形状の様な、たわみやすい形状であるとすると、例えば、印加力学量が大きいときに、たわみやすい形状の電極がたわむことにより、可動及び固定電極の間の距離が必要以上に変化する。すると、見かけ上、実際の印加力学量よりも大きな力学量が印加されたかの様に、両電極間の容量が変化する。このことは、センサ出力特性の非直線性につながり、好ましくない。
【0020】
その点、可動及び固定電極の両方のたわみを抑制するようにすれば、より大きな力学量が印加されても、その印加力学量に応じた容量変化を実現することができる。そのため、センサ出力特性の非直線性を改善することができ、入力ダイナミックレンジの拡大につながる。
【0021】
また、請求項2に記載の発明では、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった形状(テーパ先細形状)は、櫛歯の根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった台形形状であることを特徴としている。
【0022】
テーパ先細形状を考えた場合、電極の突出先端部が尖った形状も含まれるが、突出先端部を尖らすことは、加工精度の点から困難であるため、突出先端部を、ある程度幅を持たせた台形形状とすれば、加工しやすいという利点がある。
【0023】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図に示す実施形態について説明する。本実施形態は、本発明の力学量センサを、例えば、エアバッグ、ABS、VSC等の作動制御を行うための自動車用加速度センサやジャイロセンサ等に適用可能な差動容量式の半導体加速度センサについて適用したものとして説明する。
【0025】
図1に半導体加速度センサ(以下、単にセンサという)S1の概略平面構成を示し、図2に図1中のA−A線に沿った模式的な断面構造を示す。なお、図1及び図2中、「従来技術」の欄にて述べた上記図6及び図7と同一部分には同一符号を付してある。
【0026】
センサS1は、半導体基板に周知の半導体製造技術を用いたマイクロマシン加工を施すことにより形成される。センサS1を構成する半導体基板は、図2に示す様に、第1の半導体層としての第1シリコン基板(本発明でいう基部)11と第2の半導体層としての第2シリコン基板12との間に、絶縁膜としての酸化膜13を有する矩形状のSOI基板10である。
【0027】
第2シリコン基板12には、トレンチエッチング等によって溝14を形成することにより、可動部20、及び、この可動部20と溝14を介して区画された固定部30よりなる梁構造体が形成されている。
【0028】
また、酸化膜13及び第1シリコン基板11のうち上記梁構造体20、30の形成領域に対応した部位は、犠牲層エッチング等により除去されて矩形状の開口部13aを形成している。そして、固定部30は、開口部13aの開口縁部にて、酸化膜13を介して第1シリコン基板11に支持されている。
【0029】
開口部13a上を横断するように配置された可動部20は、長方形状の錘部21の両端を、梁部22を介してアンカー部23a及び23bに一体に連結した構成となっている。これらアンカー部23a及び23bは、酸化膜13における開口部13aの開口縁部に固定され、第1シリコン基板11上に支持されている。これにより、錘部21及び梁部22は開口部13aに臨んだ状態となっている。
【0030】
また、梁部22は、2本の梁がその両端で連結された矩形枠状をなしており、梁の長手方向と直交する方向に変位するバネ機能を有する。具体的には、梁部22は、図1中の矢印Yで示すY軸方向の成分を含む加速度を受けたときに、錘部21をY軸方向へ変位させるとともに、加速度の消失に応じて元の状態に復元させるようになっている。
【0031】
このように、錘部21は、第1シリコン基板11に対してY軸方向(所定方向Y)へ変位可能に支持されており、加速度の印加に応じて、開口部13a上にてY軸方向へ変位するようになっている。
【0032】
また、錘部21におけるY軸方向に沿った軸を中心として、錘部21の両側の側面(図1中の左右両側面)には、それぞれ、複数個(図示例では6個ずつ)の棒状の可動電極24が、Y軸と略直交する方向へ突出して延びており、櫛歯状に形成されている。
【0033】
個々の可動電極24は断面矩形の梁状に形成されて、開口部13aに臨んだ状態となっている。このように、錘部21と一体形成された可動電極24は、錘部21とともにY軸方向へ変位可能となっている。
【0034】
また、固定部30は、個々の可動電極24と対向するように第1シリコン基板(基部)11から突出して延びる複数個の棒状の固定電極31、32を備えている。各固定電極31、32は、第1シリコン基板11に片持ち支持されて、錘部21の左右一対の櫛歯状の可動電極24における櫛歯の隙間に噛み合うように対向して配置されている。
【0035】
この左右一対の固定電極31、32は、図1中の左側に位置する第1の固定電極31と、右側に位置する第2の固定電極32とより成り、第1の固定電極31と第2の固定電極32とは、互いに電気的に独立している。個々の固定電極(図示例では左右6個ずつ)31、32は、断面矩形の梁状に形成されており、各配線部31a、32aに片持ち状に支持された状態で、開口部13aに臨んだ状態となっている。
【0036】
そして、固定電極31、32における個々の電極の側面は、個々の可動電極24の側面と所定の間隔を存して対向配置されている。ここで、可動及び固定電極24、31、32の対向する間隔のうち狭い方の間隔が、加速度検出時において静電容量変化の検出に用いられる検出間隔40であり、検出間隔40とは反対側の広い方の間隔は、加速度検出時において静電容量変化の検出に用いない非検出間隔である。
【0037】
