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JP4313137B2 - Hard coating agent - Google Patents

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JP4313137B2
JP4313137B2 JP2003336260A JP2003336260A JP4313137B2 JP 4313137 B2 JP4313137 B2 JP 4313137B2 JP 2003336260 A JP2003336260 A JP 2003336260A JP 2003336260 A JP2003336260 A JP 2003336260A JP 4313137 B2 JP4313137 B2 JP 4313137B2
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ultrafine particles
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徳夫 中山
豊治 林
朋範 飯島
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Mitsui Chemicals Inc
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Mitsui Chemicals Inc
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Description

本発明はチオウレタン骨格を有する光重合性化合物、無機超微粒子を含有しチオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂に対しても使用できる紫外線硬化性ハードコート剤に関するものである。   The present invention relates to a photopolymerizable compound having a thiourethane skeleton and an ultraviolet curable hard coat agent which can be used for a resin containing inorganic ultrafine particles and having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond.

樹脂製レンズは軽量性、耐衝撃性、着色性などの理由から、ガラスレンズに代わりメガネ用、カメラ用、光記録・再生用装置に用いるピックアップレンズ等のレンズ樹脂として急速に普及している。従来これらの目的にはジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)(以下D.A.C.と略す)をラジカル重合したものや、ポリカーボネート(PC)、ポリメタクリル酸メタクリレート(PMMA)などが用いられていきた。しかしながら、これらのレンズ樹脂はnd=1.49〜1.58程度の屈折率であるためガラスレンズと同等の光学特性を得るためには、レンズの中心厚、コバ厚、および曲率を大きくする必要があり全体的に肉厚となるため、より屈折率の高い樹脂が求められてきた。
かかる課題の対策として、特許文献1にはチオール化合物とイソシアネート化合物を熱重合しチオウレタン結合を形成して得られる樹脂が記載されており、nd=1.60〜1.67程度の屈折率が得られている。
また、特許文献2に記載されているチオエポキシ化合物の開環熱重合によりエピチオスルフィド結合を形成して得られる樹脂では、nd=1.70以上の屈折率が得られている。
これらの対策に伴い、樹脂製レンズはガラスレンズに比べ表面の硬度、耐擦傷性が劣るため、表面のハードコート処理は必要不可欠のものとなり、この課題についても多くの検討がなされている。
ハードコート処理としては、特許文献3に記載されている、シランカップリング剤を用い、熱硬化により膜を形成する、いわゆるゾル・ゲル法がある。このゾル・ゲル法は膜を形成するために100℃以上の高温と2時間以上の硬化時間を必要とし、コート液の保存安定性(ポットライフ)も通常1ヶ月程度であるなどの難点はあるものの、ハードコート膜は非常に耐擦傷性が高く樹脂製レンズへの密着性も非常に高いため、D.A.C、PC、PMMA、チオウレタン結合やエピチオスルフィド結合を有するレンズ樹脂に広く用いられている。
Resin lenses are rapidly spreading as lens resins for pick-up lenses used for glasses, cameras, and optical recording / reproducing devices instead of glass lenses for reasons such as lightness, impact resistance, and colorability. Conventionally, radically polymerized diethylene glycol bis (allyl carbonate) (hereinafter abbreviated as DAC), polycarbonate (PC), polymethacrylic acid methacrylate (PMMA), and the like have been used for these purposes. However, since these lens resins have a refractive index of n d = 1.49 to 1.58, in order to obtain optical characteristics equivalent to those of a glass lens, the center thickness, edge thickness, and curvature of the lens are increased. Resin having higher refractive index has been demanded because of the necessity and overall thickness.
As a countermeasure against such a problem, Patent Document 1 describes a resin obtained by thermally polymerizing a thiol compound and an isocyanate compound to form a thiourethane bond, and has a refractive index of about nd = 1.60 to 1.67. Has been obtained.
In addition, a resin obtained by forming an epithiosulfide bond by ring-opening thermal polymerization of a thioepoxy compound described in Patent Document 2 has a refractive index of nd = 1.70 or more.
Along with these countermeasures, resin lenses have inferior surface hardness and scratch resistance compared to glass lenses, and therefore, hard coating treatment on the surface is indispensable, and many studies have been made on this problem.
As the hard coat treatment, there is a so-called sol-gel method described in Patent Document 3 in which a silane coupling agent is used and a film is formed by thermosetting. This sol-gel method requires a high temperature of 100 ° C. or more and a curing time of 2 hours or more to form a film, and the storage stability (pot life) of the coating solution is usually about one month. However, since the hard coat film has very high scratch resistance and very high adhesion to a resin lens, D.I. A. It is widely used for lens resins having C, PC, PMMA, thiourethane bonds and epithiosulfide bonds.

一方、多官能のアクリレートを紫外線硬化させる方法(紫外線硬化性)においても耐擦傷性が高いコート膜を形成させることができる。多官能のアクリレートを用いる方法は、ゾル・ゲル法に比べ、室温程度の環境で紫外線を数秒から数十秒照射することにより簡単に硬化させることができることやコート液のポットライフも通常6ヶ月以上と長いため、D.A.C.、PC、PMMA用にはハードコート剤が種々開発され実際に広く利用されている。しかし、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂製レンズに密着し、硬度の高い紫外線硬化性ハードコート剤はいまだ見出されておらずその開発が待たれている。
特開平9−110956号公報 特開2002−194083号公報 特公昭57−2735号公報
On the other hand, a coating film having high scratch resistance can also be formed by a method (ultraviolet curable) of polyfunctional acrylate. Compared with the sol-gel method, the method using a polyfunctional acrylate can be easily cured by irradiating ultraviolet rays for several seconds to several tens of seconds in an environment of about room temperature, and the pot life of the coating liquid is usually 6 months or longer. D. A. C. Various hard coat agents have been developed for PC and PMMA and are widely used in practice. However, no UV curable hard coating agent having high hardness and being in close contact with a resin lens having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond has not been found yet, and its development is awaited.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-110956 JP 2002-140883 A Japanese Patent Publication No.57-2735

本発明の目的は、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂への密着性が高く、表面の硬度、耐擦傷性が高く、液の保存安定性に優れる紫外線硬化性ハードコート剤を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an ultraviolet curable hard coat agent having high adhesion to a resin having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond, high surface hardness, high scratch resistance, and excellent liquid storage stability. There is.

本発明者らは、これらの問題を解決するために、鋭意検討を行ったところ、チオウレタン結合またはエピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に対して特定の密着性、表面硬度を有する紫外線硬化性ハードコート剤、より具体的には光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物、平均粒径が1〜200nmである超微粒子、多官能ウレタン(メタ)アクリレートを成分として含むハードコート剤が、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂への密着性が高く、表面の硬度、耐擦傷性に優れることを見出した。
すなわち本発明は、
1.下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。
成分(A):一般式(1)で表される化合物
成分(B):無機超微粒子
In order to solve these problems, the present inventors have conducted intensive studies, and found that an ultraviolet curable hard having specific adhesion and surface hardness to a resin surface having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond. A coating agent, more specifically, a compound having a photopolymerizable group and a thiourethane bond, an ultrafine particle having an average particle diameter of 1 to 200 nm, and a hard coating agent containing a polyfunctional urethane (meth) acrylate as a component is a thiourethane. It has been found that the adhesiveness to a resin having a bond or an epithiosulfide bond is high, and the surface hardness and scratch resistance are excellent.
That is, the present invention
1. A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
Component (A): Compound represented by general formula (1) Component (B): Inorganic ultrafine particles

Figure 0004313137
(式中、連結基R下記式(3)、(5)、(6)のいずれかを表し、XC(=O)O(CH 基を表し、はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 0004313137
(In the formula, the linking group R 1 represents any of the following formulas (3), (5), (6) , X 1 represents a C (═O) O (CH 2 ) 2 group, and X 2 represents Independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n1 represents an integer of 1 to 4.)

Figure 0004313137
Figure 0004313137

Figure 0004313137
(上記式(3)、(5)、(6)中、、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、 6b は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、nは1〜2の整数、nおよびnはそれぞれ0または1の整数を表し、nおよびnは1の整数を表す)
2.下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。
成分(A):一般式(7a)で表される化合物
成分(B):無機超微粒子
Figure 0004313137
(The above formula (3), (5), (6) in, X 4, X 5 represents an oxygen atom or a sulfur atom, X 6b represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, n 3 is 1-2 And n 4 and n 7 each represent an integer of 0 or 1, and n 8 and n 9 represent an integer of 1)
2. A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
Component (A): Compound represented by formula (7a) Component (B): Inorganic ultrafine particles

Figure 0004313137
Figure 0004313137
(式中、連結基R(Wherein linking group R 2 は−(CHIs-(CH 2 ) 2 −S−(CH-S- (CH 2 ) 2 −を表し、R-Represents R 3 は脂環族残基を表し、XRepresents an alicyclic residue and X 6a6a はC(=O)O(CHIs C (= O) O (CH 2 ) 2 基を表し、XRepresents the group X 7 はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nEach independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1212 は1〜3の整数を表す。)Represents an integer of 1 to 3. )
3.下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。3. A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
成分(A):一般式(7)で表される化合物Component (A): Compound represented by the general formula (7)
成分(B):無機超微粒子Component (B): Inorganic ultrafine particles

Figure 0004313137
Figure 0004313137
(式中、連結基R(Wherein linking group R 2 が式(3)で表される基を表し、XRepresents a group represented by the formula (3), and X 6 はC(=O)O(CHIs C (= O) O (CH 2 ) 1〜41-4 基、C=O基、Ph−C(CHGroup, C═O group, Ph—C (CH 3 ) 2 基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、XRepresents a group (where Ph represents a phenylene group), X 7 はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nEach independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1010 は1〜4の整数を表し、nRepresents an integer of 1 to 4 and n 1111 は1または2の整数を表し、nRepresents an integer of 1 or 2, n 1212 は1〜3の整数を表す。)Represents an integer of 1 to 3. )

Figure 0004313137
Figure 0004313137
4.無機超微粒子が、金属カルコゲン化物又は金属弗化物の中から選択される1種以上を含有する平均粒径1〜200nmの超微粒子であることを特徴とする1〜3のいずれかに記載のハードコート剤。4). The hard according to any one of 1 to 3, wherein the inorganic ultrafine particles are ultrafine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing one or more selected from metal chalcogenides or metal fluorides Coating agent.
5.成分(A)、(B)に加え、成分(C)として、(メタ)アクリロイル基を2つ以上有するウレタン系(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする1〜4のいずれかに記載のハードコート剤。5). 5. In addition to components (A) and (B), the component (C) contains a urethane (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups. Hard coat agent.
6.チオウレタン結合またはエピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に塗布、紫外線線硬化した膜厚2μmの硬化膜が、6). A cured film with a film thickness of 2 μm applied to the surface of a resin having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond and cured with ultraviolet rays,
[1]碁盤目テープ法剥離試験(JIS−K5400)が評価点数6以上[1] Cross-cut tape method peel test (JIS-K5400) has an evaluation score of 6 or more
[2]鉛筆引っ掻き試験値(JIS−K5400)が3H以上[2] Pencil scratch test value (JIS-K5400) is 3H or more
であることを特徴とする1〜5のいずれかに記載の紫外線硬化性ハードコート剤。The ultraviolet curable hard coat agent according to any one of 1 to 5, which is
7.1〜6のいずれかに記載のハードコート剤を含有するレンズ。The lens containing the hard-coat agent in any one of 7.1-6.

