JP4314648B2 - ステージ装置およびそれを備えた光学装置 - Google Patents
ステージ装置およびそれを備えた光学装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4314648B2 JP4314648B2 JP22919298A JP22919298A JP4314648B2 JP 4314648 B2 JP4314648 B2 JP 4314648B2 JP 22919298 A JP22919298 A JP 22919298A JP 22919298 A JP22919298 A JP 22919298A JP 4314648 B2 JP4314648 B2 JP 4314648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- vacuum
- stage
- sample
- stage apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 12
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 38
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C33/00—Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
- F16C33/72—Sealings
- F16C33/74—Sealings of sliding-contact bearings
- F16C33/741—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid
- F16C33/748—Sealings of sliding-contact bearings by means of a fluid flowing to or from the sealing gap, e.g. vacuum seals with differential exhaust
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C2300/00—Application independent of particular apparatuses
- F16C2300/40—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions
- F16C2300/62—Application independent of particular apparatuses related to environment, i.e. operating conditions low pressure, e.g. elements operating under vacuum conditions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェハ等の試料を真空中で移動可能に保持するステージ装置およびそれを備えた光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置の製造工程においては、マスクあるいはレチクルに形成された回路パターンがウェハ上に転写される。そして、ウェハ上に回路パターンが正確に形成されているか否かを検査するために光学装置の1つである検査装置が用いられる。例えば、荷電粒子線を用いてウェハを検査する検査装置では、ステージ装置を用いて真空中で試料のウェハを保持させて移動させ、ウェハの全面を検査できるようになっている。
【0003】
このような検査装置に用いられるステージ装置を図5の斜視図を参照して説明する。図5では、ステージ31の移動方向に平行に移動軸を取るものとする。
このステージ装置は、試料のウェハを載置するためのステージ31を有している。ステージ31には円柱状の4本のガイドバー32が移動軸にほぼ平行に接続されており、各ガイドバー32は円筒状の空気軸受33内に収納されるようになっている。これらステージ31、ガイドバー32、および空気軸受33は、真空室内に収納されている。
【0004】
図5に示した4本のガイドバー32および空気軸受33のうち図中左方の1本のガイドバー32および空気軸受33はそれらの断面構造を示している。空気軸受33は、圧縮空気源(図5中のAir)42から供給管39、通気穴34aを介して供給される空気をガイドバー32の周囲に吹き込むエアパッド34を有している。また、空気軸受33は、ガイドバー32の移動方向に沿ってエアパッド34の前後に排気溝35および排気溝36を有している。排気溝35は、排気穴35aおよび排気管38を介して排気ポンプ41(図5中のPump2)に接続されており、エアパッド34からガイドバー32の周囲に吹き込まれた空気を排出するようになっている。排気溝36は、排気穴36aおよび排気管37を介して排気ポンプ40(図5中のPump1)に接続されており、排気溝35で排気しきれなかった空気を排出するようになっている。