ここにおいて、本実施形態では、図1に示す様に、可動電極24及び固定電極31、32の両方における個々の櫛歯の平面形状が、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった形状(以下、テーパ先細形状という)となっている。
【0038】
本例では、このテーパ先細形状は、両電極24、31、32ともに同じ台形形状としており、例えば、突出長さが200μm、根元部の幅が4μm、根元部よりも細くなっている突出先端部の幅が2μm程度のものにすることができる。
【0039】
また、上記検出間隔40において互いに対向する可動及び固定の両電極24、31、32の側面は、Y軸方向に対して直角に配置されている。ここで、両電極24、31、32の側面は、従来同様に長方形であり(図2参照)、検出間隔40における対向面積は確保されている。そして、この検出間隔40の距離は、電極の根元側から先端部側の全体で均一となっており、例えば3μm程度にすることができる。
【0040】
また、上記非検出間隔において互いに対向する可動及び固定の両電極24、31、32の側面は、Y軸方向に対してテーパの分だけ斜めに配置されている。そして、この非検出間隔の距離も、電極の根元側から先端部側の全体で均一となっており、例えば9μm程度にすることができる。
【0041】
また、各固定電極31、32の各配線部31a、32a上の所定位置には、それぞれワイヤボンディング用の固定電極パッド31b、32bが形成されている。また、一方のアンカー部23bと一体に連結された状態で、可動電極用配線部25が形成されており、この配線部25上の所定位置には、ワイヤボンディング用の可動電極パッド25aが形成されている。上記の各電極パッド25a、31b、32bは、例えばアルミニウムにより形成されている。
【0042】
更に、錘部21には、開口部13a側から反対側に貫通する矩形状の貫通孔50が複数形成されており、これら貫通孔50により、矩形枠状部を複数組み合わせた所謂ラーメン構造形状が形成されている。これにより、可動部20の軽量化、捩じり強度の向上がなされている。
【0043】
また、図2に示す様に、本センサS1は、第1シリコン基板11の裏面(酸化膜13とは反対側の面)側において接着剤60を介してパッケージ70に接着固定されている。このパッケージ70には、後述する回路手段80が収納されている。そして、この回路手段80と上記の各電極パッド25a、31b、32bとは、金もしくはアルミニウムのワイヤボンディング等により形成されたワイヤ(図示せず)等により電気的に接続されている。
【0044】
このような構成においては、第1の固定電極31と可動電極24との検出間隔40に第1の容量(CS1とする)、第2の固定電極32と可動電極24との検出間隔40に第2の容量(CS2とする)が、それぞれ形成されている。
【0045】
そして、加速度を受けると、梁部22のバネ機能により、可動部20全体が一体的にY軸方向へ変位し、可動電極24の変位に応じて上記各容量CS1、CS2が変化する。そして、上記回路手段80は、可動電極24と固定電極31、32による差動容量(CS1−CS2)の変化に基づいて加速度を検出する。
【0046】
また、本センサS1においては、可動部20に対して強制的に信号を印加し、可動部20を初期位置から擬似的に所定量変位させた後、可動部20を初期位置へ戻すことにより、その間の容量変化をモニタし、検出性能を自己診断するようにしている。
【0047】
このような本センサS1における加速度検出方法および自己診断方法について、具体的に述べる。図3に、本センサS1に設けられた回路手段80の具体的な構成を示す。
【0048】
回路手段80は、C−V変換回路(スイッチドキャパシタ回路)90及びスイッチ回路100を有する。C−V変換回路90は、可動電極24と固定電極31、32とからなる容量CS1、CS2の変化を電圧に変換して出力するもので、演算増幅器91、コンデンサ92、及びスイッチ93から構成されている。
【0049】
演算増幅器91の反転入力端子は、可動電極パッド25aを介して可動電極24に接続されており、反転入力端子と出力端子との間には、コンデンサ92およびスイッチ93が並列に接続されている。また、演算増幅器91の非反転入力端子には、スイッチ回路100を介してV/2の電圧とV1の電圧のいずれかが入力される。
【0050】
スイッチ回路100は、C−V変換回路90における演算増幅器91の非反転入力端子に、図示しないそれぞれの電圧源からのV/2の電圧とV1(V/2とは異なる)の電圧のいずれかを入力するもので、スイッチ101とスイッチ102から構成されている。スイッチ101とスイッチ102は、一方が閉じているときに他方が開くようになっている。
【0051】
また、回路手段80は図示しない制御回路を有しており、この制御回路は、固定電極パッド31bから、一定振幅Vで周期的に変化する搬送波P1を第1の固定電極31へ入力し、固定電極パッド32bから、搬送波P1と位相が180°ずれ且つ同一振幅Vである搬送波P2を第2の固定電極32へ入力する。また、この制御回路は、上記の各スイッチ93、101、102の開閉を所定のタイミングにて制御できるようになっている。
【0052】
まず、加速度検出方法すなわち加速度を検出する検出信号を印加する状態(通常動作時)について、図4に示す信号波形図を参照して説明する。上記制御回路から出力される搬送波P1(例えば、周波数100kHz、振幅0〜5V)は、図4に示すように、期間φ1を1周期(例えば10μs)としてハイレベルとローレベルが変化する一定振幅の矩形波信号となっており、搬送波P2は、搬送波P1に対して電圧レベルが反転した矩形波信号となっている。
【0053】
また、通常動作時では、上記の各搬送波P1及びP2が各固定電極31、32へ印加されているとき、スイッチ回路100においてスイッチ101は閉、スイッチ102は開になっている。それによって、演算増幅器91の非反転入力端子にV/2の電圧が印加され、可動電極24にはV/2(例えば2.5V)の一定電圧(可動電極信号)が印加されている。