本発明のハードコート剤は、本発明は、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂に対しても使用できる紫外線硬化性ハードコート剤に関するものであり、塗布・硬化すると耐擦傷性、密着性に優れるという利点がある。   The hard coat agent of the present invention relates to an ultraviolet curable hard coat agent that can be used for a resin having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond. There is an advantage that it is excellent.

以下、本発明について詳しく説明する。   The present invention will be described in detail below.

本発明のハードコート剤は、(a)光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物および(b)無機超微粒子を含有する組成物であり、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂に対する密着性、耐擦傷性に優れるコート層を簡便に形成することができる。さらに成分(C)として重合可能な光重合性基を2つ以上有するウレタン系(メタ)アクリレートを含有することによりより耐擦傷性の高いコート層が得られる。   The hard coat agent of the present invention is a composition comprising (a) a compound having a photopolymerizable group and a thiourethane bond and (b) inorganic ultrafine particles, and is adhered to a resin having a thiourethane bond and an epithiosulfide bond. Coating layer having excellent properties and scratch resistance can be easily formed. Further, by containing a urethane-based (meth) acrylate having two or more polymerizable photopolymerizable groups as the component (C), a coat layer having higher scratch resistance can be obtained.

本発明において、成分(A)としては、光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物であれば特に制限はないが、好ましくは一般式(1)で表される化合物が好適に用いられる。   In the present invention, the component (A) is not particularly limited as long as it is a compound having a photopolymerizable group and a thiourethane bond, but a compound represented by the general formula (1) is preferably used.

Figure 0004313137
(1)
(式中、連結基Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 0004313137
(1)
(Wherein the linking group R 1 is an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring, aliphatic ring in the chain) Or an aliphatic residue having a heterocyclic ring, wherein X 1 is a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (where Ph is phenylene) X 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4).

上記一般式(1)において、連結基R1は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)O(CH1〜4基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。 In the general formula (1), the linking group R1 is an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring in the chain, Represents an aliphatic residue having an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 1 represents a C (═O) O (CH 2 ) 1-4 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (wherein Ph represents a phenylene group), X 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 to 4.

また、さらに好ましくは、一般式(1)における連結基R1が(2)〜(6)のいずれかで表される基である化合物が挙げられる。   More preferably, a compound in which the linking group R1 in the general formula (1) is a group represented by any one of (2) to (6) is exemplified.

Figure 0004313137
(2)
Figure 0004313137
(2)

Figure 0004313137
(3)
Figure 0004313137
(3)

Figure 0004313137
(4)
Figure 0004313137
(4)

Figure 0004313137
Figure 0004313137

Figure 0004313137
(式中、Xは水素原子またはメチル基を表し、X、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、 6b は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、nは1〜5の整数、nは0〜2の整数、n〜nはそれぞれ0または1の整数を表す)
また、成分(A)として、以下の一般式(7)で表される化合物も好適に用いられる。
Figure 0004313137
(Wherein, X 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, X 4, X 5 represents an oxygen atom or a sulfur atom, X 6b is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, n 2 is 1 to 5 An integer, n 3 represents an integer of 0 to 2, and n 4 to n 9 each represents an integer of 0 or 1)
Moreover, the compound represented by the following General formula (7) is also used suitably as a component (A).

Figure 0004313137
(7)
(式中、連結基R、Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)OCHCH基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。)
Figure 0004313137
(7)
(Wherein the linking groups R 2 and R 3 are an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom, aromatic ring in the chain, Represents an aliphatic residue having an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 6 is a C (═O) OCH 2 CH 2 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (where Ph is a phenylene group) X 7 represents each independently a hydrogen atom or a methyl group, n 10 represents an integer of 1 to 4, n 11 represents an integer of 1 or 2, and n 12 represents an integer of 1 to 3. Represents.)

上記一般式(7)において、連結基R、Rは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、XはC(=O)OCHCH基、C=O基、Ph−C(CH基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、Xはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。 In the general formula (7), the linking groups R 2 and R 3 are an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue, a heterocyclic residue, or an oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom in the chain. Represents an aliphatic residue having an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocyclic ring, and X 6 represents a C (═O) OCH 2 CH 2 group, a C═O group, a Ph—C (CH 3 ) 2 group (wherein Ph represents a phenylene group), X 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, n 10 represents an integer of 1 to 4, n 11 represents an integer of 1 or 2, and n 12 represents 1 Represents an integer of ~ 3.

本発明で用いる光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物中の光重合性基とは、光重合性を有する基であればよく、特に何ら制限されるものではないが、好ましくは光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合により反応する基を指し、具体的には(メタ)アクリロイル基、ビニル基、イソプロペニル基、スチリル基、α―メチルスチリル基、チオール基、エチニル基、エポキシ基、オキセタン基などが挙げられるが、光重合速度などの点から好ましいのは、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、α―メチルスチリル基であり、最も好ましいのは(メタ)アクリロイル基である。光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物として好的に用いられる化合物は前述の一般式(1)、より具体的には、(メタ)アクリロイル基と連結基Rが上記式(2)〜(6)のいずれかで表される基であるもの、または一般式(7)で表される化合物である。   The photopolymerizable group in the compound having a photopolymerizable group and a thiourethane bond used in the present invention is not particularly limited as long as it is a group having photopolymerizability, but is preferably photoradical polymerization. , Refers to a group that reacts by photocationic polymerization, photoanionic polymerization, specifically (meth) acryloyl group, vinyl group, isopropenyl group, styryl group, α-methylstyryl group, thiol group, ethynyl group, epoxy group, An oxetane group and the like can be mentioned, but a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an α-methylstyryl group are preferable from the viewpoint of a photopolymerization rate, and a (meth) acryloyl group is most preferable. . The compound preferably used as the compound having a photopolymerizable group and a thiourethane bond is the aforementioned general formula (1), more specifically, a (meth) acryloyl group and a linking group R are represented by the above formulas (2) to ( It is a group represented by any one of 6) or a compound represented by the general formula (7).

本発明における一般式(1)は、例えば、チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応より得られる化合物であり、また一般式(7)は、例えば、分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる化合物である。以下に説明する。   The general formula (1) in the present invention is a compound obtained by, for example, a thiourethanation reaction between a thiol and a photopolymerizable monoisocyanate, and the general formula (7) is, for example, two or more mercapto in the molecule. It is a compound obtained from a thiourethanation reaction of a polythiol having a group, a photopolymerizable monoisocyanate, and an isocyanate having no photopolymerizable group. This will be described below.

一般式(1)、(7)の化合物はいずれも、チオールとイソシアネートによるチオウレタン化反応により得られる。   The compounds of the general formulas (1) and (7) can be obtained by a thiourethanation reaction with thiol and isocyanate.

Figure 0004313137
(8)
一般式(1)で表される化合物を得るためには、チオール化合物のメルカプト基と光重合性モノイソシアネート化合物のイソシアネート基のモル比が0.8〜1.2になるように調製する。0.8以下または1.2以上の場合、反応終了後も好ましくない副反応が進行しゲル化するなど希望する性能が発現しない可能性がある。
Figure 0004313137
(8)
In order to obtain the compound represented by the general formula (1), the compound is prepared so that the molar ratio of the mercapto group of the thiol compound to the isocyanate group of the photopolymerizable monoisocyanate compound is 0.8 to 1.2. In the case of 0.8 or less or 1.2 or more, there is a possibility that the desired performance such as gelation occurs due to an undesirable side reaction even after the reaction is completed.

一般式(7)で表される化合物を得るための好ましい手順としては、まずポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート化合物とのモル比を調整し反応させる。   As a preferred procedure for obtaining the compound represented by the general formula (7), first, the molar ratio with the photopolymerizable monoisocyanate compound is adjusted so as to leave at least one mercapto group of the polythiol and reacted.

Figure 0004313137
(9)
この反応が完全に完結した後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させる。
Figure 0004313137
(9)
After this reaction is completely completed, the remaining unreacted mercapto group is reacted with an isocyanate having no photopolymerizable group.

Figure 0004313137
(10)
一般式(1)で表されるチオ(メタ)アクリレート化合物の製造に用いられるチオール化合物は、特に限定されるものではないが、好ましくは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を有し、かつ、メルカプト基を1つ以上有する化合物である。具体的には、モノチオール化合物として、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、アミルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、チオフェノール、チオクレゾール、エチルチオフェノール、ベンジルメルカプタン、
ポリチオール化合物として、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチール、1,6−ヘキサンジチオール、1,2,3−プロパントリチオール、1,1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキサンジチオール、ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタ−exo−cis−2,3−ジチオール、1,1−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、
1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、
1,2,3,4−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,2’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−チオビス−ベンゼンチオール、4,4’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−ジメルカプトビベンジル、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、2,7−ナフタレンジチオール、2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、9,10−アントラセンジメタンチオール、
・ 2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエ
チルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチルチオ)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)エタン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、テトラキス(2−メルカプトエチルチオメチル)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパンチオール、2,5−ジメルカプト−1,4−ジチアン、ビス(2−メルカプトエチル)ジスルフィド、3,4−チオフェンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィド等が挙げられる。
Figure 0004313137
(10)
The thiol compound used for the production of the thio (meth) acrylate compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but preferably an aliphatic residue, an aromatic residue, an alicyclic residue. , A heterocyclic residue, or an aliphatic residue having an oxygen atom, a sulfur atom, an aromatic ring, an aliphatic ring or a heterocyclic ring in the chain, and one or more mercapto groups. Specifically, as a monothiol compound, methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, butyl mercaptan, amyl mercaptan, hexyl mercaptan, heptyl mercaptan, octyl mercaptan, nonyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, furfuryl mercaptan, phenol Thiocresol, ethylthiophenol, benzyl mercaptan,
As polythiol compounds, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,2,3-propanetrithiol, 1, 1-cyclohexanedithiol, 1,2-cyclohexanedithiol, bicyclo [2,2,1] hepta-exo-cis-2,3-dithiol, 1,1-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, diethylene glycol bis (2-mercaptoacetate) ), Diethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), bis (2-mercaptoethyl) ether, ethylene glycol bis (2-mercaptoacetate), ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane bis (2 − Le mercaptoacetate), trimethylolpropane bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate),
1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4- Bis (mercaptomethyl) benzene, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2- Bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3-trimercaptobenzene, 1, 2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptobenzene, 1,2,3-tris (mercaptomethyl) ben 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4-tris (2-mercapto Ethyleneoxy) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene,
1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptomethyl) benzene 1,2,3,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) Benzene, 2,2′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-thiobis-benzenethiol, 4,4′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-dimercaptobibenzyl, 2,5-toluenedithiol, 3,4 -Toluenedithiol, 1,4-naphthalenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 2,6-naphthalenedithiol, 2,7-naphthalenedithiol, 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 4,5-dimethyl Benzene-1,3-dithiol, 9,10-anthracene dimethanethiol,
2-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2-bis (2-mercapto) Ethylthiomethyl) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethylthio) Benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethylthio) Benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethylthio) Benzene, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, bis (2-mercaptoethylthio) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) ethane, 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) propane, 1 , 2,3-tris (2-mercaptoethylthio) propane, tetrakis (2-mercaptoethylthiomethyl) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) propanethiol, 2,5-dimercapto-1,4 -Dithiane, bis (2-mercaptoethyl) disulfide, 3,4-thiophenedithiol, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercaptopropane, bis- (2-mercaptoethylthio-3-mercaptopropane) ) Sulfide and the like.

