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JP4198234B2 - アルデヒド及びケトン又はそれらの誘導体の製造方法、x線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムの製造方法及びx線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウム触媒 - Google Patents

アルデヒド及びケトン又はそれらの誘導体の製造方法、x線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムの製造方法及びx線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウム触媒 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウム触媒の存在下に、アルデヒド及びケトン又はこれらの誘導体をアセタール又はエノールエーテル又はアセタールの形で形成させつつ、ヒドロキシル基を有する化合物をアルキン又はアレンに付加する方法に関する。さらに本発明は、珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムの新規製造法及びそれによって得られた触媒に関する。
【0002】
ヒドロキシル基を有する化合物のアルキン又はアレンへの付加は、ほぼ例外的に、溶解した均一触媒、例えば酸、塩基及び遷移金属錯体を用いて行なわれる(Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, 6/3巻、233頁、90頁、5/3a巻、738頁、6/1d巻、136頁及び7/a巻、816頁参照)。
【0003】
酸触媒は、多くの場合、活性化された電子の多いアルキン(例えばアセチレンエーテル、R−C≡C−OR′、アセチレンチオエーテル、R−C≡C−SR′及びアセエチレンアミン、R−C≡C−NR′2)への付加に限定されている。
【0004】
アルコールは、液相中で塩基触媒処理(KOH又はアルコラートの存在下)により、活性化されていないアルキンに付加することもできる。これは極めて普及した方法である;しかしこの反応は高い温度及び圧力を必要とし、空時収量は比較的小さい。アルコールの塩基触媒処理によるビニル化のためには、代表的には約160℃及び18〜20バールの圧力で6〜10時間の滞留時間を必要とする。
【0005】
また前記の付加は、液相中での遷移金属錯体によっても触媒されうる。アルコールの付加のためには、特に水銀(II)塩又は金(I)塩が適当であるが、他方、カルボン酸及びフエノールの付加のためには、亜鉛塩及びカドミウム塩が好ましい。
【0006】
アセチレンへのカルボン酸(特に酢酸及びプロピオン酸)の付加は、気相中で、触媒としての表面積の大きい担体上の相応のカルボン酸亜鉛[並びにスイス国特許第239752号明細書による塩基性カルボン酸亜鉛]の存在下に行なうこともできる。
【0007】
最後に、東独国特許第265289号明細書中には活性炭又はシリカゲル上の酸化亜鉛、又、東独国特許第267629号明細書中には活性炭又はシリカゲル上の硝酸亜鉛の存在下に200℃よりも高い温度で気相中でのプロピン又はプロパジエンへのメタノールの付加もすでに記載されている。
【0008】
従来の技術水準によるこれらすべての方法には欠点がある。これらの方法には、限られた適用分野があるにすぎないか又は塩基触媒付加のように、安全性の問題が生じかねない高い圧力及び温度を必要とするかあるいは空時収量が僅かである。溶解した均一遷移金属触媒は、少数回の作業周期の後には失活してしまうことが多く、また元に戻すことが困難である。アルキン又はアレンへの付加のための不均一触媒は、従来はまれにしか記載されなかった。活性炭上のカルボン酸亜鉛又はカルボン酸カドミウムは、アセチレンへのカルボン酸(例えば酢酸又はプロピオン酸)の付加を触媒するにすぎない。活性炭又はシリカゲル上の酸化亜鉛をベースとする上記の触媒(DD265289)は、なるほど、プロピン又はプロパジエンへのアルコール(メタノール又はエタノール)の付加を良好な選択率(90〜96%)をもって触媒することはできるが、触媒活性は比較的小さく、必要とする反応温度は高くかつ接触時間は長く、このために触媒は急速に失活してしまう。活性炭又はシリカゲル上の硝酸亜鉛は、東独国特許第267629号明細書中で適用された200℃を超える温度でもほぼ酸化亜鉛よりも小さい活性程度であり、また選択率ははるかに小さい(最大70%)。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