【0054】
この状態において加速度が印加されていない場合には、第1の固定電極31と可動電極24との電位差、及び、第2の固定電極32と可動電極24との電位差は、共にV/2となり、第1の固定電極31と可動電極24との間の静電気力、及び、第2の固定電極32と可動電極24との間の静電気力は、略等しく釣り合っている。
【0055】
また、通常動作時では、C−V変換回路90において、スイッチ93は、図4に示すタイミングで開閉される。このスイッチ93が閉のとき(期間φ2)、コンデンサ92がリセットされる。一方、スイッチ93が開のときに、加速度検出が行われる。つまり、期間φ1のうち期間φ2以外の期間が加速度を検出する期間である。この検出期間において、C−V変換回路90からの出力電圧V0は、次の数式1で示される。
【0056】
【数1】
V0=(CS1−CS2)・V’/Cf
ここで、V’は両パッド31a及び32a間、即ち、両固定電極31及び32の間の電圧であり、Cfはコンデンサ92の容量である。
【0057】
加速度が印加されると、第1の容量CS1と第2の容量CS2とのバランスが変化する。すると、上記数式1に基づき容量差(CS1−CS2)に応じた電圧が、加速度が印加されていないときの出力V0にバイアスとして加わった形で出力V0(例えば0〜5V)として出力される。この出力V0は、この後、増幅回路やローパスフィルタ等を備えた信号処理回路(図示せず)にて信号処理され、加速度検出信号として検出される。
【0058】
次に、自己診断時の作動について、図5に示す信号波形図を参照して説明する。上記制御回路により、図5に示す様に、一定振幅V(図示例では振幅0〜5V)の矩形波信号である搬送波P1及びP2が入力される。ここで、期間φ3(例えば100μs)において、搬送波P1と搬送波P2とは、互いに電圧レベルが反転した一定電圧信号(例えば搬送波P1が0V、搬送波P2が5V)となっている。
【0059】
また、この期間φ3では、上記の各搬送波P1及びP2が各固定電極31、32へ印加されているとき、スイッチ回路100においてスイッチ101は開、スイッチ102は閉になっている。そのため、演算増幅器91の非反転入力端子へ、V/2とは異なるV1(例えば3V)の電圧が印加され、可動電極24には、この電圧V1が可動電極信号として印加されている。
【0060】
可動電極24に電圧V1を加えた場合、上記通常動作時における静電気力の釣り合いが崩れ、可動電極24は、両固定電極31、32のうち可動電極24との間の電位差が大きい方の固定電極へ引き寄せられる。図5に示す例では、第1の固定電極31の方へ引き寄せられるように、梁部22がたわみ、それと一体的に錘部21及び可動電極24が擬似的に変位する。
【0061】
このように、期間φ3は、可動部20を擬似的に所望量変位させ、可動電極24に擬似的な加速度を発生させる期間である。なお、期間φ3においては、C−V変換回路90のスイッチ93は閉であるため、コンデンサ92がリセット状態にある。
【0062】
次に、期間φ4(例えば10μs)は、上記図4に示した期間φ1と同様の信号波形を、可動電極24と固定電極31、32との間に印加することにより、直前の期間φ3にて発生した擬似的な加速度(力学量)を検出する期間である。
【0063】
つまり、C−V変換回路90のスイッチ93を開とし、コンデンサ92を加速度検出可能な状態と同じにし、上記通常動作時と同様の搬送波P1及びP2を印加する。また、スイッチ回路100においてスイッチ101を閉、スイッチ102を開として可動電極24にV/2(例えば2.5V)の一定電圧を駆動電極信号として印加する。
【0064】
すると、この期間φ4にて、例えば第1の固定電極31の方へ引き寄せられていた可動電極24が、元の位置に戻ろうとするため、この容量変化に応じてC−V変換回路90のコンデンサ92に電荷が発生し、期間φ3にて発生した擬似的な加速度を検出することができる。
【0065】
このように、期間(φ3+φ4)を1周期とした自己診断信号(上記搬送波及び可動電極信号)を、可動電極24と固定電極31、32との間に印加することにより、自己診断が可能となっている。
【0066】
ところで、本実施形態によれば、可動電極24及び固定電極31、32における個々の櫛歯の平面形状を、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ先細形状としたことを主たる特徴としている。それによれば、従来の平面長方形状である可動及び固定電極(上記図6参照)に比べて、可動及び固定電極24、31、32のY軸方向への剛性を向上させることができる。
【0067】
そのため、過大な加速度が印加されても、可動電極24及び固定電極31、32のたわみが抑制される。よって、本実施形態によれば、電極のたわみによるスティッキングを防止することができる。
【0068】
なお、電極の平面形状が、根元部側から突出先端部側に向かって連続的に細くなっているテーパ先細形状ではなく、根元部側の方が段部を有して非連続的に突出先端部側よりも幅広になっている形状(非連続的先細形状)であると、当該段部にてたわみやすく、剛性向上の効果は得にくい。本実施形態でいうテーパ先細形状とは、そのような非連続的先細形状を排除するものである。
【0069】
また、本実施形態によれば、従来の平面形状が長方形である櫛歯状の可動及び固定電極に比べて、電極を軽量化して剛性を向上させることができるため、軽量化された電極の共振周波数を、可動部20全体の共振周波数よりも大きくすることができ、ノイズの低減を図ることができる。
【0070】
