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JP4270604B2 - 画像入力装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は対象物の光学像を入力する画像入力装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリント基板等の電子部品の傷、シミ、汚れ等の欠陥を検出する外観検査装置において、見落としの無い検出のために必要なことは、より良い光学画像を入力することである。この場合、より良い光学画像としては、コントラストの高いことが求められている。例えば特開平8−219716号公報は、任意の色での照明が可能な照明装置を有する入力画像コントラスト処理装置を開示している。この処理装置では、上述の照明装置で照明された電子部品等の対象物の画像を撮像手段で撮像し、得られた画像データを所定の基準値と比較して基準値以下の場合には、背景に対して注目部分(電子部品上の基準マークなど)のコントラストが高くなるように、照明制御装置によって照明装置からの照明光の色を変化させている。このようにして常に背景に対して注目部分のコントラストが高い画像を得るようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した特開平8−219716号公報では、対象物の種類の異なる複数の欠陥に対応して、各々の欠陥を観察するのに最適なスペクトル特性を持つようなスペクトル変換手段を設計することには着目していないので外観検査にとって有効な情報を効率良くかつ高速に得ることができなかった。
【0004】
また、対象物の反射輝度の個体差に対応して、各々が個体差が最小になる最適なスペクトル特性を持つようにスペクトル変換手段を設計することには着目していないので、対象物の輝度の個体差を低減できる最適な画像入力条件を製造ロット単位で適応的に設定することができなかった。
【0005】
本発明の画像入力装置はこのような課題に着目してなされたものであり、その目的とするところは、外観検査によって有効な情報を効率良くかつ高速に得ることができる画像入力装置を提供することにある。
【0006】
また、本発明の他の目的は、対象物の輝度の個体差を低減できる最適な画像入力条件を製造ロット単位で適応的に設定することができる画像入力装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の第1の態様に係る画像入力装置は、検査対象物上の欠陥を検出する外観検査用画像入力装置において、前記検査対象物を照明する照明光を発生する照明光発生手段と、前記照明光発生手段により照射された前記検査対象物の光学像を入力する画像入力手段と、前記画像入力手段から入力された画像を処理するプロセッサと、前記照明発生手段又は画像入力手段の少なくとも一方に配置され、前記検査対象物の正常部位と欠陥部位とのコントラストが大きく、かつ前記正常部位のS/N比が高いスペクトル特性を有するように前記欠陥の種類ごとに設計された複数の色フィルタと、
前記検査対象物の正常部位と欠陥部位における分光スペクトルを取得する分光スペクトル取得手段と、前記分光スペクトル取得手段により取得された前記正常部位と前記欠陥部位の各分光スペクトルを計測するスペクトル算出手段と、前記スペクトル算出手段の計測結果に基づいて前記欠陥の種類に最適な色フィルタを決定し、前記欠陥の種類に応じて前記複数の色フィルタを変換するスペクトル変換手段と、を具備する
【0008】
また、本発明の第2の態様に係る画像入力装置は、本発明の第1の態様に係る画像入力装置において、前記色フィルタは、前記欠陥の種類の数だけ用意される複数のバンドパス色フィルタで構成され、前記スペクトル算出手段は、スペクトルの違いで分類される複数の欠陥の種類ごとに単一波長バンドのスペクトルを算出する。
【0009】
また、本発明の第3の態様に係る画像入力装置は、本発明の第1の態様に係る画像入力装置において、前記プロセッサは、前記スペクトル算出手段により計測された検査対象物のスペクトルをモニタリングし、計測された複数のサンプルを基に個々のサンプルの輝度の差が小さくなる色フィルタを決定する。