従って、アルキン、アレン又はこれらの混合物へのヒドロキシル基を有する化合物の付加のための、できるだけ低い温度、すなわち200℃未満の温度で活性及び選択率を有する不均一触媒を提供するという課題が生じた。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、本発明により、式I又はII:
【0011】
【化3】
Figure 0004198234
【0012】
[式中R1は水素又は脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族又は複素環式基又はアシル基を表し、この際これらの基は、アセチレン又はアレンと反応しない他の置換基を有していてもよく、R基は相互に独立的に水素又は脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族又は複素環式の基を表し、これらの基は相互に結合して1つの環を形成していてもよく、mは0又は1を表す]で示される化合物を、気相中で高められた温度で、元素周期表の12族の元素の無機塩を珪酸に含浸させることによって得られる不均一触媒の存在下で、式IV又はV:
【0013】
【化4】
Figure 0004198234
【0014】
[式中R1及びRは上記のものを表す]で示されるアセチレン又はアレンに式III:
1OH III
で示される化合物を付加することによって製造するに当たり、反応を200℃未満の温度で行ないかつ活性成分として、酸化物として計算して1〜40重量%の亜鉛又はカドミウムの含量を有しかつ例えば10〜1000m2/gのBET表面積を有するX線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムを含有し、400℃未満の温度で分解可能の亜鉛又はカドミウム及び無機オキソ酸、特に硝酸の塩を非晶質珪酸上に施与しかつ反応前には50〜500℃の温度で又は反応の間には現場で50〜200℃の温度で、水、C原子1〜6個を有するアルカノール、C原子2〜6個及びOH基2〜3個を有するジオール又はポリオール又はC原子1〜6個を有するカルボン酸から成る群から選択された、ヒドロキシル基を有する化合物の存在下に、気体/固体反応により触媒を形成させることによって得られる触媒を使用することを特徴とする、式I又はIIで示される化合物の製造法法によって解決される。
【0015】
本発明により使用される触媒は、80モル%まで、好ましくは20モル%まで、さらにナトリウム、カリウム、リチウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル及び銅から成る群(A)及びチタン、ジルコニウム、ハフニウム、ゲルマニウム、錫及び鉛から成る群(B)から選択された他の金属が一緒にドーピングされていてもよい。
【0016】
前記方法の好ましい実施態様によれば、非晶質珪酸亜鉛を使用し、メタノールをプロピン及び/又はアレンへ付加することによって2−メトキシプロペンが製造される。
【0017】
本発明による化合物の出発物質としては、任意のアルキン又はアレン又はそれらの混合物が適当である。しかし一般には、工業的に容易に得られるC原子2〜8個又はC原子3〜8個を有するアセチレン及びアレンが使用される。
【0018】
ヒドロキシル基を有する化合物R1OHは、水、任意のアルコール、フエノール又はカルボン酸であってよい。一般にはなかんずくアルコール、特にC原子1〜16個を有するアルカノール、単環フエノール及び例えばC原子1〜16個を有する低分子量のカルボン酸が適当である。
【0019】
触媒の形成のためには、有利にはアセチレン又はアレンに付加する同一アルカノールR1OHを使用する。
【0020】
ヒドロキシル基を有する化合物の付加は、不均一の該触媒の存在下に気相中で50〜200℃、好ましくは100〜200℃、特に好ましくは120〜200℃の温度及び0.1〜100バール、特に0.8〜20バールの圧力(出発物質の分圧の総和を基準にした圧力)で固定床又は流動床により行なう。
【0021】
場合により、操作の安定性及び良好な熱供給の理由から、反応混合物を、不活性ガス、例えば窒素、アルゴン、低分子量のアルカン又はオレフィンによって希釈してもよい。