【0005】
このため、空気軸受33とガイドバー32との間には、エアパッド34により連続して空気が吹き込まれ、当該吹き込まれた空気が排気溝35および排気溝36に一次的に貯められ、排気穴35a、36aから排気される。したがって、空気軸受33から真空室内へ真空度に悪影響を及ぼすほど空気分子が漏れ出すことはなく、空気軸受33およびガイドバー32間にはほぼ一定の圧力の気体層が形成され、空気軸受33およびガイドバー32間が所定の間隔を持って維持されるようになる。
【0006】
また、ステージ31には円柱状の駆動用バー43が移動軸に平行に接続されている。駆動用バー43は、真空室外の図示しないリニアモータに接続されており、リニアモータの駆動により移動軸に沿って移動可能になっている。また、駆動用バー43には真空室内外の空気の流れを常に遮断しつつ移動軸に沿って伸縮することのできるベローズ部材44が接続されている。したがって、真空室内の真空度に影響を与えることなくステージ31を移動軸に沿って移動させることができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のステージ装置では、ステージ31の移動軸に沿った移動における高い位置決め精度を確保するには、ステージ31に対して4本のガイドバー32を移動軸に平行に接続し、さらに、ガイドバー32に対応する空気軸受33についても移動軸に平行に設置するといった微妙な調整が必要であり、これら調整は困難であるという問題がある。また、ステージ31の移動ストロークを長くしようとすると、ステージ31の移動方向の前後に移動ストロークに応じた長さのガイドバー32を設けなければならず、ステージ装置自体が大きくなってしまう問題がある。
【0008】
また、上記従来のステージ装置では、ステージ31を移動させる際に、ベローズ部材44を伸縮させるためにリニアモータの駆動力の一部が使われてしまい、十分な駆動力をステージ31に効率よく伝えることができないという問題がある。さらに、ベローズ部材44の伸縮時に生ずる振動によりステージ31に振動が発生して、ステージ31の位置決め精度を低下させる問題がある。リニアモータを真空室内部に設ければ、ベローズ部材44を用いる必要がなくなるので、ステージ31の位置決め精度の低下を防止できる。しかしながら、真空室内を高真空度にするような場合には、真空室内のリニアモータで生じた熱を逃がすための冷却用の配管や配線等の肉厚を厚くしたりテフロン加工等を施したりする必要が生じ、コストがかかるという問題が生じる。
【0009】
また、真空中では真空室内にあるすべての部材の表面からガスが放出されるために、試料を収納する真空室を高真空度にするためには真空室内の部材の表面積をできる限り小さくすることが重要である。しかしながら、上記のステージ装置では、ステージ31、ガイドバー32、空気軸受33、リニアモータ等のかなりの部材を試料が収納された真空室に設けているために、当該真空室を高真空度にすることが困難である。
【0010】
本発明の目的は、試料を高真空下で容易、高効率、且つ高精度に移動させることのできるステージ装置および光学装置を提供することにある。さらに、本発明の目的は、試料を収納する真空室を高真空度にすることのできるステージ装置および光学装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の一実施の形態を表す図1乃至図4に対応付けて説明すると、上記目的は、所定の真空度で試料(18)を収納する第1真空室(1)と、開口(3a)が形成された開口面(3b)を有する隔壁部(3)を挟んで第1真空室(1)と隣接し、前記所定の真空度よりも低い真空度の第2真空室(2)と、開口面(3b)と対向する対向面(4a)を有し、第2真空室(2)に設けられた気体軸受(5、23、26)により移動可能に支持され、開口(3a)を介して試料(18)を保持する移動手段(4および17)とを備えたことを特徴とするステージ装置によって達成される。
【0012】
また、本発明のステージ装置おいて、開口面(3b)と対向面(4a)との間隔を調整する間隔調整機構(24および25、または27乃至30)をさらに備えたことを特徴とする。また、本発明のステージ装置において、第1真空室(1)内を所定の真空度に維持するように排気する第1排気手段(10)と、第2真空室(2)内を所定の真空度より低い真空度に維持するように排気する第2排気手段(12)とをさらに備えたことを特徴とする。また、本発明のステージ装置において、開口面(3b)は開口(3a)を取り囲む排気溝(6)を有し、排気溝(6)内を排気する第3排気手段(11)をさらに備えたことを特徴とする。また、本発明のステージ装置において、移動手段(4および17)はリニアモータ(9)で駆動され、リニアモータ(9)は第1真空室(1)外に設けられていることを特徴とする。
【0013】