光重合性モノイソシアネート化合物とは構造中に前述の光重合性基とイソシアネート基の両方を有する化合物であれば良く、特に制限されるものではないが、具体的には、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシメチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシプロピルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシブチルイソシアネート、3−イソプロペニルーα、α―ジメチルベンジルイソシアネート、2−メチルアクリロイルイソシアネートが挙げられ、特に入手のし易さから2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが好適に用いられる。   The photopolymerizable monoisocyanate compound is not particularly limited as long as it is a compound having both the above-mentioned photopolymerizable group and isocyanate group in the structure, and specifically, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate. , 2-methacryloyloxymethyl isocyanate, 2-methacryloyloxypropyl isocyanate, 2-methacryloyloxybutyl isocyanate, 3-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, 2-methylacryloyl isocyanate. -Methacryloyloxyethyl isocyanate is preferably used.

一般式(7)の化合物を合成する際に用いられる光重合性基を有さないイソシアネートとしては、特に制限されるものではないが、具体的には、モノイソシアネートとしてはエチルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、トリルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、プロピルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネート及びメトキシプロピルイソシアネートなどを挙げることができ、ジイソシアネートとしては、プロパンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジソシアネート、メチルノルボルナンジソシアネートなどが挙げられる。   The isocyanate having no photopolymerizable group used when synthesizing the compound of the general formula (7) is not particularly limited. Specifically, the monoisocyanate includes ethyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate, Examples thereof include phenyl isocyanate, tolyl isocyanate, benzyl isocyanate, propyl isocyanate, hexyl isocyanate, octyl isocyanate, and methoxypropyl isocyanate. Examples of the diisocyanate include propane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylenebis (cyclohexyl isocyanate), trimethylhexa Methylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate Over DOO, xylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, norbornane Socia sulfonates, and the like methyl norbornane Socia sulfonates.

上記のチオウレタン化反応に用いる触媒としては、特に制限はないが、好ましくはジブチル錫ジラウリレート、ジブチル錫ジクロライドなどの有機錫化合物、トリエチレンジアミン、トリエチルアミンなどの第三アミン類、1、8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセンー7などのアミジン骨格を有する化合物が用いられ、チオールまたはイソシアネート100重量部に対し、0.0001〜10重量部の範囲で加える。   The catalyst used in the above thiourethanation reaction is not particularly limited, but is preferably an organic tin compound such as dibutyltin dilaurate or dibutyltin dichloride, a tertiary amine such as triethylenediamine or triethylamine, and 1,8-diazabicyclo [ A compound having an amidine skeleton such as 5,4,0] undecene-7 is used and added in an amount of 0.0001 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of thiol or isocyanate.

上記反応は通常−50℃〜100℃の温度範囲が適用され、必要に応じて溶剤により希釈して行う。用いられる溶剤はアルコール、カルボン酸、アミン類などイソシアネートと反応するものを除いて使用することができるが、反応速度の点から、N,N―ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N―ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N―メチル−2−ピロリドン(NMP)などの極性溶媒、クロロホルムなどの塩素系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒が好ましく用いられる。   The above reaction is usually carried out in a temperature range of −50 ° C. to 100 ° C., and diluted with a solvent as necessary. Solvents used can be used except alcohols, carboxylic acids, amines and the like that react with isocyanates. From the viewpoint of reaction rate, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide ( A polar solvent such as DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), or N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), a chlorinated solvent such as chloroform, or an aromatic solvent such as toluene or xylene is preferably used.

またチオールと光重合性イソシアネートとの反応においては、チオールと光重合性基の間での好ましくない副反応(いわゆるエンーチオール反応)を防止するため、重合禁止剤を添加することが好ましい。用いる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ベンゾキノンなどのキノン類、p−メトキシフェノールなどのフェノール類、N―ニトロソフェニルヒドロキシルアミン塩類などが用いられる。   In the reaction between thiol and photopolymerizable isocyanate, it is preferable to add a polymerization inhibitor in order to prevent an undesirable side reaction (so-called ene-thiol reaction) between the thiol and the photopolymerizable group. As the polymerization inhibitor to be used, quinones such as hydroquinone and benzoquinone, phenols such as p-methoxyphenol, N-nitrosophenylhydroxylamine salts and the like are used.

本発明において、(b)無機超微粒子としては、金属酸化物、金属硫化物などの金属カルコゲン化物、又は金属弗化物が好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化セレン、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化ランタニウム、酸化ネオジウム、硫化亜鉛、硫化アンチモン、酸化アルミニウム、弗化ネオジウム、弗化ランタニウム、二酸化ケイ素、弗化マグネシウム、弗化ナトリウム、弗化カルシウム、弗化リチウムなどがあげられ、用途、目的、またコートする樹脂の屈折率に応じて超微粒子の種類、配合量を適宜調整することにより、屈折率を調整することができる。   In the present invention, (b) the inorganic ultrafine particles are preferably metal chalcogenides such as metal oxides and metal sulfides, or metal fluorides. Specifically, titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide, zinc oxide, Selenium oxide, antimony oxide, tin oxide, lanthanum oxide, neodymium oxide, zinc sulfide, antimony sulfide, aluminum oxide, neodymium fluoride, lanthanum fluoride, silicon dioxide, magnesium fluoride, sodium fluoride, calcium fluoride, lithium fluoride The refractive index can be adjusted by appropriately adjusting the type and blending amount of the ultrafine particles according to the use, purpose, and refractive index of the resin to be coated.

具体的には、屈折率を高めるためには、高屈折率の無機超微粒子を配合する。特に1.7以上の屈折率を実現するためには、屈折率が波長546nmにおいて、1.8以上のものが好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化セレン、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化ランタニウム、酸化ネオジウム、硫化亜鉛、硫化アンチモンを1成分以上含有する超微粒子であり、好ましくは、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛を1成分以上含有する無機超微粒子である。   Specifically, in order to increase the refractive index, inorganic ultrafine particles having a high refractive index are blended. In particular, in order to realize a refractive index of 1.7 or more, a refractive index of 1.8 or more is preferable at a wavelength of 546 nm. Titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide, zinc oxide, selenium oxide, antimony oxide, oxidation Ultrafine particles containing one or more components of tin, lanthanum oxide, neodymium oxide, zinc sulfide and antimony sulfide, preferably containing one or more components of titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, antimony oxide, tin oxide and zinc oxide Inorganic ultrafine particles.

逆に、組成物の屈折率を下げる方向に調整したい場合には、チオ(メタ)アクリレートの屈折率よりも低い1.6以下の屈折率の無機超微粒子、具体的には二酸化ケイ素、弗化ネオジウム、弗化ランタニウム、弗化マグネシウム、弗化ナトリウム、弗化カルシウムなどの無機超微粒子を配合しても良い。
なお、コーティング等を施す樹脂の透明性を確保することを目的とする場合には、コート層の厚みが2μmの時、波長400〜600nmにおける平均透過率80%以上が好ましく、90%以上がより好ましい。
On the other hand, when it is desired to adjust the refractive index of the composition to decrease, inorganic ultrafine particles having a refractive index of 1.6 or lower, specifically silicon dioxide, fluorinated, which is lower than the refractive index of thio (meth) acrylate. Inorganic ultrafine particles such as neodymium, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride, and calcium fluoride may be blended.
In addition, when aiming to ensure the transparency of the resin to be coated, when the thickness of the coating layer is 2 μm, the average transmittance at a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. preferable.

2成分以上含有する無機超微粒子とは、具体的には1種類の無機超微粒子の表面に他の無機物を1種類以上被覆した構造(コアーシェル構造)、2種類以上の成分により結晶構造を形成するものなどである。   The inorganic ultrafine particles containing two or more components are specifically a structure in which one inorganic ultrafine particle is coated with one or more other inorganic substances (core-shell structure), and a crystal structure is formed by two or more components. Things.

無機超微粒子の粒子径は、1〜200nm、好ましくは1〜50nm、より好ましくは1〜20nm、さらに好ましくは1〜10nmである。粒子径が200nmより大きい場合、粒子による散乱により透明なコート層を得にくくなり,また1nmより小さい場合、屈折率が向上しにくくなる。
また無機超微粒子の製造方法として、大きくは粉砕法と合成法に分けられる。さらに合成法としては蒸発凝縮法、気相反応法などの気相法、コロイド法、均一沈殿法、水熱合成法、マイクロエマルション法などの液相法などがある。
The particle diameter of the inorganic ultrafine particles is 1 to 200 nm, preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to 20 nm, and still more preferably 1 to 10 nm. When the particle diameter is larger than 200 nm, it becomes difficult to obtain a transparent coating layer due to scattering by the particles, and when it is smaller than 1 nm, the refractive index is difficult to improve.
In addition, the production method of inorganic ultrafine particles is roughly divided into a pulverization method and a synthesis method. Furthermore, as a synthesis method, there are a gas phase method such as an evaporation condensation method and a gas phase reaction method, a liquid phase method such as a colloid method, a uniform precipitation method, a hydrothermal synthesis method, and a microemulsion method.

本発明に用いる無機超微粒子の製造法は特に制限されるものではないが、粒径、組成の均一性、不純物などの点から、合成法により製造したものが好ましい。
それぞれの無機超微粒子は、溶剤、水などに分散安定性化した後、コーティング剤を調製するのが好ましく、大きな屈折率低下がない程度に、γ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシランや(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、カルボン酸などの有機酸、ポリビニルピロリドン、ポリビニールアルコールなどの高分子を添加、またはそれらを微粒子表面に化学的結合(表面修飾)させるなどの方法により分散安定化させたものが好適に用いられる。
The method for producing the inorganic ultrafine particles used in the present invention is not particularly limited, but those produced by a synthesis method are preferred from the viewpoints of particle size, composition uniformity, impurities, and the like.
Each inorganic ultrafine particle is preferably dispersed and stabilized in a solvent, water, etc., and then a coating agent is preferably prepared, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane or (meth) is used to such an extent that there is no significant decrease in refractive index. Add silane coupling agents such as acryloyloxypropyltrimethoxysilane and mercaptopropyltrimethoxysilane, organic acids such as carboxylic acid, polymers such as polyvinylpyrrolidone and polyvinyl alcohol, or chemically bond them to the surface of fine particles (surface Those modified and stabilized by a method such as (modification) are preferably used.