【0016】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の画像入力装置が適用される外観検査装置の概略を説明する。本実施形態では、第1の特徴として、対象物の種類の異なる複数の欠陥に対応して、対象物の正常部位と欠陥部位とのコントラストが高く、かつ正常部位のS/Nが高く観察されるための最適なスペクトル特性を持つスペクトル変換手段を個々に設計してこれを対象物の外観検査に用いることにより、外観検査によって有効な情報を効率良くかつ高速に得ることを特徴としている。この場合、本実施形態では、上記最適なスペクトル特性を学習モードでのスペクトル解析により算出する。ここで学習モードとは最適スペクトルを算出するまでの過程をいい、算出された最適スペクトルに基づいて画像入力を行う過程を検査モードと呼ぶ。学習モードについてはすでに提出した本出願人による特願平09−198514号明細書に詳細に記述されている。
【0017】
また、第2の特徴として、個々の製品ごとに反射輝度の異なる検査対象としての対象物の検査を行なうにあたって、特願平09−198514号明細書と同様の学習モードで個々の製品が低い輝度差でかつ高いS/Nで観察されるためのスペクトルを算出してスペクトル変換手段を設計することにより、対象物の輝度の個体差を低減できる最適な画像入力条件を製造ロット単位で適応的に設定できるようにしたことを特徴とする。
【0018】
以下に、上記した第1の特徴について具体的に説明する。複数の色の異なる欠陥をコントラスト良く撮像するために、各欠陥に対して最適設計された単色フィルタを複数用意することが必要である。このため、まず、学習モードにおいて正常部位と欠陥部位の学習サンプルセットを用意し、反射スペクトルを計測する。それらを統計的に解析して正常部位と欠陥部位のコントラストが高くなり、しかも正常部位が高いS/Nで観察されるための単一スペクトルバンドを、特願平09−198514号明細書に記載の原理に従って算出する。それを欠陥の種類数だけ繰り返し、各欠陥に対応した単色フィルタの分光スペクトル特性を求める。
【0019】
これを実現するための第1の構成として、照明光源の後段に回転式フィルタホルダを設け、繰り返し撮像をする際に適当な色フィルタを利用できるように構成することにより、装置を簡便かつ汎用的に構成する。
【0020】
また、第2の構成として、光学系の結像面にラインセンサを複数並べ、各センサの入力面に色フィルタを装着することにより、1スキャンで複数の欠陥に対応する複数の画像を入力する。
【0021】
次に、上記した第1の特徴の変形例について説明する。この変形例では、複数の色の異なる欠陥をコントラスト良く撮像するために、クラス数が3以上のスペクトルデータに対する統計識別理論を応用してフィルタを設計する。このため、まず、学習モードにおいて正常部位と複数の欠陥部位の学習サンプルセットをそれぞれ用意し、反射スペクトルの統計的解析を行う際に、多クラス分類の理論を応用する。つまり、特願平09−198514号明細書では注目部位と非注目部位という具合に2クラスの分類に関する考え方しか示していないが、それを任意数の多クラス分類に拡張された原理を利用することにより、色の異なる複数の欠陥サンプルを分類する特徴空間を定義するのに必要な色フィルタセットを求め、応用する。
【0022】
これを実現するための構成として、グレーティングと液晶フィルタを組み合わせて任意のスペクトル照明を生成できる光源装置と入力画像間の演算が可能なプロセッサを用いる。このことは特願平09−198514号明細書に記載されている。
【0023】
次に、上記した第2の特徴について具体的に説明する。ここでは、検査対象となる個々の製品の反射輝度が均等になる波長帯を調べて、画像入力部に応用する。
【0024】
工業製品には製造公差の影響で製品ごとに反射輝度の個体差が生じるが、極端に輝度が異なっても不良品扱いされない場合がある。ところが一般に輝度が異なると自動検査には不都合が生じるため、観測画像は同じ輝度レベルで入力されるのが望ましい。そこで製品の反射スペクトルの解析から輝度の個体差が最も小さく、しかも高いS/Nで撮像可能な波長帯域を求める。
【0025】