【0022】
ヒドロキシル基を有する成分とアルキン又はアレンとの間のモル比は、0.01〜100であってよい。好ましくは0.1〜5の範囲、特に好ましくは0.7〜1.3の範囲を選択する。
【0023】
反応条件によって、単一又は二付加生成物に関する反応の選択率を制御することができる。ヒドロキシル基を有する成分とアルキン又はアレンとの間の小さい比並びに反応成分の高い温度及び低い分圧により、有利に単付加生成物が形成され、他方ヒドロキシル基を有する成分とアルキン又はアレンとの大きい比並びに反応成分の低い温度及び高い分圧はビス付加生成物の生成にとって有用である。例えばプロピン又はアレンとメタノールからは、反応条件に応じて2−メトキシプロペン又は2,2−ジメトキシプロパンを選択的に形成させることができる:
【0024】
【化5】
Figure 0004198234
【0025】
触媒を製造するためには、非晶質のSiO2担体を、硝酸亜鉛又は硝酸カドミウムの溶液、有利には水溶液で含浸させる。乾燥したか又はアルコールR1OH中に懸濁された硝酸塩と担体との混合も、なるほど可能ではあるが、しかし有利ではない。
【0026】
SiO2担体は、少なくとも十分に非晶質であり、BET表面積10〜1500m2/g、好ましくは100〜500m2/g及び吸水容量0.1〜2ml/g、好ましくは0.7〜1.3ml/gであり、粉末としてか又は完成成形体として使用できる。担体はまた含浸前にか焼してもよい。しかし担体は好ましくはか焼しない。
【0027】
施与する無機塩のうち、硝酸塩、特に硝酸亜鉛が硝酸カドミウムよりも好ましい。
【0028】
含浸は、触媒製造の自体公知の方法により行なう。溶解度の理由から必要な場合には、活性金属を用いる負荷は、いくつかの順次引き続く含浸工程で行なうこともできる。
【0029】
担体を粉末として使用する場合には、担体を、形成前に成形(例えば混合、混練及び押出し又はタブレット成形)によって所望の形にすることができる。
【0030】
細孔容量を増大させるためには、成形時に細孔形成剤を添加してもよい[例えば超吸収剤、すなわちLutexal P(登録商標)、BASF AG社又はWalocel(登録商標)(メチルセルロース/樹脂配合物、Wolff,Walsrode AG社]。
【0031】
また他の担体、例えばAl23に、酸化珪素先駆化合物(例えばSi(OR)4)および亜鉛塩を一緒に含浸させることもできる。
【0032】
酸化物として計算した亜鉛又はカドミウムの負荷量は、例えば1〜40重量%の広い範囲で変わってもよい。7〜30重量%の亜鉛含量又はカドミウム含量が好ましく、特に10〜25重量%の含量が好ましい。このようにして得られたがまだ活性でない予備触媒を、次に、最高600℃の温度で空気中でか又は不活性ガス下にか焼することができる。80〜300℃のか焼時間が好ましい。特に空気中で120〜250℃でか焼するのが好ましい。この場合有利にはか焼の際に、まだ存在する陰イオン対亜鉛又はカドミウムのモル比が0.1を下回らないように温度及び滞留時間を選択することに留意する。
【0033】
予備触媒の製造後に、反応器への導入前又は反応器中の現場で形成が行われ、この場合、好ましくは触媒の表面上に固有の活性相が形成される。この気体/固体反応は、80〜500℃の温度で水、アルコール、好ましくは低級アルコール又はカルボン酸、好ましくは低級カルボン酸の存在によって促進される。触媒の形成は、水又はメタノールを含有するガス混合物中で100〜250℃で行なわれるのが好ましく、特に、アルキン又はアレンとの反応が行われる反応器中の現場で、メタノールを含有するガス混合物を用いる130〜200℃で形成させるが好ましい。有利に、予備触媒を、活性相を形成するために反応条件下でメタノール及びプロピン及びアレン、場合によりさらにまた他の不活性成分、例えばプロペン又はプロパンから成る混合物と反応させる。活性相の形成は、プロピン−及びアレン−変換率の増大(温度に応じて約5〜30分後)及び廃ガス中の酢酸メチルの濃度の漸減によって示される。定常状態及び高い選択率は、温度に応じて約2〜20時間後に達成される。
【0034】