また、本実施形態によれば、従来の平面長方形状の可動電極に比べて可動電極24の剛性向上及び軽量化が図れ、結果的に、錘部20と可動電極24とを含めた可動部20全体の軽量化を図ることができる。このことにより、自己診断時において、次のような利点がある。
【0071】
自己診断時において、可動電極24がたわみやすいと、可動電極24自身の振動によって、駆動力が、錘部21を変位させる梁部22にまで十分に伝達されず減衰してしまう。また、可動部20全体が重いと、上記自己診断信号によって可動部20が変位しにくい。
【0072】
そのため、錘部21の擬似的な変位量が、望みうる正規の変位量よりも少なくなり、可動部の初期位置への戻りによる容量変化も小さくなるので、結果、自己診断における出力が低下してしまう。
【0073】
その点、本実施形態によれば、可動電極24の剛性向上が図れるとともに、可動部20の軽量化を図ることができるため、上記自己診断の際に、錘部21の変位量を、容易に正規の変位量に確保することができ、自己診断における出力低下を防止することができる。
【0074】
また、本実施形態では、可動電極24及び固定電極31、32の両方における個々の櫛歯の平面形状を、テーパ先細形状としているため、加速度センサとしての入力ダイナミックレンジを拡大することができるという利点がある。これは、可動及び固定電極24、31、32の両電極のたわみが、抑制されるためである。
【0075】
もし、可動及び固定電極のどちらか一方が、従来の平面長方形状の様な、たわみやすい形状であるとすると、例えば、印加加速度が大きいときに、たわみやすい形状の電極がたわむことにより、検出間隔40が必要以上に変化する。すると、見かけ上、実際の印加加速度よりも大きな加速度が印加されたかの様に、両電極間の容量CS1、CS2が変化する。このことは、センサ出力特性の非直線性につながり、好ましくない。
【0076】
その点、可動及び固定電極24、31、32の両方のたわみが抑制されれば、より大きな加速度が印加されても、その印加加速度に応じた容量変化を実現することができる。そのため、センサ出力特性の非直線性を改善することができ、入力ダイナミックレンジの拡大につながる。
【0077】
また、上記のテーパ先細形状を考えた場合、電極の突出先端部が尖った形状を採用しても良い。しかし、本センサS1の様に、半導体製造技術を用いて製造するセンサの場合、各電極24、31、32の平面形状は、第2シリコン基板12にトレンチエッチングを施すことにより画定される。
【0078】
そのため、エッチングマスクを形成する際の露光精度やパターニング精度、更にはエッチング精度等を考慮すると、突出先端部を尖らすことは、加工精度の点から困難である。そのため、本実施形態では、電極の突出先端部を、ある程度の幅を持たせた台形形状とすることにより、適切に電極の平面形状を加工できるようにしている。
【0079】
また、本実施形態では、構成上、従来の平面長方形である櫛歯状電極に対し、電極の平面形状をテーパ先細形状とするだけであるので、その製造方法は、従来のセンサと変わることなく、周知の半導体製造技術を適用することができる。
【0080】
また、本実施形態におけるテーパ先細形状である櫛歯状電極24、31、32の剛性が、従来の平面長方形である櫛歯状電極と同等で良いならば、テーパ先細形状の効果によって、本実施形態の電極を、従来に比べて長くして検出間隔40における容量値を大きくすることができる。その場合、感度の向上及び可動部20の振動のQ値低減が可能となり、センサ特性の向上が図れる。
【0081】
(他の実施形態)
なお、上記実施形態では、可動電極24及び固定電極31、32の両方における個々の櫛歯の平面形状を、テーパ先細形状としているが、個々の櫛歯の平面形状をテーパ先細形状とするのは、可動電極24のみか、固定電極31、32のみでも良い。これらの場合でも、電極のたわみによるスティッキングを防止することができる。
【0082】
また、本発明は上記半導体加速度センサS1に適用するものに限らず、圧力センサ、ヨーレートセンサなどの容量式の力学量センサにも同様に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る半導体加速度センサの概略平面図である。
【図2】図1中のA−A線に沿った模式的断面図である。
【図3】図1に示すセンサにおける回路手段の具体的な構成図である。
【図4】図3に示す回路手段の通常動作時での作動説明に供する信号波形図である。
【図5】図3に示す回路手段の自己診断時での作動説明に供する信号波形図である。
【図6】従来の一般的な力学量センサの概略平面図である。
【図7】図6中のB−B線に沿った模式的断面図である。
【符号の説明】
11…第1シリコン基板(基部)、24…可動電極、31…第1の固定電極、32…第2の固定電極。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a mechanical quantity sensor having a comb-like movable electrode and a comb-like fixed electrode and detecting a mechanical quantity such as acceleration based on a change in capacitance between the movable and fixed electrodes. About.
[0002]
[Prior art]
The configuration of a general mechanical quantity sensor of this type is shown in FIGS. Here, FIG. 6 is a plan view, and FIG. 7 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB in FIG. This is a well-known semiconductor manufacturing technique for a laminated