これを実現するために適した構成として、装置を学習装置と検査装置とから構成し、両者をインラインで接続する。まず、製造ロット単位で製品を用意し、学習装置に所定量の製品を流しながら反射スペクトルを計測し、最適な色フィルタの分光特性を決定する。そして検査装置において同ロットの製品を流す際に、決定された最適なスペクトル特性あるいはそれに近い特性を有する色フィルタを利用して画像入力を行う。
【0026】
以下に、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
まず、第1実施形態について説明する。図1(A)、(B)に検査対象物の例を2つ示す。各図は同種の検査対象物の中から正常部位上に欠陥部位が存在する部分を切り出してきたものである。図1(A)では基板150の正常部位151−1上に赤色系の反射スペクトルを持つ欠陥152が存在し、図1(B)では正常部位151−2上に緑色系の反射スペクトルを持つ欠陥153が存在している。ただし、正常部位151−1,151−2は同じ材質であり、反射スペクトルも同じであるとする。
【0027】
本実施形態はこのように互いに異なる反射スペクトルを持つ欠陥部位が存在する対象物を検査する際に、正常部位と各欠陥部位とをコントラストよく、かつ正常部位を高いS/Nで観察するために、適切な中心波長と帯域幅(バンド幅)を有する複数個の色フィルタと白色光源を用いる。
【0028】
複数個の色フィルタを設計するために、白色光照明下で対象物の正常部位と欠陥部位における反射スペクトルをそれぞれ取得し、これらの反射スペクトルを統計的に解析して、正常部位と欠陥部位とのコントラストが高く、かつ正常部位のS/Nが高く観察されるための最適なスペクトルを算出する。その後、設計した複数個の色フィルタを用いて画像入力を行う。欠陥部位における反射スペクトルは欠陥種類ごとに異なるものを対象とする。
【0029】
図2は学習モード時の画像入力装置の全体構成を示す図であり、特願平09−198514号明細書における図1に対応している。図2に示す画像入力装置は、照明光を発生する照明光発生手段(スペクトル光源)100と、照明光のスペクトルを変換するスペクトル変換手段101と、このスペクトル変換手段101によってスペクトルが変換された照明光を対象物142に導く照明光学系140と、前記照明された対象物142からの光学像の光路の向きを切り替える可動式ミラー149と、前記照明された対象物142の画像を結像させる第1の結像光学系146と、この第1の結像光学系146によって結像された対象物142の複数の部分の像における分光スペクトルを得る分光スペクトル取得手段147と、この得られた複数の分光スペクトルに基づいて、正常部位に対して欠陥部位が高いコントラストで観察され、しかも正常部位が高いS/Nで観察されるためのスペクトルを算出するスペクトル算出手段としてのプロセッサ148と、前記照明された対象物142の画像を結像させる第2の結像光学系144と、この第2の結像光学系144によって結像された前記対象物142の光学像を入力する画像入力手段145とからなる。
【0030】
また、図3は図2に示すスペクトル変換手段101の内部構成を示す図であり、光源850から出力された白色光をコリメートするコリメートレンズ851と、コリメートされた白色光を所定のスペクトル光に変換するバンドパス色フィルタ852と、前記バンドパス色フィルタ852を通過した前記スペクトル光を入射端側コネクタ854に集光させるための集光レンズ853とを備えている。840はライトガイドである。
【0031】
ここで、学習モードにおいて、最初に図1(A)に示すような正常部位151−1と欠陥部位152とをコントラストよく、かつ正常部位151−1を高いS/Nで観察することを考える。ここでは図1(A)に示すような対象物を図2の対象物142とみなして、照明光発生手段100で発生した白色光を照明光学系140を通して照射する。まず正常部位151−1からの反射光を可動式ミラー149にて結像光学系146に導き、分光スペクトル取得手段147の像面に反射光を結像させ、分光スペクトル取得手段147によって正常部位151−1からの反射スペクトルを測定し、そのデータをプロセッサ148に蓄える。同様にして欠陥部位152からの反射スペクトルを測定しプロセッサ148に蓄える。こうして蓄えた正常部位151−1と欠陥部位152の反射スペクトルから特願平09−198514号明細書に記載の第3実施形態と同様の方法で、正常部位151−1と欠陥部位152とをコントラストよく、かつ正常部位151−1を高いS/Nで観察するために最適なスペクトル特性を持つ色フィルタF1 を設計する。