また、上記目的は、処理対象の試料(18)を真空中で移動可能に保持するステージ装置と、試料(18)に光線または荷電粒子線を照射する照射系(16)とを備えた光学装置において、ステージ装置は、本発明のステージ装置であることを特徴とする光学装置によって達成される。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態によるステージ装置およびそれを備えた光学装置の一例としての検査装置を図1乃至図4を用いて説明する。まず、本実施の形態による検査装置の概略の構成を図1を用いて説明する。図1は検査装置の断面を示しており、以下、図中に示した座標系を用いて説明する。
【0015】
本検査装置は、壁部1aおよび隔壁部3によって形成される第1真空室1と、壁部2aおよび隔壁部3によって形成される第2真空室2とを備えている。壁部1aおよび隔壁部3、壁部2aおよび隔壁部3は、それぞれO−リング19、20によってシールされており、真空もれ(リーク)が発生しないようになっている。
【0016】
壁部1aには、第1真空室1内を高真空度(例えば、10−5 〜10−6Torr)に排気するターボポンプ(図1中のTP)10が接続されている。ターボポンプ10は第1真空室1内が所定の真空度に達してから作動させるので、ターボポンプ10の後段には、第1真空室1内をターボポンプ10が動作可能な真空度にするために排気するロータリーポンプ12(図1中のRP)が接続されている。
【0017】
また、壁部1aには、試料台17に載置されているウェハ(試料)18を観察するための電子ビームコラム16が備えられている。壁部1aおよび電子ビームコラム16はO−リング21によってシールされており、リークが発生しないようになっている。電子ビームコラム16は、図示しない電子銃によって電子ビームを発生させ、発生させた電子ビームを電子レンズによって収束させた後、偏向コイルによって走査させて、試料台17に載置されているウェハ18に照射させる。そして、照射によって発生する2次電子や反射される電子を検出し、検出した電子に基づいてウェハ18の表面に形成されたパターンを検出するようになっている。
【0018】
隔壁部3には開口3aが形成されており、第1真空室1と第2真空室2とが連通するようになっている。隔壁部3の第2真空室2側の面には、X−Z断面がL字形状および逆L字形状からなる軸受固定部8が固定されている。
第2真空室2内の隔壁部3および軸受固定部8によって囲まれた一領域には、Y方向に移動可能な移動ステージ4が設けられている。移動ステージ4には、2つの軸受部5a、5bからなる空気軸受(気体軸受)5が接続されている。
【0019】
空気軸受5の−X側の軸受部5aは、+Z側、−Z側、および−X側に隔壁部3および軸受固定部8と対向する面を有しており、各面には隔壁部3または軸受固定部8との間に圧縮空気を送り込むエアパッド7が設けられている。また、空気軸受5の+X側の軸受部5bは、+Z側、−Z側および+X側に隔壁部3および軸受固定部8と対向する面を有しており、各面には隔壁部3または軸受固定部8との間に圧縮空気を送り込むエアパッド7が設けられている。エアパッド7には、第2真空室2の外部に備えられた圧縮空気源14(図1中のAir)から、継手15、チューブ13および通気口7aを介して圧縮空気が供給されるようになっている。なお、継手15は壁部2aにO−リング22を挟んで固定され、リークが発生しないようになっている。また、チューブ13は、比較的低真空度に維持される第2真空室2内に設けられているために、高真空度に対応させる必要がなく、コストを抑えることができる。
【0020】
したがって、上記の空気軸受5によると、+X側、−X側の軸受部5a、5bの+Z側および−Z側のエアパッド7から送り込まれる空気により、空気軸受5および移動ステージ4がZ方向に関して隔壁部3および軸受固定部8と間隔を保つように支持され、軸受部5aの−X側のエアパッド7および軸受部5bの+X側のエアパッド7によって送り込まれる空気により、空気軸受5および移動ステージ4がX方向に関して軸受固定部8と間隔を保つように支持される。
【0021】
移動ステージ4は、隔壁部3の開口3aの周囲の面(開口面)3bと対向する平面(対向面)4aを有しており、移動ステージ4の対向面4aと隔壁部3の開口面3bとの間隔は上記の空気軸受5によって数ミクロン(例えば、3〜10ミクロン)の間隔に保たれている。なお、第1真空室1の真空度を高めるためには、移動ステージ4の対向面4aと隔壁部3の開口面3bとの間隔をできるだけ小さくすることが好ましい。
【0022】
移動ステージ4の+Z側には隔壁部3の開口3aを通じて第1真空室1内に位置するようにウェハ18を載置する試料台17が設けられている。したがって、第1真空室1内には、空気軸受5や後述のリニアモータ9等の部材が存在せず、第1真空室1内にある部材の表面積を小さくすることができ、部材から発生するガスを抑えることができる。
隔壁部3の開口面3bには、開口3aを囲むように凹状の排気溝6が形成されており、排気溝6は排気口6aを介して排気溝6内を排気するためのターボポンプ(図1中のTP)11に繋がれている。ターボポンプ11は排気溝6内を、例えば、10−3〜10−4Torrの真空度に維持させることができるようになっている。ターボポンプ11は排気溝6内が所定の真空度に達してから作動させるので、ターボポンプ11の後段には、排気溝6内をターボポンプ11が動作可能な真空度にするために排気するロータリーポンプ12が接続されている。