触媒試料(新しい試料並びに反応器から取出した試料)の特性表示のために標準方法を使用した。測定したBET表面積(一般には10〜800m2/g)並びに硬度はそれぞれの実施例で記載してある。好ましくは100〜400m2/gのBET表面積を有する触媒を使用する。さらに試料を、粉末X線回折法(XRD)及び透過電子顕微鏡(TEM)を用いて詳細に調べた。二つの構造解明方法によっても結晶構造の範囲内での長距離秩序(Fernordnung)を確認することはできず、全試料は非晶質であった。担体上の亜鉛の分布は切片につき電子顕微鏡及びマイクロプローブで調べた。全試料は、反応器から取出した後でも、該触媒が十分に均一な元素分布を有しているが、結晶質のZnOを含有しないか又は僅かしか含有していないことを示した。該触媒は、29Si−CP−MAS−NMRにおいては、代表的には非晶質のSiO2に関して−109ppmで広いバンドを示し、−99ppmでは1つの肩(主要ピークの強度の約15%)を示した。Zn−硝酸塩/SiO2予備触媒の元素分析は、硝酸塩/Znのモル比はか焼温度に依存することを示した。乾燥触媒は、室温では1.6〜1.9の硝酸塩/Znの比を有する。120℃でのか焼後には、硝酸塩/Znの比は1.0〜1.5である。200〜250℃の好ましい温度範囲でのか焼後には、硝酸塩/Znの比は0.5〜1である。温度が高くなると硝酸塩/Znの比はなお一層低下し、同様にこれから形成された触媒の触媒活性も低下する。
【0035】
触媒は、反応のためには固定的に配置されているか又は例えばまた流動層で使用されてもよく、このためには適当な形状、例えば細片、タブレット、モノリス、球又は押出物(中実ストランド、車輪、星又はリングのような断面を有するストランド)のような形状を有していてもよい。
【0036】
a) 一般的反応条件
図1による触媒反応を、1740mlの容量及び約90mlの触媒容量を有する、不均一気相反応用に改良した、勾配のないCSTR(Continuously Stirred Tank Reactor =連続撹拌タンク反応器)(A)中で行なった。同反応器は内径約108mm及び高さ約200mmであり、内壁に取付けられた電気加熱コイルによって加熱された。反応器の中央部には金属製の小円筒(φ約64mm、高さ約150mm)が装着させ、同円筒には半分の高さ(上端の下方約85mm)に針金格子を取付けておいた。この針金格子上に触媒をルーズに堆積させた。反応器の蓋の上に、1500〜2000rpmで駆動する平形タービン(φ約100mm、高さ約20mm)を取付けた。反応器の軸に沿って種々の高さに合わせて6個の温度調節用の熱電対を取付けた。出発物質を加圧下にでHPLCポンプを用いて供給し、反応器の直前で混合し、反応器室に導入した。アルキン又はアレン(図1中の1)を純粋な形でか又は他の不活性成分で希釈した混合物として供給した。プロピン及びアレンの場合には、他の炭化水素との混合物を使用した(組成:主要成分としてのプロピン30〜43容量%、アレン16〜20容量%、プロペン20〜45容量%、イソブタン5〜10容量%及びプロパン2〜6容量%;すべての他の成分1%未満。この混合物を蒸気分解装置の側流からの蒸留によって取得した)。アルコール成分(図1における2)には、GCガスクロマトグラフ−分析の内部基準としてシクロヘキサン約10重量%を供給した。
【0037】
反応を、120〜200℃の温度でかつプロピン及び/又はアレン0.5〜10mモル/分及びMeOH0.5〜20mモル/分の供給速度で行なった。反応圧力は1.1〜3.5バール(絶対)であった。
【0038】
出発物質、不活性ガス及び内部標準から成る全ガス量は、一般に4〜60Nl/hであった。
【0039】
GHSV=気体容量[Nl/h]/触媒容量[l]
として定義されているGHSV(気体空間速度)は、80〜1200h-1であった。
【0040】
LHSV=液体容量[Nl/h]触媒容量[l]
(ここではプロピンの供給容量及びMeOH容量)
として定義されているLHSV(液空間速度)は、0.2〜3h-1であった。触媒容量[l]と気体量[Nl/s]とからの商として定義される滞留時間は3〜40秒であった。
【0041】
反応ガスを、反応器から出た後、加熱された移送管(3)を介してオンラインガスクロマトグラフ(B)に移し、そこで2時間ごとに分析した。次にガス流に、部分凝縮(C)を施し、室温で凝縮できない部分(6)を、一定の間隔(約12時間)をおいてオフラインクロマトグラフによって分析した。凝縮物(5)も同様に捕集し、オフラインクロマトグラフによって分析した。
【0042】
別記しない限り、変換率及び選択率はプロピン及びアレンの総量を基準にしている。
【0043】
b) 触媒の特性表示のための方法