無機超微粒子の含有量は組成物に含まれる光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物類の総重量100重量部に対して1〜400重量部、好ましくは5〜300重量部、より好ましくは10〜200重量部である。
超微粒子の含有量が少ないと屈折率の向上は期待できないが、逆に多いとコート膜に欠陥を生じたり、基材との密着性が損なわれたりする。なお、無機超微粒子は1種類のみならず、2種類以上配合してもよい。また、同成分で形状、粒径の異なる粒子を2種類以上配合してもよい。
(a)チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応より得られる化合物または分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、飽和イソシアネートのチオウレタン化反応から得られる化合物および(b)無機超微粒子を含有する組成物に、(c)ウレタン結合を有し、光重合性基を2つ以上有する(メタ)アクリレート化合物をさらに加えることにより、表面硬度、耐擦傷性がさらに向上する。
(c)ウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物は、先に例示したジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートの反応により得られ、具体的には、ヒドロキシ(メタ)アクリレートとして、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリシドールメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどをそれぞれ組合せた反応により得られるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。
The content of the inorganic ultrafine particles is 1 to 400 parts by weight, preferably 5 to 300 parts by weight, more preferably 100 parts by weight based on the total weight of the compounds having a photopolymerizable group and a thiourethane bond contained in the composition. 10 to 200 parts by weight.
If the content of ultrafine particles is small, an improvement in the refractive index cannot be expected, but if the content is large, defects in the coating film or adhesion to the substrate may be impaired. In addition, not only one kind of inorganic ultrafine particles but also two or more kinds may be blended. Moreover, you may mix | blend 2 or more types of the particle | grains from which the shape and particle diameter differ by the same component.
(A) A compound obtained from a thiourethanation reaction between a thiol and a photopolymerizable monoisocyanate, or obtained from a thiourethanation reaction of a polythiol having two or more mercapto groups in the molecule, a photopolymerizable monoisocyanate, or a saturated isocyanate. By adding a (meth) acrylate compound having (c) a urethane bond and having two or more photopolymerizable groups to the composition containing the compound and (b) inorganic ultrafine particles, surface hardness and scratch resistance Is further improved.
(C) The (meth) acrylate compound having a urethane bond is obtained by the reaction of the diisocyanate and hydroxy (meth) acrylate exemplified above. Specifically, as hydroxy (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) Urethanes obtained by a combination of acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, glycidol methacrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, etc. Examples include (meth) acrylate oligomers.

これらのうち、硬化後の硬度を上げるためには、(メタ)アクリロイル基は2つ以上、好ましくは3つ以上、さらに好ましくは4つ以上であり、ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートにペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートを用いたものが特に好ましい。   Of these, in order to increase the hardness after curing, the number of (meth) acryloyl groups is 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 4 or more, and diisocyanate and hydroxy (meth) acrylate are added to pentaerythritol tris. Those using (meth) acrylate are particularly preferred.

なお、これらウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物は、硬化物の物性に応じて、1種あるいは、2種類以上を混合し用いてもよい。   In addition, you may use these (meth) acrylate compounds which have a urethane bond 1 type or in mixture of 2 or more types according to the physical property of hardened | cured material.

組成物中の各成分、(a)チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応より得られる化合物、(b)無機超微粒子、(c)光重合性基を2つ以上有するウレタン系(メタ)アクリレート化合物の好ましい割合は、表面硬度、密着性などの点から以下の範囲である。
・ (a):(c)=1重量%:99重量%〜99重量%:1重量%、好ましくは5重量%:95重量%〜95重量%:5重量%、より好ましくは10重量%:90重量%〜90重量%:10重量%
・ (b)/((a)+(b)+(c))=1重量%以上90重量%以下、好ましくは5重量%以上80重量%以下、より好ましくは10重量%以上70重量%以下である。
組成物中、無機超微粒子の量が少ない場合屈折率の調整が難しくなるが、逆に多い場合、膜が脆くなる、密着性が不足するなどの問題が生じる。
Each component in the composition, (a) a compound obtained by thiourethanation reaction between thiol and photopolymerizable monoisocyanate, (b) inorganic ultrafine particles, (c) urethane system having two or more photopolymerizable groups ( A desirable ratio of the meth) acrylate compound is in the following range from the viewpoint of surface hardness, adhesion, and the like.
(A): (c) = 1 wt%: 99 wt% to 99 wt%: 1 wt%, preferably 5 wt%: 95 wt% to 95 wt%: 5 wt%, more preferably 10 wt%: 90% to 90% by weight: 10% by weight
(B) / ((a) + (b) + (c)) = 1 to 90% by weight, preferably 5 to 80% by weight, more preferably 10 to 70% by weight It is.
When the amount of the inorganic ultrafine particles is small in the composition, it is difficult to adjust the refractive index. On the other hand, when the amount is large, problems such as the film becoming brittle and insufficient adhesion occur.

さらに、硬化物の物性を調整するため、1分子中に2個以上(メタ)アクリロイルオキシ基を有するチオアクリレート以外のアクリル系オリゴマー/モノマーも配合しても良い。   Furthermore, in order to adjust the physical properties of the cured product, an acrylic oligomer / monomer other than thioacrylate having two or more (meth) acryloyloxy groups in one molecule may be blended.

具体的には、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1.6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1.9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(メタ)アクリル酸付加物、1,1,3,3,5,5―ヘキサ((メタ)アクリロキシ)シクロトリホスホゼン、1,1,3,3,5,5−ヘキサ(メタ)アクリロキシエチルオキシ)シクロトリホスホゼン等が挙げられる。   Specifically, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1.6-hexanediol di (meth) acrylate, 1.9-nonanediol di (Meth) acrylate, dimethylol-tricyclodecane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether (meth) acrylic acid adduct, 1,1,3,3,5,5-hexa ((meth) acrylic) Carboxymethyl) cyclotri phosphonium Zen, 1,1,3,3,5,5 hexa (meth) acryloxyethyl oxy) cyclotri phosphonium Zen, and the like.

また1分子に1個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系モノマーも粘度の調整などの目的で配合してもよい。具体的には、イソアミル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシージエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシートリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシーポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレートフェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシーポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシー3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸、メタ)アクリル酸グリシジル、
2−(メタ)アクリロイロキシエチルーコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n―ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、パーフロロオクチル(メタ)アクリレート、トリフロロエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
A (meth) acrylic monomer having one (meth) acryloyl group per molecule may also be blended for the purpose of adjusting the viscosity. Specifically, isoamyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxy-triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy-polyethylene Glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydride Kishi 3- phenoxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, meth) glycidyl acrylate,
2- (meth) acryloyloxyethyl-succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, isooctyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meta ) Acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, perfluorooctyl (meth) acrylate, trifluoroethyl ( And (meth) acrylate.

また数個のビニル基やチオール基を有する反応性モノマーも粘度調製や硬化性の制御を目的に添加しても良い。   A reactive monomer having several vinyl groups or thiol groups may also be added for the purpose of viscosity adjustment or curability control.

具体的には、N―ビニルピロリドン、N―ビニルカルバゾール、酢酸ビニル、トリメチロールプロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトール(3−メルカプトプロピオネート)などを用いることができる。   Specifically, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, vinyl acetate, trimethylolpropane bis (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate) ), Pentaerythritol (3-mercaptopropionate), and the like.

また、紫外線や熱による硬化を促進させるため、光または熱重合開始剤を配合してもよい。   Moreover, in order to accelerate | stimulate hardening by an ultraviolet-ray or a heat | fever, you may mix | blend light or a thermal-polymerization initiator.

光重合開始剤としては、一般に市販されているもので構わないが、特に例示すると、ベンゾフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー651)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー184)、 2−ヒドロキシ−2−メチル−1―フェニル−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品ダロキュアー1173 ランベルティー社製品 エサキュアーKL200)、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチルー1―フェニル−プロパン−1−オン)(ランベルティー社製品 エサキュアーKIP150)、 (2−ヒドロキシエチル)−フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパンー1−オン)(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー2959)、2−メチル−1(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリのプロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー907)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノー1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー369)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 イルガキュアー819)、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 CGI403)、2,4,6−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド(=TMDPO BASF社製ルシリンTPOチバスペシャリティーケミカルズ(株)製品 ダロキュアーTPO、)、チオキサントンまたはその誘導体など1種、あるいは2種以上混合して用いる。   As the photopolymerization initiator, commercially available products may be used, but specific examples include benzophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (product of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Cure 651), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (product of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Irgacure 184), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd. Product Darocur 1173 Lamberti Co. product Esacure KL200), Oligo (2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one) (Lamberti Co. product Esacure KIP150), (2-hydroxyethyl) -phenyl) -2- Hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one) (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Irgacure 2959), 2-methyl-1 (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholin propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product Irgacure 907), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product Irgacure 369), Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (product of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Irgacure 819), bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine Oxide (Ciba Specialties) Culls Co., Ltd. product CGI403), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (= Lucirin TPO Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product Darocur TPO, manufactured by TMDPO BASF), thioxanthone or its derivatives, etc. 1 Use a seed or a mixture of two or more.

また、光増感作用の目的により第三アミン、例えばトリエタノールアミン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、イソペンチルメチルアミノベンゾエートなどを添加しても良い。   Further, a tertiary amine such as triethanolamine, ethyl-4-dimethylaminobenzoate, isopentylmethylaminobenzoate or the like may be added for the purpose of photosensitization.

熱重合開始剤としては、主として過酸化ベンゾイル(=BPO)などの過酸化物、アゾビスイソブチルニトリル(=AIBN)などのアゾ化合物が用いられる。配合する量は通常、組成物((メタ)アクリレート+無機超微粒子)100重量部に対し、0.1〜10重量部程度である。   As the thermal polymerization initiator, a peroxide such as benzoyl peroxide (= BPO) or an azo compound such as azobisisobutylnitrile (= AIBN) is mainly used. The amount to be blended is usually about 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition ((meth) acrylate + inorganic ultrafine particles).

光(熱)重合開始剤は一般的に加える量が少ない場合、良好な硬化性が得られにくい可能性があり、多すぎても量に比例した性能は得られず逆に分解生成物が硬化物の物性に濁り等悪影響を及ぼす可能性がある。   In general, when a small amount of a photo (thermal) polymerization initiator is added, good curability may not be obtained, and if it is too large, performance proportional to the amount cannot be obtained and the decomposition product is cured. It may adversely affect the physical properties of the material.