【0032】
例えば、正常部位151−1と欠陥部位152において取得した反射スペクトルが図4に示すようなものであった場合、欠陥部位152に対する正常部位151−1の強度比は図5に示すようになり、図6には色フィルタの半値幅λh の変更に伴う正常部位151−1の観測強度スペクトルを示す。これらの図から正常部位151−1と欠陥部位152のコントラストが大きく、かつ正常部位151−1のS/Nが高くなる色フィルタは中心波長λ6 、半値幅40nmのものが適していると決定できる。
【0033】
また、図1(B)に示す欠陥部位153に対しても同様のことを行い、色フィルタF2 を設計する。さらに、図示した以外の欠陥に対しても同様のことを行い、欠陥種類数Nに応じて色フィルタもFN まで設計する。
【0034】
なお、上記の説明では欠陥種類ごとに反射スペクトルは異なるものと仮定したが、もちろん欠陥種類は異なっていても、その反射スペクトルは類似している場合もあり、そのような場合には1つの色フィルタで複数の欠陥に対応できることは明らかである。
【0035】
次に、検査モードの詳細を説明する。図7は検査モードにおける画像入力装置の全体構成を示す図であり、照明光を発生する照明光発生手段910と、照明光発生手段910の後段にあり照明光発生手段910から発生した照明光のスペクトルを変換するスペクトル変換手段911と、スペクトル変換手段911によって変換された照明光を対象物903に導く照明光学系912と、照明光学系912によって照明された対象物903の画像を結像させる結像光学系914と、対象物903の画像を入力するための撮像装置915と、撮像装置915から入力された画像を処理するプロセッサ906とからなり、さらにスペクトル変換手段911の内部は照明光発生手段910から発生した照明光をコリメートするレンズ911−01と、コリメートされた照明光を再び集光するレンズ911−02と、図8に示すように複数の色フィルタを円周上に均等にはめ込める回転フィルタホルダ911−03と、回転フィルタホルダ911−03が接続されているモータ911−04と、回転フィルタホルダ911−03にはめ込まれた任意の色フィルタの中心がレンズ911−01と911−02の中心と一致するようにモータ911−04を制御するプロセッサ906とからなる。
【0036】
以下に上記した図7の構成の作用を説明する。
図7に示す対象物903は図9に示すような正常部位51の中に赤色系の欠陥部位52と緑色系の欠陥部位53が存在する物とする。学習モードで設計した色フィルタF1 は正常部位51と赤色系の欠陥部位52とのコントラストを高くするのに最適なスペクトル特性を持ち、色フィルタF2 は正常部位51と緑色系の欠陥部位53とのコントラストを高くするのに最適なスペクトル特性を持つものとする。その他の色フィルタは正常部位とこれらの欠陥のコントラストを改善する効果はないものとする。
【0037】
学習モードで設計したF1 ,F2 及びそれ以外の色フィルタを図8に示すように回転フィルタホルダ911−03にはめ込み、スペクトル変換手段911にセットし、色フィルタF1 の中心をレンズ911−01と911−02の光軸に一致させておく。照明光発生手段910から発生した白色光は色フィルタF1 によってスペクトル変換され、照明光学系912を通って対象物903を照明する。このとき撮像される画像は例えば図10に示すようになり、赤色系の欠陥部位52の色が濃くなり、緑色系の欠陥部位53の色は薄くなる。ここでは図10のハッチングの幅が狭いほど濃度が高いものとする。このようにして入力された画像を使用すれば、より赤色系の欠陥52を検出することが容易となる。
【0038】
次にプロセッサ906からモータ911−04に指令を送り色フィルタF2 の中心をレンズ911−01と911−02の光軸に一致させる。照明光発生手段910から発生した白色光は先程と同じように色フィルタF2 によってスペクトル変換され、照明光学系912を通って対象物903を照明する。このとき撮像される画像は図11に示すようになり、緑色系の欠陥部位53の色は濃くなり、赤色系の欠陥部位52の色は薄くなる。こうして入力された画像を使用すれば、より緑色系の欠陥を検出することが容易となる。