触媒試料(新しい試料並びに反応器から取出した試料)の特性表示のために標準方法を使用した。測定したBET表面積並びに硬度はそれぞれの例で記載してある。さらに試料を、粉末X線回折法(XRD)及び透過電子顕微鏡(TEM)によって詳細に調べた。担体上の亜鉛の分布を、電子顕微鏡及びマイクロプローブにおける切片像につき制御した。また選択した試料を、赤外線、29Si−CP−MAS−NMR及びEXAFSによっても調べた。
【0044】
本発明により得られる、式Iのエノールエーテル及び式IIのジアルコキシ化合物は、作用物質及び香料の製造のための有用な中間生成物である。特にエノールエーテルは、例えばイソフイトールを製造するための先駆物質としてのγ,δ−不飽和ケトンの製造のための所望された出発物質である。
【0045】
特に、エノールエーテルを製造しようとする場合には、式IIの化合物を、自体公知の方法で1モルのR1OHの脱離によって相応の式Iのエノールエーテルに変えることができる。この目的のためには、ドイツ国特許出願公開第3535128号、同第3722891号及び同第3804162号明細書、Chemical Abstracts,Vol.94(19);156241f及びドイツ国特許出願公開第19544450号明細書から公知の多数の方法が存在している。
【0046】
【実施例】
例1〜3
硝酸亜鉛の含浸(ZnO20%、SiO280%)
蒸留水480g中に溶かしたZn(NO32・6H2O(Merck)365.52gから成る含浸溶液を、2つの340ml部分に分割し、SiO2担体[シリゲル(Siligel)、Solvay社]400gを室温で第1部分を用いて含浸させ、次に予備触媒を120℃で16時間乾燥させ、これを室温で第2部分を用いて含浸させた。次にまだ湿潤している予備触媒を3つに小分けし、それらを異なる条件下でか焼した(第1表参照)。予備触媒におけるNO3/Znのモル比も同様に第1表から知ることができる。
【0047】
それぞれの予備触媒約90mlを上記装置に充填した。プロピン/アレン混合物(約52容量%、2.9mモル/分)及びメタノール(2.1mモル/分;不活性物質による全供給量:7.8mモル/分;MeOH/(プロピン+アレン)の比=0.71)を次にHPLCポンプによって供給した。反応温度は170℃であり、圧力は1.2バール(絶対、主発物質の分圧:0.77バール)であった。触媒を完全に形成させた後(約14時間)、第1表に記載した選択率が観察された(略語:2MP:2−メトキシプロペン;2DMP:2,2−ジメトキシプロパン;1MP:シス及びトランス−1−メトキシプロペン;1DMP:1,1−ジメトキシプロパン)。
【0048】
【表1】
Figure 0004198234
【0049】
完全に形成された触媒に関しては、反応器から取出した後に次の値が測定された:BET表面積180〜210m2/g、硬度40〜65N/成形体。NO3/Znの比は、反応器から取出した触媒の場合には常に<0.05であった。
【0050】
例4
過塩素酸亜鉛の含浸(ZnO20%、SiO280%)
BET表面積358m2/g、吸水容量0.9ml/g、硬度43N/成形体を有するX線非晶質SiO2成形体(φ3〜6mmを有するビーズ)に過塩素酸亜鉛溶液を含浸させることによって、Zn/SiO2担体触媒を製造した。
【0051】
SiO2担体(シリカゲル、Solvay社)100gに、水300gに溶かしたZn(SiO42・6H2O(Aldrich)114.4gを含浸させ、次にこの予備接触を120℃で16時間乾燥し、次いで250℃で4時間空気中でか焼した。
【0052】
この予備触媒約90mlを上記の装置に充填した。次にプロピン/アレン混合物(約52容量%、2.9mモル/分)及びメタノール(2.1mモル/分;不活性物質による全供給量:7.8mモル/分;MeOH/(プロピン+アレン)の比=0.71)をHPLCポンプによって供給した。反応温度は170℃であり、圧力は1.2バール(絶対)であり、出発物質の分圧は0.77バールであった。触媒を完全に形成させた後(約14時間)、プロピン/アレンの変換率は23%であった。主要生成物(括弧内のプロピン+アレンに関する選択率)として2−メトキシプロピン(79%)、2,2−ジメトキシプロパン(10%)、1−メトキシプロペン(6%)及びアセトン(3%)が生成された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の触媒反応の過程を示す説明図である。
【符号の説明】
A 反応器、 B ガスクロマトグラフ、 C 凝縮部、 1 アルキン又はアレン、 2 アルコール成分