【0023】
移動ステージ4の−Z側には、リニアモータ9の可動子9aが接続され、可動子9aは固定子9bと間隔を開けて対向するように配置されている。リニアモータ9は、可動子9aと固定子9bとの相互作用により可動子9aがY方向に移動できるようになっている。なお、リニアモータ9は第2真空室2内に配置されているが、後述するように第2真空室2内は比較的低い真空度であるので、リニアモータ9により発生した熱を取り除くための冷却水を循環させる図示しない配管や配線等は、高真空度に対応させる必要がなく、コストがかからない。
壁部2aには、第2真空室2内を第1真空室1内より低い真空度(例えば、数〜数百Torr)に排気するロータリーポンプ12が接続されている。
【0024】
ここで、移動ステージ4の対向面4a、および隔壁部3の開口3aおよび排気溝6について図2を参照して詳細に説明する。図2は、隔壁部3、軸受固定部8、移動ステージ4および空気軸受5等を矢印P、Qに示すように分解した状態の検査装置の移動ステージ4回りの斜視図を示している。なお、図2では、図1の座標軸に対応する座標軸をとるものとする。また、図2中の破線aは、移動ステージ4および試料台17が最も+Y側に移動した際の隔壁部3に対するこれら位置を示し、破線bは、移動ステージ4および試料台17が最も−Y側に移動した際の隔壁部3に対するこれらの位置を示している。
【0025】
隔壁部3の開口3aは、図2に示すように、試料台17の移動を妨げないように移動範囲(破線a〜破線b)を包含する大きさとなっている。
移動ステージ4の対向面4aは、図2に示すように移動範囲において常に開口3aに対向するようになっている。これにより、第1真空室1および第2真空室2は、移動ステージ4の対向面4aおよび隔壁部3の開口面3bとの間のわずかな隙間のみでしか連通しないようになっている。
また、隔壁部3の排気溝6は、移動ステージ4の移動範囲(破線a〜破線b)において、常に対向面4aと対向する位置に設けられている。
【0026】
次に、本実施の形態によるステージ装置および検査装置の動作を説明する。
本検査装置では、ロータリーポンプ12によって、第1真空室1内、排気溝6内、第2真空室2内を排気させる。そして、第1真空室内が所定の真空度になった後には、ターボポンプ10を動作させて第1真空室内を排気する。また、排気溝6内が所定の真空度になった後には、ターボポンプ11を動作させて排気溝6内を排気する。これによって、第1真空室1内は高真空度に維持され、第2真空室2内は第1真空室内より低い真空室で維持されるようになる。
このような動作と共に、圧縮空気源14から継手15、チューブ13、通気口7aを介して空気軸受5のエアパッド7に圧縮空気を供給する。これによって、移動ステージ4の対向面4aと隔壁部3の開口面3b間が所定の隙間に維持されつつ、移動ステージ4をY方向に移動させることができるようになっている。
【0027】
ここで、上記動作中の検査装置内の空気の状態について説明する。
検査装置においては、第1真空室1内は第2真空室2内より高い真空度に維持されており、また、第1真空室1と第2真空室2とは連通しているので、第2真空室2から第1真空室1へ向かって空気が流れることになる。しかしながら、第1真空室1と第2真空室2とは移動ステージ4の対向面4aおよび隔壁部3の開口面3bとのわずかな隙間のみを介して連通しているだけであるので、第2真空室2内から第1真空室1側へ流れる空気は微量である。したがって、エアパッド7から送出される空気の大部分はロータリーポンプ12によって排気される。
【0028】
また、移動ステージ4の対向面4aおよび隔壁部3の開口面3bとのわずかな隙間を第2真空室2内から第1真空室1側へ流れる空気の大部分は、排気溝6から排気溝6aを介してターボポンプ11によって排気される。このため、第1真空室1内に流れ込む空気の量は非常に微量となり、第1真空室1内の真空度にほとんど影響を与えることがない。また、上述のように第1真空室1内には、試料台17等のわずかな部材しか存在しないので、部材から発生するガスは真空度にほとんど影響を及ぼさない。したがって、第1真空室1内の真空度を高真空度に維持することができる。また、検査装置においては、移動ステージ4が移動しても、移動ステージ4の対向面4aおよび隔壁部3の開口面3bとが常にわずかな隙間に維持されるようになっているので、上記状態が移動中常に維持される。
【0029】
このように第1真空室1内を高真空度に維持した状態で、電子ビームコラム16において、電子銃によって電子ビームが照射され、照射された電子ビームは、電子レンズによって収束され、偏向コイルによって走査され、試料台17上のウェハ18に照射される。このような動作と共に、リニアモータ9が移動ステージ4および試料台17を駆動してウェハ18を移動させて、ウェハ18全面に電子ビームを照射させることができるようになる。