【0039】
上記したように第1実施形態では、対象物の種類の異なる複数の欠陥に対応して、各々が欠陥を観察するのに最適なスペクトル特性を持つ1つあるいは複数の色フィルタを設計し、これを用いて画像入力を行うようにしたので、外観検査にとって有効な情報を効率よくかつ高速に得ることができる。また、学習モードであらかじめ設定したスペクトル条件を固定的に利用して撮像できるので、同種類の大量の検査対象を高速に処理する装置にとって有利である。また、色フィルタを対応する欠陥種類数だけ用意するので、欠陥の種類によって検出性能を相殺し合うことがなく、常に最適な条件で各種の欠陥を検出できる。
【0040】
次に本発明の第1実施形態の第1の変形例を説明する。第1の変形例は第1実施形態の応用であり、光学系の結像面にラインセンサを複数並べ、各センサの入力面に第1実施形態と同様にして求めた各色フィルタを装着したことを特徴とする。
【0041】
図12は第1の変形例の全体構成を示している。すなわち、照明光を発生する照明光発生手段1010と、この照明光発生手段1010から発生した白色光を対象物1003を照明するように導く照明光学系1012と、対象物1003からの反射光像を撮像する撮像装置1015と、この撮像装置1015のスキャンレートに合わせて対象物1003を移動させるステージ1016と、対象物1003と撮像装置1015の間に設けられて対象物1003からの反射光を撮像装置1015の入力面に結像する結像光学系1014と、撮像装置1015によって撮像された画像をメモリに取り込んで処理するプロセッサ1006とからなる。
【0042】
図13は撮像装置1015の受光面を図12において下から眺めた図であり、2個のラインセンサ1015−1及び1015−3が並置されており、各ラインセンサ1015−1、1015−3の入力面には各々色フィルタ1015−02、1015−04が装着されている。色フィルタ1015−02及び1015−04は、第1実施形態における学習モードでそれぞれ異なる欠陥種類に対応して設計されたスペクトル特性を持つ。
【0043】
上記した構成において、照明光発生手段1010から発生した白色光は、照明光学系1012を通って対象物1003を照明する。対象物1003からの反射光は結像光学系1014によって撮像装置1015の受光面に結像され、撮像装置1015によって撮像される。
【0044】
このとき、対象物1003からの反射光は色フィルタ1015−02及び1015−04によってそれぞれスペクトル変換され、例えば、ラインセンサ1015−01によって撮像される画像は図10のようになり、ラインセンサ1015−03によって撮像される画像は図11のようになる。こうして得られた複数の画像はプロセッサ1006に送られて処理される。
【0045】
このように結像光学系1014の結像面に複数のラインセンサ(ここではラインセンサ1015−1、1015−3)を並べ、各ラインセンサ1015−1、1015−3の入力面に学習モードによりその透過スペクトルが設計された色フィルタを装着するようにしたので、1スキャンで複数の欠陥に対応する複数の画像を入力できる。これによって、画像の入力時間を大幅に短縮することができ、大量な検査対象を高速に処理する装置にとって有利である。
【0046】
次に本発明の第1実施形態の第2の変形例を説明する。第2の変形例では、上記した第1実施形態と同様に、反射スペクトルの異なる複数の欠陥種を検出する際にコントラストやS/Nに優れた画像を観測するのに最適な分光特性を算出し、その特性を実現するフィルタを用いて撮像を行う構成に関する。ここでは、特願平09−198514号明細書に記載のコントラスト拡張の理論では注目部位と非注目部位という具合に2クラスの分類に関する考え方しか示していないが、それを2以上の任意数の多クラス分類に拡張された原理を利用することにより、色の異なる複数の欠陥サンプルを分類する特徴空間を定義するのに必要な色フィルタセットを求めるものである。つまり、正常部位に存在する2種類のスペクトルの異なる欠陥を検出するためには3クラスのスペクトルを識別することが課題となるが、任意のクラス数に対する一般的な識別理論を応用すればそのように識別すべき欠陥数が増えても同様な方法に従って色フィルタを設計できる。
【0047】