Claims (10)

  1. 式I又はII:
    Figure 0004198234
    [式中R1は水素又は脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族又は複素環式の基又はアシル基を表し、この際これらの基は、アセチレン又はアレンと反応しない他の置換基を有していてもよく、
    R基又は相互に独立的に水素、又は脂肪族、脂環式、芳香脂肪族、芳香族又は複素環式基を表し、これらの基は相互に結合して1つの環を形成していてもよく、mは0又は1を表す]で示される化合物を、気相中で高められた温度で、元素周期表の12族の元素の無機塩を珪酸に含浸させることによって得られる不均一触媒の存在下で、式IV又はV:
    Figure 0004198234
    [式中R1及びRは前記のものを表す]で示されるアセチレン又はアレンに式III:
    1OH III
    で示される化合物を付加することによって製造するに当たり、反応を200℃未満の温度で行ないかつ活性成分として、酸化物として計算して1〜40重量%の亜鉛又はカドミウムの含量を有するX線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムを含有し、かつ400℃未満の温度で分解可能の亜鉛又はカドミウム及び無機オキソ酸の塩を非晶質珪酸上に施与し、反応前には50〜500℃の温度で又は反応の間には現場で50〜200℃の温度で、水、C原子1〜6個を有するアルカノール、C原子2〜6個及びOH基2〜3個を有するジオール又はポリオール又はC原子1〜6個を有するカルボン酸から成る群から選択された、ヒドロキシル基を有する化合物の存在下で触媒を形成させることによって得られる触媒を使用することを特徴とする、式I又はIIの化合物の製造方法。
  2. 該触媒の触媒活性成分に、亜鉛又はカドミウムに対して80モル%までなお、ナトリウム、カリウム、リチウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル及び銅から成る群(A)及びチタン、ジルコニウム、ハフニウム、ゲルマニウム、錫及び亜鉛から成る群(B)から選択された別の金属がドーピングされている触媒を使用する、請求項1記載の方法。
  3. アセチレン又はアレンと反応させようとする同一アルカノールの存在下に形成された触媒を使用する、請求項1記載の方法。
  4. 水溶液の硝酸亜鉛を非晶質珪酸に含浸させ、次いで形成させることによって得られる触媒を使用する、請求項1記載の方法。
  5. ヒドロキシル基を有する化合物R1OHを100〜200℃の温度で式IV及びVの化合物に付加する、請求項1記載の方法。
  6. メタノールを100〜200℃の温度でメチルアセチレン及び/又はアレンに付加することによって2−メトキシプロペン及び/又は2,2−ジメトキシプロパンを製造する、請求項1記載の方法。
  7. 請求項1記載の方法に適するX線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムを製造するに当たり、400℃未満の温度で分解可能の亜鉛又はカドミウム及び無機オキソ酸の塩を、乾式混合又は塩の溶液を用いる含浸によって非晶質珪酸上に施与し、ヒドロキシル基を有する化合物の存在下に気体/固体反応により温度50〜500℃で触媒を形成させることを特徴とする、X線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムの製造方法。
  8. 50〜500℃での気体/固体反応による触媒の形成前に、亜鉛塩又はカドミウム塩を非晶質珪酸上に施与することによって得られた予備触媒を100〜400℃でか焼し、この際温度及び滞留時間を、予備触媒がまだ塩の本来の陰イオンの少なくとも10モル%を含有するように選択する、請求項7記載の方法。
  9. 非晶質珪酸亜鉛を、硝酸亜鉛溶液を用いる非晶質珪酸亜鉛の含浸及び引き続く形成によって得る、請求項7記載の方法。
  10. 酸化物として計算して1〜40重量%の亜鉛又はカドミウムを含有する、請求項7記載の方法により得られるX線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウム触媒。
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