[0003]
By forming a
[0004]
The beam structure formed in the
[0005]
When the mechanical quantity is applied, the
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-described conventional mechanical quantity sensor, since the
[0007]
Therefore, in view of the above problems, the present invention provides a mechanical quantity sensor having comb-like movable and fixed electrodes and detecting a mechanical quantity based on a change in capacitance between the movable and fixed electrodes. The purpose is to prevent sticking due to deflection.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, since the conventional comb-shaped movable and fixed electrode having a rectangular planar shape has insufficient rigidity in the Y-axis direction (displacement direction of the weight portion), the present invention is devised for the planar shape of the electrode. This is made by paying attention to suppressing the deflection of the electrode and preventing the sticking by improving the rigidity of the electrode.
[0009]
That is, in the first aspect of the invention, the base (11), the weight (20) supported so as to be displaceable in a predetermined direction in response to the application of a mechanical quantity to the base, and the weight Comb-shaped movable electrodes (24) projecting from the base, and comb-shaped fixed electrodes (31, 32) projecting from the base so as to face the side surfaces of the individual comb teeth in the movable electrode. In the mechanical quantity sensor that detects the applied mechanical quantity based on the capacitance change between the movable electrode and the fixed electrode accompanying the displacement of the weight when the mechanical quantity is applied, Both The planar shape of each of the comb teeth is a taper-shaped shape from the root side toward the protruding tip side.
[0010]
According to it, the movable electrode and the fixed electrode Both Since the planar shape of each comb tooth in the taper shape is tapered from the root side toward the protruding tip side (hereinafter referred to as a tapered taper shape), compared to the conventional planar rectangular shape Of movable and fixed electrodes Both The rigidity of can be improved.
[0011]
Therefore, even if an excessive mechanical quantity is applied, the movable electrode and the fixed electrode Both The electrode deflection is suppressed. Therefore, according to the present invention, sticking due to electrode deflection can be prevented.