第2の変形例の構成は図2の構成と同様である。学習モードでは、上記した第1実施形態に記載した方法と同様に複数種の欠陥サンプルの反射スペクトルを計測する。そして検査モードでは学習モードで算出された最適な照明光の分光特性が複数の色バンド特性の組合わせにより実現され、入力された各色バンド画像間の演算処理により欠陥領域の識別が行われる。2以上の任意のクラス数に対する統計的分類手法を色フィルタの設計に応用する方法の例は、本発明人らによる特開平05−093654号公報に詳述してある。つまり、この特開平05−093654号公報では、2以上の任意数のクラスに対して、Hotering Trace Criterion (HTC)と呼ばれる統計評価基準を最大化するベクトルセットをクラスの分離に適した特徴空間として求める手法を応用することにより、複数種のスペクトルを識別するのに適したベクトルセットを求め、それらと等価な分光特性に従って画像入力を実現する方法を示している。
【0048】
つまり、観測スペクトルは通常波長に対してサンプリングされたディジタルデータとして入力されるので、観測スペクトルを各波長成分で構成される多次元空間上のベクトルとして定義した場合に、各スペクトルの分離度を示す統計的指標であるHTCを最大にする特徴空間を、各波長成分の線形結合により識別ベクトルセットとして算出する。
【0049】
この理論によればクラス数kの分類に対してk−1個のベクトルセットが算出される。ただし、一般に個々のベクトルは正負の成分を有するが、画像情報は常に正値となる光強度分布として検出する必要があるので、正負の成分スペクトルを分けて入力する必要がある。そのため、装置上はベクトル数×2の色バンド特性を用いて個々の成分画像を入力する。
【0050】
例えば、欠陥種類数が2で正常部位と併せて3クラスのスペクトル識別を行う場合はクラス識別のベクトルセットが2つ求められるので、最大4つの色バンド構成による画像を入力する必要がある。さらに、それらベクトルセットで構成される特徴空間を構成するためには、入力された色バンド成分画像間で線形演算、つまり積和演算を行う。正負のスペクトル成分を有する画像データの構成法に関する具体的手順は、特願平09−198514号明細書に記載されている通りである。
【0051】
なお、入力画像のS/Nを向上させるために、各色バンド画像は照明光強度を強くするなどして十分S/Nの良い状態で撮像するようにすればよい。以上のような手法を実践すれば、入力画像における各画素は例えば図14に示すように特徴空間内でクラス分類される。図14において、もしベクトル1に相当する分光特性を有する色フィルタしか用いないとしたら、正常部位と欠陥領域の分離はできるが、欠陥1と2の分離は難しいと思われる。しかし、ベクトル2の特性を有する色フィルタを追加することにより欠陥の種類間でも容易に分類できることになる。
【0052】
上記した第2の変形例によれば、任意数のスペクトルの異なる欠陥を正常部位を含めて相対的に分離・識別するのに最適な画像情報を入力することができる。従って、単に欠陥領域を抽出するに限らず、その欠陥種を正確に特定するのに有用なデータを検査時に簡便に入力することができる。加えて、多バンドの画像を入力するのでS/Nが有利になる。
【0053】
以下に本発明の第2実施形態を説明する。検査の対象となる工業製品には製造公差の影響で製品ごとに反射輝度の個体差が生じるが、極端に輝度が異なっても不良品扱いされない場合がある。ところが一般に輝度が異なると自動検査には不都合が生じるため、観測画像には同じ輝度レベルで入力されるのが望ましい。そこで第2実施形態では、製品の反射スペクトルの解析から輝度の個体差がもっとも小さく、しかも高いS/Nで撮像可能な波長バンドを求めることを特徴とする。
【0054】
図15は本発明の第2実施形態の全体構成を示す図である。本構成は学習装置1100と検査装置1200とからなり、両者がインライン接続されている。学習装置1100は、照明光を発生する照明光発生手段1110と、この照明光発生手段1110からの照明光を導き製品を照明する照明光学系1112と、製品からの反射光のスペクトルを測定するスペクトル計測装置1120と、製品とスペクトル計測装置1120との間に配置されて製品からの反射光をスペクトル計測装置1120の入力面に結像させる結像光学系1114と、スペクトル計測装置1120で検出された光強度信号を受信し処理するプロセッサ1106とからなる。