溶剤を加える場合は、水あるいは極性有機溶媒、すなわちメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール、ジメチルホルムアミド、N,N′−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチレングリコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、低極性溶媒トルエンなどが挙げられるコーティング液の粘度は基材へのコーティングの方法により調整されるが、好ましくは、0.1cp〜10000cpでありより好ましくは、0.5cp〜500cpであり、さらに好ましくは1cp〜100cpである。   When adding a solvent, water or a polar organic solvent, that is, a lower alcohol such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, dimethylformamide, N, N'-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve , Butyl cellosolve, ethylene glycol, tetrahydrofuran, dioxane, low-polarity solvent toluene and the like, the viscosity of the coating liquid is adjusted by the method of coating on the substrate, preferably 0.1 cp-10000 cp, more preferably It is 0.5 cp to 500 cp, more preferably 1 cp to 100 cp.

ハードコート剤組成物には目的に応じて、これらの他に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シリコン系界面活性剤などの各種添加剤を配合することができる。   In addition to these, various additives such as an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a silicon surfactant can be blended in the hard coat agent composition depending on the purpose.

ハードコート膜の密着性、表面硬度の評価方法としては、それぞれ碁盤目テープ法剥離試験(JIS−K5400)、鉛筆引っ掻き試験値(JIS−K5400)が挙げられ、樹脂表面に塗布、紫外線硬化した膜厚2μmの硬化膜が、
[1]碁盤目テープ法剥離試験(JIS−K5400)の評価点数が好ましくは6以上、より好ましくは8以上である。
[2]鉛筆引っ掻き試験値(JIS−K5400)が好ましくは3H以上、より好ましくは4H以上である。
Examples of evaluation methods for adhesion and surface hardness of the hard coat film include a cross-cut tape method peel test (JIS-K5400) and a pencil scratch test value (JIS-K5400). A cured film with a thickness of 2 μm
[1] The score of the cross-cut tape method peel test (JIS-K5400) is preferably 6 or more, more preferably 8 or more.
[2] The pencil scratch test value (JIS-K5400) is preferably 3H or more, more preferably 4H or more.

また、組成物の保存安定性は室温保管で好ましくは1ヶ月以上、冷蔵庫(4℃)保存で6ヶ月以上より好ましくは室温保管で6ヶ月以上、冷蔵庫(4℃)保存で1年以上である。   The storage stability of the composition is preferably 1 month or more when stored at room temperature, 6 months or more when stored at refrigerator (4 ° C.), more preferably 6 months or more when stored at room temperature, and 1 year or more when stored at refrigerator (4 ° C.). .

[コート方法、硬化方法、成型方法]
基材へコートする場合は、ディップ、スピンコート、スプレーなどの方法をとることができる。
光重合に必要な紫外線光源としては、低圧、高圧、超高圧の各種水銀ランプ、ケミカルランプ、メタルハライドランプ、紫外線レーザーなどを用いることができる。光重合を行う時間は、好ましくは1秒から10分である。1秒より短いと充分に光硬化が行われず、10分より長いと、コート皮膜、基材の劣化が起き着色、ワレなどが起こる場合がある。硬化は基材へコートした後、必要に応じて溶媒の乾燥を行う。乾燥温度、時間は用いる溶剤の沸点により決定される。
熱重合に必要な温度条件は一般的には50℃以上、好ましくは80℃以上であるが、用いる溶媒の沸点、基材の耐熱温度、熱重合開始剤の種類により決定される。
[Coating method, curing method, molding method]
In the case of coating on a substrate, methods such as dip, spin coating and spraying can be employed.
As an ultraviolet light source necessary for photopolymerization, various low-pressure, high-pressure, and ultrahigh-pressure mercury lamps, chemical lamps, metal halide lamps, ultraviolet lasers, and the like can be used. The time for photopolymerization is preferably 1 second to 10 minutes. When the time is shorter than 1 second, the photocuring is not sufficiently performed, and when the time is longer than 10 minutes, the coat film and the base material may be deteriorated, and coloring or cracking may occur. For curing, after coating the substrate, the solvent is dried as necessary. The drying temperature and time are determined by the boiling point of the solvent used.
The temperature condition necessary for the thermal polymerization is generally 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, but is determined by the boiling point of the solvent used, the heat resistant temperature of the substrate, and the type of thermal polymerization initiator.

[本発明の組成物の用途]
本発明の組成物は樹脂などの基材に塗布・硬化すると耐擦傷性、密着性に優れ、透明性が非常に高いため、広い範囲で使用できる。特にこれまで密着性の点で好ましい材料が存在しなかったチオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂に対しても使用できる。また、本発明の組成物は屈折率が調整可能であるため、眼鏡、カメラ用レンズ、光記録・再生用機器のピックアップレンズ、フィルムレンズのハードコート膜として使用できる他、液晶ディスプレイ、ELディスプレイ、CRTディスプレイ用反射防止層、液晶素子に用いられる色分解用カラーフィルターの反射防止層、案内板、標識、ポスター等のいわゆる印刷物の表面を保護し印刷物表面からの光の反射を低減させるために用いられる印刷物表面保護フィルム、さらには窓材、ライトカバー、ヘルメットシールドの反射防止層にも使用できる。
さらには光記録媒体の表面保護材料、高密度記録光媒体の読み取り、書込み用高屈折率膜として、審美性という観点から、樹脂材料、金属材料、セラミックス材料、ガラス材料、人口大理石などの表面装飾用材料として、レンズ、光導波路などの光学材料接合用の接着剤としても使用できる。
以下、作製例、実施例に基づき本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は作製例、実施例に限定されるものではない。
[Use of composition of the present invention]
The composition of the present invention can be used in a wide range because it is excellent in scratch resistance and adhesion when applied and cured on a substrate such as a resin and has very high transparency. In particular, it can also be used for resins having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond, for which there has been no preferred material in terms of adhesion. In addition, since the refractive index of the composition of the present invention can be adjusted, it can be used as a hard coat film for spectacles, camera lenses, pickup lenses for optical recording / reproducing equipment, film lenses, liquid crystal displays, EL displays, Used to protect the surface of so-called printed materials such as anti-reflective layers for CRT displays, color separation color filters used in liquid crystal elements, guide plates, signs, posters, etc., and reduce the reflection of light from the surface of printed materials. It can also be used as a printed surface protective film, as well as an antireflection layer for window materials, light covers, and helmet shields.
Furthermore, as a surface protection material for optical recording media, a high refractive index film for reading and writing of high-density recording optical media, from the viewpoint of aesthetics, surface decorations such as resin materials, metal materials, ceramic materials, glass materials, artificial marble, etc. It can also be used as an adhesive for bonding optical materials such as lenses and optical waveguides.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on production examples and examples, but the present invention is not limited to the production examples and examples.

1.光重合性基及びチオウレタン結合を有する化合物の合成
合成例1
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水されたN,N―ジメチルホルムアミド(DMF)を50.0g、2−メルカプトエチルスルフィド(東京化成工業製)10.0g(0.075mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(昭和電工社製:製品名カレンズMOI)20g(0.13mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。この反応液を多量の水中に投入し、生成物を析出させた後クロロホルムに再度溶解させ、水洗し、油層を無水硫酸ナトリウムで脱水し溶剤を減圧法により留去することにより透明な粘調物を回収した。(回収率:98.3%)
この生成物のIR分析、NMR分析、元素分析を行い化合物(11)が得られていることを確認した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1. Synthesis synthesis example 1 of compound having photopolymerizable group and thiourethane bond
Using a 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel, 50.0 g of dehydrated N, N-dimethylformamide (DMF) as a solvent, 2-mercaptoethyl sulfide ( After charging 10.0 g (0.075 mol) of Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., 20 g (0.13 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (manufactured by Showa Denko KK: product name Karenz MOI) was used as a catalyst. 04 g, a pre-prepared N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.004 g as a polymerization inhibitor was added dropwise over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. This reaction solution is poured into a large amount of water to precipitate the product, then dissolved again in chloroform, washed with water, the oil layer is dehydrated with anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off by a vacuum method to obtain a transparent viscous product. Was recovered. (Recovery rate: 98.3%)
The product was subjected to IR analysis, NMR analysis and elemental analysis to confirm that compound (11) was obtained.
IR: 1680 cm-1: thiourethane group, 3300-3400 cm-1: -NH-

Figure 0004313137
(11)
Figure 0004313137
(11)

合成例2
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン10.0g(0.038mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート17.6g(0.114mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。
その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(12))を回収した。
Synthesis example 2
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercapto After charging 10.0 g (0.038 mol) of propane, 17.6 g (0.114 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was used as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum as a polymerization inhibitor. What was previously prepared in 0.004 g of salt was dropped from the dropping funnel over 30 minutes. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken.
Thereafter, the product (compound (12)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(12)
Figure 0004313137
(12)

合成例3
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,4−ジメルカプトベンゼン(Lancaster社製)10.0g(0.070mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート21.8g(0.14mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(13))を回収した。
Synthesis example 3
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a dropping funnel was used, 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, and 10.0 g of 1,4-dimercaptobenzene (manufactured by Lancaster) ( 0.070 mol), 21.8 g (0.14 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor What was prepared in advance was dropped over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (13)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(13)
Figure 0004313137
(13)

合成例4
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、1,2−エタンジチオール5.0g(0.053mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート16.4g(0.106mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(14))を回収した。
Synthesis example 4
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF and 5.0 g (0.053 mol) of 1,2-ethanedithiol were charged as solvents. Thereafter, 16.4 g (0.106 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was added dropwise with 0.04 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor. It was dripped over 30 minutes from the funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (14)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(14)
Figure 0004313137
(14)

合成例5
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィド10.0g(0.027mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート16.9g(0.108mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。反応の進行状態は赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因するシャープな吸収と2580cm−1付近のSH基に起因する吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(15))を回収した。
Synthesis example 5
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, 50.0 g of dehydrated DMF as a solvent, bis- (2-mercaptoethylthio-3-mercaptopropane) sulfide 10 After charging 0.0 g (0.027 mol), 16.9 g (0.108 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was used as a catalyst, 0.04 g of dibutyltin dilaurate, and N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0 as a polymerization inhibitor. What was previously charged to 0.004 g was dropped over 30 minutes from the dropping funnel. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. The progress of the reaction is performed by infrared absorption spectrum (IR) analysis, and the point at which sharp absorption due to an isocyanate group near 2260 cm −1 and absorption due to an SH group near 2580 cm −1 are not completely recognized. The end point of the reaction was taken. Thereafter, the product (compound (15)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(15)
Figure 0004313137
(15)

合成例6
攪拌機、還流コンデンサー、窒素導入管、温度計、滴下ロートを備えた200ml四つ口フラスコを用い、溶媒として脱水DMFを50.0g、2−メルカプトエチルスルフィド10.0g(0.075mol)を仕込んだ後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート10g(0.075mol)に触媒として、ジブチル錫ジラウリレート0.04g、重合禁止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.004gに予め仕込んだものを滴下ロートより30分かけて滴下した。その後室温から40℃まで昇温しそのまま反応を行った。3時間後、赤外吸収スペクトル(IR)分析により行い、2260cm−1付近のイソシアネート基に起因する吸収認められないことを確認し、一方が光重合性基、もう一方がSH基の化合物(16)を合成した。
Synthesis Example 6
A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and dropping funnel was used, and 50.0 g of dehydrated DMF and 10.0 g (0.075 mol) of 2-mercaptoethyl sulfide were charged as solvents. Thereafter, 10 g (0.075 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was prepared by adding 0.04 g of dibutyltin dilaurate as a catalyst and 0.004 g of N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt as a polymerization inhibitor from a dropping funnel. It was added dropwise over a period of minutes. Thereafter, the temperature was raised from room temperature to 40 ° C., and the reaction was carried out as it was. Three hours later, infrared absorption spectrum (IR) analysis was performed, and it was confirmed that no absorption due to an isocyanate group in the vicinity of 2260 cm −1 was observed. One was a photopolymerizable group and the other was a compound having an SH group (16 ) Was synthesized.