[0013]
Further, the planar shape of each comb tooth in the movable electrode (24) is the tapered shape described above. In addition to the above effect, the rigidity and weight of the movable electrode can be improved and the weight of the movable part including the weight part and the movable electrode can be reduced as compared with the conventional planar rectangular movable electrode. . This has the following advantages.
[0014]
Forcibly applying a signal (self-diagnostic signal) to the movable part, displacing the movable part by a predetermined amount from the initial position, and then returning the movable part to the initial position, thereby monitoring the change in capacity during that time. Then, self-diagnosis of detection performance is performed.
[0015]
At this time, if the movable electrode is easily bent, the driving force is not sufficiently transmitted to the beam portion that displaces the weight portion due to the vibration of the movable electrode itself and is attenuated. If the movable part is heavy, the movable part is not easily displaced by the self-diagnosis signal. For this reason, the displacement amount of the weight portion is smaller than the normal displacement amount, and the capacitance change due to the return of the movable portion to the initial position is also reduced. As a result, the output in the self-diagnosis is lowered.
[0016]
That point,
[0018]
Moreover, according to the present invention, There is an advantage that the input dynamic range can be expanded. This is because the deflection of both the movable and fixed electrodes can be suppressed by forming the tapered shape.
[0019]
If either one of the movable and fixed electrodes has a flexible shape, such as a conventional flat rectangular shape, for example, when the applied mechanical quantity is large, the flexible electrode is bent and the movable electrode is movable. And the distance between the fixed electrodes changes more than necessary. Then, apparently, the capacitance between the two electrodes changes as if a mechanical quantity larger than the actual applied mechanical quantity was applied. This leads to non-linearity of sensor output characteristics, which is not preferable.
[0020]
In this respect, if the deflection of both the movable and fixed electrodes is suppressed, even if a larger mechanical quantity is applied, it is possible to realize a change in capacitance according to the applied mechanical quantity. Therefore, the non-linearity of the sensor output characteristic can be improved, leading to an expansion of the input dynamic range.
[0021]
Also,
[0022]
When considering the taper taper shape, the shape of the protruding tip of the electrode is also included, but it is difficult to sharpen the protruding tip from the viewpoint of processing accuracy, so the protruding tip has a certain width. The trapezoidal trapezoidal shape has the advantage of being easy to process.
[0023]
In addition, the code | symbol in the parenthesis of each said means is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments shown in the drawings will be described below. This embodiment relates to a differential capacitance type semiconductor acceleration sensor in which the mechanical quantity sensor of the present invention can be applied to, for example, an automotive acceleration sensor or a gyro sensor for performing operation control of an airbag, ABS, VSC or the like. It will be described as applied.
[0025]
FIG. 1 shows a schematic plane configuration of a semiconductor acceleration sensor (hereinafter simply referred to as a sensor) S1, and FIG. 2 shows a schematic cross-sectional structure along the line AA in FIG. In FIG. 1 and FIG. 2, the same parts as those in FIG. 6 and FIG.
[0026]
The sensor S1 is formed by subjecting a semiconductor substrate to micromachining using a well-known semiconductor manufacturing technique. As shown in FIG. 2, the semiconductor substrate constituting the sensor S1 includes a first silicon substrate (base portion in the present invention) 11 as a first semiconductor layer and a
[0027]
By forming the
[0028]
Also, portions of the
[0029]
The movable part 20 arranged so as to cross the
[0030]
The
[0031]
Thus, the
[0032]
A plurality of (six in the illustrated example) rod-like shapes are provided on the side surfaces (left and right side surfaces in FIG. 1) on both sides of the
[0033]
Each
[0034]
The fixed
[0035]
The pair of left and right
[0036]
The side surfaces of the individual electrodes in the fixed
[0037]
Here, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the planar shape of each comb tooth in both the
[0038]
In this example, the tapered shape of the taper is the same trapezoidal shape for both the
[0039]
Further, the side surfaces of both the movable and fixed
[0040]
Further, the side surfaces of both the movable and fixed
[0041]
Further, fixed
[0042]
Furthermore, a plurality of rectangular through
[0043]
In addition, as shown in FIG. 2, the sensor S <b> 1 is bonded and fixed to the
[0044]
In such a configuration, the
[0045]
When the acceleration is received, the entire movable portion 20 is integrally displaced in the Y-axis direction by the spring function of the
[0046]
Further, in the present sensor S1, by forcibly applying a signal to the movable part 20, displacing the movable part 20 by a predetermined amount from the initial position, and then returning the movable part 20 to the initial position, The capacity change during that time is monitored and the detection performance is self-diagnosed.