【0055】
一方、検査装置1200は照明光を発生する照明光発生手段1210と、照明光発生手段1210からの照明光のスペクトルを変換するスペクトル変換手段1211と、このスペクトル変換手段1211を通った照明光を導き製品を照明する照明光学系1212と、製品からの反射光像を撮像する撮像装置1215と、製品と撮像装置1215との間に設けられ製品からの反射光を撮像装置1215の入力面に結像させる結像光学系1214と、撮像装置1215で撮像された画像信号を処理して製品の良、不良を判定するプロセッサ1206とからなる。
【0056】
さらに本構成は、学習装置1100における製品を製造ロット単位でセットできるカセット1301と、カセット1301から製品を取り出して照明光学系1112の下に載置するローダ1311と、製品を照明光学系1112の下から取り出して一旦蓄えるカセット1302と、カセット1302から製品を取り出して検査装置1200側の照明光学系1212の下に載置するローダ1312と、不良品を蓄える不良品用カセット1303と、良品を蓄える良品用カセット1304と、プロセッサ1206によって判定された良、不良の判定に従って製品を不良品用カセット1303、もしくは良品用カセット1304に振り分けるアンローダ1313も備えている。また、学習装置1100側のプロセッサ1106と、検査装置1200側のプロセッサ1206はオンラインで接続されており、学習装置1100側のプロセッサ1106で学習した内容は即座に検査装置1200側のプロセッサ1206に伝わるようになっている。
【0057】
以下に上記した構成の作用について説明する。まず学習装置1100について説明する。ローダ1311はカセット1301から製品を取り出し照明光学系1112の下に載置する。一方照明光発生手段1110から発生した照明光は照明光学系1112を通って製品を照明する。前記製品から反射した反射光は結像光学系1114によってスペクトル計測装置1120の入力面に結像される。反射光のスペクトルはスペクトル計測装置1120により検出され、検出したスペクトル信号はプロセッサ1106に送られモニタリングされる。そしてそのスペクトルを検出された製品はカセット1302にアンロードされ蓄えられる。これを各製品について繰り返し、各製品のスペクトルのモニタリングを続ける。このようにして計測された複数のサンプルのスペクトルを元に個々のサンプルの輝度の差が小さくなり、しかも高いS/Nで観測するための最適な色フィルタを決定する。
【0058】
次に検査装置1200側の構成の作用について説明する。プロセッサ1206は学習装置1100側のプロセッサ1106から最適な色フィルタ情報を受け取り、スペクトル変換手段1211内部の色フィルタを交換する。次にローダ1312はカセット1302に蓄えられている製品を取り出し、照明光学系1212の下に載置する。そして照明光発生手段1210から発生した照明光はスペクトル変換手段1211によって最適なスペクトルに変換され、照明光学系1212によって製品を照明する。
【0059】
製品から反射した光学像は結像光学系1214によって撮像装置1215の入力面に結像され撮像される。撮像装置1215によって撮像された光学像はプロセッサ1206に送られ、処理されて、その製品の良・不良を判定する。判定が終了したらアンローダ1313はその判定に従って製品を不良品用カセット1303もしくは良品用カセット1304にアンロードする。これをカセット1302に蓄えられている製品全てについて行い良品、不良品に仕分けする。
【0060】
上記した第2実施形態によれば、学習から検査までのプロセスを製造ロットごとに行うことによって、輝度の個体差を低減できる最適な画像入力条件を製造ロット単位で適応的に設定することができる。
【0061】
なお、上記した第2実施形態では検査装置を1台として説明したが、複数台設けて平行して検査を行うようにしてもよい。また、カセット1301に蓄えられた製造ロット全てではなく、適当数の製品を抜き取って、抜き取ったものについてのみ検査を行うようにしてもよい。
【0062】
さらに、上記した第1、第2実施形態では学習モードを用いて色フィルタを設計したが、これに限定されることはなく、他の従来知られている手法を用いてもよい。