Figure 0004313137
(16)
つづいて、この反応液にイソホロンジイソシアネート(東京化成工業製)7.2g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(17))を回収した。
Figure 0004313137
(16)
Subsequently, 7.2 g (0.0324) of isophorone diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise to the reaction solution over 30 minutes, and the reaction was carried out at 40 ° C. After 10 hours, the temperature was further raised to 60 ° C., and the reaction was continued while confirming absorption due to isocyanate groups and SH groups. The end point of the reaction was defined as the time point at which each absorption was not completely observed. Thereafter, the product (compound (17)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(17)
Figure 0004313137
(17)

合成例7
まず、実施例6と同様にして化合物(16)を合成した。
つづいて、この反応液にノルボルナンジソシアネート(NBDI 三井化学社製 2,5−NBDIと2,6−NBDIの混合物)6.7g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(18))を回収した。
Synthesis example 7
First, compound (16) was synthesized in the same manner as in Example 6.
Then, 6.7 g (0.0324) of norbornane disociate (a mixture of 2,5-NBDI and 2,6-NBDI manufactured by NBDI Mitsui Chemicals) was dropped into this reaction solution over 30 minutes, and the temperature was kept at 40 ° C. Reaction was performed. After 10 hours, the temperature was further raised to 60 ° C., and the reaction was continued while confirming absorption due to isocyanate groups and SH groups. The end point of the reaction was defined as the time point at which each absorption was not completely observed. Thereafter, the product (compound (18)) was recovered by the same method as in Example 1.

Figure 0004313137
(18)
Figure 0004313137
(18)

2.無機超微粒子分散液の調製
作製例1
二酸化ケイ素(シリカ)超微粒子分散液の調製
日産化学株式会社製 二酸化ケイ素超微粒子の30重量%メタノール分散液(商品名スノーテックス)のメタノールを濃縮法によりメチルセロソルブに変換し固形分重量20%のメチルセロソルブ分散液を得た。
2. Preparation 1 of inorganic ultrafine particle dispersion
Preparation of silicon dioxide (silica) ultrafine particle dispersion Made by Nissan Chemical Co., Ltd. 30 wt% methanol dispersion of silicon dioxide ultrafine particles (trade name Snowtex) is converted to methyl cellosolve by a concentration method to give a solid content of 20% A methyl cellosolve dispersion was obtained.

作製例2
酸化ジルコニウムー酸化チタン複合酸化物超微粒子の合成と分散液の調製
オキシ塩化チタン・塩酸水溶液(Fluka試薬 塩酸:38〜42%、Ti:約15%)を7.5ml(Ti:0.036mol相当)をイオン交換水1000mlに溶解させた。70℃の温度にて攪拌した。5時間後、青みを帯びた酸化チタンコロイド水溶液を得た。
イオン透析によりコロイド水溶液のPHを5付近まで調節した後、濃縮法により溶媒をメチルセロソルブに変換し、さらに分散剤としてアクリル酸1.0gを加え、充分攪拌することにより、固形分重量20%の酸化チタンのメチルセロソルブ分散液を得た。得られたゾル液の一部をメッシュに滴下し、電子顕微鏡観察試料を作製し、観察したところ、平均粒子径が5nmの酸化チタン結晶であることが確かめられた。
そのコロイド溶液にオキシ塩化ジルコニウム8水和物を6.4g(Zr:0.020mol相当)を添加し、反応液の温度を100℃にし、5時間攪拌を行った。その結果、青白色を帯びたスラリー状のゾル液が得られた。イオン透析によりコロイド水溶液のPHを5付近まで調節した後、濃縮法により溶媒をメチルセロソルブに変換し、さらに分散剤として、アクリル酸1.0gを加え、充分攪拌することにより、固形分重量20%酸化ジルコニウム被覆酸化チタン超微粒子のメチルセロソルブ分散液を得た。(複合酸化物1)
Production Example 2
Synthesis of zirconium oxide-titanium oxide composite oxide ultrafine particles and preparation of dispersion 7.5 ml of titanium oxychloride / hydrochloric acid aqueous solution (Fluka reagent hydrochloric acid: 38 to 42%, Ti: about 15%) (corresponding to Ti: 0.036 mol) Was dissolved in 1000 ml of ion-exchanged water. Stir at a temperature of 70 ° C. After 5 hours, a bluish titanium oxide colloidal aqueous solution was obtained.
After adjusting the pH of the colloidal aqueous solution to near 5 by ion dialysis, the solvent is converted to methyl cellosolve by a concentration method, and 1.0 g of acrylic acid is further added as a dispersing agent, followed by thorough stirring. A methyl cellosolve dispersion of titanium oxide was obtained. A part of the obtained sol solution was dropped onto a mesh to prepare an electron microscope observation sample, which was observed and confirmed to be a titanium oxide crystal having an average particle diameter of 5 nm.
To the colloidal solution, 6.4 g (Zr: equivalent to 0.020 mol) of zirconium oxychloride octahydrate was added, the temperature of the reaction solution was set to 100 ° C., and the mixture was stirred for 5 hours. As a result, a bluish white slurry-like sol solution was obtained. After adjusting the pH of the aqueous colloidal solution to about 5 by ion dialysis, the solvent is converted to methyl cellosolve by a concentration method, 1.0 g of acrylic acid is added as a dispersant, and the mixture is sufficiently stirred. A methyl cellosolve dispersion of zirconium oxide-coated titanium oxide ultrafine particles was obtained. (Composite oxide 1)

作製例3
酸化アンチモン超微粒子分散液の調製
日産化学株式会社製 酸化アンチモンの30重量%メタノール分散液(商品名AMT−130S、酸化アンチモン粒子径10〜20nm)のメタノールを濃縮法によりメチルセロソルブに変換し固形分重量20%のメチルセロソルブ分散液を得た。
Production Example 3
Preparation of antimony oxide ultrafine particle dispersion manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. 30% by weight methanol dispersion of antimony oxide (trade name: AMT-130S, antimony oxide particle diameter: 10 to 20 nm) was converted to methyl cellosolve by a concentration method to obtain a solid content. A 20% by weight methyl cellosolve dispersion was obtained.

作製例4
酸化スズー二酸化チタンー酸化ジルコニウムー酸化アンチモン複合酸化物超微粒子分散液の調製
日産化学株式会社製 酸化スズー二酸化チタンー酸化ジルコニウムー酸化アンチモン複合酸化物30重量%メタノール分散液(商品名HIT−301M1、粒子径5〜15nm)のメタノールを濃縮法によりメチルセロソルブに変換し固形分重量20%のメチルセロソルブ分散液を得た。(複合酸化物2)
Production Example 4
Preparation of tin oxide-titanium dioxide-zirconium oxide-antimony oxide composite oxide ultrafine particle dispersion manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. Tin oxide-titanium dioxide-zirconium oxide-antimony oxide composite oxide 30 wt% methanol dispersion (trade name HIT-301M1, particle size 5 15 nm) of methanol was converted to methyl cellosolve by a concentration method to obtain a methyl cellosolve dispersion having a solid content of 20%. (Composite oxide 2)

作製例5
酸化スズー酸化ジルコニウムー酸化アンチモン複合酸化物超微粒子分散液の調製
日産化学株式会社製 酸化スズー酸化ジルコニウムー酸化アンチモン複合酸化物30重量%メタノール分散液(商品名HX−300M1、粒子径5〜15nm)のメタノールを濃縮法によりメチルセロソルブに変換し固形分重量20%のメチルセロソルブ分散液を得た。(複合酸化物3)
3.本発明の組成物を含有するハードコート剤の調製と評価
Production Example 5
Preparation of Tin Oxide-Zirconium Oxide-Antimony Oxide Composite Oxide Ultrafine Particle Dispersion Methanol dispersion (trade name HX-300M1, particle size 5-15 nm) of 30% by weight tin oxide-zirconium oxide-antimony oxide composite oxide manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. Was converted to methyl cellosolve by a concentration method to obtain a methyl cellosolve dispersion having a solid content of 20%. (Composite oxide 3)
3. Preparation and evaluation of hard coat containing composition of the present invention

作製例6
チオウレタン結合を有する樹脂の作製(1)
式(19)で表されるm−キシリレンジイソシアナート 36.4g、式(20)で表される1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン 33.6gとジブチル錫ジクロライド 0.01g、内部離型剤としてZelecUN(STEPAN社)0.07gを加えて攪拌し、減圧下で1時間脱泡した。1μmテフロン(登録商標)フィルターにて濾過後、ガラスモールドとガスケットよりなる成型モールドに注入した。このモールドを40℃から120℃まで徐々に昇温させながら、20時間で重合を行った。重合終了後、徐々に冷却し樹脂をモールドから取り出した。得られた樹脂120℃にて3時間アニール処理し、樹脂板(厚さ5mm)を得た。
Production Example 6
Preparation of resin having thiourethane bond (1)
36.4 g of m-xylylene diisocyanate represented by the formula (19), 33.6 g of 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercaptopropane represented by the formula (20) and dibutyltin dichloride 0.01 g and 0.07 g of ZelecUN (STEPAN) as an internal mold release agent were added and stirred, and degassed for 1 hour under reduced pressure. After filtration through a 1 μm Teflon (registered trademark) filter, it was poured into a molding mold comprising a glass mold and a gasket. While the mold was gradually heated from 40 ° C. to 120 ° C., polymerization was performed in 20 hours. After the polymerization was completed, the resin was gradually cooled and the resin was taken out from the mold. The obtained resin was annealed at 120 ° C. for 3 hours to obtain a resin plate (thickness 5 mm).