[0047]
The acceleration detection method and self-diagnosis method in the sensor S1 will be specifically described. FIG. 3 shows a specific configuration of the circuit means 80 provided in the sensor S1.
[0048]
The circuit means 80 includes a CV conversion circuit (switched capacitor circuit) 90 and a
[0049]
The inverting input terminal of the
[0050]
In the
[0051]
Further, the circuit means 80 has a control circuit (not shown). This control circuit inputs a carrier wave P1 that periodically changes at a fixed amplitude V from the fixed
[0052]
First, an acceleration detection method, that is, a state in which a detection signal for detecting acceleration is applied (during normal operation) will be described with reference to a signal waveform diagram shown in FIG. As shown in FIG. 4, the carrier wave P1 (for example,
[0053]
In the normal operation, when the carrier waves P1 and P2 are applied to the fixed
[0054]
When no acceleration is applied in this state, the potential difference between the first fixed
[0055]
Further, during normal operation, in the
[0056]
[Expression 1]
V0 = (CS1-CS2) .V '/ Cf
Here, V ′ is a voltage between both
[0057]
When acceleration is applied, the balance between the first capacitor CS1 and the second capacitor CS2 changes. Then, a voltage corresponding to the capacitance difference (CS1−CS2) based on the
[0058]
Next, the operation at the time of self-diagnosis will be described with reference to the signal waveform diagram shown in FIG. As shown in FIG. 5, carrier waves P1 and P2 that are rectangular wave signals having a constant amplitude V (amplitude 0 to 5 V in the illustrated example) are input by the control circuit. Here, in the period φ3 (for example, 100 μs), the carrier wave P1 and the carrier wave P2 are constant voltage signals (for example, the carrier wave P1 is 0V and the carrier wave P2 is 5V) whose voltage levels are inverted.
[0059]
In the period φ3, when the carrier waves P1 and P2 are applied to the fixed
[0060]
When the voltage V1 is applied to the
[0061]
As described above, the period φ3 is a period in which the movable portion 20 is pseudo-displaced by a desired amount and pseudo acceleration is generated in the
[0062]
Next, in the period φ4 (for example, 10 μs), a signal waveform similar to that in the period φ1 shown in FIG. 4 is applied between the
[0063]
That is, the
[0064]
Then, in this period φ4, for example, the
[0065]
As described above, the self-diagnosis signal (the carrier wave and the movable electrode signal) having the period (φ3 + φ4) as one cycle is applied between the
[0066]
By the way, according to the present embodiment, the main feature is that the planar shape of each comb tooth in the
[0067]
Therefore, even when an excessive acceleration is applied, the deflection of the
[0068]
In addition, the planar shape of the electrode is not a taper taper shape that is continuously narrowed from the root portion side toward the protruding tip portion side, but the tip portion side has a stepped portion and protrudes discontinuously. If the shape is wider than the portion side (non-continuous tapered shape), it is easy to bend at the stepped portion, and the effect of improving the rigidity is difficult to obtain. The taper taper shape in the present embodiment excludes such a discontinuous taper shape.
[0069]
In addition, according to the present embodiment, since the electrode can be reduced in weight and improved in rigidity compared with the comb-like movable and fixed electrode having a rectangular planar shape, the resonance of the electrode reduced in weight can be achieved. The frequency can be made larger than the resonance frequency of the entire movable part 20, and noise can be reduced.
[0070]
Further, according to the present embodiment, the rigidity and weight of the
[0071]
If the
[0072]
Therefore, the pseudo displacement amount of the
[0073]
In this respect, according to the present embodiment, the rigidity of the
[0074]
Moreover, in this embodiment, since the planar shape of each comb-tooth in both the
[0075]
If one of the movable and fixed electrodes has a flexible shape such as a conventional flat rectangular shape, for example, when the applied acceleration is large, the flexible electrode bends to detect the detection interval. 40 changes more than necessary. Then, apparently, the capacitances CS1 and CS2 between the electrodes change as if an acceleration larger than the actual applied acceleration was applied. This leads to non-linearity of sensor output characteristics, which is not preferable.
[0076]
In that respect, if the deflection of both the movable and fixed
[0077]
In addition, when considering the tapered shape of the taper, a shape in which the protruding tip of the electrode is sharp may be employed. However, in the case of a sensor manufactured using a semiconductor manufacturing technique like the present sensor S1, the planar shape of each
[0078]
Therefore, considering the exposure accuracy, patterning accuracy, and etching accuracy when forming the etching mask, it is difficult to sharpen the protruding tip from the viewpoint of processing accuracy. For this reason, in this embodiment, the planar shape of the electrode can be appropriately processed by making the protruding tip of the electrode into a trapezoidal shape having a certain width.