さらに、上記の動作と共に、電子ビームコラム16において、ウェハ18からの2次電子や反射された電子が検出され、検出された電子に基づいてウェハ18に形成されているパターンが検出され、設計パターンと比較されて設計通りであるか否かが検査される。
【0030】
このように本検査装置によれば、真空度を維持するためのベローズ部材を設ける必要がないために、リニアモータの駆動を効率よく試料台17の移動に利用することができ、また、ベローズ部材による振動が発生しないので、試料台17の位置決め精度を向上させることができる。さらに、試料を収納する第1真空室1内の試料を保持して移動するための部材の表面積を抑えることができるので、部材から発生するガスによる真空度の低下を防いで、第1真空室1を高真空度にすることができる。
また、本検査装置では、図5に示す従来のステージ装置のようにステージの移動方向の前後に空気軸受を備えておく必要がないので、装置サイズを抑えることができる。また、空気軸受の構成も単純な形状であり、従来に比してステージの位置決め精度を確保するための調整作業は容易である。
【0031】
次に、本実施の形態による検査装置の空気軸受5の他の例を図3を参照して説明する。図3は、空気軸受の−X側の軸受部周辺を示している。図3において図1と同様な機能を有する構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
空気軸受23は、図1に示す空気軸受5において、通気口7aから+Z側のエアパッド7に至る圧縮空気の流路にノズル径を変えることのできる可変ノズル部材24を備え、通気口7aから−Z側のエアパッド7に至る圧縮空気の流路にノズル径を変えることのできる可変ノズル部材25を備えたものである。
【0032】
空気軸受23によると、可変ノズル部材24、25のノズル径を変えることにより、エアパッド7から隔壁部3または軸受固定部8側に送り込む空気の量を調節することができ、隔壁部3と移動ステージ4との間隔(図中のΔZ)を調節することができる。この結果、第2真空室2から第1真空室1側へ流れる空気の量を調節することができ、第1真空室1内の真空度を調整することができる。
したがって、試料の種類、あるいは観察の内容に応じて要求される真空度に、第1真空室1内を調整することができる。
【0033】
次に、本実施の形態による検査装置の空気軸受5のさらに他の例を図4を参照して説明する。図4は、空気軸受の−X側の軸受部周辺を示している。図4において図1と同様な機能を有する構成要素には同一符号を付して重複する説明を省略する。
空気軸受26は、+Z側のエアパッド7に圧縮空気を供給する通気口27と、−Z側および−X側のエアパッド7に圧縮空気を供給する通気口28とを備え、圧縮空気源14と各通気口27、28との間に圧縮空気の圧力を調節するレギュレータ29、30を備えている。
【0034】
空気軸受26によると、レギュレータ29、30を調節することにより、+Z側のエアパッド7から隔壁部3側に送り込む圧縮空気の圧力と、−Z側のエアパッド7から軸受固定部8側に送り込む圧縮空気の圧力とを調節することができ、隔壁部3と移動ステージ4との間隔(図中のΔZ)を調節することができる。この結果、第2真空室2から第1真空室1側へ流れる空気の量を調節することができ、第1真空室1内の真空度を調整することができる。
したがって、試料の種類、あるいは観察の内容に応じて要求される真空度に、第1真空室1内を調整することができる。
【0035】
上記実施の形態では、移動ステージ4と空気軸受5とを別の部材として説明したが、これらを一体の部材としてもよい。また、上記実施の形態では、ロータリーポンプ、ターボポンプを用いた例を説明したが、本発明はこれらに限られず、他の種類のポンプを用いることもできる。また、上記実施の形態では、ターボポンプ10、11の後段に第2真空室2内の排気を行うロータリーポンプ12を接続していたが、本発明はこれに限られず、ターボポンプ10、11の後段にロータリーポンプ12とは別系統のロータリーポンプを接続するようにしてもよい。
【0036】
また、上記実施の形態では、直線移動する1軸のステージ装置で説明したが、本発明はこれに限られず、2軸に移動するステージ装置や、回転移動するステージ装置等にも適用することができる。また、上記実施の形態では、ウェハを試料とする装置について説明したが、本発明はこれに限られず、マスクや液晶基板などのガラス基板等を試料とする装置にも適用することができる。
【0037】
また、上記実施の形態では、検査装置について説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、パターンを転写する露光装置、電子顕微鏡、荷電粒子線でパターンを転写あるいは形成するエレクトロンビーム装置等の他の光学装置にも適用することができる。また、上記実施の形態では、光学装置に備えられているステージ装置について説明したが、本発明はこれに限られず、真空室に収容した試料を移動させるステージ装置であれば適用することができる。