Figure 0004313137
(19)
Figure 0004313137
(20)
Figure 0004313137
(19)
Figure 0004313137
(20)

作製例7
チオウレタン結合を有する樹脂の作製(2)
m−キシリレンジイソシアナート 37.6g、式(21)〜(23)で表される異性体混合物 33.6gとジブチル錫ジクロライド 0.01g、内部離型剤としてZelecUN(STEPAN社)0.07gを加えて攪拌し、減圧下で1時間脱泡した。1μmテフロン(登録商標)フィルターにて濾過後、ガラスモールドとガスケットよりなる成型モールドに注入した。このモールドを40℃から120℃まで徐々に昇温させながら、20時間で重合を行った。重合終了後、徐々に冷却し樹脂をモールドから取り出した。得られた樹脂120℃にて3時間アニール処理し、樹脂板(厚さ5mm)を得た。
Production Example 7
Preparation of resin having thiourethane bond (2)
37.6 g of m-xylylene diisocyanate, 33.6 g of an isomer mixture represented by the formulas (21) to (23), 0.01 g of dibutyltin dichloride, and 0.07 g of ZelecUN (STEPAN) as an internal release agent. In addition, the mixture was stirred and degassed for 1 hour under reduced pressure. After filtration through a 1 μm Teflon (registered trademark) filter, it was poured into a molding mold comprising a glass mold and a gasket. While the mold was gradually heated from 40 ° C. to 120 ° C., polymerization was performed in 20 hours. After the polymerization was completed, the resin was gradually cooled and the resin was taken out from the mold. The obtained resin was annealed at 120 ° C. for 3 hours to obtain a resin plate (thickness 5 mm).

(18)/(19)/(20)=80/10/10(モル比)   (18) / (19) / (20) = 80/10/10 (molar ratio)

Figure 0004313137
(21)
Figure 0004313137
(21)

Figure 0004313137
(22)
Figure 0004313137
(22)

Figure 0004313137
(23)
Figure 0004313137
(23)

作製例8
チオウレタン結合を有する樹脂の作製(3)
m−キシリレンジイソシアナート 37.6g、式(24)で表されるビス−2−メルカプトエチルエーテル 27.6gとジブチル錫ジクロライド 0.01g、内部離型剤としてZelecUN(STEPAN社)0.07gを加えて攪拌し、減圧下で1時間脱泡した。1μmテフロン(登録商標)フィルターにて濾過後、ガラスモールドとガスケットよりなる成型モールドに注入した。このモールドを40℃から120℃まで徐々に昇温させながら、20時間で重合を行った。重合終了後、徐々に冷却し樹脂をモールドから取り出した。得られた樹脂120℃にて3時間アニール処理し、樹脂板(厚さ5mm)を得た。
Production Example 8
Preparation of resin having thiourethane bond (3)
37.6 g of m-xylylene diisocyanate, 27.6 g of bis-2-mercaptoethyl ether represented by the formula (24), 0.01 g of dibutyltin dichloride, and 0.07 g of ZelecUN (STEPAN) as an internal release agent In addition, the mixture was stirred and degassed for 1 hour under reduced pressure. After filtration through a 1 μm Teflon (registered trademark) filter, it was poured into a molding mold comprising a glass mold and a gasket. While the mold was gradually heated from 40 ° C. to 120 ° C., polymerization was performed in 20 hours. After the polymerization was completed, the resin was gradually cooled and the resin was taken out from the mold. The obtained resin was annealed at 120 ° C. for 3 hours to obtain a resin plate (thickness 5 mm).

Figure 0004313137
(24)
Figure 0004313137
(24)

作製例9
エピチオスルフィド結合を有する樹脂の作製(1)
式(25)で表される、ビス(2,3−エピチオプロピル)ジスルフィド70.0g、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン0.014gとN,N−ジシクロヘキシルメチルアミン0.07gを加えて攪拌し、減圧下で1時間脱泡した。3μmテフロン(登録商標)フィルターにて濾過後、ガラスモールドとガスケットよりなる成型モールドに4時間かけ注入した。このモールドを30℃で10時間保温した後、30℃から80℃まで徐々に昇温し、20時間で重合を行った。重合終了後、徐々に冷却し樹脂をモールドから取り出した。得られた樹脂120℃にて3時間アニール処理し、樹脂板(厚さ5mm)を得た。
Production Example 9
Preparation of resin having epithiosulfide bond (1)
70.0 g of bis (2,3-epithiopropyl) disulfide represented by the formula (25), 0.014 g of N, N-dimethylcyclohexylamine and 0.07 g of N, N-dicyclohexylmethylamine were added and stirred. For 1 hour under reduced pressure. After filtration through a 3 μm Teflon (registered trademark) filter, it was poured into a molding mold comprising a glass mold and a gasket over 4 hours. After this mold was kept at 30 ° C. for 10 hours, the temperature was gradually raised from 30 ° C. to 80 ° C., and polymerization was carried out in 20 hours. After the polymerization was completed, the resin was gradually cooled and the resin was taken out from the mold. The obtained resin was annealed at 120 ° C. for 3 hours to obtain a resin plate (thickness 5 mm).

Figure 0004313137
(25)
Figure 0004313137
(25)

作製例10
エピチオスルフィド結合を有する樹脂の作製(2)
式(26)で表される、ビス(β―エピチオプロピル)スルフィド70.0gにトリブチルアミン0.35gを加えて攪拌し、減圧下で1時間脱泡した。3μmテフロン(登録商標)フィルターにて濾過後。成型モールドに4時間かけ注入した。このモールドを30℃で10時間保温した後、30℃から120℃まで徐々に昇温し、20時間で重合を行った。重合終了後、徐々に冷却し樹脂をモールドから取り出した。得られた樹脂120℃にて3時間アニール処理し、樹脂板(厚さ5mm)を得た。
Production Example 10
Preparation of resin having epithiosulfide bond (2)
To 70.0 g of bis (β-epithiopropyl) sulfide represented by the formula (26), 0.35 g of tributylamine was added and stirred, followed by degassing under reduced pressure for 1 hour. After filtration with a 3 μm Teflon (registered trademark) filter. The mold was poured over 4 hours. After this mold was kept at 30 ° C. for 10 hours, the temperature was gradually raised from 30 ° C. to 120 ° C., and polymerization was carried out in 20 hours. After the polymerization was completed, the resin was gradually cooled and the resin was taken out from the mold. The obtained resin was annealed at 120 ° C. for 3 hours to obtain a resin plate (thickness 5 mm).

Figure 0004313137
(26)
なお、作製例10〜14で作製した樹脂板は、後述の評価を実施する前、表面に付着した内部離形剤を除去するために、1重量%NaOH水中に20分間浸漬した後、充分水洗いを行い、室温で乾燥させた。
Figure 0004313137
(26)
The resin plates produced in Production Examples 10 to 14 were sufficiently washed with water after being immersed in 1% by weight NaOH water for 20 minutes in order to remove the internal release agent adhering to the surface before carrying out the evaluation described later. And dried at room temperature.

作製例1の粒子径10〜20nmの二酸化ケイ素20%メチルセロソルブ分散液を8.0g(固形分1.6g)(分散液にして342重量部)、合成例1の化合物を1.17g(50重量部)、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー(共栄社化学 商品名UA―306I)を1.17(50重量部)gを混合後、DMF2.0g(85.5重量部)、メチルセロソルブ3.0g(128重量部)を加えた。さらに光開始剤として2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(TMDPO)0.1g(4.3重量部)、 2−ヒドロキシ−2−メチル−1―フェニル−プロパン−1−オン(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製品ダロキュアー1173)0.1g(4.3重量部)を加え、充分攪拌しコーティング用組成物を調製し、後述の方法で評価を行った。 8.0 g (solid content 1.6 g) (342 parts by weight of the dispersion) of silicon dioxide 20% methyl cellosolve dispersion having a particle diameter of 10 to 20 nm of Preparation Example 1 and 1.17 g (50 of the compound of Synthesis Example 1) Part by weight), 1.17 (50 parts by weight) g of pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name UA-306I), and then mixed with 2.0 g (85.5 parts by weight) of DMF, methyl cellosolve 3 0.0 g (128 parts by weight) was added. Further, 0.14 g (4.3 parts by weight) of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TMDPO) as a photoinitiator, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product Darocur 1173) 0.1g (4.3 weight part) was added, it stirred well, the coating composition was prepared, and it evaluated by the below-mentioned method.

[実施例2〜9]
表1に示す組成に変えたこと以外は実施例1と同様の操作により、実施例2〜7の各組成物を調製し、後述の方法で評価を行った。
[Examples 2 to 9]
Except having changed into the composition shown in Table 1, each composition of Examples 2-7 was prepared by operation similar to Example 1, and evaluated by the method of the below-mentioned.

[比較例1]
実施例1における合成例1化合物をトリメチロールプロパントリメタクリレートに変更する以外同様の組成物を調整し、後述の方法で評価を行った。
[Comparative Example 1]
Synthesis Example 1 in Example 1 The same composition was prepared except that the compound was changed to trimethylolpropane trimethacrylate, and evaluation was performed by the method described later.

[比較例2]
実施例1における合成例1化合物をジエチレングリコールジメタクリレートに変更する以外同様の組成物を調整し、後述の方法で評価を行った。
[Comparative Example 2]
The same composition was prepared except that the compound of Synthesis Example 1 in Example 1 was changed to diethylene glycol dimethacrylate, and evaluated by the method described later.

[比較例3]
実施例1における作製例1の粒子径10〜20nmの二酸化ケイ素20%メチルセロソルブ分散液を添加しない以外同様の組成物を調整し、後述の方法で評価を行った。

ハードコート剤の評価は以下の通りに行った。
実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを作製例6〜10の樹脂板にスピンコートにて塗布し、熱風乾燥機中で、40℃1分間乾燥させた後、160W/cmタイプの高圧水銀ランプ(365nmの波長での光強度170mW/cm2)を20秒間照射し、厚み2μmのハードコート膜を形成した。なお、厚みの確認は触針式表面形状測定器(DekTakIII アルバック社製)にて行った。
[1]密着性試験
作製例6〜10で作製した樹脂板に実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを用いて作製した膜付きサンプルについて、 JIS K5400 碁盤目テープ法によった。コーティング膜付き基材表面にカッターガイド(JIS K5400規定)を用い、カッターナイフにて1mm間隔で切れ目を入れ1mm2のマス目を100個形成させる。その上へセロファン粘着テープ(JIS Z1522規定)を強く押し付け、急に引っ張った後コート被膜の残っているマス目をカウントした。
[Comparative Example 3]
A similar composition was prepared except that a 20% silicon dioxide methyl cellosolve dispersion having a particle diameter of 10 to 20 nm in Production Example 1 of Example 1 was not added, and evaluation was performed by the method described below.

Evaluation of the hard coat agent was performed as follows.
Each of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was applied to the resin plates of Preparation Examples 6 to 10 by spin coating, dried in a hot air dryer at 40 ° C. for 1 minute, and then 160 W / cm type. A high pressure mercury lamp (light intensity at a wavelength of 365 nm: 170 mW / cm 2) was irradiated for 20 seconds to form a hard coat film having a thickness of 2 μm. The thickness was confirmed with a stylus type surface shape measuring instrument (DekTakIII ULVAC).
[1] Adhesion test Samples with a film prepared using each of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 on the resin plates prepared in Preparation Examples 6 to 10 were subjected to JIS K5400 cross-cut tape method. Using a cutter guide (JIS K5400 standard) on the surface of the substrate with a coating film, cuts are made at intervals of 1 mm with a cutter knife to form 100 squares of 1 mm2. A cellophane adhesive tape (JIS Z1522 standard) was strongly pressed onto it, and after pulling it abruptly, the squares on which the coating film remained were counted.