【0063】
【発明の効果】
本発明によれば、外観検査によって有効な情報を効率良くかつ高速に得ることができる画像入力装置を提供することができる。
また、本発明によれば、対象物の輝度の個体差を低減できる最適な画像入力条件を製造ロット単位で適応的に設定することができる画像入力装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の画像入力装置において用いられる検査対象物の例を示す図である。
【図2】本発明の第1実施形態における学習モード時の画像入力装置の全体構成を示す図である。
【図3】図2に示すスペクトル変換手段の内部構成を示す図である。
【図4】対象物の正常部位と欠陥部位とにおいて取得された反射スペクトルを示す図である。
【図5】対象物の欠陥部位に対する正常部位の強度比を示す図である。
【図6】色フィルタの半値幅λh の変更に伴う正常部位の観測強度スペクトルを示す図である。
【図7】本発明の第1実施形態の検査モード時の画像入力装置の全体構成を示す図である。
【図8】回転フィルタホルダに複数の色フィルタをはめ込んだ様子を示す図である。
【図9】正常部位の中に赤色系の欠陥部位と緑色系の欠陥部位が存在する対象物の一例を示す図である。
【図10】色フィルタF1 によりスペクトル変換された白色光を対象物に照明したときに得られる画像を示す図である。
【図11】色フィルタF2 によりスペクトル変換された白色光を対象物に照明したときに得られる画像を示す図である。
【図12】本発明の第1実施形態の第1の変形例の全体構成を示す図である。
【図13】図12に示す撮像装置の受光面を下から眺めた図である。
【図14】入力画像における各画素を第1実施形態の第2の変形例の手法を用いてクラス分類した図である。
【図15】本発明の第2実施形態の全体構成を示す図である。
【符号の説明】
100…照明光発生手段、
101…スペクトル変換手段、
140…照明光学系、
142…対象物、
144…第2の結像光学系、
145…画像入力手段、
146…第1の結像光学系、
147…分光スペクトル取得手段、
148…プロセッサ、
149…可動式ミラー、
903…対象物、
906…プロセッサ、
910…照明光発生手段、
911…スペクトル変換手段、
911−01…レンズ、
911−02…レンズ、
911−03…回転フィルタホルダ、
911−04…モータ、
912…照明光学系、
914…結像光学系、
915…撮像装置。

Claims (3)

  1. 検査対象物上の欠陥を検出する外観検査用画像入力装置において、
    前記検査対象物を照明する照明光を発生する照明光発生手段と、
    前記照明光発生手段により照射された前記検査対象物の光学像を入力する画像入力手段と、
    前記画像入力手段から入力された画像を処理するプロセッサと、
    前記照明発生手段又は画像入力手段の少なくとも一方に配置され、前記検査対象物の正常部位と欠陥部位とのコントラストが大きく、かつ前記正常部位のS/N比が高いスペクトル特性を有するように前記欠陥の種類ごとに設計された複数の色フィルタと、
    前記検査対象物の正常部位と欠陥部位における分光スペクトルを取得する分光スペクトル取得手段と、
    前記分光スペクトル取得手段により取得された前記正常部位と前記欠陥部位の各分光スペクトルを計測するスペクトル算出手段と、
    前記スペクトル算出手段の計測結果に基づいて前記欠陥の種類に最適な色フィルタを決定し、前記欠陥の種類に応じて前記複数の色フィルタを変換するスペクトル変換手段と、
    を具備することを特徴とする画像入力装置。
  2. 前記色フィルタは、前記欠陥の種類の数だけ用意される複数のバンドパス色フィルタで構成され、前記スペクトル算出手段は、スペクトルの違いで分類される複数の欠陥の種類ごとに単一波長バンドのスペクトルを算出することを特徴とする請求項1記載の画像入力装置。
  3. 前記プロセッサは、前記スペクトル算出手段により計測された検査対象物のスペクトルをモニタリングし、計測された複数のサンプルを基に個々のサンプルの輝度の差が小さくなる色フィルタを決定することを特徴とする請求項記載の画像入力装置。
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