[0079]
Further, in the present embodiment, the manufacturing method is the same as that of the conventional sensor because the configuration of the electrode is merely a tapered taper shape with respect to the conventional comb-shaped electrode that is a flat rectangular shape. A well-known semiconductor manufacturing technique can be applied.
[0080]
In addition, if the rigidity of the comb-
[0081]
(Other embodiments)
In the above embodiment, the planar shape of each comb tooth in both the
[0082]
Further, the present invention is not limited to the one applied to the semiconductor acceleration sensor S1, but can be similarly applied to a capacitive mechanical quantity sensor such as a pressure sensor or a yaw rate sensor.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor acceleration sensor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view along the line AA in FIG.
FIG. 3 is a specific configuration diagram of circuit means in the sensor shown in FIG. 1;
4 is a signal waveform diagram for explaining the operation of the circuit means shown in FIG. 3 during normal operation.
5 is a signal waveform diagram for explaining the operation of the circuit means shown in FIG. 3 during self-diagnosis.
FIG. 6 is a schematic plan view of a conventional general mechanical quantity sensor.
7 is a schematic cross-sectional view along the line BB in FIG. 6. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (2)
この基部に対して力学量の印加に応じて所定方向に変位可能なように支持された錘部(20)と、
この錘部から突出する櫛歯状の可動電極(24)と、
この可動電極における個々の櫛歯の側面と離間して対向するように前記基部から突出する櫛歯状の固定電極(31、32)とを備え、
力学量が印加されたときの前記錘部の変位に伴う前記可動電極と前記固定電極との間の容量変化に基づいて、印加力学量を検出するようにした力学量センサにおいて、
前記可動電極及び前記固定電極の両方における個々の櫛歯の平面形状が、根元部側から突出先端部側に向かってテーパ状に細くなった形状となっていることを特徴とする力学量センサ。A base (11);
A weight (20) supported so as to be displaceable in a predetermined direction in response to application of a mechanical quantity with respect to the base;
Comb-shaped movable electrode (24) protruding from the weight,
Comb-shaped fixed electrodes (31, 32) projecting from the base so as to face and separate from the side surfaces of the individual comb teeth in the movable electrode,
In a mechanical quantity sensor that detects an applied mechanical quantity based on a change in capacitance between the movable electrode and the fixed electrode accompanying displacement of the weight when a mechanical quantity is applied,
A mechanical quantity sensor characterized in that the planar shape of each comb tooth in both the movable electrode and the fixed electrode is tapered from the base side toward the protruding tip side.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001105161A JP4329275B2 (en) | 2001-04-03 | 2001-04-03 | Mechanical quantity sensor |
US09/897,016 US6508126B2 (en) | 2000-07-21 | 2001-07-03 | Dynamic quantity sensor having movable and fixed electrodes with high rigidity |
DE10135437.1A DE10135437B4 (en) | 2000-07-21 | 2001-07-20 | Dynamic size sensor featuring high rigidity movable and fixed electrodes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001105161A JP4329275B2 (en) | 2001-04-03 | 2001-04-03 | Mechanical quantity sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002299640A JP2002299640A (en) | 2002-10-11 |
JP4329275B2 true JP4329275B2 (en) | 2009-09-09 |
Family
ID=18957889
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001105161A Expired - Fee Related JP4329275B2 (en) | 2000-07-21 | 2001-04-03 | Mechanical quantity sensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4329275B2 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018132493A (en) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | セイコーエプソン株式会社 | Physical quantity sensor, physical quantity sensor device, electronic apparatus, and movable body |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2897486B1 (en) * | 2006-02-13 | 2011-07-22 | Commissariat Energie Atomique | VARIABLE REMOTE ENERGY REMOTE ENERGY CONVERSION SYSTEM AND ENERGY RECOVERY METHOD |
JP5135956B2 (en) * | 2007-09-04 | 2013-02-06 | トヨタ自動車株式会社 | Capacitance change detection device |
JP6587870B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-10-09 | アズビル株式会社 | Micromechanical device and manufacturing method thereof |
JP6588773B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-10-09 | アズビル株式会社 | Micromechanical device and manufacturing method thereof |
JP6511368B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-05-15 | アズビル株式会社 | Micro mechanical device |
JP6581849B2 (en) | 2015-09-01 | 2019-09-25 | アズビル株式会社 | Micro mechanical equipment |
-
2001
- 2001-04-03 JP JP2001105161A patent/JP4329275B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2018132493A (en) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | セイコーエプソン株式会社 | Physical quantity sensor, physical quantity sensor device, electronic apparatus, and movable body |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002299640A (en) | 2002-10-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081216 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090224 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090421 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090526 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4329275 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130626 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140626 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
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