評価点数
10:剥がれがなし
8:欠損部の剥がれが全体の5%以内
6:欠損部の剥がれが全体の5〜15%以内
4:欠損部の剥がれが全体の15〜35%以内
2:欠損部の剥がれが全体の35〜65%以内
0:欠損部の剥がれが全体の65%以上
結果は表1に載せた。
[2]鉛筆硬度試験
作製例6により得られた樹脂板の上に実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを用いて作製した膜付きサンプルについて、について、JIS−K5400に準じ、手かき法により試験をおこなった。
評価は塗膜のすり傷で評価する方法にて行い、鉛筆の固さ9H〜6Bの範囲で調べた。
結果は表1に載せた。
[3]耐擦傷性試験
作製例6により得られた樹脂板の上に実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを用いて作製した膜付きサンプルについて、0000番のスチールウール(日本スチールウール(株)製)で200gの荷重をかけ、10往復、表面を摩擦し、傷のついた程度を目視で次ぎの段階で判断した。
A:1cm×3cmの範囲に全く傷がつかない。
B:上記範囲内に1〜10本の傷がつく。
C:上記範囲内に10〜30本の傷がつく。
D:上記範囲内に無数の傷がつく。
結果は表1に載せた。
[4]耐光性試験
作製例6により得られた樹脂板の上に実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを用いて 作製した膜付きサンプルについて、ソーラーシュミレーターで200時間照射後に剥離 試験を実施し、照射前後での状態変化を調べた。
○:密着性変化なし
△:密着性わずかに低下
×:密着性大幅に低下
結果は表1に載せた。
[5]外観、透過率
作製例6により得られた樹脂板の上に実施例1〜9、比較例1〜3のそれぞれを用いて作製した膜付きサンプルについて外観を目視により、透過率を膜透過率計(島津UV2200)により400nm〜600nm間の透過率を測定した。
○:400nm〜600nm間で透過率が90%以上
△:400nm〜600nm間での透過率80〜90%
×:400nm〜600nm間での透過率80%以下
その結果、いずれも○であった。
[6]ハードコート剤の保存安定性
実施例1〜9、比較例1〜3で調製したそれぞれを褐色のサンプル瓶に入れ完全密閉し、室温で1ヶ月、4℃で6ヶ月、暗室にて静置保管し変化を調べた。
○:液のゲル化がなく、粘度変化もなし
△:液のゲル化はないが、粘度が変化した。
×:液がゲル化した。
その結果、いずれも室温で1ヶ月、4℃とも○:液のゲル化がなく、粘度変化も見られなかった。
Evaluation score 10: No peeling 8: Peeling of the defective part is within 5% of the whole 6: Peeling of the defective part is within 5-15% of the whole 4: 4: Peeling of the defective part is within 15-35% of the whole 2: Defect The peeling of the part is within 35 to 65% of the whole. 0: The peeling of the defective part is 65% or more of the whole. The results are shown in Table 1.
[2] About the sample with a film produced using each of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 on the resin plate obtained in Pencil Hardness Test Production Example 6, according to JIS-K5400 The test was conducted by the scratching method.
Evaluation was performed by a method of evaluating by scratching the coating film, and the pencil hardness was examined in the range of 9H to 6B.
The results are listed in Table 1.
[3] Scratch resistance test No. 0000 steel wool (Nippon Steel Co., Ltd.) for samples with membranes prepared on Examples 1-9 and Comparative Examples 1-3 on the resin plate obtained in Preparation Example 6. A load of 200 g was applied with Wool Co., Ltd., and the surface was rubbed for 10 reciprocations, and the degree of scratching was visually judged at the next stage.
A: There is no scratch at all in the range of 1 cm × 3 cm.
B: 1 to 10 scratches are in the above range.
C: There are 10 to 30 scratches within the above range.
D: Countless scratches within the above range.
The results are listed in Table 1.
[4] Peeling test after 200 hours of irradiation with a solar simulator for samples with films produced on the resin plate obtained in Light Resistance Test Production Example 6 using Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 The state change before and after irradiation was investigated.
◯: No change in adhesion Δ: Slightly reduced adhesion ×: Significantly reduced adhesion results are shown in Table 1.
[5] Appearance and transmittance The sample with a film prepared using each of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 on the resin plate obtained in Preparation Example 6 was visually observed to determine the transmittance. The transmittance between 400 nm and 600 nm was measured with a transmittance meter (Shimadzu UV2200).
○: 90% or more of transmittance between 400 nm and 600 nm Δ: Transmittance of 80 to 90% between 400 nm and 600 nm
X: The transmittance between 400 nm and 600 nm was 80% or less.
[6] Storage stability of hard coat agent Each of the samples prepared in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was placed in a brown sample bottle and completely sealed, and then at room temperature for 1 month, at 4 ° C for 6 months, in a dark room. The change was investigated by storing it still.
○: No gelation of the liquid and no change in viscosity Δ: No gelation of the liquid, but the viscosity changed.
X: The liquid gelled.
As a result, in all cases, at room temperature for 1 month, at 4 ° C., there was no gelation of the liquid and no change in viscosity was observed.

Figure 0004313137
Figure 0004313137

本願発明の樹脂組成物は、チオ(メタ)アクリレート化合物および無機超微粒子を必須成分とし、紫外線で硬化することにより、任意に屈折率が調節でき、耐擦傷性に優れるコート層を形成することができるため、コーティング剤や光学材料分野、より具体的には、高屈折率眼鏡レンズのハードコート、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ELディスプレイなどの反射防止用途、高密度記録光媒体の読み取り、書込み用高屈折率膜、光学フィルター等の光学部材、さらにプラスチック材料、金属材料、セラミックス材料、ガラス材料等の意匠性の向上を目的とした表面コーティング剤などの用途に有用である。   The resin composition of the present invention comprises a thio (meth) acrylate compound and inorganic ultrafine particles as essential components, and can form a coat layer that can be arbitrarily adjusted in refractive index and is excellent in scratch resistance by curing with ultraviolet rays. Therefore, it can be used for coating agents and optical materials, and more specifically, for high-refractive-index eyeglass lens hard coating, plasma display, liquid crystal display, EL display, etc. It is useful for applications such as refractive index films, optical members such as optical filters, and surface coating agents for the purpose of improving the design properties of plastic materials, metal materials, ceramic materials, glass materials and the like.

特にハードコート剤として、チオウレタン結合、エピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に対しても、密着性、硬度において優れるため、メガネレンズ、カメラ用のレンズ、光記録・再生用機器のピックアップレンズ等のハードコート剤などに広く応用することができる。   In particular, as a hard coating agent, it is excellent in adhesion and hardness even on a resin surface having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond, such as a spectacle lens, a lens for a camera, a pickup lens for an optical recording / reproducing device, etc. It can be widely applied to hard coating agents.

Claims (7)

下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。
成分(A):一般式(1)で表される化合物
成分(B):無機超微粒子
Figure 0004313137
(式中、連結基R下記式(3)、(5)、(6)のいずれかを表し、XC(=O)O(CH 基を表し、はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
Figure 0004313137
Figure 0004313137
上記式(3)、(5)、(6)中、、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、 6b は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、 は1〜2の整数、 およびn それぞれ0または1の整数を表し、n およびn は1の整数を表す)
A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
Component (A): Compound represented by general formula (1) Component (B): Inorganic ultrafine particles
Figure 0004313137
(In the formula, the linking group R 1 represents any of the following formulas (3), (5), (6) , X 1 represents a C (═O) O (CH 2 ) 2 group, and X 2 represents Independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n1 represents an integer of 1 to 4.)
Figure 0004313137
Figure 0004313137
(The above formula (3), (5), (6) in, X 4, X 5 represents an oxygen atom or a sulfur atom, X 6b represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, n 3 is 1-2 integer, and display the integer n 4 and n 7 are each 0 or 1, n 8 and n 9 are to Table 1 integer)
下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
成分(A):一般式(7a)で表される化合物Component (A): Compound represented by the general formula (7a)
成分(B):無機超微粒子Component (B): Inorganic ultrafine particles
Figure 0004313137
Figure 0004313137
(式中、連結基R(Wherein linking group R 2 は−(CHIs-(CH 2 ) 2 −S−(CH-S- (CH 2 ) 2 −を表し、R-Represents R 3 は脂環族残基を表し、XRepresents an alicyclic residue and X 6a6a はC(=O)O(CHIs C (= O) O (CH 2 ) 2 基を表し、XRepresents the group X 7 はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nEach independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1212 は1〜3の整数を表す。)Represents an integer of 1 to 3. )
下記成分(A)および(B)を組成物中に含有することを特徴とするハードコート剤。A hard coat agent comprising the following components (A) and (B) in the composition.
成分(A):一般式(7)で表される化合物Component (A): Compound represented by the general formula (7)
成分(B):無機超微粒子Component (B): Inorganic ultrafine particles
Figure 0004313137
Figure 0004313137
(式中、連結基R(Wherein linking group R 2 が式(3)で表される基を表し、XRepresents a group represented by the formula (3), and X 6 はC(=O)O(CHIs C (= O) O (CH 2 ) 1〜41-4 基、C=O基、Ph−C(CHGroup, C═O group, Ph—C (CH 3 ) 2 基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、XRepresents a group (where Ph represents a phenylene group), X 7 はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、nEach independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1010 は1〜4の整数を表し、nRepresents an integer of 1 to 4 and n 1111 は1または2の整数を表し、nRepresents an integer of 1 or 2, n 1212 は1〜3の整数を表す。)Represents an integer of 1 to 3. )
Figure 0004313137
Figure 0004313137
無機超微粒子が、金属カルコゲン化物又は金属弗化物の中から選択される1種以上を含有する平均粒径1〜200nmの超微粒子であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のハードコート剤。The inorganic ultrafine particles are ultrafine particles having an average particle diameter of 1 to 200 nm containing one or more selected from metal chalcogenides or metal fluorides. Hard coat agent. 成分(A)、(B)に加え、成分(C)として、(メタ)アクリロイル基を2つ以上有するウレタン系(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のハードコート剤。In addition to components (A) and (B), the component (C) contains a urethane (meth) acrylate having two or more (meth) acryloyl groups. The hard coat agent described. チオウレタン結合またはエピチオスルフィド結合を有する樹脂表面に塗布、紫外線線硬化した膜厚2μmの硬化膜が、A cured film with a film thickness of 2 μm applied to the surface of a resin having a thiourethane bond or an epithiosulfide bond and cured with ultraviolet rays,
[1]碁盤目テープ法剥離試験(JIS−K5400)が評価点数6以上[1] Cross-cut tape method peel test (JIS-K5400) has an evaluation score of 6 or more
[2]鉛筆引っ掻き試験値(JIS−K5400)が3H以上[2] Pencil scratch test value (JIS-K5400) is 3H or more
であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の紫外線硬化性ハードコート剤。The ultraviolet curable hard coat agent according to any one of claims 1 to 5, wherein
請求項1〜6のいずれかに記載のハードコート剤を含有するレンズ。The lens containing the hard-coat agent in any one of Claims 1-6.
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