【0038】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、試料を真空下で容易、高効率且つ高精度に移動することができる。さらに、本発明によれば、試料を収納する真空室を高真空度にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態によるステージ装置およびそれを備えた検査装置の概略の構成を示す図である。
【図2】本発明の一実施の形態による検査装置の一部を分解した斜視図である。
【図3】本発明の一実施の形態による空気軸受の他の例を示す図である。
【図4】本発明の一実施の形態による空気軸受のさらに他の例を示す図である。
【図5】従来のステージ装置の概略の構成を示す図である。
【符号の説明】
1 第1真空室
1a 壁部
2 第2真空室
2a 壁部
3 隔壁部
3a 開口
3b 開口面
4 移動ステージ
4a 対向面
5、23、26 空気軸受
5a、5b 軸受部
6 排気溝
7 エアパッド
7a、27、28 通気口
8 軸受固定部
9 リニアモータ
9a 可動子
9b 固定子
10、11 ターボポンプ
12 ロータリーポンプ
13 チューブ
14 圧縮空気源
15 継手
16 電子ビームコラム
17 試料台
18 ウェハ
19、20、21、22 O−リング
24、25 可変ノズル部材
29、30 レギュレータ
Claims (6)
- 試料を観察するための電子ビームコラムとシールされた壁部と、開口が形成された開口面を有して前記壁部とシールされた隔壁部とによって形成され、所定の真空度で前記試料を収納する第1真空室と、
前記隔壁部とシールされた壁部と、前記隔壁部とによって形成され、前記隔壁部を挟んで前記第1真空室と隣接すると共に前記開口を通じて前記第1真空室と連通し、前記所定の真空度よりも低い真空度の第2真空室と、
前記隔壁部の前記第2真空室側の面に固定されて断面がL字形状からなる軸受固定部と、前記隔壁部とに対向する対向面にそれぞれ設けられて前記隔壁部又は前記軸受固定部との間に圧縮空気を送り込むエアパッドを備え、前記第2真空室に設けられた気体軸受と、
前記開口面と対向する対向面を有し、前記気体軸受に接続されて前記気体軸受により移動可能に支持され、前記開口を介して前記試料を保持する移動手段と、
前記移動手段の前記第2真空室側に接続された可動子と、前記可動子と間隔を開けて対向するように前記第2真空室内に配置された固定子とを備え、前記第2真空室に設けられて前記移動手段を駆動するリニアモータと
を備えたことを特徴とするステージ装置。 - 請求項1記載のステージ装置において、
前記開口面と前記対向面との間隔を調整する間隔調整機構を
さらに備えたことを特徴とするステージ装置。 - 請求項1または2に記載のステージ装置において、
前記第1真空室内を前記所定の真空度に維持するように排気する第1排気手段と、
前記第2真空室内を前記所定の真空度より低い真空度に維持するように排気する第2排気手段と
をさらに備えたことを特徴とするステージ装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載のステージ装置において、
前記開口面は前記開口を取り囲む排気溝を有し、
前記排気溝内を排気する第3排気手段を
さらに備えたことを特徴とするステージ装置。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載のステージ装置において、
前記気体軸受は、前記エアパッドに至る前記圧縮空気の流路にノズル径を変えることのできる可変ノズル部材を備えたことを特徴とするステージ装置。 - 処理対象の試料を真空中で移動可能に保持するステージ装置と、前記試料に光線または荷電粒子線を照射する照射系とを備えた光学装置において、
前記ステージ装置は、請求項1乃至5のいずれかに記載のステージ装置であることを特徴とする光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22919298A JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22919298A JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000067793A JP2000067793A (ja) | 2000-03-03 |
JP4314648B2 true JP4314648B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=16888257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22919298A Expired - Lifetime JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4314648B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6473161B2 (en) * | 2000-06-02 | 2002-10-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus, supporting assembly and device manufacturing method |
US6932873B2 (en) * | 2002-07-30 | 2005-08-23 | Applied Materials Israel, Ltd. | Managing work-piece deflection |
JP2010151322A (ja) * | 2010-04-01 | 2010-07-08 | Sigma Technos Kk | Xyステージ |
-
1998
- 1998-08-13 JP JP22919298A patent/JP4314648B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000067793A (ja) | 2000-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008511138A (ja) | 空気軸受と段差ポンプ溝を備えた移動真空チャンバステージ | |
JPH11312640A (ja) | 処理装置および該処理装置を用いたデバイス製造方法 | |
US20020126269A1 (en) | Gas replacement method and apparatus, and exposure method and apparatus | |
US8614786B2 (en) | Robot for in-vacuum use | |
JP2005268268A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
JP3971701B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
CN106783493B (zh) | 一种真空气氛处理装置、样品观测系统及方法 | |
JP4144179B2 (ja) | 静圧気体軸受およびそれを用いたステージ装置およびそれを用いた光学装置 | |
JP2002237449A (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス | |
KR20050055609A (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 | |
JP4314648B2 (ja) | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 | |
JPH03135010A (ja) | X線露光装置 | |
JP3727222B2 (ja) | 真空チャンバと共に使用する絶縁マウントおよびリソグラフ投影装置内での使用 | |
KR101922004B1 (ko) | 이온 비임 생성을 위한 혁신적인 소스 조립체 | |
US6467960B1 (en) | Air bearing linear guide for use in a vacuum | |
JPH0817709A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JP2009004647A (ja) | 真空容器と真空排気方法及びeuv露光装置 | |
KR20080044783A (ko) | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
JP2001173654A (ja) | 静圧軸受装置及びそれを用いた光学装置 | |
US9431208B2 (en) | Charged-particle beam drawing apparatus and vibration damping mechanism | |
JP2003031491A (ja) | 露光装置のためのチャンバ装置 | |
JP2003218189A (ja) | ステージ装置 | |
JP4495732B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
JP2001091681A (ja) | Xyステージ機構及び露光装置 | |
US6947118B2 (en) | Lithographic apparatus and method of manufacturing a device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080826 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150529 Year of fee payment: 6 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150529 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150529 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |